KR20010088314A - Container for framed pellicle - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 프레임형 펠리클 콘테이너에 관한 것으로, 특히 포토리소그래픽 패터닝 작업에서 포토마스크의 방진보호를 위해 사용된 프레임형 펠리클을 수용하는 콘테이너에 관한 것이다. 특히 본 발명의 개량은 LSIs 및 VLSIs와 같은 반도체 장치와, 액정 디스플레이 패널을 포함한 미세하고 정밀한 전자장치의 제조의 패터닝작업에서 포토마스크의 방진보호물로 사용된 프레임형 펠리클을 수용하는 펠리클 콘테이너의 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a frame type pellicle container, and more particularly, to a container for receiving a frame type pellicle used for dust protection of a photomask in a photolithographic patterning operation. In particular, an improvement of the present invention is the structure of a pellicle container containing a semiconductor device such as LSIs and VLSIs and a frame type pellicle used as a dustproof protective material of a photomask in the patterning operation of manufacturing fine and precise electronic devices including liquid crystal display panels. It is about.
포토리소그래픽 패터닝은 LSIs와 VLSIs 같은 반도체 장치와 액정 디스플레이 패널을 포함한 미세하고 정밀한 전자장치의 제조공정에서 종래 확립된 기술이다. 포토리소그래픽 패터닝 작업에서, 장치의 기판 표면은 포토마스크라 불리는 패턴베어링 투명체 (pattern-bearing transparency) 를 통해 자외선과 같은 화학선 (actinic rays) 에 노출되어 패턴화된다. 패턴닝의 질은 노출광의 흡수, 분산, 회절로 인한 포토마스크 표면의 먼지입자에 의해 크게 불리한 영향을 받기때문에, 포토마스크의 표면 위에 증착된 먼지입자가 절대적으로 없어야 한다는 것이 매우 중요하다. 이러한 점에 있어서, 포토리소그래픽 패터닝 작업은, 비록 최고수준의 무균실에서에서도 완전히 먼지입자를 제거하는 것이 불가능하기는 하나, 무균실의 청정공기에서 수행된다. 따라서 통상의 과정은 방진보호용 프레임형 펠리클이 포토마스크 상에 탑재되고, 패터닝 광노출이 프레임형 펠리클의 투명한 펠리클 멤브레인을 통해 수행된다.Photolithographic patterning is a technique conventionally established in the manufacturing process of fine and precise electronic devices including liquid crystal display panels and semiconductor devices such as LSIs and VLSIs. In photolithographic patterning operations, the substrate surface of the device is patterned by exposure to actinic rays such as ultraviolet light through a pattern-bearing transparency called a photomask. Since the quality of patterning is greatly adversely affected by dust particles on the photomask surface due to absorption, dispersion and diffraction of the exposure light, it is very important that there be absolutely no dust particles deposited on the surface of the photomask. In this regard, photolithographic patterning operations are performed in clean room clean air, although it is impossible to completely remove dust particles even in the highest level clean room. Therefore, a conventional process is carried out by mounting a frame-type pellicle for dust protection on a photomask, and patterning light exposure is performed through the transparent pellicle membrane of the frame-type pellicle.
패터닝 광노출이 포토마스크상에 탑재된 프레임형 펠리클의 펠리클 멤브레인을 통해 수행될때, 노출광은 먼지입자가 아니라 펠리클 멤브레인의 적어도 수 밀리미터 아래의 포토마스크에 초점이 맞춰지기 때문에, 펠리클 멤브레인의 표면에 증착된 먼지입자는 패터닝의 질에 특별한 악영향을 주지 않는다.When patterning light exposure is carried out through a pellicle membrane of a frame type pellicle mounted on a photomask, the exposure light is focused on the photomask at least a few millimeters below the pellicle membrane, not on the dust particles. The deposited dust particles do not have a particularly adverse effect on the quality of the patterning.
첨부도면의 도 1은 펠리클 프레임으로 언급되는, 강체물질로 된 직사각형 또는 원형의 프레임 (3) 과 펠리클 프레임 (3) 의 한쪽 단부면 (end surface) 에 도포되는 플라스틱수지의 얇고 매우 투명한, 펠리클 멤브레인으로 언급되는 필름 (1) 으로 기본적으로 구성되어 있으며, 그들 사이에 접착층 (2) 를 개재하여 느슨함이 없는 형태로 접착되어 있는 집적장치 (integral device) 인 전형적인 프레임형 펠리클 (6) 의 수직단면도를 나타낸다. 펠리클 프레임 (3) 의 다른 단부면은 안정적으로 포토마스크 상에 프레임형 펠리클 (6) 을 수월하게 탑재하기 위하여, 감압접착층 (4) 을 형성하는 감압접착제 (pressure-sensitive adhesive) 로 보통 코팅된다. 감압접착층 (4) 의 표면은 분리가능한 필름 또는 시트 (5) 를 부착하여, 사용하기까지 임시적으로 보호된다.Fig. 1 of the accompanying drawings shows a thin, very transparent, pellicle membrane of plastic resin applied to a rigid or rectangular frame 3 and a pellicle frame 3, referred to as a pellicle frame. A vertical cross-sectional view of a typical frame-type pellicle 6, which is basically an integrated device, which consists essentially of a film 1 referred to as, and is glued together in a form without looseness between the adhesive layers 2 between them. Indicates. The other end face of the pellicle frame 3 is usually coated with a pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer 4 in order to stably mount the frame-type pellicle 6 on the photomask. The surface of the pressure-sensitive adhesive layer 4 adheres to a detachable film or sheet 5 and is temporarily protected until use.
펠리클 멤브레인 (1) 을 형성하는 플라스틱 수지는 얇은 필름을 형성할 때에도 양호한 기계적인 강도와 노출광에 대한 높은 투명도를 고려하여, 니트로셀룰로즈 (nitrocelluloses), 셀룰로즈 아세테이트 (cellulose acetates) 및 플로로화탄소 중합체 (fluorocarbon polymers) 에서 일반적으로 선택된다. 유리판 역시 플라스틱 수지의 펠리클 멤브레인 (1) 대신에 제안된다. 펠리클 프레임 (3) 을 형성하는 강체물질은 보통 알루미늄, 스테인레스 스틸, 폴리에틸렌 등에서 선택된다. 펠리클 멤브레인 (1) 은 미국특허번호 4,861,402호, 일본특허공고번호 58-219023호, 일본특허공개번호 7-168345호 등의 발표에 따라 아크릴 수지계 접착제 (acrylic resin-based adhesive) , 에폭시 수지계 접착제 (epoxy resin-based adhesive) , 또는 플로로오르카본 수지계 접착제 (fluorocarbon resin-based adhesive) 일 수 있는 접착제 (2) 를 사용하여 펠리클 프레임의 한 단부면 (end surface) 에 접착된다. 또 다른 방법으로, 일본특허공개번호 58-219023호는 펠리클 멤브레인 (1) 의 플라스틱 수지에 대해 양호한 용해력을 갖는 유기용매를 펠리클 프레임 (3) 의 단부면에 도포하고 부분적으로 건조시켜서, 펠리클 멤브레인 (1) 을 용매로 적당히 젖은 상태의 펠리클 프레임의 단부면과 접착하게 하는 접착방법 (bonding method) 을 제안한다.The plastic resin forming the pellicle membrane 1 has good mechanical strength and high transparency to exposure light even when forming a thin film, so that nitrocelluloses, cellulose acetates and fluorocarbon polymers ( fluorocarbon polymers). Glass plates are also proposed instead of the pellicle membrane 1 of plastic resin. The rigid material forming the pellicle frame 3 is usually selected from aluminum, stainless steel, polyethylene and the like. The pellicle membrane 1 is an acrylic resin-based adhesive or an epoxy resin-based adhesive according to US Patent No. 4,861,402, Japanese Patent Publication No. 58-219023, Japanese Patent Publication No. 7-168345, and the like. It is adhered to one end surface of the pellicle frame using an adhesive 2, which may be a resin-based adhesive, or a fluorocarbon resin-based adhesive. In another method, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-219023 applies an organic solvent having a good dissolving power to the plastic resin of the pellicle membrane 1 to the end face of the pellicle frame 3 and partially dryes it. A bonding method is proposed to bond 1) to the end face of the pellicle frame in a moderately wet state with a solvent.
펠리클 프레임 (3) 의 다른 단부면, 즉 펠리클 멤브레인 (1) 의 반대편의 단부면은 보통 폴리부틴 수지, 폴리비닐 아세테이트 수지, 아크릭 수지, 또는 실리콘 수지계의 적절한 감압접착제로 코팅함으로써 감압 접착층 (pressure-sensitive adhesive layer) (4) 이 제공된다. 감압 접착층 (4) 의 표면은 분리가능한 시트 또는 분리기 (5) 를 부착하여, 프레임형 펠리클 (6) 을 사용하기까지 임시적으로 보호되는데, 분리가능한 시트 또는 분리기 (5) 는 분리가능한 시트 (5) 가 없는 프레임형 펠리클 (6) 이 포토마스크에 부드럽게 압착하여 포토마스크 상에 탑재되기 바로 전에 박리함으로써 제거된다. 상기한 분리가능한 시트 (5) 가 있는 프레임형 펠리클 (6) 은, 기계적인 손상이나 오염에 대해 사용될 때까지 보호하기 위하여, 일반적으로 플라스틱 수지로 된 프레임형 펠리클 (6) 을 위한 강체 콘테이너에 저장된 채로 수송되고 저장된다.The other end face of the pellicle frame 3, ie the end face opposite the pellicle membrane 1, is usually coated with a suitable pressure-sensitive adhesive of polybutene resin, polyvinyl acetate resin, acryl resin, or silicone resin. sensitive adhesive layer) 4 is provided. The surface of the pressure-sensitive adhesive layer 4 attaches a detachable sheet or separator 5, so that it is temporarily protected until the framed pellicle 6 is used, the detachable sheet or separator 5 being detachable sheet 5. Frameless pellicle 6 is removed by gently squeezing onto the photomask and peeling just before it is mounted on the photomask. The framed pellicle 6 with the separable sheet 5 described above is generally stored in a rigid container for the framed pellicle 6 made of plastic resin, in order to protect it until used against mechanical damage or contamination. Transported and stored.
펠리클 멤브레인 (1) 을 통한 패턴화 노출광에 대해서는, 근래 포토리소그래픽 패턴의 더욱 더 정밀한 해상도 (resolution) 의 요구에 따라, 높은 패턴 해상도를 얻기 위해 노출광이 더욱 더 짧은 파장으로 점진적으로 이동하고 있다. 예를 들어, 노출광의 주요 흐름에 있던 436 nm, 365 nm 파장의 g-선 광과 l-선광은 KrF 엑시머 레이저의 248 nm 파장의 원자외선 (deep UV light) 으로 대체되고 있으며, 다음으로 ArF 엑시머 레이저의 193 nm 파장의 진공자외선 (vacuum UV light) 으로 대체되고 있는 상황이다. 플루오린 엑시머 레이저 빔과 같은 158 nm의 더 짧은 파장의 자외선이 실제 포토리소그래픽 패터닝의 노출광에 사용될 것이 이미 예측되고 있다.For patterned exposed light through the pellicle membrane 1, in accordance with the demand for more precise resolution of photolithographic patterns in recent years, the exposed light gradually moves to shorter wavelengths in order to obtain a high pattern resolution. have. For example, the 436 nm and 365 nm wavelength g-ray and l-ray light, which were in the main stream of exposure light, were replaced by deep UV light of 248 nm wavelength with KrF excimer laser, followed by ArF excimer. The situation is being replaced by vacuum UV light of 193 nm wavelength of the laser. It is already predicted that shorter wavelengths of 158 nm, such as fluorine excimer laser beams, will be used for the exposure light of actual photolithographic patterning.
상기한 초단파광을 패터닝 노출광으로 사용하여 포토리소그래피에서 패터닝 노출을 수행하기 위해서는 해결되어야 할 매우 중대한 문제가 예기치않게 나타난다. 즉, 필연적으로, 플라스틱 수지로 만들어진 펠리클 멤브레인 (1) 은 기체 하이드로카본 화합물과 대기의 수분을 다소 흡수하고, 이러한 흡착물은 노출광에대한 펠리클 멤브레인 (1) 의 투과율을 감소시키는 영향을 준다. 게다가 이러한 흡착된 가스는 레이저 광선에 의해 활성화되어, 펠리클 멤브레인의 플라스틱 수지의 성능저하 반응(degradation reaction)에 초기위치를 형성하고, 프레임형 펠리클 (6) 의 내구성의 감소를 초래한다.In order to perform patterned exposure in photolithography using the ultra-short light as the patterned exposure light, a very serious problem to be solved unexpectedly appears. That is, inevitably, the pellicle membrane 1 made of plastic resin absorbs the gaseous hydrocarbon compound and the moisture of the atmosphere somewhat, and this adsorbate has the effect of reducing the transmittance of the pellicle membrane 1 to the exposure light. In addition, this adsorbed gas is activated by a laser beam, which forms an initial position in the degradation reaction of the plastic resin of the pellicle membrane, resulting in a decrease in the durability of the frame-type pellicle 6.
생산라인에서 제조된 프레임형 펠리클은 각각 플라스틱으로 제조된 콘테이너에 수용되어, 생산물이 실제 서비스를 위해 사용자에게 수송되기까지의 상당한 시간동안 저장되는 것이 일반적이므로, 상기한 오염된 가스와 접촉할 높은 가능성의 기회가 콘테이너에 프레임형 펠리클의 저장동안 주어진다. 즉 콘테이너를 구성하는 플라스틱 수지는 항상, 비록 미량이기는 하나, 중합되지 않은 단위체 화합물과 중합매체로서의 유기용매와 같은 다양한 유기화합물을 포함하고 있고, 이러한 유기적인 불순물은 콘테이너 벽으로부터 방출되어 콘테이너에 수용된 프레임형 펠리클 (6) 의 펠리클 멤브레인 (1) 에 흡수되고, 상기한 바와 같이 역으로 작용한다.Framed pellicles produced in the production line are each housed in plastic-made containers, which are typically stored for a considerable amount of time before the product is transported to the user for practical service, thus increasing the likelihood of contact with the contaminated gas described above. An opportunity is given during the storage of framed pellicles in the container. That is, the plastic resin constituting the container always contains various organic compounds such as unpolymerized monomer compounds and organic solvents as a polymerization medium, although in trace amounts, and these organic impurities are released from the container wall and accommodated in the container. It is absorbed by the pellicle membrane 1 of the mold pellicle 6 and acts in reverse as described above.
따라서, 본 발명의 목적은 상기한 문제점을 해결하기 위해, 광 투과율을 감소시키고 펠리클 멤브레인의 성능저하를 가속시키는 악 영향을 나타내며, 수송 및/또는 저장을 위해 콘테이너에 수용된 프레임형 펠리클의 펠리클 멤브레인에 흡착될 수 있는 어떠한 유기물질의 방출도 없는 프레임형 펠리클 콘테이너를 제공하는 것이다.Accordingly, the object of the present invention is to solve the above problems, exhibiting the adverse effect of reducing the light transmittance and accelerating the deterioration of the pellicle membrane, the pellicle membrane of the frame type pellicle contained in the container for transportation and / or storage It is to provide a frame type pellicle container without the release of any organic matter that can be adsorbed.
도 1은 프레임형 펠리클의 도식적인 수직단면도이다.1 is a schematic vertical cross-sectional view of a framed pellicle.
도 2는 그 안에 프레임형 펠리클을 수용하고 있는, 전체적으로 무기물질로 된, 본 발명인 콘테이너의 도식적인 수직단면도이다.2 is a schematic vertical cross-sectional view of a container of the present invention, made entirely of inorganic material, containing a frame pellicle therein;
도 3은 그 안에 프레임형 펠리클을 수용하고 있는, 내부와 외부 표면층이 모두 무기물질로 된, 본 발명인 콘테이너의 도식적인 수직단면도이다.3 is a schematic vertical cross-sectional view of a container of the present invention in which both the inner and outer surface layers are made of inorganic material, containing a frame pellicle therein;
도 4는 그 안에 프레임형 펠리클을 수용하고 있는, 내부 표면층만 무기물질로 된, 본 발명인 콘테이너의 도식적인 수직단면도이다.4 is a schematic vertical cross-sectional view of a container of the present invention wherein only the inner surface layer is made of an inorganic material, containing a frame pellicle therein;
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
1: 펠리클 멤브레인1: pellicle membrane
2: 멤브레인 접착제2: membrane adhesive
3: 펠리클 프레임3: pellicle frame
4: 감압 접착층4: pressure-sensitive adhesive layer
5: 분리가능한 시트 또는 분리기5: detachable sheet or separator
6: 프레임형 펠리클6: frame type pellicle
7: 펠리클 콘테이너7: pellicle container
7A: 콘테이너 베이스7A: container base
7B: 커버링7B: Covering
7C: 내부공간7C: Internal Space
8: 펠리클 콘테이너 바디8: pellicle container body
9: 외측표면막9: outer surface film
10: 내측표면막10: inner surface film
즉, 본 발명은 콘테이너 베이스와 함께 프레임형 펠리클의 수용을 위한 내부 공간을 형성하는 콘테이너 베이스 상에 탑재될 수 있는 커버링의 어셈블리인, 프레임형 펠리클 콘테이너의 개량을 제공하며, 그 개량은 금속, 합금, 유리물질 및 세라믹 물질로 구성된 그룹에서 선택된 무기물질로, 적어도 내부공간을 대면하는 콘테이너 베이스와 커버링의 표면층을 형성하는 것으로 이루어진다.That is, the present invention provides an improvement of a frame-type pellicle container, which is an assembly of a covering that can be mounted on a container base that together with the container base forms an interior space for receiving the frame-type pellicle, the improvement being a metal, alloy. And an inorganic material selected from the group consisting of glass and ceramic materials, forming at least a container base facing the inner space and a surface layer of the covering.
본 발명의 최소한의 필요조건이 무기물질로 콘테이너의 내부 표면층을 형성하는 것인 반면, 콘테이너의 베이스와 커버링의 전체 바디를 모두 무기물질로 형성하거나 콘테이너의 내부와 외부의 표면층 모두를 무기물질로 형성하는 것은 선택적이다.While the minimum requirement of the present invention is to form the inner surface layer of the container with the inorganic material, the base body of the container and the entire body of the covering are both formed of the inorganic material, or both the inner and outer surface layers of the container are formed of the inorganic material. Is optional.
도 2에서 도시된 바와 같이, 본 발명인 콘테이너 (7) 는 콘테이너 베이스 (7A) 와 콘테이너 베이스상에 탑재될 수 있는 커버링 (7B) 으로 구성된 어셈블리이다. 커버링(7B)이 콘테이너 베이스 (7A) 상에 탑재된 때, 내부공간 (7C) 는 프레임형 펠리클 (6) 을 수용하도록 형성된다.As shown in Fig. 2, the container 7 of the present invention is an assembly composed of a container base 7A and a covering 7B that can be mounted on the container base. When the covering 7B is mounted on the container base 7A, the inner space 7C is formed to receive the frame pellicle 6.
본 발명인 프레임형 펠리클 콘테이너 (7) 의 가장 두드러진 특징은 최소한 콘테이너 (7) 의 표면층, 즉 내부 공간 (7C) 를 대면하는 콘테이너 베이스 (7A) 와 커버링 (7B) 의 표면층이 금속, 합금, 유리물질, 또는 세라믹 물질등의 무기물질로 형성된다는 것이다. 목적에 적합한 금속과 합금의 예로는 알루미늄, 구리, 철 및 스테인레스 스틸이 포함된다. 이러한 금속성 재질 층의 표면은 안정성과 내부식성 (corrosion resistance) 을 향상시키기 위해 다양한 표면처리를 가할 수 있다. 예를 들면, 선택적으로 알루미늄 층의 표면을 양극처리 (anodizationtreatment) 하여, 그 위에 산화된 얇은 필름을 형성할 수 있다. 유리물질 (glass material) 은 용해된 실리카 유리 (fused silica glass) 를 포함하며 특별히 한정되지는 않는다. 질화규소 (silicon nitride), 탄화규소 (silicon carbide), 지르코니아 (zirconia), 알루미나 (alumina) 및 질화붕소 (boron nitride) 등이 여기 사용된 세라믹 물질의 예이다.The most prominent feature of the present invention is that the frame pellicle container 7 has at least the surface layer of the container 7, that is, the surface layer of the container base 7A and the covering 7B facing the inner space 7C. Or inorganic material such as ceramic material. Examples of suitable metals and alloys for the purpose include aluminum, copper, iron and stainless steel. The surface of this metallic layer can be subjected to a variety of surface treatments to improve stability and corrosion resistance. For example, the surface of the aluminum layer may optionally be anodized to form an oxidized thin film thereon. Glass materials include fused silica glass and are not particularly limited. Silicon nitride, silicon carbide, zirconia, alumina and boron nitride are examples of ceramic materials used herein.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기한 무기물질로 콘테이너 (7)의 전체 바디를 형성하는 대신, 내부공간에 프레임형 펠리클 (6) 을 수용하는 수직단면도 도 3에 도시된 바와 같이 선택적으로 콘테이너 벽이 통상의 플라스틱 수지로 제조된 코어 8A 혹은 8B와, 코어 8A ,8B의 각각의 외부와 내부 표면위의 무기물질의 클레딩 층 (9,10) 으로 구성된 합성층 구조 (composite layered structure) 를 가지게 할 수 있다. 물론, 콘테이너 베이스와 커버링의 외부 표면 위의 무기물질의 클레딩 층 (9) 은 필수적인 것은 아니며, 프레임형 펠리클 (6) 을 수용하는 수직단면도 도 4에 도시된 바와 같이 생략될 수 있다. 즉, 무기물질의 클레딩 층 (10) 은, 프레임형 펠리클 (6) 을 수용하기 위한 내부공간 (7C) 을 대면하는 플라스틱 수지의 콘테이너 베이스 (8A) 와 커버링 (8B) 의 표면 상에만 형성된다.As shown in FIG. 2, instead of forming the entire body of the container 7 with the above-mentioned inorganic material, a vertical sectional view of receiving the frame-type pellicle 6 in the inner space, optionally as shown in FIG. 3. Have a composite layered structure composed of cores 8A or 8B made of this conventional plastic resin, and cladding layers 9,10 of inorganic material on the respective outer and inner surfaces of the cores 8A, 8B. can do. Of course, the cladding layer 9 of inorganic material on the container base and the outer surface of the covering is not essential, and the vertical cross section containing the frame pellicle 6 can also be omitted as shown in FIG. That is, the cladding layer 10 of the inorganic material is formed only on the surface of the container base 8A and the covering 8B of plastic resin facing the inner space 7C for accommodating the frame type pellicle 6. .
콘테이너의 코어 (8A,8B) 의 내부 표면위의 무기물질의 클레딩 층 (10) 은 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상의 두께를 가져야 한다. 두께가 너무 얇으면, 무기물질의 클레딩 층은 결국 크랙 (crack) 이나 피셔 (fissure) 를 형성하기 쉬워, 플라스틱 수지의 코어 (8A, 8B) 에서 유기물에 오염된 가스의 방출이 완전히 차단될 수 없다. 코어 (8A, 8B) 의 표면상의 무기물질의 클레딩 층 (10) 의 형성방법은 무기물질의 종류와 클레딩 층 (10) 의 소정의 두께에 의존하여 특별히 제한되지는 않는다. 예를 들면, 무기물질의 클레딩 층 (10) 은 진공기상증착법 (vacuum vapor deposition method) 에 의해 또는, 선택적으로, 접착제를 사용하여 무기물질의 얇은 시트를 접착함으로써 형성될 수 있다.The cladding layer 10 of inorganic material on the inner surface of the cores 8A, 8B of the container should preferably have a thickness of at least 0.1 μm. If the thickness is too thin, the cladding layer of inorganic material is likely to form cracks or fissures in the end, so that the release of gas contaminated with organic matter from the cores 8A and 8B of the plastic resin can be completely blocked. none. The method of forming the cladding layer 10 of the inorganic material on the surfaces of the cores 8A and 8B is not particularly limited depending on the kind of the inorganic material and the predetermined thickness of the cladding layer 10. For example, the cladding layer 10 of inorganic material may be formed by a vacuum vapor deposition method or, optionally, by adhering a thin sheet of inorganic material using an adhesive.
다음은 콘테이너에 수용된 프레임형 펠리클의 제조과정을 첨부도면을 참고하여 실시예와 비교예에 의하여 좀 더 자세하게 설명하는, 본 발명의 설명이다.The following is a description of the present invention, which will be described in more detail by Examples and Comparative Examples with reference to the accompanying drawings, the manufacturing process of the frame-type pellicle accommodated in the container.
상기한 바와 같이, 펠리클 프레임의 한 쪽 단부면이 0.5 mm 두께의 실리콘 수지계의 감압접착제로 코팅되고 감압접착층이 분리가능한 필름을 부착하여 보호되는 반면, 프레임형 펠리클 (6A) 은 실리콘 수지계의 접착제로 코팅된 알루미늄으로 된 펠리클 프레임의 다른 한 쪽 단부면 위에 펠리클 멤브레인으로 기능하는 1 mm 두께의 유리시트를 접착함으로써 제조되었다.As described above, one end surface of the pellicle frame is coated with a 0.5 mm thick silicone resin-based pressure-sensitive adhesive and the pressure-sensitive adhesive layer is protected by attaching a detachable film, while the frame-type pellicle 6A is made of silicone resin-based adhesive. It was made by adhering a 1 mm thick sheet of glass that served as a pellicle membrane on the other end face of the pellicle frame of coated aluminum.
다른 프레임형 펠리클 (6B) 은 1 mm 두께의 유리시트를, 스프레드되어 강하게 펠리클 프레임의 접착제로 코팅된 단부면에 결합된 플로오르카본 수지의 0.5 ㎛ 두께의 필름으로 대체하는 것을 제외하면 거의 위와 같은 방법으로 제조되었다.The other framed pellicle 6B is almost the same, except that a 1 mm thick glass sheet is replaced with a 0.5 μm thick film of fluorocarbon resin that is spread and strongly bonded to the end face coated with the adhesive of the pellicle frame. Prepared by the method.
프레임형 펠리클 (6A,6B) 의 펠리클 멤브레인은 158 nm의 파장의 플로오린 엑시머 레이저 빔에 대해 각각 80% 와 90%의 투과율을 갖는다. 아래의 실시예와 비교예에서, 이러한 프레임형 펠리클은 여러 다양한 펠리클 콘테이너에서 일정 시간 유지되고, 측정은 저장후 플로오린 엑시머 레이저 빔에 대한 펠리클 멤브레인의 투과에 대해 이루어진다.The pellicle membranes of the framed pellicles 6A, 6B have transmittances of 80% and 90%, respectively, for the fluorine excimer laser beam at a wavelength of 158 nm. In the examples and comparative examples below, these framed pellicles are held for a period of time in a variety of different pellicle containers, and measurements are made on the transmission of the pellicle membrane to the fluorine excimer laser beam after storage.
실시예 1.Example 1.
상기한 바와 같이 제조된 프레임형 펠리클 (6A,6B) 은 각각 실온에서 1달간, 전체적으로 알루미늄으로 제조된 펠리클 콘테이너에 보관된다. 각각의 펠리클 콘테이너에서 꺼낸 프레임형 펠리클 (6A,6B) 은 플로오린 엑시머 레이저 빔으로 투과측정한 결과, 저장결과에 따른 감소를 보이지 않고, 각각 80%와 90%의 값을 주었다.Framed pellicles 6A, 6B prepared as described above are stored in a pellicle container made entirely of aluminum for one month at room temperature, respectively. Frame-type pellicles (6A, 6B) removed from each pellicle container were 80% and 90%, respectively, without perturbation by the fluorine excimer laser beam.
실시예 2.Example 2.
실험과정은 알루미늄으로 제조된 펠리클 콘테이너를, 용해된 실리카 유리 (fused silica glass) 로 전체적으로 만든 콘테이너로 대체하는 것을 제외하고는 실시예 1과 실제적으로 같다. 그 안에 1달간 저장한 후, 프레임형 펠리클 (6A,6B) 의 펠리클 멤브레인의 투과값은 저장결과에 따른 감소를 보이지 않고, 플로오린 엑시머 레이저 빔에 대해 측정한 결과 각각 80%와 90%이다.The experimental procedure is practically the same as in Example 1, except that the pellicle container made of aluminum is replaced with a container made entirely of fused silica glass. After 1 month of storage therein, the permeation values of the pellicle membranes of the frame pellicles 6A, 6B show no decrease with the storage result, and are 80% and 90%, respectively, as measured by the fluoroine excimer laser beam.
실시예 3.Example 3.
실험과정은 알루미늄으로 제조된 펠리클 콘테이너를, ABS 수지로 제조되고 콘테이너 베이스와 커버링의 모든 표면위에 진공기상증착법으로 형성된 0.1 ㎛ 두께의 알루미늄 클레딩 층으로 된 콘테이너로 대체하는 것을 제외하고는 실시례 1과 실제적으로 같다. 그 안에 1달간 저장한 후, 프레임형 펠리클 (6A,6B) 의 펠리클 멤브레인의 투과값은 저장결과에 따른 감소를 보이지 않고, 플로오린 엑시머 레이저 빔에 대해 측정한 결과 각각 80%와 90%이다.The experimental procedure was carried out except that a pellicle container made of aluminum was replaced with a container made of a 0.1 μm thick aluminum cladding layer made of ABS resin and formed by vacuum vapor deposition on all surfaces of the container base and the covering. Is actually the same as After 1 month of storage therein, the permeation values of the pellicle membranes of the frame pellicles 6A, 6B show no decrease with the storage result, and are 80% and 90%, respectively, as measured by the fluoroine excimer laser beam.
실시예 4.Example 4.
실험과정은 0.1 ㎛ 두께의 알루미늄 클레딩 층이 오직 프레임형 펠리클의 수용을 위한 내부공간을 대면하는 ABS 수지의 콘테이너 베이스와 커버링의 안쪽 표면에만 형성된 것을 제외하고는 실시예 3과 실제적으로 같다. 그 안에 1달간 저장한 후, 프레임형 펠리클 (6A,6B) 의 펠리클 멤브레인의 투과값은 저장결과에 따른 감소를 보이지 않고, 플로오린 엑시머 레이저 빔에 대해 측정한 결과 각각 80%와 90%이다.The experimental procedure is practically the same as Example 3 except that a 0.1 μm thick aluminum cladding layer is formed only on the container base of ABS resin and the inner surface of the covering facing the inner space for accommodating the frame type pellicle. After 1 month of storage therein, the permeation values of the pellicle membranes of the frame pellicles 6A, 6B show no decrease with the storage result, and are 80% and 90%, respectively, as measured by the fluoroine excimer laser beam.
실시예 5.Example 5.
실험과정은 콘테이너 베이스와 커버링의 표면상의 클레딩 층이, 각각 진공기상증착법에 의해 형성된 0.5 ㎛ 두께의 알루미늄 하부클레딩 층과 0.5 ㎛ 두께의 질화붕소 (boron nitride) 상부클레딩 층으로 구성된 이중층 구조를 가지는 것을 제외하고는 실시예 3과 실제적으로 같다. 그 안에 1달간 저장한 후, 프레임형 펠리클 (6A),(6B) 의 펠리클 멤브레인의 투과값은 저장결과에 따른 감소를 보이지 않고, 플로오린 엑시머 레이저 빔에 대해 측정한 결과 각각 80%와 90%이다.The experiment process consisted of a double layer structure in which the cladding layer on the surface of the container base and the covering was composed of a 0.5 μm thick aluminum bottom cladding layer and a 0.5 μm thick boron nitride top cladding layer, respectively, formed by vacuum vapor deposition. It is practically the same as Example 3 except having a. After 1 month of storage therein, the permeation values of the pellicle membranes of the frame type pellicles 6A and 6B showed no decrease according to the storage result, and 80% and 90% of the pellicle excimer laser beams were measured, respectively. to be.
비교예.Comparative example.
실험과정은 알루미늄으로 제조된 펠리클 콘테이너를, 표면상에 무기물질로 된 클레딩 층을 가지지 않는 폴리메틸 메타크릴레이트 (polymethyl methacrylate)수지로 된 콘테이너로 대체하는 것을 제외하고는 실시예 1과 실제적으로 같다. 그 안에 1달간 저장한 후, 프레임형 펠리클 (6A,6B) 의 펠리클 멤브레인의 투과값은 플로오린 엑시머 레이저 빔에 대하여 측정한 결과 각각 47%와 50%가 되어, 저장결과에 따라 현저한 감소를 보였다.The experimental procedure was practically similar to that of Example 1 except that the pellicle container made of aluminum was replaced with a container made of polymethyl methacrylate resin having no inorganic cladding layer on the surface. same. After 1 month of storage, the pellicle membranes of the frame type pellicles (6A, 6B) were 47% and 50%, respectively, as measured by the fluorine excimer laser beam. .
상기한 바와 같이, 본 발명은 프레임형 펠리클에 흡수될 수 있는 어떠한 유기물질도 방출하지 않는, 프레임형 펠리클 콘테이너를 제공하며, 펠리클을 펠리클 콘테이너에 장기간 보관한 후에도, 투과율의 저하가 없다.As described above, the present invention provides a frame type pellicle container which does not emit any organic substance that can be absorbed by the frame type pellicle, and there is no decrease in transmittance even after long time storage of the pellicle in the pellicle container.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100882175B1 (en) * | 2007-06-01 | 2009-02-06 | 아사히 가세이 일렉트로닉스 가부시끼가이샤 | Method of housing large pellicle |
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