KR200163640Y1 - Cleaning system for the semiconductor exhaust gas - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체 제조 장비에서 사용되는 배기 가스 세정 장치에 관한 것으로서, 그 구성은 배기 가스 입구(40)와, 이 입구(40)와, 이 입구(40)와 하나의 관으로 연결된 후 두 방향으로 분리되고 각 방향에 1개씩 설치된 가스 필터 카트릿지(36, 37)와, 상기 가스 필터 카트릿지(36, 37)의 두개의 출력측 관이 하나의 관으로 일체된 후 연결된 제해관 카트릿지(35)와, 상기 각 필터 카트릿지(36, 37)의 입력측과 상기 제해관 카트릿지(15)의 입력측에 관으로 연결되어 청소 가스를 공급하는 청소 가스 공급기(31)와, 배기 가스 입구(40)의 전단에 설치되어 배관내의 배출 가스 압력을 감지하여 배출 가스의 압력이 적정하게 유지되도록 송풍 팬의 회전 속도를 조절 시킴으로서 소정의 배기 압력이 유지되도록 하는 압력 트랜지스터(45)와, 상기 배기 가스 출구(40)와 가스 필터 카트릿지(36, 37)를 연결하는 배관사이에 한 개의 관이 돌출되어 상기 제해관 카트릿지(35)와 송풍팬(32) 사이에 접속되어 형성된 바이패스 관(41)과, 제해관 카트릿지(35)와 바이패스 관(41)에서 나온 가스를 배기 가스 출구(34)로 송풍하는 송풍팬(32)과, 각 배관 사이에 접속된 복수개의 수동 밸브(M21 내지 M33)와, 그리고 압력 게이지(P21, P22)로 되어 있다. 본 고안에 따른 배기 가스 세정 장치는 가스 필터 카트릿지나 제해관 카트릿지의 교환시에도 전 시스템을 중단시킬 필요가 없어서 가동률을 높일수 있으며, 또한 바이패스관을 설치하여 장치의 이상 발생시에도 안전하게 대처할수 있는 효과가 있다.The present invention relates to an exhaust gas scrubber used in semiconductor manufacturing equipment, the configuration of which is connected to the exhaust gas inlet 40, the inlet 40, and the inlet 40 by one pipe, and then in two directions. A gas filter cartridge (36, 37) separated and installed in each direction, two decontamination pipe cartridge (35) connected after the two output pipes of the gas filter cartridge (36, 37) are integrated into a single pipe, It is connected to the input side of each filter cartridge (36, 37) and the input side of the decontamination pipe cartridge 15, the cleaning gas supply 31 for supplying the cleaning gas and the front end of the exhaust gas inlet 40, the pipe A pressure transistor 45 for maintaining a predetermined exhaust pressure by adjusting the rotational speed of the blowing fan to sense the exhaust gas pressure in the exhaust gas so that the pressure of the exhaust gas is properly maintained, and the exhaust gas outlet 40 and the gas fill. One pipe protrudes between the pipes connecting the cartridges 36 and 37 so that the bypass pipe 41 and the decontamination pipe cartridge 35 are connected between the decontamination pipe cartridge 35 and the blowing fan 32. And a blowing fan 32 for blowing gas from the bypass pipe 41 to the exhaust gas outlet 34, a plurality of manual valves M21 to M33 connected between the pipes, and a pressure gauge P21, P22). Exhaust gas scrubbing device according to the present invention does not need to shut down the entire system even when replacing gas filter cartridge or control tube cartridge, thus increasing the operation rate, and by installing a bypass pipe, it is possible to safely cope with an abnormality of the device. There is.
Description
제1도는 종래의 기술에 따른 반도체 제조 장비에서의 가스 세정 장치의 구성도.1 is a block diagram of a gas cleaning device in a semiconductor manufacturing equipment according to the prior art.
제2도는 본 고안에 따른 반도체 제조 장비에서의 가스 세정 장치의 구성도.2 is a block diagram of a gas cleaning device in a semiconductor manufacturing equipment according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 설명* Description of the main parts of the drawings
30 : 웨이퍼 반응조 인출 도관 31 : 청소 가스 공급기30: wafer reaction vessel withdrawal conduit 31: cleaning gas supply
32 : 송풍팬 35 : 제해관 카트릿지32: blower fan 35: control pipe cartridge
36, 37 : 가스 필터 카트릿지 41 : 바이패스관36, 37: gas filter cartridge 41: bypass pipe
C1 : 체크 밸브 M11 내지 M33 :수동 밸브C1: check valve M11 to M33: manual valve
P20, P21 : 압력 게이지 P22 : 압력 제어 표시기P20, P21: pressure gauge P22: pressure control indicator
본 고안은 반도체 제조 장비에서 사용되는 가스 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas cleaning device used in semiconductor manufacturing equipment.
일반적으로 반도체 웨이퍼를 제조하기 위해서는 복잡한 여러 공정들이 필요하다. 특히 이러한 공정들 중에는 에피택셜 증착 공정이나 산화막 형성 공정 같이 가스 분위기에서 웨이퍼를 처리하는 공정이 있다. 이렇게 사용된 기체는 가스 세정 장치를 통해 외부로 배출된다. 가스 세성 장치는 배출 가스에 포함된 미립자나 분말등을 여과한다. 이 가스 세정 장치는 필터 카트릿지와 제해관 카트릿지(absorber catridge)등을 포함하고 있는 데 이들 부품은 수시로 교환해 주어야 한다. 그리고 부품 교환 중에는 가스을 사용하는 웨이퍼 제조 공정도 정지시켜야한다.In general, many complex processes are required to manufacture semiconductor wafers. In particular, among these processes, there is a process of processing a wafer in a gas atmosphere such as an epitaxial deposition process or an oxide film formation process. The gas used in this way is discharged to the outside through the gas cleaning device. The gas cleaning device filters the fine particles and powder contained in the exhaust gas. The gas scrubber includes a filter cartridge and an absorber catridge, which must be replaced from time to time. In addition, during the exchange of parts, the wafer manufacturing process using gas must be stopped.
제1도는 종래의 가스 세정 장치를 도시하고 있다.1 shows a conventional gas cleaning apparatus.
도시된 바와 같이, 이 가스 세정 장치(1OO)는 배기 가스 입구(2O)와, 이 입구(2O)와 관으로 연결된 가스 필터 카트릿지(16, 17), 가스 필터 카트릿지와 연결된 제해관 카트릿지(15), 상기 필터 카트릿지(16, 17)와 제해관 카트릿지(15)에 관으로 연결되어 질소와 같은 가스를 공급하는 청소 가스공급기(11)와, 제해관 카트릿지(15)에서 나온 가스를 배기 가스 출구(14)로 송풍하는 송풍팬(12)과, 배관내의 배출 가스 압력을 감지하여 배출 가스의 압력이 적정하게 유지되도록 송풍 팬의 회전 속도를 조절 시킴으로서 소정의 배기 압럭이 유지되도륵 하는 압력 트렌스미터(21)와, 각 연결관 사이에 접속된 복수개의 수동 밸브(M1 내지 M11)와, 그리고 압력 게이지(P1, P2)로 구성된다.As shown, this gas scrubbing device 100 comprises an exhaust gas inlet 20, a gas filter cartridge 16, 17 connected in conduit with the inlet 20, and a decontamination pipe cartridge 15 connected with the gas filter cartridge. In addition, the filter cartridge (16, 17) and the cleaning pipe cartridge (15) connected to the pipe for supplying a gas such as nitrogen and a cleaning gas supply 11, the gas from the filter pipe cartridge (15) exhaust gas outlet ( A pressure transmitter for maintaining a predetermined exhaust pressure by adjusting the rotational speed of the blower fan 12 and the blower fan so that the pressure of the discharged gas is properly maintained by sensing the exhaust gas pressure in the pipe. 21, a plurality of manual valves M1 to M11 connected between the respective connecting pipes, and pressure gauges P1 and P2.
이와같이 구성된 가스 세정 장치의 동작은 다음과 같다.The operation of the gas cleaning device configured as described above is as follows.
먼저, 가스의 세정 동작에 관해 설명하면, 웨이퍼 반응조(10)에서 공급된 배출 가스는 수동 밸브(M1)을 거쳐 서로 다른 방향에 있는 가스 필터 카트릿지(16, 17)로 간다. 이 가스 필터 카트릿지(16, 17)에서는 가스 속에 포함된 미립자나 분말등을 여과한다. 이렇게 여과된 가스는 제해관 카트릿지(15)로 가서 가스 속에 포함된 유해 성분을 허용 농도 이하로 처리한 후 송풍팬(12)을 거쳐 외부로 송풍된다. 보통 이러한 유해 가스 세정은 두개의 가스 필터 카트릿지(16, 17) 중에서 하나만을 선택하여 쓰는데, 이때 사용하지 않는 필터에 연결된 관에 부착된 수동 밸브(M3, M5 또는 M4 M6)는 잠근다.First, the gas cleaning operation will be described. The exhaust gas supplied from the wafer reaction tank 10 goes to the gas filter cartridges 16 and 17 in different directions via the manual valve M1. The gas filter cartridges 16 and 17 filter particulates, powders, and the like contained in the gas. The filtered gas is sent to the decontamination pipe cartridge 15, and the harmful components contained in the gas are treated below the allowable concentration and then blown to the outside through the blowing fan 12. Normally this noxious gas scrubbing selects and uses only one of the two gas filter cartridges 16, 17, with the manual valve (M3, M5 or M4 M6) attached to the pipe connected to the unused filter closed.
다음은 가스 필터 카트릿지(16, 17)과 제해관 카트릿지(15)의 교환에 관해 설명한다. 앞서 언급한 바오 같이 이들 카트릿지는 배기 가스를 신뢰성 있게 세정하기 위해 수시로 교환해 주어야 한다.The following describes the exchange of the gas filter cartridges 16 and 17 and the filter tube cartridge 15. As mentioned earlier, these cartridges must be replaced from time to time to reliably clean the exhaust gases.
첫번째로 필터 카트릿지(16)를 교환하는 것에 관해 설명하면, 수동 밸브(M4, M5)를 폐쇄하고 반면에 수동 밸브(M2, M8) 및 압력 감쇄 밸브(19)를 개방한다. 밸브를 이 상태로 두면 청소 가스 공급기(11)로 부터의 세정용 가스(가령 질소)가 카트릿지 필터(16) 및 이것과 연결된 배관에 유입되어 잔류하고 있는 유해 가스 성분을 청소하여 제해관 카트릿지(15)로 보내진후 외부로 송풍된다.Referring first to replacing the filter cartridge 16, the manual valves M4 and M5 are closed while the manual valves M2 and M8 and the pressure relief valve 19 are opened. If the valve is left in this state, the cleaning gas (for example, nitrogen) from the cleaning gas supply 11 flows into the cartridge filter 16 and the pipe connected thereto to clean the residual harmful gas components to remove the decontamination pipe cartridge (15). It is blown to outside after being sent to).
두번째로 가스 필터 카트릿지(l7)를 교환하는 것에 관해 설명한다. 이때는 밸브(M3, M5)를 폐쇄하고 반면에 밸브(M4, M6)과 압력 감쇄 밸브(19)를 개방한다. 이렇게 하면 앞서 언급한 것과 유사하게, 카트릿지(17)과 이것과 연결된 배관에 청소 가스 공급기로 부터 청소 가스가 유입되어 그곳에 잔류하고 있는 유해 가스 성분을 청소하여 제해관 카트릿지(15)로 보내진 후 외부로 송풍된다.Second, the gas filter cartridge l7 will be replaced. At this time, valves M3 and M5 are closed, while valves M4 and M6 and pressure reducing valve 19 are opened. In this way, similar to the above-mentioned, the cleaning gas is introduced into the cartridge 17 and the pipes connected thereto to clean the harmful gas remaining therein and to be sent to the control pipe cartridge 15 to the outside. It is blown.
마지막으로 제해관 카트릿지(15)의 교환에 관해 설명한다. 이때는 수동 밸브(M3, M4, M5, M6, M8)을 폐쇄하고 반면에 수동 밸브(M9)만을 개방한다. 이렇게 하면 청소 가스 공급기(11)로 부터의 청소 가스가 제해관 카트릿지(15) 및 이와 연결된 배관에 유입되어 여기에 잔류한 유해 성분 가스를 청소한 후 외부로 송풍된다.Finally, the replacement of the seawater pipe cartridge 15 will be described. At this time, the manual valves M3, M4, M5, M6 and M8 are closed while only the manual valve M9 is opened. In this way, the cleaning gas from the cleaning gas supplier 11 flows into the decontamination pipe cartridge 15 and the pipe connected thereto to clean the noxious gas remaining therein and to be blown to the outside.
이상 설명한 종래의 세정 장치는 두개의 가스 필터 카트릿지 중에서 한개만을 교환할 때에도 배관내를 세정 가스로 세정하여야 하기 때문에 전 시스템을 정지시켜야 하는 단점이 있있다. 또한 비상시에 가스 필터 카트릿지와 제해관 카트릿지를 거치지 않고 곧바로 송풍 팬으로 가스를 보낼 수 있는 바이패스 기능이 없기 때문에 항상 사고의 위험성이 내재되어 있다. 그리고 압력 트랜스미터의 설치 위치가 배기 가스 출구측 후단에 설치되기 때문에 배기 가스의 압력을 정확히 감지하여 송풍 팬의 정확한 속도 제어가 불가능한 단점이 있었다.The conventional cleaning apparatus described above has the disadvantage that the entire system must be stopped because the inside of the pipe must be cleaned with the cleaning gas even when only one of the two gas filter cartridges is replaced. In addition, there is always a risk of an accident because there is no bypass function to send gas to the blower fan immediately without going through the gas filter cartridge and control pipe cartridge in an emergency. In addition, since the installation position of the pressure transmitter is installed at the rear end of the exhaust gas outlet side, it is impossible to accurately sense the pressure of the exhaust gas so that accurate speed control of the blowing fan is impossible.
본 고안은 이러한 문제점을 감안한 것으로서, 그 목적은 세정 장치내에 필터의 교환시에도 전 시스템의 가동을 중지하지 않고, 사고 발생시에 대처하기 위해 바이패스 배관을 설치하였으며, 또한 트랜스미터가 정확한 배기가스 압력을 감지할 수 있도록 한 반도체 장비에서의 배기 가스 세정 장치를 제공하는 데 있다.The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is not to shut down the entire system even when the filter is replaced in the cleaning device, but to install a bypass pipe to deal with an accident. To provide an exhaust gas cleaning device in a semiconductor device that can be detected.
본 고안에 따른 가스 세정 장치(2O0)는, 배기 가스 입구(40)와, 이 입구(40)와 하나의 관으로 연결된 후 두 방향으로 분리되고 각 방향에 1개씩 설치된 가스 필터 카트릿지(36, 37)와, 상기 가스 필터 카트릿지(36, 37)의 두개의 출력측 관이 하나의 관으로 일체된 후 연결된 제해관 카트릿지(35)와, 상기 각 필터 카트릿지(36, 37)의 입력측과 상기 제해관 카트릿지(15)의 입력측에 관으로 연결되어 청소 가스를 공급하는 청소 가스 공급기(31)와, 배기 가스 입구(40)의 전단에 설치되어 배관내의 배출 가스 압력을 감지하여 배출 가스의 압력이 적정하게 유지되도록 송풍 팬의 회전 속도를 조절 시킴으로서 소정의 배기 압력이 유지되도록 하는 압력 트랜스미터(45)와, 상기 배기 가스 입구(40)와 가스 필터 카트릿지(36, 37)를 연결하는 배관과, 제해관 카트릿지(35)과 송풍팬(32)을 연결하는 배관 사이에 수동밸브를 설치한 바이패스 관(41)과, 제해관 카트릿지(35)와 바이패스 관(41)에서 나온 가스를 배기 가스 출구(34)로 송풍하는 송풍팬(32)과, 각 배관 사이에 접속된 복수개의 수동 밸브(M21 내지 M33)와, 그리고 압력 게이지(P1, P2)로 구성된다.The gas cleaning device 200 according to the present invention includes an exhaust gas inlet 40 and a gas filter cartridge 36, 37 which is connected to the inlet 40 by one pipe and separated in two directions and one in each direction. ), A decontamination pipe cartridge 35 connected to two output side pipes of the gas filter cartridges 36 and 37 after being integrated into one pipe, an input side of each of the filter cartridges 36 and 37 and the decontamination pipe cartridge A cleaning gas supply 31 connected to the input side of the pipe 15 for supplying cleaning gas and a front end of the exhaust gas inlet 40 are installed at the front end of the exhaust gas inlet 40 to sense the exhaust gas pressure in the pipe to maintain the exhaust gas pressure appropriately. A pressure transmitter 45 for maintaining a predetermined exhaust pressure by adjusting the rotational speed of the blower fan, a pipe connecting the exhaust gas inlet 40 and the gas filter cartridges 36 and 37, and a decontamination pipe cartridge ( 35) and blower fan (3 2) a blower fan for blowing gas from the decontamination pipe cartridge 35 and the bypass pipe 41 to the exhaust gas outlet 34 between the pipes connecting the pipes and the bypass pipe 41. 32, a plurality of manual valves M21 to M33 connected between the pipes, and pressure gauges P1 and P2.
다음은 제2도의 가스 세정 장치에 대한 동작을 설명한다.The following describes the operation of the gas cleaning device of FIG.
먼저, 배기 가스의 세정 동작에 관해 설명한다. 웨이퍼 반응조(31)에서 공급된 배출 가스는 수동 밸브(M21)을 두 방향으로 분리되어 각각 설치된 가스 필터 카트릿지(36, 37)로 간다. 각 가스 필터 카트릿지(36, 37)에서는 가스 속에 포함된 미립자나 분말등을 여과한다. 이렇게 여과된 가스는 제해관 카트릿지(35)로 가서 가스 속에 포함된 유해 성분을 허용 농도 이하로 처리한 후 송풍팬(32)을 거쳐 외부로 송풍된다. 보통 이러한 유해 가스 세정은 두개의 가스 필터 카트릿지(36, 37) 중에서 하나만을 선택하여 쓰는데, 이때 사용하지 않는 필터에 연결된 관에 부착된 수동 밸브(M23, M25 또는 M24 M26)는 잠근다. 배기 가스 입구(40)의 전단에 설치된 압력 트랜스미터(45)는 배관내의 배출 가스 압력을 감지하여 배출 가스의 입력이 적정하게 유지되도록 송풍 팬의 회전 속도를 조절 시킴으로서 소정의 배기 압력이 유지되도록 한다.First, the cleaning operation of the exhaust gas will be described. The exhaust gas supplied from the wafer reaction tank 31 goes to the gas filter cartridges 36 and 37 installed by separating the manual valve M21 in two directions. In each of the gas filter cartridges 36 and 37, particulates, powders, and the like contained in the gas are filtered. The filtered gas is discharged to the decontamination pipe cartridge 35, and the harmful components contained in the gas are treated below the allowable concentration and then blown to the outside through the blowing fan 32. Normally this noxious gas scrubbing selects only one of the two gas filter cartridges 36, 37, with the manual valves M23, M25 or M24 M26 attached to the pipes connected to the unused filters closed. The pressure transmitter 45 installed at the front end of the exhaust gas inlet 40 senses the pressure of the exhaust gas in the pipe and adjusts the rotational speed of the blower fan so that the input of the exhaust gas is appropriately maintained to maintain a predetermined exhaust pressure.
다음은 가스 필터 카트릿지(36, 37)와 제해관 카트릿지(35)의 교환에 관해 설명한다.Next, the exchange of the gas filter cartridges 36 and 37 and the decontamination pipe cartridge 35 will be described.
첫번째로 필터 카트릿지(36)를 교환하는 것에 관해 설명한다. 이때에는 우선 수동 밸브(M23)를 폐쇄하고 반면에 수동 밸브(M22, M25, M28)와 압력감괘 밸브(39)을 개방한다. 이렇게 해두면 청소 가스 공급기(31)로 부터의 세정용 가스(가령 질소)가 카트릿지 필터(36) 및 이것과 연결된 배관에 유입되어 잔류하고 있는 유해 가스 성분을 청소하여 제해관 카트릿지(35)로 보내진후 외부로 송풍된다. 그후 수동 밸브(M25, M28)을 폐쇄시킨후 새로운 가스 필터 카트리지로 교환한다. 종래에는 이러한 교환시에 전 시스템의 가동을 중지하여야 했지만 이러한 방식으로 하면 중지하지 않는 장점이 있다.First, the filter cartridge 36 is replaced. At this time, the manual valve M23 is first closed, while the manual valves M22, M25 and M28 and the pressure regulator valve 39 are opened. In this way, the cleaning gas (for example, nitrogen) from the cleaning gas supplier 31 flows into the cartridge filter 36 and the pipes connected thereto to clean the residual harmful gas components and to be sent to the decontamination pipe cartridge 35. After it is blown out. Then close the manual valves (M25, M28) and replace with a new gas filter cartridge. Conventionally, the entire system had to be stopped at the time of such an exchange, but in this way, there is an advantage of not stopping.
두번째로 가스 필터 카트릿지(37)를 교환하는 것에 관해 설명한다. 이때는 밸브(M24)를 폐쇄하고 반면에 밸브(M22, M26, M32)와 압력 감쇄 밸브(39)를 개방한다. 이렇게 하면 가스 카트릿지 필터(37) 및 이것과 연결된 배관에 청소 가스 공급기(31)로 부터 청소 가스가 유입되어 그곳에 잔류하고 있는 유해 가스 성분을 청소하여 제해관 카트릿지(35)로 보내진 후 외부로 송풍된다. 그후 수동 밸브(M24, M26)을 폐쇄하고 새로운 가스 필터 카트릿지로 교환한다. 물론 이때에도 세정 장치 시스템은 정상적으로 가동된다.Second, the gas filter cartridge 37 is replaced. At this time, the valve M24 is closed while the valves M22, M26, M32 and the pressure reducing valve 39 are opened. In this case, the cleaning gas flows into the gas cartridge filter 37 and the pipe connected thereto from the cleaning gas supply 31 to clean the harmful gas remaining therein, and is sent to the control pipe cartridge 35 and blown to the outside. . The manual valves M24 and M26 are then closed and replaced with a new gas filter cartridge. Of course, at this time, the cleaning device system is normally operated.
다음은 가스 필터 카트릿지(36, 37)나 제해관 카트릿지(35)의 이상 발생시에 바이패스 관(41)의 기능에 관하여 설명한다. 만일 가스 세정 장치의 작동시에 이들 카트릿지에 이상이 발생하면 수동 밸브(M23, M24, M27)을 폐쇄시키고 수동 밸브(M33)을 개방한다. 수동 밸브들을 이렇게 설정하여 두면, 배기 가스 출구(40)로 부터의 배기 가스는 가스 필터 카트릿지(36, 37) 및 제해관 카트릿지(35)로 유입되지 않고 곧바로 송풀구(32)로 가서 외부로 유출된다. 종래에는 이들 카트릿지에 고장이 발생하면 가스 세정 장치의 전체 작동을 중단하여야 하는 문제가 있었지만 본 고안에 따튼 바이패스 관(41)을 설치함으로서 이러한 문제점을 해결하였다.Next, the function of the bypass pipe 41 at the time of abnormality of the gas filter cartridges 36 and 37 or the decontamination pipe cartridge 35 will be described. If abnormality occurs in these cartridges during the operation of the gas cleaning device, the manual valves M23, M24 and M27 are closed and the manual valve M33 is opened. With the manual valves set in this way, the exhaust gas from the exhaust gas outlet 40 does not flow into the gas filter cartridges 36 and 37 and the control pipe cartridge 35, but directly goes to the tuyeres 32 and flows out. do. Conventionally, when these cartridges have a problem, the entire operation of the gas cleaning device has to be stopped, but this problem is solved by installing the bypass pipe 41 according to the present invention.
본 고안에서는 압력 트렌스미터(45)의 설치 위치를 배기 가스 입구(40)의 전단에 설치하였다. 그 이유는 종래와 같이 배기 가스 입구(40)의 후단에 설치하였을 때에는 메인 시스템과 세장 장치간의 배기관에 의한 압력 변동때문에 배기 가스 압력을 정확히 감지하여 적정 압력으로 제어하는 것이 곤란하기 때문이다.In the present invention, the installation position of the pressure transmitter 45 is installed at the front end of the exhaust gas inlet 40. This is because when it is installed at the rear end of the exhaust gas inlet 40 as in the prior art, it is difficult to accurately detect the exhaust gas pressure and control it to an appropriate pressure due to the pressure fluctuation caused by the exhaust pipe between the main system and the elongated apparatus.
본 고안에 따른 배기 가스 세정 장치는 가스 필터 카트릿지나 제해관 카트릿지의 교환시에도 전 시스템을 중단시킬 필요가 없어서 가동률을 높일 수 있으며, 또한 바이패스관을 설치하여 장치의 이상 발생시에도 안전하게 대처할수 있는 효과가 있다.Exhaust gas scrubbing device according to the present invention does not need to shut down the entire system even when replacing gas filter cartridge or control tube cartridge, thus increasing the operation rate, and by installing a bypass pipe, it is possible to safely cope with an abnormality of the device. It works.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019940005960U KR200163640Y1 (en) | 1994-03-24 | 1994-03-24 | Cleaning system for the semiconductor exhaust gas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019940005960U KR200163640Y1 (en) | 1994-03-24 | 1994-03-24 | Cleaning system for the semiconductor exhaust gas |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950028634U KR950028634U (en) | 1995-10-20 |
| KR200163640Y1 true KR200163640Y1 (en) | 2000-01-15 |
Family
ID=19379529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019940005960U KR200163640Y1 (en) | 1994-03-24 | 1994-03-24 | Cleaning system for the semiconductor exhaust gas |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR200163640Y1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100685305B1 (en) * | 1999-11-05 | 2007-02-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Refining Apparatus Of Chamber |
| KR101824817B1 (en) * | 2016-11-10 | 2018-03-14 | 엄태준 | Descaling device in the pipe using a magnetic force |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100320744B1 (en) * | 1999-11-03 | 2002-01-19 | 김경균 | System for disposol of waste gas |
| KR100361667B1 (en) * | 2000-10-31 | 2002-11-22 | 유니셈 주식회사 | Waste gas treatment system |
-
1994
- 1994-03-24 KR KR2019940005960U patent/KR200163640Y1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100685305B1 (en) * | 1999-11-05 | 2007-02-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Refining Apparatus Of Chamber |
| KR101824817B1 (en) * | 2016-11-10 | 2018-03-14 | 엄태준 | Descaling device in the pipe using a magnetic force |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR950028634U (en) | 1995-10-20 |
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