KR20010052586A - Preparation and purificaton of a salt of aspartame with acesulfam k - Google Patents

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KR20010052586A
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스니즈더카리나사샤
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비그만 피.
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Abstract

본 발명은 고체 액체 분리 및 건조에 의해, 액체 매질내에서 제조하고, 그로부터 습식 고체 생성물로서 분리함으로써 고체 및 건조형태의 아세설팜산 및 아스파탐의 염을 제조하는 방법에 관한 것으로서,The present invention relates to a process for preparing salts of acesulfame acid and aspartame in solid and dry form, prepared in a liquid medium by solid liquid separation and drying, and thereafter separated as a wet solid product.

상기 아세설팜산 및 아스파탐의 염은 건조시에 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 생성물을 형성시키는 습식 고체 결정질 생성물로서 사용가능하며,The salts of acesulfamic acid and aspartame can be used as wet solid crystalline products which when dried form a product having a particle-size distribution with at least 10 wt.% Of the particles being at least 200 μm,

상기 결정질 생성물은 종래의 생성물에 비해 향상된 안정성을 가지며,The crystalline product has improved stability compared to conventional products,

한 구체예에서, 습식 고체 결정질 생성물은 건조작업전에 8 이상의 pH를 갖는 염기성 수용액에 의한 세척작업에 들어가며,In one embodiment, the wet solid crystalline product is subjected to washing with a basic aqueous solution having a pH of at least 8 prior to drying.

본 발명은 또한, 80℃에서 48시간동안 건조 형태의 염을 가열시에 아세토아세트아미드 함량이 염의 건조중량기준부 10ppm 이하인 향상된 안정성을 갖는 아세설팜산 및 아스파탐의 염에 관한 것으로서, 건조 형태에서 상기 아세설팜산 및 아스파탐의 염은 입자의 적어도 10wt.% 및 특히 적어도 25wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 것을 특징으로 한다.The present invention also relates to salts of acesulfameic acid and aspartame having an improved stability when the salt in dry form is heated at 80 ° C. for 48 hours with an acetoacetamide content of 10 ppm or less by dry weight of salt. The salts of acesulfamic acid and aspartame are characterized by having a particle-size distribution with at least 10 wt.% And especially at least 25 wt.% Of the particles having at least 200 μm.

Description

아세설팜 케이와 아스파탐의 염의 제조 및 정제방법{PREPARATION AND PURIFICATON OF A SALT OF ASPARTAME WITH ACESULFAM K}Preparation and Purification of Salts of Acesulfame K and Aspartame {PREPARATION AND PURIFICATON OF A SALT OF ASPARTAME WITH ACESULFAM K}

본 발명은 고체 액체 분리법에 의해, 액체 매질내에서 제조하고, 그로부터 습식 고체 생성물로서 분리하고, 이후 건조함으로써 고체 및 건조형태의 아세설팜산 및 아스파탐의 염을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따라, 상기 염을 고온에 노출시에 아세토아세트아미드가 형성될 위험을 감소시킴으로써 건조형태의 개선된 안정성을 갖는 아세설팜산 및 아스파탐의 염이 얻어진다. 본 발명은 또한, 상기 아세설팜산 및 아스파탐의 염에 관한 것이다.The present invention relates to a process for preparing salts of acesulfame acid and aspartame in solid and dry form by solid liquid separation, which are prepared in a liquid medium, separated therefrom as a wet solid product and then dried. According to the invention, salts of acesulfame acids and aspartame with improved stability in dry form are obtained by reducing the risk that acetoacetamide is formed when the salt is exposed to high temperatures. The present invention also relates to salts of the acesulfame acids and aspartame.

아세설팜산 및 아스파탐의 염은 중량기준부 설탕의 대략 200배의 감도를 갖는 감미료이고, 특히 분말혼합물, 츄잉검, 스위트(sweet) 및 건조 식품에 사용하기에 적당하며, 감미료 이외에 알데히드 등과 같은 화합물을 함유하고, 아스파탐과 같은 감미료와 소망하지 않는 반응을 일으키는 여러 제조물이다.Salts of acesulfame and aspartame are sweeteners with a sensitivity of approximately 200 times the weight-based sugars, and are particularly suitable for use in powdered mixtures, chewing gums, sweets and dry foods, and in addition to sweeteners, compounds such as aldehydes, etc. And a variety of preparations that cause undesirable reactions with sweeteners such as aspartame.

아세설팜산 및 아스파탐의 염은 감미료인 아스파탐, 오래전부터 알려져 있는 α-L-아스파틸-L-페닐알라닌 메틸 에스테르(이후에 APM으로 언급함) 및 아세설팜산으로 이루어진다. 아세설팜산은 감미료인 아세설팜-K, 6-메틸-1,2,3-옥사티아진-4(3K)-온-2,2-디옥시드(이후에 AceK로 언급함)를 갖는 칼륨염에서 유도된 산이며, 이미 잘 알려져 있다. 아세설팜산은 이후에 AceH로 언급되고, APM 및 AceH의 염은 APM.Ace로 언급될 것이다.The salts of acesulfamic acid and aspartame consist of the sweetener aspartame, the α-L-aspartyl-L-phenylalanine methyl ester (hereinafter referred to as APM) and acesulfamic acid, which have long been known. Acesulfame acid is potassium with the sweetener acesulfame-K, 6-methyl-1,2,3-oxathiazine-4 (3K) -one-2,2-dioxide (hereinafter referred to as AceK). Acids derived from salts and are well known. Acesulfame acid is hereinafter referred to as AceH and salts of APM and AceH will be referred to as APM.Ace.

우수한 열 안정성 및 낮은 흡습성을 갖는 형태의 APM.Ace를 제조하는 방법이 EP-A-0768041에 기술되어 있다. EP-A-0768041에 기술된 APM.Ace의 제조방법에서는 액체 매질에서 실시되는 트란스-염화 방법(trans-salification process)의 결과로서 상기 염은 고체로 수득된다. 사용된 반응 시스템(대개 슬러리)은 성분으로서, (i) 아스파탐, (ii) 아세설팜산의 무기염, 예를 들어 칼륨염 및 (iii) 염산과 같은 강산으로 이루어져 있다. 상기 성분들은 특정의 소망하는 순서로 반응 시스템으로 첨가될 수 있으며, 상기 시스템은 운동을 일정하게 유지하면서 교반하여, 상기 성분들이 비교적 균질하게 분포되며, 국부적으로 산의 농도가 너무 높이 올라가는 소망하지 않는 효과가 일어나지 않을 수 있다. 상기 특허 출원에 따른 APM.Ace의 제조방법은 상기 출원에서 기술된 바와 같이 빠른 방법에 의해 -20 내지 +90℃ 범위의 온도의 수성매질에서 비교적 항상 실시된다. 반응시 성분들의 첨가순서와 제1 고체 APM.Ace가 슬러리로서 얻어지는 방법은 중요하지 않다고 상기 특허출원에 기술되어 있다. EP-A-0768041에는 형성된 APM.Ace의 회수, 건조 및/또는 추가의 정제에 따른 많은 정보를 기술되어 있지 않다. 여과에 의해서 수득된 고체를 얼음물로 세척하는 것과 같이 사용된 표준방법 및 상기 특허출원에 기술되어 있는 방법은 염의 APM 부분의 열적 성질에 관련하여 우수한 열 안정성을 갖는 생성물을 수득하기위한 조건을 완전히 만족시킨다.A method for producing APM. Ace in the form with good thermal stability and low hygroscopicity is described in EP-A-0768041. In the process for preparing APM.Ace described in EP-A-0768041, the salt is obtained as a solid as a result of the trans-salification process carried out in a liquid medium. The reaction system used (usually a slurry) consists of (i) aspartame, (ii) inorganic salts of acesulfame acid, for example potassium salts and (iii) hydrochloric acid as components. The components can be added to the reaction system in a specific desired order, the system being stirred while keeping the motion constant, so that the components are distributed relatively homogeneously, and the desired concentration of the acid rising too high. The effect may not occur. The process for preparing APM.Ace according to the patent application is relatively always carried out in an aqueous medium at a temperature in the range of -20 to + 90 ° C by a fast method as described in the above application. The patent application describes that the order of addition of the components in the reaction and the way in which the first solid APM.Ace is obtained as a slurry is not critical. EP-A-0768041 does not describe much information resulting from the recovery, drying and / or further purification of the formed APM.Ace. The standard methods used, such as washing solids obtained by filtration with ice water and the methods described in this patent application, fully satisfy the conditions for obtaining products with good thermal stability with respect to the thermal properties of the APM portion of the salt. Let's do it.

EP-A-0768041은 염의 APM 부분과 관련된 열 안정성에 관한 것으로서, APM의 열 안정성은 AceK의 열 안정성보다 크게 낮다는 것이 알려져 있다. 또한 AceK에 대응하는 산인 아세설팜산(AceH)은 예를들면 AceK보다 더 낮은 안정성을 갖는 것이 알려져 있다. APM.Ace에서 Ace부분은 AceK에서와 같은 방법으로 존재하므로 APM.Ace에서 Ace 부분의 특정 분해 생성물은 결코 제공되지 않았다.EP-A-0768041 relates to the thermal stability associated with the APM portion of the salt, where it is known that the thermal stability of APM is significantly lower than that of AceK. It is also known that acesulfame acid (AceH), an acid corresponding to AceK, has a lower stability than, for example, AceK. Ace sections in APM.Ace exist in the same way as in AceK, so no specific degradation products of Ace sections in APM.Ace are provided.

EP-A-0768041에 따르면, APM,Ace(건조형태)는 120℃에서 1시간동안 또는 70℃에서 70시간동안 가열할때 0.5%미만의 분해가 일어나는 경우 양호한 열 안정성을 갖는다. APM.Ace의 Ace부분의 분해는 메탄올에서 실시하여 상기 특허출원의 비교실험예 1C 및 1D의 표에서 입증되는 바와 같이 명백하다.According to EP-A-0768041, APM, Ace (dry form) has good thermal stability when degradation of less than 0.5% occurs when heated at 120 ° C. for 1 hour or at 70 ° C. for 70 hours. Decomposition of the Ace moiety of APM.Ace is evident as demonstrated in the tables of Comparative Experiments 1C and 1D of the patent application, conducted in methanol.

그러나, 한편 APM.Ace의 건조중량기준부 10ppm의 검출한계 이상의 검출가능한 아세토아세트아미드 농도는 건조형태로 EP-A-0768041에 따른 방법으로 제조된 건성 APM.Ace의 낮은 습기 함량에서 예를들면 48시간동안 80℃와 같은 고온(특히, 이하에 표준조건이라고 함)에 더 노출시킬때 APM.Ace에서 형성된다. 아세토아세트아미드는 이후에 3A로 언급될 것이다.However, on the other hand, detectable acetoacetamide concentrations above the detection limit of 10 ppm by dry weight basis of APM.Ace are, for example, at low moisture content of dry APM.Ace prepared in a dry form by the method according to EP-A-0768041. Formed in APM.Ace when further exposed to high temperatures such as 80 ° C. (especially referred to below as standard conditions) for a period of time. Acetoacetamide will hereinafter be referred to as 3A.

식료품, 즉 식료품에 사용되는 물질에서, 특히 아세토아세트아미드의 존재는 독성때문에 낮은 농도로 제한된다. 유럽의 아세토아세트아미드에 대한 약전(Supplement 1998)에 따르면 최대 허용가능한 농도는 1250ppm이다. 그러므로 상기에서, 본 출원인은 기존의 농도가 더 높아짐에 따라 아세토아세트아미드의 형성을 자동활성적으로 보다 빠르게 진행시키기때문에 APM.Ace에서 3A의 검출가능한 농도가 형성되는 것을 방지하는 것이 중요하다.In foodstuffs, ie substances used in foodstuffs, in particular the presence of acetoacetamide is limited to low concentrations due to toxicity. According to the European Pharmacopoeia for Acetoacetamide (Supplement 1998), the maximum allowable concentration is 1250 ppm. Therefore, in the foregoing, it is important to prevent the formation of a detectable concentration of 3A in APM.Ace because the applicant automatically and rapidly advances the formation of acetoacetamide as the existing concentration becomes higher.

본 발명의 목적은 상기에 언급된 문제를 해결하고, 특히 APM.Ace에서 3A가 형성되는 것을 방지 또는 막는 것이다.It is an object of the present invention to solve the above mentioned problems and in particular to prevent or prevent the formation of 3A in APM.Ace.

놀랍게도, 상기 목적은 건조시에, 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 건조형태로 입자-크기 분포도를 갖는 생성물을 제조하는 습식 고체 결정질 생성물로서 아세설팜산 및 아스파탐의 염이 제조된다는 점에서 이루어진다.Surprisingly, the object is achieved in that when dried, salts of acesulfame acid and aspartame are prepared as wet solid crystalline products which produce a product having a particle-size distribution in a dry form in which at least 10 wt.% Of the particles are at least 200 μm. .

입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도(이하, p.s.d.라고 함)를 건조형태에서 갖는 APM.Ace는 상기 건조형태에서 80℃에서 48시간과 같이 고온에 대해 건조한 형태로 길게 노출시킬 때, APM.Ace가 APM.Ace의 건조중량기준부 10ppm 이상의 3A 함량을 가지지 않아야 한다는 것을 만족시킨다.APM.Ace having a particle-size distribution (hereinafter, referred to as a psd) in a dry form having at least 10 wt.% Of the particles at least 200 μm in the dry form may be exposed to a long dry form at high temperatures such as 48 hours at 80 ° C. When satisfying that APM.Ace should not have a 3A content of more than 10ppm by dry weight basis of APM.Ace.

80℃ 미만, 예를들면 70℃의 온도에서, APM.Ace내 3A의 형성은 출원인의 관찰에 따르면, 더 느리게 진행되며, 더 낮은 온도에서 조차도, 그의 형성 효과는 거의 무시할수 있다. 예를들면 60℃에서 12개월동안 (본 발명에 따라 제조된) APM.Ace를 저장하면 검출할 수 없는 농도로 3A를 제조하는 반면 본 발명에 따라 제조되지 않은 APM.Ace은 60℃에서 한달후에 이미 3A를 10-20ppm 함유한다. 40℃에서 1년동안 APM.Ace를 저장하는 동안, 초기에 3A를 포함하지 않던 APM.Ace내에서 3A가 검출가능한 양으로 형성되지 않는다.At temperatures below 80 ° C., for example 70 ° C., the formation of 3A in APM.Ace proceeds more slowly, according to Applicants' observation, and even at lower temperatures, the effect of its formation is almost negligible. For example, storing APM.Ace (prepared according to the present invention) at 60 ° C. for 12 months produces 3A in undetectable concentrations, while APM.Ace not prepared according to the present invention is present at 60 ° C. Already contains 10-20 ppm of 3A. While storing APM.Ace for one year at 40 ° C., 3A is not formed in a detectable amount in APM.Ace, which initially did not contain 3A.

출원인에 따르면, 3A의 형성은 존재하는 AceH의 소량의 반응의 결과로서 설명될 수 있다. (두분자의) 물의 영향하에서, 아세토아세트아미드-N-설폰산이 (한분자의) AceH로부터 형성될 수 있고, 연속적으로 상기 산이 반응하여 아세토아세트아미드를 형성할 수 있다. 출원인은 이제 상기 반응이 자기촉매적이라는 것을 알았다.According to the applicant, the formation of 3A can be explained as a result of the small amount of reaction of AceH present. Under the influence of (two molecules) of water, acetoacetamide-N-sulfonic acid can be formed from (one molecule) AceH, and the acid can be subsequently reacted to form acetoacetamide. Applicants now know that the reaction is autocatalytic.

상기 EP-A-0768041에서 언급된 바와 같이, ES-A-8604766에서 기술된 방법과 유사하게 제조된다면 APM.Ace의 습기함량은 EP-A-0768041에 따른 방법에 의한 것보다 더 높다는 것에 주목한다. 그러므로 저장 및 연장된 가열의 조건하에서 상기 문제인 3A의 형성은 상기의 경우에 더 많다.As mentioned in EP-A-0768041, it is noted that if prepared similarly to the method described in ES-A-8604766, the moisture content of APM.Ace is higher than that by the method according to EP-A-0768041. . Therefore, the formation of the problem 3A under the conditions of storage and prolonged heating is more in this case.

건조형태의 APM.Ace의 입자-크기 분포도(p.s.d.)는 당업자에 의해 종래에 사용되었던 어느 방법으로나 측정될 수 있다. 200㎛ 이상의 입자크기를 갖는 건조형태의 APM.Ace의 wt.%를 측정하는 매우 간단한 방법은 200㎛의 메쉬폭을 갖는 스크린상에서 APM.Ace 10g을 종래방법으로 분별제거하는 단계 및 스크린상에 남은 중량 프랙션을 측정하는 단계로 이루어진다. 건조형태의 APM.Ace는 본원에서 APM.Ace가 제조되는 방법에 따라, APM.Ace가 습식 슬러리로서 얻어질때 완화된 조건하에 정상건조된후 또는 APM.Ace가 용액으로부터 증발에 의해 회수될때 회전증발기를 사용하여 정상건조한후의 APM.Ace를 의미하는 것으로 이해된다.The particle-size distribution (p.s.d.) of APM.Ace in dry form can be measured by any method conventionally used by those skilled in the art. A very simple method for measuring the wt.% Of APM.Ace in dry form with a particle size of 200 μm or more is to remove 10 g of APM.Ace conventionally on a screen having a mesh width of 200 μm and to remain on the screen. The step of measuring the weight fraction is made. APM.Ace in dry form is a rotary evaporator, after normal drying under relaxed conditions when APM.Ace is obtained as a wet slurry, or when APM.Ace is recovered by evaporation from solution, depending on how APM.Ace is prepared herein. Is understood to mean APM.Ace after normal drying using.

본 출원인은 건조형태에서 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 p.s.d.를 갖는 생성물이 얻어지는 APM.Ace 제조방법은 없다는 것을 알았다. 본 발명을 위한 연구 골격에서, 본 발명자들은 건조형태에서 입자의 적어도 10.wt.%가 200㎛ 이상인 p.s.d.를 갖는 APM.Ace를 얻기 위해 특정 측정법이 하기 설명될 바와 같이 발견됨을 알았다.Applicants have found that there is no method for producing APM. Ace in which a product with p.s.d. in which at least 10 wt.% Of the particles in the dry form is at least 200 μm is obtained. In the study framework for the present invention, the inventors found that a specific measurement was found as described below to obtain APM.Ace with p.s.d. in which at least 10.wt.% of the particles in dry form were 200 μm or more.

따라서, 유럽특허 EP-A-0768041에는 APM.Ace를 제조하기 위한 다수의 실험예가 기술되어 있지만, 대부분의 경우 APM.Ace를 얻기 위한 반응은 (사용된 여러 성분들에 대한 모든 종류의 도입순서를 사용하여) 실온에서 실시되거나, 또는 모든 반응성분들은 반응이 고온, 예를 들어 50℃에서 실시될때 그들중 사용되는 전체 양으로 항상 공급된다. 본 출원인은 상기 모든 방법들은 건조형태에서 입자의 10wt.% 이하가 200㎛ 이상인 p.s.d.를 갖는 APM.Ace를 형성시킨다는 것을 알았다. 인용문헌에서, 건조형태의 APM.Ace의 안정성과 관련된 효과가 무엇이든 발견될 수 있다는 것은 개시되어 있지 않으며, 3A의 형성에 대한 안정성과 관련된 효과는 p.s.d.의 변형 및, 특히 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 p.s.d.의 이로운 효과로부터 기대된다.Therefore, European Patent EP-A-0768041 describes a number of experimental examples for preparing APM.Ace, but in most cases the reaction to obtain APM.Ace is (in order of introduction of all kinds of components used). Or all the reactive components are always supplied in the total amount used therein when the reaction is carried out at a high temperature, for example 50 ° C.). Applicants have found that all of the above methods form APM.Ace with p.s.d. in the form of dry up to 10 wt. In the citations, it is not disclosed that any effect related to the stability of the dry form of APM.Ace can be found, and the effect related to the stability on the formation of 3A is due to the deformation of the psd and, in particular, at least 10 wt.% Of the particles. It is expected from the beneficial effect of psd having a thickness of 200 mu m or more.

APM.Ace가 ES-A-8604766(부수적으로, APM.Ace 제조예는 기술되어 있지 않음)의 내용에 따라 제조된다면, APM.Ace가 유기용매로부터 증발시킴으로써 분리된다는 것을 주목한다. 이는 먼저 비결정질 물질을 형성시키며, 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 p.s.d.를 갖는 결정질 생성물과는 어느것도 비교할 수 없다.Note that if APM.Ace is prepared according to the contents of ES-A-8604766 (incidentally, APM.Ace preparation is not described), APM.Ace is separated by evaporation from an organic solvent. This first forms an amorphous material, and nothing can be compared with a crystalline product having a p.s.d. of at least 10 wt.% Of the particles being at least 200 μm.

그러나, 유럽특허 EP-A-0768041이 입자크기를 언급하는 범위에서는 입자크기에 있어서, 상기 특허출원은 주로 소망하는 '감미료방출' 및 분말 혼합물내 분비효과와의 관계를 주로 성립시킨다는 점에 주목한다. 그러나, 3A의 가능한 제조에 관한 안정성에 상기 효과가 미치는 것에 대해서는 전혀 언급되어 있지 않다.It should be noted, however, that in the scope of European Patent EP-A-0768041 referring to particle size, the patent application mainly establishes the relationship between the desired 'sweetener release' and the secretion effect in the powder mixture. . However, nothing is said about the effect of this effect on the stability of possible production of 3A.

참고로, 본 발명에 따른 APM.Ace는 건조시에 적어도 15wt.%, 보다 바람직하게는 적어도 25wt.%의 입자가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 생성물을 형성시키는 습식 고체 결정질 생성물로서 사용가능하다.For reference, APM.Ace according to the present invention can be used as a wet solid crystalline product which, upon drying, forms a product having a particle-size distribution with at least 15 wt.%, More preferably at least 25 wt.% Of particles having a particle size of at least 200 μm. Do.

본 발명의 명세서에서 사용되는 APM.Ace의 액체 매질내에서 제조하기 위해, 적당한 방법이 사용될 수 있으며, 이 방법에서 건조단계 바로전에 제일 먼저 즉 건조형태에서 적어도 10wt.%의 입자가 200㎛ 이상인 p.s.d.를 갖는 고체 APM.Ace는, 명세서에서 필수적인 것으로 밝혀진 p.s.d.를 만족시킨다. 상기 방법의 실시예는 유럽특허 EP-A-0768041에 일반적으로 기술되어 있다. 상기 방법에서 사용될 수 있는 액체 매질 및 조건 및 고체-액체 분리방법을 추가로 설명하기 위해, 상기 특허출원의 내용은 또한 그에 관한 것이다. 건조시에 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 입자를 갖는 생성물을 얻는 습식 고체 결정질 APM.Ace 생성물을 얻기 위한, 발견되는 특징은 이하에 상술될 것이다.For the preparation in the liquid medium of APM. Ace used in the context of the present invention, a suitable method may be used, in which the psd having at least 10 wt.% Of particles at least 10 wt. The solid APM.Ace with satisfies the psd, which is found to be essential in the specification. Embodiments of the method are generally described in EP-A-0768041. In order to further explain the liquid media and conditions and solid-liquid separation methods that can be used in the process, the content of this patent application also relates to them. The characteristics found for obtaining a wet solid crystalline APM.Ace product which, when dried, yield a product having particles having at least 10 wt.% Of at least 200 μm, will be detailed below.

본 발명자들은 특히, 3A의 형성과 관련된 개선된 안정성을 갖는 APM.Ace는 APM.Ace 제조시에 하기 수단들이 연속해서 취해진다면 얻어질 수 있다:The inventors have found, in particular, that APM.Ace with improved stability associated with the formation of 3A can be obtained if the following means are taken continuously in the manufacture of APM.Ace:

a)40 내지 65℃, 바람직하게는 약 50℃의 온도에서 수성매질내에서 교반하면서 APM.Ace를 제조하는 반응에 필요한 일정량의 AceH의 무기염, 바람직하게는 AceK를 전체 또는 일부(즉, 사용되는 상기 염의 전체 양의 적어도 5wt.%, 많아야 적어도 40wt.%) 공급하는 단계;a) using some or all of the inorganic salt of AceH, preferably AceK, i.e., for the reaction to prepare APM.Ace with stirring in an aqueous medium at a temperature between 40 and 65 ° C, preferably about 50 ° C. Feeding at least 5 wt.%, At least at least 40 wt.% Of the total amount of said salt;

b)계속해서, 같은 온도에서, 교반하면서 또는 교반이 지속되면서, 일정량의 대략 2 내지 50% APM(a)에 사용된 AceH의 무기염의 몰당량에 대한 몰당량으로서 계산됨)이 첨가되는 단계; 상기 첨가는 급속하게 일어날 뿐만 아니라 소량으로 일어나며; 보통, 사용된 APM의 전체 양의 약 10 내지 30wt.%가 상기 단계에 첨가될 것이며;b) subsequently, at the same temperature, with stirring or continuing stirring, added as a molar equivalent to the molar equivalent of the inorganic salt of AceH used in an amount of approximately 2 to 50% APM (a)); The addition not only occurs rapidly but also in small amounts; Usually, about 10-30 wt.% Of the total amount of APM used will be added to this step;

c)계속해서, 같은 온도에서, 및 교반을 계속하면서, HCl 수용액과 같은 강산을 30분내에 점차적으로 또는 소량을 일부도입하는 단계; 사용된 양은 첨가된 강산의 전체 양이 작은 몰결핍율, 예를 들어 b)에 첨가된 APM에 대해 5-10% 결핍율이 되도록 하며,c) subsequently introducing a strong or partial amount of a strong acid, such as an aqueous HCl solution, within 30 minutes at the same temperature and while continuing to stir; The amount used allows the total amount of strong acid added to be 5-10% deficient for small molar deficiency rates, eg APM added to b),

d)다음 단계에서, 같은 온도에서 교반을 계속하면서, 필요하다면 추가량의 AceH의 무기 염을 1회 또는 일부 첨가하고, 추가량의 APM 및 강산을 강산과 함께 APM의 염의 형태로 첨가하고, 상기 첨가는 점차적으로 일어나고, 공급된 APM의 전체 양은 AceH의 무기 염의 도입량보다 적게 일정하게 유지하며, 상기 물질은 서로 당량 이상 또는 이하로 함께 또는 각각 첨가되고, 상기 첨가는 사용된 APM의 전체 양이 AceH의 무기 염의 전체 공급량에 대해 대략 당량이 될때까지 계속되는 단계;d) in the next step, while continuing to stir at the same temperature, one or part of an additional amount of inorganic salt of AceH is added, if necessary, and an additional amount of APM and strong acid together with a strong acid in the form of a salt of APM; The addition takes place gradually and the total amount of APM supplied is kept constant less than the introduction amount of the inorganic salt of AceH, the substances are added together or above each other equivalent or less, and the addition is the total amount of APM used is AceH Continuing until approximately equivalents to the total supply of inorganic salts of;

e)같은 온도에서 교반을 계속하면서, 강산을 점차적으로 도입하는 것을 투여된 전체 APM 양이 더이상 부족하지 않을때까지 계속되는 단계.e) Gradually introducing the strong acid while continuing to stir at the same temperature until the total amount of APM administered is no longer insufficient.

상기에서, 특히:In the above, in particular:

f)반응온도에서 보정된 pH 측정기를 사용하여 측정된 pH가 가능한한 3 이상의 수준을 유지하는 반응동안 pH 조절과 함께 단계 c), d) 및 선택적으로 또한 e)가 진행되는 단계; 이는 저속으로 강산을 도입하는 것을 조절함으로써 실시되며;f) steps c), d) and optionally also e) with pH control during the reaction, wherein the pH measured using a calibrated pH meter at the reaction temperature maintains at least 3 levels as possible; This is done by adjusting the introduction of strong acids at low speeds;

g)강산을 첨가하는 초반부부터 강산을 첨가하는 후반부까지 상기 온도에서의 잔류시간은 적어도 1시간이며, 및g) the residence time at said temperature from the beginning of adding strong acid to the latter of adding strong acid is at least 1 hour, and

h)APM.Ace를 형성하는 동안, 반응시스템은 반응동안 잘 교반할 수 없는 점성 슬러리가 일순간에 형성되도록 연속해서 교반되며, 그럼으로써 내내 교반가능한 슬러리가 존재하다는 것이 보장되는 것이 바람직하다.h) During the formation of APM.Ace, the reaction system is continuously stirred so that a viscous slurry that cannot be well stirred during the reaction is formed in an instant, thereby ensuring that there is an agitable slurry throughout.

이는 강산의 국소적으로 매우 높은 농축의 결과로서 반응동안 검출가능한 양의 3A가 형성되는, 소위 핫-스폿이 발생하는 것을 막는다.This prevents the so-called hot-spot from occurring, in which a detectable amount of 3A is formed during the reaction as a result of the locally very high concentration of the strong acid.

상기 반응단계가 실시된후, 형성된 APM.Ace는 사용된 온도에서 액체 반응매질로부터 습식 고체 생성물로서 분리될 수 있다. 선택적으로, 반응시스템은 형성된 고체 APM.Ace가 습식 고체 결정질 생성물로서 액체 반응매질로부터 분리되기 전에, 5-20℃의 순서의 온도로 먼저 추가냉각됨으로써 주위 온도로 냉각될 수 있다.After the reaction step has been carried out, the formed APM.Ace can be separated as a wet solid product from the liquid reaction medium at the temperature used. Optionally, the reaction system may be cooled to ambient temperature by first cooling further to a temperature in the order of 5-20 ° C. before the solid APM.Ace formed is separated from the liquid reaction medium as a wet solid crystalline product.

상기 분리된 습식 고체 결정질 APM.Ace의 건조는 완화된 조건, 즉 60℃ 이하, 바람직하게는 약 50℃, 선택적으로 다소 감소된 압력 또는 비활성 기체가 통과되는 상태에서 일어나는 것이 바람직하다. 바람직하게는, APM.Ace는 건조 생성물의 전체 중량기준부 0.1wt.% 이하의 습기 함량으로 건조된다.Drying of the separated wet solid crystalline APM.Ace preferably takes place under mild conditions, i.e. below 60 ° C, preferably about 50 ° C, optionally slightly reduced pressure or inert gas. Preferably, APM.Ace is dried to a moisture content of 0.1 wt.% Or less, based on the total weight of the dry product.

건조시에 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 생성물을 제조하는 APM.Ace가 형성되도록 선택되는 합성단계(예를 들어, 트랜스-염화 과정동안) 및 이후 건조단계동안 반응조건과 상기 방법에 따라 APM.Ace가 제조될때, 3A가 형성될 위험은 건성 생성물의 합성동안 뿐만 아니라 연장된 가열(48시간, 80℃)시에 극 최소량으로 제한된다.The reaction is selected to form APM.Ace, which produces a product having a particle-size distribution with at least 10 wt.% Of the particles at least 200 μm on drying (e.g., during the trans-chlorination process) and then during the drying step. When APM.Ace is prepared according to the conditions and methods described above, the risk of 3A formation is limited to an extreme minimum amount during the synthesis of the dry product as well as during extended heating (48 hours, 80 ° C.).

본 발명의 특정 구체예에서, 상기 측정을 관찰하면서 건조시에 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 생성물을 제조하는 습식 고체 결정질 생성물로서 사용가능한 APM.Ace는 건조하기 전에 한 단계 이상의 세척작업에 들어가며, 상기 세척작업중 적어도 마지막은 8 이상의 pH를 갖는 염기성 수용액에 의해 실시된다.In certain embodiments of the present invention, APM. Ace, which is usable as a wet solid crystalline product which produces a product having a particle-size distribution with at least 10 wt. One or more steps of washing are carried out, at least the last of which is carried out by a basic aqueous solution having a pH of 8 or more.

본 발명에 따른 상기 특정 구체예에서, 한 단계 이상의 상기 세척작업을 실시할 수 있으며, 이는 최종 세척작업이 모든 경우 8 이상의 pH를 갖는 염기성 용액에 의해 실시되는 것으로 이해된다. 세척작업이 한 단계로 실시되고, 세척이 상기 염기성 용액에 의해 즉시 실시된다면, 생성물내에 존재하는 무기염을 세척제거하기 위해 특히 주의를 기울여야 될 것이다.In this particular embodiment according to the invention, one or more steps of said washing may be carried out, it being understood that the final washing is in all cases carried out by a basic solution having a pH of at least 8. If the washing operation is carried out in one step and the washing is carried out immediately with the basic solution, particular care should be taken to wash away the inorganic salts present in the product.

8 이상의 pH를 갖는 염기성 수용액으로서, 사용된 농도에서 8 이상의 pH를 갖는 용액을 형성하는 무기 또는 유기화합물의 특정 용액이 선택될 수 있다. 본 특허출원에서, pH는 모든 경우 용액의 pH가 보정된 pH 측정기를 사용하여 실온(20℃)에서 측정된 것을 의미한다. 당업자에게 있어서, 본 발명의 명세서에서 APM.Ace와 바람직하지 않은 방법으로 반응하거나, 또는 사용후에 얻어진 생성물내 바람직하지 못한 오염물 또는 바람직하지 못한 냄새 또는 맛 특성을 남기는 염기는 사용되지 않는다. 바람직하게는, 회수된 APM.Ace에 잔여물이 거의 또는 안 남는 염기를 사용한다.As the basic aqueous solution having a pH of 8 or more, a specific solution of an inorganic or organic compound which forms a solution having a pH of 8 or more at the concentration used may be selected. In this patent application, pH means that the pH of the solution was measured at room temperature (20 ° C.) in all cases using a calibrated pH meter. For those skilled in the art, no base is used in the context of the present invention that reacts with APM.Ace in an undesirable manner or leaves undesired contaminants or undesirable odor or taste characteristics in the product obtained after use. Preferably, a base is used which has little or no residue in the recovered APM.Ace.

본 발명의 명세서에서, 염기성 수용액에 사용될 수 있는 염기의 예로는 무기 수산화물, 가령 알칼리 수산화물 및 알칼리토류 수산화물, 예를 들어 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 및 수산화마그네슘, 또한, 수산화암모늄 뿐만 아니라 유기염기, 가령 예를 들어 벤조산 나트륨 또는 벤조산 칼륨 및 식료품을 제조하기 위해 사용하기에 적당한 유사한 염기가 있다.In the context of the present invention, examples of bases that can be used in basic aqueous solutions are inorganic hydroxides such as alkali hydroxides and alkaline earth hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide and magnesium hydroxide, as well as ammonium hydroxide as well as organic bases, For example sodium benzoate or potassium benzoate and similar bases suitable for use in preparing foodstuffs.

염기성 수용액은 수산화 나트륨 및/또는 수산화 칼륨의 용액이 바람직하다.The basic aqueous solution is preferably a solution of sodium hydroxide and / or potassium hydroxide.

바람직하게는, 기본적인 세척작업은 pH8-13, 특히 약 10.5 내지 약 11.5 범위의 pH를 갖는 염기의 수용액을 사용하여 실시된다. 매우 높은 pH, 예를 들어 13.5 이상의 값이 선택된다면, APM.Ace내 APM이 라세미화하기 시작하고/또는 에스테르 가수분해와 같은 바람직하지 못한 부반응 또는 디케토피페라진 형성에 대해 증가된 정도로 적용될 위험이 있다. 세척작업을 위해 사용되는 염기성 수용액의 pH가 8 이하로 선택된다면, 세척작업의 효과는 매우 낮다.Preferably, the basic washing is carried out using an aqueous solution of base having a pH of 8-13, in particular in the range of about 10.5 to about 11.5. If a very high pH is chosen, for example a value above 13.5, then there is a risk that APM in APM.Ace will begin racemizing and / or be applied to an increased degree for undesirable side reactions or diketopiperazine formation, such as ester hydrolysis. have. If the pH of the basic aqueous solution used for washing is selected to be 8 or less, the effect of the washing is very low.

보통, 세척작업에 사용된 염기성 용액의 온도는 20℃ 이하일 것이며, 15-5℃ 범위가 바람직하다. 세척작업 자체는 또한, 염기성 용액에 대해 상기 언급된 온도에서 실시되는 것이 바람직하다. 이는 세척작업동안 불필요한 온도변화를 막는다. 세척작업이 실시되는 온도가 높아질수록, 분리제거되는 모액을 통해 손실되는 소망하는 생성물(APM.Ace)의 정량은 증가할 것이다. 모액을 통해 제거되는 용해된 APM.Ace의 상기 정량은 회복될 수 있지만, 이는 추가의 공정단계를 필요로 한다는 것은 사실이다.Usually, the temperature of the basic solution used in the washing operation will be 20 ° C. or lower, with a range of 15-5 ° C. being preferred. The washing operation itself is also preferably carried out at the temperatures mentioned above for the basic solution. This prevents unnecessary temperature changes during cleaning. As the temperature at which the washing operation is carried out increases, the quantity of the desired product (APM. Ace) lost through the mother liquor to be separated off will increase. The above quantification of dissolved APM.Ace removed through the mother liquor can be recovered, but it is true that this requires an additional process step.

기본 세척작업에 소모되는 시간, 즉 염기성 수용액의 존재하에서 회수된 고체 APM.Ace의 잔류시간은 매우 중요하지 않다. 당업자는 세척작업을 위한 최적의 조건을 쉽게 결정할 수 있다. 명백하게, 바람직하지 못한 부산물의 분해 및/또는 형성될 위험은 기본적인 세척작업에 시간이 많이 걸릴수록 커진다. 보통, APM.Ace는 적어도 몇초, 보통 몇분 이하, 예를 들어 2 내지 20분동안 염기성 수용액과 접촉할 것이다. 기본적인 세척작업에 사용되는 시간, 액체 매질이 습식 결정 케이크에 존재하는 시간은 염기성 용액에 의해 대체되며, 당업자에 의해 명백한 바와 같이, 세척되는 APM.Ace의 양 및 상기를 위해 사용되는 장비에 일부의존한다.The time spent for the basic washing operation, ie the residence time of the solid APM. Ace recovered in the presence of basic aqueous solution, is not very important. One skilled in the art can easily determine the optimum conditions for the cleaning operation. Obviously, the risk of decomposition and / or formation of undesirable by-products increases as time goes by for basic cleaning operations. Usually, APM.Ace will be in contact with the basic aqueous solution for at least several seconds, usually up to several minutes, for example 2 to 20 minutes. The time used for the basic washing operation, the time the liquid medium is present in the wet crystal cake is replaced by a basic solution, and as apparent by the person skilled in the art, depends in part on the amount of APM.Ace washed and the equipment used for the above. do.

염기성 용액에 의한 세척작업 뿐만 아니라 종래의 세척작업은 당업자들에게 공지된 결정 세척방법을 사용하여 실시될 수 있다. 한 구체예에서, 수평 필터 클로쓰상에서 고체-액체 분리시에 얻은 APM.Ace 결정물질은 선택적으로, 결정 물질 상부에서 (작은) 층에 염기성 세척액을 가하고, 이를 필터 클로쓰 및 필터에 계속해서 채우면서 필터상에 과압을 가하거나 또는 감압하면서 같은 필터 클로쓰 상에서 처리될 것이다. 상기 필터 클로쓰는 원심분리기에 또한 설치될 수 있다.Conventional washing as well as washing with basic solutions can be carried out using crystal washing methods known to those skilled in the art. In one embodiment, the APM.Ace crystalline obtained upon solid-liquid separation on a horizontal filter cloth optionally adds a basic wash to the (small) layer on top of the crystalline material and continuously fills the filter cloth and filter with it. Overpressure on the filter, or on the same filter cloth with reduced pressure. The filter cloth may also be installed in a centrifuge.

본 발명에 따른 염기성 수용액에 의한 세척작업을 하기 전에, 바람직하게는 먼저 물에 의한 적어도 1회의 세척작업이 실시된다. 이는 본 발명에 필요한 염기성 세척수의 양 뿐만 아니라, 기본적인 세척작업의 결과로서 부산물이 형성되는 것을 제한할 수 있게 한다. 소망한다면, 본 발명에 따른 기본적인 세척작업은 또한, 소망하는 건성 생성물을 얻기 위해, 당업자에게 공지된 방법에 의해 건조시킴으로써, APM.Ace가 분해되기 전에 1회 이상 반복될 수 있다.Prior to washing with the basic aqueous solution according to the invention, preferably at least one washing with water is first carried out. This allows not only the amount of basic wash water required for the present invention, but also to limit the formation of by-products as a result of basic washing operations. If desired, the basic washing operation according to the invention can also be repeated one or more times before the APM. Ace is decomposed, by drying by methods known to those skilled in the art to obtain the desired dry product.

본 발명에 따른 방법에 사용되는 염기성 세척액의 양은 보통 중요하지 않을 것이다. 바람직하게는, APM.Ace의 양에 대한 염기성 수용액의 적어도 10wt.%(건성 중량에 계산됨)가 사용된다. 세척액의 최적량은 APM.Ace가 제조되는 방법 및 기본적 세척작업이 실시되는 조건 및 장비에 따라 당업자에 의해 간단하게 측정될 수 있다. 예를 들어, 습식 결정물질의 잔류 습기함량이 낮을 수록, 사용될 필요가 있는 염기성 세척액의 양은 적을 것이다.The amount of basic wash liquor used in the process according to the invention will usually not be critical. Preferably, at least 10 wt.% (Calculated on dry weight) of the basic aqueous solution relative to the amount of APM.Ace is used. The optimum amount of wash liquor can be simply determined by one skilled in the art depending on how APM.Ace is made and the conditions and equipment under which the basic wash operations are carried out. For example, the lower the residual moisture content of the wet crystalline material, the smaller the amount of basic wash solution that needs to be used.

본 발명은 또한, 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 건조된 결정 APM.Ace에 관한 것이며, 특히 입자의 적어도 15wt.%, 및 보다 바람직하게는 적어도 25wt.%는 200㎛ 이상이고, 선택적으로 건조하기 전에 기본적인 세척작업에 의해 또한 처리된다. 습식 고체 결정질 APM.Ace는 상기와 비슷하게, 공지된 방법으로 건조될 수 있다. 특히, 제조예가 수성 매질내에서 실시되는 상기 유럽특허 EP-0768041의 구체예에 따라 APM.Ace가 제조되는 경우, 건조시에 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 생성물을 형성하는 습식 고체 결정질 생성물로서 APM.Ace를 얻기 위한 측정법과 관련된 상기를 관찰하는 반면, 특히 양호한 열 안정성, 매우 낮은 잔류습기 함량 및 매우 낮은 흡습성을 갖는 건성 APM.Ace가 얻어지며, 이는 고온에서 건성의 상태로 길어진 저장시에 3A를 형성할 위험이 상당히 감소된다.The invention also relates to dried crystalline APM.Ace having a particle-size distribution with at least 10 wt.% Of the particles being at least 200 μm, in particular at least 15 wt.%, And more preferably at least 25 wt.% Of the particles being 200 And above, and optionally also treated by a basic washing operation before drying. The wet solid crystalline APM.Ace can be dried by known methods, similar to the above. In particular, when APM.Ace is prepared according to the embodiment of EP-0768041, in which the preparation is carried out in an aqueous medium, a product having a particle-size distribution with at least 10 wt. While the above is observed regarding the measurement to obtain APM.Ace as a wet solid crystalline product to form, a dry APM.Ace is obtained, in particular having good thermal stability, very low residual moisture content and very low hygroscopicity, which is dry at high temperatures. The risk of forming 3A upon prolonged storage at is significantly reduced.

본 발명에 따라, 고온, 즉 80℃에서 48시간동안 건조한 형태의 APM.Ace를 긴 노출을 포함하는 조건하에 3A가 형성될 수 있는 것과 관련된 증가된 안정성을 갖는 개선된 형태의 APM.Ace가 제공된다. 상기 개선된 형태의 APM.Ace에서, 상기 노출시에 3A 함량은 APM.Ace의 건조중량 기준부 10ppm의 검출한계 이하로 남는다.According to the present invention there is provided an improved form of APM.Ace with increased stability associated with the ability of 3A to form under conditions involving long exposure to dry form of APM.Ace for 48 hours at high temperature, ie 80 ° C. do. In the improved form of APM.Ace, the 3A content at the exposure remains below the detection limit of 10 ppm by dry weight basis of APM.Ace.

상기 APM.Ace는 그의 아세토아세트아미드 함량이 80℃에서 48시간동안 건조한 형태로 APM.Ace를 가열시에 APM.Ace의 건조중량에 대한 10ppm 이하로 남는 것을 특징으로 한다. APM.Ace의 다른 특성들은 본 발명전에 사용된 APM.Ace 제조방법에서 얻어진 생성물의 특성에 대응한다. 상기 생성물은 3A가 형성될 위험에 관해서만 최고기술수준의 생성물과 구별된다.The APM.Ace is characterized in that its acetoacetamide content remains at 10 ppm or less relative to the dry weight of APM.Ace when the APM.Ace is heated in a dry form at 80 ° C. for 48 hours. Other properties of APM.Ace correspond to those of the product obtained in the APM.Ace preparation method used before the present invention. The product is distinguished from the highest technical level only in terms of the risk that 3A is formed.

본 발명은 하기의 실시예 및 비교실시예를 참고하여 상술될 것이다. 실시예는 어느 방법으로도 본 발명을 제한하지 않는다.The invention will now be described with reference to the following examples and comparative examples. The examples do not limit the invention in any way.

3A에 대한 모든 분석은 HPLC(고속액체 크로마토그래피) 기술, 특히 구배용출방법을 사용하여 수행되었다. 주사부피는 모든 경우에 250마이크로리터이며; 전체 진행시간은 1.5㎖/분의 유속에서 50분이다.All analyzes for 3A were performed using HPLC (High Performance Liquid Chromatography) techniques, in particular gradient elution methods. Injection volume is 250 microliters in all cases; The total run time is 50 minutes at a flow rate of 1.5 ml / min.

장비: 20℃에서 설정된 열안정적으로 제어된 컬럼 오븐(휴렛 팩커드 HP 1090); 컬럼 길이 250㎜, 내부 직경 4㎜, 리크로스퍼(LiChrospher) 100RP-18에 의해 포장됨(5마이크로미터 입자;Merk); 가변성 파장 검출기(Spectra Physics, Spectra 200), 300㎚에서 UV 검출. 3A에 대한 검출한계 약 10ppm(건성 APM.Ace의 건조중량 기준부)Equipment: thermostable controlled column oven set at 20 ° C. (Hewlett Packard HP 1090); Column length 250 mm, inner diameter 4 mm, packed by LiChrospher 100RP-18 (5 micrometer particles; Merk); Variable wavelength detector (Spectra Physics, Spectra 200), UV detection at 300 nm. 10ppm detection limit for 3A (dry weight basis of dry APM.Ace)

이동상: 하기 성분들의 이동상,Mobile phase: a mobile phase of the following components,

(1)2배 희석수(1) 2 times dilution

(2)메탄올 HPLC 등급(Chromasolv; Riedel de Haen 34860)(2) Methanol HPLC Grade (Chromasolv; Riedel de Haen 34860)

(3)테트라부틸암모늄 황화수소(TBAHS); 플루카(Fluka) 86875(3) tetrabutylammonium hydrogen sulfide (TBAHS); Fluka 86875

(4)0.1M 수성 수산화칼륨 용액,(4) 0.1 M aqueous potassium hydroxide solution,

하기의 조성을 갖는 3개의 용매(A, B, C)를 제조하였다.Three solvents (A, B, C) having the following composition were prepared.

성분ingredient 용매 ASolvent A 용매 BSolvent B 용매 CSolvent C (1)(One) 2000㎖2000 ml 1800㎖1800 ml 2000㎖2000 ml (2)(2) 200㎖200 ml (3)(3) 6.8g6.8 g 6.8g6.8 g 6.8g6.8 g (4)(4) 5.6g5.6 g

사용된 용출구배는 하기와 같았다:The elution gradient used was as follows:

시간(분)Minutes 용매 A(%)Solvent A (%) 용매 B(%)Solvent B (%) 용매 C(%)Solvent C (%) 00 4040 1010 5050 1616 2020 3030 5050 1818 5050 5050 3333 5050 5050 3535 4040 1010 5050

pH 측정은 ROSS(상표명) 조합 pH 전극 8155SC를 구비한 Knick Portamess 752 칼리매틱(Calimatic) pH 측정기를 사용하여 실시하였다.pH measurements were performed using a Knick Portamess 752 Calimatic pH meter equipped with ROSS ™ pH electrode 8155SC.

실시예 ⅠExample I

50℃의 쉘 온도를 갖는 2-ℓ 결정화기에서, 교반에 의해 하기를 조합하였다: 탈염수 466g, AceK 141g(0.70moles), 및 APM 65g(0.21moles; 습기 함량 4%). 그후, pH가 3.5가 될때까지 25분동안 적하에 의해 33% HCl 수용액을 첨가하였다. 계속해서, APM 5g을 5분마다 첨가하고(전체 150g 여분첨가, 또는 0.49moles), pH는 추가의 HCl 용액을 적하첨가함으로써 3.5로 조절되었다. 모든 APM을 도입한후, 최종량의 33% HCl을 도입하여 33% HCl(0.70moles)중 전체 77g을 첨가하였다. 실험시작하고 3시간후, 냉각을 시작하였다(저온유지장치 10℃). 3시간 냉각후, 전반적으로, 슬러리 716g을 얻었다. 상기 슬러리는 10℃의 월 온도를 갖는 냉각된 뷔흐너(Buechner) 관내에서 여과제거되었으며, 10℃의 탈염수 180㎖에 의해 매번 2회 세척되고, 그의 pH는 고체 KOH에 의해 11.0으로 높아졌다. 수집된 습식 케이크의 습기 함량은 19.2wt.%이었다. 습식 케이크는 50℃의 유동층에서 1시간동안 건조시켰다. 건조시에 습기 함량은 0.1wt.% 이하였다. 입자의 41.6%는 200㎛ 이상이었다. 상기 생성물에서 아세토아세트아미드(3A)는 검증될 수 없었다.In a 2-L crystallizer having a shell temperature of 50 ° C., the following was combined by stirring: 466 g demineralized water, 141 g (0.70 moles) AceK, and 65 g (0.21 moles; moisture content 4%) of APM. Then, 33% HCl aqueous solution was added by dropping for 25 minutes until the pH reached 3.5. Subsequently, 5 g of APM was added every 5 minutes (overall 150 g extra, or 0.49 moles), and the pH was adjusted to 3.5 by dropwise addition of additional HCl solution. After all APMs were introduced, a final amount of 33% HCl was introduced to add 77 g total in 33% HCl (0.70 moles). Three hours after the start of the experiment, cooling was started (low temperature holding apparatus 10 ° C). After 3 hours cooling, overall, 716 g of slurry was obtained. The slurry was filtered off in a chilled Buchner tube with a month temperature of 10 ° C., washed twice each time with 180 ml of 10 ° C. demineralized water, and its pH was raised to 11.0 by solid KOH. The moisture content of the collected wet cakes was 19.2 wt.%. The wet cake was dried in a fluid bed at 50 ° C. for 1 hour. At the time of drying the moisture content was less than 0.1 wt.%. 41.6% of the particles were at least 200 μm. Acetoacetamide (3A) could not be verified in this product.

건조된 생성물은 48시간동안 80℃에서 유지되었으며, 그후 3A 함량은 재측정되었다. 여전히 3A는 검출되지 않았다. 60℃ 저장한지 13주후 및 1년 후에도 3A는 검출되지 않았다.The dried product was maintained at 80 ° C. for 48 hours, after which the 3A content was remeasured. Still no 3A was detected. Even after 13 weeks and 1 year of storage at 60 ° C, 3A was not detected.

실시예 ⅡExample II

50℃의 월을 구비한 30ℓ 결정화기에서, 탈염수 10㎏ 및 AceK 3.015㎏을 교반에 의해 조합하였다. 20분후, APM 1.3㎏(습기함량 4%)을 첨가하였다. 30분후, 33% HCl 수용액을 도입하기 시작하였다. 전체적으로, HCl 수용액 1.646㎏을 첨가해야 했다. 1시간후, HCl 용액 24wt.%를 첨가하고, 전체 APM의 양을 28.3wt.%으로 하였다. 계속해서 APM 165g을 5분마다 첨가하고, 전체 HCl 용액을 첨가하였다. 실험 시작한지 3시간후, 냉각을 시작하였다(저온유지장치 10℃). 냉각 2시간후, 슬러리 온도는 11℃였다. 슬러리를 1.75㎏ 일부에서 10℃의 월을 구비한 냉각식 뷔흐너 관내에서 여과제거하였다.In a 30 L crystallizer with a month at 50 ° C., 10 kg of demineralized water and 3.015 kg of AceK were combined by stirring. After 20 minutes, 1.3 kg of APM (4% moisture content) were added. After 30 minutes, a 33% aqueous HCl solution was introduced. In total, 1.646 kg of aqueous HCl solution had to be added. After 1 hour, 24 wt.% HCl solution was added and the total APM amount was 28.3 wt.%. Then 165 g of APM was added every 5 minutes and the total HCl solution was added. Three hours after the start of the experiment, cooling was started (low temperature holding apparatus 10 ° C). After 2 hours of cooling, the slurry temperature was 11 ° C. The slurry was filtered off in a chilled Büchner tube with a month of 10 ° C. at a portion of 1.75 kg.

2배 200㎖ 탈염수에 의해 상기중 2군데를 세척하고; 다른 곳은 먼저 탈염수 200㎖로 세척하고, 고체 KOH에 의해 pH가 10.7로 높아진 탈염수 200㎖로 세척하였다. 그후, 일부 750g을 50℃에서 1시간동안 유동층에서 건조시켰다. 상기 건조후, 습기 함량은 0.1wt.% 이하였다. 입자의 약 31wt.%는 200㎛ 이상이었다. 아세토아세트아미드(3A)를 상기 일부에서 검출할 수 없었다.Wash two of them with twice 200 mL demineralized water; The other place was first washed with 200 ml of demineralized water and then with 200 ml of demineralized water whose pH was raised to 10.7 by solid KOH. Thereafter, some 750 g were dried in a fluidized bed at 50 ° C. for 1 hour. After the drying, the moisture content was 0.1 wt.% Or less. About 31 wt.% Of the particles were at least 200 μm. Acetoacetamide (3A) could not be detected in some of the above.

건조된 생성물 일부의 시료를 80℃에서 48시간동안 유지하였으며, 이때 3A 함량은 재측정하였다. 어느 경우에도, 3A는 검출할 수 없었다. 저장한지 13주, 1년후에도 3A는 검출되지 않았다.Samples of some of the dried product were maintained at 80 ° C. for 48 hours, with the 3A content being remeasured. In either case, 3A could not be detected. Even after 13 weeks and 1 year of storage, 3A was not detected.

비교실시예 AComparative Example A

20℃의 쉘 온도를 갖는 25ℓ 결정화기에 탈염수 20ℓ를 채우고, 이에 AceK 6.03㎏(30moles)을 첨가하였다. 쉘 온도 자동온도조절기를 50℃에서 설정하여, 결정화기 온도를 실험하는 동안 점차적으로 높였다. 그리고, 2분내에 APM 3,07㎏을 교반하면서 첨가하였다(10moles; 습기함량 4%). 전체 APM 첨가시간동안, 33% HCl 수용액을 35g/분의 속도로 첨가하였다. 9분후, 반응혼합물을 더이상 교반하지 않고, 그후 물 5㎏을 추가로 첨가하였다. 10분후 APM 500g을 첨가하엿다. 그후 20분동안 매 5분마다 APM 500g을 첨가하였다. 반응혼합물이 다시 농후해짐에 따라, APM 첨가를 15분동안 정지했다. 그후 30분동안 매 5분마다 APM 500g을 첨가하고, APM 630g을 마지막으로 첨가하였다. 첨가된 APM의 전체 양은 92.2㎏(30moles)이었으며, 첨가된 HCl 용액의 전체 양은 3.3㎏(30moles)이었다. 온도자동조절기는 10℃에서 계속해서 설정하였다. 3시간 냉각후, 결정화기 온도는 22.8℃이었으며, 슬러리는 3ℓ에서 원심분리하였다. 각 부분은 20℃의 탈염수 300㎖에 의해 2회 세척하였다. 수집된 습식 케이크의 습기 함량은 5.7%이었다. 습식 케이크는 50℃의 날 건조기에서 저속(약 70rpm)으로 3시간동안 건조시켰다. 건성 APM.Ace 12.25㎏을 얻었다. 건조시에 습기 함량은 0.1wt.% 이하였다. 입자의 약 2.8wt.%는 200㎛이었다. 상기 생성물내에서 아세토아세트아미드(3A)는 검출할 수 없었다.A 25 L crystallizer having a shell temperature of 20 ° C. was charged with 20 L demineralized water, and 6.03 kg (30 moles) of AceK was added thereto. The shell temperature thermostat was set at 50 ° C. to gradually raise the crystallizer temperature during the experiment. Then, 3,07 kg of APM was added while stirring (2 moles; 4% moisture content) within 2 minutes. During the entire APM addition time, 33% HCl aqueous solution was added at a rate of 35 g / min. After 9 minutes, the reaction mixture was no longer stirred, after which additional 5 kg of water was added. After 10 minutes, 500 g of APM was added. Then 500 g of APM was added every 5 minutes for 20 minutes. As the reaction mixture became thicker again, APM addition was stopped for 15 minutes. Then 500 g of APM was added every 5 minutes for 30 minutes and 630 g of APM was added last. The total amount of APM added was 92.2 kg (30 moles) and the total amount of HCl solution added was 3.3 kg (30 moles). The thermostat was set continuously at 10 ° C. After 3 hours of cooling, the crystallizer temperature was 22.8 ° C. and the slurry was centrifuged at 3 L. Each portion was washed twice with 300 ml of demineralized water at 20 ° C. The moisture content of the collected wet cakes was 5.7%. The wet cake was dried at 50 ° C. in a day dryer at low speed (about 70 rpm) for 3 hours. 12.25 kg of dry APM.Ace was obtained. At the time of drying the moisture content was less than 0.1 wt.%. About 2.8 wt.% Of the particles were 200 μm. Acetoacetamide (3A) could not be detected in the product.

건성 생성물은 80℃에서 48시간동안 유지하였으며, 그후 3A 함량은 재측정하였다. 상기 시간에 3A 함량은 17ppm이었다.The dry product was maintained at 80 ° C. for 48 hours after which the 3A content was remeasured. At this time the 3A content was 17 ppm.

건성 APM.Ace의 시료를 14주동안 40℃에서 저장한후, 3A는 생성물내에서 검출할 수 없었다.After storing samples of dry APM.Ace at 40 ° C. for 14 weeks, 3A could not be detected in the product.

60℃에서 건성 APM.Ace를 1개월 저장한후, 3A 17ppm이 발견되었다. 60℃에서 13주 저장후, 3A의 농도는 32ppm으로 높아졌다.After 1 month of storage of dry APM.Ace at 60 ° C., 17 ppm of 3A were found. After 13 weeks storage at 60 ° C., the concentration of 3A increased to 32 ppm.

비교실시예 BComparative Example B

교반에 의해, 탈염수 688g, AceK 141g(0.70moles) 및 APM 215g(0.70moles; 습기 함량 4%)을 1-ℓ 결정화기에서 조합하였다. 계속해서, 50℃로 가열하고, 20% HCl 수용액 127.7g을 33분내에 피펫에 의해 적하첨가하였다. 초기에, 교반하기 어려운 슬러리가 형성되었으며; 이후에 농후해졌다. HCl 용액을 첨가한후, 냉각을 시작하였다(저온유지장치 10℃). 2시간 냉각후, 전체적으로 슬러리를 10℃의 월을 구비한 냉각식 뷔흐너 관내에서 여과제거되고, 그후 매회 10℃의 탈염수 180㎖에 의해 2회 세척하였다. 수집된 습식 케이크의 습기 함량은 34wt.%이었다. 습식 케이크는 50℃의 유동층에서 1시간동안 건조시켰다. 건조시에 습기함량은 0.1wt.% 이하였다. 입자의 8.7wt.%가 200㎛ 이상이었다.By stirring, 688 g demineralized water, 141 g (0.70 moles) of AceK and 215 g (0.70 moles; 4% moisture content) of APM were combined in a 1-L crystallizer. Subsequently, it heated to 50 degreeC, and 127.7 g of 20% HCl aqueous solution was added dropwise by pipette within 33 minutes. Initially, a slurry that was difficult to stir was formed; After that it became thick. After the HCl solution was added, cooling was started (cold keeping 10 ° C). After cooling for 2 hours, the slurry as a whole was filtered off in a cooled Buchner tube with a 10 ° C. month, and then washed twice with 180 ml of demineralized water at 10 ° C. each time. The moisture content of the collected wet cakes was 34 wt.%. The wet cake was dried in a fluid bed at 50 ° C. for 1 hour. The moisture content at the time of drying was 0.1 wt.% Or less. 8.7 wt.% Of the particles were at least 200 μm.

건조된 생성물은 80℃에서 48시간동안 유지되었으며, 이때 3A 함량을 재측정하였다. 3A는 검출될 수 있었다.The dried product was maintained at 80 ° C. for 48 hours, at which time the 3A content was remeasured. 3A could be detected.

Claims (19)

액체 매질내에서 제조하고, 그로부터 고체-액체 분리법에 의해 습식 고체생성물로서 분리하고, 이후 건조함으로써 고체 및 건조형태의 아세설팜산 및 아스파탐의 염을 제조하는 방법에 있어서,A process for preparing salts of acesulfame acid and aspartame in solid and dry form, which is prepared in a liquid medium, therefrom separated as a wet solid product by solid-liquid separation, and then dried. 아세설팜산 및 아스파탐의 염은 건조시에 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 생성물을 형성시키는 습식 고체 결정질 생성물로서 사용가능한 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.Salts of acesulfamic acid and aspartame can be used as wet solid crystalline products which, when dried, form a product having a particle-size distribution with at least 10 wt.% Of particles of at least 200 μm. Way. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 아세설팜산 및 아스파탐의 염은 건조시에 입자의 적어도 15wt.%, 특히 적어도 25wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 생성물을 형성시키는 습식 고체 결정질 생성물로서 사용가능한 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.Acesulfame acids and salts of aspartame can be used as wet solid crystalline products which, when dried, form a product having a particle-size distribution with at least 15 wt.%, In particular at least 25 wt.%, Of at least 200 μm. Method for preparing salts of palmic acid and aspartame. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 아세설팜산 및 아스파탐의 염은:Salts of acesulfame and aspartame are: a)40 내지 65℃, 바람직하게는 약 50℃의 온도의, 수성 매질내에서 교반하면서 아세설팜산 및 아스파탐의 염(APM.Ace) 또는 그의 일부를 제조하는 반응에 요구되는 아세설팜산(AceH)의 무기염의 전체 양을 공급하는 단계;a) Acesulfame acid (AceH) required for the reaction to prepare acesulfame acid and salts of aspartame (APM.Ace) or portions thereof with stirring in an aqueous medium at a temperature between 40 and 65 ° C., preferably about 50 ° C. Supplying the total amount of inorganic salts); b)상기 a)에 공급된 AceH의 무기염의 몰당량에 대해 몰당량으로서 계산된, 약 2 내지 50% APM을 같은 온도에서, 그리고 교반하면서, 또는 교반을 계속하면서 첨가하는 단계;b) adding about 2-50% APM, calculated as molar equivalents to molar equivalents of the inorganic salt of AceH supplied in a) above, at the same temperature, and while stirring or continuing stirring; c)첨가된 강산의 전체 양이 b)에서 첨가된 APM에 대해 작은 몰결핍량으로 같은 온도 및 교반을 계속하면서 반응시스템에 강산을 천천히 첨가하는 단계;c) slowly adding the strong acid to the reaction system while continuing the same temperature and stirring with a small molar deficit with respect to the APM added in b) in the total amount of the strong acid added; d)같은 온도에서, 그리고 교반을 계속하면서, 몰당량 이상 또는 이하에서, AceH의 무기염을 추가첨가하고, APM 및 강산을 천천히 추가첨가한다면 사용된 APM의 전체 양이 AceH의 무기 염의 공급된 전체 양에 대해 대략 당량일때까지, 공급된 APM의 전체 양은 AceH의 무기염의 첨가량보다 적게 유지되는 것이 지속적으로 보장되는 단계;d) At the same temperature and while stirring, above or below the molar equivalent, adding the inorganic salt of AceH and slowly adding the APM and the strong acid, the total amount of APM used is the total supplied of the inorganic salt of AceH Continuously ensuring that the total amount of APM supplied is kept less than the amount of inorganic salt of AceH added until it is approximately equivalent to the amount; e)같은 온도에서 교반을 계속하면서, 강산을 첨가하는 것을 투여된 전체 APM 양에 대해 더이상 부족하지 않을때까지 천천히 지속시키는 단계e) continuing stirring at the same temperature, slowly adding strong acid until no longer insufficient for the total amount of APM administered; 에 의해 연속적으로 제조되는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.Method for producing a salt of acesulfame acid and aspartame, characterized in that continuously produced by. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 단계 c) 및 d), 및 선택적으로 또한 e)는 상기 pH가 3 이상으로 가능한한 오래 유지되는 반응동안 pH를 측정하면서 진행되는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.Steps c) and d), and optionally also e), proceeding while measuring the pH during the reaction, wherein the pH is maintained as long as 3 or more as long as possible. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 상기 강산을 첨가하는 초반부부터 강산을 첨가하는 후반부까지의 상기 온도에서 잔류시간은 적어도 1시간인 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.A method for producing salts of acesulfame and aspartame, characterized in that the residence time is at least 1 hour at the temperature from the beginning of the addition of the strong acid to the latter part of the addition of the strong acid. 제 3 항 또는 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 3 to 5, 반응시스템은 아세설팜산 및 아스파탐의 염을 형성하는 동안 반응을 통해 교반가능한 슬러리가 존재하는 방법으로 교반되는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.Wherein the reaction system is stirred in such a way that a stirrable slurry is present through the reaction while forming the salts of acesulfame acid and aspartame. 제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 3 to 6, 형성되는 아세설팜산 및 아스파탐의 염은 액체 매질로부터 습식 고체 결정질 생성물로서 분리되며, 60℃ 이하, 바람직하게는 약 50℃에서 계속해서 건조되는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.The salts of acesulfamic acid and aspartame formed are separated from the liquid medium as wet solid crystalline products and are subsequently dried at 60 ° C. or lower, preferably about 50 ° C. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 아세설팜산 및 아스파탐의 염은 건성 생성물의 전체중량 기준부 0.1wt.% 이하의 습기 함량으로 건조되는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.A salt of acesulfame acid and aspartame is dried to a moisture content of 0.1 wt.% Or less based on the total weight of the dry product. 제 3 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 3 to 8, 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 액체 매질을 제조시에 고체 형태로 얻어지고, 고체-액체 분리법에 의해 액체 매질로부터 습식 고체 생성물로서 분리된 생성물은 또한, 건조전에 한 단계 이상에서 세척작업에 들어가며, 상기 세척작업중 적어도 마지막에는 8 이상의 pH를 갖는 염기성 수용액에 의해 세척되는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.The product obtained in the form of a liquid medium of the salts of acesulfamic acid and aspartame and separated as a wet solid product from the liquid medium by solid-liquid separation is also subjected to a washing operation in at least one step before drying. At least at the end of the washing operation, the method for producing salts of acesulfame and aspartame, characterized in that the washing with a basic aqueous solution having a pH of 8 or more. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 염기성 수용액은 수산화나트륨 및/또는 수산화칼륨의 용액인 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.The basic aqueous solution is a solution of acesulfame acid and aspartame, characterized in that a solution of sodium hydroxide and / or potassium hydroxide. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,The method according to claim 9 or 10, 염기성 수용액은 8-13, 특히 대략 10.5 내지 대략 11.5 범위의 pH를 갖는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.The basic aqueous solution has a pH of 8-13, in particular in the range from about 10.5 to about 11.5. 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 to 11, 염기성 수용액의 온도는 20℃ 이하, 특히 5-15℃ 범위내에 있는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.A method for producing salts of acesulfame and aspartame, characterized in that the temperature of the basic aqueous solution is at most 20 ° C, in particular within the range of 5-15 ° C. 제 9 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 to 12, 세척작업은 20℃ 이하 및 특히 5-15℃ 범위의 온도에서 실시되는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.The washing operation is a process for preparing salts of acesulfame and aspartame, characterized in that it is carried out at a temperature of less than 20 ℃ and in particular in the range of 5-15 ℃. 제 9 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 to 13, 아세설팜산 및 아스파탐의 염은 적어도 몇초, 바람직하게는 2 내지 20분동안 염기성 수용액과 접촉되는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.A salt of acesulfame acid and aspartame is contacted with basic aqueous solution for at least several seconds, preferably 2 to 20 minutes. 제 9 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 to 14, 염기성 수용액에 의한 세척작업전에, 먼저 적어도 물에 의한 세척작업이 실시되는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.A method for producing salts of acesulfame and aspartame, wherein before washing with a basic aqueous solution, washing with at least water is carried out. 제 9 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 to 15, 아스파탐 및 아세설팜산의 염의 양(건조중량기준부)에 대해 염기성 수용액의 적어도 10wt.%를 사용하는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염의 제조방법.A method for producing salts of acesulfame and aspartame, characterized in that at least 10 wt.% Of the basic aqueous solution is used relative to the amount (as dry weight basis) of salts of aspartame and acesulfame. 안정성이 높아진 아세설팜산 및 아스파탐의 염에 있어서,For salts of acesulfamic acid and aspartame which have increased stability, 80℃의 온도에서 48시간동안 건조형태의 상기 염을 가열할때 아세토아세트아미드 함량은 염의 건조중량기준부 10ppm 이하인 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염.Salt of acesulfame acid and aspartame, characterized in that the acetoacetamide content is less than 10 ppm by dry weight of salt when the salt is heated for 48 hours at a temperature of 80 ° C. 건조형태에서 입자의 적어도 10wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 아세설팜산 및 아스파탐의 염.Salts of acesulfame acid and aspartame having a particle-size distribution with at least 10 wt.% Of the particles in dry form of at least 200 μm. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 건조형태에서 입자의 적어도 15wt.%, 특히 적어도 25wt.%가 200㎛ 이상인 입자-크기 분포도를 갖는 것을 특징으로 하는 아세설팜산 및 아스파탐의 염.Salts of acesulfame and aspartame, characterized in that in dry form at least 15 wt.%, In particular at least 25 wt.%, Have a particle-size distribution of at least 200 μm.
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