KR20010114020A - method of partial exposure with a left-and-right vibration of a light source - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광원부 좌우진동 부분노광방법을 제공한다.The present invention provides a partial exposure method of the left and right vibration of the light source.

그 광원부 좌우진동 부분노광방법은, 새도우 마스크(11)가 설치된 패널(10)이 노광장치(20)의 노광대면판(25)상에 로딩된 후, 그 노광장치(20)의 내부 저면에 설치된 광원부(21)가 발광되는 단계; 광원부(21)의 상부에 설치되는 다수의 렌즈로 이루어진 렌즈군(22)과 필터(23)에 의해 광원부(21)로부터 입사되는 광이 보정되는 단계; 및 상기 렌즈군(22)과 필터(23)에 의해 보정된 광이 셔터(24)의 개구부(24a)와 새도우 마스크(11)의 개공부를 통과하여 상기 노광대면판(25)에 로딩된 패널(10)의 내면에 도포된 감광성 수지막을 노광시키는 단계를 포함하는 칼라 브라운관의 제조 공정 중 스크린 공정에서 사용되는 노광방법에 있어서: 상기 발광 단계에서는 감광성 수지막이 도포된 패널(10)의 내면을 노광시키기 위해 발광되는 광원부(21)가 좌우로 진동되며, 그 광원부(21)의 좌우 진동에 따라 상기 노광단계에서의 셔터(24)가 동시에 연동되어 좌우로 진동하는 것을 특징으로 한다.The partial exposure method for the left and right vibrations of the light source unit is provided on the inner bottom surface of the exposure apparatus 20 after the panel 10 on which the shadow mask 11 is installed is loaded on the exposure facing plate 25 of the exposure apparatus 20. The light source unit 21 is emitted; Correcting the light incident from the light source unit 21 by the lens group 22 and the filter 23 including a plurality of lenses disposed on the light source unit 21; And a panel in which the light corrected by the lens group 22 and the filter 23 passes through the opening 24a of the shutter 24 and the opening of the shadow mask 11 and is loaded on the exposure facing plate 25. An exposure method used in a screening step of a manufacturing process of a color CRT comprising a step of exposing a photosensitive resin film applied to an inner surface of (10), wherein the light emitting step exposes the inner surface of the panel 10 to which the photosensitive resin film is applied. The light source unit 21 to emit light is oscillated from side to side, and the shutter 24 in the exposure step is simultaneously linked to oscillate from side to side according to the left and right vibrations of the light source unit 21.

이에 따라, 튜브의 전장이 작아지는 추세에 따라 전자빔의 입사각이 기존의 입사각과 전혀 다르게 형성되는 경우에도, 패널의 코너부에 도달되는 전자빔의 궤적에 맞게 스크린을 형성시키는 효과가 있다.Accordingly, even when the incident angle of the electron beam is formed to be completely different from the existing incident angle according to the tendency of the total length of the tube, there is an effect of forming a screen according to the trajectory of the electron beam reaching the corner of the panel.

Description

광원부 좌우진동 부분노광방법{method of partial exposure with a left-and-right vibration of a light source}Method of partial exposure with a left-and-right vibration of a light source}

본 발명은 광원부 좌우진동 부분노광방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 튜브의 크기가 커지고 전장의 길이가 작아지게 됨에 따라 전자빔의 입사각이 기존의 입사각과 상이하게 되는 경우에도 패널의 코너부에 도달되는 전자빔의 궤적에 맞게 스크린을 형성시킬 수 있도록 한 광원부 좌우진동 부분노광방법에 관한 것이다.The present invention relates to a partial exposure method of the left and right vibration of the light source, and more particularly, as the size of the tube is increased and the length of the electric field is reduced, the corner of the panel is reached even when the incident angle of the electron beam is different from the existing incident angle. It relates to a partial exposure method of the left and right vibration of the light source unit to form a screen according to the trajectory of the electron beam.

종래의 노광장치는, 광원부, 렌즈, 필터, 및 셔터 등으로 구성되어 있으며, 상기 렌즈는 시그마(σ)보정 및 랜딩(Landing)을 보정하기 위한 렌즈로서 R,G,B에 따라 한 개의 렌즈를 90도씩 회전하여 부분 노광에 사용하거나 또는, R,G,B에 대하여 각각의 렌즈를 1개씩 배정하여 전면노광을 사용하여 왔다.The conventional exposure apparatus is composed of a light source unit, a lens, a filter, a shutter, and the like. The lens is a lens for correcting sigma correction and landing, and uses one lens according to R, G, and B. It has been rotated by 90 degrees for partial exposure, or has been used for front exposure by assigning each lens one for R, G, and B.

현재는 대부분 R,G,B 각각에 대하여 렌즈를 1개씩 배정하는 후자를 선택하여 사용하고 있으나, 관종이 다양해짐에 따라 렌즈를 사용하는 방식이 바뀌고 있다. 이는 ,단지 렌즈의 개수와는 상관없이 노광대의 광원부가 움직이는 형태를 많이 띠고 있으며, 이러한 이유는 노광시 나타나는 홀(hole)의 형상을 원하는 형태로 만들기 위한 방법으로 사용되고 있다.Currently, the latter is used to select one lens for each of R, G, and B, but the method of using the lens is changing as the tube types are diversified. This is because the light source unit of the exposure stage moves a lot, regardless of the number of lenses, and this reason is used as a method for making a shape of a hole appearing during exposure.

또한, 종래의 노광장치를 이용한 노광방법 중에는 광원부가 패널의 내면에 도포된 감광성 수지막을 노광하는 도중 계속적으로 상하 진동을 하는 것이 있었다. 이는 목적에 있어서 패널의 코너부분의 진원도를 향상시키기 위함이고, 방식에 있어서도 광원부만 단순히 상하 진동하는 방식으로서 셔터와는 무관한 방법이며, 전면노광시에 사용된다.In some exposure methods using a conventional exposure apparatus, the light source unit continuously vibrates up and down while exposing the photosensitive resin film coated on the inner surface of the panel. This is to improve the roundness of the corner portion of the panel for the purpose, and in the method, only the light source unit vibrates up and down, which is irrelevant to the shutter, and is used during front exposure.

그리고 이와 비슷한 경우로서 광원부를 단순히 좌우로 진동하는 경우와 회전시키는 경우도 있으며, 이들 모두는 상술한 바와 같이 단순한 진동 또는 회전방식을 의미한다.In a similar case, the light source unit may be simply vibrated from side to side, and may be rotated. Both of them mean a simple vibration or rotation method as described above.

그리고 기존에 사용하던 셔터는 단순 왕복운동을 하며 노광을 하는 경우가 있는데, 이때, 광원부는 움직이지 않고 셔터만이 왕복운동 하였으며, 그러한 셔터의 움직임 방식은 일정 개구부가 전진 또는 후진하는 방식에 한정된다.In addition, the shutters used in the past may be exposed by simply reciprocating. In this case, the light source does not move but only the shutter reciprocates. The movement of the shutter is limited to a method in which a predetermined opening moves forward or backward. .

상기와 같은 노광장치는, 튜브의 크기가 커짐에 따라 광원부와 패널간의 거리가 점차 길어지고 있으며, 그에 따라 패널에 도달되는 광 량의 세기도 줄어들게 된다. 이것은 패널의 내면에 형성시키는 블랙코팅(BC) 및 스크린코팅(SC)의 크기가 그 패널의 센터부분 및 코너부분에서 차이가 나게된다.In the exposure apparatus as described above, as the size of the tube increases, the distance between the light source unit and the panel is gradually increased, thereby reducing the intensity of the amount of light reaching the panel. This is because the size of the black coating (BC) and the screen coating (SC) formed on the inner surface of the panel is different in the center portion and the corner portion of the panel.

또한, 튜브의 형태에 있어서도 전장(DEPTH)의 길이가 작아짐에 따라 전자총에서 방사되는 전자빔의 경로가 스크린에 도포된 형광체에 정확히 매칭(Matching)되기가 어렵게 된다. 이는 전자빔의 입사각이 기존의 입사각과 상이하게 커지거나 작아지는 것으로서 광원부와 패널의 거리도 작아지거나 증가하게 된다.In addition, even in the form of a tube, as the length of the electric field (DEPTH) decreases, it becomes difficult to accurately match the path of the electron beam emitted from the electron gun to the phosphor coated on the screen. This is because the incident angle of the electron beam becomes larger or smaller than the existing incident angle, so that the distance between the light source unit and the panel is also reduced or increased.

이러한 문제를 해결하기 위해서는 노광시 노광빔이 패널의 일정부분을 지날 때마다 광원부의 위치를 변화시켜 주어야하고, 이러한 광원부의 위치를 변화시키는 것을 변수목적거리장치(Variable Object Distance System)라 하며, 상기 광원부가 상하 혹은 좌우, 앞뒤로 움직이게 됨으로서 실현될 수 있다. 이때 상기 광원부는 위상이 변하는 위치에서 자연스럽게 작동되어야 할뿐만 아니라 광원부가 움직이면서 광원부의 조사부분을 제어하는 셔터도 종속적으로 동시에 작동해야한다.In order to solve this problem, the position of the light source must be changed every time the exposure beam passes a certain portion of the panel during exposure, and the change of the position of the light source is called a variable object distance system. This can be realized by moving the light source up, down, left, and right. In this case, the light source unit should not only be operated naturally at the position where the phase changes, but also the shutter controlling the irradiated portion of the light source unit while the light source unit is moving must be operated simultaneously dependently.

상술한 종래의 칼라 음극선관의 스크린 공정에 사용되는 노광장치의 구성과 작용에 의하면, 패널의 코너부분에서의 전자빔 입사각이 수직에 비하여 매우 커지거나 작아짐에 따라 노광장치의 광원부와 패널의 거리도 작아지거나 증가하게 되고, 그에 따라 패널의 코너부에 도달되는 전자빔의 궤적에 맞게 스크린이 형성되지 못하게 되어 칼라 음극선관의 품위가 저하되는 등의 문제가 있다.According to the configuration and operation of the exposure apparatus used for the screen process of the conventional color cathode ray tube described above, the distance between the light source portion of the exposure apparatus and the panel is also small as the angle of incidence of the electron beam at the corner portion of the panel becomes very large or small compared to the vertical. There is a problem that the screen is not formed in accordance with the trajectory of the electron beam that reaches the corner portion of the panel, thereby degrading the quality of the color cathode ray tube.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위하여 발명된 것으로, 패널의 일정부분을 지날 때마다 패널의 내면을 노광시키기 위해 발광되는 광원부를 좌우로 진동시킴과 동시에 그 광원부에 맞게 셔터를 좌우로 진동시킴으로서, 패널의 코너부에 입사되는 전자빔의 궤적에 맞게 스크린이 형성될 수 있도록 하는 광원부 좌우진동 부분노광방법을 제공하는 데에 그 목적이 있다.Therefore, the present invention is invented to solve the above problems, and oscillates the light source to the left and right to expose the inner surface of the panel each time a certain portion of the panel and at the same time the shutter to the light source portion By vibrating, it is an object of the present invention to provide a partial exposure method of left and right vibration of the light source unit so that the screen can be formed in accordance with the trajectory of the electron beam incident on the corner portion of the panel.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 광원부 좌우진동 부분노광방법을 설명하기 위해 도시한 노광장치의 개략단면도,1 is a schematic cross-sectional view of an exposure apparatus shown to explain a partial exposure method of left and right vibrations of a light source unit according to an embodiment of the present invention;

도 2는 도 1의 노광장치 중 셔터의 개구부가 좌측에 위치되는 경우를 도시한 개략평면도,FIG. 2 is a schematic plan view illustrating a case in which the opening of the shutter is positioned on the left side of the exposure apparatus of FIG. 1;

도 3은 도 1의 노광장치 중 셔터의 개구부가 우측에 위치되는 경우를 도시한 개략평면도,3 is a schematic plan view illustrating a case in which the opening of the shutter is positioned on the right side of the exposure apparatus of FIG. 1;

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 광원부 좌우진동 부분노광방법의 광원부와 셔터의 움직임을 설명하기 위해 도시한 개략단면도이다.4 is a schematic cross-sectional view for explaining the movement of the light source unit and the shutter of the light source unit left and right vibration partial exposure method according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10 : 패널 11 : 새도우 마스크10 panel 11: shadow mask

20 : 노광장치 21 : 광원부20: exposure apparatus 21: light source

22 : 렌즈군 23 : 필터22: lens group 23: filter

24 : 셔터 24a : 개구부24: shutter 24a: opening

25 : 노광대면판25: exposure face plate

이러한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 광원부 좌우진동 부분노광방법은, 새도우 마스크가 설치된 패널이 노광장치의 노광대면판 상에 로딩된 후, 그 노광장치의 내부 저면에 설치된 광원부가 발광되는 단계; 상기 광원부의 상부에 설치되는 다수의 렌즈로 이루어진 렌즈군과 필터에 의해 그 광원부로부터 입사되는 광이 보정되는 단계; 및 상기 렌즈군과 필터에 의해 보정된 광이 셔터의 개구부와 새도우 마스크의 개공부를 통과하여 상기 노광대면판에 로딩된 패널의 내면에 도포된 감광성 수지막을 노광시키는 단계를 포함하는 칼라 브라운관의 제조 공정 중 스크린 공정에서 사용되는 노광방법에 있어서: 상기 발광 단계에서는 감광성 수지막이 도포된 패널의 내면을 노광시키기 위해 발광되는 광원부가 좌우로 진동되며, 그 광원부의 좌우 진동에 따라 상기 노광단계에서의 셔터가 동시에 연동되어 좌우로 진동되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the light source part left and right vibration partial exposure method according to the present invention comprises the steps of: a light source unit installed on the inner bottom surface of the exposure apparatus after the panel having the shadow mask is loaded on the exposure face plate of the exposure apparatus; Correcting the light incident from the light source unit by a lens group and a filter formed of a plurality of lenses installed above the light source unit; And exposing the photosensitive resin film applied to the inner surface of the panel loaded on the exposure facing plate through the light corrected by the lens group and the filter through the opening of the shutter and the opening of the shadow mask. In the exposure method used in the screen process during the process: In the light emitting step, the light source part to emit light is exposed to the left and right to expose the inner surface of the panel coated with the photosensitive resin film, and the shutter in the exposure step according to the left and right vibration of the light source part. Is vibrated from side to side at the same time interlocked.

또한, 전자빔의 패널 입사각이 수직선에 비해 큰 경우 상기 광원부가 좌측으로 움직일 때 셔터의 개구부가 센터부분의 우측에 위치되며, 상기 광원부가 우측으로 움직일 때 상기 셔터의 개구부가 센터부분의 좌측부분에 위치되는 것이 바람직하며, 또한, 전자빔의 패널 입사각이 수직선에 비하여 작은 경우 상기 광원부의 위치와 셔터의 개구부의 위치가 같은 방향에 위치되는 것이 바람직하다.In addition, when the incident angle of the panel of the electron beam is larger than the vertical line, the opening of the shutter is located on the right side of the center when the light source moves to the left, and the opening of the shutter is located on the left side of the center when the light source moves to the right. In addition, when the incident angle of the panel of the electron beam is smaller than the vertical line, the position of the light source and the opening of the shutter are preferably located in the same direction.

또한, 상기 패널의 내면을 노광하기 위해 발광되는 광원부가 정확히 패널의 센터부분에 위치될 때 셔터의 개구부도 상기 패널의 센터부분에 정확히 위치되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the opening of the shutter is also accurately positioned at the center portion of the panel when the light source portion that emits light to expose the inner surface of the panel is exactly positioned at the center portion of the panel.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면, 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1에는 본 발명의 실시예에 따른 광원부 좌우진동 부분노광방법을 설명하기 위한 노광장치가 개략단면도로서 도시되며, 도 2 내지 도 3에는 도 1의 노광장치 중 셔터의 개구부가 좌측 또는 우측에 위치되는 경우의 개략평면도가 도시되며, 도 4에는 본 발명의 실시예에 따른 광원부와 셔터의 움직임을 설명하기 위한 개략단면도가 도시된다.1 is a schematic cross-sectional view of an exposure apparatus for explaining a partial exposure method of left and right vibrations of a light source unit according to an exemplary embodiment of the present invention. In FIGS. 2 to 3, an opening of a shutter of the exposure apparatus of FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining the movement of the light source unit and the shutter according to the embodiment of the present invention.

본 발명 광원부 좌우진동 부분노광방법을 설명하기 위한 노광장치는, 도 1에도시된 바와 같이, 새도우 마스크(11)가 설치된 패널(10); 광원부(21), 렌즈군(22), 필터(23), 셔터(24), 및 노광대면판(25)등으로 구성되는 노광장치(20)를 포함하여 구성된다.The exposure apparatus for explaining the partial exposure method of the left and right vibration of the light source unit of the present invention, as shown in Figure 1, the panel 10, the shadow mask 11 is installed; And an exposure apparatus 20 composed of a light source unit 21, a lens group 22, a filter 23, a shutter 24, an exposure facing plate 25, and the like.

상기 광원부(21)는 노광장치(20)의 내부 저면에 설치되며, 그 노광장치(20)의 노광대면판(25)에 로딩되어 안치되는 새도우 마스크(11)가 설치된 패널(10)의 내면에 도포된 감광성 수지막을 노광시키기 위해 발광된다.The light source unit 21 is installed on the inner bottom surface of the exposure apparatus 20, and is mounted on the inner surface of the panel 10 on which the shadow mask 11 is loaded and placed on the exposure facing plate 25 of the exposure apparatus 20. The light is emitted to expose the coated photosensitive resin film.

상기 렌즈군(22) 및 필터(23)는 광원부(21)로부터 입사되는 광을 보정한다. 상기 셔터(24)는 렌즈군(22) 및 필터(23)에 의해 보정된 광을 개구부(24a)를 통해 통과시키게 되며, 그 셔터(24)의 개구부(24a)를 통과한 광은 상기 패널(10)의 내부에 설치된 새도우 마스크(11)의 개공부를 통해 그 패널(10)의 내면에 도포된 감광성 수지막을 노광하게 되며, 이후 일련의 공정을 거침에 따라 상기 패널(10)에 형광막이 형성된다.The lens group 22 and the filter 23 correct the light incident from the light source unit 21. The shutter 24 passes the light corrected by the lens group 22 and the filter 23 through the opening 24a, and the light passing through the opening 24a of the shutter 24 passes through the panel ( The photosensitive resin film applied to the inner surface of the panel 10 is exposed through the opening of the shadow mask 11 installed inside the panel 10, and then a fluorescent film is formed on the panel 10 by a series of processes. do.

상기와 같이 구성되는 노광장치에 의한 본 발명 광원부 좌우진동 부분노광방법은, 도 1 또는 도 4에 도시된 바와 같이, 발광단계, 보정단계, 및 노광단계를 포함하여 구성된다.The partial exposure method of the light source unit left and right vibration by the exposure apparatus configured as described above, as shown in Fig. 1 or 4, comprises a light emitting step, a correction step, and an exposure step.

상기 발광단계에서는, 새도우 마스크(11)가 설치된 패널(10)이 노광장치(20)의 노광대면판(25)상에 로딩되어진 후, 그 감광성 수지막이 도포된 패널(10)의 내면을 노광시키기 위해 상기 노광장치(20)의 내부 저면에 설치된 광원부(21)가 발광되면서 도 4에 도시된 바와 같이 좌우로 움직일 수 있도록 구성된다.In the light emitting step, the panel 10 provided with the shadow mask 11 is loaded on the exposure facing plate 25 of the exposure apparatus 20, and then the inner surface of the panel 10 coated with the photosensitive resin film is exposed. In order to emit light, the light source unit 21 installed on the inner bottom of the exposure apparatus 20 is configured to move left and right as shown in FIG. 4.

상기 보정단계에서는, 좌우로 움직이며 발광되는 상기 광원부(21)로부터 입사되는 광을 보정할 수 있도록 다수의 렌즈로 이루어진 렌즈군(22) 및 필터(23)가 상기 광원부(21)상에 설치 구성된다.In the correcting step, the lens group 22 and the filter 23 made up of a plurality of lenses are installed on the light source unit 21 so as to correct light incident from the light source unit 21 that moves left and right and emits light. do.

상기 노광단계에서는, 상기 렌즈군(22)과 필터(23)에 의해 보정된 광이 셔터(24)의 개구부(24a)와 새도우 마스크(11)의 개공부를 통과하여 패널(10)의 내면에 도포된 감광성 수지막을 노광하여 스크린을 형성시킬 수 있도록 상기 광원부(21)의 좌우 진동에 따라 상기 셔터(24)가 동시에 연동되어 좌우로 움직일 수 있도록 구성된다.In the exposure step, the light corrected by the lens group 22 and the filter 23 passes through the openings 24a of the shutter 24 and the openings of the shadow mask 11 to the inner surface of the panel 10. According to the left and right vibrations of the light source unit 21 so as to form a screen by exposing the coated photosensitive resin film, the shutter 24 is simultaneously configured to move side to side.

이때, 전자빔의 패널(10) 입사각이 수직선에 비하여 클 경우, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 광원부(21)가 좌측으로 움직일 때 상기 셔터(24)의 개구부(24a)는 도 3에서 도시하는 바와 같이 센터부분의 우측에 위치되고, 상기 광원부(21)가 우측으로 움직일 때는 상기 셔터(24)의 개구부(24a)가 도 2에서 도시하는 바와 같이 센터부분의 좌측에 위치될 수 있도록 상기 광원부(21)의 좌, 우측으로의 움직임에 맞게 상기 셔터(24)가 동시에 연동되어 동작된다.At this time, when the incident angle of the panel 10 of the electron beam is larger than the vertical line, as shown in FIG. 4, when the light source unit 21 moves to the left side, the opening 24a of the shutter 24 is shown in FIG. 3. As shown in FIG. 2, the light source unit may be positioned at the right side of the center portion and the light source unit 21 may move to the right so that the opening portion 24a of the shutter 24 may be positioned at the left side of the center portion as shown in FIG. 2. The shutter 24 is operated in conjunction with the left and the right of the 21 to operate simultaneously.

또한, 상기 전자빔의 패널(10) 입사각이 수직선에 비하여 작은 경우에는, 상기 전자빔의 패널(10) 입사각이 수직선에 비해 클 경우와 반대로 상기 광원부(21)의 위치와 셔터(24)의 개구부(24a)의 위치가 같은 방향에 위치될 수 있도록 동작된다. 또한, 상기 광원부(21)의 위치가 정확하게 센터부분에 도달되는 경우에는 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 셔터(24)의 개구부(24a)도 상기 패널(10)의 센터부분에 정확히 위치하게 된다.In addition, when the incident angle of the panel 10 of the electron beam is smaller than the vertical line, the position of the light source 21 and the opening 24a of the shutter 24 are opposite to the case where the incident angle of the panel 10 of the electron beam is larger than the vertical line. ) Can be positioned in the same direction. In addition, when the position of the light source unit 21 reaches the center portion accurately, as shown in FIG. 4, the opening portion 24a of the shutter 24 is also exactly positioned at the center portion of the panel 10. .

따라서 본 발명 광원부 좌우진동 부분노광방법에 의하면, 튜브의 크기가 커지고, 전장의 길이가 작아짐에 따라 패널(10)의 코너부분에서의 전자빔 입사각이 수직에 비하여 커지거나 작아지고, 그에 따른 광원부(21)와 패널(10)의 거리가 작아지거나 증가하게 되더라도 상기 패널(10)의 코너부에 도달되는 전자빔의 궤적에 맞게 스크린을 형성시킬 수 있다.Therefore, according to the partial exposure method of the left and right vibration portion of the light source portion of the present invention, as the size of the tube increases and the length of the electric field decreases, the incident angle of the electron beam at the corner portion of the panel 10 becomes larger or smaller than that of the vertical. Even if the distance between the panel 10 and the panel 10 decreases or increases, it is possible to form the screen according to the trajectory of the electron beam that reaches the corner of the panel 10.

이상에서 설명한 본 발명의 실시예에 따른 광원부 좌우진동 부분노광방법의 구성 및 작용에 의하면, 렌즈만을 사용하여 전자빔의 궤적에 따른 스크린의 위치를 보정하는 종래의 노광방법과 달리 광원부를 상하로 진동시킴과 동시에 그 광원부에 맞게 셔터를 원진동 시킴으로써, 튜브의 전장이 작아지는 추세에 따라 전자빔의 입사각이 기존의 입사각과 전혀 다르게 형성되는 경우에도, 패널의 코너부에 도달되는 전자빔의 궤적에 맞게 스크린이 형성되며, 그에 따른 칼라 음극선관의 품위가 향상되는 등의 효과가 있다.According to the configuration and operation of the partial exposure method of the left and right vibration of the light source unit according to the embodiment of the present invention described above, the light source unit vibrates up and down unlike the conventional exposure method of correcting the position of the screen according to the trajectory of the electron beam using only the lens. Simultaneously, the shutter is oscillated in accordance with the light source, so that the screen is adapted to the trajectory of the electron beam reaching the corner of the panel even when the incident angle of the electron beam is formed to be completely different from the existing incident angle according to the tendency of the tube's electric field to decrease. It is formed, and thereby the quality of the color cathode ray tube is improved.

이상에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 일실시예에 의해 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 이에 의해 제한되는 것은 아니고, 당업자의 통상적인 지식의 범위 내에서 그 변형이나 개량 내지 응용이 가능하다.Although the present invention has been described in detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited thereto, and modifications, improvements, and applications thereof are possible without departing from the ordinary knowledge of those skilled in the art.

Claims (4)

새도우 마스크(11)가 설치된 패널(10)이 노광장치(20)의 노광대면판(25)상에 로딩된 후, 그 노광장치(20)의 내부 저면에 설치된 광원부(21)가 발광되는 단계; 상기 광원부(21)의 상부에 설치되는 다수의 렌즈로 이루어진 렌즈군(22)과 필터(23)에 의해 그 광원부(21)로부터 입사되는 광이 보정되는 단계; 및 상기 렌즈군(22)과 필터(23)에 의해 보정된 광이 셔터(24)의 개구부(24a)와 새도우 마스크(11)의 개공부를 통과하여 상기 노광대면판(25)에 로딩된 패널(10)의 내면에 도포된 감광성 수지막을 노광시키는 단계를 포함하는 칼라 브라운관의 제조 공정 중 스크린 공정에서 사용되는 노광방법에 있어서:After the panel 10 provided with the shadow mask 11 is loaded on the exposure face plate 25 of the exposure apparatus 20, the light source unit 21 provided on the inner bottom of the exposure apparatus 20 emits light; Correcting the light incident from the light source unit 21 by the lens group 22 and the filter 23 including a plurality of lenses provided on the light source unit 21; And a panel in which the light corrected by the lens group 22 and the filter 23 passes through the opening 24a of the shutter 24 and the opening of the shadow mask 11 and is loaded on the exposure facing plate 25. In the exposure method used in the screening process of the manufacturing process of a color CRT tube which includes exposing the photosensitive resin film apply | coated to the inner surface of (10): 상기 발광 단계에서는 감광성 수지막이 도포된 패널(10)의 내면을 노광시키기 위해 발광되는 광원부(21)가 좌우로 진동되며, 그 광원부(21)의 좌우 진동에 따라 상기 노광단계에서의 셔터(24)가 동시에 연동되어 좌우로 진동하는 것을 특징으로 하는 광원부 좌우진동 부분노광방법.In the light emitting step, the light source unit 21 that emits light is oscillated from side to side to expose the inner surface of the panel 10 to which the photosensitive resin film is coated, and the shutter 24 in the exposing step according to the left and right vibrations of the light source unit 21. Partially exposed vibration of the light source unit, characterized in that the oscillating from side to side at the same time. 제 1 항에 있어서, 전자빔의 패널(10) 입사각이 수직선에 비해 클 경우 상기 광원부(21)가 좌측으로 움직일 때 셔터(24)의 개구부(24a)가 센터부분의 우측에 위치되며, 상기 광원부(21)가 우측으로 움직일 때 상기 셔터(24)의 개구부(24a)가 센터부분의 좌측부분에 위치되는 것을 특징으로 하는 광원부 좌우진동 부분노광방법.According to claim 1, wherein when the incident angle of the panel 10 of the electron beam is larger than the vertical line, the opening portion 24a of the shutter 24 is located on the right side of the center portion when the light source portion 21 moves to the left side. Partial exposure method of the light source unit left and right vibration, characterized in that the opening portion (24a) of the shutter (24) is located in the left part of the center portion when the 21 is moved to the right. 제 1 항에 있어서, 전자빔의 패널(10) 입사각이 수직선에 비하여 작은 경우 상기 광원부(21)의 위치와 셔터(24)의 개구부(24a)의 위치가 같은 방향에 위치되는 것을 특징으로 하는 광원부 좌우진동 부분노광방법.The left and right light source portions according to claim 1, wherein the position of the light source portion 21 and the position of the opening portion 24a of the shutter 24 are located in the same direction when the incident angle of the panel 10 of the electron beam is smaller than the vertical line. Vibration partial exposure method. 제 1 항에 있어서, 패널(10)의 내면을 노광하기 위해 발광되는 광원부(21)가 정확히 패널(10)의 센터부분에 위치될 때 셔터(24)의 개구부(24a)도 상기 패널(10)의 센터부분에 정확히 위치되는 것을 특징으로 하는 광원부 좌우진동 부분노광방법.The opening 10a of the shutter 24 is also the panel 10 when the light source 21 that emits light to expose the inner surface of the panel 10 is located exactly at the center of the panel 10. Partial exposure method of the left and right vibration of the light source portion, characterized in that positioned accurately in the center of the.
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