KR20030034730A - Frame for mask of organic EL display devices - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 유기 EL 소자의 마스크용 프레임에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 증착 마스크를 이용하여 기판에 증착 시, 기판과 마스크 및 프레임의 정렬을 용이하게 수행할 수 있는 마스크용 프레임에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a frame for a mask of an organic EL device, and more particularly, to a frame for a mask that can easily align a substrate, a mask, and a frame when deposited on a substrate using a deposition mask.
EL 소자는 자발 발광형 표시 소자로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어서 차세대 표시소자로써 주목을 받고 있다. 이러한 EL 소자는 발광층을 형성하는 물질에 따라 무기 EL 소자와 유기 EL 소자로 구분되는 데, 유기 EL 소자는 무기 EL 소자에 비해 휘도, 응답속도 등의 특성이 우수하고, 컬러 디스플레이가 가능하다는 장점을 가지고 있다.EL devices are attracting attention as next-generation display devices because they have the advantages of wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed. The EL device is classified into an inorganic EL device and an organic EL device according to the material forming the light emitting layer. The organic EL device has advantages such as excellent luminance, response speed, and color display, compared to the inorganic EL device. Have.
유기 EL 소자는 글라스와 같은 투명 소재의 기판 상부에 소정 패턴으로 양전극층이 형성되고, 그 상부로 유기 화합물로 이루어진 유기 박막들인 홀 수송층, 발광층, 전자 수송층이 순차적으로 형성된다. 다음, 이 유기 박막들 상으로 양전극층과 직교되도록 소정패턴의 음전극층이 형성된 구조를 갖는다.In the organic EL device, a positive electrode layer is formed in a predetermined pattern on a substrate made of a transparent material such as glass, and a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer, which are organic thin films made of an organic compound, are sequentially formed thereon. Next, a negative electrode layer having a predetermined pattern is formed on the organic thin films so as to be orthogonal to the positive electrode layer.
이러한 구조의 유기 EL 소자는 다음과 같은 방법으로 구동되는 데, 먼저, 선택된 양전극층 및 음전극층간에 전압을 인가하면 선택된 양전극층으로부터 주입된 홀(hole)은 홀 수송층을 경유하여 발광층으로 이동되고, 전자는 음전극층으로부터 전자 수송층을 경유하여 발광층에 주입된다. 발광층 영역에서 이들 홀과 전자들이 재결합하여 엑시톤(exiton)을 생성하며, 이 엑시톤이 여기상태에서 기저상태로 변화됨에 따라 발광층의 형광성 분자가 발광하고, 이로써 화상이 형성되는 것이다.The organic EL device having such a structure is driven in the following manner. First, when a voltage is applied between the selected positive electrode layer and the negative electrode layer, holes injected from the selected positive electrode layer are moved to the light emitting layer via the hole transport layer, Electrons are injected from the negative electrode layer into the light emitting layer via the electron transport layer. These holes and electrons recombine in the emission layer to generate excitons, and as the excitons change from the excited state to the ground state, the fluorescent molecules of the emission layer emit light, thereby forming an image.
이렇게 작동되는 유기 EL 소자는 그 제작 시에 적, 청, 녹의 3색의 칼라를 구현하기 위하여 금속의 증착 마스크를 이용하여 기판의 상면에 상술한 전극층과 유기 박막층을 각 화소별로 증착하고 있다.In the organic EL device thus operated, the above-described electrode layer and organic thin film layer are deposited on the upper surface of the substrate for each pixel by using a metal deposition mask to realize three colors of red, blue, and green colors.
종래의 유기 EL에 있어 이렇게 증착되는 재료로는 버퍼 재료, 홀 수송 재료, 전자 수송 재료, 전극 재료, 소자 보호 재료 등이 순차로 증착된다. 특히 발광색을 다색화하는 경우에는 유기 재료(적, 청, 녹색의 각 재료)를 독립적으로 평면 상에 서로 접촉한 형태로 증착한다. 이러한 증착에 이용되는 마스크는 박판으로 이루어지고, 증착하고자 하는 패턴과 동일한 패턴의 슬롯이 형성되어 있다.In the conventional organic EL, such a deposited material is sequentially deposited a buffer material, a hole transport material, an electron transport material, an electrode material, an element protection material, and the like. In particular, when the emission color is multicolored, organic materials (red, blue, and green materials) are independently deposited on the plane in contact with each other. The mask used for the deposition is made of a thin plate, the slot of the same pattern as the pattern to be deposited is formed.
도 1은 상술한 바와 같이 기판에 전극층 및 유기 박막층을 증착시키기 위해 증착 마스크를 이용하여 증착시키는 상태를 나타내는 부분 단면도이다. 그림에서와 같이 기판(10)의 하부로부터 전극층이나 유기 박막층을 증착시켜 나가는 데, 이 증착을 위하여 프레임(12)의 상면으로 증착하고자 하는 패턴과 동일한 패턴의 슬롯이 형성된 마스크(11)를 부착하고, 이를 기판(10)의 전극 및 유기 박막층의 패턴을 형성시킬 면에 부착한 후, 하부에서 증발원(13)으로부터 유기재료를 증발 혹은 승화시켜 막 형성 영역(A)내에 증착시킨다.1 is a partial cross-sectional view showing a deposition state using a deposition mask to deposit an electrode layer and an organic thin film layer on a substrate as described above. As shown in the figure, an electrode layer or an organic thin film layer is deposited from the bottom of the substrate 10. For this deposition, a mask 11 having a slot having the same pattern as the pattern to be deposited is attached to the upper surface of the frame 12. After attaching it to the surface on which the electrode of the substrate 10 and the pattern of the organic thin film layer are to be formed, the organic material is evaporated or sublimed from the evaporation source 13 at the bottom and deposited in the film formation region A. FIG.
따라서 기판(10)의 증착시키고자 하는 면에 전극층이나 유기 박막층이 원하는 패턴으로 형성되기 위해서는 증착 마스크(11)와 기판(10)의 정렬이 이루어지는 것이 필수 조건이다. 이러한 마스크(11)와 기판(10)의 정렬을 위해 기판(10)의 상면에 크롬(Cr) 등으로 얼라인 마크(align mark: 14)를 패터닝하고, 마스크(11)에도 이에 대응하는 얼라인 홀(align hole: 15)을 천공한다. 곧, 기판(10)의 상부에서정렬 검사용 CCD 카메라(16)를 이용하여 기판(10)의 얼라인 마크(14)와 마스크(11)의 얼라인 홀(15)이 동일선상에 위치하는지를 검사하여 기판(10)과 마스크(11)의 정렬상태를 확인하게 되는 것이다.Therefore, in order for the electrode layer or the organic thin film layer to be formed in a desired pattern on the surface on which the substrate 10 is to be deposited, it is essential to align the deposition mask 11 and the substrate 10. In order to align the mask 11 and the substrate 10, an alignment mark 14 is patterned on the upper surface of the substrate 10 using chromium (Cr) or the like, and the mask 11 also corresponds to the alignment mark. Drill the holes (align hole 15). In other words, the alignment mark 14 of the substrate 10 and the alignment hole 15 of the mask 11 are positioned on the same line using the CCD camera 16 for alignment inspection on the upper portion of the substrate 10. By checking the alignment state of the substrate 10 and the mask (11).
그러나, 이러한 기판과 마스크의 정렬 검사에 있어서, 마스크(11)의 주위부로 마스크(11)를 고정시키기 위한 프레임(12)은 그림과 같이 마스크(11)의 얼라인 홀(15) 바깥쪽에서 마스크(11)를 지지하고 있다. 이러한 구조의 프레임(12)을 갖는 마스크(11)를 이용해 기판(10)을 증착할 경우에는 증착이 점차 진행되어 감에 따라 증발원(13)으로부터 증발 또는 승화된 유기물들이 기판(10)의 막 형성 영역(A) 뿐 아니라 마스크(11)의 얼라인 홀(15)을 통해서도 증착되어 기판(10)과 마스크(11)의 정렬 상태를 검사하기 위한 검사용 CCD 카메라(16)가 마스크(11)의 얼라인 홀(15)을 인식하지 못하는 현상이 발생하게 된다.However, in the inspection of the alignment of the mask with the substrate, the frame 12 for fixing the mask 11 to the periphery of the mask 11 is formed outside the alignment hole 15 of the mask 11 as shown in the figure. 11). In the case of depositing the substrate 10 by using the mask 11 having the frame 12 having such a structure, as the deposition proceeds gradually, the organic substances evaporated or sublimed from the evaporation source 13 form the film of the substrate 10. The inspection CCD camera 16 for inspecting the alignment state between the substrate 10 and the mask 11 is deposited through not only the region A but also the alignment holes 15 of the mask 11. The phenomenon of not recognizing the alignment hole 15 occurs.
또한 상기와 같은 프레임(12) 및 마스크(11)의 경우에 기판(10) 상부에 위치한 CCD 카메라(16)로부터 방사된 빛이 마스크(11)의 얼라인 홀(15)을 투과하게 됨으로서 기판(10)과 마스크(11)의 정렬 상태를 올바르게 인식하지 못하는 문제가 발생하게 된다.In addition, in the case of the frame 12 and the mask 11 as described above, light emitted from the CCD camera 16 positioned on the substrate 10 passes through the alignment hole 15 of the mask 11. There is a problem that the alignment state of the mask 10 and the mask 11 is not recognized correctly.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로, CCD 카메라를 이용하여 기판과 마스크의 정렬을 용이하게 검사할 수 있는 유기 EL의 마스크용 프레임을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide a frame for an organic EL mask that can easily inspect the alignment of the substrate and the mask using a CCD camera.
본 발명의 다른 목적은 기판에 유기 재료의 증착이 진행되어도 마스크에 형성된 기판과 마스크의 정렬을 검사하기 위한 얼라인 홀을 통해서는 증착이 이루어지지 않는 유기 EL의 마스크용 프레임을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a frame for an organic EL mask in which deposition is not performed through an alignment hole for checking the alignment between the substrate formed on the mask and the mask even when the deposition of the organic material on the substrate proceeds.
도 1은 종래의 증착 마스크용 프레임의 구성을 나타내는 단면도.1 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional deposition mask frame.
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 의한 마스크용 프레임의 부분 사시도.2 is a partial perspective view of a frame for a mask according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 의한 마스크용 프레임의 구성을 나타내는 단면도.Figure 3 is a cross-sectional view showing the configuration of a frame for a mask according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예에 의한 마스크용 프레임의 구성을 나타내는 단면도.4 is a cross-sectional view showing a configuration of a frame for a mask according to another preferred embodiment of the present invention.
※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of code for main part of drawing
10,20: 기판11,21: 마스크10,20: substrate 11,21: mask
12,22: 프레임13,23: 증발원12,22: frame 13,23: evaporation source
14,24: 얼라인 마크15,25: 얼라인 홀14, 24: alignment mark 15, 25: alignment hole
16,26: CCD 카메라27: 위치 확인 마크16, 26: CCD camera 27: position confirmation mark
28: 위치 확인 홈29: 슬롯28: Positioning groove 29: Slot
A,A': 막 형성 영역ℓ,ℓ': 프레임 부착 위치A, A ': film forming region l, l': frame attachment position
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 기판의 하부에 부착되며, 소정의 증착 패턴으로 형성된 적어도 하나 이상의 슬롯들을 통해 기판의 하면에 소정 패턴으로 막을 형성시키고, 이 기판에 막을 형성시키는 영역의 주변부로 상기 기판의 상면에 패턴된 얼라인 마크에 대응하여 기판과의 정렬을 검사하기 위한 얼라인 홀이 천공된 유기 EL의 마스크를 그 하면에 부착되어 그 가장자리에서 지지하도록 형성된 프레임에 있어서, 상기 프레임은 그 내측 끝단이 마스크의 얼라인 홀을 그 하부에서 덮을 수 있는 위치까지 연장되도록 형성되며, 이 내측 끝단이 상기 마스크가 기판의 하면에 소정 패턴의 막을 형성시키는 영역까지는 연장되지 않도록 한 것을 특징으로 하는 유기 EL의 마스크용 프레임을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is attached to the lower portion of the substrate, the film is formed in a predetermined pattern on the lower surface of the substrate through at least one or more slots formed in a predetermined deposition pattern, the region of the film is formed on the substrate A frame formed such that an alignment hole for inspecting alignment with a substrate in correspondence with an alignment mark patterned on an upper surface of the substrate is attached to a lower surface thereof to support a perforated organic EL mask at its edge, The frame is formed such that the inner end thereof extends to a position where the alignment hole of the mask can be covered from the bottom thereof, and the inner end thereof does not extend to an area where the mask forms a film of a predetermined pattern on the lower surface of the substrate. A mask frame for an organic EL is provided.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기와 같은 프레임의 상면에는 상기 마스크의 얼라인 홀에 대응되는 위치에 위치 확인 마크가 패턴되어 기판의 상부에서 CCD 카메라가 위치확인을 용이하게 할 수 있도록 할 수 있으며, 이러한 위치 확인 마크는 반사율이 강한 재료로 패턴된 반사막일 수 있다.According to another feature of the present invention, a positioning mark is patterned at a position corresponding to the alignment hole of the mask on the upper surface of the frame so that the CCD camera can be easily positioned on the substrate. The positioning mark may be a reflective film patterned with a material having a high reflectance.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기와 같은 위치 확인을 위해, 상기 프레임의 상기 마스크의 얼라인 홀에 대응되는 위치에 위치 확인 홈을 더 형성시킬 수 있다.According to still another feature of the present invention, the positioning groove may be further formed at a position corresponding to the alignment hole of the mask of the frame.
이하 첨부된 도면을 참고로 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 마스크와 기판이 본 발명의 프레임에 결합되는 상태를 나타내는 부분 사시도이다. 그림과 같이 본 발명에 있어서는 글라스 등 투명한 소재로 이루어진 기판(20)의 하면으로 소정의 패턴으로 복수개의 슬롯들(29)이 형성된 마스크(21)가 부착되며, 이 마스크(21)의 가장자리를 따라 마스크 하면으로 프레임(22)이 부착되어 마스크(21)를 지지한다.2 is a partial perspective view illustrating a state in which a mask and a substrate are coupled to a frame of the present invention. In the present invention, as shown in the figure, a mask 21 having a plurality of slots 29 formed in a predetermined pattern is attached to a lower surface of a substrate 20 made of a transparent material such as glass, and along the edge of the mask 21. The frame 22 is attached to the lower surface of the mask to support the mask 21.
일반적으로 마스크(21)는 스텐레스, 니켈 등의 얇은 금속판에 기판에 행할 증착 패턴과 동일한 패턴으로 에칭에 의하여 패턴을 형성시키는 데, 이러한 마스크 외에 기판에 증착으로 소정 패턴의 막을 형성시킬 수 있는 것이면 어떠한 것도 가능하다.In general, the mask 21 forms a pattern by etching on a thin metal plate such as stainless steel or nickel by the same pattern as the deposition pattern to be performed on the substrate. If the mask 21 can form a film of a predetermined pattern by deposition on the substrate, It is also possible.
이러한 구조의 기판(20), 마스크(21) 및 프레임(22)에 있어서, 기판(20)의 하면에 원하는 패턴의 막을 복수의 슬롯들(29)이 형성된 마스크(21)를 이용하여 증착시키기 위해서는 상술한 바와 같이 기판(20)과 마스크(21)가 정렬을 이루고 있어야 한다. 이 기판(20)과 마스크(21)의 정렬 상태는 기판(20) 상면의 소정 위치에 패턴된 얼라인 마크(24)와 그에 대응되는 마스크(21)의 얼라인 홀(25)에 의해 이루어짐은 상술한 바와 같다. 곧, 기판(20)의 얼라인 마크(24)와 마스크(21)의 얼라인 홀(25)이 일직선상으로 배열되어 있는가를 측정함으로써, 이들 기판(20)과 마스크(21)의 정렬 상태를 검사하는 것이다. 그 측정은 상기 얼라인 마크(24)의 직상부에서 CCD 카메라를 이용하여 촬상한다.In the substrate 20, the mask 21, and the frame 22 having such a structure, in order to deposit a film having a desired pattern on the lower surface of the substrate 20 by using the mask 21 having the plurality of slots 29 formed therein. As described above, the substrate 20 and the mask 21 should be aligned. The alignment state of the substrate 20 and the mask 21 is formed by the alignment mark 24 patterned at a predetermined position on the upper surface of the substrate 20 and the alignment holes 25 of the mask 21 corresponding thereto. As described above. In other words, by checking whether the alignment marks 24 of the substrate 20 and the alignment holes 25 of the mask 21 are aligned in a straight line, the alignment state of these substrates 20 and the mask 21 is examined. It is. The measurement is imaged using a CCD camera directly above the alignment mark 24.
본 발명의 바람직한 실시예에 의한 프레임(22)은 상기와 같은 마스크(21)를그 가장자리를 따라 하면에서 지지한다. 이 때, 프레임(22)의 내측 끝단(22a)은 마스크(21)의 얼라인 홀(25)이 형성된 위치보다 내측까지 더 연장되도록 하여, 프레임(22)이 상기 얼라인 홀(25)을 그 하부에서 완전히 덮도록 한다. 이렇게 프레임(22)의 내측 끝단(22a)이 마스크(21)의 하면에 부착되는 위치는 점선 ℓ과 같으며, 이 위치가 기판(20)에서는 점선 ℓ'와 같다. 곧, 기판의 얼라인 마크(24)의 내측까지 프레임(22)의 내측 끝단(22a)이 위치하는 것이다.The frame 22 according to a preferred embodiment of the present invention supports the mask 21 as described above along its edge at the bottom surface thereof. At this time, the inner end 22a of the frame 22 extends further to the inner side than the position where the alignment hole 25 of the mask 21 is formed, so that the frame 22 covers the alignment hole 25. Cover it completely from the bottom. The position at which the inner end 22a of the frame 22 is attached to the lower surface of the mask 21 is equal to the dotted line l, which is the same as the dotted line l 'on the substrate 20. In other words, the inner end 22a of the frame 22 is positioned to the inner side of the alignment mark 24 of the substrate.
그러나, 이러한 프레임(22)의 끝단(22a)은 마스크(21)의 슬롯들(29)이 형성되어 있는 영역까지 연장되지 않도록 해야 한다. 곧, 마스크(21)의 프레임(22)과 결합되는 위치(ℓ)가 슬롯들(29)에 미치지 않아야 하는 것이다. 이는 슬롯들(29)이 배설되어 있는 위치에서부터 기판(20)의 하면으로 증착이 이루어져 기판(20)의 하면에 막 형성 영역(A')을 만들기 때문으로, 프레임(22)의 내측 끝단(22a)이 마스크(21)에 부착되는 위치(ℓ)가 슬롯들(29)에 미칠 경우 기판(20)의 막 형성 영역(A)에 형성되는 막의 패턴에 영향을 미치기 때문이다.However, the end 22a of the frame 22 should not extend to the area where the slots 29 of the mask 21 are formed. In other words, the position L engaged with the frame 22 of the mask 21 should not reach the slots 29. This is because the deposition is performed from the position where the slots 29 are disposed to the lower surface of the substrate 20 to form a film forming region A 'on the lower surface of the substrate 20, so that the inner end 22a of the frame 22 is formed. This is because when the position L attached to the mask 21 reaches the slots 29, it affects the pattern of the film formed in the film forming region A of the substrate 20.
이렇게 프레임(22)의 내측 끝단(22a)을 얼라인 홀(25)과 슬롯들(29) 사이의 위치까지 연장시키면 프레임(22)의 상면이 얼라인 홀(25)을 막게 되어, 상부에서 CCD 카메라로 촬상할 경우에도 CCD 카메라에서 방사된 빛이 얼라인 홀(25)을 그대로 투과하여 위치 파악이 제대로 이루어지지 않는 문제를 해결할 수 있게 된다.When the inner end 22a of the frame 22 is extended to the position between the alignment hole 25 and the slots 29, the upper surface of the frame 22 blocks the alignment hole 25, so that the CCD from above Even when photographing with a camera, the light emitted from the CCD camera passes through the alignment hole 25 as it is, and thus it is possible to solve the problem that the location is not properly determined.
CCD 카메라로 정렬 위치를 검사함에 있어, CCD 카메라가 위치 인식을 보다 용이하게 할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 프레임(22)의 상면의 상기 마스크(21)의 얼라인 홀(25)과 대응되는 위치에 위치 확인 마크(27)를 패턴하거나, 또는 위치 확인 홈(28)을 형성할 수 있다. 이러한 위치 확인 마크(27) 및 위치 확인 홈(28)에 대해서 설명하면 다음과 같다.In checking the alignment position with the CCD camera, in order to make the CCD camera easier to recognize the position, according to a preferred embodiment of the present invention, the alignment of the mask 21 on the upper surface of the frame 22 is aligned. The positioning mark 27 may be patterned at the position corresponding to the hole 25 or the positioning groove 28 may be formed. The positioning mark 27 and the positioning groove 28 will be described as follows.
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 의하여 프레임(22)의 상면에 위치 확인 마크(27)를 패턴한 유기 EL 마스크용 프레임에 대한 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a frame for an organic EL mask in which a positioning mark 27 is patterned on an upper surface of a frame 22 according to a preferred embodiment of the present invention.
그림에서 볼 수 있는 바와 같이, 프레임(22)의 내측 끝단(22a)은 마스크(21)의 얼라인 홀(25)과 슬롯들(29)에 의한 막 형성 영역(A') 사이까지 연장되며, 프레임(22)의 상면에는 마스크(21)의 얼라인 홀(25)에 대응되는 위치에 위치 확인 마크(27)가 패턴된다. 이 위치 확인 마크(27)와 얼라인 홀(25) 및 얼라인 마크(24)는 일직선상으로 배치되며, 기판(20)의 상부에서 CCD 카메라(26)로 직선상으로 배치된 위치가 온전히 확인될 수 있게 된다. 이 때 프레임(22) 상에 형성하는 위치 확인 마크(25)는 빛의 반사율이 높은 재료로 반사막을 패턴할 수 있다. 이는 CCD 카메라(26)로부터 방사된 빛이 얼라인 마크(24) 및 얼라인 홀(25)을 지나 위치 확인 마크(27)에서 온전히 반사되어 그 위치를 손쉽게 확인할 수 있도록 하기 위한 것이다.As can be seen in the figure, the inner end 22a of the frame 22 extends between the alignment hole 25 of the mask 21 and the film formation region A 'by the slots 29, The positioning mark 27 is patterned in the upper surface of the frame 22 at the position corresponding to the alignment hole 25 of the mask 21. The positioning mark 27, the alignment hole 25, and the alignment mark 24 are arranged in a straight line, and the position arranged in a straight line with the CCD camera 26 on the substrate 20 is completely confirmed. It becomes possible. At this time, the positioning mark 25 formed on the frame 22 can pattern the reflective film with a material having a high reflectance of light. This is for the light emitted from the CCD camera 26 to be completely reflected from the positioning mark 27 past the alignment mark 24 and the alignment hole 25 so that the position thereof can be easily confirmed.
도 4는 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예에 의하여 프레임(22)의 상면에 위치 확인 홈(28)를 형성시킨 유기 EL 마스크용 프레임에 대한 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a frame for an organic EL mask in which a positioning groove 28 is formed on an upper surface of the frame 22 according to another preferred embodiment of the present invention.
그림과 같은 실시예에 의하면, 상술한 도 3과 같은 프레임에서 프레임(22)의 상기 얼라인 홀(25)에 대응되는 위치에 반사율이 높은 재료로 위치 확인 마크를 패턴하는 대신, 위치 확인 홈(28)이 더 형성되도록 하였다. 이 때, 이 위치 확인 홈(28)은 도 4의 단면 형상에서도 볼 수 있는 바와 같이, 프레임(22)의 내측 가장자리부와 맞닿지 않도록 경사지게 형성하는 것이 바람직한 데, 이러한 위치 확인 홈(28)의 단면 형상은 프레임(22)의 내측 가장자리부의 형상에 따라 다양하게 변할 수 있음은 물론이다.According to the embodiment as shown in the figure, instead of patterning the positioning mark with a material having a high reflectance at a position corresponding to the alignment hole 25 of the frame 22 in the frame as shown in FIG. 3, the positioning groove ( 28) was further formed. At this time, the positioning groove 28 is preferably formed to be inclined so as not to be in contact with the inner edge of the frame 22, as can also be seen in the cross-sectional shape of FIG. The cross-sectional shape may vary depending on the shape of the inner edge of the frame 22, of course.
이렇게 위치 확인 홈(28)을 형성시킬 경우에는 별도의 반사막을 패턴할 필요없이 홈의 형상만으로 CCD 카메라(26)로서의 위치 확인이 용이하게 된다. 곧, CCD 카메라(26)의 빛이 얼라인 마크(24) 및 얼라인 홀(25)을 통과한 후, 위치 확인 홈(28)의 경사면 또는 저면에서 반사되기 때문에 카메라(26)가 이를 용이하게 감지할 수 있는 것이다.When the positioning grooves 28 are formed in this manner, the positioning as the CCD camera 26 can be easily performed only by the shape of the grooves without the need for patterning a separate reflective film. In other words, since the light of the CCD camera 26 passes through the alignment mark 24 and the alignment hole 25, the camera 26 easily reflects the light from the inclined surface or the bottom surface of the positioning groove 28. It can be detected.
상기와 같은 도 3 및 도 4의 실시예들의 경우, 그림에서 볼 수 있는 바와 같이 프레임(22)의 내측 끝단(22a)이 얼라인 홀(25)을 하부에서 덮기 때문에 하부의 증발원(23)으로부터 계속되는 증착이 이루어지더라도 기판(20) 하면의 얼라인 홀(25) 쪽에는 증착이 이루어지지 않게 된다.3 and 4 as described above, since the inner end 22a of the frame 22 covers the alignment hole 25 from the bottom, as shown in the figure, from the lower evaporation source 23. Even if the deposition is continued, the deposition is not performed on the alignment hole 25 side of the lower surface of the substrate 20.
상기와 같은 구성을 가진 본 발명에 의하면, 유기 EL의 마스크용 프레임의 내측 끝단이 마스크의 얼라인 홀을 하부에서 가림에 따라, CCD 카메라를 이용하여 마스크와 기판의 정렬을 검사할 때, 카메라의 빛이 마스크의 얼라인 홀을 그대로 투과하는 것을 막아 카메라가 기판의 얼라인 마크와 마스크의 얼라인 홀을 보다 쉽게 인식할 수 있도록 한다.According to the present invention having the above-described configuration, when the inner end of the mask frame of the organic EL covers the alignment hole of the mask from below, when the alignment of the mask and the substrate is inspected using a CCD camera, By preventing light from passing through the alignment holes of the mask, the camera can more easily recognize the alignment marks on the substrate and the alignment holes of the mask.
또한 본 발명에 따른 프레임이 마스크의 얼라인 홀을 덮기 때문에 얼라인 홀 쪽의 기판에 증착이 이루어지지 않아 증착이 계속 진행되더라도 CCD 카메라의 위치인식이 수월하게 되는 장점이 있으며, 마스크의 수명을 연장시킬 수 있다.In addition, since the frame according to the present invention covers the alignment holes of the mask, deposition is not performed on the substrate on the alignment hole side, so that even if the deposition continues, the position recognition of the CCD camera is facilitated, and the life of the mask is extended. You can.
본 명세서에서는 본 발명을 한정된 실시예를 중심으로 설명하였으나, 본 발명의 사상적 범위 내에서 다양한 실시예가 가능하다. 또한 설명되지는 않았으나, 균등한 수단도 또한 본 발명에 그대로 결합되는 것이라 할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 하기 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.In the present specification, the present invention has been described with reference to limited embodiments, but various embodiments are possible within the spirit of the present invention. In addition, although not described, equivalent means will also be referred to as incorporated in the present invention. Therefore, the true scope of the present invention will be defined by the claims.
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