KR20010033739A - Low Haze, Speckle Free Polyester Film - Google Patents

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KR20010033739A KR1020007007262A KR20007007262A KR20010033739A KR 20010033739 A KR20010033739 A KR 20010033739A KR 1020007007262 A KR1020007007262 A KR 1020007007262A KR 20007007262 A KR20007007262 A KR 20007007262A KR 20010033739 A KR20010033739 A KR 20010033739A
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쥬네이드 에이. 시디퀴
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메리 이. 보울러
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Abstract

태양창에 사용하기 적합한, 흐림도가 낮고 반점이 없는 폴리에스테르 필름이 개시되어 있다. 이 필름은 소성된 실리콘 입자와 흄드 실리카 응집체의 혼합물을 포함한다. 본질적으로 모든 소성된 실리콘 입자는 입자 크기가 약 7 미크론 이하이고, 본질적으로 모든 흄드 실리카 응집체는 각 응집체 크기가 1 미크론 이하다. 필름은 매우 투명하고 최소한의 흐림도를 갖는다.A low haze and spotless polyester film suitable for use in solar windows is disclosed. The film comprises a mixture of calcined silicon particles and fumed silica agglomerates. In essence, all fired silicon particles have a particle size of about 7 microns or less, and in essence, all fumed silica aggregates have a size of each micron or less. The film is very transparent and has a minimal blur.

Description

흐림도가 낮고 반점이 없는 폴리에스테르 필름 {Low Haze, Speckle Free Polyester Film}Low haze, spotless polyester film {Low Haze, Speckle Free Polyester Film}

중합성 선형 폴리에스테르 필름은 우수한 연신 배향을 갖고, 이축 필름 배향에 특별히 매우 적합한 것으로 판명되었다. 이들 중합성 필름, 특히 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 필름은 강하고, 우수한 고유의 화학적 특성 및 열적 특성을 갖는다. 또한, 이들 필름은 우수한 광학 투명도, 인성, 정전 특성을 갖는 바, 이로 인해 무수한 용도로 사용하기에 매우 적합하게 된다.Polymerizable linear polyester films have excellent stretch orientation and have been found to be particularly well suited for biaxial film orientation. These polymerizable films, in particular polyethylene terephthalate (PET) films, are strong and have excellent inherent chemical and thermal properties. In addition, these films have excellent optical transparency, toughness, and electrostatic properties, which makes them very suitable for use in countless applications.

표면 미끄러짐을 제어하는 것은, 폴리에스테르 필름을 상업적으로 사용하기 위해 필요한 주요 요구 사항이다. 미끄러짐은 필름, 특히 얇은 필름의 가공성에 있어서 중요하다. 미끄러짐은 전형적으로, 표면 조도를 개선시키기 위해 충전제를 혼입함으로써 제어된다. 이들 첨가제로는 실리카, 고령토, 알루미늄 실리케이트, 칼슘 포스페이트, 및 유리와 같은 재료로 된 불활성 입자를 들 수 있다. 이들 충전제를 첨가함으로써 필름의 권취성(winding property) 및 슬릿성(slitting property)이 개선된다.Controlling surface slippage is a major requirement for commercial use of polyester films. Slip is important in processability of films, especially thin films. Slip is typically controlled by incorporating fillers to improve surface roughness. These additives include inert particles of materials such as silica, kaolin, aluminum silicate, calcium phosphate, and glass. By adding these fillers, the winding and slitting properties of the film are improved.

그러나, 이들 첨가제에 의해 필림이 흐려지고 투명도가 손실됨으로써, 필름이 태양창(solar window)과 같은 특정 설비에 부적합하게 된다. 시디퀴(Siddiqui)의 미국 특허 제5,132,356호에는 유리구와 흄드 실리카 응집체를 함유한 선형 폴리에스테르 필름이 개시되어 있다. 이들 재료를 첨가함으로써 필름의 동적 마찰 계수 및 정전 계수가 개선된다. 이 필름이 태양창 설비에 적합하더라도, 흐림도가 낮고 반점이 소량 존재하고, 필름 표면에서 광의 광학적 뒤틀림이 존재한다.However, the film blurs and the transparency is lost by these additives, making the film unsuitable for certain installations, such as solar windows. Siddiqui, US Pat. No. 5,132,356, discloses a linear polyester film containing glass spheres and fumed silica aggregates. By adding these materials, the dynamic coefficient of friction and the static coefficient of the film are improved. Although the film is suitable for solar installations, there is a low haze, small amounts of spots, and optical distortion of light at the film surface.

밀즈(Mills), 시디퀴, 및 라코스(Rakos)의 국제 특허 공개 WO 제96/01739호 (PCT/GB95/01589)에는 표면에 점토 입자와 조합된 소성된 실리콘 수지 입자 및(또는) 실리콘 수지 입자를 포함하는 중합성 재료층을 갖는 중합성 재료층으로 이루어진 중합성 필름이 개시되어 있다. 필름의 광학 및 취급 특성이 개선되어도, 단층 필름보다 제조비가 더욱 고가이다. 또한, 입자의 부피 분포 중앙 입자 직경은 1.5 내지 12.5 미크론이다. 약 7 미크론을 초과하는 입자의 존재로 인해 반점이 생길 수 있다.Mills, Sidiqui, and Rakos, International Patent Publication No. WO 96/01739 (PCT / GB95 / 01589) disclose fired silicone resin particles and / or silicone resins in combination with clay particles on their surface. A polymerizable film composed of a polymerizable material layer having a polymerizable material layer containing particles is disclosed. Even if the optical and handling characteristics of the film are improved, the manufacturing cost is more expensive than that of the single layer film. In addition, the volume distribution median particle diameter of the particles is 1.5 to 12.5 microns. The presence of particles in excess of about 7 microns can result in spots.

따라서, 태양창 설비에 유용한 우수한 미끄러짐 특성을 갖고 흐림도와 반점이 감소된 폴리에스테르 필름이 계속적으로 요구되어 왔다.Accordingly, there has been a continuing need for polyester films having good slip properties useful for solar installations and reduced cloudiness and spots.

<발명의 개요><Summary of invention>

본 발명은 우수한 미끄러짐 특성을 갖고, 흐림도와 반점이 감소된 배향된 열경화성 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 이 필름은 (a) 필름의 중량을 기준으로 소성된 실리콘 입자 (이 소성된 실리콘 입자 중 약 100%는 입자 크기가 약 7 미크론 이하임) 약 2 ppm 내지 약 20 ppm, 및The present invention relates to an oriented thermosetting polyester film having good slip properties and reduced cloudiness and spots. The film comprises (a) about 2 ppm to about 20 ppm of calcined silicon particles (about 100% of the calcined silicon particles have a particle size of about 7 microns or less), and

(b) 필름의 중량을 기준으로 흄드(fumed) 실리카 응집체 (이 응집체 중 약 100%는 응집체 크기가 약 1 미크론 이하임) 약 20 ppm 내지 약 6000 ppm을 포함한다.(b) fumed silica agglomerates (about 100% of the agglomerates have an aggregate size of about 1 micron or less) based on the weight of the film.

이 필름은 태양창 설비에 필요한 우수한 미끄러짐 특성 뿐만 아니라 광학 특성을 갖는다. 흄드 실리카 응집체와 소성된 실리콘 입자의 굴절률이 첨가제를 함유하지 않은 이축 배향된 폴리에틸렌 테레프탈레이트의 굴절률과 근사하기 때문에, 이 필름은 매우 투명하고 최소의 흐림도를 갖는다.The film has optical properties as well as good slip properties needed for solar window installations. Since the refractive index of the fumed silica agglomerates and calcined silicon particles is close to the refractive index of the biaxially oriented polyethylene terephthalate containing no additives, the film is very transparent and has a minimum blur.

본 발명은 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 소성된 실리콘 입자와 흄드(fumed) 실리카 입자를 함유하고, 흐림도(haze)가 낮고, 반점(speckle)이 없는 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a polyester film. Specifically, the present invention relates to a polyester film containing calcined silicon particles and fumed silica particles, having a low haze and no speckle.

도 1은 300 ℃에서 45분 동안 소성시킨 후의 토스펄(Tospearl) 130 실리콘 수지 입자의 입자 크기 분포를 나타낸다.1 shows particle size distribution of Tospearl 130 silicone resin particles after firing at 300 ° C. for 45 minutes.

소성된 실리콘 입자Fired silicon particles

실리콘 입자는 하기 식의 3차원 중합체 쇄를 포함한다:The silicon particles comprise three-dimensional polymer chains of the formula:

RxSiO2-(x/2) R x SiO 2- (x / 2)

상기 식에서,Where

x는 1 이상의 양수, 바람직하게는 1 내지 1.9, 더욱 바람직하게는 1 내지 1.5, 가장 바람직하게는 1 내지 1.2이고,x is at least one positive number, preferably 1 to 1.9, more preferably 1 to 1.5, most preferably 1 to 1.2,

R은 지방족 탄화수소기, 예를 들어 메틸, 에틸, 또는 부틸, 또는 방향족 탄화수소기, 예를 들어 페닐, 불포화기, 예를 들어 비닐과 같은 유기기, 또는 이들 기 2 이상의 혼합기이다.R is an aliphatic hydrocarbon group such as methyl, ethyl or butyl, or an aromatic hydrocarbon group such as phenyl, an unsaturated group such as vinyl or an organic group such as two or more of these groups.

R은 바람직하게는 탄소수 1 내지 8, 더욱 바람직하게는 1 내지 5의 탄화수소기이다. R은 가장 바람직하게는 메틸이다. 특히 바람직한 실리콘 수지 입자는 메틸 세스퀴옥산을 포함한다. 실리콘 입자는 상기한 국제 특허 공개 WO 제96/01739호에 상세히 기재되어 있다.R is preferably a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms. R is most preferably methyl. Particularly preferred silicone resin particles include methyl sesquioxanes. Silicone particles are described in detail in the above-mentioned International Patent Publication No. WO 96/01739.

실리콘 입자는 하기 구조식의 혼합물을 포함하는, 실록산 결합의 가교된 망상구조를 갖는다:The silicon particles have a crosslinked network of siloxane bonds, comprising a mixture of the following structural formulas:

RSi(O-)3및 (R)2Si(O-)2 RSi (O-) 3 and (R) 2 Si (O-) 2

상기 식에서, R은 상기 정의한 바와 같다.Wherein R is as defined above.

적합한 실리콘 입자는 일본 도쿄 소재의 도시바 실리콘 (Toshiba Silicone) Co., Ltd.,로부터 상표명 "Tospearl"의 실리콘 수지 입자로서 시판된다. 이 입자는 각 규소 원자가 1개의 메틸기에 결합된 3차원 망상 구조를 갖는다. 소성에 의해 일부 또는 전체의 기 또는 R기가 제거되어, x 값이 감소된다. 모든 유기기가 제거되면 (즉, x는 0임), 입자가 실리카 (SiO2)로 전환된다.Suitable silicone particles are commercially available as silicone resin particles under the trade name "Tospearl" from Toshiba Silicone Co., Ltd., Tokyo, Japan. This particle has a three-dimensional network structure in which each silicon atom is bonded to one methyl group. Firing removes some or all of the groups or R groups, thereby reducing the x value. Once all organic groups are removed (ie x is zero), the particles are converted to silica (SiO 2 ).

소성된 실리콘 입자를 형성하기 위해서, 입자를 약 300 ℃ 내지 400 ℃에서 약 30분 내지 약 3 시간 동안, 바람직하게는 약 300 ℃에서 약 45분 동안 소성한다. 소성은 공기 중에서 또는 질소와 같은 적합한 불활성 대기 중에서 수행될 수 있다. 소성 중 일부 또는 전체의 유기 물질을 제거함으로써 입자 중량을 감소시킨다. 입자는 전형적으로 이런 조건 하에서 소성될 때 그의 초기 중량의 약 3% 내지 약 5%, 바람직하게는 약 2% 내지 약 4%를 감소시킨다.To form calcined silicon particles, the particles are calcined at about 300 ° C. to 400 ° C. for about 30 minutes to about 3 hours, preferably at about 300 ° C. for about 45 minutes. Firing may be carried out in air or in a suitable inert atmosphere such as nitrogen. Particle weight is reduced by removing some or all of the organic material during firing. The particles typically reduce from about 3% to about 5%, preferably from about 2% to about 4% of their initial weight when fired under these conditions.

소성된 실리콘 입자의 다공성은 중합체에 대한 입자의 접착력을 증진시킨다. 소성된 실리콘 입자 (모브(mob) 경도: 3)가 유리 입자 (모브 경도: 6)에 비해 연성이기 때문에 권취 및 슬릿화 공정 중에 필름을 스크래칭(scratching)하는 경향이 덜하다.The porosity of the calcined silicon particles enhances the adhesion of the particles to the polymer. Since the calcined silicon particles (mob hardness: 3) are soft compared to the glass particles (mob hardness: 6), there is less tendency to scratch the film during the winding and slitting process.

흄드 실리카 응집체Fumed Silica Aggregates

사염화규소 (SiCl4)는 수소 불꽃 중에서 반응하여 단일 구형 이산화규소 소적들을 형성하고, 이것이 충돌을 통해 성장하고 합체되어 보다 큰 소적들을 형성한다. 소적들이 계속 충돌하면서 냉각되어 동결되기 시작함에 따라, 소적들이 합체되지는 않으면서 함께 고착되어 고상 응집체를 형성한다. 응집체들은 계속 충돌하여 응집체로서 알려진 클러스터(cluster)를 형성한다. 제조자가 부여하는 흄드 실리카 입자의 입자 크기는, 응집체의 크기가 아니고 냉각된 단일 구형 소적의 입자 크기를 의미한다.Silicon tetrachloride (SiCl 4 ) reacts in a hydrogen flame to form single spherical silicon dioxide droplets, which grow through coalescence and coalesce to form larger droplets. As the droplets continue to collide and cool and begin to freeze, the droplets are stuck together without coalescing to form a solid aggregate. Aggregates continue to collide to form clusters known as aggregates. The particle size of the fumed silica particles imparted by the manufacturer means the particle size of the cooled single spherical droplets rather than the size of the aggregates.

조성Furtherance

필름은 소성된 실리콘 입자를 필름의 중량을 기준으로 약 2 내지 약 20 ppm, 바람직하게는 약 4 내지 약 10 ppm 포함한다.The film comprises calcined silicon particles about 2 to about 20 ppm, preferably about 4 to about 10 ppm by weight of the film.

약 100%의 (즉, 본질적으로 모든) 소성된 실리콘 입자의 입자 크기는 약 7 미크론 이하다. 바람직하게는 약 100%의 입자는 입자 크기가 6 미크론 이하, 더욱 바람직하게는 5.5 미크론 이하다. 더욱 바람직하게는, 약 100%의 소성된 실리콘 입자는 입자 크기가 약 6 미크론 이하이고, 약 95% 이상은 입자 크기가 약 5 미크론 이하이고, 50%는 입자 크기가 약 2.2 미크론 이하다. 소성된 실리콘 입자는 전형적으로 평균 입자 크기가 약 2 내지 약 3 미크론, 바람직하게는 약 2 내지 약 2.4 미크론, 더욱 바람직하게는 약 2.2 미크론이다. 약 7 미크론을 초과하는 입자의 존재로 인해 반점이 생길 수 있기 때문에, 보다 큰 입자를 제거함으로써 반점이 감소된다. 시디퀴의 미국 특허 제5,132,356호에 개시된 유리 입자 중에서, 예를 들어 약 3%의 유리 입자는 입자 크기가 약 7 미크론을 초과한다.The particle size of about 100% (ie, essentially all) of the calcined silicon particles is about 7 microns or less. Preferably, about 100% of the particles have a particle size of 6 microns or less, more preferably 5.5 microns or less. More preferably, about 100% of the calcined silicon particles have a particle size of about 6 microns or less, at least about 95% have a particle size of about 5 microns or less, and 50% have a particle size of about 2.2 microns or less. Calcined silicon particles typically have an average particle size of about 2 to about 3 microns, preferably about 2 to about 2.4 microns, more preferably about 2.2 microns. Because spots can occur due to the presence of particles in excess of about 7 microns, spots are reduced by removing larger particles. Of the glass particles disclosed in U.S. Patent No. 5,132,356 to Sidiqui, for example, about 3% of the glass particles have a particle size greater than about 7 microns.

약 100%의 (즉, 본질적으로 모든) 흄드 실리카 응집체는 그 크기가 약 1 미크론 이하다. 평균 응집체 크기는 바람직하게는 약 0.10 내지 약 0.50 미크론, 더욱 바람직하게는 약 0.25 내지 0.35 미크론이다. 이들 응집체를 형성하는 각각의 흄드 실리카 입자는 일반적으로 입자 크기가 약 0.05 미크론이다. 그러나, 이들 입자는 전형적으로 2개 이상의 입자의 응집체로서 존재한다.About 100% (ie, essentially all) fumed silica aggregates are less than about 1 micron in size. The average aggregate size is preferably about 0.10 to about 0.50 microns, more preferably about 0.25 to 0.35 microns. Each fumed silica particle forming these aggregates generally has a particle size of about 0.05 micron. However, these particles are typically present as aggregates of two or more particles.

흄드 실리카 응집체의 농도는 필름에 우수한 권취 특성을 부여하기에 적합하나, 필름의 광학 특성이 과도한 흐림에 의해 역효과를 받지 않을 정도로 높아야 한다. 이 필름은 흄드 실리카 응집체를 필름의 중량 기준으로 약 20 ppm (0.002%) 내지 약 6000 ppm (0.600%), 바람직하게는 약 500 ppm (0.005%) 내지 약 3000 ppm (0.300%), 더욱 바람직하게는 약 1000 ppm (0.100%) 내지 약 2000 ppm (0.200%), 더더욱 바람직하게는 약 1400 ppm (0.140%) 내지 약 1800 ppm (0.180%) 포함한다.The concentration of the fumed silica agglomerates is suitable for imparting good winding properties to the film, but the optical properties of the film should be so high that they are not adversely affected by excessive clouding. The film comprises fumed silica agglomerates from about 20 ppm (0.002%) to about 6000 ppm (0.600%), preferably from about 500 ppm (0.005%) to about 3000 ppm (0.300%), more preferably by weight of the film. Comprises about 1000 ppm (0.100%) to about 2000 ppm (0.200%), even more preferably about 1400 ppm (0.140%) to about 1800 ppm (0.180%).

폴리에스테르 필름은 바람직하게는 두께가 약 8 미크론 내지 약 75 미크론, 더욱 바람직하게는 약 12 미크론 내지 약 15 미크론이다.The polyester film preferably has a thickness of about 8 microns to about 75 microns, more preferably about 12 microns to about 15 microns.

제조Produce

폴리에스테르 필름은 당업자에게 공지되어 있다. 중합체 제조 및 필름 제조 공정은 당업자에게 공지되어 있고, 문헌 [Encylopedia of Polymer Science and Engineering, 2nd. Ed., Vol. 12, Wiley, New York, pp. 1-313]과 같은 다수의 문헌 뿐만 아니라 영국 특허 제838,708호와 같은 다수의 특허 문헌에 기재되어 있다. 폴리에스테르는 1종 이상의 디카르복실산 또는 그의 저급 알킬 디에스테르를 1종 이상의 글리콜과 축합하여 얻어질 수 있다. 바람직한 폴리에스테르 필름은 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 필름과 폴리에틸렌 나프타네이트 필름으로 이루어진 군의 필름이다. 이들 중합체는 전형적으로 적합한 디카르복실산 또는 그의 저급 알킬 디에스테르를 에틸렌 글리콜과 축합하여 얻어진다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트는 테레프탈레이트 산으로부터 형성되고, 폴리에틸렌 나프타네이트는 2,7-나프탈렌 디카르복실산으로부터 형성된다. 가장 바람직한 폴리에스테르 필름은 폴리에틸렌 테레프탈레이트이다.Polyester films are known to those skilled in the art. Polymer preparation and film preparation processes are known to those skilled in the art and are described in Encylopedia of Polymer Science and Engineering, 2nd. Ed., Vol. 12, Wiley, New York, pp. 1-313, as well as many patent documents such as British Patent 838,708. Polyesters can be obtained by condensing one or more dicarboxylic acids or lower alkyl diesters thereof with one or more glycols. Preferred polyester films are films of the group consisting of polyethylene terephthalate (PET) films and polyethylene naphthanate films. These polymers are typically obtained by condensing a suitable dicarboxylic acid or lower alkyl diester thereof with ethylene glycol. Polyethylene terephthalate is formed from terephthalate acid and polyethylene naphthalate is formed from 2,7-naphthalene dicarboxylic acid. Most preferred polyester film is polyethylene terephthalate.

소성된 실리콘 입자와 흄드 실리카 응집체가 중합체 압출 전에 제조 공정 중 임의의 시점에서 폴리에스테르 전구체에 첨가될 수 있다. 중합화 단계 중 첨가하는 것이 바람직하다.Calcined silicon particles and fumed silica agglomerates may be added to the polyester precursor at any point in the manufacturing process prior to polymer extrusion. Preference is given to adding during the polymerization step.

폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 제조에 특히 바람직한 용이한 절차는 입자와 응집체를 중합체의 제조에 사용된 중축합 혼합물에 첨가하는 것이다. 단량체가 형성된 에스테르 교환 반응 후 입자를 슬러리로서 첨가하는 것이 특히 바람직하다. 중축합 시작 전에 폴리에스테르가 형성되는 글리콜 중에 입자를 예를 들어 슬러리로서 첨가할 수 있다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트 제조 중에, 예를 들어 비스히드록시에틸렌 테레프탈레이트 (BHET) 형성 후에 입자를 첨가한다. 통상의 폴리에스테르 중합 촉매를 첨가하고, 폴리에스테르 수지를 제조하기 위해 통상의 방법으로 중합화를 수행한다.A particularly preferred easy procedure for the preparation of polyethylene terephthalate films is the addition of particles and aggregates to the polycondensation mixture used in the preparation of the polymer. Particular preference is given to adding the particles as a slurry after the transesterification reaction in which the monomers have been formed. Particles can be added, for example, as a slurry in the glycol from which the polyester is formed before the start of polycondensation. During polyethylene terephthalate preparation, the particles are added, for example, after the formation of bishydroxyethylene terephthalate (BHET). A conventional polyester polymerization catalyst is added and polymerization is carried out in a conventional manner to prepare a polyester resin.

폴리에스테르 필름을 제조하기 위해, 폴리에스테르 수지를 용융하고, 문질러 닦은 회전하는 유연용 필름 상에서 무정형 시트로서 압출하여 중합체로 된 캐스트 시트를 형성한다. 이후, 중합체의 캐스트 시트를, 폴리에틸렌 테레프탈레이트에 대해서는 그의 유리 전이 온도를 바로 초과하는 온도, 80 ℃ 내지 100 ℃로 가열하고, 일반적으로 1 방향 이상으로 신장 또는 연신한다. 필름은 전형적으로 2 방향, 즉 압출 방향 (종 방향) 그리고 압출 방향에 수직인 방향 (횡 방향)으로 신장되어 이축 배향된 필름을 형성한다. 필름에 강성와 인성을 부여하는 제1 신장은 통상적으로 원 길이의 약 2.0 배 내지 4.0 배의 범위이다. 또한, 후속적인 신장은 각각 필름의 크기를 약 2.0 배 내지 4.0 배 증가시킨다. 일반적으로, 먼저 종방향으로, 이어서 횡방향으로 연신하는 것이 바람직하다. 이어서, 필름을 폴리에틸렌 테레프탈레이트에 대해 약 190 ℃ 내지 240 ℃ 범위의 온도에서 열 경화시켜서, 강성, 인성 및 다른 물리적 특성을 고정시킨다.To produce a polyester film, the polyester resin is melted and extruded as an amorphous sheet on a scrubbed rotating flexible film to form a cast sheet of polymer. The cast sheet of polymer is then heated to a temperature directly above its glass transition temperature for polyethylene terephthalate, 80 ° C. to 100 ° C., and generally elongated or stretched in one or more directions. The film is typically stretched in two directions, namely in the extrusion direction (longitudinal direction) and in a direction perpendicular to the extrusion direction (lateral direction) to form a biaxially oriented film. The first stretch that imparts stiffness and toughness to the film typically ranges from about 2.0 to 4.0 times the original length. In addition, subsequent stretching each increases the size of the film by about 2.0 to 4.0 times. In general, it is preferable to first stretch in the longitudinal direction and then in the transverse direction. The film is then thermally cured to polyethylene terephthalate at a temperature in the range of about 190 ° C. to 240 ° C. to fix stiffness, toughness and other physical properties.

필름은 염료, 안료, 윤활제, 산화방지제, 점착방지제, 표면활성제, 미끄러짐 보조제, 광택 증진제, 자외선 안정화제, 점도 제어제, 분산 안정화제와 같은 당업계에 공지된 임의의 첨가제를 함유할 수 있다. 그러나, 흐려지는 것을 방지하기 위해 필름의 굴절률이 흄드 실리카 응집체와 소성된 실리콘 입자의 굴절률과 밀접하게 조화되는 폴리에틸렌 테레프탈레이트의 경우에, 첨가제는 필름의 굴절률에 큰 영향을 끼치지 않아야 한다.The film may contain any additive known in the art, such as dyes, pigments, lubricants, antioxidants, tackifiers, surfactants, slip aids, gloss enhancers, ultraviolet stabilizers, viscosity control agents, dispersion stabilizers. However, in the case of polyethylene terephthalate in which the refractive index of the film is closely matched with the refractive indices of the fumed silica agglomerates and calcined silicon particles to prevent clouding, the additive should not have a significant effect on the refractive index of the film.

통상의 도료가 필름에 도포될 수 있다. 이와 같은 도료는 필름의 접착 특성 또는 정전방지 특성을 개선시키기 위해서 통상적으로 도포된다. 이들 도료의 조성 및 도료를 도포하기 위한 절차는 당업자에게 공지되어 있고, 다수의 특허 문헌과 공개 문헌, 예를 들어 본 명세서에 참고로 인용된 시디퀴의 미국 특허 제5,132,356호에 기재되어 있다. 도료는 일축 배향되거나 이축 배향된 필름에 도포될 수 있다. 동시의 이축 배향 신장 공정에서, 도료는 신장 공정 전에 또는 후에 도포될 수 있다. 연속 신장 공정에서, 도료는 바람직하게는 두 공정의 사이에, 즉 종방향과 횡방향 신장 공정 사이에 도포된다. 바람직하게는, 필름은 일련의 회전 롤러 상에서 종방향으로 신장되고, 도장되고, 스텐터 오븐에서 횡방향으로 신장되고, 바람직하게는 열 경화되어 도장된 필름이 얻어진다. 필름은, 당업계에 공지된 기술에 의해 예를 들어 금 또는 알루미늄으로 금속화될 수 있다.Conventional paints may be applied to the film. Such paints are commonly applied to improve the adhesion or antistatic properties of the film. The composition of these paints and the procedures for applying the paints are known to those skilled in the art and are described in a number of patent publications and publications, for example, US Pat. No. 5,132,356 to Sidiqui, incorporated herein by reference. The paint may be applied to a uniaxially or biaxially oriented film. In a simultaneous biaxially oriented stretching process, the paint may be applied before or after the stretching process. In the continuous stretching process, the paint is preferably applied between two processes, ie between the longitudinal and transverse stretching processes. Preferably, the film is stretched longitudinally on a series of rotating rollers, painted, stretched transversely in a stenter oven, preferably heat cured to obtain a painted film. The film can be metallized, for example, with gold or aluminum by techniques known in the art.

용어 해설Glossary of Terms

에어로실(Aerosil,등록상표) OX-50 : 무정형 흄드 실리카, 각각의 입자 크기 0.050 미크론 (뉴저지주 리지필드 파크 소재의 데구사(Degussa) 제품) Aerosil (R) OX-50: Amorphous fumed silica, particle size 0.050 micron each (Degussa, Ridgefield Park, NJ)

토스프리얼(Tosprearl) 130 : 실리콘 수지 입자, 평균 입자 크기 3.0 미크론, 비표면적 m2, 아마인유 흡수율 75 mL/100 g (일본 도쿄 소재의 도시바 실리콘 Co., Ltd. 제품) Tosprearl 130: silicone resin particles, average particle size 3.0 micron, specific surface area m 2 , linseed oil absorption 75 mL / 100 g (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd., Tokyo, Japan)

소성된 실리콘 입자의 제조Preparation of Calcined Silicon Particles

토스프리얼 130 실리콘 수지 입자를 공기 중에서 300 ℃에서 45분간 소성시켰다. 소성 전후에 입자를 FTIR에 의해 분석하였다. 입자가 소성될 때 1288 cm-1및 2991 cm-1에서의 가파른 피크가 사라졌다.Tospheric 130 silicone resin particles were baked in air at 300 ° C. for 45 minutes. The particles were analyzed by FTIR before and after firing. The steep peaks at 1288 cm −1 and 2991 cm −1 disappeared when the particles were calcined.

마이크로트랙(Microtrac) 입자 크기 분석기에 의해 입자 크기 분포를 측정하였다. 소성된 입자에 대한 입자 크기 분포를 도 1에 나타낸다. 모든 입자는 직경이 5.28 미크론 이하이고, 99%의 입자는 4.84 미크론 이하이고, 95%의 입자는 4.07 미크론 이하이고, 90%의 입자는 3.73 미크론 이하이고, 50%의 입자는 2.22 미크론 이하였다. 분석 결과를 표 1에 나타낸다.Particle size distribution was measured by a Microtrac particle size analyzer. The particle size distribution for the fired particles is shown in FIG. 1. All particles had a diameter of 5.28 microns or less, 99% of particles of 4.84 microns or less, 95% of particles of 4.07 microns or less, 90% of particles of 3.73 microns or less, and 50% of particles of 2.22 microns or less. Table 1 shows the analysis results.

소성된 실리콘 입자에 대한 입자 크기 분포Particle Size Distribution for Calcined Silicon Particles 입자 크기 (미크론)Particle Size (microns) 통과 %Pass % 5.285.28 100.00100.00 4.844.84 99.4499.44 4.444.44 98.4498.44 4.074.07 96.6896.68 3.733.73 93.8793.87 3.423.42 89.1489.14 3.143.14 83.1383.13 2.882.88 76.0976.09 2.642.64 68.3368.33 2.422.42 60.2960.29 2.222.22 52.0052.00 2.032.03 43.9243.92 1.871.87 36.4436.44 1.711.71 29.7829.78 1.571.57 24.0224.02 1.441.44 19.0819.08 1.321.32 14.8614.86 1.211.21 11.3311.33 1.111.11 8.468.46 1.021.02 6.216.21 0.930.93 4.514.51 0.860.86 3.303.30 0.780.78 2.502.50 0.720.72 1.941.94 0.660.66 1.501.50 0.600.60 1.051.05 0.550.55 0.620.62 0.510.51 0.250.25 0.470.47 0.000.00

실시예 1Example 1

본 실시예는 소성된 실리콘 입자와 흄드 실리카 응집체를 함유하는 충전된 이축 배향 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 제조를 예시한다.This example illustrates the preparation of a filled biaxially oriented polyethylene terephthalate film containing calcined silicon particles and fumed silica aggregates.

2종의 슬러리를 제조하였다. 상기한 바와 같이 제조된 소성된 토스프리얼 130 실리콘 입자를 에틸렌 글리콜과 혼합하여 에틸렌 글리콜 중 1.0%의 소성된 실리콘 입자를 갖는 슬러리를 형성하였다. 에어로실 (등록상표) OX-50 무정형 흄드 실리카 응집체를 에틸렌 글리콜과 혼합하여 에틸렌 글리콜 내에 4.0%의 흄드 실리카 응집체를 함유하는 슬러리를 형성하였다. 각 슬러리를 전단력 하에서 5 갈(gal) 로스 (Ross) 혼합기에서 1 시간 동안 혼합하였다.Two kinds of slurries were prepared. The calcined tospheric 130 silicon particles prepared as described above were mixed with ethylene glycol to form a slurry with 1.0% calcined silicon particles in ethylene glycol. Aerosil® OX-50 amorphous fumed silica aggregate was mixed with ethylene glycol to form a slurry containing 4.0% fumed silica aggregate in ethylene glycol. Each slurry was mixed for 1 hour in a 5 gal Ross mixer under shear force.

융용된 비스히드록시에틸렌 테레프탈레이트 (BHET)에 각 슬러리를 각 첨가제의 목적하는 최종 농도가 얻어지는 양으로 첨가하였다. 슬러리를 첨가한 후, 통상의 중합 촉매를 첨가하였다. 용융 단량체를 285 ℃ 내지 290 ℃에서 약 0.5 mmhg의 압력에서 중합화하였다. 얻어진 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 수지를 냉각하고 칩(chip)으로 전환하였다.To the melted bishydroxyethylene terephthalate (BHET) each slurry was added in an amount such that the desired final concentration of each additive was obtained. After the slurry was added, a conventional polymerization catalyst was added. The molten monomer was polymerized at a pressure of about 0.5 mmhg at 285 ° C to 290 ° C. The obtained polyethylene terephthalate (PET) resin was cooled and converted into chips.

PET 수지의 건조된 칩을 285 ℃에서 필름으로 압출하고, 이어서 매 방향마다 약 2.9:1의 연신 방향에서 서로 수직인 방향으로 연속적으로 신장함으로써 이축 배향시켰다. 필름을 225 ℃에서 열 경화시켰다. 얻어진 필름의 두께는 12 미크론이었다. 필름은 소성된 실리콘 입자 6 ppm과 흄드 실리카 응집체 50 ppm (0.005%)을 함유하였다.The dried chips of PET resin were extruded into a film at 285 ° C. and then biaxially oriented by successively stretching them in a direction perpendicular to each other in a stretching direction of about 2.9: 1 in each direction. The film was thermally cured at 225 ° C. The thickness of the obtained film was 12 microns. The film contained 6 ppm of calcined silicon particles and 50 ppm (0.005%) of fumed silica aggregates.

필름은 우수한 광학 및 권취 특성을 가졌다. 투명도가 우수하였다. 가드너 헤이즈미터 (Gardner Hazemeter)에 의해 측정된 흐림도는 0.5%였다. 위코 (Wyko) 3D 간섭계를 사용하여 20 배율의 235 x 312 미크론 영역 상에서 측정된 표면 조도는 Ra= 10.4 nm; Rq= 12.3 nm; Rt= 704.3 mm였다. 당업계에 공지된 방법을 사용하여, 실시예에 기재된 필름 뿐만 아니라 다른 필름을 태양열 설비에 사용하기 위해 예를 들어 금 또는 알루미늄으로 금속화시킬 수 있다.The film had excellent optical and winding properties. Transparency was excellent. The haze measured by Gardner Hazemeter was 0.5%. Surface roughness measured on a 235 x 312 micron region of 20 magnification using a Wyko 3D interferometer was R a = 10.4 nm; R q = 12.3 nm; R t = 704.3 mm. Using methods known in the art, the films described in the examples as well as other films can be metallized, for example with gold or aluminum, for use in solar installations.

실시예 2Example 2

필름이 소성된 실리콘 입자 6 ppm, 그리고 흄드 실리카 응집체 1650 ppm (0.165%)를 함유한 것을 제외하고는 실시예 1의 절차를 반복하였다. 필름은 우수한 광학 및 권취 특성을 가졌다. 투명도가 우수하였다. 흐림도는 1.0%였다. 표면 조도는 Ra=20.6 nm; Rq=27.6 nm; 및 Rt=908.3 nm였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the film contained 6 ppm of calcined silicon particles and 1650 ppm (0.165%) of the fumed silica aggregate. The film had excellent optical and winding properties. Transparency was excellent. Cloudiness was 1.0%. Surface roughness is R a = 20.6 nm; R q = 27.6 nm; And R t = 908.3 nm.

실시예 3Example 3

필름이 소성된 실리콘 입자 3 ppm, 그리고 흄드 실리카 응집체 830 ppm (0.083%)를 함유한 것을 제외하고는 실시예 1의 절차를 반복하였다. 필름은 우수한 광학 및 권취 특성을 가졌다. 투명도가 우수하였다. 흐림도는 0.8%였다. 표면 조도는 Ra=17.6 nm; Rq=19.5 nm; 및 Rt=807.7 nm였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the film contained 3 ppm of calcined silicon particles and 830 ppm (0.083%) of fumed silica aggregate. The film had excellent optical and winding properties. Transparency was excellent. Cloudiness was 0.8%. Surface roughness is R a = 17.6 nm; R q = 19.5 nm; And R t = 807.7 nm.

실시예 4Example 4

필름이 소성된 실리콘 입자 6 ppm, 그리고 흄드 실리카 응집체 1250 ppm (0.125%)를 함유한 것을 제외하고는 실시예 1의 절차를 반복하였다. 필름은 우수한 광학 및 권취 특성을 가졌다. 투명도가 우수하였다. 흐림도는 1.1%였다. 표면 조도는 Ra=19.7 nm; Rq=22.3 nm; 및 Rt=870.3 nm였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the film contained 6 ppm of calcined silicon particles and 1250 ppm (0.125%) of fumed silica agglomerates. The film had excellent optical and winding properties. Transparency was excellent. Cloudiness was 1.1%. Surface roughness is R a = 19.7 nm; R q = 22.3 nm; And R t = 870.3 nm.

실시예 5Example 5

필름이 소성된 실리콘 입자 20 ppm, 그리고 흄드 실리카 응집체 2200 ppm (0.22%)를 함유한 것을 제외하고는 실시예 1의 절차를 반복하였다. 필름은 우수한 광학 및 권취 특성을 가졌다. 투명도가 우수하였다. 흐림도는 1.4%였다. 표면 조도는 Ra=26.3 nm; Rq=30.7 nm; 및 Rt=1061.8 nm였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the film contained 20 ppm of calcined silicon particles and 2200 ppm (0.22%) of fumed silica agglomerates. The film had excellent optical and winding properties. Transparency was excellent. Cloudiness was 1.4%. Surface roughness is R a = 26.3 nm; R q = 30.7 nm; And R t = 1061.8 nm.

본 발명자들은 본 발명을 설명하였기에 이제 하기 청구항 및 그와 동등한 사항을 청구하고자 한다.The inventors have described the present invention and now seek to claim the following claims and equivalents thereto.

필름은 태양창 설비에서 사용될 수 있다. 태양창에 있어서, 필름은 금속화되고, 염색되거나, 도장되어 광 투과도를 감소시킬 수 있다. 자외선 투과도를 감소시키고 필름 에이징 특성을 개선시키기 위해서, 자외선 흡수제가 필름 위에 도장되거나 상기한 중합체에 혼입될 수 있다.The film can be used in solar window installations. In solar windows, the film can be metallized, dyed or painted to reduce light transmittance. In order to reduce ultraviolet transmittance and improve film aging properties, ultraviolet absorbers may be applied onto the film or incorporated into the polymers described above.

염료 및(또는) 자외선 흡수제를 함유할 수 있는 경질 도료가 필름 외면에 도포되어 표면 스크레칭 내성을 개선시킬 수 있다. 감압성(感壓性) 접착제 및 실리콘-도장 릴리즈(release) 라이너가, 필름의 유리로의 적용에 사용되는 반대면에 가해진다. 금속화된 필름을 사용할 때, 금속화 면을 보호하기 위해서 폴리에스테르 필름의 2개 이상의 라미네이트 층으로 된 라미네이트를 사용한다. 라미네이트용 접착제는 염료 및(또는) 자외선 흡수제를 함유할 수도 있다.Hard paints, which may contain dyes and / or ultraviolet absorbers, may be applied to the outer surface of the film to improve surface scratch resistance. A pressure sensitive adhesive and a silicone-release release liner are applied to the opposite side used for application of the film to the glass. When using a metallized film, a laminate of two or more laminate layers of polyester film is used to protect the metallized side. The adhesive for the laminate may contain dyes and / or ultraviolet absorbers.

본 발명의 유리한 특성은 본 발명을 설명하나 제한하지 않는 하기 실시예를 참고하여 관찰될 수 있다.Advantageous properties of the invention can be observed with reference to the following examples which illustrate but do not limit the invention.

Claims (20)

(a) 필름의 중량을 기준으로 소성된 실리콘 입자 (이 소성된 실리콘 입자 중 약 100%는 입자 크기가 약 7 미크론 이하임) 약 2 ppm 내지 약 20 ppm, 및(a) from about 2 ppm to about 20 ppm of calcined silicon particles (about 100% of the calcined silicon particles have a particle size of about 7 microns or less), and (b) 필름의 중량을 기준으로 흄드(fumed) 실리카 응집체 (이 응집체 중 약 100%는 응집체 크기가 약 1 미크론 이하임) 약 20 ppm 내지 약 6000 ppm을 포함하고(comprising), 배향 및 열경화된 폴리에스테르 필름인 필름.(b) fumed silica agglomerates (about 100% of the agglomerates have an aggregate size of about 1 micron or less) based on the weight of the film, comprising from about 20 ppm to about 6000 ppm, orienting and thermosetting Film which is a polyester film. 제1항에 있어서, 폴리에스테르 필름이 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름인 필름.The film of claim 1, wherein the polyester film is a polyethylene terephthalate film. 제2항에 있어서, 필름의 중량을 기준으로 흄드 실리카 응집체를 약 500 ppm 내지 3000 ppm 포함하는 필름.The film of claim 2 comprising from about 500 ppm to 3000 ppm of fumed silica aggregates by weight of the film. 제2항에 있어서, 소성된 실리콘 입자 중 약 100%는 입자 크기가 약 6 미크론 이하인 것인 필름.The film of claim 2, wherein about 100% of the fired silicon particles have a particle size of about 6 microns or less. 제4항에 있어서, 필름의 중량을 기준으로 흄드 실리카 응집체를 약 500 ppm 내지 3000 ppm 포함하는 필름.The film of claim 4 comprising from about 500 ppm to 3000 ppm of fumed silica agglomerates based on the weight of the film. 제5항에 있어서, 필름의 중량을 기준으로 소성된 실리콘 입자를 약 4 ppm 내지 10 ppm 포함하는 필름.6. The film of claim 5 comprising about 4 ppm to 10 ppm of calcined silicon particles based on the weight of the film. 제6항에 있어서, 필름의 중량을 기준으로 흄드 실리카 응집체를 약 500 ppm 내지 3000 ppm 포함하는 필름.The film of claim 6 comprising from about 500 ppm to 3000 ppm of fumed silica aggregates by weight of the film. 제7항에 있어서, 소성된 실리콘 입자 중 약 100%는 입자 크기가 약 5.5 미크론 이하인 것인 필름.The film of claim 7, wherein about 100% of the fired silicon particles have a particle size of about 5.5 microns or less. 제8항에 있어서, 필름의 중량을 기준으로 흄드 실리카 응집체를 약 1400 ppm 내지 1800 ppm 포함하는 필름.The film of claim 8, comprising from about 1400 ppm to 1800 ppm of fumed silica aggregate, based on the weight of the film. 제2항에 있어서, 소성된 실리콘 입자 중 약 100%는 입자 크기가 약 6 미크론 이하이고, 소성된 실리콘 입자 중 약 95% 이상은 입자 크기가 약 5 미크론 이하이고, 50%는 입자 크기가 약 2.2 미크론 이하인 것인 필름.The method of claim 2, wherein about 100% of the fired silicon particles have a particle size of about 6 microns or less, at least about 95% of the fired silicon particles have a particle size of about 5 microns or less, and 50% have a particle size of about A film that is less than 2.2 microns. 제10항에 있어서, 필름의 중량을 기준으로 흄드 실리카 응집체를 약 500 ppm 내지 3000 ppm 포함하는 필름.The film of claim 10 comprising from about 500 ppm to 3000 ppm of fumed silica aggregates by weight of the film. 제11항에 있어서, 필름의 중량을 기준으로 소성된 실리콘 입자를 약 4 ppm 내지 10 ppm 포함하는 필름.The film of claim 11, comprising about 4 ppm to 10 ppm calcined silicon particles based on the weight of the film. 제12항에 있어서, 필름의 중량을 기준으로 흄드 실리카 응집체를 약 1000 ppm 내지 2000 ppm 포함하는 필름.13. The film of claim 12 comprising from about 1000 ppm to 2000 ppm of fumed silica aggregates by weight of the film. 제13항에 있어서, 필름의 중량을 기준으로 흄드 실리카 응집체를 약 1400 ppm 내지 1800 ppm 포함하는 필름.The film of claim 13, comprising from about 1400 ppm to 1800 ppm of fumed silica aggregate, based on the weight of the film. 제2항에 있어서, 소성된 실리콘 입자는 실리콘 수지 입자를 약 300 ℃ 내지 약 400 ℃에서 약 30분 내지 약 3 시간 동안 소성시킴으로써 제조된 것인 필름.The film of claim 2, wherein the calcined silicon particles are prepared by calcining the silicone resin particles at about 300 ° C. to about 400 ° C. for about 30 minutes to about 3 hours. 제15항에 있어서, (a) 소성된 실리콘 입자 중 약 100%는 입자 크기가 약 6 미크론 이하이고, 소성된 실리콘 입자 중 약 95% 이상은 입자 크기가 약 5 미크론 이하이고, 소성된 실리콘 입자 중 50%는 입자 크기가 약 2.2 미크론 이하인 것이고, (b) 필름의 중량을 기준으로 흄드 실리카 응집체를 약 500 ppm 내지 3000 ppm 포함하는 필름.The calcined silicon particle of claim 15, wherein (a) about 100% of the calcined silicon particles have a particle size of about 6 microns or less, about 95% or more of the calcined silicon particles have a particle size of about 5 microns or less, and calcined silicon particles 50% of the particles have a particle size of about 2.2 microns or less, and (b) a film comprising from about 500 ppm to 3000 ppm of fumed silica aggregate by weight of the film. 제2항에 있어서, 상기 필름의 표면 상에 금속화 도막을 더 포함하는 필름.The film of claim 2, further comprising a metallized coating on the surface of the film. 제17항에 있어서, 소성된 실리콘 입자 중 약 100%는 입자 크기가 약 6 미크론 이하이고, 소성된 실리콘 입자 중 약 95% 이상은 입자 크기가 약 5 미크론 이하이고, 소성된 실리콘 입자 중 50%는 입자 크기가 약 2.2 미크론 이하인 필름.18. The method of claim 17, wherein about 100% of the fired silicon particles have a particle size of about 6 microns or less, and at least about 95% of the fired silicon particles have a particle size of about 5 microns or less, and 50% of the fired silicon particles. Film having a particle size of about 2.2 microns or less. 제18항에 있어서, 필름의 중량을 기준으로 흄드 실리카 응집체를 약 1000 ppm 내지 약 2000 ppm, 그리고 필름의 중량을 기준으로 소성된 실리콘 입자를 약 4 ppm 내지 약 10 ppm 포함하는 필름.19. The film of claim 18 comprising from about 1000 ppm to about 2000 ppm of fumed silica aggregates by weight of the film and from about 4 ppm to about 10 ppm of calcined silicon particles by weight of the film. 제18항에 있어서, 금속화 도막이 금 또는 알루미늄을 포함하는 것인 필름.The film of claim 18, wherein the metallized coating film comprises gold or aluminum.
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