KR20010004329A - Method for forming front panel of pdp by using press forming - Google Patents

Method for forming front panel of pdp by using press forming Download PDF

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Abstract

PURPOSE: A method for forming a front panel of a plasma display panel using a press forming is provided to increase an area of a discharge electrode. CONSTITUTION: A method for forming a front panel of a plasma display panel comprises the following steps. The first step is to generate a plastic deformation through a heat treatment of a glass substrate under a temperature higher than a deformation point. The temperature of the heat treatment is different according to the kind of substrates, such as a soda lime glass or a high deformation point glass. The second step is to form a convex and concave portions on a surface of the glass substrate by performing a press forming of the glass substrate with a metal pattern. The third step is to form an indium tin oxide(ITO) film with the convex and concave portions and form a resist pattern using a liquid crystal resist on the ITO film. The fourth step is to form an ITO electrode(11A) by selectively etching the ITO film by the use of the resist pattern as an etching mask, and remove the resist pattern. The fifth step is to form a bus electrode(13) on the ITO electrode(11A). So, a surface area of the ITO electrode(11A) contributing to a light emission is increased.

Description

프레스 성형을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널 전면판 형성 방법{METHOD FOR FORMING FRONT PANEL OF PDP BY USING PRESS FORMING}Method for Forming Plasma Display Panel Front Panel Using Press Forming {METHOD FOR FORMING FRONT PANEL OF PDP BY USING PRESS FORMING}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법에 관한 것으로, 특히 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a plasma display panel, and more particularly, to a method for forming a front plate of a plasma display panel.

플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, 이하 PDP라 함)은 기체 방전시에 발생하는 플라즈마로부터 나오는 빛을 이용하여 문자 또는 그래픽을 표시하는 소자이다. PDP는 현재 활발히 연구되고 있는 LCD(liquid crystal display), FED(field emission display), ELD(electroluminescence display)와 같은 여러 평판형 디스플레이 중에서도 대형화에 가장 적합한 장점을 가지고 있다.Plasma display panels (hereinafter referred to as PDPs) are devices that display characters or graphics using light emitted from plasma generated during gas discharge. PDP has the advantage of being most suitable for large-scale display among various flat panel displays such as liquid crystal display (LCD), field emission display (FED), and electroluminescence display (ELD) which are being actively studied.

즉, 플라즈마 디스플레이 패널은 40 " 이상의 대형화화가 가능하고, 방전에서 형성되는 자외선이 형광막을 자극하여 가시광을 발광시키는 포토루미네슨스(photoluminescence) 메카니즘을 이용하기 때문에 CRT 수준의 칼라화가 가능하며, 자기 발광형 표시소자(self-emissive display)로서 160。 이상의 넓은 시야각을 갖는 등 다른 평판 소자에서 찾아볼 수 없는 고유한 장점을 많이 가지고 있다. 이에 따라 차세대 고선명 벽걸이 TV, TV와 PC의 기능이 복합화된 멀티미디어(multimedia)용 대형 표시장치로서 유력시되고 있다.That is, the plasma display panel can be enlarged to 40 "or more, and CRT level colorization is possible because the ultraviolet light generated by the discharge uses a photoluminescence mechanism that emits visible light by stimulating the fluorescent film. As a self-emissive display, it has many unique advantages not found in other flat panel devices, such as a wide viewing angle of more than 160 °. It is considered as a large display device for multimedia.

PDP는 두께가 3mm 정도되는 2장의 유리기판을 사용하여 각각의 기판 위에 적당한 전극과 형광체를 도포하고, 두 기판의 간격을 약 0.1mm 내지 0.2mm로 유지하면서 그 사이의 공간에 플라즈마를 형성하는 방법을 채택하고 있기 때문에 평판으로서 대형화가 가능하다. 또한, PDP에서 가스 방전은 전극간에 전압이 인가되더라도 방전 개시 전압 이하의 인가전압에 대해서는 방전이 일어나지 않는 강한 비선형성을 갖고, 대형 디스플레이의 구동에 필수적인 기능인 기억기능(memory function)이 있어 초대형의 패널에 대해서도 휘도의 저하없이 고화질의 화상을 표현할 수 있다.PDP uses two glass substrates with a thickness of about 3 mm to apply an appropriate electrode and phosphor on each substrate, and forms plasma in the space therebetween while maintaining the distance between the two substrates at about 0.1 mm to 0.2 mm. Since it is adopted, it can be enlarged as a flat plate. In addition, in the PDP, the gas discharge has a strong non-linearity in which discharge does not occur even when a voltage is applied between electrodes, and a super large panel having a memory function that is essential for driving a large display. Even in this case, a high quality image can be expressed without deteriorating the luminance.

플라즈마 디스플레이 패널은 플라즈마를 발생하기 위한 전극이 플라즈마에 직접 노출되어 전도전류(conduction current)가 전극을 통해 직접 흐르는 직류형(DC형)과 전극이 유전체로 덮여 있어 직접 노출되지 않아 변위전류(Displacement Current)가 흐르는 교류형(AC형)으로 구분된다.Plasma display panels have a direct current (DC type) in which the electrode for generating plasma is directly exposed to the plasma so that conduction current flows directly through the electrode, and the electrode is covered with a dielectric and is not directly exposed. ) Is divided into the alternating current type (AC type).

AC형 PDP의 전면판은 평행한 한쌍의 투명전극, 전도율을 높이기 위해 투명전극 상에 형성된 버스전극(bus electrode), 유전층 등으로 이루어진다. 배면판은 버스전극과 수직한 어드레스 전극, 유전층, 유전층 상에 형성된 격벽, 격벽 사이에 형성된 형광층 등으로 이루어진다. 이러한 구조의 전면판과 배면판을 봉착, 배기하여 PDP를 제조한다.The front plate of the AC type PDP includes a pair of parallel transparent electrodes, a bus electrode formed on the transparent electrode to increase conductivity, a dielectric layer, and the like. The back plate consists of an address electrode perpendicular to the bus electrode, a dielectric layer, a partition formed on the dielectric layer, a fluorescent layer formed between the partition walls, and the like. The front plate and the back plate of such a structure are sealed and exhausted, and a PDP is manufactured.

PDP의 발광효율을 높이기 위하여 ITO(Indium Tin Oxide) 투명전극을 사용하기 시작하면서 방전에 기여하는 투명전극의 구조를 여러 형태로 바꾸어가면서 보다 높은 효율의 PDP를 개발하기 위한 노력이 진행 중이다. 예를 들어, 직선 형태의 ITO 전극에 방전이 이루어지는 방향으로 돌기형태의 전극을 부가하여 방전효율을 증가시키는 기술이 개발된 바 있다. 또한, ITO 전극 면적과 전극 사이의 간격(gap)을 크게 하여 방전면적을 증가시키고 인접 셀과의 크로스 토크(cross talk)를 감소시키려는 방향으로 개발이 진행되고 있다.In order to increase the luminous efficiency of the PDP, ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrodes are being used, and efforts are being made to develop higher efficiency PDPs by changing the structure of the transparent electrodes that contribute to the discharge in various forms. For example, a technique for increasing the discharge efficiency has been developed by adding a protruding electrode in a direction in which a discharge is made to a linear ITO electrode. In addition, development is being conducted in a direction to increase the discharge area by increasing the gap between the ITO electrode area and the electrode and to reduce cross talk with adjacent cells.

하지만, 종래 개발되어 있는 ITO 전극의 경우 모두 2차원적으로 평면적 구조로 설계되어 있기 때문에 방전에 기여하는 전극의 면적의 증대에 한계가 있다.However, all of the ITO electrodes developed in the related art have a planar structure in two dimensions, so there is a limit to the increase in the area of the electrode that contributes to the discharge.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 본 발명은 방전 전극의 면적을 보다 증가시킬 수 있는, 프레스 성형을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention devised to solve the above problems is to provide a method for forming a front plate of a plasma display panel using press molding, which can further increase the area of the discharge electrode.

도1a 내지 도1f는 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 공정 단면도.1A to 1F are cross-sectional views of a front plate forming process of a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

도2a 및 도2b는 각각 금형의 요철 형상에 따른 전면 기판 및 전극의 표면적 증가율을 설명하기 위한 설명도.2A and 2B are explanatory views for explaining the surface area increase rate of the front substrate and the electrode according to the uneven shape of the mold, respectively.

*도면의 주요부분에 대한 도면 부호의 설명** Description of reference numerals for the main parts of the drawings *

10: 유리기판 10A: 요철을 갖는 유리기판10: glass substrate 10A: glass substrate having irregularities

11: ITO 12: 액상 레지스트11: ITO 12: liquid resist

11A: ITO 전극 12: 버스전극11A: ITO electrode 12: bus electrode

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법에 있어서, 변형점 보다 높은 온도에서 유리 기판을 열처리하는 제1 단계; 및 상기 제1 단계의 열처리 온도 조건에서 그 표면에 요철을 갖는 금형으로 상기 유리 기판을 프레스 성형하여 상기 유리 기판 표면에 요철을 형성하는 제2 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a method for forming a front plate of a plasma display panel, comprising: a first step of heat-treating a glass substrate at a temperature higher than a strain point; And forming a concave-convex on the surface of the glass substrate by press molding the glass substrate with a mold having concavo-convexities on its surface under the heat treatment temperature condition of the first step. do.

상기 제2 단계 후, 상기 제2 단계에서 상기 유리 기판에 가해진 응력을 감소시키기 위한 열처리를 실시하는 제3 단계를 더 포함할 수 도 있다.After the second step, it may further include a third step of performing a heat treatment to reduce the stress applied to the glass substrate in the second step.

또한, 상기 제3 단계 후, 상기 유리 기판 상에 유리 기판 표면을 따라 요철을 갖는 투명층을 형성하는 제4 단계; 및 상기 투명층을 패터닝하여 투명전극을 형성하는 제5 단계를 더 포함할 수도 있다.Further, after the third step, a fourth step of forming a transparent layer having irregularities along the surface of the glass substrate on the glass substrate; And a fifth step of forming the transparent electrode by patterning the transparent layer.

본 발명은 PDP 전면판 형성에 있어서 프레스 성형을 이용하여 그 표면에 요철을 갖는 전면 기판을 형성하고, 전면 기판의 표면을 따라 요철을 갖는 ITO 전극을 형성함으로써 발광에 기여하는 ITO 전극의 표면적을 증가시키는데 그 특징이 있다.The present invention forms a front substrate having irregularities on its surface by using press molding in forming a PDP front plate, and increases the surface area of the ITO electrode which contributes to light emission by forming an ITO electrode having irregularities along the surface of the front substrate. It has its features.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 PDP 전면판 형성 방법을 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of forming a PDP front plate according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도1a에 도시한 바와 같이 변형점(왜점) 이상의 균일한 온도로 유리 기판(10)을 열처리하여 플라스틱 변형(plastic deformation)이 일어나도록 한다. 이때 온도는 유리 기판(10)의 온도에 따라 정해진다. 예로서, 소다라임 글래스(soda lime glass)와 고변형점 글래스 등 기판의 종류에 따라 열처리 온도를 설정한다.First, as shown in FIG. 1A, the glass substrate 10 is heat-treated at a uniform temperature equal to or more than the strain point (distortion point) so that plastic deformation occurs. At this time, the temperature is determined according to the temperature of the glass substrate 10. For example, the heat treatment temperature is set according to the type of the substrate such as soda lime glass and high strain point glass.

도1a에서 도면부호 '20'은 히터, '21'은 열원(heating element)을 나타낸다.In FIG. 1A, reference numeral 20 denotes a heater and 21 denotes a heating element.

다음으로, 도1b에 도시한 바와 같이 요철 형상이 정의된 금형(30)을 마련하고, 유리 기판의 열간 성형이 이루어지는 변형점 이상의 온도로 유리 기판(10)을 유지하면서 프레스 성형을 실시한다. 소다라임 글래스를 이용하는 경우는 600 ℃ 이상의 온도에서 프레스 성형을 실시한다. 한편, 금형(30)은 유리 기판(10)과의 접착도가 낮아 프레스 가공 후 유리 기판(10)으로부터 쉽게 분리될 수 있는 스테인레스(stainless)계 금형을 사용한다.Next, as shown in FIG. 1B, the metal mold | die 30 in which the uneven | corrugated shape was defined is provided, and press molding is performed, maintaining the glass substrate 10 at the temperature more than the strain point which hot forming of a glass substrate is performed. When using soda-lime glass, press molding is performed at the temperature of 600 degreeC or more. On the other hand, the mold 30 uses a stainless-based mold that can be easily separated from the glass substrate 10 after press work because the adhesion with the glass substrate 10 is low.

이와 같은 프레스 가공에 따라 표면에 요철을 갖는 유리 기판(10A)을 형성한 후, 프레스 성형에서 발생한 잔류 응력으로 인해 이후의 공정에서 유리 기판(10A)의 균열 등이 발생하는 것을 방지하기 위해서 저온에서 장시간 열처리하여 경화된 유리 기판의 구조를 연하게 풀어준다.After forming the glass substrate 10A having irregularities on the surface according to the press working, in order to prevent cracking of the glass substrate 10A in the subsequent process due to the residual stress generated in the press molding, The heat treatment is performed for a long time to soften the structure of the cured glass substrate.

이와 같은 과정에 따라 도1c에 도시한 바와 같이 요철을 갖는 유리 기판(10A)이 형성된다.As a result of this process, as shown in FIG. 1C, a glass substrate 10A having irregularities is formed.

다음으로, 도1d에 도시한 바와 같이 요철을 갖는 유리 기판(10A) 상에 ITO막(11)을 형성하여 그 역시 요철을 갖는 ITO막(11)을 형성하고, ITO막(11) 상에 액상 레지스트를 이용한 레지스트 패턴(12)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 1D, the ITO film 11 is formed on the glass substrate 10A having the unevenness, thereby forming the ITO film 11 having the unevenness, and the liquid phase is formed on the ITO film 11. The resist pattern 12 using the resist is formed.

다음으로, 도1e에 도시한 바와 같이 레지스트 패턴을 식각마스크로 ITO막(11)을 선택적으로 식각하여 ITO전극(11A)을 형성하고, 레지스트 패턴을 제거한다.Next, as shown in FIG. 1E, the ITO film 11 is selectively etched using the resist pattern as an etch mask to form the ITO electrode 11A, and the resist pattern is removed.

다음으로, 도1f에 도시한 바와 같이 ITO 전극(11A) 상에 버스전극(13)을 형성한다.Next, as shown in Fig. 1F, a bus electrode 13 is formed on the ITO electrode 11A.

이후, 유전체 및 MgO 보호막 등을 형성한다.Thereafter, a dielectric, an MgO protective film, and the like are formed.

전술한 본 발명의 일실시예에서 금형(30)은 도1b에 도시한 바와 같이 연속적인 반구 형상을 갖거나, 또는 도2a와 같이 유리기판에 형성될 수 있도록 사인파(sine wave) 형태의 돋을새김(embossing)을 가질 수도 있으며, 혹은 톱니 형상의 요철을 가질 수 있다.In the above-described embodiment of the present invention, the mold 30 has a continuous hemispherical shape as shown in FIG. 1B, or is embossed in the form of a sine wave so as to be formed on a glass substrate as shown in FIG. 2A. It may have embossing, or it may have serrated irregularities.

도2a 및 도2b는 각각 금형의 요철 형상에 따른 전면 기판 및 전극의 표면적 증가율을 설명하기 위한 설명도이다.2A and 2B are explanatory views for explaining the surface area increase rates of the front substrate and the electrode according to the uneven shape of the mold, respectively.

도2a는 사인파 형상의 요철을 갖는 금형(31)을 사용하는 경우의 표면 증가율을 설명하기 위한 것으로, 요철이 없을 경우의 직선길이'a'는 사인파 형상의 요철 형성에 따라 'L'의 길이로 증가하게 된다. 사인파 형상의 요철을 반지름 r인 원의 원주, 중심각(φ)이 90 °라고 가정할 때 도2a와 같은 구조에서 요철길이'L'은 L = 4 ×rφ 이므로 θ가 45 °일 경우 L=1.1105a가 되어, 이 경우 ITO 전극의 면적은 프레스로 성형하기 전 보다 약 10 % 증가함을 알 수 있다.FIG. 2A illustrates the surface growth rate when the mold 31 having the sinusoidal irregularities is used. The straight length 'a' in the absence of the irregularities is the length of 'L' in accordance with the formation of the sinusoidal irregularities. Will increase. Assuming that the sine wave irregularities are the circumference of the circle having a radius r and the center angle (φ) is 90 °, in the structure as shown in FIG. In this case, it can be seen that in this case, the area of the ITO electrode is increased by about 10% than before forming by pressing.

도2b는 톱니 형상의 요철을 갖는 금형(32)을 사용하는 경우의 표면 증가율을 설명하기 위한 것으로, 요철이 없을 경우의 직선길이'a'에서 톱니 형상의 요철 형성에 따라 'L'의 길이로 증가하게 된다. 도2b와 같은 구조에서 θ가 45 °일 경우 L=1.414a가 되어, 이 경우 ITO 전극의 면적은 프레스로 성형하기 전 보다 약 40 % 증가할 수 있다.Figure 2b is for explaining the surface increase rate in the case of using a mold 32 having a tooth-shaped unevenness, the length of "L" in accordance with the formation of the sawtooth unevenness in the straight length 'a' in the absence of unevenness Will increase. In the structure as shown in FIG. 2B, when θ is 45 °, L = 1.414a, and in this case, the area of the ITO electrode may be increased by about 40% than before forming by pressing.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes can be made in the art without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those of ordinary knowledge.

상기와 같이 이루어지는 본 발명은 요철이 있는 금형으로 프레스 가공하여 그 표면에 요철을 갖는 전면 기판을 형성하고, 전면 기판의 표면을 따라 그 역시 요철을 갖는 ITO 전극을 형성함으로써 전면 기판의 면적과 방전 특성을 변화시킬 수 있다.The present invention made as described above is press-processed into a mold having irregularities to form a front substrate having irregularities on the surface thereof, and an ITO electrode having irregularities along the surface of the front substrate to form an area and discharge characteristics of the front substrate. Can change.

Claims (6)

플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법에 있어서,In the method of forming the front plate of the plasma display panel, 변형점 보다 높은 온도에서 유리 기판을 열처리하는 제1 단계; 및A first step of heat-treating the glass substrate at a temperature higher than the strain point; And 상기 제1 단계의 열처리 온도 조건에서 그 표면에 요철을 갖는 금형으로 상기 유리 기판을 프레스 성형하여 상기 유리 기판 표면에 요철을 형성하는 제2 단계A second step of forming irregularities on the surface of the glass substrate by press molding the glass substrate with a mold having irregularities on the surface thereof under the heat treatment temperature condition of the first step; 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법.Method for forming a front plate of the plasma display panel comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2 단계 후,After the second step, 상기 제2 단계에서 상기 유리 기판에 가해진 응력을 감소시키기 위한 열처리를 실시하는 제3 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법.And a third step of performing a heat treatment to reduce the stress applied to the glass substrate in the second step. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제3 단계 후,After the third step, 상기 유리 기판 상에 유리 기판 표면을 따라 요철을 갖는 투명층을 형성하는 제4 단계; 및A fourth step of forming a transparent layer having irregularities along the surface of the glass substrate on the glass substrate; And 상기 투명층을 패터닝하여 투명전극을 형성하는 제5 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법.And forming a transparent electrode by patterning the transparent layer. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 투명전극 상에 버스전극을 형성하는 제6 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법.And a sixth step of forming a bus electrode on the transparent electrode. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 금형은,The mold is 반구, 사인파 또는 톱니 형상의 요철을 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법.A method of forming a front plate of a plasma display panel, characterized by having hemispherical, sinusoidal, or serrated irregularities. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 투명전극을 ITO(indium tin oxide)로 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 형성 방법.And forming the transparent electrode from indium tin oxide (ITO).
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