KR20030027930A - Three dimensional hologram manufacturing method having a high curving rate - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A preparation method of a 3-dimensional hologram having the high curvature is provided to have the merits that the various designs apply and the thickness of hologram are selected freely. CONSTITUTION: The preparation method of the 3-dimensional hologram having the high curvature includes a step of positioning a nickel hologram plate on the upper side of a clear coated clear film(150) and heating/pressing using a curved surface heat press(200) so as to receive the hologram; a step of nickel plating by immersing the 3-dimensional clear hologram plastic film(150) formed by the curved surface heat press(200) in a nickel electroplating vessel; a step of separating the nickel plated hologram nickel plate and the clear sheet film; a step of resting the separated 3-dimensional hologram nickel plate on a 3-dimensional die frame; and a step of positioning the clear coated clear plastic film on the upper side of the 3-dimensional hologram nickel plate and heating/pressing using the heat press(200) so as to receive the hologram in the 3-dimensional hologram die frame.

Description

고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법{THREE DIMENSIONAL HOLOGRAM MANUFACTURING METHOD HAVING A HIGH CURVING RATE}THREE DIMENSIONAL HOLOGRAM MANUFACTURING METHOD HAVING A HIGH CURVING RATE

본 발명은 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게 곡면으로 된 3차원 니켈 홀로그램 금형판을 형성하고 금형틀에 안착시키고, 투명 증착 처리된 플라스틱 필름에 니켈 홀로그램의 상면에 위치시킨 상태에서 열 프레스를 이용한 가열/가압함으로써 고 만곡률을 가지며 다양한 디자인이 적용될 수 있고, 홀로그램의 두께를 자유롭게 채용할 수 있도록 한 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a three-dimensional hologram having a high curvature, and more specifically to form a curved three-dimensional nickel hologram mold plate and seated on the mold, and the transparent film on the upper surface of the nickel hologram on the plastic film The present invention relates to a three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature that has a high curvature and various designs can be applied by heating / pressing using a heat press in a positioned state, and can freely adopt the thickness of the hologram.

주지된 바와 같이, 홀로그래피는 다른 영상 기록 공정들과는 구별되는 독특한 영상 기록 공정이며, 예컨대 삼차원 물체와의 상호작용에 의해 변조되는 간섭성파면(coherent wavefront)의 위상 및 진폭이 기록 매체상에 기록된다. 이와같이 저장되는 위상 및 진폭은 본래의 삼차원 물체의 삼차원 영상을 제공하도록 재생될 수 있다.As is well known, holography is a unique image recording process that distinguishes it from other image recording processes, for example, the phase and amplitude of a coherent wavefront modulated by interaction with a three-dimensional object are recorded on the recording medium. The phase and amplitude stored in this way can be reproduced to provide a three-dimensional image of the original three-dimensional object.

대체로, 홀로그램의 제조에 있어서, 그 영상이 기록될 물체에는 간섭성 방사원으로부터 분할되는 제 1 성분이 조사된다. 물체로부터 반사되는 조사량은 예컨대, 사진건판 또는 광중합 매체와 같은, 적당한 방식으로 감광화된(sensitized) 기록매체로 지향된다. 이와 같이 물체에 의해 인터럽트되는 간섭성 방사 비임은 통상적으로 물체 비임으로서 명명된다. 동시에, 간섭성 방사원으로부터 분할되는 제 2 성분은 물체를 우회하여 기록 매체로 지향된다. 이와 같은 간섭성 비임은 통상적으로 기준 비임으로서 명명된다. 기록 매체상에서 동시에 충돌되는 기준 비임과 물체 비임간의 상호작용에 의해 파생되는 결과적인 간섭 패턴은 기록 매체내에 잠재적으로 기록된다. 노광된 기록 매체가 (예컨대, 잠재 기록물의 현상을 위해) 처리되고 나서 적당한 각(즉, 기준 비임의 입사각과 대체로 일치하는 각)에서 적당하게 조사되고 관측되었을 때, 이러한 조사량은 간섭 패턴(홀로그램)과 상호작용하여 본래 상기 물체로부터 반사되어 상기 기록 매체에 도달되었던 파면을 재생한다. 이에 따라, 홀로그래피 기술을 이용하여 재생된 영상을 창출할 수 있게 된다.In general, in the manufacture of holograms, the object on which the image is to be recorded is irradiated with a first component which is divided from the coherent radiation source. The amount of radiation reflected from an object is directed to a sensitized recording medium in a suitable manner, such as, for example, photographic plates or photopolymerization media. As such, the coherent radiation beam interrupted by the object is commonly referred to as the object beam. At the same time, the second component divided from the coherent radiation source is directed to the recording medium bypassing the object. Such coherent beams are commonly referred to as reference beams. The resulting interference pattern derived by the interaction between the reference beam and the object beam simultaneously colliding on the recording medium is potentially recorded in the recording medium. When the exposed recording medium is processed (e.g., for development of latent recordings) and then properly irradiated and observed at an appropriate angle (i.e., an angle generally coinciding with the angle of incidence of the reference beam), this dose is determined by the interference pattern (hologram). Interact with to reproduce the wavefront that was originally reflected from the object and reached the recording medium. Accordingly, it is possible to create a reproduced image using holography technology.

국내의 홀로그램 관련 특허는 대한민국 특허출원 제 10-2002-0028028호로 "홀로그램 패턴이 라미네이팅된 원단과 이의 제조방법"과, "홀로그램 패턴이 형성된 열전사용 필름과 이의 제조방법" 기술이 출원중이다. 상기한 발명은 단순히 플라스틱 필름에 롤러나 스탬핑을 이용하여 평면에 홀로그램 필름을 부착하는 것에 불과한 기술이다.Korean hologram related patents are pending for Korean Patent Application No. 10-2002-0028028, "fabric with hologram pattern laminated and its manufacturing method", and "heat transfer film formed with hologram pattern and its manufacturing method". The above invention is merely a technique of attaching a hologram film on a plane by using a roller or stamping on the plastic film.

또한, 홀로그램 부착 기술의 발전에 따라, 홀로그래피 기술이 다양한 용도들에 사용되게 되었다. 이에 따라, 반사적인 디스플레이 홀로그램들을 사용하는 선글래스에 대한 시장의 관심도 점차 높아지고 있다. 반사적인 디스플레이 홀로그램들을사용하는 선글래스에는 엠보싱된 반사 디스플레이 홀로그램(embossed reflective display hologram)을 사용하는 선글래스, 체적 위상 반사 홀로그램(volume phase reflection hologram)을 사용하는 선글래스 등이 있다.In addition, with the development of holographic attachment techniques, holographic techniques have been used for a variety of applications. Accordingly, the market interest in sunglasses using reflective display holograms is also increasing. Sunglasses using reflective display holograms include sunglasses using embossed reflective display holograms, sunglasses using volume phase reflection holograms, and the like.

미합중국 특허 제 6,020,983 호를 참조하면, 체적 위상 반사 홀로그램을 갖는 눈덮개 제품들을 제조하기 위한 방법이 기재되어 있다. 이러한 방법에 있어서는, 간섭성 조사에 활성가능한 광활성 조성물을 광학적으로 투명한 가요성 웨브상에 증착시킴으로써 기록 매체가 구성되고, 이러한 기록 매체는 간섭성 조사에 활성가능한 상기 광활성 조성물의 특성에 의해 홀로그램 형태로의 기록이 가능하게 된다. 상기 광학적으로 투명한 가요성 웨브상에 소정의 삼차원 물체의 체적 위상 반사 홀로그램 기록체를 생성시키도록, 기록 매체의 일측에는 기준 비임이 상기 광학적으로 투명한 웨브를 통해 충돌되고 상기 일측의 반대측인 기록 매체의 타측에는 물체 비임이 충돌되므로써, 기록 매체는 간섭성 조사 비임에 노출된다.상기 담체 웨브에 대향되는 쪽에서 상기 웨브에 의해 지지되는 체적 위상 반사 홀로그램층상에는 접착제층이 증착된다. 견고하고 평평하며 착색제를 포함하여 광감쇄가능하게 되는 광투과성 플래스틱 기판상에 상기 웨브에 의해 지지되는 상기입체 반사 홀로그램이 접착되므로써, 상기 웨브, 상기 홀로그램 형태로 기록이 이루어진 매체, 상기 접착제층, 그리고 상기 광투과성 플래스틱 기판이 순차적으로 적층되어 구성되는 평평한 홀로그래픽 적층체가 형성된다. 이러한 평평한 홀로그래픽 적층체로부터 단일 블랭크를 절단 및 제거하므로써 평평한 대안렌즈 블랭크가 준비된다. 제거된 대안렌즈 블랭크를 가열하여 연화시킨 상태에서 만곡시킴으로써 단일 축방향으로 만곡된 대안렌즈가 형성되고, 이러한 대안렌즈를 사용자에 착용시킬 수 있게 하는 결합수단을 상기 대안렌즈에 설치하므로써 선글래스가 완성된다. 그러므로, 상기 미합중국 특허 제 6,020,983 호는, 상기한 바 있는 엠보싱된 반사 디스플레이 홀로그램을 사용하는 것을 대신하여, 체적 위상 반사홀로그램을 사용하는 것을 그 기술상의 특징으로 하며, 이러한 체적 위상 반사 홀로그램에 광투과성 플래스틱 기판이 접착되는 구조를 취하게 된다.Referring to US Pat. No. 6,020,983, a method is described for making eyelid articles having volume phase reflecting holograms. In this method, a recording medium is constructed by depositing a photoactive composition that is active for coherent radiation onto an optically transparent flexible web, which recording medium is in hologram form by the properties of the photoactive composition that is active for coherent radiation. Can be recorded. On one side of the recording medium a reference beam impinges through the optically transparent web and on the opposite side of the one side to produce a volume phase reflective hologram recording of a predetermined three-dimensional object on the optically transparent flexible web. As the object beam collides on the other side, the recording medium is exposed to the coherent irradiation beam. An adhesive layer is deposited on the volume phase reflecting hologram layer supported by the web on the side opposite to the carrier web. The three-dimensional reflective hologram supported by the web is adhered to a rigid, flat, light-transmissive plastic substrate that includes a colorant, so that the recording medium in the form of the web, the hologram, the adhesive layer, and A flat holographic laminate is formed in which the light transmissive plastic substrates are sequentially stacked. A flat alternative lens blank is prepared by cutting and removing a single blank from this flat holographic stack. By heating and softening the removed alternative lens blank, an alternative lens curved in a single axial direction is formed, and the sunglasses are completed by installing a coupling means in the alternative lens that allows the user to wear such an alternative lens. . Therefore, U.S. Patent No. 6,020,983 is characterized by the use of a volume phase reflection hologram, instead of using the embossed reflective display hologram as described above, and a light transmissive plastic in the volume phase reflection hologram. It takes a structure to which the substrate is bonded.

그러나, 상기한 기술은 곡면 이형체층의 상면에 홀로그램 필름을 안착시키고, 그 곡면 이형체층의 형태와 동일한 측면 형상을 갖는 열프레스 금형을 가압함으로써 곡면 이형체층의 상면에 홀로그램 필름을 부착시키는 방법으로서, 이러한 방법으로는 부착되는 홀로그램 필름이 얇아야만 가능하다는 문제가 있었다. 따라서, 보다 홀로그램 입체감이나 반사율이 높은 두꺼운 홀로그램 필름은 부착이 불가능하게 되고, 이로 기인하여 다양한 디자인의 홀로그램 필름을 부착할 수 없다는 문제가 있었다.However, the above-described technique is a method of attaching a hologram film to an upper surface of a curved mold release layer by pressing a hot press mold having the same side shape as the shape of the curved mold release layer and mounting the hologram film on the upper surface of the curved mold release layer. This method has a problem that the hologram film to be attached is only thin. Therefore, a thicker hologram film having a higher hologram three-dimensionality or a higher reflectance becomes impossible to attach, and thus there is a problem in that hologram films of various designs cannot be attached.

본 발명은 상기한 종래 기술의 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 곡면으로 된 3차원 니켈 홀로그램 금형판을 형성하고 금형틀에 안착시키고, 투명 증착 처리된 플라스틱 필름에 니켈 홀로그램의 상면에 위치시킨 상태에서 열 프레스를 이용한 가열/가압함으로써 고 만곡률을 가지며 다양한 디자인이 적용될 수 있고, 홀로그램의 두께를 자유롭게 채용할 수 있도록 한 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described state of the art, and forms a curved three-dimensional nickel hologram mold plate, seats it on a mold, and heats it in a state where it is placed on the upper surface of the nickel hologram on a plastic film subjected to transparent deposition. It is an object of the present invention to provide a three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature that has a high curvature and various designs can be applied by heating / pressing a press, so that the thickness of the hologram can be freely adopted.

도 1a는 본 발명의 제 1실시예에 따른 홀로그램 패턴을 형성하기 위한 마스터링 판을 도시한 단면도,1A is a cross-sectional view showing a mastering plate for forming a hologram pattern according to a first embodiment of the present invention;

도 1b는 본 발명의 제 1실시예에 따른 홀로그램 패턴의 전기도금 상태를 도시한 도면,1B is a diagram showing an electroplating state of the hologram pattern according to the first embodiment of the present invention;

도 1c는 본 발명의 제 1실시예에 따른 홀로그램이 증착된 플라스틱 필름의 형성과정을 설명하기 위한 단면도,1C is a cross-sectional view for describing a process of forming a hologram-deposited plastic film according to a first embodiment of the present invention;

도 1d는 본 발명의 제 1실시예에 따른 투명 홀로그램 플라스틱 필름을 3차원 성형하는 과정을 설명하기 위한 단면도,1D is a cross-sectional view illustrating a process of three-dimensionally forming a transparent holographic plastic film according to a first embodiment of the present invention;

도 1e는 본 발명의 제 1실시예에 따른 3차원 성형된 투명 홀로그램 플라스틱 필름을 니켈 전기도금하는 과정을 설명하기 위한 단면도,1E is a cross-sectional view for explaining a process of nickel electroplating a 3D molded transparent holographic plastic film according to a first embodiment of the present invention;

도 1f는 본 발명의 제 1실시예에 따른 3차원 성형된 투명 홀로그램 니켈판의 상면에 투명 플라스틱 필름을 증착하는 과정을 설명하기 위한 단면도,1F is a cross-sectional view illustrating a process of depositing a transparent plastic film on an upper surface of a three-dimensionally formed transparent holographic nickel plate according to a first embodiment of the present invention;

도 2는 본 발명의 제 2실시예에 따른 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 적용된 기본 패턴을 도시한 단면도,2 is a cross-sectional view showing a basic pattern to which a three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature according to a second embodiment of the present invention is applied;

도 3, 4, 5, 6, 7은 본 발명의 제 3, 4, 5, 6, 7실시예에 따른 고 만곡률을갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 적용된 응용패턴을 도시한 단면도,3, 4, 5, 6, and 7 are cross-sectional views showing an application pattern to which a three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature according to the third, fourth, fifth, sixth, and seventh embodiments of the present invention is applied;

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 고 만곡률을 갖는 곡면 홀로그램 필름 부착공정을 도시한 공정도이다.8 is a flowchart illustrating a process of attaching a curved hologram film having a high curvature according to an embodiment of the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

10:홀로그래피, 20:포토레지스터,10: holography, 20: photoresist,

30:유리판, 40:전기도금조,30: glass plate, 40: electroplating bath,

70:니켈판, 80:홀로그램 니켈판,70: nickel plate, 80: holographic nickel plate,

130:3차원 홀로그램 플라스틱 필름, 140:3차원 홀로그램 니켈판,130: three-dimensional holographic plastic film, 140: three-dimensional holographic nickel plate,

150:홀로그램 투명 플라스틱 필름.150: Holographic transparent plastic film.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면 3차원 곡면에 홀로그램을 증착하는 방법에 있어서, 니켈 홀로그램 평판을 그 홀로그램을 수용하기 위해 투명 코팅 처리된 투명 필름의 상면에 위치시키고, 곡면 열 프레스를 이용하여 가열/가압하는 단계와; 곡면 열프레스에 의해 성형된 3차원 투명 홀로그램 플라스틱 필름을 니켈 전기도금조에 침지하여 니켈 도금을 행하는 단계와; 니켈 도금된 홀로그램 니켈 판과 투명 시트 필름을 분리시키는 단계와; 분리된 3차원 홀로그램 니켈 판을 3차원 금형 틀에 안착시키는 단계와; 3차원 홀로그램 금형틀에 홀로그램을 수용하기 위해 투명 코팅 처리된 투명 플라스틱 필름을 상기 3차원 홀로그램 니켈판의 상면에 위치시키고, 열프레스를 이용하여 가열/가압하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 제공된다.In order to achieve the above object, according to a preferred embodiment of the present invention, in the method of depositing a hologram on a three-dimensional curved surface, the nickel hologram plate is placed on the upper surface of the transparent coated film to receive the hologram, Heating / pressurizing using a curved heat press; Performing nickel plating by immersing the three-dimensional transparent hologram plastic film formed by curved heat press in a nickel electroplating bath; Separating the nickel plated holographic nickel plate and the transparent sheet film; Seating the separated three-dimensional holographic nickel plate in a three-dimensional mold frame; High curvature, characterized in that the transparent plastic film coated with a transparent coating to accommodate the hologram in the three-dimensional hologram die frame on the upper surface of the three-dimensional holographic nickel plate, and heat / press using a heat press Provided is a three-dimensional hologram manufacturing method.

바람직하게, 투명 플라스틱 필름층, 홀로그램을 수용하기 위한 투명 증착층, 투명 홀로그램 층이 순차적으로 적층하여 기본 패턴층을 형성하는 것이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 제공된다.Preferably, the three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature, characterized in that further comprising forming a basic pattern layer by sequentially laminating a transparent plastic film layer, a transparent deposition layer for receiving a hologram, a transparent hologram layer Is provided.

바람직하게, 상기 기본 패턴층(투명 플라스틱 필름층, 홀로그램을 수용하기위한 투명 증착층, 투명 홀로그램 층)의 상면에 알루미늄 진공 증착층이 순차적으로 적층되어 제 1 응용 패턴층을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 제공된다.Preferably, an aluminum vacuum deposition layer may be sequentially stacked on the upper surface of the basic pattern layer (transparent plastic film layer, transparent deposition layer for accommodating hologram, transparent hologram layer) to form a first application pattern layer. A three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature is provided.

바람직하게, 상기 투명 플라스틱 필름층, 홀로그램을 수용하기 위한 투명 증착층, 투명 홀로그램 층이 순차적으로 적층되고, 투명 플라스틱 필름층과 투명 증착층의 사이에 인쇄층이 더 포함되어 제 2 응용 패턴층을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 제공된다.Preferably, the transparent plastic film layer, a transparent deposition layer for accommodating a hologram, a transparent hologram layer are sequentially stacked, and a printed layer is further included between the transparent plastic film layer and the transparent deposition layer to form a second application pattern layer. Provided is a three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature, which can be formed.

바람직하게, 제 2 응용 패턴층의 상면에 알루미늄 진공 증착층이 순차적으로 적층되어 제 3 응용 패턴층을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 제공된다.Preferably, a three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature, characterized in that the aluminum vacuum deposition layer is sequentially stacked on the upper surface of the second application pattern layer to form a third application pattern layer.

바람직하게, 상기 기본 패턴층(투명 플라스틱 필름층, 홀로그램을 수용하기 위한 투명 증착층, 투명 홀로그램 층)의 상면에 인쇄층이 순차적으로 증착되어 제 4 응용 패턴층을 형성하는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 제공된다.Preferably, the high curvature, characterized in that the printing layer is sequentially deposited on the upper surface of the basic pattern layer (transparent plastic film layer, transparent deposition layer for receiving hologram, transparent hologram layer) to form a fourth application pattern layer A method of manufacturing a three-dimensional hologram having a rate is provided.

바람직하게, 상기 제 4 응용 패턴층의 상면에 알루미늄 진공 증착층이 순차적으로 적층되어 제 5 응용 패턴층을 형성하는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 제공된다.Preferably, a three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature, characterized in that the aluminum vacuum deposition layer is sequentially stacked on the upper surface of the fourth application pattern layer to form a fifth application pattern layer.

이하, 본 발명에 대해 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail with reference to drawings.

도 1a는 본 발명의 제 1실시예에 따른 홀로그램 패턴을 형성하기 위한 마스터링 판을 도시한 단면도이고, 도 1b는 본 발명의 제 1실시예에 따른 홀로그램 패턴의 전기도금 상태를 도시한 도면이며, 도 1c는 본 발명의 제 1실시예에 따른 홀로그램이 증착된 플라스틱 필름의 형성과정을 설명하기 위한 단면도, 도 1d는 본 발명의 제 1실시예에 따른 투명 홀로그램 플라스틱 필름을 3차원 성형하는 과정을 설명하기 위한 단면도, 도 1e는 본 발명의 제 1실시예에 따른 3차원 성형된 투명 홀로그램 플라스틱 필름을 니켈 전기도금하는 과정을 설명하기 위한 단면도, 도 1f는 본 발명의 제 1실시예에 따른 3차원 성형된 투명 홀로그램 니켈판의 상면에 투명 플라스틱 필름을 증착하는 과정을 설명하기 위한 단면도이다.1A is a cross-sectional view illustrating a mastering plate for forming a hologram pattern according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a diagram illustrating an electroplating state of the hologram pattern according to the first embodiment of the present invention. 1C is a cross-sectional view illustrating a process of forming a hologram-deposited plastic film according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1D is a process of three-dimensionally forming a transparent holographic plastic film according to a first embodiment of the present invention. 1E is a cross-sectional view for describing a process of nickel electroplating a 3D molded transparent holographic plastic film according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1F is a cross-sectional view for explaining a nickel electroplating process according to the first embodiment of the present invention. It is sectional drawing for demonstrating the process of depositing a transparent plastic film on the upper surface of the 3D molded transparent holographic nickel plate.

먼저, 본 발명에 따른 고(高) 만곡률(彎曲率)을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법은 포토레지스터 유리판에 홀로그래피를 증착한 마스터링을 전기도금조의 전기도금을 통해 니켈 홀로그램 평판을 제작하고, 투명 플라스틱 필름을 가열/가압하여 그 하면에 부착하며, 일차로 3차원 곡면 홀로그램을 성형한다. 그리고, 다시 성형된 3차원 곡면 홀로그램을 전기도금조에 침지시켜 니켈 도금한 다음, 니켈 홀로그램과 플라스틱 필름을 분리시킨다.First, the three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature according to the present invention is to produce a nickel hologram plate through the electroplating of the electroplating mastering the holography deposited on the photoresist glass plate, transparent The plastic film is heated / pressurized and attached to the lower surface thereof, and primarily forms a three-dimensional curved hologram. Then, the molded three-dimensional curved hologram is immersed in an electroplating bath and nickel plated, and then the nickel hologram and the plastic film are separated.

그리고, 곡면 금형틀에 니켈 홀로그램을 안착시키고 투명 코팅된 플라스틱 필름??르 그 상면에 위치시킨 상태에서, 가압/가열하여 최종적으로 3차원 홀로그램을 성형하게 된다.Then, the nickel hologram is mounted on the curved mold, and the transparent coated plastic film is placed on the upper surface thereof, and is pressed / heated to finally form the three-dimensional hologram.

보다 상세하게, 본 발명은 도 1a에 도시된 바와 같이 유리판(30)에 포토레지스터(20)로 처리한 후, 시준된 레이저 빔을 조사하여 홀로그래피(10) 처리를 행하여 마스터링판(11)을 제작한다(제 1 단계: ST-1). 이러한 마스터링판(11)의 구조는 유리판(30)과 포토레지스터(20), 홀로그래피(10)가 각각 적층된 구조를 갖게 된다.이때, 홀로그래픽 포토레지스트는, 홀로그래피 기술을 이용하여 노광되고 현상될 때 그 깊이가 입사되는 방사량의 강도에 비례하는 재료이다.More specifically, in the present invention, as shown in FIG. 1A, the glass plate 30 is treated with a photoresist 20, and then subjected to holographic 10 treatment by irradiating a collimated laser beam to produce a mastering plate 11. (First step: ST-1). The structure of the mastering plate 11 has a structure in which the glass plate 30, the photoresist 20, and the holography 10 are laminated, respectively. In this case, the holographic photoresist is exposed and developed using a holography technique. It is a material whose depth is proportional to the intensity of the incident radiation.

그리고, 도 1b에 도시된 바와 같이, 전기도금조(40; electroplating bath)에 상기 마스터링판(11)을 침지시키고, 그 마스터링판(11)에는 음극(60)을 인가하고, 양극(50)에는 니켈판(70)을 인가하여 전기도금을 행한다. 이때, 상기 마스터링판(11)의 외표면에는 은화(銀化) 전처리를 전기도금 전에 행함으로써 통전율이 높아지도록 한다. 니켈 전기도금과정에서 니켈이 상기 마스터링판(11)에 전이된 홀로그램 니켈판(80)이 형성된다(제 2 단계: ST-2).1B, the mastering plate 11 is immersed in an electroplating bath 40, a cathode 60 is applied to the mastering plate 11, and an anode 50 is applied to the master plate 11. Electroplating is performed by applying a nickel plate 70. At this time, the outer surface of the mastering plate 11 is subjected to silver pretreatment before electroplating so that the current carrying rate is increased. In the nickel electroplating process, a hologram nickel plate 80 in which nickel is transferred to the mastering plate 11 is formed (second step: ST-2).

그런 다음, 도 1c에 도시된 바와 같이, 마스터링판(11)과 홀로그램 니켈판(80)을 분리하고, 열 프레스(200) 상측에 부착한 다음, 홀로그램을 수용하기 위한 투명 코팅된 투명 플라스틱 필름(90)을 하측에 안착시킨 후 가열/가압하여 성형한다(제 3 단계: ST-3).Then, as shown in FIG. 1C, the mastering plate 11 and the holographic nickel plate 80 are separated, attached to the top of the heat press 200, and then a transparent coated transparent plastic film for accommodating the hologram ( 90) is seated on the lower side and then heated / pressurized to form (third step: ST-3).

그리고, 도 1d에 도시된 바와 같이, 투명 홀로그램 플라스틱 필름(12)을 3차원 금형에 안착한 후, 열 프레스(200)를 이용하여 3차원 투명 홀로그램 플라스틱 필름(130)을 성형한다. 이때, 열, 압력, 용매 또는 그들의 조합에 의해 연화된 플라스틱내에 간섭 패턴을 연속적으로 증착시킬 수 있도록 상기 투명 홀로그램 플라스틱 필름(12)을 경성 마스터링 한다(제 4 단계: ST-4).As shown in FIG. 1D, the transparent holographic plastic film 12 is mounted on the three-dimensional mold, and then the three-dimensional transparent holographic plastic film 130 is formed using the heat press 200. At this time, the transparent hologram plastic film 12 is rigidly mastered to continuously deposit an interference pattern in the plastic softened by heat, pressure, a solvent, or a combination thereof (fourth step: ST-4).

다음으로, 도 1e에 도시된 바와 같이, 3차원 투명 홀로그램 플라스틱 필름(130)을 은과 같은 전도성이 큰 금속으로 코팅한 후, 다시 니켈 전기도금조(40)에 침지하고 음극(60)을 인가하여 니켈 도금한다(제 5 단계: ST-5).그리고, 투명 홀로그램 플라스틱 필름(130)에 니켈을 도금한 후 분리하여, 3차원 홀로그램 니켈 판(140)을 성형한다(제 6 단계: ST-6).Next, as shown in FIG. 1E, the 3D transparent hologram plastic film 130 is coated with a highly conductive metal such as silver, and then immersed again in the nickel electroplating bath 40 and the negative electrode 60 is applied thereto. Nickel plating on the transparent holographic plastic film 130, and then separating and forming a three-dimensional holographic nickel plate 140 (sixth step ST-). 6).

그리고, 도 1f에 도시된 바와 같이, 3차원 홀로그램 니켈판(140)을 3차원 금형 하판(120)에 안착시키고, 그 상면에 홀로그램을 수용하기 위한 투명 코팅된 투명 플라스틱 필름(150)을 안착시켜 열 프레스(200)로 가열/가압하여 성형하여 3차원 곡면 홀로그램을 완성한다(제 7 단계: ST-7).1F, the 3D holographic nickel plate 140 is seated on the 3D mold lower plate 120, and the transparent coated transparent plastic film 150 for accommodating the hologram is mounted on the upper surface thereof. The three-dimensional curved hologram is completed by heating / pressing with a hot press 200 to form a three-dimensional curved hologram (ST-7).

도 2는 본 발명의 제 2실시예에 따른 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 적용된 기본 패턴을 도시한 단면도이며, 도 3, 4, 5, 6, 7은 본 발명의 제 3, 4, 5, 6, 7실시예에 따른 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 적용된 응용패턴을 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a basic pattern to which a three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature according to a second embodiment of the present invention is applied, and FIGS. 3, 4, 5, 6, and 7 are third and fourth embodiments of the present invention. , 5, 6, 7 is a cross-sectional view showing an application pattern to which the three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature according to the embodiment is applied.

이를 참조하면, 도 2 내지 도 7은 본 발명의 제 2실시예에 따른 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법이 적용된 기본 패턴과, 그 기본 패턴으로부터 파생 가능한 응용 패턴에 대해 도시한 바, 그 기본 패턴은 투명 플라스틱 필름(1), 홀로그램을 수용하기 위한 투명 증착층(2), 투명 홀로그램 층(3)이 순차적으로 적층된 구조의 기본 패턴층(4)을 갖는다.2 to 7 illustrate a basic pattern to which a three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature according to a second embodiment of the present invention is applied, and an application pattern derivable from the basic pattern. The basic pattern has a transparent plastic film (1), a transparent deposition layer (2) for accommodating holograms, and a basic pattern layer (4) of a structure in which a transparent hologram layer (3) is sequentially stacked.

또한, 3 실시예에 따른 1차 응용패턴층(6)은 상기 기본 패턴층(4)의 상면에 알루미늄 진공 증착층(5)을 적층함으로써 이루어지고, 4 실시예에 따른 2차 응용패턴층(8)은 상기 투명 플라스틱 필름(1), 홀로그램을 수용하기 위한 투명 증착층(2), 투명 홀로그램 층(3)이 적층되고, 상기 투명 플라스틱 필름(1)과 홀로그램을 수용하기 위한 투명 증착층(2)의 사이에 인쇄층(7)이 개재되어 이루어진다.In addition, the primary application pattern layer 6 according to the third embodiment is formed by laminating an aluminum vacuum deposition layer 5 on the upper surface of the basic pattern layer 4, and the secondary application pattern layer according to the fourth embodiment ( 8) the transparent plastic film (1), a transparent deposition layer (2) for accommodating the hologram, a transparent hologram layer (3) is laminated, the transparent deposition layer for accommodating the transparent plastic film (1) and the hologram ( The printing layer 7 is interposed between 2).

또, 5 실시예에 따른 3차 응용패턴층(9)은 2차 응용패턴층(8)의 상면에 알루미늄 진공 증착층(5)이 적층됨으로써 이루어지며, 6 실시예에 따른 4차 응용패턴층(12)은 기본 패턴층(4)의 상면에 인쇄층(7)이 적층되어 이루어지고, 7 실시예에 따른 5차 응용패턴층(13)은 제 4차 기본 패턴층(12)의 상면에 알루미늄 진공 증착층(5)이 적층됨으로써 이루어진다.In addition, the third application pattern layer 9 according to the fifth embodiment is formed by laminating an aluminum vacuum deposition layer 5 on the upper surface of the second application pattern layer 8, and the fourth application pattern layer according to the sixth embodiment. 12 is formed by laminating a print layer 7 on the upper surface of the basic pattern layer 4, the fifth application pattern layer 13 according to the seventh embodiment is on the upper surface of the fourth basic pattern layer 12 The aluminum vacuum deposition layer 5 is laminated.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법은 단지 상기한 실시예에 한정되는 것이 아니라 그 기술적 요지를 이탈하지 않는 범위내에서 다양한 변경이 가능하다.On the other hand, the three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature according to an embodiment of the present invention is not limited only to the above-described embodiment is possible various modifications within the scope not departing from the technical gist.

상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법은 3차원 형상의 곡면 대상물 이형체의 곡면에 홀로그램을 직접 증착시킴으로써 홀로그램을 이용한 다양한 형태의 디자인 성형이 가능하며, 홀로그램 두께에 무관하게 높은 만곡률을 갖도록 3차원 홀로그램을 제조할 수 있다는 효과가 있다.As described above, the three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature according to the present invention enables the design molding of various forms using the hologram by directly depositing the hologram on the curved surface of the three-dimensional curved object release object, the hologram thickness Regardless, there is an effect that a three-dimensional hologram can be manufactured to have a high curvature.

Claims (7)

3차원 곡면에 홀로그램을 증착하는 방법에 있어서,In the method of depositing a hologram on a three-dimensional curved surface, 니켈 홀로그램 평판을 그 홀로그램을 수용하기 위해 투명 코팅 처리된 투명 필름의 상면에 위치시키고, 곡면 열 프레스를 이용하여 가열/가압하는 단계와;Placing a nickel hologram plate on the top surface of the transparent coated transparent film to receive the hologram, and heating / pressurizing using a curved heat press; 곡면 열프레스에 의해 성형된 3차원 투명 홀로그램 플라스틱 필름을 니켈 전기도금조에 침지하여 니켈 도금을 행하는 단계와;Performing nickel plating by immersing the three-dimensional transparent hologram plastic film formed by curved heat press in a nickel electroplating bath; 니켈 도금된 홀로그램 니켈 판과 투명 시트 필름을 분리시키는 단계와;Separating the nickel plated holographic nickel plate and the transparent sheet film; 분리된 3차원 홀로그램 니켈 판을 3차원 금형 틀에 안착시키는 단계와;Seating the separated three-dimensional holographic nickel plate in a three-dimensional mold frame; 3차원 홀로그램 금형틀에 홀로그램을 수용하기 위해 투명 코팅 처리된 투명 플라스틱 필름을 상기 3차원 홀로그램 니켈판의 상면에 위치시키고, 열프레스를 이용하여 가열/가압하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법.High curvature, characterized in that the transparent plastic film coated with a transparent coating to accommodate the hologram in the three-dimensional hologram die frame on the upper surface of the three-dimensional holographic nickel plate, and heat / press using a heat press 3D hologram manufacturing method having a. 제 1 항에 있어서, 투명 플라스틱 필름층, 홀로그램을 수용하기 위한 투명 증착층, 투명 홀로그램 층이 순차적으로 적층하여 기본 패턴층을 형성하는 것이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법.The three-dimensional hologram of claim 1, further comprising forming a basic pattern layer by sequentially laminating the transparent plastic film layer, the transparent deposition layer for accommodating the hologram, and the transparent hologram layer. Manufacturing method. 제 2 항에 있어서, 상기 기본 패턴층(투명 플라스틱 필름층, 홀로그램을 수용하기 위한 투명 증착층, 투명 홀로그램 층)의 상면에 알루미늄 진공 증착층이 순차적으로 적층되어 제 1 응용 패턴층을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법.The aluminum vacuum deposition layer is sequentially stacked on the upper surface of the basic pattern layer (transparent plastic film layer, transparent deposition layer for accommodating hologram, transparent hologram layer) to form a first application pattern layer. 3D hologram manufacturing method having a high curvature, characterized in that there is. 제 2 항에 있어서, 상기 투명 플라스틱 필름층, 홀로그램을 수용하기 위한 투명 증착층, 투명 홀로그램 층이 순차적으로 적층되고, 투명 플라스틱 필름층과 투명 증착층의 사이에 인쇄층이 더 포함되어 제 2 응용 패턴층을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법.The method of claim 2, wherein the transparent plastic film layer, the transparent deposition layer for accommodating the hologram, and the transparent hologram layer are sequentially stacked, and a printing layer is further included between the transparent plastic film layer and the transparent deposition layer. A three-dimensional hologram manufacturing method having a high curvature, characterized in that the pattern layer can be formed. 제 4 항에 있어서, 제 2 응용 패턴층의 상면에 알루미늄 진공 증착층이 순차적으로 적층되어 제 3 응용 패턴층을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법.The method of claim 4, wherein an aluminum vacuum deposition layer is sequentially stacked on the upper surface of the second application pattern layer to form a third application pattern layer. 제 2 항에 있어서, 상기 기본 패턴층(투명 플라스틱 필름층, 홀로그램을 수용하기 위한 투명 증착층, 투명 홀로그램 층)의 상면에 인쇄층이 순차적으로 증착되어 제 4 응용 패턴층을 형성하는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법.The method according to claim 2, wherein a printing layer is sequentially deposited on the upper surface of the basic pattern layer (transparent plastic film layer, transparent deposition layer for accommodating hologram, transparent hologram layer) to form a fourth application pattern layer. 3D hologram manufacturing method having a high curvature. 제 6 항에 있어서, 상기 제 4 응용 패턴층의 상면에 알루미늄 진공 증착층이 순차적으로 적층되어 제 5 응용 패턴층을 형성하는 것을 특징으로 하는 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법.The method of claim 6, wherein an aluminum vacuum deposition layer is sequentially stacked on the upper surface of the fourth application pattern layer to form a fifth application pattern layer.
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