KR200267180Y1 - 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크에 관한 것으로서, 원료를 공급받아 혼합하여 슬러리를 조제하는 프레퍼레이션탱크를 구비하는 슬러리공급시스템에 있어서, 내측으로 원료를 투입받아 조제되는 슬러리를 저장하며, 일측에 슬러리를 배출시키는 슬러배출라인(11)이 연결되는 저장용기(10)와; 저장용기(10)의 내측에 설치되며, 회전모타(21)의 구동에 의해 회전하여 원료를 혼합하거나 혼합되어 조제되는 슬러리를 유동시키는 임펠러(20)와; 저장용기(10)의 외측면에 설치되고, 냉각수공급부(미도시)로부터 냉각수를 순환 공급받기 위하여 냉각수공급라인(32) 및 냉각수배출라인(33)이 양단에 연결되는 냉각수로(31)가 내측에 형성되는 열교환기(30)를 포함하는 것으로서, 프레퍼레이션탱크에 열교환기를 직접 설치하여 슬러리순환라인, 순환개폐밸브 등의 슬러리 고결을 유발시키는 부품을 없앰으로써 부품의 클리닝 및 보수에 대한 노고를 줄이고, 슬러리를 원하는 온도로 안정적으로 냉각시키며, 고결된 슬러리가 순환되어 프레퍼레이션탱크가 오염되는 것을 방지함으로써 폴리싱패드로 고결된 슬러리가 공급되는 것을 차단하여 웨이퍼가 균일하게 폴리싱되도록 하는 효과를 가진다.
Description
본 고안은 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 프레퍼레이션탱크에 열교환기를 직접 설치하여 슬러리순환라인, 순환개폐밸브 등의 슬러리 고결을 유발시키는 부품을 없앰으로써 부품의 클리닝 및 보수에 대한 노고를 줄이고, 슬러리를 원하는 온도로 안정적으로 냉각시키며, 고결된 슬러리가 순환되어 프레퍼레이션탱크가 오염되는 것을 방지하는 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크에 관한 것이다.
반도체 소자의 집적도의 증가로 인한 소자 크기의 감소와 그에 따른 복잡한 기능의 집적회로 구현을 위해 필요한 다층 접속 공정이 실용화됨에 따라 층간절연막(ILD; Interlayer Dielectric)에 있어서 글로벌(global) 평탄화의 중요성이 더해 가고 있다.
평탄화 과정중에 최근에는 화학 기계적 연마(Chemical-Mechanical Polishing;CMP)공정이 널리 사용되고 있으며, 이러한 화학 기계적 연마공정은 화학적인 제거가공과 기계적 제거가공을 하나의 가공방법으로 단차를 가진 웨이퍼 표면을 폴리싱패드 위에 밀착시킨 후 연마제와 화학물질이 포함된 슬러리(slurry)를 웨이퍼와 폴리싱패드 사이에 주입시켜 웨이퍼의 표면을 평탄화시키는 방식이다.
화학 기계적 연마공정을 수행하기 위한 연마장치는 폴리싱시 폴리싱패드로 공급되는 슬러리를 공급하기 위하여 슬러리 공급시스템이 구비되며, 슬러리 공급시스템에는 연마제와 화학물질 등의 원료를 공급받아 혼합하여 슬러리로 조제하는 프레퍼레이션탱크가 구비된다.
종래의 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크를 첨부된 도면을 이용하여 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래의 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크를 도시한 구성도이다. 도시된 바와 같이, 프레퍼레이션탱크(1)는 내측에 연마제, 화학물질 등의 원료가 투입되는 저장용기(1a)와, 저장용기(1a)의 내부에 설치되며 회전모타(1b)에 의해 회전하여 원료를 혼합하여 슬러리를 조제하는 임펠러(impeller;1c)로 이루어져 있다.
임펠러(1c)는 그 상단이 회전모타(1b)에 기계적으로 결합되어 있으며, 하단에는 복수의 날개가 형성되어 있다. 따라서, 회전모타(1b)의 구동에 의해 회전하여 저장용기(1a) 내측으로 투입된 원료를 혼합하여 슬러리를 조제하거나 조제된 슬러리가 응집되거나 침전되어 고결되지 않도록 슬러리를 유동시킨다.
한편, 프레퍼레이션탱크(1)는 일측으로부터 슬러리를 배출시켜 타측으로 슬러리가 재공급되는 슬러리순환라인(2)이 연결된다.
슬러리순환라인(2)에는 냉각수공급부(미도시)로부터 냉각수를 순환 공급받아 슬러리순환라인(2)을 흐르는 슬러리를 일정 온도로 냉각시키는 열교환기(3)가 설치되며, 열교환기(3)의 후단의 슬러리순환라인(2)상에는 웨이퍼의 폴리싱이 실시되는 폴리싱패드로 슬러리를 공급하는 서플라이탱크(미도시)로 슬러리를 이송시키는 슬러리이송라인(4)이 연결된다.
그리고, 슬러리순환라인(2) 및 슬러리이송라인(4)의 연결부위 후단의 슬러리순환라인(2)과 슬러리이송라인(4)에는 각각 순환개폐밸브(2a)와 공급개폐밸브(4a)가 설치됨으로써 순환개폐밸브(2a) 및 공급개폐밸브(4a)의 개폐에 의해 열교환기(3)를 통과한 슬러리를 다시 프레퍼레이션탱크(1)로 공급하거나 서플라이탱크(미도시)로 이송시킨다.
열교환기(3)는 냉각수공급부(미도시)로부터 냉각수를 순환 공급받기 위하여 냉각수공급부로부터 냉각수가 공급되는 냉각수공급라인(3a)과 냉각수를 냉각수공급부로 배출시키는 냉각수배출라인(3b)이 각각 연결된다. 따라서, 열교환기(3)는 일정 온도의 냉각수를 순환 공급받음으로써 임펠러(1c)에 의해 저장용기(1a)의 내측에 투입된 연마제, 화학물질 등의 원료를 혼합시 화학반응에 의해 상승한 슬러리의 온도를 일정 온도로 냉각시킨다.
이와 같은 종래의 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크는 원료의 혼합시 화학반응을 일으킴으로써 온도가 상승한 슬러리의 냉각을 위하여 슬러리순환라인을 통해 열환기로 슬러리를 순환시키게 됨으로써 슬러리가 슬러리순환라인, 순환개폐밸브 등에 고결되어 고착됨으로써 슬러리가 원활하게 순환되지 못하여 슬러리의 냉각효과를 저하시키며, 슬러리순환라인, 순환개폐밸브 등으로부터 고결된 슬러리가 폴리싱공정을 실시하는 폴리싱패드로 공급됨으로써 웨이퍼가 불균일하게 폴리싱되어 웨이퍼의 결함을 증가시키는 문제점을 가지고 있었다.
또한, 슬러리순환라인과 순환개폐밸브 등은 슬러리가 내측에 고결되기 때문에 주기적으로 클리닝해야 하는데, 이러한 클리닝작업은 매우 번거로울뿐 만 아니라 시간이 많이 소요되므로 화학 기계적 연마공정을 수행하는 장비의 가동율을 저하시키는 문제점을 초래하였다.
본 고안은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 고안의 목적은 프레퍼레이션탱크에 열교환기를 직접 설치하여 슬러리순환라인, 순환개폐밸브 등의 슬러리 고결을 유발시키는 부품을 없앰으로써 부품의 클리닝 및 보수에 대한 노고를 줄이고, 슬러리를 원하는 온도로 안정적으로 냉각시키며, 고결된 슬러리가 순환되어 프레퍼레이션탱크가 오염되는 것을 방지함으로써 폴리싱패드로 고결된 슬러리가 공급되는 것을 차단하여 웨이퍼가 균일하게 폴리싱되도록 하는 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크를 제공하는데 있다.
본 고안의 다른 목적은 프레퍼레이션탱크에 저장된 슬러리의 온도를 측정하여 슬러리의 온도가 폴리싱공정에 필요한 온도를 유지하도록 열교환기로 공급되는냉각수의 흐름을 제어함으로써 프레퍼레이션탱크에 저장된 슬러리의 온도를 폴리싱공정에 필요한 온도로 정확하게 조절할 수 있는 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크를 제공하는데 있다.
이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 고안은, 원료를 공급받아 혼합하여 슬러리를 조제하는 프레퍼레이션탱크를 구비하는 슬러리공급시스템에 있어서, 내측으로 원료를 투입받아 조제되는 슬러리를 저장하며, 일측에 슬러리를 배출시키는 슬러배출라인이 연결되는 저장용기와; 저장용기의 내측에 설치되며, 회전모타의 구동에 의해 회전하여 원료를 혼합하거나 혼합되어 조제되는 슬러리를 유동시키는 임펠러와; 저장용기의 외측면에 설치되고, 냉각수공급부로부터 냉각수를 순환 공급받기 위하여 냉각수공급라인 및 냉각수배출라인이 양단에 연결되는 냉각수로가 내측에 형성되는 열교환기를 포함하는 것을 특징으로 한다.
열교환기는 저장용기의 외주면을 감싸는 튜브형상을 가지며, 내부에 냉각수로가 일정한 횟수로 감겨지면서 형성되는 것을 특징으로 한다.
냉각수로에 공급되는 냉각수의 흐름을 개폐하는 냉각수개폐밸브와, 저장용기 내에 설치되어 저장용기 내부의 온도를 측정하는 온도센서와, 온도센서로부터 측정된 온도값을 수신받으며 냉각수개폐밸브를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
온도센서는 저장용기 내부의 복수의 지점을 각각 측정하는 복수의 측정포인트를 가지는 서멀 커플(thermal couple)인 것을 특징으로 한다.
도 1은 종래의 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크를 도시한 구성도이고,
도 2는 본 고안에 따른 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크를 도시한 구성도이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
10 ; 저장용기 11 ; 슬러리배출라인
20 ; 임펠러 21 ; 회전모터
22 ; 임펠러바 23 ; 날개
30 ; 열교환기 31 ; 냉각수로
32 ; 냉각수공급라인 33 ; 냉각수배출라인
40 ; 냉각수개폐밸브 50 ; 온도센서
51,52 ; 측정포인트 60 ; 제어부
이하, 본 고안의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 본 고안의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 더욱 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 고안에 따른 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크를 도시한 구성도이다. 도시된 바와 같이, 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크는, 내측으로 원료를 투입받아 조제되는 슬러리를 저장하는 저장용기(10)와, 저장용기(10)의 내측에 설치되는 임펠러(impeller;20)와, 저장용기(10)의 외측면에 설치되며 내측에 냉각수로(31)가 형성되는 열교환기(heat exchanger;30)를 포함한다.
저장용기(10)는 상측으로부터 연마제, 화학물질 등의 원료를 투입받고, 하측에는 투입되는 원료가 혼합되어 조제되는 슬러리를 폴리싱공정이 실시되는 폴리싱패드(미도시)로 슬러리를 공급하는 서플라이탱크(미도시)로 공급하기 위하여 배출하는 슬러리배출라인(11)이 연결되며, 내측과 외측면에 임펠러(20)와 열교환기(30)가 각각 설치된다.
임펠러(20)는 회전모타(21)에 상단이 기계적으로 연결되는 임펠러바(22)와, 임펠러바(22)의 하단에 외주면을 따라 일정한 간격으로 배열되는 복수의 날개(23)로 이루어지며, 회전모타(21)의 구동에 의해 회전함으로써 저장용기(10)로 투입되는 원료를 혼합하거나 혼합되어 조제되는 슬러리를 응집되거나 침전되어 고결되지 않도록 유동시킨다.
열교환기(30)는 내측에 형성되는 냉각수로(31)의 양단에 냉각수공급부(미도시)로부터 냉각수를 순환 공급받기 위하여 냉각수공급라인(32) 및 냉각수배출라인(33)이 각각 연결된다.
열교환기(30)는 저장용기(10)의 외주면을 감싸는 튜브형상을 가지며, 내부에 냉각수로(31)가 일정한 횟수로 감겨지면서 형성되는 것이 바람직하다. 따라서, 열교환기(30)는 일정한 횟수로 감겨진 냉각수로(31)가 저장용기(10)의 외주면을 감싸고 있어 냉각수와 슬러리의 열교환이 신속하게 이루어져 슬러리의 냉각속도가 빨라진다.
한편, 저장용기(10)에 저장된 슬러리의 냉각온도를 냉각수공급부(미도시)와는 독립적으로 조절하기 위하여 냉각수로(31)에 공급되는 냉각수의 흐름을 개폐하는 냉각수개폐밸브(40)와, 저장용기(10) 내에 설치되어 저장용기(10) 내부의 온도를 측정하는 온도센서(50)와, 온도센서(50)로부터 측정된 온도값을 수신받으며 냉각수개폐밸브(40)를 제어하는 제어부(60)를 더 포함할 수 있다.
냉각수개폐밸브(40)는 열교환기(30)의 냉각수로(31)에 연결되는 냉각수공급라인(32)에 설치되며, 일예로 솔레노이드밸브임이 바람직하다.
온도센서(50)는 저장용기(10) 내부의 복수의 지점을 각각 측정하는 복수의 측정포인트를 가지는 서멀 커플(thermal couple;50)인 것이 바람직하며, 본 실시예에서는 저장용기(10)의 상부 및 하부, 두 군데의 측정포인트(51,52)를 가지는 서멀 커플을 보였다. 따라서, 일정한 점성을 가진 슬러리의 특성을 고려하여 저장용기(10)의 여러 부위의 온도를 측정함으로써 저장용기(10)에 저장된 슬러리의 온도를 정확하게 측정할 수 있다.
제어부(60)는 온도센서(50)로부터 측정된 온도값을 수신받아 미리 설정된 온도값과 비교하여 저장용기(10) 내부의 온도가 설정된 온도값에 도달하도록 냉각수개폐밸브(40)를 제어하며 냉각수의 흐름을 조절한다.
한편, 제어부(60)에 설정되는 온도값은 20도씨 내지 25도씨임이 바람직하다.
이와 같은 본 고안의 가장 바람직한 실시예에 따른 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크는 프레퍼레이션탱크에 열교환기가 직접 설치됨으로써 종래의 열교환기로 슬러리를 순환시키기 위하여 설치된 슬러리순환라인, 순환개폐밸브 등의 슬러리 고결을 유발시키는 부품을 생략하여 불필요한 부품의 클리닝 및 보수에 대한 노고를 줄이고, 고결된 슬러리가 순환되어 프레퍼레이션탱크가 오염되는 것을 방지함으로써 폴리싱패드로 고결된 슬러리가 공급되는 것을 차단하여 웨이퍼가 균일하게 폴리싱되도록 하며, 냉각수공급부로부터 순환 공급되는 냉각수가 냉각수로를 통해 슬러리가 저장된 저장용기 둘레를 따라 이동함으로써 슬러리순환라인을 거치지않게 되어 슬러리를 원하는 온도로 안정적으로 냉각시킨다.
또한, 온도센서로 저장용기에 저장된 슬러리의 온도를 측정하여 측정된 온도값을 수신받은 제어부가 냉각수개폐밸브를 제어하여 저장용기에 저장된 슬러리의 온도를 일정한 온도로 냉각되도록 함으로써 슬러리를 폴리싱공정에 필요한 온도로 정확하게 냉각시키게 된다.
상술한 바와 같이, 본 고안에 따른 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크는 프레퍼레이션탱크에 열교환기를 직접 설치하여 슬러리순환라인, 순환개폐밸브 등의 슬러리 고결을 유발시키는 부품을 없앰으로써 부품의 클리닝 및 보수에 대한 노고를 줄이고, 슬러리를 원하는 온도로 안정적으로 냉각시키며, 고결된 슬러리가 순환되어 프레퍼레이션탱크가 오염되는 것을 방지함으로써 폴리싱패드로 고결된 슬러리가 공급되는 것을 차단하여 웨이퍼가 균일하게 폴리싱되도록 하는 효과를 가지고 있다.
또한, 프레퍼레이션탱크에 저장된 슬러리의 온도를 측정하여 슬러리의 온도가 폴리싱공정에 필요한 온도를 유지하도록 열교환기로 공급되는냉각수의 흐름을 제어함으로써 프레퍼레이션탱크에 저장된 슬러리의 온도를 폴리싱공정에 필요한 온도로 정확하게 조절할 수 있는 효과를 가지고 있다.
이상에서 설명한 것은 본 고안에 따른 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 고안은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 실용신안등록청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 고안의요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 고안의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.
Claims (4)
- 원료를 공급받아 혼합하여 슬러리를 조제하는 프레퍼레이션탱크를 구비하는 슬러리공급시스템에 있어서,내측으로 원료를 투입받아 조제되는 슬러리를 저장하며, 일측에 슬러리를 배출시키는 슬러배출라인이 연결되는 저장용기와;상기 저장용기의 내측에 설치되며, 회전모타의 구동에 의해 회전하여 원료를 혼합하거나 혼합되어 조제되는 슬러리를 유동시키는 임펠러와;상기 저장용기의 외측면에 설치되고, 냉각수공급부로부터 냉각수를 순환 공급받기 위하여 냉각수공급라인 및 냉각수배출라인이 양단에 연결되는 냉각수로가 내측에 형성되는 열교환기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크.
- 제 1 항에 있어서, 상기 열교환기는,상기 저장용기의 외주면을 감싸는 튜브형상을 가지며, 내부에 상기 냉각수로가 일정한 횟수로 감겨지면서 형성되는 것을 특징으로 하는 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 냉각수로에 공급되는 냉각수의 흐름을 개폐하는 냉각수개폐밸브와, 상기 저장용기 내에 설치되어 상기 저장용기 내부의온도를 측정하는 온도센서와, 상기 온도센서로부터 측정된 온도값을 수신받으며 상기 냉각수개폐밸브를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크.
- 제 3 항에 있어서, 상기 온도센서는 상기 저장용기 내부의 복수의 지점을 각각 측정하는 복수의 측정포인트를 가지는 서멀 커플(thermal couple)인 것을 특징으로 하는 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| KR2020010036829U KR200267180Y1 (ko) | 2001-11-29 | 2001-11-29 | 슬러리 공급시스템의 프레퍼레이션탱크 |
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| KR (1) | KR200267180Y1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110227294A (zh) * | 2019-06-17 | 2019-09-13 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 抛光液循环过滤系统 |
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2001
- 2001-11-29 KR KR2020010036829U patent/KR200267180Y1/ko not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN110227294A (zh) * | 2019-06-17 | 2019-09-13 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 抛光液循环过滤系统 |
| CN110227294B (zh) * | 2019-06-17 | 2024-04-19 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 抛光液循环过滤系统 |
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