KR20010021412A - In-line type electron gun and color cathode-ray tube with the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A color cathode-ray tube and an election gun thereof is provided to make uniform the shape of beam spot of three electron beams from the center of screen to the end parts left and right, without complicating the structure of an electron gun. CONSTITUTION: This color cathode-ray tube is equipped with converging auxiliary lenses formed by dividing a convergence electrode into a plurality of segments, and electrode part(3) constituting the auxiliary lenses includes three electron beam passing holes(21,22,23) laid in horizontal arrangement, where the holes(31,32,33) on the sides have the same diameter, and different from the diameter of the holes(21,22,23) in the center. Accordingly, the shape of beam spot of three electron beams is uniformed without complicating the structure of the electron gun.

Description

인라인형 전자총과 이를 탑재한 컬러 음극선관{IN-LINE TYPE ELECTRON GUN AND COLOR CATHODE-RAY TUBE WITH THE SAME}IN-LINE TYPE ELECTRON GUN AND COLOR CATHODE-RAY TUBE WITH THE SAME}

본 발명은 인라인형 전자총과 이를 갖는 컬러 음극선관(CRT)에 관한 것으로, 특히 전체 형광 스크린상에 원하는 고해상도를 제공하는 인라인형 전자총과 이 총이 장착된 컬러 CRT에 관한 것이다.FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an inline electron gun and a color cathode ray tube (CRT) having the same, and more particularly to an inline electron gun and a color CRT equipped with the gun to provide a desired high resolution on an entire fluorescent screen.

컬러 CRT의 해상도를 향상시키기 위하여, 레드(R), 그린(R), 및 블루(B) 컬러용 3개의 전자빔에 의해 형광 스크린 상에 형성된 빔 스팟의 각 사이즈를 줄일 필요가 있다. 게다가, 이들 빔 스팟을 전체 형광 스크린상의 임의의 포인트에 집중시킬 필요가 있가. 만일 이들 중 어느 하나라도 부합되지 않는다면, 스크린 상의 이미지의 화질은 열화된다.In order to improve the resolution of the color CRT, it is necessary to reduce each size of the beam spot formed on the fluorescent screen by three electron beams for red (R), green (R), and blue (B) colors. In addition, it is necessary to focus these beam spots at any point on the entire fluorescent screen. If any of these do not match, the image quality of the image on the screen is degraded.

종래의 컬러 CRT에서는, 일명 "인라인 및 셀프-컨버젼스 시스템"이 통상적으로 사용되어 왔으며, R, G, B 컬러용 3개의 전자빔들을 방출하며, 일수평면 상에 배치되는 인라인형 전자총과, 셀프-컨버젼스형 편향 자계를 포함한다. 이 셀프-컨버젼스형 편향 자계는 도 1a에 나타난 핀쿠션(pincushion)형 분포를 갖는 수평 편향 자계(101)와 도 1b에 나타난 배럴(barrel)형 분포를 갖는 수직 편향 자계(102)의 결합에 의해 형성된 불균일 자계이다. 따라서, 이상적으로, 전자총으로부터 방출되는 R,G,B 컬러용 전자빔들(110R, 110G, 110B)은 형광 스크린 상의 임의의 포인트상에 자동적으로 집속한다. 이하, R, G, B 컬러용 3개의 전자빔들은 각기, 간단하게 "R, G, 및 B 전자빔으로 명명될 수 있다.In a conventional color CRT, a so-called "inline and self-convergence system" has been commonly used and emits three electron beams for R, G, and B colors, and is self-converging, arranged on a flat surface Includes mold deflection magnetic field. This self-converged deflection magnetic field is formed by the combination of a horizontal deflection magnetic field 101 having a pincushion type distribution shown in FIG. 1A and a vertical deflection magnetic field 102 having a barrel type distribution shown in FIG. 1B. It is a nonuniform magnetic field. Thus, ideally, the R, G, B color electron beams 110R, 110G, 110B emitted from the electron gun automatically focus on any point on the fluorescent screen. Hereinafter, the three electron beams for the R, G, and B colors may be named simply R, G, and B electron beams, respectively.

전술된 인라인 및 셀프-컨버젼스 시스템은 R, G, B 전자빔들(110R, 110G, 110B)을 집속시키기 위한 전기 회로의 구성은 간단하면서도 쉽게 조절가능하고, 빔들(110R, 110G, 110B)은 높은 정확도로 집속될 수 있다는 이점을 갖는다. 그러나, 셀프-컨버젼스형 편향 자계를 관통하는 빔들(110R, 110G, 110B)은 수평 및 수직 편향 자계(101, 102)에 존재하는 자계 왜곡에 의해 영향을 받는다. 따라서, 전자빔 스팟의 일부 왜곡은 형광 스크린의 주변 영역 내에서 발생하는 경향이 있다.The inline and self-convergence system described above is simple and easily adjustable in the construction of an electrical circuit for focusing the R, G, B electron beams 110R, 110G, 110B, and the beams 110R, 110G, 110B have high accuracy. Has the advantage of being able to focus on. However, the beams 110R, 110G, 110B passing through the self-converged deflection magnetic field are affected by the magnetic field distortions present in the horizontal and vertical deflection magnetic fields 101, 102. Thus, some distortion of the electron beam spot tends to occur in the peripheral region of the fluorescent screen.

구체적으로, 도 2에 나타난 바와 같이, R, G, B 전자빔들(110R, 110G, 110B)이 편향되지 않는 경우, 이들은 형광 스크린(115)의 중앙에 원형 빔 스팟(114)을 형성한다. 한편, 빔들(110R, 110G, 110B)이 스크린(115)의 주변 영역쪽으로 변향될 때, 이들은 수평방향으로 연장된 빔 코아(111)와 이 코아(111)로부터 상하 방향으로 연장되는 할로(halo)(112)를 포함하는 왜곡된, 비선형 빔 스팟(113)을 형성한다. 그 결과, 주변 영역에 형성된 빔 스팟(113)은 중앙에 형성된 빔 스팟(114)보다 크고, 이로 인해 스크린(115)의 주변 영역에서의 컬러 CRT의 해상도가 현저하게 저하된다.Specifically, as shown in FIG. 2, when the R, G, B electron beams 110R, 110G, 110B are not deflected, they form a circular beam spot 114 in the center of the fluorescent screen 115. On the other hand, when the beams 110R, 110G, 110B are deflected toward the peripheral area of the screen 115, they are horizontally extended beam cores 111 and halo extending vertically from the cores 111. Form a distorted, non-linear beam spot 113 that includes 112. As a result, the beam spot 113 formed in the peripheral region is larger than the beam spot 114 formed in the center, which causes the resolution of the color CRT in the peripheral region of the screen 115 to be significantly reduced.

스크린(115)의 주변 영역에서의 빔 스팟(113)의 왜곡의 상세한 관찰은 다음 결과를 제공하였다.Detailed observation of the distortion of the beam spot 113 in the peripheral area of the screen 115 provided the following results.

구체적으로, 스팟(113)의 수평 크기를 최소화하는 제1 포커스 전압 Vfh는 스팟(113)의 수직 크기를 최소화하는 제2 포커스 전압 Vfv와는 상이하다. 제1 포커스 전압 Vfh와 제2 포커스 전압 Vfv(즉, ΔVf=Vfh-Vfv)의 차 ΔVf는 네가티브이다. 이는 전자빔들(110R, 110G, 110B)이 수직 방향에서 오버-포커스 조건에 있기 때문에, 할로(112)는 상하 방향으로 연장된다는 것을 의미한다. 이는 셀프-컨버젼스형 편향 자계는 R, G, B 빔들(110R, 110G, 110B)에 수평 집속력과 수평 발산력을 제공하기 때문이다.In detail, the first focus voltage V fh that minimizes the horizontal size of the spot 113 is different from the second focus voltage V fv that minimizes the vertical size of the spot 113. First focus voltage difference ΔV V fh and f of the second focus voltage V fv (i.e., ΔV = V f -V fh fv) is negative. This means that since the electron beams 110R, 110G, 110B are in an over-focus condition in the vertical direction, the halo 112 extends in the vertical direction. This is because the self-converged deflection magnetic field provides horizontal focusing force and horizontal diverging force to the R, G, and B beams 110R, 110G, and 110B.

셀프-컨버젼스형 편향 자계의 특징에 의해 유발된 형광 스크린(115)의 주변 영역에서 전술된 빔 스팟 왜곡을 감소시키기 위하여, 다양한 향상된 기술이 개발되고 공개되어왔다.In order to reduce the aforementioned beam spot distortion in the peripheral region of the fluorescent screen 115 caused by the characteristics of the self-converging deflection magnetic field, various improved techniques have been developed and disclosed.

예를 들면, 1986년 5월에 공개된 일본 무심사 특허 공보 소61-99249호는 향상된 전자총을 개시하고 있고, 도 3에 나타나 있다.For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-99249, published in May 1986, discloses an improved electron gun and is shown in FIG.

도 3에 나타난 바와 같이, 종래 기술의 전자빔(220)은 R, G, 및 B 컬러용 3개의 음극, 제어 전극(226), 초기 가속 전극(227), 제1 포커스 전극(221), 제2 포커스 전극(222) 및 최종 가속 전극(228)을 포함한다.As shown in FIG. 3, the prior art electron beam 220 includes three cathodes for the R, G, and B colors, the control electrode 226, the initial acceleration electrode 227, the first focus electrode 221, and the second. Focus electrode 222 and final acceleration electrode 228.

음극들(225R, 225G, 225B)은 수평 라인(즉, 도 3에서의 X축)을 따라 특정 간격으로 배열된다. 음극들(225R, 225G, 225B), 제어 전극(226), 초기 가속 전극(227), 제1 포커스 전극(221), 제2 포커스 전극(222) 및 최종 가속 전극(228)의 세트는 총(220)의 중앙축 Z을 따라 특정 간격으로 배열된다.The cathodes 225R, 225G, 225B are arranged at specific intervals along the horizontal line (ie, the X axis in FIG. 3). The set of cathodes 225R, 225G, 225B, control electrode 226, initial acceleration electrode 227, first focus electrode 221, second focus electrode 222 and final acceleration electrode 228 is a gun ( Along the central axis Z of FIG.

고체의 사각 플레이트로 형성되는 제어 전극(226)과 초기 가속 전극(227) 각각은 도 3에 나타난 R, G, 및 B 빔들을 관통하기 위한 3개의 원형 쓰루-홀들을 갖는다.Each of the control electrode 226 and the initial acceleration electrode 227 formed of a solid rectangular plate has three circular through-holes for penetrating the R, G, and B beams shown in FIG. 3.

빈 공간의 사각 병렬 파이프 박스로 형성된 제1 포커스 전극(221)은 R, G, B 전자빔들이 관통하도록 하는 3개의 사각 개구(223)를 갖는다. 개구(223)는 제2 포커스 전극(222)과 접하는 전극(221)의 말단면상에 형성된다. 개구(223)는 수직 방향(즉, 도 3에서의 Y축)으로 연장되고 X축을 따라 수평 배열된다. 또한, 제1 포커스 전극(221)은 R, G, B 빔들이 초기 가속 전극(227)에 접하는 말단면상을 관통하도록 하는 3개의 원형 개구를 갖는다.The first focus electrode 221 formed of a rectangular parallel pipe box of an empty space has three rectangular openings 223 through which R, G, and B electron beams pass. The opening 223 is formed on an end surface of the electrode 221 in contact with the second focus electrode 222. The opening 223 extends in the vertical direction (ie, the Y axis in FIG. 3) and is arranged horizontally along the X axis. In addition, the first focus electrode 221 has three circular openings to allow the R, G, and B beams to penetrate on the end face in contact with the initial acceleration electrode 227.

빈 공간의 사각 병렬 파이프 박스로 형성된 제2 포커스 전극(222)은 R, G, B 전극빔들이 관통하도록 하는 사각 개구(224)를 갖는다. 개구(224)는 제1 포커스 전극(221)과 접하는 전극(222)의 말단면상에 형성된다. 개구(223)와는 달리, 개구(224)는 수평 방향(즉, X축)으로 연장된다. 또한, 제2 포커스 전극(222)은 R, G, B 빔들이 최종 가속 전극(228)과 접하는 말단면을 관통하도록 하는 3개의 원형 개구를 갖는다.The second focus electrode 222 formed of a rectangular parallel pipe box of an empty space has a rectangular opening 224 through which the R, G, and B electrode beams pass. The opening 224 is formed on an end surface of the electrode 222 in contact with the first focus electrode 221. Unlike the opening 223, the opening 224 extends in the horizontal direction (ie, the X axis). In addition, the second focus electrode 222 has three circular openings that allow the R, G, and B beams to penetrate the end face in contact with the final acceleration electrode 228.

빈 공간의 사각 병렬 파이프 박스로 형성된 최종 가속 전극(228)은 R, G, B 전극빔들이 관통하도록 하는 3개의 원형 개구를 갖는다. 개구는 제2 포커스 전극(222)과 접하는 전극(228)의 말단면상에 형성된다. 제2 포커스 전극(232)에 대향하는 최종 가속 전극(228)의 말단면은 완전히 오픈된다.The final accelerating electrode 228, formed of a rectangular parallel pipe box of empty space, has three circular openings through which the R, G, and B electrode beams pass. An opening is formed on an end surface of the electrode 228 in contact with the second focus electrode 222. The end face of the final acceleration electrode 228 opposite the second focus electrode 232 is fully open.

제1 포커스 전극(221)에는 도 4에 나타난 고정된 값 Vf를 갖는 고정된 포커스 전압(232)이 인가된다. 제2 포커스 전극(222)에는 도 4에 나타난 파형에 따라 변화하는 다이나믹 포커스 전압(231)이 인가된다. 다이나믹 포커스 전압(231)은 수평 및 수직 편향 신호와 동기되도록 변화하고, 고정된 포커스 전압(232)보다 높게 되도록 설정된다. 따라서, 3개의 정전 4중극 렌즈(도시되지 않음)는 전극(221)의 3개의 사각 개구(223)에 대응하는 제1 및 제2 포커스 전극(221, 222)의 대향면 사이의 공간에 형성된다. 이렇게 형성된 정전 4중극 렌즈의 일례는 도 5에 개략적으로 나타나 있다.A fixed focus voltage 232 having a fixed value V f shown in FIG. 4 is applied to the first focus electrode 221. The dynamic focus voltage 231 that changes according to the waveform shown in FIG. 4 is applied to the second focus electrode 222. The dynamic focus voltage 231 changes to synchronize with the horizontal and vertical deflection signals and is set to be higher than the fixed focus voltage 232. Thus, three electrostatic quadrupole lenses (not shown) are formed in the space between opposing surfaces of the first and second focus electrodes 221, 222 corresponding to the three rectangular openings 223 of the electrode 221. . An example of the electrostatic quadrupole lens thus formed is schematically illustrated in FIG. 5.

도 5에서, 참조 번호(241)는 정전 4중극 렌즈를 지칭한다. 렌즈(241)에서, 정전위는 수직 방향의 렌즈(241)의 중심에 대해 포지티브이고 수평 방향의 렌즈(241)의 중심에 대해 네가티브이다. 따라서, 렌즈(241)는 렌즈(241)를 관통하는 전자빔(242) 상에 수직 방향의 발산력(243)과 수평 방향의 집속력(244)을 미친다. 렌즈(241)의 동작은 셀프-컨버젼스형 편향 자계에 의해 유발되는 빔(242)의 왜곡을 제거한다. 게다가, 다이나믹 포커스 전압(231)이 빔(242)의 편향 신호에 따라 동기되어 변화하기 때문에, 렌즈(241)의 동작은 동일한 방식으로 변화한다. 따라서, 빔(242)의 왜곡을 제거하는 렌즈(241)의 효과가 최적화되어, 전체 형광 스크린 상에 균일한, 작음 빔 스팟이 제공된다.In Fig. 5, reference numeral 241 denotes an electrostatic quadrupole lens. In the lens 241, the potential is positive with respect to the center of the lens 241 in the vertical direction and negative with respect to the center of the lens 241 in the horizontal direction. Accordingly, the lens 241 exerts a diverging force 243 in the vertical direction and a focusing force 244 in the horizontal direction on the electron beam 242 passing through the lens 241. Operation of the lens 241 eliminates distortion of the beam 242 caused by the self-converged deflection magnetic field. In addition, since the dynamic focus voltage 231 changes in synchronization with the deflection signal of the beam 242, the operation of the lens 241 changes in the same manner. Thus, the effect of lens 241 to remove distortion of beam 242 is optimized, providing a uniform, small beam spot on the entire fluorescent screen.

전술된 바와 같이, 도 3에 나타난 종래 기술의 전자총(220)에서는, 제1 및 제2 포커스 전극(221, 222)의 결합이 사용되고 이와 동시에 제1 포커스 전극(221)에는 일정한 값 Vf을 갖는 고정된 포커스 전압(232)이 인가되는 반면에 제2 포커스 전극(222)에는 수평 및 수직 편향 신호에 따라 동기되어 변화하는 다이나믹 포커스 전압(231)이 인가됨으로써, 정전 4중극 렌즈(241)가 형성된다. 따라서, 셀프-컨버젼스형 편향 자계로 인한 빔 스팟 왜곡은 효과적으로 제거될 수 있다.As described above, in the electron gun 220 of the prior art shown in FIG. 3, a combination of the first and second focus electrodes 221 and 222 is used, and at the same time, the first focus electrode 221 has a fixed value having a constant value Vf. While the applied focus voltage 232 is applied to the second focus electrode 222, the dynamic focus voltage 231 that is synchronized with the horizontal and vertical deflection signals is applied to the electrostatic quadrupole lens 241. . Therefore, the beam spot distortion due to the self-converged deflection magnetic field can be effectively eliminated.

최근, 컬러 CRT에 큰 스크린, 큰 편향각 및 평면 스크린을 제공할 필요성이 증가하고 있다. 만일 도 3에 나타난 종래 기술의 전자총(220)이 이러한 필요성을 부합시키기 위해 사용된다면, R, G, B 전자빔의 스팟이 형광 스크린의 주변 영역에서 서로 상이한 형상을 갖는다는 문제점이 발생한다. 이러한 문제점은 다음과 같은 이유에 의해 발생된다.Recently, the need to provide large screens, large deflection angles and flat screens for color CRTs is increasing. If the prior art electron gun 220 shown in FIG. 3 is used to meet this need, a problem arises that the spots of the R, G and B electron beams have different shapes from each other in the peripheral region of the fluorescent screen. This problem is caused by the following reasons.

일반적으로, R, G, B 전자빔이 셀프-컨버젼스형 편향 자계를 관통할 때, 이들 빔들에는 편향하는 잔계와는 상이한 크기를 갖는 수직 집속력과 수평 발산력이 인가된다. 구체적으로, 예를 들면, 만일 R, G, 및 B 빔들이 형광 스크린의 우측 끝으로 편향된다면, R빔이 G 및 B 빔들이 관통하는 영역보다 자계의 불균일성이 더 강한 영역을 관통함으로써, 스크린 상의 한 포인트 상에 R, G, B가 집속된다. 그 결과, R 빔에 의해 형성된 스팟의 왜곡은 G 및 B 빔에 의해 형성된 스팟의 왜곡보다 더 크다.In general, when R, G, and B electron beams pass through a self-converged deflection magnetic field, these beams are applied with a vertical focusing force and a horizontal divergence force having a different size than the deflecting residual field. Specifically, for example, if the R, G, and B beams are deflected to the right end of the fluorescent screen, the R beam penetrates an area where magnetic field nonuniformity is stronger than the area through which the G and B beams penetrate. R, G, and B are focused on one point. As a result, the distortion of the spot formed by the R beam is larger than the distortion of the spot formed by the G and B beams.

한편, 만일 R, G 및 B 빔들이 형광 스크린의 좌측 끝쪽으로 편향된다면, 전술된 경우와는 반대로, B 빔은 R과 G 빔들이 관통하는 영역보다 자계의 불균일성이 더 강한 영역을 관통하게 되어, 스크린 상의 한 포인트 상에 R, G, 및 B 빔들이 집속하게 된다. 그 결과, B 빔에 의해 형성된 스팟의 왜곡은 R과 G 빔들에 의해 형성된 스팟의 왜곡보다 더 크다.On the other hand, if the R, G and B beams are deflected toward the left end of the fluorescent screen, in contrast to the case described above, the B beam penetrates an area where magnetic field nonuniformity is stronger than that where the R and G beams penetrate, R, G, and B beams are focused on a point on the screen. As a result, the distortion of the spot formed by the B beam is larger than the distortion of the spot formed by the R and G beams.

따라서, R과 B 빔들간의 비점수차(즉, 빔 스팟 왜곡)을 보상하기 위한 다이나믹 포커스 전압은 스크린의 좌우측 말단 영역에서 상이한 크기를 갖는다.Thus, the dynamic focus voltage for compensating astigmatism (ie beam spot distortion) between the R and B beams has different magnitudes in the left and right end regions of the screen.

도 6은 도 3에 나타난 종래 기술의 전자총(220)에 따라 형광 스크린의 주변 영역에서의 빔 스팟 형상을 개략적으로 나타낸다. 도 7은 최적화된 다이나믹 포커스 전압의 변화를 총(220)에 따른 수평 위치의 함수로서 개략적으로 나타낸다.FIG. 6 schematically shows the beam spot shape in the peripheral region of the fluorescent screen according to the prior art electron gun 220 shown in FIG. 3. 7 schematically shows the change in the optimized dynamic focus voltage as a function of the horizontal position along the gun 220.

통상적으로, 다이나믹 포커스 전압은 중앙에 위치한 G 전자빔에 의해 발생된 스팟의 형상을 최적화하도록 결정된다. 그러나, 이 경우, 도 7에 나타난 바와 같이, 전압차 ΔVDRG는 형광 스크린의 우측 끝에서 G빔용 최적의 다이나믹 포커스 전압 VDG와 R 빔용 최적의 다이나믹 포커스 전압 VDR사이에 발생된다. 한편, 형광 스크린의 좌측 끝에서는, 전압차 ΔVDBG는 G빔용 최적의 다이나믹 포커스 전압 VDG와 B 빔용 최적의 다이나믹 포커스 전압 VDB사이에 발생된다. 따라서, R과 B 빔들사이의 비점수차의 보상은 최적화될 수 없다.Typically, the dynamic focus voltage is determined to optimize the shape of the spot generated by the centrally located G electron beam. However, in this case, as shown in Fig. 7, the voltage difference ΔV DRG is generated between the optimal dynamic focus voltage V DG for the G beam and the optimal dynamic focus voltage V DR for the R beam at the right end of the fluorescent screen. On the other hand, at the left end of the fluorescent screen, the voltage difference ΔV DBG is generated between the optimal dynamic focus voltage V DG for the G beam and the optimal dynamic focus voltage V DB for the B beam. Therefore, compensation of astigmatism between the R and B beams cannot be optimized.

따라서, 도 6에 나타난 바와 같이, 할로(251)는 형광 스크린(253)의 우측 끝단 영역(253a)에서 R 빔에 의해 발생된 각 빔 스팟(250R)에 형성되고, 동시에 할로(252)는 스크린(253)의 좌측 끝단 영역(253b)에서 B 빔에 의해 발생된 각 빔 스팟(250B)에 형성된다. 그 결과, 좌우측 영역(253a, 253b)에서 해상도가 저하되는 문제점이 발생한다.Thus, as shown in FIG. 6, halo 251 is formed in each beam spot 250R generated by the R beam in the right end region 253a of the fluorescent screen 253, and at the same time halo 252 is screened. It is formed in each beam spot 250B generated by the B beam in the left end region 253b of 253. As a result, a problem arises in that the resolution decreases in the left and right regions 253a and 253b.

특히, 더 높은 해상도, 더 큰 편향각 및 보다 평평한 스크린을 필요로 하는 디스플레이용으로 설계된 최근의 컬러 CRT에서, 중앙에 위치한 G 빔용 최적의 다이나믹 포커스 전압과 각 사이드에 위한 R과 B 빔용 최적의 다이나믹 포커스 전압간의 차가 커지게 되어, 전술된 문제점을 더욱 부각시킨다.In particular, in recent color CRTs designed for displays that require higher resolution, larger deflection angles, and flatter screens, optimal dynamic focus voltage for centered G beams and optimal dynamics for R and B beams on each side. The difference between the focus voltages becomes large, further highlighting the above-mentioned problem.

예를 들면, 편향각이 크며 디스플레이용으로 설계된 현재의 19인치 컬러 CRT에서, R과 G 빔들 간의 다이나믹 포커스 전압차 ΔVDRG와 B와 G 빔들간의 다이나믹 포커스 전압차 ΔVDBG는 도 7에 나타난 바와 같이, 약 150V의 최대치를 갖는다.For example, in the current 19 inch color CRT having a large deflection angle and designed for display, the dynamic focus voltage difference ΔV DRG between the R and G beams and the dynamic focus voltage difference ΔV DBG between the B and G beams are shown in FIG. 7. Likewise, it has a maximum of about 150V.

이러한 타입의 다른 향상된 전자총은 1998년 1월에 공개된 일본 무심사 특허 공보 평10-21847호에 개시되어 있으며, 전술된 문제점을 해결하고 있다. 이 향상된 총은 전술된 다이나믹 정전 4중극 렌즈와 함께 대향 3중극 렌즈를 갖는 한 쌍의 추가적인 다이나믹 정전 4중극 렌즈를 포함한다.Another improved electron gun of this type is disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-21847 published in January 1998, which solves the above-mentioned problems. This enhanced gun includes a pair of additional dynamic electrostatic quadrupole lenses with opposing tripole lenses in addition to the dynamic electrostatic quadrupole lenses described above.

그러나, 공보 평10-21847호에 개시된 향상된 전자총에서는, 한 쌍의 추가적인 다이나믹 4중극 렌즈를 형성하도록 전극을 구성할 필요가 있다. 따라서, 전자총의 구성이 더욱 복잡해지는 문제점이 발생한다.However, in the improved electron gun disclosed in Publication No. 10-21847, it is necessary to configure the electrode to form a pair of additional dynamic quadrupole lenses. Therefore, a problem arises in that the configuration of the electron gun becomes more complicated.

게다가, 2개의 상이한 다이나믹 포커스 전압이 상기 총에 인가되어야 하기 때문에, 추가의 전압 공급 핀들이 CRT에 제공될 필요가 있고 한쌍의 추가 다이나믹 정전 4중극 렌즈용 다이나믹 포커스 전압을 생성할 추가 회로가 디스플레이를 구동하는 장치, 즉 컬러 CRT에 필요하다는 다른 문제점이 있다.In addition, since two different dynamic focus voltages must be applied to the gun, additional voltage supply pins need to be provided to the CRT and an additional circuit to generate a dynamic focus voltage for a pair of additional dynamic capacitive quadrupole lenses requires a display. There is another problem that it is required for a driving device, namely a color CRT.

따라서, 본 발명의 목적은 R, G, 및 B 전자빔들의 스팟 형상을 형광 스크린의 중간 영역에서는 물론 좌우측 말단 영역에서 실질적으로 균일하게 하는 인라인형 전자총, 및 이 총이 장착된 컬러 CRT를 제공하는 것이다.It is therefore an object of the present invention to provide an inline electron gun which makes the spot shape of the R, G, and B electron beams substantially uniform in the middle region of the fluorescent screen as well as in the left and right end regions, and a color CRT equipped with the gun. .

본 발명의 다른 목적은 전체 형광 스크린에 걸쳐서 원하는 고해상도를 구현하는 인라인형 전자총을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide an inline electron gun which achieves the desired high resolution over the entire fluorescent screen.

본 발명의 또 다른 목적은 복잡한 구성, 추가적인 핀들 또는 추가 회로없이 G 전자빔의 각 사이드에 위치한 R 및 B 전자빔의 스팟 왜곡을 감소시키는 인라인형 전자총을 제공하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide an inline electron gun which reduces the spot distortion of R and B electron beams located on each side of the G electron beam without complicated configuration, additional pins or additional circuitry.

구체적으로 언급되지 않은 다른 목적들과 함께 전술된 목적은 본 분야의 숙련된 자라면 다음 설명으로부터 명백하게 될 것이다.The foregoing objects, along with other objects not specifically mentioned, will become apparent from the following description to those skilled in the art.

본 발명의 제1 특징에 따르면, 제1, 제2 및 제3 전자빔들을 생성하기 위한 삼극 진공관과, 각기 상기 제1, 제2 및 제3 전자빔들을 집속시키기 위한 메인 렌즈 시스템을 포함하는 인라인형 전자총이 제공된다.According to a first aspect of the invention, an inline electron gun comprising a three-pole vacuum tube for generating first, second and third electron beams and a main lens system for focusing the first, second and third electron beams, respectively This is provided.

상기 삼극 진공관은 제1 방향의 동일선상에서 특정 거리에 배열된 제1, 제2 및 제3 음극, 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향에서 특정 거리에 상기 제1, 제2 및 제3 음극에 인접 배치된 제어 전극, 및 상기 제2 방향에서 특정 거리에 상기 제어 전극에 인접 배치된 초기 가속 전극을 포함한다. 상기 제1 및 제3 음극은 상기 제2 음극의 대향측상에 배열된다.The three-pole vacuum tube may include first, second and third cathodes arranged at a specific distance on the same line in a first direction, and the first, second and third cathodes at a specific distance in a second direction perpendicular to the first direction. Control electrodes disposed adjacent to each other, and initial acceleration electrodes disposed adjacent to the control electrodes at a specific distance in the second direction. The first and third cathodes are arranged on opposite sides of the second cathode.

상기 메인 렌즈 시스템은 상기 제2 방향에 배열된 제1 포커스 전극, 제2 포커스 전극, 및 최종 가속 전극을 포함한다. 상기 제1 포커스 전극은 상기 삼극 진공관의 상기 초기 가속 전극에 대해 특정 거리에 인접 배치된다. 상기 제2 포커스 전극은 상기 제1 포커스 전극에 대해 특정 거리에 인접 배치된다. 상기 최종 가속 전극은 상기 제2 포커스 전극에 대해 특정 거리에 인접 배치된다.The main lens system includes a first focus electrode, a second focus electrode, and a final acceleration electrode arranged in the second direction. The first focus electrode is disposed adjacent to a specific distance with respect to the initial acceleration electrode of the tripolar vacuum tube. The second focus electrode is disposed adjacent a specific distance with respect to the first focus electrode. The final accelerating electrode is disposed adjacent a certain distance with respect to the second focus electrode.

상기 제1 포커스 전극은 상기 제2 방향으로 특정 거리 또는 간격마다 배치된 전극 부재들을 갖는다. 상기 전극 부재들 중 제1 부재는 상기 초기 가속 전극에 인접하여 배치된다. 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재는 상기 제2 포커스 전극에 인접하여 배치된다. 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재와 상기 제2 포커스 전극은 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재와 상기 제2 포커스 전극사이에 상기 1, 제2 및 제3 전자빔용 제1, 제2 및 제3 4중극 렌즈를 형성하도록 기능한다.The first focus electrode has electrode members disposed at specific distances or intervals in the second direction. A first member of the electrode members is disposed adjacent to the initial acceleration electrode. The final member of the electrode members is disposed adjacent to the second focus electrode. The final member and the second focus electrode of the electrode members may include a first, second and third 4 for the first, second and third electron beams between the final member and the second focus electrode of the electrode members. It functions to form a bipolar lens.

상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들 각각은 상기 제1, 제2 및 제3 전자 빔들이 통과할 수 있도록 하는 제1, 제2 및 제3 쓰루 홀들을 갖는다. 상기 제1 및 제3 쓰루 홀들은 서로 크기면에서 동일한 반면에 상기 제2 쓰루 홀은 상기 제1 및 제3 쓰루 홀들과는 크기면에서 상이하다.Each of the electrode members of the first focus electrode has first, second and third through holes to allow the first, second and third electron beams to pass therethrough. The first and third through holes are identical in size to each other, while the second through holes are different in size from the first and third through holes.

상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재에는 고정된 포커스 전압이 인가되는 반면에 상기 제2 포커스 전극에는 다이나믹 포커스 전압이 인가됨으로써, 상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재와 상기 제2 포커스 전극사이에 상기 제1, 제2 및 제3 4중극 렌즈가 형성된다. 상기 제1, 제2 및 제3의 4중극 렌즈들은 상기 고정 및 다이나믹 포커스 전압간의 차에 따라 변화하는 렌즈 작용을 갖는다.A fixed focus voltage is applied to the final member of the electrode members of the first focus electrode while a dynamic focus voltage is applied to the second focus electrode, thereby allowing the final one of the electrode members of the first focus electrode to be applied. The first, second and third quadrupole lenses are formed between the member and the second focus electrode. The first, second and third quadrupole lenses have a lens action that varies with the difference between the fixed and dynamic focus voltages.

상기 최종 부재를 제외한 상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들 중 적어도 하나의 부재에 상기 다이나믹 포커스 전압이 인가됨으로써, 상기 제1 포커스 전극내에 상기 제1, 제2 및 제3 전자빔들용 제1, 제2 및 제3 포커스 렌즈가 형성된다. 상기 제1, 제2 및 제3 포커스 렌즈들은 상기 고정 및 다이나믹 포커스 전압간의 차에 따라 변화하는 집속력을 갖는다.The dynamic focus voltage is applied to at least one of the electrode members of the first focus electrode except for the final member, so that the first, second, and third electron beams for the first, second, and third electron beams in the first focus electrode are applied. Second and third focus lenses are formed. The first, second and third focus lenses have a focusing force that varies with the difference between the fixed and dynamic focus voltages.

상기 제1 및 제3 포커스 렌즈의 상기 집속력은 상기 고정 및 다이나믹 포커스 전압간의 차에 따라 상기 제2 포커스 렌즈의 집속력과는 다른 비율로 변화한다.The focusing force of the first and third focus lenses is changed at a ratio different from that of the second focus lens according to a difference between the fixed and dynamic focus voltages.

본 발명의 제1 특징에 따른 인라인형 전자총에서, 메인 렌즈 시스템의 제1 포커스 전극은 제2 방향에서 특정 거리 또는 간격마다 배열된 전극 부재들을 갖는다. 제2 포커스 전극에 인접 배치된 전극 부재들 중 최종 부재와 제2 포커스 전극은 이들 사이에 제1, 제2 및 제3 전극빔들용 제1, 제2 및 제3 4중극 렌즈를 형성하도록 기능한다. 제1 내지 제3 4중극 렌즈들은 제1 포커스 전극의 전극 부재들 중 최종 부재에 고정된 포커스 전압을 인가하고 제2 포커스 전극에는 다이나믹 포커스 전압을 인가함으로써 형성된다.In the inline electron gun according to the first aspect of the present invention, the first focus electrode of the main lens system has electrode members arranged at a specific distance or interval in the second direction. Of the electrode members disposed adjacent to the second focus electrode, the final member and the second focus electrode function to form first, second and third quadrupole lenses for the first, second and third electrode beams therebetween. do. The first to third quadrupole lenses are formed by applying a fixed focus voltage to a final member of the electrode members of the first focus electrode and applying a dynamic focus voltage to the second focus electrode.

또한, 제1 포커스 전극의 전극 부재들 각각은 제1, 제2 및 제3 전자빔들이 관통하도록 하는 제1, 제2 및 제3 쓰루 홀들을 갖는다. 제1 및 제3 음극들이 제2 음극의 대향측상에 배치되기 때문에, 제1 및 제3 전자빔들은 제2 전자빔의 대향측에 배치된다.In addition, each of the electrode members of the first focus electrode has first, second and third through holes through which the first, second and third electron beams pass. Since the first and third cathodes are disposed on the opposite side of the second cathode, the first and third electron beams are disposed on the opposite side of the second electron beam.

한편, 최종 부재를 제외한 제1 포커스 전극의 전극 부재들 중 적어도 한 부재에 다이나믹 포커스 전압이 인가됨으로써, 제1 포커스 전극에 제1, 제2 및 제3 전극빔들용 제1, 제2 및 제3 포커스 렌즈가 형성된다. 이렇게 형성된 제1, 제2 및 제3 포커스 렌즈들은 메인 렌즈 시스템에서 포커스 서브 렌즈로서 기능한다.Meanwhile, a dynamic focus voltage is applied to at least one of the electrode members of the first focus electrode except for the final member, so that the first, second and third electrode beams for the first, second and third electrode beams are applied to the first focus electrode. Three focus lenses are formed. The first, second and third focus lenses thus formed function as focus sub lenses in the main lens system.

제1 포커스 전극의 전극 부재들 각각의 제1 및 제3 쓰루 홀들은 서로 크기면에서 동일하지만 제2 쓰루 홀은 제1 및 제3 쓰루 홀들과는 크기면에서 상이하기 때문에, 제1 및 제3 포커스 렌즈의 집속력은 서로 크기면에서 동일하고, 제2 포커스 렌즈의 집속력과는 크기면에서 상이하다.Since the first and third through holes of each of the electrode members of the first focus electrode are identical in size to each other, but the second through hole is different in size from the first and third through holes, the first and third focus holes The focusing forces of the lenses are identical in size to each other, and differ in size from the focusing forces of the second focus lens.

게다가, 제1, 제2 및 제3 포커스 렌즈의 집속력은 고정 및 다이나믹 포커스 전압간의 차에 따라 변화한다. 제1 및 제2 포커스 렌즈의 집속력은 고정 및 다이나믹 포커스 전압간의 차에 따라 제2 포커스 렌즈의 집속력과는 다른 비율로 변화한다. 따라서, 다이나믹 포커스 전압의 변화에 따라 발생되는, 제1 및 제3 전자빔들(즉, 사이드 전자빔들)의 이미지 포인트의 변위는 제2 전자빔(즉, 중앙 전자빔)의 이미지 포인트와는 크기면에서 상이하다. 이는 중앙 및 사이드 전자빔들용 다이나믹 포커스 전압의 최적값을 별도로 제어할 수 있다는 것을 의미한다. 따라서, 중앙 전자빔과 사이드 전자빔간의 다이나믹 포커스 전압의 최적값의 불균형은 억제될 수 있다.In addition, the focusing force of the first, second and third focus lenses changes according to the difference between the fixed and dynamic focus voltages. The focusing force of the first and second focus lenses changes at a different rate from the focusing force of the second focus lens according to the difference between the fixed and dynamic focus voltages. Thus, the displacement of the image point of the first and third electron beams (ie, side electron beams), which is generated in accordance with the change of the dynamic focus voltage, differs in size from the image point of the second electron beam (ie, the central electron beam). Do. This means that the optimum value of the dynamic focus voltage for the center and side electron beams can be controlled separately. Therefore, the unbalance of the optimum value of the dynamic focus voltage between the center electron beam and the side electron beam can be suppressed.

따라서, 사이드(즉, 제1 및 제3) 전자빔들에 의해 형성된 스팟들의 왜곡은 감소될 수 있기 때문에, 제1, 제2 및 제3 전자빔들에 의해 발생된 3개의 빔들의 스팟 형상은 형광 스크린의 중간 영역에서는 물론 좌우측 말단 영역에서 실질적으로 균일하게 형성될 수 있다. 이는 전체 형광 스크린상에 원하는 고해상도를 구현할 수 있다는 것을 의미한다.Therefore, since the distortion of the spots formed by the side (i.e., the first and third) electron beams can be reduced, the spot shape of the three beams generated by the first, second and third electron beams is reduced to the fluorescent screen. In the middle region of, of course, it can be formed substantially uniformly in the left and right end regions. This means that the desired high resolution can be achieved on the entire fluorescent screen.

게다가, 일본 무심사 특허 공보 평10-21847호에 개시된 종래 기술의 전자총과는 달리, 복잡한 구성, 추가적인 핀, 또는 추가적인 회로가 필요치 않다.In addition, unlike the electron gun of the prior art disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-21847, no complicated configuration, additional pins, or additional circuits are required.

본 발명의 제1 특징에 따른 전자총의 바람직한 실시예에서, 제1 포커스 전극의 전극 부재들 각각의 제1 및 제3 쓰루 홀들은 제2 쓰루 홀보다 크기면에서 더 작다. 고정된 포커스 전압은 다이나믹 포커스 전압보다 크기면에서 더 작게 되도록 설정된다.In a preferred embodiment of the electron gun according to the first aspect of the invention, the first and third through holes of each of the electrode members of the first focus electrode are smaller in size than the second through hole. The fixed focus voltage is set to be smaller in magnitude than the dynamic focus voltage.

본 발명의 제1 특징에 따른 전자총의 다른 바람직한 실시예에서, 제1 포커스 전극의 전극 부재들 각각의 제1 및 제3 쓰루 홀들은 제2 쓰루 홀보다 크기면에서 더 크다. 고정된 포커스 전압은 다이나믹 포커스 전압도다 크기면에서 더 작게 되도록 설정된다.In another preferred embodiment of the electron gun according to the first aspect of the present invention, the first and third through holes of each of the electrode members of the first focus electrode are larger in size than the second through hole. The fixed focus voltage is set so that the dynamic focus voltage is also smaller in size.

본 발명의 제1 특징에 따른 전자총의 또 다른 바람직한 실시예에서, 제1 포커스 전극의 전극 부재들의 개수는 3개이고, 전극 부재들 중 제3 부재는 최종 부재로서 기능한다. 전극 부재들 중 제2 부재는 전극 부재들 중 제1 및 제3 부재들 사이에서 특정 거리에 배치된다. 전극 부재들 중 제1 및 제3 부재에는 고정된 포커스 전압이 인가되는 반면에 전극 부재들 중 제2 부재에는 다이나믹 포커스 전압이 인가된다.In another preferred embodiment of the electron gun according to the first aspect of the present invention, the number of electrode members of the first focus electrode is three, and the third member of the electrode members functions as the final member. The second member of the electrode members is disposed at a specific distance between the first and third members of the electrode members. A fixed focus voltage is applied to the first and third members of the electrode members, while a dynamic focus voltage is applied to the second member of the electrode members.

본 발명의 제1 특징에 따른 전자총의 보다 바람직한 실시예에서, 제1 포커스 전극의 전극 부재들의 개수는 2개이고, 이 전극 부재들 중 제2 부재는 최종 부재로서 기능한다. 전극 부재들 중 제1 부재에는 고정된 포커스 전압이 인가되지만 전극 부재들 중 제2 부재에는 다이나믹 포커스 전압이 인가된다.In a more preferred embodiment of the electron gun according to the first aspect of the present invention, the number of electrode members of the first focus electrode is two, of which the second member functions as a final member. A fixed focus voltage is applied to the first member of the electrode members while a dynamic focus voltage is applied to the second member of the electrode members.

본 발명의 제2 특징에 따르면, 본 발명의 제1 특징에 따른 인라인형 전자총으로 이루어진 컬러 CRT가 제공된다.According to a second aspect of the invention, there is provided a color CRT consisting of an inline electron gun according to the first aspect of the invention.

도 1a와 도 1b는 각기, 종래의 셀프-컨버젼스형 편향 요크에 의해 형성된 통상적인 수평 및 수직 편향 자계의 분포를 나타낸 개략적인 단면도.1A and 1B are schematic cross-sectional views illustrating the distribution of conventional horizontal and vertical deflection magnetic fields formed by conventional self-converged deflection yokes, respectively.

도 2는 종래의 셀프-컨버젼스형 편향 요크에 의해 편향된 R, G, 및 B 전자빔들에 의해 형광 스크린상에 형성된 스팟의 형상을 나타낸 개략적인 도면.2 is a schematic diagram showing the shape of a spot formed on a fluorescent screen by R, G, and B electron beams deflected by a conventional self-converged deflection yoke.

도 3은 종래 기술의 인라인형 전자총의 주요 부분의 구성을 나타낸 개략적인 사시도.Fig. 3 is a schematic perspective view showing the construction of the main part of the inline electron gun of the prior art.

도 4는 도 3에 나타난 종래 기술의 전차총에 인가된 다이나막 포커스 전압과 고정된 포커스 전압의 순간적인 변화를 나타낸 파형도.FIG. 4 is a waveform diagram illustrating instantaneous changes in a fixed focus voltage and a dynamo focus voltage applied to the tank gun of the prior art shown in FIG.

도 5는 도 3에 나타난 종래 기술의 전자총에 의해 형성된 정전 4중극 렌즈로부터 전자총에 인가된 힘의 상태를 나타내는 개략적인 단면도.FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state of a force applied to an electron gun from an electrostatic quadrupole lens formed by the electron gun of the prior art shown in FIG.

도 6은 도 3에 나타난 종래 기술의 전자총내의 R, G 및 B 전자빔에 의해 형광 스크린 상에 형성된 스팟의 형상을 나타낸 개략적인 도면.FIG. 6 is a schematic diagram showing the shape of a spot formed on a fluorescent screen by R, G and B electron beams in the prior art electron gun shown in FIG.

도 7은 도 3에 나타난 종래 기술의 전자총내의 최적의 다이나믹 포커스 전압과 형광 스크린상의 빔 스팟 위치간의 관계를 나타낸 그래프.FIG. 7 is a graph showing the relationship between the optimal dynamic focus voltage in the prior art electron gun shown in FIG. 3 and the beam spot position on the fluorescent screen. FIG.

도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따른 인라인형 전자총의 주요 부분의 구성을 나타낸 개략적인 사시도.Fig. 8 is a schematic perspective view showing the configuration of main parts of the inline electron gun according to the first embodiment of the present invention.

도 9는 도 8의 제1 실시예에 따른 전자총의 제1 포커스 전극의 구성을 나타낸 개략적인 사시도.FIG. 9 is a schematic perspective view illustrating a configuration of a first focus electrode of the electron gun according to the first embodiment of FIG. 8.

도 10은 도 8의 제1 실시예에 따른 전자총의 제1 포커스 전극의 각 전극 부재내에 형성되어 R, G, 및 B 빔들이 관통하는 쓰루 홀들을 나타내는 개략적인 도면으로, 이 쓰루 홀들은 제1 포커스 전극에 포커스 서브 렌즈를 형성하는데 사용됨.FIG. 10 is a schematic diagram illustrating through holes formed in each electrode member of the first focus electrode of the electron gun according to the first embodiment of FIG. 8, through which R, G, and B beams pass, wherein the through holes are formed in a first manner. Used to form the focus sub lens on the focus electrode.

도 11은 도 8의 제1 실시예에 따른 전자총의 각 전극에 다이나믹 및 고정된 포커스 전압의 인가 구조를 나타낸 개략적인 단면도.FIG. 11 is a schematic cross-sectional view illustrating a structure in which dynamic and fixed focus voltages are applied to each electrode of the electron gun according to the first embodiment of FIG. 8; FIG.

도 12는 도 8의 제1 실시예에 따른 전자총에 인가된 다이나믹 및 고정된 포커스 전압의 순간적인 변화를 나타낸 파형도.FIG. 12 is a waveform diagram illustrating instantaneous changes in dynamic and fixed focus voltages applied to the electron gun according to the first embodiment of FIG. 8; FIG.

도 13은 도 8의 제1 실시예에 따른 전자총내의 최적의 다이나믹 포커스 전압과 형광 스크린상의 빔 스팟 위치간의 관계를 나타낸 그래프.FIG. 13 is a graph showing the relationship between the optimal dynamic focus voltage in the electron gun and the beam spot position on the fluorescent screen according to the first embodiment of FIG.

도 14는 도 8의 제1 실시예에 따른 전자총의 R, G, B 전자빔에 의해 형광 스크린 상에 형성된 스팟의 형상을 나타낸 개략적인 도면.FIG. 14 is a schematic diagram showing the shape of a spot formed on a fluorescent screen by R, G and B electron beams of the electron gun according to the first embodiment of FIG. 8; FIG.

도 15는 본 발명의 제2 실시예에 따른 인라인형 전자총에 사용된 제1 포커스 전극의 구성을 나타낸 개략적인 사시도.Fig. 15 is a schematic perspective view showing the configuration of a first focus electrode used in an inline electron gun according to a second embodiment of the present invention.

도 16은 도 15의 제2 실시예에 따른 전자총의 제1 포커스 전극의 각 전극 부재내에 형성되어 R, G, 및 B 빔들이 관통하는 쓰루 홀들을 나타내는 개략적인 도면으로, 이 쓰루 홀들은 제1 포커스 전극에 포커스 서브 렌즈를 형성하는데 사용됨.FIG. 16 is a schematic diagram illustrating through holes formed in each electrode member of the first focus electrode of the electron gun according to the second embodiment of FIG. 15, through which the R, G, and B beams pass, wherein the through holes are formed in the first embodiment. Used to form the focus sub lens on the focus electrode.

도 17은 도 15의 제2 실시예에 따른 전자총에 인가된 다이나믹 및 고정된 포커스 전압의 순간적인 변화를 나타내는 파형도.FIG. 17 is a waveform diagram illustrating instantaneous changes in dynamic and fixed focus voltages applied to the electron gun according to the second embodiment of FIG. 15; FIG.

도 18은 본 발명의 제3 실시예에 따른 인라인형 전자총의 주요 부분의 구성을 나타낸 개략적인 사시도.Fig. 18 is a schematic perspective view showing the configuration of main parts of the inline electron gun according to the third embodiment of the present invention.

도 19는 도 18의 제3 실시예에 따른 전자총의 각 전극에 다이나믹 및 고정된 포커스 전압의 인가 구조를 나타낸 개략적인 단면도.FIG. 19 is a schematic cross-sectional view illustrating a structure in which dynamic and fixed focus voltages are applied to respective electrodes of the electron gun according to the third embodiment of FIG. 18; FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1R, 1G, 1B : R, G, 및 B 컬러용 음극들1R, 1G, 1B: Cathodes for R, G, and B Colors

2 : 제어 전극2: control electrode

3 : 초기 가속 전극3: initial acceleration electrode

4 : 제1 포커스 전극4: first focus electrode

5 : 제2 포커스 전극5: second focus electrode

6 : 최종 가속 전극6: final acceleration electrode

10 : 전자총10: electron gun

본 발명의 바람직한 실시예들은 첨부된 도면을 참조하여 이하에서 상세히 기술될 것이다.Preferred embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.

도 8, 9, 10 및 11은 본 발명의 제1 실시예에 따른 인라인형 전자총(10)을 나타낸다.8, 9, 10 and 11 show an inline electron gun 10 according to a first embodiment of the present invention.

도 8에 나타난 바와 같이, 전자총(10)은 3개의 R, G, 및 B 컬러용 음극들(1R, 1G, 1B), 제어 전극(2), 초기 가속 전극(3), 제1 포커스 전극(4), 제2 포커스 전극(5), 및 최종 가속 전극(6)으로 구성된다. 음극들(1R, 1G, 1B), 제어 전극(2), 초기 가속 전극(3), 제1 포커스 전극(4), 제2 포커스 전극(5), 및 최종 가속 전극(6)의 세트가 총(10)의 중심축 Z를 따라 배열된다.As shown in FIG. 8, the electron gun 10 includes three cathodes 1R, 1G, 1B for R, G, and B colors, a control electrode 2, an initial acceleration electrode 3, and a first focus electrode ( 4), the second focus electrode 5 and the final acceleration electrode 6. The set of cathodes 1R, 1G, 1B, control electrode 2, initial acceleration electrode 3, first focus electrode 4, second focus electrode 5, and final acceleration electrode 6 are total It is arranged along the central axis Z of (10).

도 8에 나타난 바와 같이, X축은 Z축에 대해 수평 및 수직하도록 정의되고, Y축은 Z와 X축에 직교 및 수직하도록 정의된다.As shown in FIG. 8, the X axis is defined to be horizontal and perpendicular to the Z axis, and the Y axis is defined to be orthogonal and perpendicular to the Z and X axes.

3개의 음극 1R, 1G 및 1B은 X축 라인을 따라 동일 간격으로 수평 배열된다. 음극 IR, 1G 및 1B는 R, G 및 B 전자빔들이 각기 방출되는 방출면을 갖는다. 이들 방출면들은 Z축에 수직하다.The three cathodes 1R, 1G and 1B are arranged horizontally at equal intervals along the X-axis line. The cathodes IR, 1G and 1B have emission surfaces from which the R, G and B electron beams are respectively emitted. These emitting surfaces are perpendicular to the Z axis.

고체의 사각 플레이트로 형성되는 제어 전극(2)은 음극 1R, 1G 및 1B의 방출면의 인접한 부근에 특정 간격으로 배치된다. 제어 전극(2)은 R, G, 및 B 빔들이 관통하게 하는 3개의 원형 쓰루 홀들(21, 22, 23)을 갖는다. 이 쓰루 홀들(21, 22, 23)은 X축을 따라 동일 간격으로 배열되어 각기 음극 1R, 1G 및 1B의 방출면의 중앙에 배열되게 된다.The control electrodes 2 formed of solid rectangular plates are arranged at specific intervals in the vicinity of the vicinity of the emission surfaces of the cathodes 1R, 1G and 1B. The control electrode 2 has three circular through holes 21, 22, 23 which allow R, G, and B beams to penetrate. These through holes 21, 22, and 23 are arranged at equal intervals along the X axis so as to be arranged at the centers of the emission surfaces of the cathodes 1R, 1G, and 1B, respectively.

초기 가속 전극(3)은 고체의 사각 플레이트로 형성되며, 제어 전극(2)와 유사하다. 전극(3)은 음극 1R, 1G 및 1B의 대향측상의 제어 전극(2)에 인접하여 특정 간격으로 배열된다. 전극(3)은 R, G, 및 B 빔들이 관통하게 하는 3개의 원형 쓰루 홀들(31, 32, 33)을 갖는다. 이 쓰루 홀들(31, 32, 33)은 X축을 따라 동일 간격으로 배열되어 각기 제어 전극(2)의 쓰루 홀들(21, 22, 23)의 중앙에 배열되게 된다.The initial acceleration electrode 3 is formed of a solid rectangular plate and is similar to the control electrode 2. The electrodes 3 are arranged at specific intervals adjacent to the control electrodes 2 on opposite sides of the cathodes 1R, 1G and 1B. The electrode 3 has three circular through holes 31, 32, 33 which allow R, G, and B beams to penetrate. These through holes 31, 32, 33 are arranged at equal intervals along the X axis so as to be arranged at the centers of the through holes 21, 22, 23 of the control electrode 2, respectively.

도 8과 도 9로부터 알 수 있는 바와 같이, 제1 포커스 전극(4)은 3개의 전극 부재들(4a, 4b 및 4c)을 갖는다. 각각의 2개의 전극 부재들(4a, 4b 및 4c)은 빈공간의 사각 병렬파이프 박스로 형성된다. 전극 부재(4b)는 고체의 사각 플레이트로 형성된다.As can be seen from FIGS. 8 and 9, the first focus electrode 4 has three electrode members 4a, 4b and 4c. Each of the two electrode members 4a, 4b and 4c is formed of a rectangular parallel pipe box of empty space. The electrode member 4b is formed of a solid rectangular plate.

전극 부재(4a)는 초기 가속 전극(3)의 근방에서 특정 간격으로 배치된다. 부재(4a)는 초기 가속 전극(3)의 대향면 상에 3개의 원형 장치(4a4, 4a5 및 4a6)를 갖는다. 개구(4a4, 4a5 및 4a6)는 X축을 따라 동일 선상에 배치되어 초기 가속 전극(3)의 쓰루 홀들(31, 32, 33)의 중앙에 각각 배치된다. 개구들(4a4, 4a5 및 4a6)은 서로 크기 또는 직경이 동일하다.The electrode members 4a are arranged at specific intervals in the vicinity of the initial acceleration electrode 3. The member 4a has three circular devices 4a4, 4a5 and 4a6 on the opposite surface of the initial acceleration electrode 3. The openings 4a4, 4a5 and 4a6 are arranged on the same line along the X axis and are disposed at the centers of the through holes 31, 32, 33 of the initial acceleration electrode 3, respectively. The openings 4a4, 4a5 and 4a6 are equal in size or diameter to each other.

또한, 전극 부재(4a)는 제2 전극 부재(4b)의 대향면상에 3개의 원형 개구들(4a1, 4a2, 4a3)를 갖는다. 개구들(4a1, 4a2 및 4a3)은 X축을 따라 동일선에 배열되어 개구(4a4, 4a5 및 4a6)의 중앙에 각기 배열된다. 도 10에 나타난 바와 같이, 각 사이드에 배열된 개구들(4a1, 4a3)은 동일한 D1의 직경을 갖는다. 중앙에 배열된 개구(4a2)는 직경 D1보다 큰 D2의 직경을 갖는다(즉, D2>D1).In addition, the electrode member 4a has three circular openings 4a1, 4a2, 4a3 on opposite surfaces of the second electrode member 4b. The openings 4a1, 4a2 and 4a3 are arranged in the same line along the X axis and arranged in the center of the openings 4a4, 4a5 and 4a6, respectively. As shown in Fig. 10, the openings 4a1 and 4a3 arranged on each side have the same diameter of D1. The opening 4a2 arranged in the center has a diameter of D2 larger than the diameter D1 (that is, D2 &gt; D1).

R, G 및 B 전자빔들은 개구들(4a4, 4a5, 및 4a6)에 의해 제1 전극 부재(4a)의 내부에 진입하고나서, 각기 개구들(4a1, 4a2, 4a3)에 의해 부재(4a)를 벗어난다. 각각의 개구들(4a4, 4a5, 4a6)과 개구들(4a1, 4a2, 4a3) 중 대응하는 개구는 1B, 1G 및 1R 빔들 중 대응하는 빔들을 관통하기 위한 쓰루 홀을 형성한다고 말할 수 있다.The R, G, and B electron beams enter the interior of the first electrode member 4a by the openings 4a4, 4a5, and 4a6, and then open the member 4a by the openings 4a1, 4a2, 4a3, respectively. Escape It can be said that each of the openings 4a4, 4a5, 4a6 and the corresponding one of the openings 4a1, 4a2, 4a3 form a through hole for penetrating the corresponding ones of the 1B, 1G and 1R beams.

제1 포커스 전극(4)의 전극 부재(4b)는 전극 부재(4a)의 부근에서 특정 간격으로 배치된다. 부재(4b)는 B, G, R 빔들이 관통하게 하는 3개의 원형 쓰루 홀들(4b1, 4b2, 4b3)을 갖는다. 쓰루 홀들(4b1, 4b2, 4b3)은 X축을 따라 동일선상에 배열되어 각기 전극 부재(4a)의 개구들(4a1, 4a2, 4a3)의 중심에 배열되게 된다. 도 10에 나타난 바와 같이, 각 사이드에 배치된 쓰루 홀들(4b1, 4b3)은 동일한 D1의 직경을 갖는다. 중앙에 배치된 쓰루 홀(4b2)은 D2의 직경을 갖는다.The electrode members 4b of the first focus electrode 4 are arranged at specific intervals in the vicinity of the electrode member 4a. The member 4b has three circular through holes 4b1, 4b2, 4b3 to allow the B, G and R beams to penetrate. The through holes 4b1, 4b2, 4b3 are arranged in the same line along the X axis so as to be arranged at the centers of the openings 4a1, 4a2, 4a3 of the electrode member 4a, respectively. As shown in Fig. 10, the through holes 4b1 and 4b3 disposed on each side have the same diameter of D1. The through hole 4b2 disposed at the center has a diameter of D2.

전극 부재(4c)는 전극 부재(4b)의 부근에서 특정 간격으로 배치된다. 부재(4c)는 부재(4b)의 대향면상에 3개의 원형 개구들(4c4, 4c5, 4c6)을 갖는다. 개구들(4c4, 4c5, 4c6)은 X축을 따라 동일선상에 배열되어 부재(4b)의 쓰루 홀들(4b1, 4b2, 4b3)의 중심에 배열되게 된다. 도 10에 나타난 바와 같이, 각 사이드에 배치된 개구들(4c4, 4c6)은 동일한 D1의 직경을 갖는다. 중앙에 배치된 개구(4b2)는 D2의 직경을 갖는다.The electrode members 4c are arranged at specific intervals in the vicinity of the electrode member 4b. The member 4c has three circular openings 4c4, 4c5, 4c6 on the opposite surface of the member 4b. The openings 4c4, 4c5, 4c6 are arranged collinearly along the X axis so as to be arranged at the center of the through holes 4b1, 4b2, 4b3 of the member 4b. As shown in Fig. 10, the openings 4c4 and 4c6 disposed on each side have the same diameter of D1. The centrally located opening 4b2 has a diameter of D2.

또한, 제3 전극 부재(4c)는 제2 포커스 전극(5)의 대향면상에 3개의 사각 개구들(4c1, 4c2, 4c3)를 갖는다. 이 개구들(4c1, 4c2 및 4c3)은 X축을 따라 동일선에 배열되어 개구(4c4, 4c5 및 4c6)의 중앙에 각기 배열되게 된다. 개구들(4c1, 4c2, 4c3)은 Y축을 따라 연장되며 동일한 길이 및 폭을 갖는다.In addition, the third electrode member 4c has three rectangular openings 4c1, 4c2, 4c3 on the opposing surface of the second focus electrode 5. These openings 4c1, 4c2 and 4c3 are arranged in the same line along the X axis so as to be arranged in the center of the openings 4c4, 4c5 and 4c6 respectively. The openings 4c1, 4c2, 4c3 extend along the Y axis and have the same length and width.

B, G 및 R 전자빔들은 개구들(4c4, 4c5, 및 4c6)에 의해 전극 부재(4c)의 내부에 진입하고나서, 각기 개구들(4c1, 4c2, 4c3)를 통해 부재(4c)를 벗어난다. 각각의 개구들(4c4, 4c5, 4c6)과 개구들(4c1, 4c2, 4c3) 중 대응하는 개구는 1B, 1G 및 1R 빔들 중 대응하는 빔들을 관통하기 위한 쓰루 홀을 형성한다고 말할 수 있다.The B, G, and R electron beams enter the inside of the electrode member 4c by the openings 4c4, 4c5, and 4c6, and then exit the member 4c through the openings 4c1, 4c2, 4c3, respectively. It can be said that each of the openings 4c4, 4c5, 4c6 and the corresponding one of the openings 4c1, 4c2, 4c3 form a through hole for penetrating the corresponding ones of the 1B, 1G and 1R beams.

빈공간의 사각 병렬파이프 박스로 형성된 제2 포커스 전극(5)은 제1 포커스 전극(4)의 전극 부재(4c)의 근방에서 특정 간격으로 배열된다. 도 8에 나타난 바와 같이, 제2 포커스 전극(5)은 제1 포커스 전극(4)의 전극 부재(4c)의 대향면상에 3개의 사각 개구들(51, 52, 53)을 갖는다. 제3 전극 부재(4c)의 개구들(4c1, 4c2, 4c3)과는 달리, X축을 따라 연장되는 개구들(1, 52, 53)은 동일한 길이 및 폭을 갖는다. 개구들(51, 52, 53)은 동일선상에 배열되어 개구들(4c1, 4c2, 4c3)의 중심에 각기 배열되게 된다.The second focus electrodes 5 formed of the rectangular parallel pipe boxes of the empty spaces are arranged at specific intervals in the vicinity of the electrode member 4c of the first focus electrode 4. As shown in FIG. 8, the second focus electrode 5 has three rectangular openings 51, 52, 53 on the opposite surface of the electrode member 4c of the first focus electrode 4. Unlike the openings 4c1, 4c2, 4c3 of the third electrode member 4c, the openings 1, 52, 53 extending along the X axis have the same length and width. The openings 51, 52, 53 are arranged in the same line so as to be arranged in the center of the openings 4c1, 4c2, 4c3, respectively.

또한, 제2 포커스 전극(5)은 최종 가속 전극(6)의 대향면상에 3개의 원형 개구(54, 55, 56)를 갖는다. 개구들(54, 55, 56)은 동일선상에 배열되어 개구들(51, 52, 53)의 중심에 각기 배열되게 된다. 개구들(54, 55, 56)은 직경이 동일하다.The second focus electrode 5 also has three circular openings 54, 55, 56 on opposite surfaces of the final acceleration electrode 6. The openings 54, 55, 56 are arranged in the same line so as to be arranged at the center of the openings 51, 52, 53, respectively. The openings 54, 55, 56 are the same in diameter.

B, G 및 R 전자빔들은 개구들(51, 52, 53)에 의해 제2 포커스 전극(5)의 내부에 진입하고나서, 각기 개구들(54, 55, 56)을 통해 전극(5)을 벗어난다. 각각의 개구들(51, 52, 53)과 개구들(54, 55, 56) 중 대응하는 개구는 1B, 1G 및 1R 빔들 중 대응하는 빔들을 관통하기 위한 쓰루 홀을 형성한다고 말할 수 있다.The B, G, and R electron beams enter the interior of the second focus electrode 5 by openings 51, 52, 53 and then exit the electrode 5 through the openings 54, 55, 56, respectively. . It can be said that each of the openings 51, 52, 53 and the corresponding one of the openings 54, 55, 56 forms a through hole for penetrating the corresponding ones of the 1B, 1G and 1R beams.

빈공간의 사각 병렬파이프 박스로 형성된 최종 가속 전극(6)은 제2 포커스 전극(5)의 근방에서 특정 간격으로 배열된다. 도 8에 나타난 바와 같이, 최종 가속 전극(6)은 제2 포커스 전극(5)의 대향면상에 3개의 원형 개구들(61, 62, 63)을 갖는다. 이 개구들(61, 62, 63)은 X축을 따라 동일선상에 배열된다. 중심에 배치된 개구(62)는 제2 포커스 전극(5)의 개구(55)의 중심에 배열된다. 각 사이드에 배열된 개구들(61, 63)은 전극(5)의 개구들(54, 56)의 중심에 대해 X축을 따라 바깥쪽으로 시프트된다.The final acceleration electrodes 6 formed of the rectangular parallel pipe boxes of the empty spaces are arranged at specific intervals in the vicinity of the second focus electrodes 5. As shown in FIG. 8, the final acceleration electrode 6 has three circular openings 61, 62, 63 on the opposite surface of the second focus electrode 5. These openings 61, 62, 63 are arranged collinearly along the X axis. The opening 62 disposed at the center is arranged at the center of the opening 55 of the second focus electrode 5. The openings 61, 63 arranged at each side are shifted outward along the X axis with respect to the center of the openings 54, 56 of the electrode 5.

제2 포커스 전극(5)에 대향하는 최종 가속 전극(6)의 사이드는 완전히 오픈된다. 따라서, 전극(6)의 내부에 진입하게 되는 R, G 및 B 빔들은 전극(6)을 자유롭게 빠져나갈 수 있다.The side of the final acceleration electrode 6 opposite the second focus electrode 5 is fully open. Therefore, the R, G and B beams entering the inside of the electrode 6 can freely exit the electrode 6.

3개의 음극 1R, 1G 및 1B, 제어 전극(2), 및 초기 가속 전극(3)은 R, G 및 B 전자빔들을 생성하고 동일한 바깥쪽으로 방출하는 "삼극 진공관(triode)"(바꾸어 말하자면, "전자 빔 형성 영역")을 구성한다. 제1 및 제2 포커스 전극들(4, 5)과 최종 가속 전극(6)은 삼극 진공관으로부터 방출된 R, G, B 빔들을 형광 스크린상에 포커싱하기 위한 "메인 렌즈 시스템"을 구성한다.The three cathodes 1R, 1G and 1B, the control electrode 2, and the initial acceleration electrode 3 are "triodes" (in other words, electrons) that generate R, G and B electron beams and emit the same outwards. Beam forming region "). The first and second focus electrodes 4, 5 and the final acceleration electrode 6 constitute a “main lens system” for focusing the R, G, B beams emitted from the tripolar vacuum tube on a fluorescent screen.

본 발명의 제1 실시예에 따른 전자총(10)에서, 도 11에 나타난 바와 같이, 고정된 포커스 전압 EC3S는 제1 포커스 전극(4)의 전극 부재들(4a, 4c)에 공통으로 인가된다. 편향 신호에 동기되어 변화하는 다이나믹 포커스 전압 EC3D는 제1 포커스 전극(4)와 제2 포커스 전극(5)의 전극 부재(4b)에 공통으로 인가된다. 더욱이, 애노드 전압 Eb은 최종 가속 전극(6)에 인가된다.In the electron gun 10 according to the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 11, the fixed focus voltage E C3S is commonly applied to the electrode members 4a and 4c of the first focus electrode 4. . The dynamic focus voltage E C3D which changes in synchronization with the deflection signal is commonly applied to the electrode member 4b of the first focus electrode 4 and the second focus electrode 5. Furthermore, the anode voltage E b is applied to the final accelerating electrode 6.

고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D의 크기는 다음 수학식 1을 충족하도록 결정된다.The magnitudes of the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D are determined to satisfy the following equation (1).

상세하게, 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D는 도 12에 나타난 바와 같은 파형을 갖는다. 고정 포커스 전압 EC3S은 고정된 크기를 갖는다. 다이나믹 포커스 전압 EC3D은 전자빔이 편향되지 않을 때(바꾸어 말하자면, 빔들의 편향각이 "0"으로 설정될 때) 최소가 될 포물선 파형을 가지고, 전압값은 편향각의 증가에 따라 증가한다.Specifically, the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D have waveforms as shown in FIG. 12. The fixed focus voltage E C3S has a fixed magnitude. The dynamic focus voltage E C3D has a parabolic waveform that will be minimal when the electron beam is not deflected (in other words, when the deflection angle of the beams is set to "0"), and the voltage value increases with increasing deflection angle.

전술된 구성을 갖는 전자총(10)은 다음과 같은 방식으로 동작한다.The electron gun 10 having the above-described configuration operates in the following manner.

도 11에 나타난 바와 같이, 3개의 회전 대칭 포커스 서브 렌즈 SL1, SL2 및 SL3는 제1 포커스 전극(4)의 전극 부재들(4a)와 (4c)사이에 형성된다. 포커스 서브 렌즈 SL1는 전극 부재들(4a, 4c)의 개구들(4a3, 4a6)과 전극 부재(4b)의 쓰루 홀(4b3)에 대응하는 위치에 형성된다. 포커스 서브 렌즈 SL2는 전극 부재(4a, 4c)의 개구들(4a2, 4a5)과 전극 부재(4b)의 쓰루 홀(4b2)에 대응하는 위치에 형성된다. 포커스 서브 렌즈 SL3는 전극 부재(4a, 4c)의 개구들(4a1, 4a4)과 전극 부재(4b)의 쓰루 홀(4b1)에 대응하는 위치에 형성된다.As shown in FIG. 11, three rotationally symmetrical focus sub lenses SL1, SL2 and SL3 are formed between the electrode members 4a and 4c of the first focus electrode 4. The focus sub lens SL1 is formed at a position corresponding to the openings 4a3 and 4a6 of the electrode members 4a and 4c and the through hole 4b3 of the electrode member 4b. The focus sub lens SL2 is formed at a position corresponding to the openings 4a2 and 4a5 of the electrode members 4a and 4c and the through hole 4b2 of the electrode member 4b. The focus sub lens SL3 is formed at a position corresponding to the openings 4a1 and 4a4 of the electrode members 4a and 4c and the through hole 4b1 of the electrode member 4b.

또한, 3개의 정전 4중극 렌즈들 QL1, QL2, QL3은 제1 포커스 전극(4)과 제2 포커스 전극(5)사이에 형성된다. 4중극 렌즈 QL1는 전극 부재(4c)와 제2 포커스 전극(5)의 개구들(4c3, 53)에 대응하는 위치에 형성된다. 4중극 렌즈 QL2는 전극 부재(4c)와 제2 포커스 전극(5)의 개구들(4c2, 52)에 대응하는 위치에 형성된다. 4중극 렌즈 QL3는 전극 부재(4c)와 제2 포커스 전극(5)의 개구(4c1, 51)에 대응하는 위치에 형성된다.In addition, three electrostatic quadrupole lenses QL1, QL2, and QL3 are formed between the first focus electrode 4 and the second focus electrode 5. The quadrupole lens QL1 is formed at a position corresponding to the openings 4c3 and 53 of the electrode member 4c and the second focus electrode 5. The quadrupole lens QL2 is formed at a position corresponding to the openings 4c2 and 52 of the electrode member 4c and the second focus electrode 5. The quadrupole lens QL3 is formed at a position corresponding to the openings 4c1 and 51 of the electrode member 4c and the second focus electrode 5.

게다가, 3개의 회전 대칭 포커스 메인 렌즈 ML1, ML2, ML3는 제2 포커스 렌즈(5)와 최종 가속 전극(6)사이에 형성된다. 포커스 메인 렌즈 ML1는 제2 포커스 전극(5)과 최종 가속 전극(6)의 개구들(56, 63)에 대응하는 위치에 형성된다. 포커스 메인 렌즈 ML2는 제2 포커스 전극(5)과 최종 가속 전극(6)의 개구들(55, 62)에 대응하는 위치에 형성된다. 포커스 메인 렌즈 ML3는 제2 포커스 전극(5)과 최종 가속 전극(6)의 개구들(54, 61)에 대응하는 위치에 형성된다.In addition, three rotationally symmetrical focus main lenses ML1, ML2, ML3 are formed between the second focus lens 5 and the final acceleration electrode 6. The focus main lens ML1 is formed at a position corresponding to the openings 56, 63 of the second focus electrode 5 and the final acceleration electrode 6. The focus main lens ML2 is formed at a position corresponding to the openings 55, 62 of the second focus electrode 5 and the final acceleration electrode 6. The focus main lens ML3 is formed at a position corresponding to the openings 54, 61 of the second focus electrode 5 and the final acceleration electrode 6.

도 11에서, 참조 부호 EB1, EB2, EB3는 각기 R, G, B 전자빔들을 지칭한다. 삼극 진공관의 음극 1R, 1G, 1B로부터 방출되고 형성된 전자빔들 EB1, EB2, EB3는 포커스 서브 렌즈 SL1, SL2, SL3에 의해 각기 포커싱되고나서 각기 4중극 렌즈 QL1, QL2, QL3로 진입한다. 빔들 EB1, EB2, EB3이 4중극 렌즈 QL1, QL2, QL3를 관통할 때, 셀프-컨버젼스형 편향 자계에 의해 유도된 빔들 EB1, EB2, EB3의 비점수차를 비교하는 4중극 렌즈 동작이 적용된다. 이후, 빔들 EB1, EB2, EB3은 포커스 메인 렌즈 ML1, ML2, ML3에 의해 최종적으로 포커싱되고나서, 이들은 전자총(10)으로부터 형광 스크린쪽으로 방출된다.In Fig. 11, reference numerals EB1, EB2, EB3 refer to R, G, B electron beams, respectively. The electron beams EB1, EB2, EB3 emitted and formed from the cathodes 1R, 1G, 1B of the tripolar vacuum tube are focused by the focus sublenses SL1, SL2, SL3, respectively, and then enter the quadrupole lenses QL1, QL2, QL3, respectively. When the beams EB1, EB2, EB3 pass through the quadrupole lenses QL1, QL2, QL3, a quadrupole lens operation is applied which compares the astigmatism of the beams EB1, EB2, EB3 induced by the self-converged deflection magnetic field. The beams EB1, EB2, EB3 are then finally focused by the focus main lenses ML1, ML2, ML3, which are then emitted from the electron gun 10 toward the fluorescent screen.

총(10)으로부터 방출된 R, G, B 전자빔들 EB1, EB2, EB3은 편향 요크(도시되지 않음)에 의해 발생된 셀프-컨버젼스형 편향 자계에 의해 편향된다. 다음으로, 빔들 EB1, EB2, EB3이 형광 스크린(도시되지 않음)의 특정 위치를 때림으로써, 스크린상에 화상이 표시된다.The R, G, B electron beams EB1, EB2, EB3 emitted from the gun 10 are deflected by a self-converged deflection magnetic field generated by a deflection yoke (not shown). Next, by beams EB1, EB2, EB3 hitting a specific position of a fluorescent screen (not shown), an image is displayed on the screen.

도 12에 나타난 바와 같이, 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D간의 차는 다이나믹 포커스 전압 EC3D가 최소일 때 최대 크기를 가지고, 그 차는 EC3D전압이 최대일 때 최소 크기를 갖는다. 바꾸어 말하자면, 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D은 편향각이 "0"일 때 최대 크기를 가지고 편향각이 증가함에 따라 감소한다.As shown in FIG. 12, the difference between the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D has a maximum magnitude when the dynamic focus voltage E C3D is minimum, and the difference has a minimum magnitude when the E C3D voltage is maximum. In other words, the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D have their maximum magnitude when the deflection angle is "0" and decrease as the deflection angle increases.

포커스 서브 렌즈 SL1, SL2, SL3에 의해 각기 전자빔들 EB1, EB2, EB3에 인가된 집속력은 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D간의 차에 따라 변화한다. 따라서, 서브 렌즈 SL1, SL2, SL3에 의한 집속력은 "0"의 편향각에서 최대가 되고 이들은 편향각이 증가함에 따라 감소한다. 이는 메인 렌즈 시스템에 의해 형성된 화상 포인트들이 Z축을 따라 총(10)으로부터 시프트된다, 즉, 이들은 언더 포커스(under-focuse)된다는 것을 의미한다The focusing force applied to the electron beams EB1, EB2, EB3 by the focus sub-lenses SL1, SL2, SL3 respectively varies with the difference between the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D . Therefore, the focusing forces by the sub lenses SL1, SL2, SL3 become maximum at the deflection angle of "0" and they decrease as the deflection angle increases. This means that the image points formed by the main lens system are shifted from the gun 10 along the Z axis, ie they are under-focused.

전술된 바와 같이, 제1 포커스 전극(4)의 전극 부재(4a, 4b, 4c)에서, 중앙에 배열된 개구들(4a2, 4a5)과 쓰루 홀(4b2)는 동일한 직경 D2를 갖는다. 한편, 개구들(4a2, 4c5)과 쓰루 홀(4b2)의 각 사이드에 각각 배열되는 개구들(4a1, 4a3, 4c4, 4c6)과 쓰루 홀들(4b1, 4b3)은 D2보다 작은 동일한 직경 D1을 갖는다. 따라서, 서브 렌즈 SL1과 SL3의 집속력(즉, 렌즈 동작)은 서브 렌즈 SL2보다 크다.As described above, in the electrode members 4a, 4b, 4c of the first focus electrode 4, the openings 4a2, 4a5 and the through hole 4b2 arranged in the center have the same diameter D2. On the other hand, the openings 4a1, 4a3, 4c4, 4c6 and the through holes 4b1, 4b3 arranged on each side of the openings 4a2, 4c5 and the through holes 4b2, respectively, have the same diameter D1 smaller than D2. . Therefore, the focusing force (ie, lens operation) of the sub lenses SL1 and SL3 is larger than that of the sub lens SL2.

메인 렌즈 시스템이 전술된 포커스 서브 렌즈들 SL1, SL2, SL3을 포함하기 때문에, 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D간의 차의 변화로 인한 R과 B 빔들 EB1, EB3(즉, 사이드 빔)의 이미지 포인트 시프트량은 G 빔 EB2(즉, 중앙 또는 중간 빔)보다 크다. 바꾸어 말하자면, 사이드 빔들 EB1, EB3은 다이나믹 포커스 전압 EC3D이 증가(즉, 편향 각의 증가)함에 따라 중앙빔 EB2보다 더 강하게 언더 포커싱된다. 따라서, 사이드 빔들 EB1과 EB3을 필요로 하는 다이나믹 포커스 전압 EC3D의 값(즉, 최적의 다이나믹 포커스 전압)은 중앙 빔 EB2을 필요로 하는 것에 비해 더 낮아질 수 있다.Since the main lens system comprises the focusing sub-lenses SL1, SL2, SL3 described above, the R and B beams EB1, EB3 (i.e., side beam) due to the change in the difference between the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D The image point shift amount is larger than the G beam EB2 (ie, center or intermediate beam). In other words, the side beams EB1, EB3 are underfocused more strongly than the center beam EB2 as the dynamic focus voltage E C3D increases (ie, the deflection angle increases). Thus, the value of the dynamic focus voltage E C3D requiring the side beams EB1 and EB3 (ie, the optimal dynamic focus voltage) can be lower than that requiring the center beam EB2.

도 13은 형광 스크린 상의 빔 스팟 위치와 도 8의 제1 실시예에 따른 전자총(10)내의 최적의 다이나믹 포커스 전압간의 관계를 나타낸다.FIG. 13 shows the relationship between the beam spot position on the fluorescent screen and the optimum dynamic focus voltage in the electron gun 10 according to the first embodiment of FIG. 8.

도 7과 도 13의 비교로부터 명백하게 알 수 있는 바와 같이, 제1 실시예에 따른 전자총(10)에서, 형광 스크린의 우측 에치에서 G 빔 EB2용 최적의 다이나믹 포커스 전압 VDG로부터 R 빔 EB1용 최적의 다이나믹 포커스 전압 VDR의 차 ΔVDRG(즉, ΔVDRG= VDR- VDG)는 도 3에 나타난 종래의 전자총(220)에 비해 감소된다. 또한, 형광 스크린의 좌측 에지에서 G 빔 EB2용 최적의 다이나믹 포커스 전압 VDG로부터 B 빔 EB3용 최적의 다이나믹 포커스 전압 VDB의 차 ΔVDBG(즉, ΔVDBG= VDB- VDG)는 종래의 전자총(220)에 비해 감소된다. 따라서, R, G, B 빔들 EB1, EB2, EB3용 최적의 다이나믹 포커스 전압 VDR, VDG, VDB중에서의 불균형은 억제될 수 있다.As can be clearly seen from the comparison between Fig. 7 and Fig. 13, in the electron gun 10 according to the first embodiment, the optimum dynamic focus voltage V DG for the G beam EB2 from the right etch of the fluorescent screen is optimized for the R beam EB1. The difference ΔV DRG (ie, ΔV DRG = V DR −V DG ) of the dynamic focus voltage V DR is reduced compared to the conventional electron gun 220 shown in FIG. 3. Also, at the left edge of the fluorescent screen, the difference ΔV DBG (ie, ΔV DBG = V DB -V DG ) between the optimal dynamic focus voltage V DG for G beam EB2 and the optimal dynamic focus voltage V DB for B beam EB3 is known. Compared with the electron gun 220. Thus, the imbalance among the optimal dynamic focus voltages V DR , V DG , V DB for the R, G, B beams EB1, EB2, EB3 can be suppressed.

도 14는 제1 실시예에 따른 전자총(10)내의 R, G, B 전자빔 EB1, EB2, EB3에 의해 형광 스크린 상에 형성된 스팟의 형상을 나타낸다.Fig. 14 shows the shape of the spot formed on the fluorescent screen by the R, G, B electron beams EB1, EB2, EB3 in the electron gun 10 according to the first embodiment.

도 14와 도 16으로부터 명백하게 알 수 있는 바와 같이, 제1 실시예에 따른 전자총(10)에서, R 빔 EB1에 의해 발생된 스팟(90R)의 각 할로(91)는 형광 스크린(93)의 우측 끝단 영역(93a)에서 종래의 총(220)보다 크기면에서 더 작다. 또한, B 빔 EB3에 의해 발생된 스팟(90B)의 각 할로(92)는 스크린(93)의 좌측 끝단 영역(93b)에서 종래의 총(220)보다 크기면에서 더 작다. 따라서, 스크린(90)의 좌우측 말단 영역(90a, 90b)에서의 해상도는 향상될 수 있다.As can be clearly seen from FIGS. 14 and 16, in the electron gun 10 according to the first embodiment, each halo 91 of the spot 90R generated by the R beam EB1 is the right side of the fluorescent screen 93. The tip region 93a is smaller in size than the conventional gun 220. In addition, each halo 92 of the spot 90B generated by the B beam EB3 is smaller in size than the conventional gun 220 in the left end region 93b of the screen 93. Thus, the resolution in the left and right end regions 90a and 90b of the screen 90 can be improved.

상세히 설명된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 인라인형 전자총(10)에서, 메인 렌즈 시스템은 제1 및 제2 포커스 전극(4, 5)과 최종 가속 전극(6)을 포함하며, 제1 포커스 전극(4)은 3개의 전극 부재들(4a, 4b, 4c)을 갖는다. 2개의 전극 부재들(4a, 4c)에는 고정된 포커스 전압 EC3S가 인가되고 이와 동시에, 전극 부재(4b)와 제2 포커스 전극(4)에는 다이나믹 포커스 전압 EC3D가 인가된다. 따라서, 3개의 포커스 서브 렌즈 SL1, SL2, SL3는 전극 부재들(4a)와 (4c)사이에 형성되고, 3개의 정전 4중극 렌즈 QL1, QL2, QL3는 전극 부재(4c)와 제2 포커스 전극(5) 사이에 형성되며, 3개의 포커스 메인 렌즈 ML1, ML2, ML3는 제2 포커스 전극(5)과 최종 가속 전극(6)사이에 형성된다.As described in detail, in the in-line electron gun 10 according to the first embodiment of the present invention, the main lens system includes first and second focus electrodes 4 and 5 and a final acceleration electrode 6, The first focus electrode 4 has three electrode members 4a, 4b and 4c. The fixed focus voltage E C3S is applied to the two electrode members 4a and 4c, and at the same time, the dynamic focus voltage E C3D is applied to the electrode member 4b and the second focus electrode 4. Thus, three focus sub-lenses SL1, SL2 and SL3 are formed between the electrode members 4a and 4c, and the three electrostatic quadrupole lenses QL1, QL2 and QL3 are the electrode member 4c and the second focus electrode. It is formed between (5) and three focus main lenses ML1, ML2 and ML3 are formed between the second focus electrode 5 and the final acceleration electrode 6.

제1 포커스 전극(4)의 전극 부재(4a, 4c)는 중앙에 배열된 개구들(4a2, 4a5)을 가지고 전극 부재(4b)는 중앙에 쓰루 홀(4b2)을 갖는다. 개구들(4a2, 4c5)과 쓰루 홀(4b2)은 동일한 D1의 직경을 갖는다. 게다가, 전극 부재들(4a, 4c)은 각 사이드에 배열된 개구들(4a1, 4a3, 4c4, 4c6)을 가지고 전극 부재(4b)는 각 사이드에 쓰루 홀(4b1, 4b3)을 갖는다. 개구들(4a1, 4a3, 4c4, 4c6)과 쓰루 홀들(4b1, 4b3)은 D1보다 작은 동일한 D2의 직경을 갖는다.The electrode members 4a and 4c of the first focus electrode 4 have openings 4a2 and 4a5 arranged in the center and the electrode member 4b has a through hole 4b2 in the center. The openings 4a2 and 4c5 and the through hole 4b2 have the same diameter of D1. In addition, the electrode members 4a and 4c have openings 4a1, 4a3, 4c4 and 4c6 arranged at each side and the electrode member 4b has through holes 4b1 and 4b3 at each side. The openings 4a1, 4a3, 4c4, 4c6 and the through holes 4b1, 4b3 have a diameter of the same D2 smaller than D1.

따라서, 개구들(4a1, 4a3, 4c4, 4c6)과 쓰루 홀들(4b1, 4b3)에 대응하는 포커스 서브 렌즈 SL1, SL3의 집속력은 개구들(4a2, 4c5)과 쓰루 홀(4b2)에 대응하는 포커스 서브 렌즈 SL2보다 더 강하다. 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D간의 차의 변화로 인한 R 및 B 빔들 EB1과 EB3(사이드 빔들)의 이미지 포인트 시프트량은 G 빔 EB2(즉, 중앙 빔)보다 크다. 그 결과, 중앙 빔 EB2와 사이드 빔들 EB1, EB3 사이에 발생된 최적의 다이나믹 포커스 전압의 불균형이 억제될 수 있다.Accordingly, the focusing force of the focus sub-lenses SL1 and SL3 corresponding to the openings 4a1, 4a3, 4c4 and 4c6 and the through holes 4b1 and 4b3 corresponds to the openings 4a2 and 4c5 and the through hole 4b2. It is stronger than the focus sub lens SL2. The image point shift amount of the R and B beams EB1 and EB3 (side beams) due to the change in the difference between the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D is larger than the G beam EB2 (ie, the center beam). As a result, the unbalance of the optimum dynamic focus voltage generated between the center beam EB2 and the side beams EB1, EB3 can be suppressed.

따라서, 사이드 빔들 EB1, EB3에 의해 형광 스크린(93) 상에 형성된 스팟의 왜곡이 감소될 수 있다. 따라서, R, G, B 빔들 EB1, EB2 및 EB3의 스팟 형상은 스크린(93)의 중간 영역은 물론 좌우측 말단 영역(93a, 93b)에서 실질적으로 균일하게 형성될 수 있다. 이는 전체 스크린(93)상에 원하는 고해상도를 구현하게 한다.Therefore, the distortion of the spot formed on the fluorescent screen 93 by the side beams EB1, EB3 can be reduced. Thus, the spot shape of the R, G, B beams EB1, EB2 and EB3 can be formed substantially uniformly in the middle region of the screen 93 as well as the left and right end regions 93a and 93b. This allows to implement the desired high resolution on the entire screen 93.

게다가, 일본 무심사 특허 공보 평10-21847에 개시된 종개의 전자총과는 달리, 복잡한 구성이나, 추가적인 핀, 또는 추가적인 회로가 필요없다.Moreover, unlike the conventional electron gun disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 10-21847, no complicated configuration, no additional pins, or additional circuits are required.

제2 실시예Second embodiment

도 15와 도 16은 본 발명의 제2 실시예에 따른 인라인형 전자총에 사용된 제1 포커스 전극(4')을 나타낸다.15 and 16 show a first focus electrode 4 ′ used in an inline electron gun according to a second embodiment of the present invention.

도시되지는 않았지만, 제2 실시예에 따른 전자총은 포커스 서브 렌즈들 SL1, Sl2, SL3를 형성하기 위한 개구들과 쓰루 홀들의 직경이 제1 포커스 전극(4')에서 변경된다는 것을 제외하고, 도 8의 제1 실시예에 따른 전자총(10)의 구성과 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대한 설명은 간략화를 위하여 도 15에 동일한 구성 요소에 동일 참조 부호를 부가함으로써 생략된다.Although not shown, the electron gun according to the second embodiment of the present invention has the exception that the diameters of the openings and through holes for forming the focus sub-lenses SL1, Sl2, SL3 are changed in the first focus electrode 4 '. The configuration is the same as that of the electron gun 10 according to the first embodiment of the eighth embodiment. Therefore, the description of the same configuration is omitted by adding the same reference numerals to the same components in FIG. 15 for the sake of simplicity.

도 15에 나타난 바와 같이, 제1 포커스 전극(4')은 3개의 전극 부재들(4a', 4b', 4c')을 갖는다. 제1 실시예에서의 제1 포커스 전극(4)과 같이, 2개의 부재들(4a', 4c') 각각은 빈공간의 사각 병렬파이프 박스로 형성되는 반면에, 부재(4b')는 고체의 사각 플레이트로 형성된다.As shown in FIG. 15, the first focus electrode 4 ′ has three electrode members 4a ′, 4b ′, and 4c ′. Like the first focus electrode 4 in the first embodiment, each of the two members 4a 'and 4c' is formed of an empty rectangular parallel pipe box, while the member 4b 'is made of solid. It is formed by a square plate.

전극 부재(4a')는 전극 부재(4b')의 대향면 상에 3개의 원형 개구들(4a1', 4a2', 4a3')을 갖는다. 개구들(4a1', 4a2', 4a3')은 X축을 따라 동일선상에 배열되어 동일 부재(4a')의 개구들(4a4, 4a5, 4a6)의 중앙에 각기 배열되게 된다. 도 16에 나타난 바와 같이, 각 사이드에 배열된 개구들(4a1', 4a3')은 D1'의 동일한 직경을 가지는 반면에 중앙에 배열된 개구(4a2')는 D1'보다 작은 직경 D2'을 갖는다(즉, D1' > D2').The electrode member 4a 'has three circular openings 4a1', 4a2 ', 4a3' on the opposite surface of the electrode member 4b '. The openings 4a1 ', 4a2', 4a3 'are arranged collinearly along the X axis so as to be arranged in the center of the openings 4a4, 4a5, 4a6 of the same member 4a', respectively. As shown in Fig. 16, the openings 4a1 'and 4a3' arranged at each side have the same diameter of D1 ', while the opening 4a2' arranged at the center has a diameter D2 'smaller than D1'. (Ie, D1 '> D2').

R, G, B 전자빔들 EB1, EB2, EB3이 개구들(4a4, 4a5, 4a6)을 통해 전극 부재(4a')의 내부에 진입하고나서, 각기 개구들(4a1', 4a2', 4a3')을 통해 부재(4a')를 벗어난다.After the R, G, and B electron beams EB1, EB2, EB3 enter the interior of the electrode member 4a 'through the openings 4a4, 4a5, 4a6, the openings 4a1', 4a2 ', 4a3', respectively. Through the member 4a '.

전극 부재(4b')는 전극 부재(4a')의 근방에서 특정 거리에 배치된다. 전극 부재(4b')는 R, G, 및 B 빔들 EB1, EB2, EB3이 관통하게 하는 3개의 원형 쓰루 홀들(4b1', 4b2', 4b3')을 갖는다. 이 쓰루 홀들(4b1', 4b2', 4b3')은 X축을 따라 동일선상에 배열되어 각기 전극 부재(4a')의 개구들(4a1', 4a2', 4a3')의 중심에 배열되게 된다. 도 16에 나타난 바와 같이, 각 사이드에 배열된 쓰루 홀들(4b1', 4b2')은 D1'의 동일 직경을 가지는 반면에 중앙에 배열된 쓰루 홀(4b2')은 D2'의 직경을 갖는다.The electrode member 4b 'is disposed at a specific distance in the vicinity of the electrode member 4a'. The electrode member 4b 'has three circular through holes 4b1', 4b2 ', 4b3' through which the R, G, and B beams EB1, EB2, EB3 pass. These through holes 4b1 ', 4b2', and 4b3 'are arranged in the same line along the X axis so as to be arranged at the centers of the openings 4a1', 4a2 ', and 4a3' of the electrode member 4a ', respectively. As shown in Fig. 16, the through holes 4b1 'and 4b2' arranged at each side have the same diameter of D1 ', while the through holes 4b2' arranged at the center have a diameter of D2 '.

전극 부재(4c')는 전극 부재(4b')의 근방에서 특정 거리에 배치된다. 전극 부재(4c')는 전극 부재(4b')의 대향면 상에 3개의 원형 개구들(4c4', 4c5' 및 4c6')을 갖는다. 개구들(4c4', 4c5' 및 4c6')은 X축을 따라 동일선상에 배열되어 전극 부재(4b')의 쓰루 홀들(4b1', 4b2' 및 4b3')의 중심을 따라 각기 배열되게 된다. 도 16에 나타난 바와 같이, 각 사이드에 배열된 개구들(4c4'와 4c6')은 D1'의 동일한 직경을 가지는 반면에 중앙에 배열된 개구(4b2')는 D2'의 직경을 갖는다.The electrode member 4c 'is disposed at a specific distance in the vicinity of the electrode member 4b'. The electrode member 4c 'has three circular openings 4c4', 4c5 'and 4c6' on the opposite surface of the electrode member 4b '. The openings 4c4 ', 4c5' and 4c6 'are arranged collinearly along the X axis so as to be arranged along the centers of the through holes 4b1', 4b2 'and 4b3' of the electrode member 4b ', respectively. As shown in Fig. 16, the openings 4c4 'and 4c6' arranged at each side have the same diameter of D1 ', while the opening 4b2' arranged at the center has a diameter of D2 '.

또한, 전극 부재(4c')는 제1 실시예에 따른 전자총(10)과 동일한, 제2 포커스 전극(5')의 대향면 상에 3개의 사각 개구들(4c1, 4c2, 4c3)을 갖는다.Further, the electrode member 4c 'has three rectangular openings 4c1, 4c2, 4c3 on the opposite surface of the second focus electrode 5', which is the same as the electron gun 10 according to the first embodiment.

R, G, B 전자빔들 EB1, EB2, EB3은 개구들(4c4', 4c5', 4c6')을 통해 전극 부재(4c')의 내부에 진입하고나서, 각기 개구들(4c1, 4c2, 4c3)을 통해 부재(4c')를 벗어난다.The R, G, B electron beams EB1, EB2, EB3 enter the inside of the electrode member 4c 'through the openings 4c4', 4c5 ', 4c6', and then the openings 4c1, 4c2, 4c3, respectively. Through the member 4c '.

도 15의 제2 실시예에 따른 인라인형 전자총에서는, 제1 실시예에 따른 전자총(10)과 달리, 고정된 포커스 전압 EC3S은 제1 포커스 전극(4')의 전극 부재들(4a', 4c')에 인가된다. 편향 신호에 동기하여 변화하는 다이나믹 포커스 전압 EC3D는 전극 부재(4b')에 인가된다.In the inline type electron gun according to the second embodiment of FIG. 15, unlike the electron gun 10 according to the first embodiment, the fixed focus voltage E C3S is applied to the electrode members 4a ′, of the first focus electrode 4 ′. 4c '). The dynamic focus voltage E C3D which changes in synchronization with the deflection signal is applied to the electrode member 4b '.

그러나, 제1 실시예에 따른 전자총(10)과 달리, 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D는 다음 수학식 2를 만족하도록 결정된다.However, unlike the electron gun 10 according to the first embodiment, the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D are determined to satisfy the following equation (2).

구체적으로, 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D는 도 17에 나타난 바와 같은 파형을 갖는다. 고정 포커스 전압 EC3S은 고정된 크기를 갖는다. 다이나믹 포커스 전압 EC3D은 전자빔이 편향되지 않을 때(바꾸어 말하자면, 빔들의 편향각이 "0"으로 설정될 때) 최소가 되는 포물선 파형을 가지고, 전압값은 편향각의 증가에 따라 증가한다.Specifically, the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D have waveforms as shown in FIG. 17. The fixed focus voltage E C3S has a fixed magnitude. The dynamic focus voltage E C3D has a parabolic waveform that is minimal when the electron beam is not deflected (in other words, when the deflection angle of the beams is set to "0"), and the voltage value increases with increasing deflection angle.

이 경우, 도 17에 나타난 바와 같이, 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D간의 차는 다이나믹 포커스 전압 EC3D이 최소일 때 최소 크기를 가지고, 그 차는 EC3D전압이 최대일 때 최대 크기를 갖는다. 바꾸어 말하자면, 차는 편향각이 "0"일 때 최대 크기를 가지고 편향각이 증가함에 따라 감소한다.In this case, as shown in FIG. 17, the difference between the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D has a minimum magnitude when the dynamic focus voltage E C3D is minimum, and the difference has a maximum magnitude when the E C3D voltage is maximum. In other words, the difference has a maximum magnitude when the deflection angle is "0" and decreases as the deflection angle increases.

따라서, 본 발명의 제2 실시예에 따른 전자총에서, 포커스 서브 렌즈 SL1, SL2, SL3에 의해 전자빔들 EB1, Eb2, EB3에 각기 인가된 집속력은 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D간의 차에 따라 변화한다. 따라서, 서브 렌즈 EB1, EB2, EB3에 의한 집속력은 "0"의 편향각에서 최소화되고 이들은 편향각을 증가에 따라 증가한다. 이는 메인 렌즈 시스템에 의해 형성된 이미지 포인트들이 총(10)쪽으로 시프트되는, 즉 오버-포커스된다는 것을 의미한다.Therefore, in the electron gun according to the second embodiment of the present invention, the focusing force applied to the electron beams EB1, Eb2, and EB3 by the focus sublenses SL1, SL2, SL3, respectively, is the difference between the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D . Will change accordingly. Therefore, focusing forces by the sub lenses EB1, EB2, EB3 are minimized at the deflection angle of " 0 " and they increase with increasing deflection angle. This means that the image points formed by the main lens system are shifted towards the gun 10, ie over-focused.

한편, 다이나믹 포커스 전압 EC3D의 증가에 따라, 양극(anode) 전압 Eb과 다이나믹 포커스 전압 EC3D간의 차는 감소하고 그 결과, 포커스 메인 렌즈 ML1, ML2, ML3의 집속력이 약해진다. 이는 메인 렌즈 시스템에 의해 형성된 이미지 포인트들이 총쪽으로 시프트되는, 즉 언더-포커스된다는 것을 의미한다.On the other hand, as the dynamic focus voltage E C3D increases, the difference between the anode voltage Eb and the dynamic focus voltage E C3D decreases, and as a result, the focusing power of the focus main lenses ML1, ML2, and ML3 is weakened. This means that the image points formed by the main lens system are shifted towards the gun, i.e. under-focused.

전술된 바와 같이, 다이나믹 포커스 전압 EC3D의 증가는 각각 포커스 서브 렌즈 SL1, SL2, SL3의 설정과 포커스 메인 렌즈 ML1, ML2, ML3의 세트에 대한 역 효과를 나타낸다. 그러나, 메인 렌즈 ML1, ML2, ML3에 대한 작용은 서브 렌즈 SL1, SL2, SL3의 작용보다 더 강하기 때문에, 메인 렌즈 시스템의 이미지 포인트들은 다이나믹 포커스 전압 EC3D의 증가에 따라 총으로부터 바깥쪽으로 시프트되는, 즉 언더-포커스된다. 서브 렌즈 SL1, SL2, SL3는 메인 렌즈 시스템의 언더 포커싱 동작을 약화시키는, 즉 메인 렌즈 시스템에서 이미지 포인트의 시프트를 억제한다.As described above, the increase in the dynamic focus voltage E C3D represents an adverse effect on the setting of the focus sub lenses SL1, SL2, SL3 and the set of focus main lenses ML1, ML2, ML3, respectively. However, since the action on the main lenses ML1, ML2, ML3 is stronger than the action of the sub lenses SL1, SL2, SL3, the image points of the main lens system are shifted outward from the gun as the dynamic focus voltage E C3D increases. That is, under-focused. The sub lenses SL1, SL2, SL3 weaken the under focusing operation of the main lens system, i.e. suppress the shift of the image point in the main lens system.

전술된 바와 같이, 제1 포커스 전극(4')의 3개의 전극 부재들(4a', 4b', 4c')에서, 중앙에 배열된 개구들(4a2', 4c5')과 쓰루 홀(4b2')은 동일한 직경 D2'을 갖는다. 한편, 개구들(4a2', 4c5')과 쓰루 홀(4b2')의 각 사이드에 각기 배열된 개구들(4a1', 4a3', 4c4', 4c6')과 쓰루 홀들(4b1'. 4b3')은 D2'보다 큰 D1'의 동일한 직경을 갖는다. 따라서, 서브 렌즈들 SL1, SL3의 집속력(즉, 렌즈 작용)은 서브 렌즈 SL2보다 작다. 따라서, 메인 렌즈 시스템에서 서브 렌즈 SL2에 의한 이미지 포인트 시프트를 억제하기 위한 동작은 서브 렌즈들 SL1, SL3에 의한 동작보다 더 강하다.As described above, in the three electrode members 4a ', 4b', 4c 'of the first focus electrode 4', the centrally arranged openings 4a2 ', 4c5' and the through hole 4b2 ' ) Have the same diameter D2 '. On the other hand, the openings 4a1 ', 4a3', 4c4 ', 4c6' and the through holes 4b1 '. 4b3' respectively arranged at each side of the openings 4a2 ', 4c5' and the through holes 4b2 '. Has the same diameter of D1 'greater than D2'. Therefore, the focusing force (ie, lens action) of the sub lenses SL1 and SL3 is smaller than that of the sub lens SL2. Therefore, the operation for suppressing the image point shift by the sub lens SL2 in the main lens system is stronger than the operation by the sub lenses SL1 and SL3.

메인 렌즈 시스템은 전술된 포커스 서브 렌즈 SL1, SL2, SL3를 포함하기 때문에, 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D간의 차의 변화로 인한 R 및 B 빔들 EB1, EB3(즉, 사이드 빔들)의 이미지 포인트 시프트량은 G 빔 EB2(즉, 중앙 또는 중간 빔)보다 크다. 바꾸어 말하자면, 사이드 빔들 EB1, EB3은 다이나믹 포커스 전압 EC3D의 증가(즉, 편향각의 증가)에 따라 중앙 빔 EB2보다 더 강하게 언더-포커스된다. 따라서, 사이드 빔들 EB1, EB3을 필요로 하는 다이나믹 포커스 전압 EC3D의 값(즉, 최적의 다이나믹 포커스 전압)은 중앙 빔 EB2을 필요로 하는 것에 비해 더 낮아질 수 있다. 그 결과, 중앙 빔 EB2과 사이드 빔들 EB1, EB3사이에 발생된 최적의 다이나믹 포커스 전압의 불균형은 억제될 수 있다.Since the main lens system includes the aforementioned focus sub-lenses SL1, SL2, SL3, the image of the R and B beams EB1, EB3 (i.e., side beams) due to the change of the difference between the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D . The point shift amount is larger than the G beam EB2 (ie, center or intermediate beam). In other words, the side beams EB1, EB3 are under-focused more strongly than the center beam EB2 with an increase in the dynamic focus voltage E C3D (ie, an increase in the deflection angle). Thus, the value of the dynamic focus voltage E C3D requiring the side beams EB1, EB3 (ie, the optimal dynamic focus voltage) can be lower than that requiring the center beam EB2. As a result, the unbalance of the optimum dynamic focus voltage generated between the center beam EB2 and the side beams EB1, EB3 can be suppressed.

따라서, 제1 실시예에 따른 전자총(10)과 같이, 사이드 빔들 EB1, EB3에 의해 형광 스크린상에 형성된 스팟의 왜곡은 감소될 수 있기 때문에, R, G, B 전자빔들 EB1, EB2, EB3의 스팟 형상은 형광 스크린(93)의 중간 영역은 물론 좌우측 말단 영역에서 실질적으로 균일하다. 이는 전체 스크린(93)상에 원하는 고해상도를 구현할 수 있게 한다.Thus, like the electron gun 10 according to the first embodiment, since the distortion of the spot formed on the fluorescent screen by the side beams EB1, EB3 can be reduced, the R, G, B electron beams of EB1, EB2, EB3 The spot shape is substantially uniform in the middle region as well as the left and right end regions of the fluorescent screen 93. This makes it possible to implement the desired high resolution on the entire screen 93.

게다가, 일본 무심사 특허 공보 평10-21847호에 개시된 종래의 전자총과는 달리, 복잡한 구성, 추가적인 핀, 또는 추가의 회로가 필요치 않다.In addition, unlike the conventional electron gun disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-21847, no complicated configuration, additional pins, or additional circuits are required.

제3 실시예Third embodiment

도 18과 도 19는 본 발명의 제3 실시예에 따른 인라인형 전자총(10A)을 나타낸다.18 and 19 show an inline electron gun 10A according to a third embodiment of the present invention.

도 18에 나타난 전자총(10A)은 도 8의 제1 실시예에 따른 전자총(10)에서 제1 포커스 전극(4)의 중간 전극 부재(4b)를 제거함으로써 구해진 구성을 갖는다. 즉, 도 18에 나타난 바와 같이, 전자총(10A)은 2개의 전극 부재들(4a, 4c)을 갖는 제1 포커스 전극(4A)으로 구성된다. 따라서, 동일 구성에 대한 설명은 도 18의 동일 구성 요소에 제1 실시예의 전자총(10)의 참조 부호와 동일한 부호를 부가함으로써 본 명세서에서는 생략한다.The electron gun 10A shown in FIG. 18 has a configuration obtained by removing the intermediate electrode member 4b of the first focus electrode 4 from the electron gun 10 according to the first embodiment of FIG. That is, as shown in FIG. 18, the electron gun 10A is composed of the first focus electrode 4A having two electrode members 4a and 4c. Therefore, the description of the same configuration is omitted in this specification by adding the same reference numeral as the reference numeral of the electron gun 10 of the first embodiment to the same component of FIG.

제3 실시예에 따른 전자총(10A)에서, 도 19에 나타난 바와 같이, 고정된 포커스 전압 EC3S는 전극 부재(4c)에 인가되는 반면에, 다이나믹 포커스 전압 EC3D은 전극 부재(4a)와 제2 포커스 전극(5)에 공통 인가된다. 양극 전압 Eb은 최종 가속 전극(6)에 인가된다.In the electron gun 10A according to the third embodiment, as shown in FIG. 19, the fixed focus voltage E C3S is applied to the electrode member 4c, while the dynamic focus voltage E C3D is applied to the electrode member 4a and the first. Commonly applied to the two focus electrodes 5. The anode voltage Eb is applied to the final accelerating electrode 6.

고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D의 크기는 전술된 수학식 1을 충족하도록 결정된다. 구체적으로, 도 12에 나타난 파형을 갖는 고정 및 다이나믹 포커스 전압 EC3S와 EC3D은 전자총(10A)에 인가된다.The magnitudes of the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D are determined to satisfy the above equation (1). Specifically, the fixed and dynamic focus voltages E C3S and E C3D having the waveform shown in FIG. 12 are applied to the electron gun 10A.

제3 실시예에 따른 전자총(10A)에서, 도 19에 나타난 바와 같이, 3개의 회전 대칭 포커스 서브 렌즈 SL1, SL2, SL3는 제1 포커스 전극(4A)의 전극 부재들(4a, 4c)사이에 형성된다. 포커스 서브 렌즈 SL1는 부재들(4a, 4c)의 개구(4a3, 4c6)에 대응하는 위치에 형성된다. 포커스 서브 렌즈 SL2는 부재들(4a, 4c)의 개구들(4a2, 4c5)에 대응하는 위치에 형성된다. 포커스 서브 렌즈 SL3는 부재들(4a, 4c)의 개구들(4a1, 4c4)에 대응하는 위치에 형성된다.In the electron gun 10A according to the third embodiment, as shown in FIG. 19, three rotationally symmetrical focus sub-lenses SL1, SL2, SL3 are disposed between the electrode members 4a, 4c of the first focus electrode 4A. Is formed. The focus sub lens SL1 is formed at a position corresponding to the openings 4a3 and 4c6 of the members 4a and 4c. The focus sub lens SL2 is formed at a position corresponding to the openings 4a2 and 4c5 of the members 4a and 4c. The focus sub lens SL3 is formed at a position corresponding to the openings 4a1 and 4c4 of the members 4a and 4c.

도 18의 제3 실시예에 따른 전자총(10A)에서, 도 8의 제1 실시예에 따른 전자총(10)의 이점과 실질적으로 동일한 이점을 줄 수 있다는 것이 명백하다.It is apparent that in the electron gun 10A according to the third embodiment of FIG. 18, it can give substantially the same advantages as that of the electron gun 10 according to the first embodiment of FIG. 8.

변형transform

전술된 본 발명의 제1, 제2 및 제3 실시예에 따른 인라인형 전자총에서, 제1 포커스 전극은 2개 또는 3개의 전극 부재를 갖는다. 그러나, 본 발명은 이들에 국한되지 않는다. 제1 포커스 전극은 4개 이상의 전극 부재를 가질 수 있다는 것은 물론이다.In the inline electron gun according to the first, second and third embodiments of the present invention described above, the first focus electrode has two or three electrode members. However, the present invention is not limited to these. It goes without saying that the first focus electrode can have four or more electrode members.

또한, 제1 내지 제3 실시예에 따른 전자총에서, 제1 포커스 전극의 각 전극 부재는 원형 개구 또는 쓰루 홀을 갖는다. 그러나, 개구들 또는 쓰루 홀들은 임의의 다른 형상, 예컨대 다각형 또는 타원형을 가질 수도 있다. 개구 또는 쓰루 홀들은 G 전자빔(즉, 중앙 전자빔)의 집속력과는 다른 R 및 B 전자빔(즉, 사이드 전자빔)의 집속력을 형성할 수 있게 하기에 충분하다.Further, in the electron guns according to the first to third embodiments, each electrode member of the first focus electrode has a circular opening or through hole. However, the openings or through holes may have any other shape, such as polygonal or elliptical. The openings or through holes are sufficient to be able to form the focusing force of the R and B electron beams (ie, the side electron beams) that are different from the focusing force of the G electron beams (ie, the central electron beams).

게다가, 제1 포커스 전극과 3개의 음극들 이외의 다른 부분들은 본 발명의 기술적 사상내에서 전술된 실시예에서 설명된 것과는 다른 구성을 가질 수 있다.In addition, portions other than the first focus electrode and the three cathodes may have a configuration different from that described in the above-described embodiment within the spirit of the present invention.

본 발명의 바람직한 형태가 기술되었지만, 본 분야의 숙련된 자라면 본 발명의 본 발명의 기술적 사상으로부터 동떨어짐없이 변형이 이루어질 수 있다는 것을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 결정될 것이다.While the preferred form of the invention has been described, those skilled in the art will appreciate that modifications can be made without departing from the spirit of the invention. Accordingly, the scope of the invention will only be determined by the appended claims.

본 발명은 형광 스크린의 중간 영역에서는 물론 좌우측 말단 영역에서도 R, G, 및 B 전자빔들의 스팟 형상을 실질적으로 균일하게 하는 인라인형 전자총, 및 이 총이 장착된 컬러 CRT를 제공할 수 있는 이점을 갖는다.The present invention has the advantage of providing an inline electron gun which substantially uniformizes the spot shape of R, G, and B electron beams in the middle region of the fluorescent screen as well as the left and right end regions, and a color CRT equipped with the gun. .

Claims (7)

인라인형 전자총에 있어서,In the inline electron gun, (a) 제1, 제2 및 제3 전자빔들을 생성하기 위한 삼극 진공관과, 각기 상기 제1, 제2 및 제3 전자빔들을 집속시키기 위한 메인 렌즈 시스템을 포함하되;(a) a tripolar vacuum tube for generating first, second and third electron beams and a main lens system for focusing the first, second and third electron beams respectively; (b) 상기 삼극 진공관은 제1 방향의 동일선상에서 특정 거리에 배열된 제1, 제2 및 제3 음극, 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향에서 특정 거리에 상기 제1, 제2 및 제3 음극에 인접 배치된 제어 전극, 및 상기 제2 방향에서 특정 거리에 상기 제어 전극에 인접 배치된 초기 가속 전극을 포함하고;(b) The three-pole vacuum tube may include the first, second and third cathodes arranged at a specific distance on the same line in a first direction, and the first, second and third at a specific distance in a second direction perpendicular to the first direction. 3 a control electrode disposed adjacent to the cathode, and an initial acceleration electrode disposed adjacent to the control electrode at a specific distance in the second direction; 상기 제1 및 제3 음극은 상기 제2 음극의 대향측상에 배열되고;The first and third cathodes are arranged on opposite sides of the second cathode; (c) 상기 메인 렌즈 시스템은 상기 제2 방향에 배열된 제1 포커스 전극, 제2 포커스 전극, 및 최종 가속 전극을 포함하고;(c) the main lens system comprises a first focus electrode, a second focus electrode, and a final acceleration electrode arranged in the second direction; 상기 제1 포커스 전극은 상기 삼극 진공관의 상기 초기 가속 전극에 대해 특정 거리에 인접 배치되고;The first focus electrode is disposed adjacent a specific distance to the initial acceleration electrode of the tripolar vacuum tube; 상기 제2 포커스 전극은 상기 제1 포커스 전극에 대해 특정 거리에 인접 배치되고;The second focus electrode is disposed adjacent a specific distance with respect to the first focus electrode; 상기 최종 가속 전극은 상기 제2 포커스 전극에 대해 특정 거리에 인접 배치되고;The final accelerating electrode is disposed adjacent a specific distance with respect to the second focus electrode; (d) 상기 제1 포커스 전극은 상기 제2 방향으로 특정 거리 또는 간격마다 배치된 전극 부재들을 가지고;(d) the first focus electrode has electrode members arranged at a particular distance or interval in the second direction; 상기 전극 부재들 중 제1 부재는 상기 초기 가속 전극에 인접하여 배치되고;A first member of the electrode members is disposed adjacent to the initial acceleration electrode; 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재는 상기 제2 포커스 전극에 인접하여 배치되고;The last member of the electrode members is disposed adjacent to the second focus electrode; 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재와 상기 제2 포커스 전극은 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재와 상기 제2 포커스 전극사이에 상기 1, 제2 및 제3 전자빔용 제1, 제2 및 제3 4중극 렌즈를 형성하도록 기능하고;The final member and the second focus electrode of the electrode members may include a first, second and third 4 for the first, second and third electron beams between the final member and the second focus electrode of the electrode members. Function to form a bipolar lens; 상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들 각각은 상기 제1, 제2 및 제3 전자 빔들이 통과할 수 있도록 하는 제1, 제2 및 제3 쓰루 홀들을 가지고;Each of the electrode members of the first focus electrode has first, second and third through holes to allow the first, second and third electron beams to pass therethrough; 상기 제1 및 제3 쓰루 홀들은 서로 크기면에서 동일한 반면에 상기 제2 쓰루 홀은 상기 제1 및 제3 쓰루 홀들과는 크기면에서 상이하고;The first and third through holes are identical in size to each other while the second through hole is different in size from the first and third through holes; (e) 상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재에는 고정된 포커스 전압이 인가되는 반면에 상기 제2 포커스 전극에는 다이나믹 포커스 전압이 인가됨으로써, 상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재와 상기 제2 포커스 전극사이에 상기 제1, 제2 및 제3 4중극 렌즈가 형성되고;(e) A fixed focus voltage is applied to the final member of the electrode members of the first focus electrode while a dynamic focus voltage is applied to the second focus electrode, thereby providing the electrode members of the first focus electrode. The first, second and third quadrupole lenses are formed between the final member and the second focus electrode; 상기 제1, 제2 및 제3의 4중극 렌즈들은 상기 고정 및 다이나믹 포커스 전압간의 차에 따라 변화하는 렌즈 작용을 가지고;The first, second and third quadrupole lenses have a lens action that varies with the difference between the fixed and dynamic focus voltages; 상기 최종 부재를 제외한 상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들 중 적어도 하나의 부재에 상기 다이나믹 포커스 전압이 인가됨으로써, 상기 제1 포커스 전극내에 상기 제1, 제2 및 제3 전자빔들용 제1, 제2 및 제3 포커스 렌즈가 형성되고;The dynamic focus voltage is applied to at least one of the electrode members of the first focus electrode except for the final member, so that the first, second, and third electron beams for the first, second, and third electron beams in the first focus electrode are applied. Second and third focus lenses are formed; 상기 제1, 제2 및 제3 포커스 렌즈들은 상기 고정 및 다이나믹 포커스 전압간의 차에 따라 변화하는 집속력을 가지고;The first, second and third focus lenses have a focusing force that varies with the difference between the fixed and dynamic focus voltages; 상기 제1 및 제3 포커스 렌즈의 상기 집속력은 상기 고정 및 다이나믹 포커스 전압간의 차에 따라 상기 제2 포커스 렌즈의 집속력과는 다른 비율로 변화하는The focusing force of the first and third focus lenses is changed at a ratio different from that of the second focus lens according to a difference between the fixed and dynamic focus voltages. 것을 특징으로 하는 인라인형 전자총.Inline electron gun, characterized in that. 제1항에 있어서, 상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들 각각의 상기 제1 및 제3 쓰루 홀들은 상기 제2 쓰루 홀보다 크기면에서 더 작고;The semiconductor device of claim 1, wherein the first and third through holes of each of the electrode members of the first focus electrode are smaller in size than the second through hole; 상기 고정된 포커스 전압은 상기 다이나믹 포커스 전압보다 크기면에서 더 크게 되도록 설정되는 것을 특징으로 하는 인라인형 전자총.And said fixed focus voltage is set to be greater in magnitude than said dynamic focus voltage. 제1항에 있어서, 상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들 각각의 상기 제1 및 제3 쓰루 홀들은 상기 제2 쓰루 홀보다 크기면에서 더 크고;The semiconductor device of claim 1, wherein the first and third through holes of each of the electrode members of the first focus electrode are larger in size than the second through hole; 상기 고정된 포커스 전압은 상기 다이나믹 포커스 전압보다 크기면에서 더 작게 되도록 설정되는 것을 특징으로 하는 인라인형 전자총.And said fixed focus voltage is set to be smaller in magnitude than said dynamic focus voltage. 제1항에 있어서, 상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들의 개수는 3개이고, 상기 전극 부재들 중 제3 부재는 최종 부재로서 기능하고;The method of claim 1, wherein the number of the electrode members of the first focus electrode is three, and a third one of the electrode members functions as a final member; 상기 전극 부재들 중 제2 부재는 상기 전극 부재들 중 상기 제1 부재와 제3 부재사이의 특정 거리에 배치되고;A second member of the electrode members is disposed at a specific distance between the first member and the third member of the electrode members; 상기 전극 부재들 중 상기 제1 및 제3 부재들에는 상기 고정된 포커스 전압이 인가되는 반면에 상기 전극 부재들 중 상기 제2 부재에는 상기 다이나믹 포커스 전압이 인가되는 것을 특징으로 하는 인라인형 전자총.The fixed focus voltage is applied to the first and third members of the electrode members, while the dynamic focus voltage is applied to the second member of the electrode members. 제1항에 있어서, 상기 제1 포커스 전극의 상기 전극 부재들의 개수는 2개이고, 상기 전극 부재들 중 제2 부재는 최종 부재로서 기능하고;The method of claim 1, wherein the number of the electrode members of the first focus electrode is two, and a second one of the electrode members functions as a final member; 상기 전극 부재들 중 제1 부재에는 상기 고정된 포커스 전압이 인가되는 반면에 상기 전극 부재들 중 제2 부재에는 상기 다이나믹 포커스 전압이 인가되는 것을 특징으로 하는 인라인형 전자총.The fixed focus voltage is applied to a first member of the electrode members while the dynamic focus voltage is applied to a second member of the electrode members. 제1항에 있어서, 상기 전극 부재들 중 상기 제1 및 제2 부재들 각각의 상기 제1, 제2 및 제3 쓰루 홀들은 각기 원형 입구와 원형 출구를 가지고;The method of claim 1, wherein the first, second and third through holes of each of the first and second members of the electrode members have a circular inlet and a circular outlet, respectively; 상기 전극 부재들 중 상기 최종 부재의 상기 제1, 제2 및 제3 쓰루 홀들은 각기 입구와 사각 출구를 갖는 것을 특징으로 하는 인라인형 전자총.Wherein said first, second and third through holes of said final member of said electrode members each have an inlet and a square outlet. 청구항 제1항에 따른 상기 인라인형 전자총을 포함하는 컬러 CRT.The color CRT comprising the inline electron gun according to claim 1.
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