KR200195120Y1

KR200195120Y1 - 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조

Info

Publication number: KR200195120Y1
Application number: KR2019980004644U
Authority: KR
Inventors: 황창노
Original assignee: 김영환; 현대반도체주식회사
Priority date: 1998-03-27
Filing date: 1998-03-27
Publication date: 2000-09-01
Also published as: KR19990038556U

Abstract

본 고안은 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조에 관한 것으로, 몸체의 상측 전면에 걸쳐 다수개의 격자형 홈을 형성하고, 그 격자형 홈들의 일정부분이 교차되도록 환형 홈을 형성하며, 그 환형 홈에 다수개의 헬륨가스공급공들을 형성하여, 공정진행시 헬륨가스공급공으로 공급된 헬륨가스가 환형홈과 격자형 홈을 따라 웨이퍼의 하측 전면을 균일하게 냉각되도록 함으로써, 식각 유니퍼머티를 향상시키는 효과가 있다.

Description

반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조

본 고안은 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조에 관한 것으로, 특히 웨이퍼의 전면에 균일하게 헬륨가스를 공급하여 필름의 유니퍼머티를 저하시키는 문제점이 있었다.

반도체 웨이퍼 제조용 식각장치에서는 웨이퍼를 고정시키기 위한 척을 사용하게 되는데, 이와 같은 척은 정전력을 이용하여 웨이퍼를 고정시키므로 정전척(ELECTRO STATIC CHUCK)이라고 하고, 이와 같은 정전척이 도 1 내지 도 3에 도시되어 있는 바, 이를 간단히 설명하면 다음과 같다.

도 1은 종래 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 구성을 보인 사시도이고, 도 2는 종래 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 구성을 보인 평면도이며, 도 3은 도 2의 A-A'를 절치하여 보인 단면도로서, 도시된 바와 같이, 종래 반도체 웨이퍼 제조용 정전척은 웨이퍼가 얹혀지는 원판형의 몸체(1)와, 그 몸체(1)에 상,하방향으로 내설되어 웨이퍼의 로딩/언로딩시 웨이퍼를 들어주기 위한 4개의 가동핀(2)과, 상기 몸체(1)의 상면에 형성되는 헬륨가스공급공(3)과, 그 헬륨가스공급공(3)에 연결되도록 몸체(1)의 상면에 형성된 십자형 가스공급홈(4) 및 2개의 크기가 다른 원형가스공급홈(5)으로 구성되어 있다.

상기와 같이 구성되어 있는 종래 반도체 웨이퍼 고정용 정전척은 가동핀(2)을 상승시키고, 웨이퍼를 가동핀(2)들의 상면에 얹어놓은 상태에서 가동핀(2)들을 하강시켜서 몸체(1)의 상면에 웨이퍼를 얹은 다음, 몸체(1)에 볼테이지를 인가하면 정전력에 의하여 몸체(1)의 상면에 웨이퍼를 고정된다.

그런 다음, 척이 설치되어 있는 챔버의 내측에 공정가스를 유입시키며 공정을 실시하게 되는데, 이때 상기 헬륨가스공급공(3)을 통하여 헬륨가스를 공급하고, 그 헬륨가스공급공(3)을 통하여 공급된 헬륨가스는 십자형 가스공급홈(4)과 2개의 원형가스공급홈(5)을 통하여 플로우되어 웨이퍼의 하면을 냉각하게 된다.

그러나, 상기와 같은 종래 정전척은 헬륨가스공급공(3)을 통하여 공급된 헬륨가스가 십자형 가스공급홈(4)과 2개의 원형가스공급홈(5)을 통하여 웨이퍼의 하면에 국부적으로 플로우되어, 냉각이 안된곳은 식각이 안되고, 냉각이 잘된곳은 식각이 과다하게 됨으로써, 냉각차이에 의한 식각 유니퍼머티를 저하시키는 문제점이 있었다.

상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 고안의 목적은 공정진행시 웨이퍼를 균일하게 냉각하여 식각유니퍼머티를 향상시키도록 하는데 적합한 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조를 제공함에 있다.

도 1은 종래 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 구성을 보인 사시도.

도 2는 종래 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 구성을 보인 평면도.

도 3은 도 2의 A-A'를 절치하여 보인 단면도.

도 4는 본 고안 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조를 보인 사시도.

도 5는 본 고안 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조를 보인 평면도.

도 6은 도 5의 B-B'를 절취하여 보인 단면도.

도 7은 웨이퍼가 고정된 상태의 단면도.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

12 : 몸체 13 : 격자형 홈

14 : 환형 홈 15 : 헬륨가스공급공

상기와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여 몸체의 상측 전면에 격자형 홈을 다수개 형성하고, 그 격자형 홈들이 형성된 일정부분에 교차되도록 환형 홈을 형성하며, 그 환형 홈의 일정부분에 다수개의 헬륨가스공급공을 형성하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조가 제공된다.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 고안 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조를 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 4는 본 고안 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조를 보인 사시도이고, 도 5는 본 고안 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조를 보인 평면도이며, 도 6은 도 5의 B-B'를 절취하여 보인 단면도로서, 도시된 바와 같이, 본 고안은 내측에 4개의 가동핀(11)이 내설되어 있는 척의 몸체(12) 상측 전면에 걸쳐 격자형 홈(13)을 형성하고, 그 격자형 홈(13)들 중 일정부분이 교차되도록 1개의 환형 홈(14)을 형성하며, 그 환형 홈(14)에 다수개의 헬륨가스공급공(15)을 형성하여, 그 헬륨가스공급공(15)을 통하여 공급된 헬륨가스가 환형홈(14) 및 격자형 홈(13)들을 따라 웨이퍼의 하측 전면에 공급되도록 한 것이다.

도 7를 참조하여 부연하여 설명하면, 가동핀(11)들이 상승되고, 그 가동핀(11)들의 상면에 웨이퍼가 얹혀진 다음, 가동핀(11)들을 하강시키며, 몸체(12)에 볼테이지를 인가하여 정전력을 발생시켜서 몸체(12)의 상면에 웨이퍼(W)를 고정시키는 것은 종래와 유사하다.

여기서 본 고안은 챔버의 내측으로 공정가스를 유입시키며 식각작업을 진행시에 헬륨가스공급공(15)을 통하여 헬륨가스를 공급하면 환형 홈(14) 및 격자형 홈(13)을 따라 웨이퍼(W)의 하측 전면에 공급되어, 전면을 균일하게 냉각함으로써, 균일한 식각이 이루어지게 된다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 고안 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조는 몸체의 상측 전면에 걸쳐 다수개의 격자형 홈을 형성하고, 그 격자형 홈들의 일정부분이 교차되도록 환형 홈을 형성하며, 그 환형 홈에 다수개의 헬륨가스공급공들을 형성하여, 공정진행시 헬륨가스공급공으로 공급된 헬륨가스가 환형홈과 격자형 홈을 따라 웨이퍼의 하측 전면을 균일하게 냉각되도록 함으로써, 식각 유니퍼머티를 향상시키는 효과가 있다.

Claims

몸체의 상측 전면에 걸쳐 격자형 홈을 다수개 형성하고, 그 격자형 홈들이 형성된 일정부분에 교차되도록 환형 홈을 형성하며, 그 환형 홈의 일정부분에 다수개의 헬륨가스공급공을 형성하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 고정용 정전척의 헬륨가스 공급구조.