KR20010064411A - Tft-lcd - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 박막 트랜지스터-액정표시소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 화소 전압 변화량의 변동을 방지하여, 화질 특성을 개선할 수 있는 박막 트랜지스터-액정 표시 소자(이하, TFT-LCD)에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film transistor-liquid crystal display device, and more particularly, to a thin film transistor-liquid crystal display device (hereinafter referred to as TFT-LCD) capable of preventing variations in pixel voltage variation and improving image quality characteristics. .
액티브 장치로 박막 트랜지스터가 이용되는 액티브 매트릭스 액정 표시 장치는 얇고, 가벼우면서, 다수의 화소를 가지므로, CRT에 필적할만한 화질 특성을 갖는다.An active matrix liquid crystal display device in which a thin film transistor is used as an active device is thin, light, and has a large number of pixels, and thus has an image quality characteristic comparable to that of a CRT.
도 1은 일반적인 TFT-LCD의 평면도이다.1 is a plan view of a general TFT-LCD.
도면에서와 같이, 다수개의 게이트 버스 라인(12)은 등간격으로 어레이 기판(10) 상에 배치된다. 다수개의 데이타 버스 라인(14)은 게이트 버스 라인(12)과 교차되도록 어레이 기판(10) 상에 배치되어, 단위 화소가 한정된다. 박막 트랜지스터(15)는 게이트 버스 라인(12)과 데이타 버스 라인(14)의 교차부에 각각 배치된다. 이때, 박막 트랜지스터(15)는 게이트 버스 라인(12)으로부터 단위 화소 영역으로 연장된 게이트 전극(12a)과, 게이트 전극(12a)의 상부에 배치된 채널층(16)과, 데이타 버스 라인(14)으로부터 채널층(16)의 일측과 오버랩되도록 연장된 소오스 전극(14a) 및 채널층(16)의 타측과 오버랩되도록 형성된 드레인 전극(14b)을 포함한다. 화소 전극(18)은 박막 트랜지스터(15)의 드레인 전극(14b)과 콘택되도록 단위 화소 영역에 각각 형성된다.As shown in the figure, a plurality of gate bus lines 12 are disposed on the array substrate 10 at equal intervals. A plurality of data bus lines 14 are disposed on the array substrate 10 so as to intersect with the gate bus lines 12 so that unit pixels are defined. The thin film transistors 15 are disposed at the intersections of the gate bus line 12 and the data bus line 14, respectively. In this case, the thin film transistor 15 may include a gate electrode 12a extending from the gate bus line 12 to a unit pixel region, a channel layer 16 disposed on the gate electrode 12a, and a data bus line 14. ) And a source electrode 14a extending to overlap one side of the channel layer 16 and a drain electrode 14b formed to overlap the other side of the channel layer 16. The pixel electrode 18 is formed in each unit pixel region so as to be in contact with the drain electrode 14b of the thin film transistor 15.
그러나, 종래의 TFT-LCD는 도 1에서와 같이, 하나의 화소 전극(18)이 게이트 버스 라인(12) 및 데이타 버스 라인(14)의 교차점에 구비된 하나의 박막 트랜지스터(15)에 의하여 스위칭되도록 구성되었다. 이에따라, 박막 트랜지스터(15)는 게이트 버스 라인(12)의 높이로 인하여, 제조공정상 부분적으로 소오스, 드레인 전극(14a,14b) 부분에 쇼트가 발생되는 경우가 잦다. 이로 인하여, 박막 트랜지스터(15)가 쇼트되어 지면, 화소 전극(18)에 신호가 전달되지 않아, 점 결함이 발생된다.However, in the conventional TFT-LCD, as shown in FIG. 1, one pixel electrode 18 is switched by one thin film transistor 15 provided at the intersection of the gate bus line 12 and the data bus line 14. It was configured to be. Accordingly, due to the height of the gate bus line 12 of the thin film transistor 15, a short occurs frequently in the source and drain electrodes 14a and 14b in the manufacturing process. For this reason, when the thin film transistor 15 is short-circuited, a signal is not transmitted to the pixel electrode 18, and a point defect arises.
따라서, 본 발명의 목적은 점 결함이 발생됨을 방지할 수 있는 박막 트랜지스터-액정 표시 소자를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a thin film transistor-liquid crystal display device capable of preventing the occurrence of point defects.
도 1은 일반적인 박막 트랜지스터-액정 표시 소자의 평면도.1 is a plan view of a typical thin film transistor-liquid crystal display element.
도 2은 본 발명의 일실시예에 따른 박막 트랜지스터-액정 표시 소자의 평면도.2 is a plan view of a thin film transistor-liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 박막 트랜지스터-액정 표시 소자의 평면도.3 is a plan view of a thin film transistor-liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.
(도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)
20 - 어레이 기판 21 - 게이트 버스 라인20-Array Board 21-Gate Bus Line
21a - 게이트 전극부 22 - 스토리지 전극21a-gate electrode 22-storage electrode
26 - 데이타 버스 라인 26a - 드레인 전극26-data bus line 26a-drain electrode
26b - 소오스 전극 27,270 - 화소 전극26b-source electrode 27,270-pixel electrode
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 단위 화소 공간이 한정된 어레이 기판; 상기 어레이 기판에 단위 화소 공간을 각각 횡단하도록 배열된 다수개의 게이트 버스 라인; 상기 게이트 버스 라인과 교차하면서, 상기 단위 화소 공간을 종단하도록 어레이 기판상에 배열된 다수개의 데이타 버스 라인; 상기 게이트 버스 라인과 평행하며, 인접하는 한쌍의 게이트 버스 라인 사이에 각각 배치되는 스토리지 전극; 상기 스토리지 전극과 소정 부분 오버랩되며, 상기 단위 화소 공간에 각각 배치되는 화소 전극; 상기 게이트 버스 라인과 데이타 버스 라인의 교차점 부분에 배치되며, 게이트 버스 라인 및 데이타 버스 라인에 대하여 각각 상하 및 좌우 방향에 형성되어, 하나의 화소 전극에 각각 콘택되는 4개 박막 트랜지스터를 포함하며, 상기 화소 전극은 게이트 버스 라인의 일주면에 형성된 2개의 박막 트랜지스터와 연결되면서, 게이트 버스 라인의 일측에 배치되는 제 1 화소 전극과, 상기 게이트 버스 라인의 이주면에 형성된 나머지 2개의 박막 트랜지스터와 연결되면서 게이트 버스 라인 타측에 배치되는 제 2 화소 전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object of the present invention, the present invention provides an array substrate having a limited unit pixel space; A plurality of gate bus lines arranged on the array substrate to traverse unit pixel spaces, respectively; A plurality of data bus lines arranged on an array substrate to cross the gate bus lines and terminate the unit pixel space; A storage electrode parallel to the gate bus line and disposed between a pair of adjacent gate bus lines; A pixel electrode partially overlapping the storage electrode and disposed in the unit pixel space; And four thin film transistors disposed at intersections of the gate bus line and the data bus line, and formed in up, down, left, and right directions with respect to the gate bus line and the data bus line, respectively and contacted with one pixel electrode. The pixel electrode is connected to two thin film transistors formed on one circumferential surface of the gate bus line, the first pixel electrode disposed on one side of the gate bus line, and the other two thin film transistors formed on the migration surface of the gate bus line. And a second pixel electrode disposed on the other side of the gate bus line.
또한, 본 발명은, 단위 화소 공간이 한정된 어레이 기판; 상기 어레이 기판에 단위 화소 공간을 각각 횡단하도록 배열된 다수개의 게이트 버스 라인; 상기 게이트 버스 라인과 교차하면서, 상기 단위 화소 공간을 종단하도록 어레이 기판상에 배열된 다수개의 데이타 버스 라인; 상기 게이트 버스 라인과 평행하 며, 인접하는 한쌍의 게이트 버스 라인 사이에 각각 배치되는 스토리지 전극;상기 스토리지 전극과 소정 부분 오버랩되며, 상기 단위 화소 공간에 각각 배치되는 화소 전극; 상기 게이트 버스 라인과 데이타 버스 라인의 교차점 부분에 배치되며, 게이트 버스 라인 및 데이타 버스 라인에 대하여 각각 상하 및 좌우 방향에 형성되어, 하나의 화소 전극에 각각 콘택되는 4개 박막 트랜지스터를 포함하며, 상기 화소 전극은 각각의 박막 트랜지스터와 개별 접속되는 4개의 화소 전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention provides an array substrate having a limited unit pixel space; A plurality of gate bus lines arranged on the array substrate to traverse unit pixel spaces, respectively; A plurality of data bus lines arranged on an array substrate to cross the gate bus lines and terminate the unit pixel space; A storage electrode parallel to the gate bus line and disposed between the adjacent pair of gate bus lines; a pixel electrode partially overlapping the storage electrode and disposed in the unit pixel space; And four thin film transistors disposed at intersections of the gate bus line and the data bus line, and formed in up, down, left, and right directions with respect to the gate bus line and the data bus line, respectively and contacted with one pixel electrode. The pixel electrode includes four pixel electrodes individually connected to each thin film transistor.
본 발명에 의하면, 단위 화소의 중앙에, 하나의 화소 전극을 제어하는 스위칭 소자로, 드레인 전극을 공통으로 하는 4개의 TFT가 형성되고, 이들 각 TFT와 연결되도록 단위 화소내에 적어도 2개 이상의 화소 전극이 형성된다.According to the present invention, at the center of the unit pixel, as a switching element for controlling one pixel electrode, four TFTs having a common drain electrode are formed, and at least two or more pixel electrodes in the unit pixel so as to be connected to each of these TFTs. Is formed.
이에따라, 어느 하나의 TFT에 페일이 발생되더라도, 나머지 페일이 발생되지 않은 TFT에 의하여 화소 전극을 선택적으로 동작시킬 수 있다. 이에따라, 화면의 점결함을 방지할 수 있다.Accordingly, even if a fail occurs in any one TFT, the pixel electrode can be selectively operated by a TFT in which the remaining fail does not occur. Accordingly, the screen defect can be prevented.
(실시예)(Example)
이하, 첨부한 도면에 의거하여 본 발명을 자세히 설명하도록 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
첨부 도면 도 2는 본 발명의 일실시예를 설명하기 위한 TFT-LCD의 평면도이고, 도 3은 본 발명의 다른 실시예를 설명하기 위한 TFT-LCD의 평면도이다.2 is a plan view of a TFT-LCD for explaining an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a plan view of a TFT-LCD for explaining another embodiment of the present invention.
먼저, 도 2를 참조하여, 단위 화소(pix)가 한정된 어레이 기판(20) 상부에 다수의 게이트 버스 라인(21) 및 스토리지 전극(22)이 도면의 x 방향으로 서로 평행하게 연장된다. 스토리지 전극(22)은 인접하는 한쌍의 게이트 버스 라인(21) 사이에 배치되고, 게이트 버스 라인(21)은 스토리지 전극(22) 사이에 각각 배치된다. 즉, 게이트 버스 라인(21)은 개개의 단위 화소(pix)를 x방향으로 횡단하고, 스토리지 전극(22)은 단위 화소(pix)를 y방향으로 경계짓는다. 이때, 게이트 버스 라인(21)은 박막 트랜지스터의 게이트 전극으로 작용할 게이트 전극부(21a)를 포함하며, 이 게이트 전극부(21a)는 다른 게이트 버스 라인(21) 부분에 비하여 좀 더 넓은 선폭을 갖는다. 또한, 게이트 전극(21a) 상부에는 채널층(도시되지 않음)이 구비된다.First, referring to FIG. 2, a plurality of gate bus lines 21 and storage electrodes 22 extend parallel to each other in the x direction of the drawing on an array substrate 20 on which unit pixels pix are defined. The storage electrodes 22 are disposed between a pair of adjacent gate bus lines 21, and the gate bus lines 21 are disposed between the storage electrodes 22, respectively. That is, the gate bus line 21 traverses each unit pixel pix in the x direction, and the storage electrode 22 borders the unit pixel pix in the y direction. In this case, the gate bus line 21 includes a gate electrode portion 21a that will serve as a gate electrode of the thin film transistor, and the gate electrode portion 21a has a wider line width than other gate bus line 21 portions. . In addition, a channel layer (not shown) is provided on the gate electrode 21a.
데이타 버스 라인(26)은 게이트 버스 라인(21)과 교차되도록 배치된다. 이때, 데이타 버스 라인(26)은 특히, 게이트 버스 라인(21)의 게이트 전극부(21a)를 지나며, 단위 화소(pix) 내부를 종단하고, 게이트 버스 라인(21)과는 전기적으로 절연된다. 드레인 전극(26a)은 데이타 버스 라인(26)으로 부터 분기되며, 데이타 버스 라인(26)과 게이트 전극부(21a)가 교차하는 부분에, 데이타 버스 라인(26)과 교차하도록 배치되며, 그 장폭 즉, 길이는 게이트 전극부(21a)보다 짧다. 소오스 전극(26b)은 데이타 버스 라인(26) 및 드레인 전극(26a)과 동시에 형성되며, 드레인 전극(26a)의 양측, 바람직하게는 드레인 전극(26a) 및 데이타 버스 라인(26)을 기준으로 하여 상하 및 좌우에 배치되면서, 게이트 전극부(21)의 가장자리와 오버랩되도록 형성된다. 이때, 소오스 전극(26b)은 상술한 바와 같이, 데이타 버스 라인(26)과 드레인 전극(26a)의 교차점을 중심으로 4부분의 대각선 부분에 각각 배치되어, 게이트 버스 라인(21)과 데이타 버스 라인(26)의 교차점 부근에 4개의 TFT(TFT1∼4)가 형성된다.The data bus line 26 is arranged to intersect with the gate bus line 21. In this case, in particular, the data bus line 26 passes through the gate electrode portion 21a of the gate bus line 21, terminates the inside of the unit pixel pix, and is electrically insulated from the gate bus line 21. The drain electrode 26a is branched from the data bus line 26, and is disposed to intersect the data bus line 26 at a portion where the data bus line 26 and the gate electrode portion 21a intersect with each other. That is, the length is shorter than the gate electrode portion 21a. The source electrode 26b is formed at the same time as the data bus line 26 and the drain electrode 26a, and is referred to both sides of the drain electrode 26a, preferably based on the drain electrode 26a and the data bus line 26. It is formed to overlap the edge of the gate electrode portion 21 while being disposed up, down, left and right. At this time, as described above, the source electrode 26b is disposed at four diagonal portions at the intersection of the data bus line 26 and the drain electrode 26a, respectively, so that the gate bus line 21 and the data bus line are located. Four TFTs (TFT1 to 4) are formed near the intersection point of (26).
화소 전극(27)은 어레이 기판(20) 상부에 매트릭스 형태의 단위 화소 공간에 각각 형성된다. 화소 전극(27)은 게이트 전극(21a)을 중심으로 상측에 구비된 제 1 및 제 2 TFT(TFT1,TFT2), 바람직하게는 각 TFT의 소오스 전극(26b)과 콘택되는 제 1 화소 전극(27a)과, 게이트 전극(21a)을 중심으로 하측에 구비된 제 3 및 제 4 TFT(TFT3,TFT4), 바람직하게는 각 TFT의 소오스 전극(26b)과 콘택되는 제 2 화소 전극(27b)을 포함한다. 또한, 제 1 및 제 2 화소 전극(27a,27b)은 게이트 버스 라인(21)을 두고 대칭을 이루며, 게이트 버스 라인(21)과 소정거리만큼 이격된다. 아울러, 제 1 및 제 2 화소 전극(27a,27b)은 게이트 버스 라인(21) 및 데이타 버스 라인(26)과 전기적으로 절연되면서, 제 1 및 제 2 전극(27a,27b)는 서로 전기적으로 절연된다.The pixel electrodes 27 are formed in the unit pixel space of the matrix form on the array substrate 20, respectively. The pixel electrode 27 contacts the first and second TFTs TFT1 and TFT2 provided on the upper side of the gate electrode 21a, preferably the first pixel electrode 27a that contacts the source electrode 26b of each TFT. ) And a second pixel electrode 27b contacting the third and fourth TFTs TFT3 and TFT4 provided below the gate electrode 21a, preferably the source electrode 26b of each TFT. do. In addition, the first and second pixel electrodes 27a and 27b are symmetrical with respect to the gate bus line 21, and are spaced apart from the gate bus line 21 by a predetermined distance. In addition, the first and second pixel electrodes 27a and 27b are electrically insulated from the gate bus line 21 and the data bus line 26, and the first and second electrodes 27a and 27b are electrically insulated from each other. do.
이때, 화소 전극(27a,27b)의 y방향 경계면은 인접하는 한쌍의 스토리지 전극(22)과 소정 부분 오버랩되어, 보조 용량을 형성한다. 바람직하게는 제 1 및 제 2 화소 전극(27a,27b)과 하나의 스토리지 전극(22)이 오버랩되는 폭은 스토리지 전극(22) 폭의 2분의 1 이하정도이다.At this time, the y-direction boundary surfaces of the pixel electrodes 27a and 27b overlap a predetermined portion of the pair of adjacent storage electrodes 22 to form a storage capacitor. Preferably, the width at which the first and second pixel electrodes 27a and 27b overlap with one storage electrode 22 is about 1/2 or less of the width of the storage electrode 22.
이와같이 박막 트랜지스터-액정 표시 소자를 구성하면, 하나의 단위 화소내에는 제 1 및 제 2 화소 전극(27a,27b)으로 분할,형성되고, 각각의 화소 전극(27a,27b)은 각각 2개의 TFT와 연결되므로, 어느 하나의 TFT(TFT1∼TFT4)에 불량이 발생되더라도, 불량이 발생되지 않은 나머지 하나의 TFT가 스위칭 소자로 작용함으로써, TFT의 페일로 인한 화소 전극의 페일을 방지할 수 있다.When the thin film transistor-liquid crystal display element is constituted as described above, the first and second pixel electrodes 27a and 27b are divided and formed in one unit pixel, and each pixel electrode 27a and 27b is formed of two TFTs and one TFT. Since it is connected, even if a defect occurs in any one of the TFTs TFT1 to TFT4, the other TFT in which the defect does not occur acts as a switching element, thereby preventing the pixel electrode from failing due to the TFT failing.
도 3을 참조하여, 본 발명의 다른 실시예를 설명한다.Referring to Fig. 3, another embodiment of the present invention will be described.
본 실시예는 상기 일실시예와 게이트 버스 라인(21), 데이타 버스 라인(26), 드레인 전극(26a), 소오스 전극(26b) 및 스토리지 전극(22)의 형태는 동일하므로, 이부분에 대한 중복 설명은 배제하도록 하며, 상기 일실시예와 다른 화소 전극 구조에 대하여만 설명하도록 한다.Since the embodiment has the same shape as the gate bus line 21, the data bus line 26, the drain electrode 26a, the source electrode 26b, and the storage electrode 22, the present embodiment is similar to this embodiment. The redundant description will be omitted, and only the pixel electrode structure different from the above embodiment will be described.
본 실시예에서의 화소 전극(270)은 각각의 제 1 TFT(TFT1)와 콘택되는 제 1 화소 전극(270a)과, 제 2 TFT(TFT2)와 콘택되는 제 2 화소 전극(270b)과, 제 3 TFT(TFT3)와 콘택되는 제 3 화소 전극(270c) 및 제 4 TFT(TFT4)와 콘택되는 제 4 화소 전극(270d)으로 구성되며, 제 1 내지 제 4 화소 전극(270a-270d)는 모두 단위 화소내에 배치된다. 이때, 제 1 내지 제 4 화소 전극(270a-270d)은 게이트 버스 라인(21)에 대하여 상하 대칭을 이루면서, 데이타 버스 라인(26)에 대하여 좌우 대칭을 이룬다. 아울러, 제 1 내지 제 4 화소 전극(270a-270d)은 게이트 버스 라인(21)및 데이타 버스 라인(26)과 소정거리만큼 이격되면서, 전기적으로 절연된다. 또한,제 1 내지 제 4 화소 전극(270a-270d) 각각도 역시 서로 절연된다.In the present exemplary embodiment, the pixel electrode 270 includes a first pixel electrode 270a in contact with each of the first TFTs TFT1, a second pixel electrode 270b in contact with the second TFT TFT2, And a third pixel electrode 270c in contact with the third TFT (TFT3) and a fourth pixel electrode 270d in contact with the fourth TFT (TFT4), and the first to fourth pixel electrodes 270a to 270d are all It is arranged in a unit pixel. In this case, the first to fourth pixel electrodes 270a to 270d are symmetrical with respect to the data bus line 26 while being symmetrical with respect to the gate bus line 21. In addition, the first to fourth pixel electrodes 270a to 270d are electrically insulated from the gate bus line 21 and the data bus line 26 by a predetermined distance. In addition, each of the first to fourth pixel electrodes 270a to 270d is also insulated from each other.
또한, 제 1 내지 제 4 화소 전극(270a-270d)의 y방향 경계면들은 인접하는 한쌍의 스토리지 전극(22)과 소정 부분 오버랩되어, 보조 용량을 형성한다. 바람직하게는 제 1 및 제 2 화소 전극(27a,27b)과 하나의 스토리지 전극(22)이 오버랩되는 폭은 스토리지 전극(22) 폭의 2분의 1 이하정도이다.In addition, the y-direction boundary surfaces of the first to fourth pixel electrodes 270a to 270d partially overlap with a pair of adjacent storage electrodes 22 to form a storage capacitor. Preferably, the width at which the first and second pixel electrodes 27a and 27b overlap with one storage electrode 22 is about 1/2 or less of the width of the storage electrode 22.
이와같이 화소 전극(270)을 구성하게 되면, 단위 화소(pix)내의 화소 전극이 4개로 분할되었으므로, 어느 하나의 TFT가 쇼트되라도, 나머지 3개의 TFT가 동작되어, 그들과 연결된 화소 전극은 동작된다. 이때, 사람의 눈이 단위 화소를 식별할 수 있을만큼 섬세하지 못하므로, 전체 화소 전극의 4분의 1이 동작하지 않는다고 하여도 이를 인식하기어려우므로, 점결함으로 보여지지 않는다.When the pixel electrode 270 is constituted in this manner, since the pixel electrodes in the unit pixel pix are divided into four, even if any TFT is shorted, the remaining three TFTs are operated and the pixel electrodes connected to them are operated. . At this time, since the human eye is not delicate enough to identify the unit pixel, even if a quarter of all the pixel electrodes are not operated, it is difficult to recognize it, and thus it is not seen as caustic.
이상에서 자세히 설명된 바와 같이, 본 발명에 의하면, 단위 화소의 중앙에, 하나의 화소 전극을 제어하는 스위칭 소자로, 드레인 전극을 공통으로 하는 4개의 TFT가 형성되고, 이들 각 TFT와 연결되도록 단위 화소내에 적어도 2개 이상의 화소 전극이 형성된다.As described in detail above, according to the present invention, in the center of the unit pixel, as a switching element for controlling one pixel electrode, four TFTs having a common drain electrode are formed, and the unit is connected to each of these TFTs. At least two or more pixel electrodes are formed in the pixel.
이에따라, 어느 하나의 TFT에 페일이 발생되더라도, 나머지 페일이 발생되지 않은 TFT에 의하여 화소 전극을 선택적으로 동작시킬 수 있다. 이에따라, 화면의 점결함을 방지할 수 있다.Accordingly, even if a fail occurs in any one TFT, the pixel electrode can be selectively operated by a TFT in which the remaining fail does not occur. Accordingly, the screen defect can be prevented.
한편, 여기에서는 본 발명의 특정 실시예에 대하여 설명하고 도시하였지만, 당업자에 의하여 이에 대한 수정과 변형을 할 수 있다. 따라서, 이하, 특허청구의 범위는 본 발명의 진정한 사상과 범위에 속하는 한 모든 수정과 변형을 포함하는 것으로 이해할 수 있다.Meanwhile, although specific embodiments of the present invention have been described and illustrated, modifications and variations can be made by those skilled in the art. Accordingly, the following claims are to be understood as including all modifications and variations as long as they fall within the true spirit and scope of the present invention.
Claims (12)
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
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KR1019990064601A KR20010064411A (en) | 1999-12-29 | 1999-12-29 | Tft-lcd |
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ID=19631875
Family Applications (1)
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-
1999
- 1999-12-29 KR KR1019990064601A patent/KR20010064411A/en not_active Application Discontinuation
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