KR200147994Y1 - Electrode of inline type electron gun - Google Patents
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Abstract
본 고안은 인라인형 칼라 전자총의 개선된 전극을 개시한다.The present invention discloses an improved electrode of an in-line color electron gun.
세 전자빔 통과공을 동일하게 구성하여 4극자 렌즈를 형성하면 외측의 강도가 약화되어 균일한 빔스포트의 보정이 불가능하다.If the three-electron beam passing holes are configured in the same manner to form a four-pole lens, the intensity of the outer side is weakened, so that uniform beam spot correction is impossible.
본 고안에서는 외측 전자빔 통과공의 개구부가 외측으로 갈수록 높이가 증가하도록 하여 외측의 렌즈강도를 보강함으로써 균일한 빔스포트를 얻도록 하였다.In the present invention, the height of the opening of the outer electron beam passing hole increases toward the outside, thereby reinforcing the lens strength of the outside to obtain a uniform beam spot.
Description
제1도는 인라인형 칼라전자총의 빔스포트 형상을 보이는 형광면의 평면도.1 is a plan view of a fluorescent surface showing a beam spot shape of an inline type electron gun;
제2도는 4극자 렌즈의 형성을 위한 인접전극의 작용을 설명하는 사시도.2 is a perspective view illustrating the operation of an adjacent electrode for forming a quadrupole lens.
제3도는 (a) 내지 (c)는 4극 렌즈 형성을 위한 종래의 전자빔 통과공의 구성들을 보이는 정면도.3A to 3C are front views showing configurations of a conventional electron beam through hole for forming a four-pole lens.
제4도는 세 전자빔이 4중극렌즈에 의해 변형된 상태를 보이는 단면도.4 is a cross-sectional view showing a state in which three electron beams are deformed by a quadrupole lens.
제5도 및 제6도는 본 고안에 의한 전극들의 평면도이다.5 and 6 are plan views of the electrodes according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 사용된 부호의 설명* Explanation of symbols used in the main part of the drawing
G : 전극 A1 : (중앙) 전자빔 통과공G: electrode A1: (center) electron beam through hole
A2 : (외측) 전자빔 통과공 O1, O1' : (중앙 전자빔 통과공의) 개구부(openig)A2: (outside) electron beam passing hole O1, O1 ': opening (of central electron beam passing hole)
O2, O2' : (외측 전자빔 통과공의) 개구부O2, O2 ': opening (of outer electron beam passing hole)
본 고안은 인라인(in-line)형 칼라 브라운관의 전극에 관한 것으로, 특히 4극자(quadrupole)렌즈를 형성하는 전극에 관한 것이다.The present invention relates to an electrode of an in-line type CRT, and more particularly to an electrode forming a quadrupole lens.
브라운관의 전자총을 구성하는 전극에 관한 것으로, 특히 인라인(in-line)형 칼라전자총에 사용되기에 적합한 전극에 관한 것이다.The present invention relates to an electrode constituting an electron gun of a CRT, and more particularly to an electrode suitable for use in an in-line type color electron gun.
브라운관은 전자총에서 발사된 전자빔을 편향시켜 형광면을 선택적으로 발광시키는 장치이다. 여기서 형광면은 전자빔 발사중심으로부터 완전한 구면(球面)을 이루지 못하므로 형광면 외측의 빔스포트(beam spot)는 중앙측보다 커지게 된다.The CRT is a device for selectively emitting a fluorescent surface by deflecting an electron beam emitted from an electron gun. Since the fluorescent surface does not form a perfect sphere from the electron beam emission center, the beam spot outside the fluorescent surface becomes larger than the center side.
그런데 인라인형 칼라전자총은 R,G,B 세 건(gun)이 횡으로 나란히 배열되어 있으므로 외측 건, 즉 R,B 건으로부터 형광면의 거리가 형광면 좌우측에서 크게 차이가 나게 되므로, 이를 균일한 자계로 편향시키면 외측 건의 형광면 투영상은 찌그러진 사다리꼴 되는 미스 컨버전스(mis-convergence)가 발생하게 된다.However, in the inline type color electron gun, since three guns of R, G, and B are arranged side by side, the distance of the fluorescent surface from the outer gun, that is, the R and B guns, is greatly different from the left and right sides of the fluorescent surface. When deflected, the projection of the fluorescent surface of the outer gun causes a crushed, trapezoidal mis-convergence.
이에 따라 불균일자계를 제공하는 SCY(Self Convergence Yoke)방식의 편향요크가 사용되는데, 이 SCY는 실패(pin-cushion)형의 수평자계와 술통(barrel)형의 수직자계를 제공하여 외측 건의 투영상을 사각형으로 교정해주게 된다.Accordingly, a self-convergence yoke (SCY) deflection yoke, which provides a non-uniform magnetic field, is used. This SCY provides a pin-cushion-type horizontal magnetic field and a barrel-type vertical magnetic field to project the image of the outer gun. Will be corrected to square.
그런데 실제적으로 형광면(S)상의 빔스포트(B)를 살펴보면 제1도에 도시된 바와 같이 주변부에서 좌우로 편평한 형태의 코어(core;C) 주위에 대각선 방향으로 확산되는 형태의 할로(halo;H)를 가지는 왜곡된 형태로 나타나게 된다.However, when looking at the beam spot B on the fluorescent surface S, as shown in FIG. 1, a halo (H) is formed to be diffused in a diagonal direction around a core C, which is flat from side to side, as shown in FIG. Appears in a distorted form with
여기서 편평한 코어(C)는 SCY가 중앙빔보다 외측빔을 상하방향으로 과집속(over-focusing)시키는 특성에 주로 기인하며, 할로(H)는 SCY의 불균일자계에 의해 전자빔이 왜곡되는 비점(非點)수차와, 형광면이 비구면인데 따른 구면수차, 그리고 전자렌즈의 배율이 구경에 비해 지나치게 크거나 외측 건의 전자렌즈의 세기가 단부효과(end effect)등에 의해 약화되는데 따른 구면수차등 여러가지 복합적인 원인에 의해 발생된다.Here, the flat core (C) is mainly due to the SCY over-focusing the outer beam in the vertical direction than the central beam, halo (H) is a boiling point (non-point that the electron beam is distorted by the non-uniform magnetic field of SCY) Iv) a combination of aberrations, spherical aberrations in which the fluorescent surface is aspherical, and spherical aberrations in which the magnification of the electron lens is too large for the aperture or the intensity of the external lens is weakened by end effects, etc. Is caused by.
이와 같은 빔스포트(B)의 왜곡을 보정하는 방법으로는 SCY 방식의 편향요크에 보정마그네트를 수정하는 방법, 외측 건의 전자빔통과공(孔)의 크기나 형상을 변경하는 방법, 형광면의 랜딩(landing) 위치에 따라 포커스 길이를 조절하는 다이나믹 포커싱(dynamic focusing)방법, 4극자 또는 4중극(quadrupole)렌즈등 전극간에 형성되는 정전렌즈로 전자빔에 부(負)의 비점수차를 미리 부여하여 전자빔을 종장형으로 보정하는 방법등 다양한 방법이 사용되고 있다.As a method of correcting the distortion of the beam spot B, a method of correcting the correction magnet in the deflection yoke of the SCY method, a method of changing the size and shape of the electron beam through hole of the outer gun, and landing of the fluorescent surface Dynamic focusing method that adjusts the focal length according to the position, electrostatic lens formed between electrodes such as quadrupole or quadrupole lens, and gives a negative astigmatism to the electron beam in advance to close the electron beam. Various methods are used, such as a long form correction method.
제2도에는 이러한 빔스포트 보정방법의 일례로서 4극자 렌즈 형성방법을 도시하고 있는데, 예를들어 고압측인 한 전극(G)에 종장형의 전자빔 통과공(A)을, 이에 인접한 저압측의 다른 전극(G')에 횡장형의 전자빔통과공(A')을 각각 형성함으로써 이를 통과하는 전자빔(E)의 단면을 종장형으로 형성해주는 것이다.FIG. 2 shows a method of forming a quadrupole lens as an example of the beam spot correction method. For example, the elongated electron beam through hole A is formed in one electrode G on the high-pressure side, and the low-pressure side adjacent thereto. By forming the transverse electron beam passing holes A 'on the other electrodes G', the cross section of the electron beam E passing through the electron beam E is formed in the vertical shape.
제3도에는 이러한 4극자 렌즈를 형성하는 여러 가지 전자빔 통과공의 형태가 도시되어 있는데, 먼저 (a)는 제2도에 도시된 바와 같이 종장형 및 횡장형 전자빔 통과공(A,A')의 조합이다.FIG. 3 shows various types of electron beam through holes forming such a quadrupole lens. First, (a) shows longitudinal and horizontal electron beam through holes A and A 'as shown in FIG. Is a combination.
한편, (b)는 (a)의 조립성 저하를 보상하기 위해 좌우상하에 개구부(10)를 형성한 키이홀(key hole)형의 전자빔 통과공(A)이며, (c)는 본원인의 선출원 특허 제95-30839호에 의한 상하에 슬릿(slit;S)을 형성한 전자빔통과공(A)이다.On the other hand, (b) is a key hole-type electron beam through hole (A) in which the openings 10 are formed on the left and right sides up and down to compensate for the deterioration of the assembly of (a), and (c) An electron beam through hole A in which a slit S is formed above and below according to an earlier patent application No. 95-30839.
그런데 이러한 종래의 구성들은 모두 전자빔통과공(A) 외측에 개구부를 형성하여 전계(電界)를 국부적으로 약화시킴으로써 전자빔을 제어하는 소극적인 방식들이라 할 수 있다. 이에 따라 4중극 렌즈의 세기등 그 제어효과가 낮아 충분한 정도의 보상이 불가능한 문제가 있다.However, all of these conventional configurations can be said to be passive methods of controlling the electron beam by forming an opening outside the electron beam through hole A to locally weaken the electric field. Accordingly, the control effect such as the strength of the quadrupole lens is low, there is a problem that a sufficient degree of compensation is impossible.
특히 4극자 렌즈의 세기가 외측으로 갈수록 약화되는 문제가 있는바, 제4도에는 세 건의 4극자 렌즈에서 종장화된 전자빔(E1,E2)의 형상을 도시하였다. 이를 보면 중앙의 전자빔(E1)은 균일하게 종장화 되었으나 외측의 전자빔(E2)은 상하의 모서리가 죽은 상태가 된다. 이에 따라 이러한 4극자 렌즈로 보정된 외측건의 빔스포트(B)의 외측으로 작은 혹이 달려 찌그러진 서양배 형상으로 왜곡되어 충분한 보상이 이루어지지 못하게 된다.In particular, there is a problem that the strength of the four-pole lens is weakened toward the outside, Figure 4 shows the shape of the electron beam (E1, E2) lengthened in the three quadrupole lens. In this case, the central electron beam E1 is uniformly lengthened, but the upper and lower edges of the outer electron beam E2 are dead. Accordingly, a small bump hangs on the outside of the beam spot B of the outer gun corrected by the quadrupole lens and is distorted into a crushed western ship shape, thereby preventing sufficient compensation.
이에 따라 본 고안의 목적은 외측건 모서리의 4극자 렌즈를 강화함으로써 양호한 빔스포트를 얻을 수 있는 전극을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide an electrode that can obtain a good beam spot by reinforcing a quadrupole lens at the outer tendon edge.
상술한 목적의 달성을 위해 본 고안에 의한 전극은, 세 전자짐 통과공이 횡으로 배열되고 그 상하로 개구부가 연장형성된 전극에 있어서, 외측 전자빔 통과공의 개구부가 외측으로 갈수록 점차 높이가 커지는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the electrode according to the present invention is characterized in that, in an electrode in which three electron load passing holes are arranged laterally and the openings are formed to extend up and down, the height of the opening of the outer electron beam passing hole gradually increases toward the outside. It is done.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
제5도에서, 인라인형 전극(G)의 세 전자빔 통과공(A1,A2)에는 상하로 사각형의 개구부(O1,O2)가 연장되어 키이홀 형태를 구성하고 있다.In FIG. 5, rectangular openings O1 and O2 extend vertically in the three electron beam through holes A1 and A2 of the inline electrode G to form a keyhole shape.
여기서 외측 전자빔 통과공(A2)의 개구부(O2)는 외측으로 갈수록 점차 그 높이가 커져 각각 사다리꼴의 개구부(O2)를 형성하게 된다.Here, the opening O2 of the outer electron beam passing hole A2 is gradually increased toward the outside to form a trapezoidal opening O2.
한편 제6도의 실시예에서는 개구부(O1',O2')가 삼각형으로 형성되고, 외측 전자빔 통과공(A2)의 개구부(O2')는 외단을 높이로 하는 직삼각형 형태로 구성된다.Meanwhile, in the embodiment of FIG. 6, the openings O1 ′ and O2 ′ are formed in a triangle, and the openings O2 ′ of the outer electron beam through hole A2 are formed in a right triangle shape with the outer end height.
이에 따라 외측으로 갈수록 점차 4극자 렌즈형성 효과가 커져 제4도와 같은 종래의 문제를 해결함으로써 균일한 형상의 빔스포트(B)를 얻을 수 있게 된다.Accordingly, the quadrupole lens forming effect gradually increases toward the outside, and thus the beam spot B having a uniform shape can be obtained by solving the conventional problem as shown in FIG.
그러므로 본 고안은 인라인형 칼라음극선관의 화질을 향상시키는 효과를 발휘한다.Therefore, the present invention has an effect of improving the image quality of the inline type color cathode ray tube.
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