KR20030001864A - 웨이퍼 세정장비 - Google Patents

Abstract

본 발명은 웨이퍼 세정장비에 관한 것으로, 세정 용기의 내부에 칸막이를 구성하여 웨이퍼간의 오염물질 확산을 방지할 수 있는 웨이퍼 세정 장치에 관한 것이다.

이를 위한 본 발명의 웨이퍼 세정장비는, 다수 개의 웨이퍼를 세정용기로 전달하는 로딩 암(loading arm)부를 구비하는 웨이퍼 세정장비에 있어서, 상기 세정용기 내부에 상기 로딩 암부로 부터 전달되는 웨이퍼 간의 오염물질의 확산방지를 위한 다수 개의 칸막이와, 상기 다수 개의 칸막이 사이로 상기 웨이퍼를 이동시키는 웨이퍼 로딩부를 포함하는 웨이퍼 세정장비를 제공하는 것을 특징으로 한다.

Description

웨이퍼 세정장비{WAFER CLEAN DEVICE}

본 발명은 웨이퍼 세정 장비에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 웨이퍼와 웨이퍼간의 오염물질 확산을 방지할 수 있는 웨이퍼 세정 장비에 관한 것이다.

반도체가 고집적화되면서 공정이 많아지고 또한 복잡해졌다. 따라서, 어느 한 공정이 완료되면 웨이퍼에 이물질 등이 흡착되므로, 각 공정 마다 웨이퍼를 세정하는 공정이 실시된다.

그러나, 웨이퍼 세정은 웨이퍼와 웨이퍼 사이의 격막없이 진행되므로, 하나의 웨이퍼에서 발생된 오염 물질이 주위의 다른 웨이퍼로 확산이 되어 깨끗한 웨이퍼들을 오염시켜왔다.

종래에는 이러한 문제점을 해결하고자 백 투 백(Back To Back)이라는 기술을 적용하여 왔다. 즉, 앞면은 앞면끼리, 뒷면은 뒷면끼리 정렬하여 앞면과 뒤면의 서로간의 오염을 방지할 수 있었다.

그러나, 상기 백 투 백(Back To Back) 이라는 기술을 적용하기 위해서는 그 기술을 적용하기 위한 장비가 필요하고, 또한 동선이 길어지게 된다.

따라서, 상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 세정 용기의 내부에 칸막이를 구성하여 웨이퍼간의 오염물질 확산을 방지할 수 있는 웨이퍼 세정 장치를 제공하는 것이다.

도 1은 본 발명의 웨이퍼 세정장비를 설명하기 위한 정면도.

도 2는 도 1의 측면도.

도 3은 도 1에 도시된 세정용기의 평면도.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *

10 : 웨이퍼

20 : 세정용기

30 : 로딩 암(LOADING ARM)부

40 : 웨이퍼 로딩부

100 : 칸막이

상기 목적 달성을 위한 본 발명의 웨이퍼 세정 장비는, 다수 개의 웨이퍼를 세정용기로 전달하는 로딩 암(loading arm)부를 구비하는 웨이퍼 세정장비에 있어서, 상기 세정용기 내부에 상기 로딩 암부로 부터 전달되는 웨이퍼 간의 오염물질의 확산방지를 위한 다수 개의 칸막이와, 상기 다수 개의 칸막이 사이로 상기 웨이퍼를 이동시키는 웨이퍼 로딩부를 포함하는 웨이퍼 세정장비를 제공하는 것을 특징으로 한다.

이때, 상기 웨이퍼 로딩부는 상기 로딩 암부로부터 웨이퍼를 전달받아 상기 세정용기로 상하 이동되어 상기 웨이퍼가 세척되도록 한다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명의 웨이퍼 세정장비의 정면도이고, 도 2는 도 1의 측면도이며, 도 3은 도 1에 도시된 세정용기의 평면도이다.

도 1, 도 2 및 도 3에 도시된 바와같이, 웨이퍼 세정 장비는 다수 개의 웨이퍼(10)를 세정용기(20)로 전달하는 로딩 암(loading arm)부(30)와, 세정용기(20) 내부에 상기 로딩 암부(30)로 부터 전달되는 웨이퍼 간의 오염물질의 확산방지를 위한 다수 개의 칸막이(100)와, 상기 다수 개의 칸막이(100) 사이로 상기 웨이퍼를 이동시키는 웨이퍼 로딩부(40)를 포함한다.

여기서, 칸막이(100)는 웨이퍼 로딩부(40)가 상하로 움직일 수 있는 소정의 공간(50)이 확보되며, 웨이퍼 로딩부(40)는 상기 로딩 암부(30)로부터 웨이퍼를 전달받아 세정용기(20)로 상하 이동되어 상기 웨이퍼(10)가 세척되도록 한다.

이에따라, 오염된 웨이퍼가 오염되지 않은 웨이퍼와 동시에 세정이 실시되더라도, 오염물질의 확산을 방지할 수 있어 수율을 극대화 할 수 있다.

한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.

상술한 본 발명의 웨이퍼 세정장비에 의하면 세정용기 내부에 웨이퍼간의 오염물질 확산을 방지하기 위하여 칸막이를 배치함으로써, 오염된 웨이퍼가 오염되지 않은 웨이퍼와 동시에 세정이 실시되더라도 오염물질의 확산을 방지할 수 있어 수율을 극대화 할 수 있다.

Claims (3)

1. 다수 개의 웨이퍼를 세정용기로 전달하는 로딩 암(loading arm)부를 구비하는 웨이퍼 세정장비에 있어서,

   상기 세정용기 내부에 상기 로딩 암부로 부터 전달되는 웨이퍼 간의 오염물질의 확산방지를 위한 다수 개의 칸막이와,

   상기 다수 개의 칸막이 사이로 상기 웨이퍼를 이동시키는 웨이퍼 로딩부를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장비.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 웨이퍼 로딩부는 상기 로딩 암부로부터 웨이퍼를 전달받아 상기 세정용기로 상하 이동되어 상기 웨이퍼를 세척하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장비.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 칸막이는 상기 웨이퍼 로딩부가 상하로 이동할 수 있는 소정의 공간을 갖는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장비.