KR20020092684A - Apparatus for exhausting gas - Google Patents

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조연하
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삼성전자 주식회사
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Abstract

PURPOSE: An apparatus for exhausting gas is provided to easily and stably exhaust toxic gas existing in a chamber by forming a Venturi tube at an exhaust line. CONSTITUTION: The gas exhaust apparatus comprises a chamber(14), a vacuum line(22) formed between the chamber(14) and a pumping part(18), and an exhaust line(20) formed at other end of the chamber(14). The exhaust line(20) further includes a Venturi tube(10) and a solenoid valve(12). The Venturi tube(10) is inhaled toxic gas remaining in the chamber(14) and transferred the toxic gas. The solenoid valve(12) is injected air to the Venturi tube(10).

Description

가스 배출 장치{APPARATUS FOR EXHAUSTING GAS}Gas discharge device {APPARATUS FOR EXHAUSTING GAS}

본 발명은 반도체 제조 설비에 관한 것으로, 특히 챔버 내의 잔류 가스를 배출하는 가스 배출 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor manufacturing equipment and, more particularly, to a gas discharge device for discharging residual gas in a chamber.

일반적으로, 챔버는 반도체 제조 설비의 하나로 제조 공정을 위한 작업 공간이라 할 수 있다. 챔버 내에는 인체에 해로운 유독 가스가 잔류한다. 따라서, 이러한 유독 가스를 안전하게 배출할 수 있는 방안이 필요하다.In general, the chamber may be referred to as a work space for a manufacturing process as one of semiconductor manufacturing equipment. Toxic gases harmful to the human body remain in the chamber. Therefore, there is a need for a method for safely discharging these toxic gases.

종래에는 별도의 가스 배출 시스템이 존재하지 않았다. 즉, 챔버와 유기적으로 결합된 배출 라인을 통해 유독 가스를 배출하는 구조가 아닌 단순히 챔버을 개방시 상기 유독 가스가 대기중으로 유출되는 단순한 방식이다. 이러한 방식은 챔버와 관련이 있는 작업자의 안전에 문제가 발생될 수 있다. 즉, 유독 가스로 인해 호흡기 장애와 같은 안전 사고가 발생될 수 있다.There was no separate gas exhaust system in the prior art. In other words, it is not a structure that discharges the toxic gas through the discharge line organically coupled to the chamber, but simply releasing the toxic gas into the atmosphere when the chamber is opened. This approach can create problems for the safety of the operator associated with the chamber. In other words, a toxic gas may cause a safety accident such as a respiratory disorder.

본 발명의 목적은 챔버 내부에 잔류하는 유독 가스에 의한 안전 사고를 방지하기 위한 가스 배출 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a gas discharge device for preventing a safety accident due to toxic gas remaining in the chamber.

본 발명의 다른 목적은 챔버 내부의 유독 가스에 의한 환경 오염을 방지하기 위한 가스 배출 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a gas discharge device for preventing environmental pollution by toxic gas inside the chamber.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가스 배출 장치를 보여주는 도면이다.1 is a view showing a gas discharge device according to a preferred embodiment of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

10: 벤투리관12: 솔레노이드 밸브10: venturi tube 12: solenoid valve

14: 챔버16: 라핑 밸브14 chamber 16: lapping valve

18: 펌프부20: 배출 라인18: pump portion 20: discharge line

22: 진공 라인22: vacuum line

(구성)(Configuration)

본 발명에 따르면, 상기 가스 배출 장치는 챔버 내부에 잔류하는 유독 가스가 대기중으로 누출되기 전에 상기 챔버에 직접 연결된 배출 라인을 통해 체계적으로 배출한다.According to the invention, the gas discharge device systematically discharges through a discharge line directly connected to the chamber before the toxic gas remaining inside the chamber leaks into the atmosphere.

본 발명의 일 특징에 따르면, 가스 배출 장치는 챔버와 배출 라인과 라핑 밸브가 부착된 진공 라인과 벤투리관 및 개폐 수단을 포함한다. 상기 가스 배출 장치는 챔버 내부에서 발생되는 유독 가스를 배출 라인을 통해 안정적으로 배출한다.According to one aspect of the invention, the gas discharge device comprises a chamber, a discharge line, a vacuum line with a lapping valve, a venturi tube and opening and closing means. The gas discharge device stably discharges toxic gas generated inside the chamber through a discharge line.

상기 진공 라인은 상기 챔버의 일측에 연결되고, 라핑 밸브의 개폐 동작에 의해 상기 챔버의 진공 상태를 제어한다. 상기 배출 라인은 상기 챔버의 타측에 연결되고, 상기 챔버 내의 유독 가스를 배출한다. 또한, 상기 배출 라인은 벤투리관과 개폐 수단을 포함한다. 상기 벤투리관은 상기 챔버 내의 유독 가스를 흡입하여 배출구로 이송한다. 그리고 상기 개폐 수단은 상기 벤투리관에 공기를 주입하는 기능을 수행한다. 상기 개폐 수단은 솔레노이드 밸브 등을 사용할 수 있다.The vacuum line is connected to one side of the chamber, and controls the vacuum state of the chamber by opening and closing the lapping valve. The discharge line is connected to the other side of the chamber and discharges toxic gas in the chamber. The discharge line further comprises a venturi tube and opening and closing means. The venturi tube sucks toxic gas in the chamber and transfers it to the discharge port. The opening and closing means performs a function of injecting air into the venturi tube. The opening and closing means may use a solenoid valve and the like.

(작용)(Action)

본 발명에 따르면, 배출 라인에 부착된 개폐 수단 및 벤투리관을 이용해 챔버 내부에 잔류하는 유독 가스를 안전하게 배출할 수 있다.According to the present invention, it is possible to safely discharge the toxic gas remaining in the chamber using the opening and closing means and the venturi tube attached to the discharge line.

(실시예)(Example)

이하 첨부도면을 참조하여 본 발명을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

전술한 바와 같이, 본 발명의 가스 배출 장치는 챔버 내부에 잔존하는 유해 가스를 배출 라인을 통해 안정적으로 배출한다. 이를 위해, 본 발명의 가스 배출 장치는 챔버의 일측과 타측에 각각 배출 라인과 진공 라인이 연결되고, 상기 배출 라인에는 벤투리관과 개폐 수단을 더 구비한다. 라핑 밸브는 챔버 내부의 진공을 잡아주기 위해 진공 라인에 결합된다.As described above, the gas discharge device of the present invention stably discharges harmful gas remaining in the chamber through the discharge line. To this end, the gas discharge device of the present invention is connected to the discharge line and the vacuum line, respectively, on one side and the other side of the chamber, the discharge line further comprises a venturi tube and opening and closing means. The lapping valve is coupled to a vacuum line to hold the vacuum inside the chamber.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 가스 배출 장치를 보여준다. 도 1을 참조하여, 가스 배출 장치는 챔버(14)와 상기 챔버(14)의 일측과 펌프부(18)의 일측 사이에 연결되는 진공 라인(22)과 상기 챔버(14)의 타측에 연결되는 배출 라인(20)을 구비한다. 상기 진공 라인(22)은 챔버(14) 내부의 진공을 잡아주기 위해 라핑 밸브(16)를 구비하고 있다. 상기 배출 라인(20)은 벤투리관(10)과 솔레노이드 밸브(12)를 구비한다. 상기 벤투리관(10)은 챔버 내의 가스를 배출관으로 이송하는 역할을 수행한다. 상기 솔레노이드 밸브(12)는 벤투리관(10)으로 공기를 주입시키는 기능을 수행한다.1 shows a gas discharge device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the gas discharge device is connected to a chamber 14 and a vacuum line 22 connected between one side of the chamber 14 and one side of the pump unit 18 and the other side of the chamber 14. A discharge line 20. The vacuum line 22 has a lapping valve 16 for holding a vacuum in the chamber 14. The discharge line 20 has a venturi tube 10 and a solenoid valve 12. The venturi tube 10 serves to transfer the gas in the chamber to the discharge tube. The solenoid valve 12 injects air into the venturi tube 10.

좀더 구체적으로 살펴보면 다음과 같다. 본 발명의 가스 배출 장치는 챔버와 배출 라인을 연결하는 온/오프 솔레노이드 밸브 및 가스의 배출 효율을 높이기 위한 벤투리관을 포함한다. 본 발명은 배출 라인을 직접 챔버에 연결한다. 그리고 솔레노이드 밸브의 온/오프 상태에 따라 가스를 배출 라인을 통해 배출시킨다. 본 발명에 따른 가스 배출 장치의 동작은 다음과 같다. 먼저, 배출 라인에 부착된 솔레노이드 밸브(12)는 진공 라인(22)에 부착된 라핑 밸브(16)가 차단된 후 챔버(14)의 벤트(VENT)(챔버의 진공 압력이 대기 압력으로 된 상태)가 완료되면 턴-온 될 수 있도록 한다. 솔레노이드 밸브(12)가 개방되면 벤투리관으로 공기가 주입된다. 이에 따라, 벤투리관은 저압상태로 변환되고 챔버 내부에 잔존하는 유독 가스를 흡입한다. 물론, 흡입된 유독 가스는 배출 라인을 통해 배출구로 이송된다.Looking more specifically as follows. The gas discharge device of the present invention includes an on / off solenoid valve connecting the chamber and the discharge line, and a venturi tube for increasing the discharge efficiency of the gas. The present invention connects the discharge line directly to the chamber. The gas is discharged through the discharge line according to the on / off state of the solenoid valve. Operation of the gas discharge device according to the invention is as follows. First, the solenoid valve 12 attached to the discharge line has a vent (VENT) of the chamber 14 (a state in which the vacuum pressure of the chamber is at atmospheric pressure) after the lapping valve 16 attached to the vacuum line 22 is shut off. ) To be turned on when completed. When the solenoid valve 12 is open, air is injected into the venturi tube. As a result, the venturi tube is converted into a low pressure state and sucks the toxic gas remaining in the chamber. Of course, the sucked toxic gas is transferred to the outlet via the discharge line.

이와 같이, 본 발명의 가스 배출 장치는 챔버 내부의 유독 가스 성분을 사전에 누출없이 배출하는 메커니즘을 갖고 있다.As described above, the gas discharge device of the present invention has a mechanism for discharging the toxic gas component inside the chamber without leaking in advance.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명을 반도체 제조 설비에 적용하면, 챔버 내부에 잔존하는 유독 가스를 배출 라인을 통해 안전하게 이송할 수 있어 안전 사고를 방지하는 이점이 있다.As described above, when the present invention is applied to a semiconductor manufacturing facility, the toxic gas remaining in the chamber can be safely transferred through the discharge line, thereby preventing the safety accident.

Claims (3)

챔버와;A chamber; 상기 챔버의 일측에 연결되고 라핑 밸브의 개폐 동작에 의해 상기 챔버의 진공 상태를 제어하는 진공 라인; 및A vacuum line connected to one side of the chamber and controlling a vacuum state of the chamber by an opening / closing operation of a lapping valve; And 상기 챔버의 타측에 연결되고 상기 챔버 내의 유독 가스를 배출하는 배출 라인을 포함하되,A discharge line connected to the other side of the chamber and discharging the toxic gas in the chamber, 상기 배출 라인은 상기 챔버 내의 유독 가스를 흡입하여 배출구로 이송하는 벤투리관; 및The discharge line is a venturi tube for sucking the toxic gas in the chamber and transfer to the discharge port; And 상기 벤투리관에 공기를 주입하는 개폐 수단을 포함하는 가스 배출 장치.Gas venting device including an opening and closing means for injecting air into the venturi tube. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 벤투리관은 저압 상태에서 상기 챔버 내의 가스를 흡입하는 것을 특징으로 하는 가스 배출 장치.The venturi tube is a gas discharge device, characterized in that for sucking the gas in the chamber at a low pressure state. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 개폐 수단은 솔레노이드 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 배출 장치.The opening and closing means gas discharge device characterized in that it comprises a solenoid valve.
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