KR200261169Y1 - A double voltage rectifier for thermal plasma - Google Patents
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Abstract
본 고안은 고온플라즈마용 배전압 정류장치에 관한 것으로써, 인버터 회로부 고주파 트랜스의 2차 코일의 권선수를 감소시켜 발생된 저전압을 양배압 정류하여 초기 아크 발생시의 전압을 보상하고 이 후, 아크 유지시의 감소된 저항값을 고전류에 의해 보상하여 효율을 증대시킨 고온플라즈마용 배전압 정류장치에 관한 것이다. 이를 위한 본 고안은 전원공급부로부터 공급되는 교류전원을 정류하는 저주파 정류부로부터 유입되는 직류를 인버터하여 고주파 트랜스부의 2차 코일에 고주파 교류를 인가하는 인버터 회로부와, 상기 인버터 회로부로부터 투입되는 상기 고주파 교류를 정류하여 전극간에 방전하는 고주파 정류부를 포함하는 고온플라즈마용 정류장치에 있어서, 상기 고주파 정류부로부터 정류되는 전기량에 의해 배전압으로 충전되어 상기 전극간에 고압 방전하는 충전부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a high voltage plasma double voltage stop, to reduce the number of windings of the secondary coil of the high frequency transformer of the inverter circuit portion to double voltage rectification of the low voltage generated, to compensate for the voltage at the initial arc generation, and then to maintain the arc The present invention relates to a high voltage plasma voltage-voltage stop for increasing efficiency by compensating a reduced resistance value with high current. The present invention for this purpose is an inverter circuit unit for applying a high frequency alternating current to the secondary coil of the high frequency transformer by inverting the direct current flowing from the low frequency rectifying unit rectifying the AC power supplied from the power supply unit, and the high frequency alternating current introduced from the inverter circuit unit A high temperature plasma stop comprising a high frequency rectifying unit for rectifying and discharging between electrodes, characterized in that it comprises a charging unit which is charged with a double voltage by the amount of electricity rectified from the high frequency rectifying unit and discharges a high pressure between the electrodes.
Description
본 고안은 고온플라즈마용 배전압 정류장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 인버터 회로부 고주파 트랜스의 2차 코일의 권선수를 감소시켜 발생된 저전압을 양배압 정류하여 초기 아크 발생시의 전압을 보상하고 이 후, 아크 유지시의 감소된 저항값을 고전류에 의해 보상하여 효율을 증대시킨 고온플라즈마용 배전압 정류장치에 관한 것이다.The present invention relates to a double voltage stop for high temperature plasma, and more specifically, to reduce the number of windings of the secondary coil of the high frequency transformer of the inverter circuit part to double voltage rectifying the generated low voltage to compensate for the voltage at the initial arc generation. Thereafter, the present invention relates to a high-voltage plasma voltage distribution threshold for increasing efficiency by compensating a reduced resistance value during arc holding by a high current.
통상적으로 고온 플라즈마를 이용한 용접 및 절단작업시 초기에 아크를 발생시키기 위해서는 전극간의 플라즈마 가스에 의한 큰 저항으로 인하여 고전압이 필요하게 되며 이 후, 아크 유지시에는 전극간에 발생된 아크로 인하여 저항이 급격하게 감소됨에 따라 고전류를 필요로 하게 된다.In general, high voltage is required due to the large resistance caused by the plasma gas between the electrodes in order to generate the arc at the time of welding and cutting operation using the high temperature plasma. As it is reduced, high current is required.
이를 첨부된 도 1을 참조하여 간략히 설명하면 다음과 같다.This is briefly described with reference to the accompanying FIG. 1 as follows.
도 1은 종래기술에 의한 고온플라즈마용 정류장치를 도시한 전력계통 회로도이다.1 is a power system circuit diagram showing a high temperature plasma stop according to the prior art.
이에 의하면, 전원공급부(10)로부터 공급되는 60㎐의 교류전원이 저주파 정류부(20)에 의해 직류로 변환된 후, 인버터 회로부(30a)의 고주파 스위칭부(31a)에 의해 고주파로 스위칭되어 고주파 트랜스부(32a)의 2차 코일에 고주파 교류전류가 유도된다. 이어서, 고주파 정류부(40a)에 의해 직류전류로 변환되어 음극(50a)과 양극(50b) 사이에 공급되는 플라즈마 가스(60)를 매개체로 하여 고압방전이 일어나 아크 화염(70)이 발생되어 유지되도록 구성된 것이다.According to this, the 60 kW AC power supplied from the power supply unit 10 is converted into direct current by the low frequency rectifying unit 20, and then switched to high frequency by the high frequency switching unit 31a of the inverter circuit unit 30a, thereby converting the high frequency transformer. A high frequency alternating current is induced in the secondary coil of the portion 32a. Subsequently, an arc flame 70 is generated and maintained by a high-pressure discharge caused by the medium of the plasma gas 60 converted into a direct current by the high frequency rectifying unit 40a and supplied between the cathode 50a and the anode 50b. It is composed.
여기서, 초기에 고압방전에 의해 플라즈마를 발생시키기 위해서는 상기 고주파 트랜스부(32a)의 2차 코일의 전압(무부하 전압)이 250[V] 이상이어야 한다. 그 이유는 상기 음극(50a)과 양극(50b)의 사이의 플라즈마 가스가 큰 저항값을 갖기 때문에 고전압이 필요한 것이다. 이를 구현하기 위해서는 상기 고주파 트랜스부(32a)의 2차 코일의 권선수를 증가시켜야 한다.Here, in order to generate the plasma by the high-pressure discharge initially, the voltage (no load voltage) of the secondary coil of the high frequency transformer portion 32a should be 250 [V] or more. The reason is that a high voltage is required because the plasma gas between the cathode 50a and the anode 50b has a large resistance value. In order to implement this, the number of turns of the secondary coil of the high frequency transformer 32a must be increased.
이 후, 플라즈마 유지시에는 상기 음극(50a)과 양극(50b)의 사이의 아크로 인하여 저항이 급격하게 감소하기 때문에 양극간이 거의 단락상태가 된다. 즉, 양극간의 일량(W)=I2R 에서 저항(R)이 급격하게 감소하므로 인하여 고전류가 필요하게 된다. 이를 구현하기 위해서는 상기 고주파 트랜스부(32a)의 2차 코일의 권선수를 감소시켜야 한다.Subsequently, during the plasma holding, the resistance decreases rapidly due to the arc between the cathode 50a and the anode 50b, so that the anode is almost short-circuited. That is, since the resistance (R) decreases rapidly at work amount (W) = I 2 R between the anodes, a high current is required. In order to implement this, the number of turns of the secondary coil of the high frequency transformer 32a must be reduced.
그러나, 상기와 같은 종래 기술에 의하면, 초기 아크 발생시 필요한 고전압과 아크 유지시 필요한 고전류를 동시에 제공할 수 없다는 문제점이 있었다.However, according to the prior art as described above, there is a problem in that it is impossible to simultaneously provide a high voltage required for initial arc generation and a high current required for arc maintenance.
따라서, 본 고안은 상기한 종래의 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 인버터 회로부 고주파 트랜스의 2차 코일의 권선수를 감소시켜 발생된 저전압을 양배압 정류하여 초기 아크 발생시의 전압을 보상하고 이 후, 아크 유지시의 감소된 저항값을 고전류에 의해 보상하여 효율을 증대시킨 고온플라즈마용 배전압 정류장치를 제공함에 있다.Accordingly, the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and its purpose is to reduce the number of windings of the secondary coil of the high frequency transformer of the inverter circuit to double voltage rectifying the low voltage generated to compensate for the voltage at the initial arc generation. Thereafter, the reduced resistance value at the time of the arc holding is compensated by the high current to provide a high-voltage plasma voltage limiter for increasing the efficiency.
도 1은 종래기술에 의한 고온플라즈마용 정류장치를 도시한 전력계통 회로도.1 is a power system circuit diagram showing a high temperature plasma stop according to the prior art.
도 2는 본 고안에 의한 고온플라즈마용 배전압 정류장치를 도시한 전력계통 회로도.Figure 2 is a power system circuit diagram showing a high-voltage plasma voltage distribution voltage stop according to the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 설명><Description of main parts of drawing>
10 : 전원공급부 20 : 저주파 정류부10: power supply unit 20: low frequency rectifier
30b : 인버터 회로부 31a : 고주파 스위칭부30b: inverter circuit section 31a: high frequency switching section
32b : 고주파 트랜스부 40b : 양배압 정류부32b: high frequency transformer 40b: double pressure rectifier
45~48 : 제1 내지 제4 콘덴서45 to 48: first to fourth capacitors
상기 기술적 과제들을 달성하기 위한 본 고안에 따른 고온플라즈마용 배전압 정류장치의 특징은,Features of the high-voltage plasma voltage divider according to the present invention for achieving the above technical problem,
전원공급부로부터 공급되는 교류전원을 정류하는 저주파 정류부로부터 유입되는 직류를 인버터하여 고주파 트랜스부의 2차 코일에 고주파 교류를 인가하는 인버터 회로부와, 상기 인버터 회로부로부터 투입되는 상기 고주파 교류를 정류하여전극간에 방전하는 고주파 정류부를 포함하는 고온플라즈마용 정류장치에 있어서, 상기 고주파 정류부로부터 정류되는 전기량에 의해 배전압으로 충전되어 상기 전극간에 고압 방전하는 충전부를 포함한다.Inverter circuit unit for applying high frequency AC to the secondary coil of the high frequency transformer by inverter direct current flowing from the low frequency rectifying unit rectifying AC power supplied from the power supply unit, and rectifying the high frequency AC supplied from the inverter circuit unit to discharge the electrode A high temperature plasma stop comprising a high frequency rectifying unit, wherein the high voltage rectifying unit includes a charging unit which is charged at a double voltage by the amount of electricity rectified from the high frequency rectifying unit and discharges a high pressure between the electrodes.
상기 고주파 트랜스부의 2차 코일의 권선수를 적게 하여 저전압, 고전류의 전원공급이 이루어지도록 한다.The number of windings of the secondary coil of the high frequency transformer is reduced so that low voltage, high current power supply is achieved.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 고안에 의한 고온플라즈마용 배전압 정류장치를 도시한 전력계통 회로도이다.Figure 2 is a power system circuit diagram showing a high voltage plasma voltage double voltage stop according to the present invention.
도시된 바와 같이, 본 고안의 구성은 크게 전원공급부(10)와, 저주파 정류부(20)와, 인버터 회로부(30b)와, 양배압 정류부(40b)와, 음극(50a), 양극(50b)과, 플라즈마 가스(60) 및 아크 화염(70)으로 구성된다.As shown, the configuration of the present invention is largely the power supply unit 10, the low frequency rectifying unit 20, the inverter circuit portion 30b, the double voltage rectifying portion 40b, the cathode 50a, the anode 50b and And a plasma gas 60 and an arc flame 70.
상기 저주파 정류부(20)는 상기 전원공급부(10)로부터 공급되는 60㎐의 교류전원을 직류로 변환한다.The low frequency rectifying unit 20 converts AC power of 60 kW from the power supply unit 10 into direct current.
상기 인버터 회로부(30b)는 고주파 스위칭부(31a)와, 고주파 트랜스부(32b)로 구성된다.The inverter circuit section 30b is composed of a high frequency switching section 31a and a high frequency transformer section 32b.
상기 고주파 스위칭부(31a)는 상기 저주파 정류부(20)로부터 변환된 저주파의 직류를 고주파 상태로 스위칭하고, 상기 고주파 트랜스부(32b)는 상기 고주파 스위칭부(31a)에 의해 스위칭 된 고주파 상태의 교류를 2차 코일에 유도한다. 이 때, 상기 고주파 트랜스부(32b) 2차 코일의 권선수를 종래의 권선수보다 줄여 저전압 고전류형으로 함으로써 상기 고주파 트랜스부(32b)의 2차 코일에 고주파 교류전류가 흐르게 된다.The high frequency switching unit 31a switches the direct current of the low frequency converted from the low frequency rectifying unit 20 to a high frequency state, and the high frequency transformer unit 32b is an alternating current in a high frequency state switched by the high frequency switching unit 31a. To the secondary coil. At this time, by reducing the number of turns of the secondary coil of the high frequency transformer 32b to a low voltage and high current type, the high frequency alternating current flows through the secondary coil of the high frequency transformer 32b.
상기 양배압 정류부(40b)는 제1 정류다이오드(41)와, 제2 정류다이오드(42), 제3 정류다이오드(43)와, 제4 정류다이오드(44) 및 제1 콘덴서(45)와, 제2 콘덴서(46)와, 제3 콘덴서(47)와, 제4 콘덴서(48)로 구성된다.The double back pressure rectifying unit 40b includes a first rectifying diode 41, a second rectifying diode 42, a third rectifying diode 43, a fourth rectifying diode 44, and a first condenser 45, It consists of the 2nd capacitor | condenser 46, the 3rd capacitor | condenser 47, and the 4th capacitor | condenser 48. As shown in FIG.
상기 2차 코일을 통하여 흐르는 고주파 교류전류의 극성이 양극(+), 음극(-)일 경우(처음 반 사이클일 경우), 상기 제1 콘덴서(45)와 상기 제4 콘덴서(48)에는 상기 고주파 트랜스부(32b)의 2차 코일로부터 흐르는 고주파 교류전류가 상기 제2 정류다이오드(42)와 상기 제3 정류다이오드(43)를 통한 정류에 의해 각각의 전기량으로 충전되고, 상기 2차 코일을 통하여 흐르는 고주파 교류전류의 극성이 반전되어 음극(-), 양극(+)이 되는 경우에는 상기 제2 콘덴서(46)와 상기 제3 콘덴서(47)에는 상기 고주파 트랜스부(32b)의 2차 코일로부터 흐르는 고주파 교류전류가 상기 제1 정류다이오드(41)와 상기 제4 정류다이오드(44)를 통한 정류에 의해 각각의 전기량으로 충전된다.When the polarity of the high frequency AC current flowing through the secondary coil is positive (+) or negative (-) for the first half cycle, the first capacitor 45 and the fourth capacitor 48 have the high frequency. The high frequency alternating current flowing from the secondary coil of the transformer unit 32b is charged with respective amounts of electricity by rectification through the second rectifying diode 42 and the third rectifying diode 43, and through the secondary coil. When the polarity of the flowing high frequency alternating current is reversed to become a negative electrode (+) and a positive electrode (+), the second capacitor 46 and the third capacitor 47 are connected to the secondary coil of the high frequency transformer unit 32b. Flowing high-frequency alternating current is charged to the respective amount of electricity by rectification through the first rectifying diode 41 and the fourth rectifying diode 44.
상기와 같이 제1 내지 제4 콘덴서(45,46,47,48)에 충전된 전기량은 상기 음극(50a)과 양극(50b) 사이에 배전압으로 방전되어 상기 플라즈마 가스(60)를 매개체로 한 아크 화염(70)이 발생된다.As described above, the amount of electricity charged in the first to fourth capacitors 45, 46, 47, and 48 is discharged at a double voltage between the cathode 50a and the anode 50b, and the plasma gas 60 is used as a medium. Arc flame 70 is generated.
상기와 같이 구성된 본 고안의 고온플라즈마용 배전압 정류장치에 의한 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the action by the high-voltage plasma voltage distribution threshold of the present invention configured as described above are as follows.
먼저, 전원공급부(10)로부터 공급되는 60㎐의 교류전원은 저주파 정류부(20)에 의해 직류로 변환된다. 이어서, 인버터 회로부(30b)의 고주파 스위칭부(31a)를 통하여 고주파 상태로 스위칭되고 고주파 트랜스부(32b)에 의해 고주파 교류전류로 변환되어 2차 코일에 유도된다. 이 때, 상기 고주파 트랜스부(32b) 2차 코일의 권선수가 종래의 권선수보다 적어지므로 인하여 저전압 고전류형이 된다.First, the 60 kW AC power supplied from the power supply unit 10 is converted into direct current by the low frequency rectifier 20. Subsequently, it is switched to a high frequency state through the high frequency switching part 31a of the inverter circuit part 30b, is converted into a high frequency alternating current by the high frequency transformer part 32b, and is guide | induced to a secondary coil. At this time, since the number of turns of the secondary coil of the high frequency transformer 32b becomes smaller than that of the conventional winding, the low voltage and high current type are obtained.
이어서, 상기 고주파 트랜스부(32b)의 2차 코일을 통하여 흐르는 고주파 교류전류의 극성이 반사이클에서 양극(+), 음극(-)일 경우, 상기 제1 콘덴서(45)와 상기 제4 콘덴서(48)에는 상기 고주파 트랜스부(32b)의 2차 코일로부터 흐르는 고주파 교류전류가 상기 제2 정류다이오드(42)와 상기 제3 정류다이오드(43)를 통한 정류에 의해 각각의 전기량으로 충전되고, 이어지는 반사이클에서 상기 2차 코일을 통하여 흐르는 고주파 교류전류의 극성이 반전되어 음극(-), 양극(+)이 되는 경우에는 상기 제2 콘덴서(46)와 상기 제3 콘덴서(47)에는 상기 고주파 트랜스부(32b)의 2차 코일로부터 흐르는 고주파 교류전류가 상기 제1 정류다이오드(41)와 상기 제4 정류다이오드(44)를 통한 정류에 의해 각각의 전기량으로 충전된다. 상기와 같이, 제1 내지 제4 콘덴서(45,46,47,48)에 충전된 전기량은 음극(50a)과 양극(50b) 사이에 고속으로 방전되어 상기 플라즈마 가스(60)를 매개체로 한 초기 아크 화염(70)을 발생시킨다.Subsequently, when the polarity of the high frequency alternating current flowing through the secondary coil of the high frequency transformer unit 32b is positive (+) and negative (-) in a half cycle, the first capacitor 45 and the fourth capacitor ( 48 is filled with high-frequency alternating current flowing from the secondary coil of the high-frequency transformer unit 32b at respective amounts of electricity by rectification through the second rectifying diode 42 and the third rectifying diode 43. When the polarity of the high frequency AC current flowing through the secondary coil in the half cycle is reversed to become a negative electrode (+) or a positive electrode (+), the second capacitor 46 and the third capacitor 47 may include the high frequency transformer. The high frequency alternating current flowing from the secondary coil of the part 32b is charged with respective amounts of electricity by rectification through the first rectifying diode 41 and the fourth rectifying diode 44. As described above, the amount of electricity charged in the first to fourth condensers 45, 46, 47, and 48 is discharged at high speed between the cathode 50a and the anode 50b, and thus the initial stage using the plasma gas 60 as a medium. Generate arc flame 70.
이 후, 아크 유지시 발생되는 상기 음극(50a)과 양극(50b)간의 급격한 저항의 감소는 상기 고주파 트랜스부(32b) 2차 코일의 권선수 감소에 따른 고전류를 공급하여 보상함으로써 효율이 증대된다.Subsequently, the sudden decrease in resistance between the cathode 50a and the anode 50b generated during the arc holding is enhanced by supplying a high current according to the decrease in the number of turns of the secondary coil of the high frequency transformer 32b to increase efficiency. .
이상에서는 본 고안의 바람직한 실시예에 대하여 도시하여 설명하였으나, 본고안은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 본 고안이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 기재된 청구범위 내에 있게 된다.In the above described and illustrated with respect to a preferred embodiment of the present invention, this subject matter is not limited to the above-described embodiment, the general knowledge in the field to which the present invention belongs without departing from the spirit of the present invention claimed in the claims Anyone with a variety of modifications can be made, as well as such modifications are within the scope of the claims.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 고안의 고온플라즈마용 배전압 정류장치에 의하면, 인버터 회로부 고주파 트랜스의 2차 코일의 권선수를 감소시켜 양배압 정류함으로써, 초기 아크 발생시의 전압을 보상하고 이 후, 아크 유지시의 감소된 저항값을 고전류에 의해 보상하여 효율을 증대시키는 효과가 있다.As described above, according to the high voltage plasma double voltage stop value of the present invention, the voltage at the time of initial arc generation is compensated by reducing the number of turns of the secondary coil of the high frequency transformer of the inverter circuit part, thereby rectifying the voltage. There is an effect of increasing the efficiency by compensating the reduced resistance value at the time of holding by a high current.
Claims (2)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR2020010033622U KR200261169Y1 (en) | 2001-11-02 | 2001-11-02 | A double voltage rectifier for thermal plasma |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR2020010033622U KR200261169Y1 (en) | 2001-11-02 | 2001-11-02 | A double voltage rectifier for thermal plasma |
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ID=73082901
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR2020010033622U KR200261169Y1 (en) | 2001-11-02 | 2001-11-02 | A double voltage rectifier for thermal plasma |
Country Status (1)
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KR (1) | KR200261169Y1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101459633B1 (en) | 2013-08-23 | 2014-11-11 | 부산대학교 산학협력단 | Apparatus for generating a high voltage atmospheric plasma using an external capacitor |
-
2001
- 2001-11-02 KR KR2020010033622U patent/KR200261169Y1/en not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101459633B1 (en) | 2013-08-23 | 2014-11-11 | 부산대학교 산학협력단 | Apparatus for generating a high voltage atmospheric plasma using an external capacitor |
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