KR20010013733A - 유전성 유체 내의 가스 검출 방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
a) 유체로부터 얻어진 샘플 가스가 분석될 하나 이상의 타겟 가스 내에 농축되며;
b) 분석될 하나 이상의 타겟 가스가 유체로부터 얻어지는 샘플 가스로부터 분리되며 또는;
c) a), b) 양쪽을 포함하는, 유체 내의 하나 이상의 가스 요소의 검출 장치가 제공된다.
Description
하기에서는 단지 예시에 의해, 유전성 유체 내의 가스의 검출에 관하여 설명한다.
전기 시스템은 절연 물질로서 유전성 유체를 사용하는 종래 분야에 공지되어 있으며; 상기 시스템은 예를 들면, 변압기, 차단기 등을 구비한다.
상술한 형태의 장치 또는 시스템의 장애 또는 오동작의 경우에, 절연 유체 내에 하나 이상의 적합하지 않은 가스가 발생되며, 이는 예를 들면, 장치가 고온 또는 내부의 높은 전기 압력 조건에서 작동될 때 발생될 수 있다. 이러한 조건은 절연 시스템(즉 절연 유체)의 유전성 재료의 하나 이상의 고장 부품 및/또는 적합하지 않은 수분을 또한 발생시킬 수 있다. 이러한 비정상 조건이 계속 방치되면, 이는 전기 시스템에 복구할 수 없는 손상을 일으킬 수도 있다. 따라서, 전기 장치의 이러한 어떤 비정상 작동의 진단 및/또는 적시의(예를 들면 다소 즉석의) 검출은 상기 시스템의 복구될 수 없는 손상을 방지하기 위한 장점이 있다.
따라서, 예를 들면 절연 유체 내에 포함된(예를 들면 용해된) 결손 가스(예를 들면, 수소 가스, 일산화탄소 가스, 메탄 가스, 에탄 가스, 에틸렌 가스, 아세틸렌 가스 등의 가연성 가스 또는 이산화탄소와 같은 불연성 가스), 수분(예를 들면, 물), 고장 부품, 오염 물질 등의 농도의 어떤 적합하지 않은 증가와 같은 초기 파손 조건의 검출을 위한 다양한 검출 장치 및 시스템이 제안되어 있다.
이러한 몇몇 검출 및/또는 측정 시스템은, 예를 들면 캐나다 특허 제 1,054,223호(벨랑거)와, 미국 특허 제 4,112,737호(모건)와, 미국 특허 제 4,293, 399호(벨랑거 등)와, 미국 특허 제 4,271,474호(벨랑거 등)와, 미국 특허 제 5, 070,738호(모건) 및, 미국 특허 제 5,271,263호(지볼트)에 개시되어 있다. 상기 참조 특허 뿐만 아니라 어떠한 다른 특허 또는 그에 언급된 어떤 다른 참조 특허의 모든 내용은 본원과 참조에 의해 관련된다.
예를 들면, 미국 특허 제 4,293,399호에는 유체 내에 용해된 수소 가스의 농도를 검출기의 전극에서 수소 가스의 전기 화학적 산화에 의해 발생된 전류의 측정에 의해 결정하는 방법이 개시되어 있다. 상기 미국 특허에 개시된 종래의 검출 및 측정 수단은 용해된 수소 가스를 포함하는 유체와 접촉을 위해 수소 가스에 침투 가능한 폴리머 박막(polymeric membrane)과, 제 1 전극에서 폴리머 박막을 통해 확산된 수소 가스의 산화 및 제 2 전극에서 공기와 같은 산소 함유 가스의 환원을 촉진하는 전해물 및, 수소 가스의 산화의 전기 화학적 반응에 의해 발생된 전류의 강도를 측정하기 위해 전극을 가로질러 연결된 측정 장치를 포함하며, 상기 강도는 유체 내의 수소의 농도에 비례한다.
상술한 바와 같은 측정(예를 들면, 검출) 장치는, 예를 들면 유전성 액체(예를 들면, 오일) 또는 유전성 가스(예를 들면, SF6가스)와 같은 절연 물질로써 유전성 유체를 사용하는 변압기, 차단기, 분류기(shunt reactor) 또는 어떤 전기 장치와 같은 시스템의 오작동의 가능한 한 정확한 검출 및/또는 진단을 제공할 수 있다는 장점이 있다.
상술한 다수의 종래의 검출 장치 또는 시스템은 검출기에 의해 수용된 샘플 가스가 검출 또는 측정되기 위한 타겟 가스의 비교적 저 농도; 예를 들면 수소 가스에 대한 아세틸렌 가스의 저 농도를 갖는다는 단점이 있다. 이 경우, 샘플 가스 내에 존재하는 다른 가스에 대한 타겟 가스의 저 농도는 하나 이상의 다른 가스가 소정의 타겟 가스의 측정을 방해하도록 할 수 있다. 다시 말하면, 따라서 하나 이상의 무관한 가스가 타겟 가스의 판독을 방해한다는 사실 때문에 검출 또는 측정 장치의 결과의 정밀도가 원하는 것보다 낮아질 수 있다.
따라서, 샘플 가스 혼합물의 하나 이상의 소정의 개별 가스(즉, 타겟 가스)의 분석(예를 들면, 검출)을 촉진하는 것이 적합하다. 일반적으로, 타겟 가스 내에 농축된 샘플 가스를 얻는 것이 적합하며, 샘플 가스의 존재는 분석될 하나 이상의 타겟 가스에서 샘플 가스 혼합물로부터 분석 및/또는 분리의 과제가 된다. 샘플 가스로부터 이러한 하나 이상의 타겟 가스를 분리함으로써 샘플 가스의 타겟 가스의 분석을 촉진하며, 그 후 분리된 타겟 가스를 검출하는 것이 또한 적합하다.
본 발명은 일반적으로, 예를 들면 유전성 유체와 같은 유체 내의 하나 이상의 가스의 존재를 측정하기 위한 수단 및 방법에 관한 것이다. 본 발명은 특히,
a) 유체로부터 얻어진 샘플 가스가 분석될 하나 이상의 타겟 가스 내에 농축되며;
b) 분석될 하나 이상의 타겟 가스가 유체로부터 얻어지는 샘플 가스로부터 분리되며 또는;
c) a), b) 양쪽을 포함하는 유체 내의 하나 이상의 가스 요소의 측정에 관한 것이다.
본 발명은 특히, 예를 들면 유체 절연 전기 장치 내의 하나 이상의 물질을 측정(예를 들면 검출), 예를 들면 초기 파손 조건을 측정하기 위한 수단의 부분으로서 사용될 수 있다. 유전성 유체는 유전성 액체(예를 들면, 오일) 또는 유전성 가스일 수 있다. 더욱 특별하게는, 본 발명은 유체로부터 얻어진 샘플 가스가 분석될 하나 이상의 타겟 가스 내에 농축되며 및/또는 분석될 하나 이상의 타겟 가스가 유전성 유체로부터 얻어진 샘플 가스로부터 분리되는, 전기 시스템의 내부에 배치된 유전성 유체 내의 하나 이상의 가스 성분을 검출하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.
도 1은 가스 제거 수단이 가스 추출 수단 다음에 배치된 본 발명에 따른 가스 측정 장치의 실시예의 개략도.
도 2는 가스 제거 수단이 가스 추출 수단 앞에 배치된 본 발명에 따른 가스 측정 장치의 다른 실시예의 개략도.
도 3은 가스 샘플로부터 다수의 무관한 가스의 제거를 위한 수단이 제공된 본 발명에 따른 가스 측정 장치의 다른 실시예의 개략도.
도 4는 본 발명에 따른 가스 검출 장치의 실시예의 개략도.
도 5는 본 발명에 따른 가스 측정 장치의 다른 실시예의 개략도.
도 6은 본 발명에 따른 가스 검출 장치의 다른 실시예를 위한 두 부분 하우징의 개략 단면도.
도 7a는 도 6에 나타낸 두 부분 하우징의 가스 추출기 부분의 개략 단면도.
도 7b는 도 7a에 나타낸 추출기 부분의 단부의 개략도.
도 8a는 도 6에 나타낸 두 부분 하우징의 가스 제거부 또는 가스 제거기 부분의 개략 단면도.
도 8b는 도 8a에 나타낸 가스 제거부 또는 가스 제거기 부분의 단부의 개략도.
본원에서, "검출 요소" 뿐만 아니라 "검출", "검출하는" 등의 표현은 물질의 검사, 물질의 검출, 물질의 존재의 결정 등을 포함하는 행위를 포함하지만, 이에 제한되는 것은 아니다.
본원에서, "측정용 분석 수단" 뿐만 아니라 "측정", "측정하는" 등의 표현은 물질의 검사, 물질의 검출, 물질의 트랙 유지, 물질의 존재의 결정, 물질의 연속적인 측정, 물질의 간헐적인 측정 등을 포함하는 하나 이상의 행위를 포함하지만, 이에 제한되는 것은 아니다.
따라서, 본 발명은, 유체로부터 타겟 가스를 포함하는 샘플 가스 혼합물을 추출하는 가스 추출 요소와,
상기 타겟 가스의 존재를 검출하는 검출 요소를 구비하는, 유체 내의 가스 검출 장치를 제공하며, 상기 장치는,
상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 가스 제거 요소를 구비하며,
상기 가스 제거 요소는 가스 침투성 요소를 포함하며, 상기 가스 침투성 요소를 통해 상기 소정의 가스 성분이 선택적으로 통과할 수 있다.
본 발명의 다른 양태에 따라,
가스 챔버를 형성하며, 제 1 가스 침투성 요소를 포함하는 벽 요소와,
상기 제 1 가스 침투성 요소를 포함하는 가스 추출 요소와,
타겟 가스의 존재를 검출하는 검출 요소를 구비하며,
상기 제 1 가스 침투성 요소를 통해 타겟 가스를 구비하는 가스 혼합물은 상기 유체로부터 상기 가스 챔버 내로 통과되는, 유체 내의 가스 검출 장치가 제공되며, 상기 장치는,
상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 가스 제거 요소를 구비하며,
상기 가스 제거 요소는 제 2 가스 침투성 요소를 구비하며, 상기 제 2 가스 침투성 요소를 통해 상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분은 선택적으로 통과될 수 있다.
본 발명에 따르면, 상기 벽 요소는 상기 제 2 가스 침투성 요소를 포함하며, 상기 검출 요소는 상기 가스 챔버 내의 타겟 가스의 존재를 검출하기 위해 배치된다.
본 발명의 다른 양태에 따라, 유체로부터 하나 이상의 타겟 가스를 포함하는 샘플 가스 혼합물을 추출하는 가스 추출 요소와,
상기 하나 이상의 타겟 가스의 존재를 측정하는 분석 요소를 구비하는, 유체 내의 하나 이상의 가스를 측정하는 장치가 제공되며, 상기 장치는,
상기 샘플 가스 혼합물의 하나 이상의 소정의 가스 요소를 선택적으로 제거하는 가스 제거 요소를 구비하며,
상기 가스 제거 요소는 하나 이상의 가스 침투성 요소를 구비하며, 상기 가스 침투성 요소를 통해 상기 하나 이상의 각각의 소정의 가스 성분이 선택적으로 통과될 수 있다.
본 발명의 특정 양태에 따라, 상술한 장치는 유전성 유체 내의 가스 검출 장치일 수 있으며, 상기 유체는 전기 시스템의 내부에 존재한다.
본 발명의 다른 양태에 따라, 유체로부터 타겟 가스를 포함하는 샘플 가스 혼합물을 추출하는 단계와,
상기 타겟 가스의 존재를 검출하는 단계를 포함하는, 유체 내의 가스 검출 방법이 제공되며, 상기 방법은,
상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따르면, 소정의 가스 성분은, 상기 샘플 가스 혼합물 내의 비율에 대해 증가되는 상기 소정의 가스 성분에 대한 타겟 가스의 비율을 가지며, 검출 샘플 가스 혼합물 내의 타겟 가스의 존재를 검출하는 검출 샘플 가스를 얻기 위해 샘플 가스 혼합물로부터 선택적으로 제거된다.
본 발명의 다른 특정 양태에 따르면, 상술한 방법은 유전성 유체 내의 가스 검출 방법일 수 있으며, 상기 유체는 전기 시스템의 내부에 존재한다.
본 발명에 따르면, 상기 소정의 가스 성분은 타겟 가스일 수 있으며; 이 경우 검출될 개별 가스 등이다.
본원에 언급하는 바와 같이, 상기 소정의 가스 성분은 수소를 포함할 수 있으며, 타겟 가스는 아세틸렌 가스일 수 있다.
본 발명에 따르면, 본 발명의 다양한 양태의 어떠한 상술한 설명에서도 언급된 샘플 가스 혼합물은 하나 이상의 타겟 가스를 포함하는 두 개 이상의 가스를 포함할 수 있다.
본 발명은 특히, 유체 절연 전기 장치 또는 시스템 내의 초기 파손 조건을 나타내는 유체 내의 하나 이상의 가스 물질(즉, 타겟 가스)을 검출 또는 특히 측정하는; 즉 이러한 물질의 시간에 따른 존재, 농도를 검출 또는 특히 측정하는데 사용되는 장치(설비, 시스템 등을 포함하는)에 관한 것이다. 상기 장치는, 예를 들면 결손 가스, 수분 또는 고장 부품(상기 참조)과 같은 변압기의 절연 유체 내에 포함된 가스 물질의 존재를 검출하는데 사용될 수 있다.
본 발명은 또한, 어떤 적합한 공지된 수단에 의해 전기 시스템의 내부에서 배출 및 내부로 복귀되는 것에 의해 유전성 유체를 측정(예를 들면, 샘플화 및 시험)할 수 있는 장치에 관한 것이다.
검출 및 특히 측정되는 가스 물질은, 예를 들면 결손 가스(예를 들면, 수소 가스와 같은 가연성 가스), 수분(예를 들면, 물) 및/또는 고장 부품을 포함하는 그룹의 부재를 포함할 수 있다. 검출되는 가스 성분은, 예를 들면 수소, 일산화탄소, 이산화탄소, 수분(즉, 물), 메탄, 에탄, 에틸렌 및 아세틸렌을 포함하는 가스의 그룹으로부터 선택될 수 있다.
유체는 상술한 유체를 포함하는 어떤 유전성 유체(예를 들면 액체 또는 기체)일 수 있다.
가스 추출 수단 및 가스 제거 수단은, 어떤 적합한(공지된) 배치, 두께 등 뿐만 아니라, 제거 및/또는 검출될 가스 성분 또는 소정의 가스 성분으로 침투될 수 있는 어떤 적합한(공지된) 재료를 각각 포함할 수 있다; 예를 들면, 상기 가스 침투성 요소는 폴리머 박막, 금속 박막 등을 포함한다. 가스 침투성 요소는 원하는 바 또는 요구되는 바에 따라 가요성 또는 강성을 가질 수 있다.
유전성 유체로부터 추출되는 가스 성분이 수소 및 아세틸렌을 포함하면, 가스 추출 수단의 가스 침투성 요소는 예를 들면 실리콘, 플루오르실리콘, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등과 같은 재료의 적합한 박막일 수 있다.
하기의 표 A 및 B는 폴리프로필렌(PP) 박막{두께: 0.004572mm(0.18 mil)} 및 저밀도 폴리에틸렌(LDPE) 박막{두께: 0.0254mm(1 mil)}의 추출 효율을 나타낸다. 폴리프로필렌(PP) 박막 및 저밀도 폴리에틸렌(LDPE) 박막은 모두 미국 펜실베니아 베르윈 소재의 Goodfellow Corporation으로부터 얻어졌다. 추출 효율은 변압기 오일에서 검출된 몇몇 결손 가스를 위해 측정되었다. 결과는 평형값 % 대 10mL의 공동 충전 시간을 나타낸다; 표 A 및 B에서 각각의 박막을 통해 추출된 가스는 푸리어 변환 인프라-레드 측정 셀(Fourier Transform Infra-Red measurement cell) 내에서 정량화 또는 측정된 것을 정리한 것이다.
추출 시간 | CH4 | C2H6 | CO | C2H4 | C2H2 | CO2 | RH % |
1 시간 | 26% | 0% | 12% | 27% | 39% | 50% | 79% |
3 시간 | 50% | 4% | 28% | 58% | 67% | 80% | 86% |
5 시간 | 67% | 30% | 43% | 78% | 89% | 100% | 93% |
10 시간 | 89% | 77% | 75% | 100% | 100% | -- | 100% |
추출 시간 | CH4 | C2H6 | CO | C2H4 | C2H2 | CO2 | RH % |
1 시간 | 20% | 6% | 16% | 44% | 42% | 64% | 78% |
3 시간 | 45% | 58% | 39% | 79% | 75% | 91% | 89% |
5 시간 | 62% | 82% | 55% | 91% | 89% | 100% | 100% |
10 시간 | 88% | 100% | 80% | 100% | 100% |
추출된 가스 샘플로부터 제거되는 가스 성분이 수소이면, 가스 제거 수단의 가스 침투성 요소는, 예를 들면 테플론(teflon), 팔라듐 및, 수소 다공성 세라믹 (hydrogen porous ceramic) 등과 같은 재료의 적합한 박막일 수 있다.
본 발명에 따르면, 폴리에틸렌 박막(예를 들면, Goodfellow Corporation으로부터 얻어진)이 초기 가스 추출 단계에 사용될 수 있으며, 테플론 박막(예를 들면, Goodfellow Corporation으로부터 얻어진) 또는 프릿(frit) 디스크 상의 팔라듐{전자 빔 기구(E-Beam)로 팔라듐 증발로부터 얻어진}은 다음 가스 추출 단계(예를 들면, 수소 가스의 제거 또는 분리)에 사용될 수 있다.
하기의 표 C는 박막의 추출 및 제거의 통상적인 조합 뿐만 아니라 제거 효율을 나타낸다.
추출 박막 | 제거 박막 | 효율 |
폴리에틸렌 | 테플론{0.00635mm(0.25 mil)} | 95% |
폴리에틸렌 | 프릿 디스크 상의 팔라듐 | 99% |
수소 가스는, 예를 들면 샘플 가스 내에 1000ppm 존재하며, 아세틸렌과 같은 타겟 가스는 단지 5ppm 존재한다. 이 경우, 수소 가스는 아세틸렌의 검출을 방해할 수 있다. 본 발명에 따르면, 아세틸렌의 검출을 촉진하기 위해, 수소 가스는 50ppm, 아세틸렌 가스는 5ppm 존재하도록 수소 가스가 샘플 가스로부터 제거될 수 있다.
본 발명에 따르면, 물질의 검출 또는 측정용 장치의 부착은 직접 부착 또는 간접 부착일 수 있다. 직접 부착인 경우에는, 장치는 예를 들면, 어떤 중간 튜브 또는 파이프형 부재 없이 유체 포켓 요소를 형성하는 벽 요소에 의해 접근 개구에 직접 연결될 수 있다; 시스템에 직접 부착된 예시를 위해 미국 특허 제 4,293,399호를 참조하라. 간접 부착인 경우에는, 장치는 예를 들면, 밸브를 경유하여 시스템에 연결될 수 있다; 이러한 연결은, 예를 들면 측정 장치가 교환 및 수리될 때 유체의 넘침을 방지하기 위해 유체의 레벨을 감소시키거나 시스템을 비울 필요가 없이 시스템으로부터 장치를 용이하게 제거할 수 있다. 간접 부착의 경우의 밸브는 유체 포켓의 부분을 형성한다. 미국 특허 제 5,271,263을 참조하라.
검출기 및/또는 분석 수단은 어떤 원하는 또는 필요한 형태를 취할 수 있다. 본 발명에 따르면, 검출기는 미국 특허 제 4,293,399호에 기술된 검출 장치의 배치를 취할 수 있다. 분석 수단은 예를 들면, 전기 화학적 검출기, 반도체 검출기, 산화 금속 검출기, 용량 검출기(예를 들면, 물을 위한), 크로마토그래프(예를 들면, 가스 크로마토그래프), IR 검출기, 분광 사진기(예를 들면, I.R. 분광 광도계) 등을 포함한다.
분석 수단은, 예를 들면 유전성 액체 또는 가스로부터 가스를 분리하기 위한 추출 또는 분리 부재를 포함하며, 상기 부재는 유전성 액체 또는 가스와 접촉되기 위해 배치된다. 추출 또는 분리 수단은 예를 들면, 상술한 바와 같이 박막을 포함하며, 가스 침투성이며 상기 유전성 액체 또는 가스에 비침투성일 수 있으며, 상기 박막은 유전성 액체 또는 가스와 한쪽 측부 상에서의 접촉되기 위해 배치된다; 예시를 위해 상기 언급된 미국 특허 제 4,293,399호를 참조하라.
하기에는 특히 유전성 액체 및 변압기 형태 전기 시스템을 다룬다. 그러나, 이는 단지 예시를 위한 것임을 이해할 수 있다. 본 발명은 다른 형태의 유체 및 전기 시스템에 적용될 수 있다.
도면에는 본 발명의 실시예를 나타낸다.
도 1을 참조하면, 전기 변압기 시스템의 하우징 벽(2)에 다소 직접 연결된(예를 들면, 중간 밸브 부재가 없는) 도면 부호 1로 나타낸 본 발명에 따른 가스 측정 장치가 도시되어 있다; 단지 벽(2)의 부분만이 유전성 액체(3)의 부분과 함께 도시되어 있다. 유전성 액체(3)는 변압기 하우징 내에 배치된다.
가스 측정 장치는 관형 부재(5)를 구비한다. 관형 부재(5)는 예를 들면, 변압기 시스템의 유체 접근 개구에 연결된다; 미국 특허 제 4,112,737호를 참조하라.
관형 부재(5)의 내부는, 관형 부재(5)가 두 부분으로 분할되며 추출 박막(7)이 변압기 측(8)과 가스 공동 측(9)을 갖도록 가스 침투성 추출 박막(7)에 의해 차단된다. 나타낸 바와 같이, 관형 부재(5)의 한 부분은, 하우징 내의 유전성 액체(3)가 유체 포켓(10) 내의 가스 침투성 추출 박막(7)의 변압기 측(8)과 접촉되도록 변압기 하우징의 내부와 유체 연통된다. 관형 부재(5)의 다른 부분은 샘플 가스를 수용하기 위해 가스 추출 공동 또는 챔버(11)의 내부와 유체 연통한다. 가스 침투성 추출 박막(7)은 유전성 액체(3) 내의 소정의 가스(예를 들면, 수소, 아세틸렌 등)를 박막을 통해 챔버(11)내로 확산되도록 허용하는 어떤 적합한 재료로 형성된다.
다수의 가스 분석 검출기(12,13,14,15,16)가 각각의 유체 연통 부재(21,22, 23,24,25)에 의해 가스 챔버 벽(18)에 각각 연결되며, 이에 의해 검출기(12,13,14, 15,16)는 가스 공동(11)과 유체 연통된다.
가스 제거 수단(30,31,32,33,34)이 각각의 가스 연통 부재(21,22,23,24,25)에 연결된다. 가스 제거 수단(30,31,32,33,34)은 각각의 추출 공동 측 및 각각의 제거 챔버 측을 갖는 가스 제거 박막(36,37,38,39,40)을 각각 포함한다. 예를 들어 가스 제거 수단(30)을 참조하면, 추출 공동 측은 도면 부호 42로 나타내며 제거 챔버 측은 도면 부호 44로 나타낸다. 제거 챔버 측은 제거 챔버의 벽의 부분(단지 부분만 도시됨)을 각각 형성하며, 이로부터 제거 박막을 통과하여 제거된 가스가 주위로 배출되며, 부가 가스 검출기 수단 상에 이송되거나 또는 처분된다. 가스 제거 박막(36,37,38,39,40)은, 샘플 가스 내의 소정의 무관한 가스(예를 들면, 수소)가 박막을 통해 각각의 제거 챔버 내로 확산되도록 허용하는 어떤 적합한 재료로 각각 형성된다.
나타낸 실시예의 장치에서, 분석 검출기(12,13,14,15,16)는 다양한 요소가 배치된 검출기 하우징을 갖는다. 분석 검출기(12,13,14,15,16)는 특히, 각각의 검출기 하우징을 추출 공동 측과 검출기 측으로 분할하는 검출기 박막(46,47,48,49, 50)을 각각 갖는다; 검출기 측은 적합한 가스 검출 수단을 갖춘다. 예를 들어 분석 검출기(12)를 참조하면, 추출 공동 측은 도면 부호 52로 나타내며 검출기 측은 도면 부호 54로 나타낸다. 분석 검출기는 예를 들면, 미국 특허 제 4,112,737호에 나타낸 검출기의 일반적인 구조를 취한다. 검출기 박막은, 추출 공동 측의 각각의 검출 가스 샘플 내의 소정의 타겟 가스(예를 들면, 수소, 아세틸렌 등)가 박막을 통해 검출기 측 내로 확산되도록 허용하는 어떤 적합한 재료로 각각 형성된다.
분석 검출기(12,13,14,15,16)는, 도면 부호 60으로 나타낸 전자 판독 시스템에 어떤 공지된 방식(점선으로 나타냄)으로도 결합되며, 상기 전자 판독 시스템은, 가스 성분 판독을 제공하기 위해 검출기로부터 제공된 신호를 해석하며, 특정 가스 성분의 존재에 대한 시각 판독을 제공하기 위한 디지털 표시 요소를 또한 포함한다.
가스 추출 박막은 유전성 유체 내의 가스를 박막을 통해 가스 추출 공동 또는 챔버 내로 통과시키도록 허용하는 상술한 어떤 재료로 형성된다.
가스 제거 박막은 추출 공동 내의 가스 샘플 내의 소정의 무관한 가스를 박막을 통해 제거 챔버 내로 통과시키도록 허용하는 상술한 재료로 형성된다.
검출기 박막은 검출 가스 샘플 내의 소정의 타겟 가스를 박막을 통해 어떤 적합한 가스 검출 기구와도 공지된 방식으로 상호 작용하는 검출 챔버 내로 통과시키도록 허용하는 상술한 재료로 형성된다; 검출기 박막은 타겟 가스에 첨가된 다른 가스가 또한 박막을 통해 통과되도록 형성될 수 있다.
도 2를 참조하면, 도 1에 나타낸 바와 같은 가스 측정 장치의 변형 실시예를 나타내며, 도면 부호 70으로 나타낸다. 동일한 요소에는 동일한 도면 부호를 사용한다. 도 2에 나타낸 장치(70)는 유전성 유체가 유전성 가스일 때 사용될 수 있으며, 유전성 가스로부터 가스를 초기에 분리하기 위한 가스 제거 수단 앞에 추출 박막이 없다는 점에서 도 1에 나타낸 장치(1)와는 다르다. 그 대신에, 장치(70)는 유전성 유체 순환 루프 또는 회로(72)를 구비하며, 여기서 유전성 유체(3a)가 변압기 하우징의 내부로부터 유체 연통 부재(21,22,23,24,25)를 지나 펌핑되며(도시되지 않은 펌핑 기구에 의해), 화살표 74 및 75 방향으로 변압기 하우징 내로 복귀된다; 유체 순환 루프의 예시가 기술된 미국 특허 제 5,271,263호를 참조하라.
상술한 바와 같이, 제거 박막(36a,37a,38a,39a,40a)은, 유전성 가스 내의 소정의 무관한 가스를 박막을 통해 제거 챔버 내로 통과시키도록 허용하는 각각의 재료로 각각 형성된다. 유사하게, 검출기 박막(46a,47a,48a,48a,49a,50a)은 또한, 소정의 타겟 가스를 포함하는 검출 가스 샘플을 유전성 가스로부터 박막을 통해 각각의 분석 검출기의 검출 측 내로 통과시키도록 허용하는 각각의 재료로 각각 형성된다.
도 3에 나타낸 장치는 추출 박막(7)과 가스 공동(11)을 갖는다는 점에서 도 1에 나타낸 장치와 유사하다. 그러나, 상기 장치는 하나의 분석 검출기(12)와, 공유 가스 연통 부재(21a)에 연결된 다수의 가스 제거 수단(두 개를 도면 부호 30 및 30b로 나타낸다)을 갖춘다; 다른 가스 제거 수단은 단지 점선으로 윤곽만 나타낸다. 가스 제거 수단(30,30b)은, 소정의 타겟 가스의 비율이 각각의 형태의 제거 가스에 대해 증가되도록 검출 샘플 가스 내의 다수의 무관한 가스의 함량을 감소시키기 위해 다른 가스에 침투되는 각각의 제거 박막(36,36b)을 각각 포함한다.
도 4는 본 발명에 따른 가스 검출기(12a)의 실시예를 개략적으로 나타낸다. 검출기는 상술한 전기 변압기 시스템(도 1 참조)의 하우징 벽(2)에 직접 연결된다. 검출기(12a)는 가스 침투성 추출 박막(7a)과, 가스 다공성 디스크(70){박막(7a)의 역학적 강성을 유지하기 위한} 및, 두 개의 가스 제거 박막(36c,36d)을 포함한다; 상기 요소들은 가스 공동 또는 챔버(80)를 형성하는 벽 요소(도면 부호 75로 나타낸)를 갖는 검출기 하우징 내에 배치된다. 가스 제거 박막(36c,36d)은 예를 들면, 검출 가스 공동(80) 내의 검출 가스 샘플로부터 수소 가스의 제거를 위해 제공된 재료로 형성될 수 있다. 나타낸 바와 같이, 벽 요소(75)는 가스 침투성 추출 박막(7a) 뿐만 아니라 두 개의 가스 제거 박막(36c,36d)을 구비한다. 검출기(12a)는 적합한 측정 장치(도시 않음)에 연결된 타겟 가스 어레이(81)를 구비한다. 도 1 내지 도 3에 나타낸 바와 같이, 추출 박막(7a)은 검출기 박막의 기능을 수행할 수 있다. 검출기 배치는 예를 들면, 타겟 가스로서 아세틸렌을 측정하기 위해 간섭 가스로서 수소 가스를 제거하도록 사용될 수 있다.
도 5는 도 1에 나타낸 바와 같은 하우징 벽(2)에 직접 연결된 가스 측정 장치의 다른 배치를 나타낸다. 가스 측정 장치는 도 3에 나타낸 것과 유사하다. 예를 들면, 장치는 변압기 측(8c) 및 공동 측(9c)을 갖는 추출 박막(7c)을 갖춘다. 그러나, 장치는 단지 하나의 가스 추출 수단(12)을 가지며, 적합한 가스 펌프(84)와, 샘플 가스가 화살표 86 방향으로 가스 공동(11c)으로부터 가스 추출 수단(90)과 하나의 가스 분석 검출기(12)로 순환되며 가스 공동(11c)으로 복귀되는 가스 루프 회로를 갖춘다. 추출 수단(90)은 제거 박막(92)을 갖는다. 펌프의 사용은 비교적 큰 추출 공동(11c)의 사용을 허용한다.
도 6, 도 7a, 도 8a 및, 도 8b에는 본 발명에 따른 가스 검출 장치의 다른 실시예를 위한 두 부분 하우징을 개략적으로 나타낸다. 하우징은 가스 추출기 부분(90) 및 가스 제거기 부분(95)을 갖는다. 가스 추출기 부분(90)은 가스 침투성 추출 박막(97)을 갖는다. 가스 제거기 부분(95)은 가스 침투성 제거 박막(98)을 갖는다. 박막(97,98)은 예를 들면, 접착제에 의해 어떤 적합한 방식으로도 적소에 유지된다. 도 6에 나타낸 바와 같이, 제거기 부분(95)은 가스 챔버(100)를 형성하기 위해 추출기 부분(90) 내에 미끄럼 가능하게 고정되도록 크기가 정해진다.
제거기 부분(95)은 6 개의 나사산 볼트(도시 않음)에 의해 추출기 부분 내의 적소에 유지된다. 도 7b는 화살표 102 방향으로 취한 제거기 부분(95)의 도면이며, 도 8b는 화살표 104 방향으로 취한 추출기 부분(90)의 도면이다. 도 7b를 참조하면, 제거기 부분(95)은 상술한 볼트의 스템을 수용하도록 크기가 정해진 6 개의 볼트 개구를 갖춘다; 개구 중 하나를 도면 부호 105로 나타낸다. 추출기 부분(90)은 6 개의 대응 나사산 볼트 개구를 갖추며, 그 중 하나를 도면 부호 106으로 나타낸다(도 8a에는 도면 부호 106a로 나타낸다). 각각의 하우징 부분의 볼트 개구는 서로 정렬되도록 배치되므로, 두 부분을 함께 결합시키기 위해 볼트는 제거 부분의 볼트 개구를 관통하여 추출기 부분의 대응 볼트 개구 내로 나사 결합된다.
도시하지 않았지만, 적합한 환형 또는 링 개스킷이 두 개의 하우징 부분 사이의 기밀 결합을 촉진시키기 위해 두 개의 하우징 부분 사이에 제공된다; 개스킷은 두 개의 하우징 부분의 볼트 개구와 정렬될 수 있는 6 개의 개구를 갖춘다.
재차 도 6을 참조하면, 추출기 부분은 테이퍼진 외부 나사산 돌출부(110)을 갖춘다; 돌출부(110)은 검출기 하우징이 전기 시스템의 내부 나사산 접근 개구에 결합(즉, 나사 결합)되도록 사용된다. 도 7a 및 도 7b에 나타낸 바와 같이, 제거기 부분은 적합한 가스 센서를 수용하기 위한 개구(115)를 갖춘다; 도 6에는 가스 센서(120)가 개구(115) 내에 결합된(예를 들면 가압 고정된) 상태로서 도시되어 있다.
Claims (20)
- 유체로부터 타겟 가스를 포함하는 샘플 가스 혼합물을 추출하는 가스 추출 요소와,상기 타겟 가스의 존재를 검출하는 검출 요소를 구비하는, 전기 시스템의 내부에 존재하는 유전성 유체 내의 가스 검출 장치에 있어서,상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 가스 제거 요소를 구비하며,상기 가스 제거 요소는 가스 침투성 요소를 포함하며, 상기 가스 침투성 요소를 통해 상기 소정의 가스 성분이 선택적으로 통과 가능한 가스 검출 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 소정의 가스 성분은 수소 가스를 포함하는 가스 검출 장치.
- 가스 챔버를 형성하며 제 1 가스 침투성 요소를 포함하는 벽 요소와,상기 제 1 가스 침투성 요소를 포함하는 가스 추출 요소와,타겟 가스의 존재를 검출하는 검출 요소를 구비하며,상기 제 1 가스 침투성 요소를 통해 타겟 가스를 구비하는 가스 혼합물은 상기 유체로부터 상기 가스 챔버 내로 통과되는, 전기 시스템의 내부에 존재하는 유전성 유체 내의 가스 검출 장치에 있어서,상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 가스 제거 요소를 구비하며,상기 가스 제거 요소는 제 2 가스 침투성 요소를 구비하며, 상기 제 2 가스 침투성 요소를 통해 상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분이 선택적으로 통과 가능한 가스 검출 장치.
- 제 3 항에 있어서, 상기 벽 요소는 상기 제 2 가스 침투성 요소를 포함하며, 상기 검출 요소는 상기 가스 챔버 내의 상기 타겟 가스의 존재를 검출하기 위해 배치되는 가스 검출 장치.
- 제 3 항에 있어서, 상기 소정의 가스 성분은 수소 가스를 포함하는 가스 검출 장치.
- 제 5 항에 있어서, 상기 타겟 가스 요소는 아세틸렌 가스를 포함하는 가스 검출 장치.
- 제 4 항에 있어서, 상기 소정의 가스 성분은 수소 가스를 포함하는 가스 검출 장치.
- 제 7 항에 있어서, 상기 타겟 가스 요소는 아세틸렌 가스를 포함하는 가스 검출 장치.
- 유체로부터 하나 이상의 타겟 가스를 포함하는 샘플 가스 혼합물을 추출하는 가스 추출 요소와,상기 하나 이상의 타겟 가스의 존재를 측정하는 분석 요소를 구비하는, 전기 시스템의 내부에 존재하는 유전성 유체 내의 하나 이상의 가스 측정 장치에 있어서,상기 샘플 가스 혼합물의 하나 이상의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 가스 제거 요소를 구비하며,상기 가스 제거 요소는 하나 이상의 가스 침투성 요소를 구비하며, 상기 가스 침투성 요소를 통해 상기 하나 이상의 각각의 소정의 가스 성분이 선택적으로 통과 가능한 가스 측정 장치.
- 유체로부터 타겟 가스를 포함하는 샘플 가스 혼합물을 추출하는 단계와,상기 타겟 가스의 존재를 검출하는 단계를 포함하는, 전기 시스템의 내부에 존재하는 유전성 유체 내의 가스 검출 방법에 있어서,상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 단계를 포함하는 가스 검출 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 소정의 가스 성분은, 상기 샘플 가스 혼합물 내의 비율에 대해 증가되는 상기 소정의 가스 성분에 대한 상기 타겟 가스의 비율을 가지며, 검출 샘플 가스 혼합물 내의 타겟 가스의 존재를 검출하는 검출 샘플 가스를 얻기 위해 상기 샘플 가스 혼합물로부터 선택적으로 제거되는 가스 검출 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 소정의 가스 성분은 상기 타겟 가스 요소인 가스 검출 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 소정의 가스 성분은 수소 가스를 포함하는 가스 검출 방법.
- 제 13 항에 있어서, 상기 타겟 가스 요소는 아세틸렌 가스를 포함하는 가스 검출 방법.
- 유체로부터 타겟 가스를 포함하는 샘플 가스 혼합물을 추출하는 가스 추출 요소와,상기 타겟 가스의 존재를 검출하는 검출 요소를 구비하는, 유체 내의 가스 검출 장치에 있어서,상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 가스 제거 요소를 구비하며,상기 가스 제거 요소는 가스 침투성 요소를 구비하며, 상기 가스 침투성 요소를 통해 상기 소정의 가스 성분이 선택적으로 통과 가능한 가스 검출 장치.
- 가스 챔버를 형성하며 제 1 가스 침투성 요소를 구비하는 벽 요소와,상기 제 1 가스 침투성 요소를 구비하는 가스 추출 요소와,타겟 가스의 존재를 검출하는 검출 요소를 구비하며,상기 제 1 가스 침투성 요소를 통해 상기 타겟 가스를 구비하는 가스 혼합물이 상기 유체로부터 상기 가스 챔버 내로 통과되는, 유체 내의 가스 검출 장치에 있어서,샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 가스 제거 요소를 구비하며,상기 가스 제거 요소는 제 2 가스 침투성 요소를 포함하며, 상기 제 2 가스 침투성 요소를 통해 상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분이 선택적으로 통과 가능한 가스 검출 장치.
- 제 16 항에 있어서, 상기 벽 요소는 상기 제 2 가스 침투성 요소를 포함하며, 상기 검출 요소는 상기 가스 챔버 내의 상기 타겟 가스의 존재를 검출하기 위해 배치되는 가스 검출 장치.
- 유체로부터 하나 이상의 타겟 가스를 포함하는 샘플 가스 혼합물을 추출하는 가스 추출 요소와,상기 하나 이상의 타겟 가스의 존재를 측정하는 분석 요소를 구비하는, 유체 내의 하나 이상의 가스 측정 장치에 있어서,상기 샘플 가스 혼합물의 하나 이상의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 가스 제거 요소를 구비하며,상기 가스 제거 요소는 하나 이상의 가스 침투성 요소를 구비하며, 상기 가스 침투성 요소를 통해 상기 하나 이상의 각각의 가스 성분이 선택적으로 통과 가능한 가스 측정 장치.
- 유체로부터 타겟 가스를 포함하는 샘플 가스 혼합물을 추출하는 단계와,상기 타겟 가스의 존재를 검출하는 단계를 포함하는, 유체 내의 가스 검출 방법에 있어서,상기 샘플 가스 혼합물의 소정의 가스 성분을 선택적으로 제거하는 단계를 포함하는 가스 검출 방법.
- 제 19 항에 있어서, 상기 소정의 가스 성분은, 상기 샘플 가스 혼합물 내의 비율에 대해 증가되는 상기 소정의 가스 성분에 대한 상기 타겟 가스의 비율을 가지며, 검출 샘플 가스 혼합물 내의 타겟 가스의 존재를 검출하는 검출 샘플 가스를 얻기 위해 상기 샘플 가스 혼합물로부터 선택적으로 제거되는 가스 검출 방법.
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