KR200151377Y1 - 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치 - Google Patents
반도체 제조장비의 오염공기 제거장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR200151377Y1 KR200151377Y1 KR2019950053638U KR19950053638U KR200151377Y1 KR 200151377 Y1 KR200151377 Y1 KR 200151377Y1 KR 2019950053638 U KR2019950053638 U KR 2019950053638U KR 19950053638 U KR19950053638 U KR 19950053638U KR 200151377 Y1 KR200151377 Y1 KR 200151377Y1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- air
- equipment
- contaminated air
- filter unit
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70925—Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F7/00—Ventilation
- F24F7/04—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Public Health (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
본 고안은 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치에 관한 것으로, 종래 장치는 장비의 설치비용이 고가인 결함이 있고, 장비가 차지하는 공간이 많아 라인의 운용시 비효율적인 단점이 있으며, 챔버와 칠러, 케미컬 필터 유닛을 연결하는 순환 덕트의 길이가 길어 통과되는 공기의 온도조절이 용이하지 않으므로 포토공정이 불안정하게 되는 문제가 있는 바, 파티클 필터 유닛(13)이 상면에 구비된 메인 유닛(12)으로 구성되는 챔버(11)의 상부에 오염공기 제거수단(14)을 일체로 설치하여 상기 메인 유닛(12)의 하면과 상기 오염공기 제거수단(14)의 상부를 순환 덕트(15)로 연결한 본 고안을 제공하여 별도의 장비 설치에 따른 비용이 절감하고, 장비가 차지하는 면적이 줄어들며, 공기의 이동 중에 발생되는 온도조절의 어려움음 해소할 수 있게 되는 효과가 있는 것으로, 초자외선 포토장치(SVGL, CANON, NIKON, ASM) 일반에 적용 가능하도록 한 것이다.
Description
제1도는 일반적인 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치의 구성도.
제2도는 본 고안에 의한 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치의 구성도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
11 : 공정챔버 11a, 11b : 공기유입구 및 배출구
12 : 메인 유닛 13 : 파티클 필터 유닛
14 : 오염공기 제거수단 15 : 순환 덕트
본 고안은 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치에 관한 것으로, 특히 오염공기 제거수단을 챔버와 일체로 설치한 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치에 관한 것이다.
일반적인 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치는 제1도에 도시한 바와 같이, 공정 챔버(1)에서 배출되는 공기의 혼합된 공기의 오염을 정화하여 다시 챔버로 공급하는 장치로서, 상기 공정 챔버(1)는 메인 유닛(Main Unit)(2)과, 메인 덕트(3)로 구성되어 있고, 메인 유닛(2)과 메인 덕트(3) 사이에는 파티클 필터 유닛(Particle Filt Unit)(4)이 설치되어 있다.
이러한 공정 챔버(1)에는 칠러(Chiller)(5)가 연결되어 있고, 이 칠러(5)와 공정 챔버(1) 사이에는 케미컬 필터 유닛(Chemical Filter Unit)(6)이 연결되어 있다.
미설명 부호 1a, 1b는 각각 공정 챔버(1)의 공기유입구와 공기 배출구, 5a, 5b는 칠러(5)의 공기유입구와 배출구, 6a, 6b는 케미컬 필터 유닛(6)의 공기유입구와 배출구를 나타낸 것이며, 7, 8, 9는 상기 챔버(1)와 칠러(5), 케미컬 필터 유닛(6)을 연결하는 덕트를 보인 것이다.
이와 같이 구성되는 오염공기 제거장치는 칠러(5)에서 생성된 공기가 케미컬 필터 유닛(6)으로 들어가서 메인 덕트(3)로 들어가 파티클 필터 유닛(4)을 통과하면서 먼지가 여과된 후, 메인 유닛(2)으로 다운 플로우(Down Flow)되며, 다운 플로우된 공기는 다시 칠러(5)로 이동되는 경로로 순환된다.
이러한 순환경로를 통해 염기성 물질이 카아본 필터에 의해 제거되는 것이며, 1ppb/1이하로 조절되는 것이다.
그러나 상기한 바와 같은 오염공기 제거장치는 장비의 설치비용이 고가인 결함이 있고, 장비가 차지하는 공간이 많아 라인의 운용시 비효율적인 단점이 있으며, 챔버와 칠러, 케미컬 필터 유닛을 연결하는 덕트의 길이가 길어 통과되는 공기의 온도조절이 용이하지 않으므로 포토공정이 불안정하게 되는 문제가 있다.
이와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 고안의 목적은 장비의 설치가 간편하고, 운용이 효율적으로 이루어지며, 공정간 사용되는 공기의 온도조절이 용이해지도록 하려는 것이다.
이러한 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 파티클 필터 유닛이 상면에 구비된 메인 유닛으로 구성되는 챔버의 상부에 오염공기 제거수단을 일체로 설치하여 상기 메인 유닛의 하면과 상기 오염공기 제거수단의 상부를 순환 덕트로 연결하여서 됨을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치가 제공된다.
이하, 상기한 바와 같은 본 고안을 첨부도면에 도시한 일실시례에 의거하여 보다 상세하게 설명한다.
첨부도면 제2도는 본 고안에 의한 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치의 구성도로서, 이에 도시한 바와 같이, 본 고안에 의한 오염공기 제거장치는 공정 챔버(11)에 일체로 오염제거수단인 칠러와, 케미컬 필터 유닛을 설치한 것이다.
즉, 메인 유닛(12)의 상면에 파티클 필터 유닛(13)이 설치되고, 그 상부에 칠러와 케미컬 필터 유닛으로 구성되는 오염공기 제거수단(14)을 설치하여 메인 유닛(12)의 하면에 공기배출구(11b)를 형성하고, 상기 오염공기 제거수단(14)의 상면에 공기유입구(11a)를 형성하여 이들 공기배출구(11b)와 공기유입구(11a)를 순환 덕트(15)로 연결하여서 된 구성이다.
상기 오염공기 제거수단(14)은 하나의 케이싱내에 칠러와 케미컬 필터 유닛을 내장한 것으로 공기유입구(11a)를 통하여 유입된 순환 공기가 칠러와 케미컬 필터 유닛을 순차적으로 통과하도록 구성된 것이다.
이와 같이 구성된 본 고안 오염공기 제거장치는 챔버(11) 내의 메인 유닛(12)에서 다운 플로우된 공기가 챔버(11) 바닥면의 공기배출구(11b)로 배출된 후, 순환 덕트(15)를 통과하여 공기유입구(11a)를 통해 오염공기 제거수단(14)으로 들어가 칠러와 케미컬 필터 유닛을 거치면서 오염된 공기의 염기성 물질이 제거된 후 파티클 필터 유닛(13)을 통과하면서 먼지가 여과된 후에 메인 유닛(12)에서 다운 플로우되는 순혼 경로를 반복하게 된다.
이상과 같이, 본 고안에 의한 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치는 공정챔버의 공정에 사용된 공기에 혼합되어 있는 염기성 물질이 제거하는 칠러 및 케미컬 필터 유닛을 일체화함으로써 별도의 장비 설치에 따른 비용이 절감하고, 장비가 차지하는 면적이 줄어들며, 공기의 이동 중에 발생되는 온도조절의 어려움음 해소할 수 있게 되는 효과가 있는 것으로, 초자외선 포토장치(SVGL, CANON, NIKON, ASM) 일반에 적용 가능하도록 한 것이다.
Claims (1)
- 파티클 필터 유닛이 상면에 구비된 메인 유닛으로 구성되는 챔버의 상부에 오염공기 제거수단을 일체로 설치하여 상기 메인 유닛의 하면과 상기 오염공기 제거수단의 상부를 순환 덕트로 연결하여서 됨을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019950053638U KR200151377Y1 (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019950053638U KR200151377Y1 (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970046737U KR970046737U (ko) | 1997-07-31 |
| KR200151377Y1 true KR200151377Y1 (ko) | 1999-07-15 |
Family
ID=19442529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019950053638U KR200151377Y1 (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR200151377Y1 (ko) |
-
1995
- 1995-12-29 KR KR2019950053638U patent/KR200151377Y1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970046737U (ko) | 1997-07-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5890367A (en) | Air conditioning system for semiconductor clean room including a chemical filter downstream of a humidifier | |
| KR100474577B1 (ko) | 청정 공기 덕트 및 청정실용 공기 제공 장치 | |
| KR100514716B1 (ko) | 공기 청정 장치 및 방법 | |
| US20070169628A1 (en) | Gas purifier | |
| US20070119131A1 (en) | Chemical filter arrangement for asemiconductor manufacturing apparatus | |
| KR20070077978A (ko) | 외조기 및 외조기의 외부 공기 온도 및 습도 제어 방법 | |
| KR20190060496A (ko) | 흄후드 | |
| KR200151377Y1 (ko) | 반도체 제조장비의 오염공기 제거장치 | |
| EP1759755A1 (en) | Gas purifying device | |
| JP5408909B2 (ja) | クリーンルーム | |
| JP2696024B2 (ja) | ウェット処理装置及びその制御方法 | |
| KR101044315B1 (ko) | 반도체장치 제조 설비 및 운용 방법 | |
| US20080182429A1 (en) | Semiconductor manufacturing system and method of manufacturing semiconductor device | |
| KR102128792B1 (ko) | 열화학 필터를 이용한 공기청정기 | |
| KR20090011216A (ko) | 공기 필터링 장치 및 그를 구비한 반도체 제조설비의청정시스템 | |
| KR20080043145A (ko) | 기판 처리 설비 및 설비 내의 공기 정화 방법 | |
| JP2004184010A (ja) | クリーンルーム | |
| KR0155244B1 (ko) | 유해가스와 미세분진을 고효율로 제거하는 필터의 구조 | |
| JPH1176730A (ja) | 気体浄化装置 | |
| KR20240071143A (ko) | 공조 시스템 및 이를 이용한 공조 방법 | |
| DE9319696U1 (de) | Gehäuse für Luft- oder Abgasreinigungssysteme | |
| KR20140127046A (ko) | 가스 정제 장치 및 방법 | |
| JP2004108630A (ja) | クリーンルーム | |
| KR19980023725A (ko) | 반도체설비의 환경오염 방지장치 | |
| JP3202502B2 (ja) | 水処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| REGI | Registration of establishment | ||
| O032 | Opposition [utility model]: request for opposition | ||
| O131 | Decision on opposition [utility model] | ||
| O062 | Revocation of registration by opposition: final registration of opposition [utility model] | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |