KR20010099589A - 특정하게 동조된 무선 주파수 전자장 발생기를 갖는 물체절단용 플라즈마 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 조화 플라즈마 구름을 갖는 재질(32)을 절개하는 장치이다. 무선 주파수 발생기 시스템(10)은 활성의 전송기 절개 전극 팁(28)에 의해 전송되는 전자기파를 생성한다. 이 전자기파는 열이온화와 같은 프로세스와, 활성의 전송기 절개 전극팁(28)의 표면에 하전된 원자 입자에 대한 애벌런치 효과를 생성하는 광전 효과에 의해 플라즈마 구름을 초기화하는 데 이용된다. 이 전자기파는, 활성 전송기 절개 전극팁(28)의 표면에 피막을 형성하는 동안, 감소된 원자 입자의 난류와 혼돈을 나타내는 조화 플라즈마 구름을 유지하고 제어하기 위해 임피던스 정합되고, 주파수 정합되며, 전력 정합되고, 그리고 플라즈마 구름에 조율된다. 자기 병목 효과, 핀 효과 및 터널링 효과를 이용하여, 절개 플라즈마 구름의 에너지를 포획, 유지, 압축, 윤곽 형성, 집중 및 증폭시킨다.
Description
금속 칼날, 사파이어 칼날 또는 다이어몬드 칼날 등의 경화된 물리적인 칼날은 물체 절단용으로 빈번하게 사용되는 장치이다. 절단되는 물체의 표면에 대한 경화된 물체의 날카롭고 예리한 단부(edge)간에 물리적으로 마찰되는 상호 동작에 의해 절단이 이루어진다. 물체가 생물 조직, 목제 제품 또는 금속 등의 단단하고 조밀할 때, 하나의 경화된 물체를 다른 경화된 물체을 통해 절단하는 완전히 물리적인 방법은 비효율적이어서 마찰 저항 등과 같은 상당히 비효율적인 요인을 갖게 된다. 상기 이유로 인해, 상이한 방법으로는 물체를 전자적으로 발생된 절단, 전자-절단 또는 전자 수술 등의 장치에 의존해 왔다. 상기 형태의 장치가 물체 절단용으로 사용되고, 비제어식 플라즈마 아크(arcs)는 물체를 실제로 연소시키거나 휘발시키는 반면에, 절단되는 물체의 전기적 오옴 저항은 유전체 히스테리시스 및 와전류 등의 현상으로 인해 가열 효과를 야기한다. 그 2개의 현상은 투열 요법으로써 공지된 효과를 생성하고, 그 요법에서 물체을 절단하는 물리적 반응이 이루어진다. 상기 방법은 제한되어 사용되는데, 왜냐하면 의도된 절단 경로의 외측에서 물체에 많은 손상을 일으켜서 불유쾌한 냄새가 나는 연기를 발생시키는 연소 및 차링(charring)으로 되게하는 것이 단점이 있기 때문이다. 종래의 전자-절단 유닛의 비효율성은 절단 팁에서 절단 효과를 발생시키는 데 필요로 되는 고전력에 나타나고, 그 고전력은 보통 50 와트 전력을 초과한다. 종래의 전자-절단 또는 전자 수술 유닛에서 필요로 되는 상대적인 고전력 출력은 비고조파 플라즈마의 한 형태인 불안정하고 비제어식 화선(火線) 아킹 및 종래의 저항성 투열 요법의 결합에서 동작하는 상기 유닛의 절단 비효율성보다 2차적이다.
레이저를 절단하는 데 사용하지만, 상기 유닛은 비싸고 물체를 절단하기위해서는 레이저 빔에 충분한 전력을 공급해야하는데 그러기 위해서는 대량의 시스템 입력 에너지를 필요로 한다. 레이저는 플라즈마를 발생시키기 위해 사용되고 미세 전자공학 분야에서 에칭 등과 같은 공정에서 사용된다.
플라즈마 아킹은 용접 아크, 스파크 플러그 아크, 라이트닝(lightening) 볼트 아크, 네온 광, 형광성 광 및 전자 수술 아크 등의 여러 영역에서 사용되고 있다. 그중에서 비제어식 아킹은 비고조파 플라즈마 흐름의 형태이고 플라즈마에서 이온화된 원자 입자의 비제어식 흐름의 교류(攪流)를 플라즈마에서 실제적인 원자 입자 혼란도로서 나타낸다. 플라즈마 아크의 원자 입자 교류(攪流)는 원자 입자 혼란의 형태를 나타내고 원자 입자 혼란의 비제어식 특성에 의해 상당한 에너지량이 의도된 절단 경로 외측에서 물체로 넘쳐 흐르게 되어 된다. 원하지 않은 아킹이 종래의 전자 절단 또는 전자 수술 유닛에서 발생할 때 이러한 실제적인 가열이 제공된다. 물체로의 의도된 절단 경로를 포위하는 물체로의 상기 에너지의 넘쳐흐름으로 인해 그 포위한 물체에 에너지 노출을 야기시키고 손상을 입히게 된다. 절단 팁 전력을 감소시키는 것이 플라즈마 아크를 구비하는 이온화된 원자 입자의 흐름 교류(攪流)를 크게 감소시키지 못하므로 플라즈마 원자 입자 혼란도를 단독으로 상당히 감소시키지 못한다. 더욱이, 본 발명은 물리 화학적 원리들의 배열을 이용하여, 종래의 부조화 플라즈마 아크 방식의 원자 입자 혼돈을 최소화하고, 본 발명의 장치에 의해 생성되는 플라즈마의 물리적 특성을 제어한다. 본 발명은 플라즈마 구름에서의 원자 입자 난류를 감소함으로써 부조화 플라즈마 아크를 최소화하고, 따라서 플라즈마 구름 원자 입자의 혼돈을 상당히 감소하고 조화 플라즈마 구름을 생성한다. 조화 플라즈마는 보다 잘 제어되고 효율적이며 안전하게 절삭한다. 그 이유는, 조화 플라즈마 구름의 원자 입자 구성 요소는 부조화 플라즈마보다, 조직 배열은 좋고 원자 입자 섭동은 적게, 보다 안정하고 보다 균형적이며 보다 잘 제어되는 상태로 존재하기 때문이다. 본 발명의 조화 플라즈마 구름은 물리학의 핀치 효과를 이용하여 더 압축되고, 제어되며, 정형화된다. 따라서, 본 발명의 압축된 플라즈마 구름은 물리학자에게 공지되어 있는 자기 병목 현상에 의해 포획되어 갇히고, 핵물리와 같은 분야에 사용된다. 종래의 전자 절삭 장치 또는 전자 수술 장치와는 달리, 본 발명의 장치는 종래의 옴 디아테르미법 보다는 조화 제어식 플라즈마 구름으로 절삭한다.
본 발명은 물체 절단을 고조파 플라즈마 구름으로써 행하기 위한 플라즈마 발생 장치, 특히 무선 주파수 신호 발생기 시스템으로부터 전송된 전자기 에너지파에 의해 초기화되고 유지되는 고조파 플라즈마 구름에 관한 것이다.
상기 시스템은 본 발명의 장치에 의해 초기화되고, 유지되고 제어되는 절단용 고조파 플라즈마 구름에 대해 임피턴스 정합, 주파수 정합 및 출력 전력 정합되고, 그 과정에서 그 동작된 송신기 절단 프로브(probe)를 코팅한다.
도 1은 절개 송신기 프로브 시스템과 절개한 물질 사이에 용량성 결합을 갖는 플라즈마 절단 장치도.
도 2는 절개 송신기 프로브 시스템과 절개한 물질 사이에 저항성 결합을 갖는 플라즈마 절단 장치도.
도면의 참조 번호
10 : 무선 주파수 신호 발생기
12 : 무선 주파수 스위치
14 : 온 오프 버튼/온 오프 스위치
16 : 버스트 모드 듀티 사이클 발생기
18 : 연속 모드 자유 실행 발생기
20 : 단일 게이트
22 : 전력 증폭기
24 : 임피던스 정합 및 출력 조절 네트워크
26 : 절개 송신기 손잡이
28 : 절개 전극 팁
30 : 용량성 결합판
32 : 절개한 물질
34 : 저항성 결합 전극
따라서, 본 발명의 몇 가지 목적과 이점은 다음과 같다.
(a) 저렴한 전자 무선 주파수 신호 발생기, 증폭기, 임피던스 정합 및 출력 컨디셔닝 네트워크를 이용하는 절개 장치와, 전자기파를 발생, 증폭, 컨디셔닝 및 전송하는 송신기 프로브 장치를 제공한다.
(b) 유지 및 제어 플라즈마를 생성하기 위해, 강성의 비중공 전도성 무선 주파수 송신기 프로브 장치를 사용한다. 그러나, 송신기 프로브 장치는 설계상 전체가 중공일 수도 있고 부분적으로 중공일 수도 있다.
(c) 평균 입력 전력이 2 와트 이하에서도, 현재 사용 중인 다른 전자 절삭 절개 방법에 비해 낮은 시스템 입력 에너지를 필요로 하는 전자의 전자기파 발생기 시스템으로부터 플라즈마 절삭날을 생성한다. 이와 마찬가지로, 이 시스템은 평균 출력 전력이 1 와트 이하에서도, 현재 사용 중인 다른 전자 절삭 절개 방법에 비해 낮은 시스템 출력 에너지를 필요로 한다.
(d) 플라즈마 토치와 같은 플라즈마 발생 장치와 플라즈마 챔버 내의 에칭 시스템에 나타나는 바와 같이, 이온화 가능한 가스를 절삭계 내로 주입할 필요가 없이도 절삭 플라즈마 구름을 생성한다.
(e) 활성된 송신기 절개 전극팁을 감싸고 코팅하는 플라즈마 구름에 본 발명의 전자기 발생기 시스템으로부터의 에너지를 임피던스 정합시키고 조절함으로써 다른 플라즈마 절삭 장치보다 상당히 감소된 원자 입자 혼돈 및 난류를 갖는 조화 플라즈마 구름을 생성한다.
(f) 활성된 송신기 절개 전극팁을 감싸고 코팅하는 플라즈마 구름의 원자 입자 진동 고조파와 세차 주파수에 본 발명의 전자기 발생기 시스템으로부터의 에너지를 주파수 정합시킴으로써 다른 플라즈마 절삭 장치보다 상당히 감소된 원자 입자 혼돈 및 난류를 갖는 조화 플라즈마 구름을 생성한다.
(g) 조화 플라즈마 구름을 초기화하고 유지하는데 필요한 전력 요구량에 본 발명의 전자기 발생기 시스템으로부터의 에너지를 전력 정합시킴으로써 다른 플라즈마 절삭 장치보다 상당히 감소된 원자 입자 혼돈 및 난류를 갖는 조화 플라즈마 구름을 생성한다.
(h) 활성된 송신기 절개 전극팁을 감싸고 코팅하는 플라즈마 구름 안으로 전자기파 발생기 에너지를 밀착 결합된 고효율의 전송을 발생하고, 따라서 활성된 송신기 절개 전극팁을 감싸는 조화 플라즈마 구름을 초기화하고 유지하는 데 필요한 무선 주파수 발생기/증폭기 출력 전력을 감소한다.
(i) 핀 효과로서 알려진 물리학의 원리를 이용하여, 활성된 송신기 절개 전극팁을 코팅하는 조화 플라즈마 구름을 밀집, 압축 및 윤곽 형성한다.
(j) 자기 병목 효과로서 알려진 물리학의 원리를 이용하여, 조화 플라즈마 구름을 포획하고 유지하며, 따라서 플라즈마 구름을 가두기 위한 고체 구속 상자가 있을 필요가 없다. 따라서, 본 발명은 활성된 송신기 절개 전극팁의 부근에 좁은플라즈마 보존실이 있을 필요가 없다.
(k) 터널링에 관한 물리 화학적 원리를 이용하여, 조화 플라즈마 구름을 감싸는 물질의 활성된 송신기 절개 전극팁을 벗김으로써 전송되는 전자기파를 반사시키고, 따라서 활성된 송신기 절개 전극을 감싸는 조화 플라즈마 구름으로 전자기파를 다시 반사시킨다. 이와 같이 하여, 본 발명은 터널링 효과를 이용하여, 의도한 절개 경로를 벗어나는 물질와 상호 반응하고 그 물질 내로 침투하지 않게 전송된 전자기 복사를 최소화하는 전자기 차폐막을 생성한다. 본 시스템은 전자계 방사 노출의 잠재적인 측면 효과를 줄이는 작용을 한다.또한, 상기 플라즈마 구름으로 역 반사된 전자계 방출은 잘 조화된 플라즈마 구름을 여기시켜 상기 전자계 발생기 시스템에 필요한 출력 에너지를 줄임으로써 유효하게 절단하기 위한 플라즈마 구름을 지속적으로 유지하는 작용을 한다.
(l) 상기 활성된 송신기 절개 전극 팁 주위에 응축된 잘 조화된 플라즈마 구름을 이용하여 얇은 절단 경로에 절단 플라즈마의 키네틱 에너지를 집중시킴으로써 적은 충격으로 물질에 뚜렷이 구별되는 절개를 만든다.
(m) 현재 이용가능한 다른 절단 형식보다 더욱 효율적이고, 유효하고, 정교하며, 세밀한 절단 장치를 제공하면서 칼날 및 금속 날 등의 순수한 물리적인 에너지 절단 기법으로 대체물을 생산한다.
(n) 레이저 등 상업적으로 이용가능한 다른 수준 높은 절단 장치보다 저렴한 절단 장치를 생산한다
본 발명의 장치는 특별히 동조된 무선 주파수 발생기 및 전력 증폭기 시스템이다. 본 발명은 송신기 절개 전극 팁을 실제로 복잡하게 설계할 필요가 없고 토카마크(tokamak) 또는 사이클론 등의 정교한 플라즈마 제어 장치도 필요없다. 본 발명의 시스템에 의해 생성된 상기 전자계파는 방출 전자계 에너지의 형태이고, 본 시스템의 활성 송신기 절개 전극 팁으로부터 전송된다. 이러한 방출 전자계 에너지는 활성 송신기 절개 전극 팁과 절개한 물질의 계면사이에서 원자 및 분자와 상호 작용을 하기 위하여 특별히 조절된다. 상기 절개 전극 팁 표면에서 원자 및 분자를 갖는 방출 전자계 에너지의 작용은 상기 활성 절개 전극 팁과 절개한 물질의 계면사이에서 원자의 원자 오비탈로부터 전자를 제거하는 광 전자 효과 및 열 이온화를 포함한다. 상기 방출 에너지는 상기 활성 송신기 절개 전극 팁의 표면을 따라 전자 및 이온을 방출하는 작용을 한다. 그러한 공정의 결과는 고에너지 이온 및 전자로 원자 변형을 한다. 상기 자유 대전 원자 입자는 상기 전극 계면에서 다른 원자의 전자와 충돌하기 전에 공간을 통하여 빠르게 이동하여 그들의 원자 오비탈로부터 부가적인 전자와 충돌한다. 이러한 공정의 반복으로 상기 활성 송신기 절개 전극 칩 표면을 따라 플라즈마 구름의 형성을 트리거하는 애벌런치 효과로 알려진 대전 원자 입력 충돌의 체인 반작용을 발생한다. 본원의 장치는 임피던스 정합, 주파수 정합, 전력 정합되고, 상기 활성 송신기 절계 전극 팁으로 동조된다. 본원의 장치는 그 발생된 전자계 파형을 조정하여 상기 플라즈마 구름에 조밀하게 결합되고 고효율 에너지를 전달하여 그 의도한 절개 경로 주위의 물질로 방출 전자계 에너지의 손실이 적게 플라즈마 구름로 최대의 에너지 전달을 제공한다. 물리적인 화학 원리는 상기 플라즈마 구름 내에 원자 입자 혼란을 줄이기 위하여 상기 플라즈마 구름의 모양 및 특성을 제어하는데 적용된다. 이 방법으로, 본 발명의 장치는 조화 제어된 플라즈마를 생성하여 종래의 전기 절단 또는 전기 수술 유닛에서 나타나는 부식성의 비조화 플라즈마 아킹과는 반대로 절개하고자 하는 의도된 경로로 에너지를 집중한다. 이 조화 플라즈마 구름은 원자 입자의 카오스 상태가 낮아 종래의 전기 절단 또는 전기 수술 시스템보다 좀더 효과적인 절개를 할 수 있도록 한다.
도 1 내지 도 2에 대한 설명
도 1 및 도 2는 본 발명의 플라즈마 절개 장치에 대한 전형적인 실시예를 도시하고 있다. 무선 주파수 신호 발생기(10)의 출력 신호는 몇 개의 수단 예컨대, 온 오프 버튼 또는 온 오프 스위치(14)에 의해 무선 주파수 스위치(12)로 온 및 오프를 스위치한다. 무선 주파수 신호 발생기의 출력 신호는 버스트 모드 사이클 발생기(16) 또는 연속 모드 자유 실행 발생기(18)로 단일 게이트(20)를 통해 종속된다. 버스트 모드 또는 연속 모드 무선 주파수 출력 신호는 이후 출력 증폭기(22)를 통해 증폭된다. 이 출력 증폭기의 출력 신호는 이후 임피던스 정합 및 출력 조절 네트워크(24)로 조정되어 작동 중의 절개 송신기 손잡이(26)로 보내진다. 작동되는 경우, 절개 송신기 손잡이(26)의 극단에서 절개 전극 팁(28)은 절개 대상(32)의 절개 경로 상에 놓이는 플라즈마 구름으로 코팅된다. 절개 대상(32)은 용량성 결합판(30) 또는 저항성 결합 전극(34)에 의해 본 발명의 플라즈마 절단 시스템으로 커플된다. 작동하는 절개 전극 팁(28)은 비록 일부가 속이 비거나 전체적으로 속이 빈 절개 전극 팁이 사용되고 있을 지라도 단단하고, 속이 비지않는 도체인 것이 바람직하다. 절개 전극 팁(28)은 설계상 직선이거나 곡선이 바람직하지만, 절개전극 팁(28)의 모양은 설계상 필수적으로 특정되지 않고 심지어는 루프 또는 다각형 모양을 가질 수 있다.
작동 - 도 1 내지 도 2
절개 대상 물질을 위해 본 발명은 절개 대상 물질를 위한 종래의 모든 장치와 상이하다. 온 오프 버튼/온 오프 스위치(14)는 무선 주파수 스위치(12)를 작동시키거나 비작동시키는데 사용된다. 그러므로, 이것은 무선 주파수 신호 발생기(10)의 출력 신호 전송을 조절한다. 무선 주파수 신호 발생기(10)의 출력 신호는 전송이 버스트 모드 듀티 사이클 발생기(16) 또는 연속 모드 자유 실행 발생기(18)에 의해 작동되거나 비작동되도록 추가로 제어된다. 출력 신호는 출력 증폭기에 의해 증폭되고 이후 임피던스 정합 및 출력 조절 네트워크(24)에 의해 조정된다. 절개 대상(32)은 용량성 결합판(30) 또는 저항성 결합 전극(34)에 의해 본 발명에 링크될 수 있다. 출력 신호는 절개 전극 팁(28)에 의해 플라즈마 절단 장치로부터 전송되어, 절개 전극 팁(28)을 코팅하기 위해 플라즈마 구름을 생성한다. 이 플라즈마 코팅은 절개 대상 물질의 원자 및 분자와 반응함으로써 절개 대상(32)의 절개 경로 상에 놓일 수 있다.
본 발명의 시스템은 대기와 정합된 임피던스를 갖는 기준 무선 주파수 전송 시스템과 유사성을 갖지만, 본 발명의 시스템은 임피던스 정합, 주파수 정합, 전력 정합 및 작동 중인 절개 전극 팁(28)을 둘러쌓는 조화 플라즈마 구름으로 조정된다. 본 발명이 다른 전자기파 전송 시스템과 유사성이 있을지라도, 본 발명은 실질적으로 많은 수의 물리 및 화학 원리를 사용하고 집적하는 방식으로 절개 대상을세정하고 효율적인 절개를 하도록 신규 장치를 만들 수 있다.
본 발명의 장치의 작동 중인 절개 전극 팁(28) 근처의 조화 플라즈마 생성은 가시적이며, 본 발명의 플라즈마 절단 시스템에 의해 개시되고 유지되어 수정되는 조직화된 플라즈마 구름을 생성한다. 또한, 이 작동 중인 절개 전극 팁(28)의 조화 플라즈마 코팅은 다른 플라즈마 절단 시스템에 비해 원자 입자의 카오스 및 플라즈마 구름에서의 요동을 실질적으로 감소시킴으로써, 본 발명의 장치는 뚜렷한 가시적 전기 특성을 생성한다.
이 플라즈마 구름의 조화 특성은 의도된 절개 경로 상에 에너지 집중을 증가시켜 의도된 절개 경로 외부의 에너지 스필오버를 감소하도록 한다. 이에 따라, 본 발명의 장치는 종래의 전기 절단 시스템보다 의도된 절개 경로 외부 대상에 충격을 감소시키며, 세정기 특히, 좀더 강력하고 효율적인 절개를 달성할 수 있다.
플라즈마는 우주에서는 가장 풍부한 형태일 지라도 지구 상에서 발견할 수 있는 제4 형태의 물질로서 가장 희박하다. 지구상에서 플라즈마의 예시에는 웰딩 아크, 스파크 플러그 아크, 네온 광 아크, 방전광 주변의 아크 및 전기 절단 또는 전기 수술에서 나타나는 비제어식 부식성 플라즈마 아크가 포함된다. 플라즈마는 또한 반도체 에칭과 같은 분야에서 사용되지만, 본 명세서에서는 레이저와 같은 고가이고 고 에너지를 소비하는 시스템에 의해 생성되거나 또는 플라즈마 에칭 챔버를 정밀하게 구성함으로써 생성된다. 본 발명에서는 종래의 전자 절단 유닛 또는 전기 수술 유닛에 의해 증명된 원자 입자 와류 및 카오스의 레벨이 본 발명의 플라즈마내의 원자 입자 와류 또는 카오스의 증가 또는 감소를 정의하기 위한 관련 기준으로서 채택되었다.
본 발명의 시스템에서는 연속 전자기장 또는 펄스형 전자기장을 생성하고 생성된 전자기장을 조절하여 절개 전극팁(28)으로부터 전달하기 위한 저가의 전자 무선 주파수 발생기/증폭기 시스템을 채택한다. 전자기장 펄스형 모드의 사이클 시간은 변화하고, 이 전자기장 펄스형 모드의 각각의 완전한 온 오프 사이클은 초당 0.000001회만큼 짧을 수 있다. 이 전자장 발생기 시스템의 특정 파라미터는 주로 절개 전극팁(28)과 절개 부위의 물질(32) 사이의 전 인터페이스에 속하는 원자 입자 구성물에 의해 결정된다. 본 발명의 시스템은 절개 영역내로 이온화 가능한 기체를 주입할 필요가 있을 때 주입된 기체를 에너지화하여 플라즈마내로 변환시키는 시스템에 대향하는 플라즈마 구름을 발생시키기 위해 절개 전극팁(28)과 절개 부위의 물질(32) 사이의 전 인터페이스에 속하는 원자를 이용한다. 그럼에도 불구하고, 본 발명의 플라즈마 절단 시스템은 절단 프로세스를 증대시키기 위해 절개 전극팁(28)의 영역내로 공급되는 보충적인 이온화 가능한 기체를 채택할 수 있다. 그러나, 본 발명에서는 송신기 절개 전극팁에 대한 상당히 복잡한 설계뿐만 아니라 토카막(tokamak) 또는 사이크로트론(cyclotron)과 같은 플라즈마 제어 장치를 정밀하게 구성할 필요가 없다.
본 발명의 시스템에 의해 생성된 전자기파는 복사 전자기 에너지 형태로, 본 발명의 시스템의 활성 절개 전극팁(28)로부터 전달된다. 복사 전자기 에너지는 활성 절개 전극팁(28)의 표면에서 원자 및 분자와 상호 작용하도록 특정하게 조절된다. 플라즈마 절개 전극팁(28)에서 원자 입자와의 상호 작용 및 역학에 의해 2차적으로 생성된 전자기 주파수는 시스템의 기능 및 효과면에서 상당한 역할을 한다. 기본적으로 발생된 전자기 파형의 조화된 주파수는 자주 시스템의 기능, 역학 및 효과면에서 상당한 역할을 한다. 원자 및 분자와 상호 작용하는 복사 전자기 에너지는 열 이온화 및 절개 부위의 물질(32) 및 절개 전극팁(28)의 인터페이스에서 원자의 원자 궤도로부터 전자를 제거하는 광전 효과를 구비한다. 이러한 프로세스는 이온 및 자유 전자내로의 원자 및 분자의 원자 변환의 결과이다. 자유 전하형 원자 입자가 전극 인터페이스의 다른 원자의 전자와 서로 충돌하기 전에 공간을 통해 이동함으로써 이들 원자 궤도 외부의 보다 많은 전자와 대면한다. 이 프로세스를 반복하면 애벌런치 효과(Avalanche effect)로서 알려진 하전된 원자 입자의 연쇄 반응(chain reaction)을 생성함으로써 활성 절개 전극팁(28)의 표면에서 플라즈마 구름의 형성에 참여한다.
본 발명의 장치는 절개 전극팁(28)을 뒤덮은 플라즈마 구름에 대해 임피던스 정합 장치, 주파수 정합 장치, 파워 정합 장치 및 파워 동조형 장치이다. 본 발명의 장치는 절개 전극팁(28)으로부터 플라즈마 구름으로 최대 에너지를 전달할 수 있고 이 플라즈마 구름은 의도된 절개 경로 주위의 물질로 최소한의 전자기 복사 에너지 손실을 갖기 위해서 플라즈마 구름에 매우 밀접하게 결합되고 고 효율적인 에너지 전달을 제공하도록 전달된 전자기 파형을 조절한다. 물리화학적인 원칙은 플라즈마 구름내의 원자 입자 카오스의 규정을 구비하는 플라즈마 구름의 형태 및 특성을 제어하기 위해 채택된다.
이러한 방법에 있어서, 본 발명의 장치는 종래의 전자 절단 유닛 또는 전자수술 유닛에서 발견되는 가성(苛性)의 부조화된 플라즈마 아크와는 반대로 의도된 절개 경로내로 에너지를 집중시키는 조화되고 제어된 플라즈마를 생성한다. 이 조화된 플라즈마 구름이 종래의 전자 절단 시스템 또는 전자 수술 시스템보다 낮은 원자 입자 카오스 및 와류를 갖음으로써, 부조화된 플라즈마 아크를 생성하는 종래의 전자 절단 시스템 또는 전자 수술 시스템에서 발견되는 것보다 보다 효율적인 절개를 실행할 수 있다.
원자 입자의 체계를 규정하기 위해 전자기장을 사용하는 전자, 물리 및 화학 분야의 문헌이 많이 나와 있다. 증가된 원자 입자 체계를 생성하기 위해 전자기장을 사용하는 실시예는 현대 기술에 의해 자주 실시되고 우리 사회를 위해 전기를 생성하는 터빈 전기 발전기를 구비하기 조차 한다. 마찬가지로, 핵자기 공명(NMR: Nuclear Magnetic Resonance) 장치는 무질서하게 지향된 원자 입자(높은 레벨의 원자 입자 카오스 또는 혼란)를 자기장의 평면에서의 지향된 원자 입자(낮은 레벨의 원자 입자 카오스 또는 혼란)로 전달하기 위해 자기장을 사용한다. 유사한 프로세스에 있어서, 본 발명의 장치는 절개 전극팁(28) 주위의 플라즈마 구름을 개시하고 유지하며 상태를 조절할 뿐만 아니라 플라즈마 구름내의 원자 입자 혼란 및 카오스를 감소시키기 위해 임피던스 정합, 주파수 정합, 파워 정합 및 파워 동조형의 전자기파를 채택한다. 이 방법에서, 본 발명에 따라 절개 전극 팁(28)을 덮고 있는 플라즈마 구름 내의 원자 입자는 종래의 전자 절개 시스템에서 알려진 것 보다 낮은 원자 입자 카오스 및 높은 등급의 구성을 가지므로, 본 발명의 장치는 균형잡힌 플라즈마 구름을 발생시킨다.
종래의 전자 절개 또는 전자 수술 장치에 나타난 원자 입자 난류 및 카오스의 레벨은 상대 표준 또는 기준선을 생성시키도록 함으로써 이로부터 플라즈마 내의 원자 입자 난류 또는 카오스의 크기가 증가 또는 감소되었는 지가 정의되어 나타낼 수 있도록 본 발명에 사용된다.
전자기파 주파수 및 전자기파 전력 또는 전계 강도의 효과는 상호 관계를 가지며, 동적으로 변한다. 핵자기 공명 진단 장치는 세차(precession) 주파수 및 복사 전자기 에너지의 주파수가 공명 중인 경우, 세차 중인 원자 입자가 복사 전자기 에너지를 흡수하는지를 알려준다. 즉, 핵자기 공명 진단 장치는 원자 입자가 복사 전자기파 주파수에 정합되는 주파수인 경우에 전자기 에너지의 효율적인 흡수가 발생하였음을 나타낸다. 본 발명의 장치는 절개 전극 팁(28)을 에워싼 플라즈마 구름을 구성하는 원자 입자 특성에 본 발명의 송신기 전자기파를 정합시키는 것과의 중요성과 유사한 관계를 나타내었다.
또한, 핵자기 공명 장치는 원자 입자 세차가 원자 입자가 존재하는 자기장의 세기와 직접적으로 관련되고 있음을 알려주고 있다. 따라서, 사용되는 자기장의 세기가 크면 클수록, 효율적인 에너지 흡수를 위해 필요한 공명을 얻기 위해 필요로 하는 전자기장 주파수는 높아지게 된다. 이와 같이, 지구 전리층의 "D" 및 "E"층에서의 전자 회전 주파수는 적도로부터 자극, 즉 북극 또는 남극으로 이동함에 따라 증가한다. 본 발명의 장치는 이와 유사한 과학적인 원리에 대한 것이며, 본 발명의 장치는 전계 강도 및 전자기 주파수의 문제점에 접근함으로써, 본 발명의 장치가 전송한 전자기파를 절개 전극 팁(28)을 덮고 있는 플라즈마 구름을 구성하는 원자 입자와 전력 정합 및 주파수 정합한다. 그럼에도 불구하고, 본 발명의 전자기장 발생기 시스템의 개별 파라미터는 절개 부위를 다른 형태의 물체 내에 위치시킴에 따라 변하고, 절개 전극 팁(28)의 계면을 따라 있는 원자 입자 조성물 및 절개 부위에 위치한 물체에 종속적이다. 전송된 전자기파와 송신기 부품을 에워싸고 있는 분자 조성 사이에는 강한 상관 관계가 존재한다. 햄(Ham) 무선 운영자는 정재파율이라는 측정 용어를 사용하여 대기 중으로 전송된 전자기파 전력의 퍼센트를 특정한다. 햄 무선 장치는 대기 중으로 전송되는 전자기 전력의 퍼센트를 최대화하기 위하여 조정된 전송 전자기 파형을 가질 수도 있다. 본 발명의 장치는 임피던스 정합에 따라 전송된 전자기 복사 및 네트워크를 조정하고 출력을 최대화하여 밀접하게 접속되도록 하며, 활성 전개 전극 팁(28)을 덮어 에워싸는 플라즈마 구름 내로 전자기 파형을 효율적으로 전송한다는 점에서 유사하다. 상기 방법에서, 본 발명의 장치는 전자가파 복사 전력을 절개 전극 팁(28)을 에워싸고 있는 플라즈마 구름 내로 효율적으로 전송할 수 있도록 한다.
아크는 균형잡히지 않은 플라즈마 흐름의 한 형태로서, 플라즈마 내의 이온화된 원자 입자의 제어되지 않은 난류 흐름을 나타내며, 플라즈마 내의 증가된 원자 입자 카오스 및 난류를 생성시킨다. 핵자기 공명 진단 장치(NMR)와 같은 다른 부분에서 설명한 바와 같이, 단순하게 절개 팁 전력을 감소시키는 것만으로 플라즈마 아크를 생성시키는 이온화된 전자 입자의 난류 흐름 또는 카오스의 흐름을 크게 감소시키는 것은 아니다.
다른 형태의 물체과 마찬가지로, 플라즈마는 광범위한 온도, 밀도, 흐름 특성, 원자 입자 구성 성분 등의 광범위의 물리적인 특징을 갖는다. 플라즈마 아크는 지상의 용접 아크, 스파크 플럭 아크, 광볼트 아크, 네온 빛 및 전자 절개 또는 전자 수술 장치와 같은 다수의 영역에서 발견될 수 있다. 종래의 전자 절개 플라즈마 아크에서의 원자 입자 난류의 실질적인 밀도는 상승된 원자 입자 카오스의 형태로 나타나며, 여기서 원자 입자 카오스의 제어 불가능한 특성은 플라즈마 구름 내의 원자 입자의 난류에 의해 발생하는 것이다. 이 형태의 플라즈마는 균형잡히지 않은 플라즈마를 나타내므로, 절단에 사용되는 경우에는 실질적인 가열 또는 절개하기로 의도한 경로의 물체 외부로의 상당한 량의 에너지 스필로버를 발생시키게 된다. 물체 내의 절개하기를 의도한 경로를 벗어난 확장된 이 에너지 스필오버는 에너지 노출, 열 노출 및 주위 물체에 손상을 입히는 결과를 낳게된다. 이 방법에서, 본 발명은 종래의 플라즈마 아크를 감소시켜 플라즈마 구름 내에서 원자 입자 난류 및 카오스를 실질적으로 감소시킴으로써, 균형잡힌 플라즈마 구름을 생성시키도록 동작한다.
전자장이 활성화된 절개 전극 팁(28)을 둘러싸는 조화 플라즈마의 얄은 코팅부을 통과할 때, 전자장의 진폭은 천천히 감소된다. 결국, 전자장은 플라즈마 구름을 완전히 통과하여 의도된 절개 경로의 외부 물질, 즉 절개 플라즈마 구름을 둘러싸는 물질에 직면하게 된다. 터널링의 물리 화학 원리에 따라, 발생된 전자파는 동조되지 않거나 임피던스 정합되지 않은 장벽에 직면함으로써, 상당한 비율의 전자파의 잔존 에너지가 조화 플라즈마 구름으로 되반사된다. 이 반사된 전자기 에너지는 플라즈마 구름에 있는 분자 입자를 더욱 활성화시킴으로써, 전자파 발생기시스템에 의해 전송되어야만 하는 출력 에너지를 감소시킨다. 이러한 과정은 또한 관통하고 반응하여 잠재 방사 노출 손해를 의도된 절개 경로의 외부 물질에 제공하는 총 전자기 방사의 비율을 최소화한다.
본 발명의 발생된 자장의 구심력은 조화 플라즈마 구름에 있는 원자 입자와 활성화된 절개 전극 팁(28) 표면 사이의 거리를 조절하는데 이용된다. 개개의 이온화된 입자들이 동시에 발진, 진동, 스핀 및/또는 전진할 수도 있지만, 이온화된 입자는 자장의 나선 경로를 따라 이동한다. 또한, 플라즈마 물리학과 같은 분야에서 여러해 동안 이용되고 있는 핀치 효과(Pinch Effect)가 본 발명의 시스템에서 이용된다. 이러한 방법으로, 고체 또는 속이 빈 송신기의 절개 전극 팁(28)과 함께 조화 플라즈마 구름을 압축, 콘튜어(contour), 형성 및 제어할 수 있었다. 또한, 고체 물질의 봉쇄 병없이 압축된 플라즈마 구름을 가두어 포함하기 위해서 핵 물리학과 같은 분야에서 이용되는 자기 병목 효과(Magnetic Bottle Effect)를 이용함으로써, 플라즈마 구름을 가두어 제어하기 위해 속이 빈, 즉 공동의 봉쇄 절개 팁 프로브를 사용하지 않아도 된다. 조화 플라즈마에 있는 원소 입자의 밀도를 증가시켜 플라즈마 구름의 전력 밀도를 상당히 증가시킴으로써, 플라즈마 구름의 절단 효율 및 전력을 개선할 수 있다.
또한, 플라즈마 구름의 압축은 플라즈마 구름의 횡단면 직경을 상당히 감소시킴으로써, 의도된 절개 경로의 폭을 감소시킬 수 있을 뿐만 아니라 의도된 절개 경로의 외부 물질에 대한 부작용 또는 잠재 역효과를 최소화할 수 있다. 전자기파 발생기 시스템이 그의 전력을 턴오프하면, 조화 플라즈마 구름의 에너지 레벨은 플라즈마 구름을 포함하는 원자 입자가 플라즈마로서 알려진 물질의 상태로 유지될 수 없는 지점으로 급격히 쇠퇴한다.
결론, 결과 및 범위
따라서, 독자는 형태, 윤곽(contour), 전력 밀도 및 물리적 특성이 제어될 수도 있는 조화 플라즈마를 발생시키기 위해 명확히 동조된 전자기파를 사용함으로써, 더 능률적이고 제어될 수 있는 덜 유해한 저비용의 물질 절개 방법을 생성할 수 있음을 알 수 있을 것이다.
종래의 전자 절단 또는 전자 수술 장치가 물질을 절단하기 위해 비능률적인 종래의 저항 투열 요법을 사용하는데 반하여, 본 발명의 무선 주파수 발생기 시스템은 절개 전극 팁을 덮는 조화 플라즈마의 얄은 구름을 생성 및 유지하기 위해서 조절 및 전송된 전력을 이용한다. 그러므로, 본 발명은 종래의 저항 전자 절단 또는 전자 수술 시스템보다 에너지가 덜 요구된다. 본 발명에 의한 물질 절단은 본 발명의 절단 전극 팁을 덮는 조화 플라즈마 구름과 절단 물질 사이의 상호 작용에 의해 이루어진다. 사실상, 물질 절단은 활성화된 절개 전극 팁을 둘러싸는 플라즈마 원자 입자의 제어된 조화 구름의 에너지에 의해 이루어진다. 또한, 본 발명의 플라즈마 절개 장치는 다음과 같은 부가적인 이점을 갖는다.
ㆍ저비용의 플라즈마 생성을 가능하게 한다;
ㆍ능률적인 플라즈마 생성을 가능하게 한다;
ㆍ제어할 수 있는 플라즈마 생성을 가능하게 한다;
ㆍ고체 물질을 절개할 수도 있는 플라즈마 생성을 가능하게 한다;
ㆍ방사 전자기 에너지를 발생된 플라즈마 구름으로 최대한 전송하기 위해서 알려진 물리적 원리를 이용한다;
ㆍ방사 전자기 에너지가 스스로 발진, 진동, 스핀 및/또는 전진할 수도 있는 원자 입자와 상호 작용하고, 자극하고, 활성화시킬 수 있도록 해주는 알려진 과학적 원리를 이용한다;
ㆍ종래의 플라즈마 절단 장치에 의해 생성되는 것보다 더 적은 원자 입자 혼돈 및 더 적은 원자 입자 교류(turbulence)를 갖는 플라즈마 생성을 제공함으로써, 조화 플라즈마의 생성을 허락한다;
·절단 경로에 포함되어 있는 얇아지는 회랑의 물질을 갖는 물질로 절단한다.
·물리 화학의 터널링 효과를 이용하여 전자기 복사로부터 의도된 경로의 절단의 외부에서 물질을 보호하는 물질로 절단함으로써 다양한 형태의 물질로 구성된 차페물을 사용할 필요성을 제거한다.
·자기 병목 효과(Magnetic Bottle Effect)를 사용하여 절단 전극 팁 주위에 생성된 플라즈마를 트랩한다.
·핀치 효과(Pinch Effect)를 사용하여 플라즈마 구름의 형태 및 밀도를 압축, 외형 및 제어함으로써, 발생된 플라즈마를 둘러싸는 대형의 격납실에 대한 필요성을 제거하게 된다.
·송신기 절단 전극 팁에 대한 사실상 복잡한 설계의 필요성을 제거한다.
·토카막(tokamak) 또는 싸이클로트론(cyclotron)과 같은 플라즈마 제어 장치 또는 플라즈마 제어실에 대한 필요성을 제거한다.
·고가이고, 청결하고, 효과적이고, 안전하며 제어 가능한 물질로 절단한다.
상기 설명은 다수의 사양을 포함하지만, 이러한 사양들은 발명의 범위를 제한하는 것이 아니라 단지 본 발명의 양호한 실시예의 설명이다. 따라서, 본 발명의 범위는 주어진 실시예 보다는 특허 청구의 범위 및 법적 동등물에 의해 결정된다.
Claims (22)
- 플라즈마를 사용하여 물체를 절단하는 장치에 있어서,무선 주파수 신호 발생기, 전력 증폭기, 임피던스 정합 및 출력 조절 네트워크를 포함하는 전자 시스템을 사용하는 단계와;무선 주파수 에너지를 생성하는 단계와;상기 무선 주파수 에너지를 조절하는 단계와;상기 무선 주파수 에너지를 송신기 절단 전극 팁에 공급하는 단계와;에너지화된 송신기 전극 팁의 표면으로부터 외부쪽으로 전자기장 파형을 발생시키는 단계와;활성 송신기 절단 전극 팁의 인터페이스를 따라 원자 입자를 활성화시키는 기구에 의해, 상기 활성 송신기 절단 전극 팁을 둘러싸는 공간에 상기 이온화 가스를 주입함으로써 상기 플라즈마 구름이 향상되더라도 상기 활성 송신기 절단 전극 팁을 둘러싸는 공간에 이온화 가스를 주입할 필요없이 상기 절단이 배치되는 물질로 상기 활성 송신기 절단 전극 팁을 코팅하는 플라즈마 구름을 생성하는 단계와;상기 활성 송신기 절단 전극 팁의 표면의 인터페이스를 따라 상기 전자기장으로부터 상기 원자 입자로의 고효율 에너지 전송과, 상기 절단이 배치되는 물질에 의해 상기 플라즈마 구름을 유지시키는 단계와;상기 활성 송신기 절단 전극 팁을 둘러싸는 플라즈마 구름을 사용하여 상기 물질을 절단하는 단계로서, 이용 가능한 플라즈마 절단 장치를 구비한 장치보다 안전하고, 보다 청정하고, 보다 능률적이며 보다 효과적인 절단을 생성하는 절단 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 절단 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 전자기장 파형을 발생시키는 단계는 무선 주파수 스펙트럼으로 공지된 전자기 스펙트럼의 파형 주파수를 생성할 수 있는 상기 무선 주파수 신호 발생기에 의해 개시되는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 전자기 파형을 변조하는 단계는 무선 주파수 스위치를 제어하는 장치에 접속된 온 오프 버튼 또는 온 오프 스위치 함께 상기 장치 유도 경로를 활성 또는 비활성시키는 단계 뿐만 아니라, 신호 게이트를 통해 버스트 모드 듀티 사이클 발생기 또는 연속 모드 자유 구동 발생기와 무선 주파수 파형의 전파를 연계시키는 단계를 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제3항에 있어서, 연속 전자기 파형 또는 펄스 전자기 파형을 생성하는 단계를 포함한 상기 전자계를 생성하는 단계를 더 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 신호 게이트를 통해 채널화된 상기 무선 주파수 파형을 증폭하는 단계는 고정 또는 가변 이득을 갖는 전력 증폭기를 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 무선 주파수 파형을 조절하는 단계는 상기 송신기 절개 전극 팁으로부터 신호 전송을 최대화하여 상기 장치로 신호 반사를 최소화하기 위해 임피던스와 같은 전송된 신호 특성을 조절 및 조정하는 상기 임피던스 정합 및 출력 조절 네트워크를 통해 상기 증폭된 전자기 파형을 채널화하는 단계를 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 절개 전극 팁으로부터 상기 전자기 파형을 신호 전송하는 단계는 상기 절개 전극 팁에 도달하기 전에 파형 가이드를 통해 상기 임피던스 정합 및 출력 조절 네트워크의 신호 출력을 절개 송신기 손잡이로 유도하는 단계를 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 능동 송신기 절개 전극 팁을 구성하는 단계는 공동 또는 반공동이 있을 수 있지만 고체 팁 설계이면 바람직한 전기 전도성 또는 반도체 재료로 된 구성을 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제8항에 있어서, 선형 및 곡선형 설계에서 상기 능동 송신기 절개 전극 팁이 비특정적일 수도 있고 루프 구성에 속할 수도 있지만, 선형 또는 실질적으로 곡선형 설계로 이루어진 상기 능동 송신기 절개 전극 팁을 구성하는 단계를 더 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 절개 전극 팁의 표면 상에 플라즈마 코팅을 생성하는 단계는 임피던스 정합, 주파수 정합, 전력 정합 및 상기 방사성 전자계를 상기 능동 송신기 절개 전극 팁상의 상기 플라즈마 코팅에 동조시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 절단 장치.
- 제10항에 있어서, 상기 고효율성을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 능동 송신기 절개 전극 팁에서부터 상기 송신기 절개 전극 팁의 상기 표면을 따라 상기 플라즈마 구름내의 상기 원자 입자로의, 상기 무선 주파수 에너지의 고밀도로 결합된 에너지 전송는 플라즈마 절개 장치의 전력 필요성을 감소시키는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제10항에 있어서, 상기 전자기 파형을 조절하는 단계를 더 포함하고, 상기 장치는 상기 플라즈마 절개 장치를 상기 절개 전극 팁의 표면을 따라 위치하는 상기 원자 입자에 실질적으로 동조시켜 조화성 플라즈마 구름을 발생시키고 유지시키도록 상기 플라즈마 장치를 원자 입자 발진, 진동, 회전, 세차 운동과 같은 절단 경로 원자 입자 특성에 동조시키기 위해 시스템 출력 전력, 상기 전자기 파형 주파수 및 상기 전자기 파형 임피던스를 정합시킴으로써 동작하도록 한 것인 플라즈마 절단 장치,
- 제10항에 있어서, 상기 송신기 절개 전극 팁의 표면을 따라 위치하는 상기 플라즈마 구름 내의 상기 원자 입자의 튜블런스 및 카오스를 감소시키는 단계를 더 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제13항에 있어서, 상기 송신기 절개 전극 팁의 표면을 코팅하는 상기 조화성 플라즈마 구름을 생성하는 단계를 더 포함하고, 상기 플라즈마 구름의 원자 입자 성분에는 상기 원자 입자 튜블런스 및 카오스가 실질적으로 감소되는 것이 나타나는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제10항에 있어서, 상기 전자기 파형이 상기 절개의 의도된 경로의 물질 외부에 도달하고, 물리 화학적 터널링 효과(Tunnelling Effect)에 따하서 상기 절개 전극 팁을 코팅하는 상기 플라즈마 구름의 범위를 초과하는 경우에, 상기 플라즈마 구름 내로 전송하거나 전송되기 위해 상기 플라즈마 절개 장치로부터 발생되며, 이어서 상기 플라즈마 구름 안으로 반사되는 상기 전자계의 잔류 에너지의 높은 비율을 갖는 상기 전자기 파형의 전체 에너지의 높은 비율을 제공하는 단계를 더 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제15항에 있어서, 상기 플라즈마 구름을 생성 및 유지하기 위해 상기 절개 전극 팁에 의해 전송되는데 필요한 전체 출력 전력을 더 감소시키며, 상기 플라즈마 구름에 전류를 더 잘 통하게 하기 위해서 상기 절개의 상기 의도된 경로의 상기물질 외부로부터 상기 전자기파의 반사된 에너지를 수용하는 단계를 더 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제15항에 있어서, 전자기 방사 노출로부터 상기 절개의 상기 경로를 둘러싸는 상기 물질을 보호하기 위해서 상기 플라즈마 절개 장치의 상기 전자계의 상기 무선 주파수 에너지로부터 상기 물질 안으로 상기 의도된 절개의 상기 경로를 둘러싸는 상기 물질을 차폐하는 단계를 더 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 플라즈마를 제어하는 단계는 상기 플라즈마 구름 내의 상기 원자 입자와 상기 능동 송신기 절개 전극 팁의 표면 사이의 거리를 제어하기 위해 상기 절개 전극 팁으로부터 전송된 상기 전자계를 사용하는 단계를 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제18항에 있어서, 상기 절개 전극 팁 주변의 상기 플라즈마 구름을 고체 봉쇄 용기를 사용하지 않고 물리학의 자기 병목 효과(Magnetic Bottle Effect)에 따르는 상기 전자계를 활용함으로써 트래핑하는 단계를 더 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제18항에 있어서, 물리학의 핀치 효과(Pinch Effect)에 따른 상기 전자계를 활용함으로써 상기 절개 전극 팁 주변의 상기 플라즈마 구름의 형태 및 밀도를 트래핑, 압축, 외형 형성 및 제어하는 단계를 더 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제20항에 있어서, 상기 플라즈마 구름의 단면 직경 및 상기 플라즈마 절개 장치의 플라즈마 구름에 의해 상기 물질 내로 절개의 상기 의도된 경로의 폭을 감소시키는 동안, 상기 절개 전극 팁을 코팅하는 상기 플라즈마 구름의 증가된 에너지 밀도를 생성하는 장치를 설계하는 단계를 더 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 절개된 전극 팁으로부터 상기 전자계를 전송하는 단계는 상기 원자 입자의 상이한 구성 형태 및 상기 플라즈마 구름을 잠재적으로 구성할 수 있는 상기 원자 입자의 상이한 구성 비율에 기초한 상기 가변 원자 입자의 물리적 매개 변수 및 특성을 수용하는 것을 필요로 하는 상기 가변 시스템 요구 조건 뿐만 아니라 상기 원자 입자 진동, 상기 원자 입자 스핀, 상기 원자 입자 발진 등의 플라즈마 구름을 포함하는 상기 원자 입자 특성 내의 변화에 기초한 시스템 요구 조건에 따른 시스템 출력 전력, 상기 임피던스 및 상기 파형 주파수 등의 상기 전자기 파형 특성을 선택적으로 가변하는 단계를 포함하는 것인 플라즈마 절단 장치.
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