KR20000060942A - Device for the Inner Surface Treatment of a Cylinder by Dynamic Plasma Diffusion - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A device of treating the surface of an inner wall of pipe by the diffusion of a dynamic plasma is provided to treat uniformly the surface of an inner wall of a cylinder shaped pipe and to control the degree of surface treatment by using the dynamic characteristic of a plasma. CONSTITUTION: A device of treating the surface of an inner wall of pipe by the diffusion of a dynamic plasma comprises : a central electrode(c) of the same axle ; a current introduction electrode(a) to form a circular plate shaped tip ; a circular plate shaped pipe(s) to be contacted with a circular plate shaped current introduction electrode(a) and to form a vacuum tool and a part of an electrode ; an electrode for revolving current(b) to be contacted with one side of a circular plate shaped pipe(s) and to be connected with a central electrode(c).

Description

동적 플라즈마의 확산에 의한 관내벽 표면 처리 장치{Device for the Inner Surface Treatment of a Cylinder by Dynamic Plasma Diffusion}Device for the Inner Surface Treatment of a Cylinder by Dynamic Plasma Diffusion}

본 발명은 원통형 관내벽의 표면 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 원자력 계통 및 일반 산업용의 원통형 배관 또는 기계요소나 발사기류의 군수용 장비에서 총열, 포신, 발사관 같은 원통형 관 내벽을 플라즈마를 이용한 박막성형 등의 표면 처리시 표면 처리 정도가 조정가능하며, 내경에 비하여 길이가 긴 원통형 관에서 균질한 표면처리 및 고속의 박막성형을 할 수 있으며, 표면 처리층에 따라 적합한 작동기체나 중앙 전극의 재료를 선택할 수 있으며, 표층에서의 입자의 확산속도나 상변이 및 화합물층 조성 등의 조정이 동시에 처리 되도록 함으로써 양질의 표면처리를 우수한 공정성과 생산성으로 실현할 수 있도록 한 동적 플라즈마의 확산에 의한 관내벽 표면 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a surface treatment apparatus of a cylindrical inner wall, and more particularly, a thin film using plasma to the inner wall of a cylindrical tube such as a barrel, barrel, and a launch tube in a cylindrical pipe or a military equipment for a mechanical element or a launcher of a nuclear power system and a general industry. The degree of surface treatment can be adjusted during surface treatment such as molding, and it is possible to perform homogeneous surface treatment and high speed thin film molding in cylindrical tube with longer length than inner diameter. Inner wall surface treatment by the diffusion of dynamic plasma which enables high quality surface treatment to be realized with excellent processability and productivity by allowing simultaneous adjustment of the diffusion rate, phase change and compound layer composition of the surface layer. Relates to a device.

일반적으로, 이온화된 기체 상태인 플라즈마(plasma)는 중성 기체의 경우 가까운 두 입자간의 충돌로 서로간의 영향을 받는 것과는 달리 멀리 떨어진 입자간에도 쿨롱힘(long ranged coluomb force)으로 서로 영향을 주고 받아 집단적 행동(collective behavior)을 하며 양전하 및 음전하가 거의 같은 밀도로 균형을 이루어 전체적으로는 준준성(quasi-neutral)의 성질을 가진다. 이러한 플라즈마는 직류 아아크 방전이 최초로 시도된 후, 현재는 광원 및 디스플레이 소자로의 응용, 초고집적 전자 소자의 제작, 신물질의 합성, 기능성 박막 제조 등의 분야에서 광범위하게 활용되고 있다.In general, in the case of a neutral gas, plasma, which is in an ionized gas state, is influenced by a long ranged coluomb force even in distant particles, unlike a neutral gas, which is influenced by each other. (collective behavior), the positive and negative charge is balanced to about the same density, the overall quasi-neutral properties. Since plasma arc discharge was first attempted, such plasma has been widely used in applications such as light sources and display devices, fabrication of ultra-high integration electronic devices, synthesis of new materials, and production of functional thin films.

한편, 진공증착이나 전기화학적 박막성형을 대체하여, 근래에 원통형 관의 내벽을 고품질로 표면처리 하는 방법으로 도 1에 도시한 바와 같은 글로우 방전 플라즈마를 이용하여 원통형 관 내벽을 표면 처리하는 장치가 있다.On the other hand, there is an apparatus for surface treatment of the inner wall of the cylindrical tube using a glow discharge plasma as shown in FIG. .

이러한 원통형 관 내벽의 표면을 처리하기 위한 장치는 진공용기(v)내에 관(s)과 중앙전극(c)을 동심으로 배열하고 관(s)과 중앙전극(c)에 직류 또는 고주파 전원을 인가하는 PECVD나 스퍼터링법을 이용하고 있으나, 이 방법으로는 관의 길이가 길수록 균일방전이 어려워질 뿐 아니라 압력이 낮아 표면처리 속도 또한 만족스럽지 못한 단점이 있다.The apparatus for treating the surface of the inner wall of the cylindrical tube is arranged concentrically the tube (s) and the center electrode (c) in the vacuum vessel (v) and apply direct current or high frequency power to the tube (s) and the center electrode (c). Although PECVD or sputtering is used, the longer the length of the tube, the more difficult the uniform discharge is, and the lower the pressure, the lower the surface treatment rate is not satisfactory.

이러한 단점을 극복하기 위해, 도 2에 도시한 바와 같은 동축 플라즈마 총(g)으로 표면처리 하고자 하는 원통형 관(s) 내에 플라즈마를 입사하여 내벽을 표면 처리하는 장치가 개발되었는데, 전극 삽입이 곤란할 정도로 구경이 매우 작은 비도전성 관에 적용하기에 유용한 점이 있으나, 동축 플라즈마 총(g)의 출구속도로 관(s)내에 입사된 플라즈마가 관(s)의 종축을 따라 진행하면서 감쇠되기 때문에 관의 처음과 끝부분의 표면처리 정도가 달라지는데 관(s)의 길이가 길수록 그 편차가 심해지며 더우기 관의 재질이 도체일 경우에는 적용하기 어렵다. 또한, 플라즈마 발생부와 표면처리영역이 분리되고 이들이 별도의 진공용기(V)에 수납되므로 그 구조가 복잡해지고 그만큼 생산성이 낮아지게 되는 문제점을 갖고 있다.In order to overcome this disadvantage, an apparatus for surface treatment of inner walls by injecting plasma into a cylindrical tube (s) to be surface treated with a coaxial plasma gun (g) as shown in FIG. 2 has been developed. It is useful to apply to non-conducting tubes with very small apertures, but at the exit velocity of the coaxial plasma gun g, the plasma incident in the tube s is attenuated as it travels along the longitudinal axis of the tube s. The degree of surface treatment at the end and the end is different, but the longer the length of the tube (s), the more severe the deviation, moreover, if the material of the tube is difficult to apply. In addition, since the plasma generating unit and the surface treatment area are separated and they are housed in a separate vacuum vessel (V), the structure is complicated and the productivity is lowered.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 내경에 비하여 길이가 긴 원통형 관에서 균질한 표면처리 효과를 얻는데 유용하며, 길이 방향에 따른 표면 처리 정도를 조정하는 것도 외부에서 인가하는 자장의 세기/방향/공간분포와 함께 방전 펄스 전력을 변조함으로써 가능하도록 하고, 관의 내벽이 총열의 강선과 같은 나선형 구조를 갖는 등의 특이구조에도 외부인가 자장의 세기로 플라즈마의 회전속도를 조절하므로써 원하는 표면처리를 기할 수 있으며, 질화, 탄화, a-C 또는 TiN, TiAlN, TiC, 마그네타이트(Fe3O4), Ni-W, Ni-B, CrN 등 복합원소에 이르기까지 원하는 표면처리층에 따라 적합한 작동기체나 중앙전극의 재료를 선택할 수 있으며, 고밀도의 동적 플라즈마에 의한 빠른 표면처리 속도, 그리고 매우 짧은 시간동안 작용하는 표면 입사 에너지 밀도의 조절에 의한 모재의 변형없는 표층 가열로 확산속도나 필요시 ??상 등의 상변이 및 화합물층 조성 등의 조정이 동시에 처리 되도록 함으로써 우수한 공정성과 생산성으로 양질의 표면처리를 할 수 있도록 한 동적 플라즈마의 확산에 의한 관내벽 표면 처리 장치를 제공하는데 있다.An object of the present invention for solving the above problems is useful for obtaining a homogeneous surface treatment effect in a cylindrical tube with a length longer than the inner diameter, and adjusting the degree of surface treatment in the longitudinal direction is also applied to the strength of the magnetic field from the outside It is possible by modulating the discharge pulse power together with the / direction / spatial distribution, and the desired surface by controlling the rotational speed of the plasma by the intensity of the magnetic field external to the special structure such as the inner wall of the tube having the spiral structure like the barrel wire. It can be treated and the desired surface treatment to complex elements such as nitriding, carbonization, aC or T i N, T i AlN, T i C, magnetite (Fe 3 O 4 ), Ni-W, Ni-B, CrN Depending on the layer, it is possible to select a suitable material for the working gas or the center electrode, and to achieve a high surface treatment speed due to the high density of the dynamic plasma, and the surface mouth to act for a very short time Surface layer heating without deformation of the base material by controlling the energy density allows the diffusion rate, phase shifts such as phases, and compound layer composition to be simultaneously processed to ensure good surface treatment with excellent processability and productivity. An inner wall surface treatment apparatus by diffusion of a dynamic plasma is provided.

도 1은 종래의 글로우 방전 플라즈마를 이용하여 원통형 관 내벽을 표면처리 하는 장치의 개략적 구조를 보여주는 단면도.1 is a cross-sectional view showing a schematic structure of an apparatus for surface treatment of a cylindrical tube inner wall using a conventional glow discharge plasma.

도 2는 종래의 동축 플라즈마 총으로 표면처리 하고자 하는 원통형 관 내에 플라즈마를 입사하여 내벽을 표면처리하는 장치의 개략적 구조를 보여주는 단면도.2 is a cross-sectional view showing a schematic structure of an apparatus for surface treatment of an inner wall by injecting plasma into a cylindrical tube to be surface treated with a conventional coaxial plasma gun.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 동적 플라즈마의 확산을 이용하여 도전성 원통형 금속관 내벽을 표면처리 하는 경우에 사용하는 장치의 개략적 구조를 보여주는 단면도.3 is a cross-sectional view showing a schematic structure of an apparatus used when surface treatment of an inner wall of a conductive cylindrical metal tube using diffusion of dynamic plasma according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 동적 플라즈마의 확산을 이용하여 비도전성 원통형 관 내벽을 표면처리 하는 경우에 사용하는 장치의 개략적 구조를 보여주는 단면도.4 is a cross-sectional view showing a schematic structure of an apparatus used when surface treatment of an inner wall of a non-conductive cylindrical tube using diffusion of dynamic plasma according to another embodiment of the present invention.

도 5는 동적 플라즈마 층을 양방향으로 왕복 운동시킬 수 있도록 도 3의 장치를 변형한 장치의 개략적 구조를 보여주는 단면도.FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a schematic structure of a device in which the device of FIG. 3 is modified to reciprocate a dynamic plasma layer in both directions. FIG.

도 6은 도 5의 직류 펄스 모듈레이션 전원의 출력 타이밍도.6 is an output timing diagram of the DC pulse modulation power supply of FIG. 5;

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Description of the code | symbol about the principal part of drawing>

a: 전류도입전극 b: 전류회귀전극a: current introduction electrode b: current return electrode

c: 중앙전극 d: 절연체c: center electrode d: insulator

e: 작동기체 주입 노즐 g: 동축 플라즈마 총e: working gas injection nozzle g: coaxial plasma gun

m: 원통형 그물전극 p: 플라즈마m: cylindrical mesh electrode p: plasma

s: 내벽 표면처리를 하고자 하는 원통형 관s: cylindrical tube for surface treatment

V: 진공용기 u1,u2: 플라즈마 위치 측정 탐침V: vacuum vessel u1, u2: plasma position probe

D: 표면처리 하고자 하는 원통형 관의 내경D: inner diameter of cylindrical tube to be surface treated

L: 표면처리 하고자 하는 원통형 관의 길이L: length of cylindrical tube to be surface treated

i: 방전 전류 v: 플라즈마 디스크 이동속도i: discharge current v: plasma disk moving speed

Bs: 방전전류에 의한 자장 Be: 외부전자석에 의한 축방향 자장B s : magnetic field caused by discharge current B e : axial magnetic field caused by external electromagnet

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 「동적 플라즈마의 확산에 의한 원통형 관(s)의 내벽 표면 처리 장치」는 플라즈마 발생을 위한 동축의 중앙전극(c), 중앙전극(c) 주변으로 끝단부가 원판형으로 형성되고 원판형에 이어지는 원통형 형상을 갖는 전류도입전극(a)과, 일측이 전류도입전극(a)의 원통형 형상과 밀폐 접촉하여 진공용기 겸 전극의 일부로 형성되는 원통형 관(s)과, 원통형 관(s)의 타측에 밀폐 접촉되고 상기 원통형 관(s)내의 동축의 중앙전극(c)과 절연되어 연결되는 전류회귀용 전극(b)을 일체형으로 포함 구성한 것을 특징으로 한다.According to the present invention for achieving the above object, "inner wall surface treatment apparatus of cylindrical tube (s) by diffusion of dynamic plasma" is a coaxial center electrode (c) for plasma generation, around the center electrode (c) An end portion is formed in a disk shape and the current introduction electrode (a) having a cylindrical shape that continues to the disk shape, and a cylindrical tube (s) formed as part of the vacuum vessel and the electrode by one side in close contact with the cylindrical shape of the current introduction electrode (a) ) And a current return electrode (b) integrally in contact with the other side of the cylindrical tube (s) and insulated and connected to the coaxial central electrode (c) in the cylindrical tube (s).

또한, 동축의 중앙전극(c)과, 상기 중앙전극(c) 주변으로 끝단부가 원판형으로 형성되고 원판형에 이어지는 원통형 형상을 갖는 제 1 전류도입전극(a)과, 일측이 상기 전류도입전극(a)의 원통형 형상과 밀폐 접촉하여 진공용기 겸 전극의 일부로 형성되는 상기 원통형 관(s)과, 상기 원통형 관(s)의 타측에 밀폐 접촉되는 제 2 전류도입전극(a)을 일체형으로 구성하고, 상기 제 1, 2 전류도입전극(a)의 전계를 선택적으로 스위칭하여 발생된 동적 플라즈마 층(p)을 양방향 왕복 운동시키면서 상기 원통형 관(s) 내벽을 표면 처리하는 것을 특징으로 하여, 처리하고자 하는 관을 진공용기/전극 겸용으로 하고, 별도의 진공용기를 사용하지 않음으로써 장치를 단순화 하였으며, 처리하고자 하는 관이 유리나 플라스틱 같은 부도체 외에 강관과 같은 도체일 경우에도 작업성이 좋으며, 플라즈마 발생부와 플라즈마 표면처리부를 분리하지 않고 일체화 함으로써, 장치와 공정이 단순하면서도 지속적인 고밀도 플라즈마 에너지 공급을 실현하여 표면처리 속도와 정도를 높일 수 있으며, 장치의 구조적 특성상 표면처리층의 종류에 따라 중앙전극의 재질을 선택할 수 있으며, 또한 축방향 외부자장의 세기/방향/분포와 함께 펄스전력을 변조하여 특이 내벽구조에도 적용가능하며, 길이방향의 표면처리정도를 조정할 수 있다.In addition, a coaxial center electrode (c), a first current induction electrode (a) having a cylindrical shape with a distal end formed in a disc shape around the center electrode (c) and continuing in the disc shape, and one side of the current induction electrode The cylindrical tube s formed as part of the vacuum container and the electrode in hermetically contacting the cylindrical shape of (a) and the second current introduction electrode a in hermetically contacting the other side of the cylindrical tube s are integrally formed. And surface treating the inner wall of the cylindrical tube s while bidirectionally reciprocating the dynamic plasma layer p generated by selectively switching the electric fields of the first and second current introduction electrodes a. The tube is to be used as a vacuum container / electrode, and the device is simplified by not using a separate vacuum container, and even if the tube to be treated is a conductor such as a steel pipe in addition to an insulator such as glass or plastic. It is excellent in performance, and by integrating the plasma generating unit and the plasma surface treatment unit without separation, the device and the process are simple and realize the continuous high density plasma energy supply to increase the surface treatment speed and accuracy. Depending on the type, the material of the center electrode can be selected, and the pulse power can be modulated together with the strength / direction / distribution of the axial external magnetic field to be applied to the specific inner wall structure, and the degree of surface treatment in the longitudinal direction can be adjusted.

본 발명의 상술한 목적과 여러 가지 장점은 이 기술 분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 후술되는 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.The above objects and various advantages of the present invention will become more apparent from the preferred embodiments of the invention described below with reference to the accompanying drawings by those skilled in the art.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 동적 플라즈마의 확산을 이용하여 도전성 원통형 금속관 내벽을 표면처리 하는 경우에 사용하는 장치의 개략적 구조를 보여주는 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a schematic structure of an apparatus used when surface treating an inner wall of a conductive cylindrical metal tube using diffusion of dynamic plasma according to an embodiment of the present invention.

동 도면에 도시된 바와 같이, 원기둥 모양의 중앙전극(c)과 내벽 표면처리를 하고자 하는 원통형 관(s)은 동심으로 배열된다. 이러한 원통형 구조의 한쪽 끝(좌측단)은 절연층(d)을 사이에 두고 역시 동심으로 원판 및 원통형 도입전극(a)이 위치한다. 이 부분의 중앙전극(c)에는 작동기체를 주입하는 노즐(e)이 있다. 이 노즐(e)은 경우에 따라 도입전극(a)의 원판구조에 위치할 수도 있다.As shown in the figure, the cylindrical center electrode c and the cylindrical tube s for surface treatment are arranged concentrically. One end (left end) of this cylindrical structure is also positioned concentrically with the insulating layer d between the disc and the cylindrical introduction electrode a. The central electrode c of this part has a nozzle e for injecting the working gas. This nozzle (e) may be located in the disk structure of the introduction electrode (a) in some cases.

또한, 여기에는 필요할 경우 방전을 유도하는 격발전극이나 레이저 빔을 조사하는 창이 설치된다. 도입전극(a)에 흐르는 전류는 초기 플라즈마의 가속에 기여 하므로 실시예의 경우에 따라 전극 구조의 변형으로 그 기여 정도를 가감 할 수 있다. 원통구조의 다른 한쪽 끝(우측단)은 전류회귀용 원판전극(b)으로 마감 되며, 전류회귀용 원판전극(b)은 중앙전극(c)과 절연체(d)로 절연된다. 이 절연체(d) 등의 절연층은 전류회귀용 원판전극(b)과 내벽 표면처리를 하고자 하는 원통형 관(s) 사이나 원판전극(b) 자체에 위치시킬 수 있다. 절연층의 구조는 여러번의 방전에도 절연파괴나 누설이 일어나지 않는 구조와 재질로 이루어져 있다.In addition, a window for irradiating a trigger electrode or a laser beam for inducing a discharge is provided here. Since the current flowing through the introduction electrode (a) contributes to the acceleration of the initial plasma, according to the embodiment, the degree of contribution may be reduced by the deformation of the electrode structure. The other end (right end) of the cylindrical structure is finished with a current return disk electrode (b), and the current return disk electrode (b) is insulated with the center electrode (c) and the insulator (d). The insulating layer such as the insulator (d) may be located between the disc electrode (b) for current return and the cylindrical tube (s) to be subjected to the inner wall surface treatment or the disc electrode (b) itself. The structure of the insulating layer is made of a structure and a material that does not cause breakdown or leakage even after several discharges.

도입전극(a)과 내벽 표면처리를 하고자 하는 원통형 관(s) 및 전류회귀용 원판전극(b)과의 이음부위는 진공밀폐가 되면서 전기적으로 연속된다. 진공밀폐와 전기적 연속성이 함께 실현되기 위해서는 특정 원통형 관에 따라 적합한 방식이 사용되며, 일례로 재질이 동으로 이루어진 가스켓을 사용하면 대부분의 경우 만족된다. 이러한 도입전극(a)과 원통형 관(s) 및 전류회귀용 원판전극(b)으로 이루어진 원통형 구조의 반경방향 외곽에는 솔레노이드형 전자석(Magnet)이 동심으로 설치되어 축방향 자장(Be)을 원통형 관(s) 내에 제공한다.The joint portion between the introduction electrode (a) and the cylindrical tube (s) for current surface treatment and the original electrode (b) for current return is electrically sealed while being vacuum sealed. In order to achieve both vacuum sealing and electrical continuity, a suitable method is used according to a specific cylindrical tube. For example, a gasket made of copper is satisfied in most cases. In the radially outer periphery of the cylindrical structure consisting of the introduction electrode (a), the cylindrical tube (s) and the current return disk electrode (b), a solenoid type magnet (Magnet) is installed concentrically to form an axial magnetic field (B e ) It is provided in the tube (s).

내벽 표면처리를 하고자 하는 원통형 관(s)의 내부는 진공이 유지되어야 하므로 장치의 전반적인 구조나 조립은 특정 원통형 관에 적합한 진공밀폐방식으로 구성한다.Since the inside of the cylindrical tube (s) to be treated with the inner wall surface must be maintained in vacuum, the overall structure or assembly of the device is configured in a vacuum sealing method suitable for a specific cylindrical tube.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 동적 플라즈마의 확산을 이용하여 비도전성 원통형 관 내벽을 표면처리 하는 경우에 사용하는 장치의 개략적 구조를 보여주는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a schematic structure of an apparatus used when surface treating an inner wall of a non-conductive cylindrical tube using diffusion of dynamic plasma according to another embodiment of the present invention.

동 도면에 있어서, 내벽 표면처리를 하고자 하는 원통형 관(s)이 플라스틱과 같은 부도체인 경우에는 중앙전극(c)과 원통형 관(s) 사이에 도전성 원통형 그물체(m)를 넣어 방전전극 겸 플라즈마/이온 인출전극으로 이용한다.In the figure, when the cylindrical tube (s) to be subjected to the inner wall surface treatment is an insulator such as plastic, a conductive cylindrical mesh (m) is inserted between the central electrode (c) and the cylindrical tube (s) to discharge electrode and plasma. Use as ion extraction electrode.

이상의 장치에는 일련의 펄스방전으로 플라즈마를 발생시키기 위한 직류 펄스 모듈레이션 전원(DC Pulse Modulation Power Supply), 고속 전력전송선(Transmission Line), 전자석 전원(Magnet Power Supply), 피에조 밸브(Piezo Valve) 및 작동기체 압력용기(Working Gas Tank)로 구성되는 작동기체 주입계, 그리고 진공펌프(Vacuum Pump)가 도 4는 물론 도 3에서와 같이 부착된다. 전류회귀용 원판전극에 수개의 배기구를 종축중심의 방사상으로 배열하고 이 배기구를 진공펌프(Vacuum Pump)에 연결하여 진공 배기한다. 복합원소 표면처리를 할 경우 작동기체 주입계는 여러종류의 작동기체를 일정 분률로 공급할 수 있도록 구성된다.The above device includes a DC pulse modulation power supply, a high speed power transmission line, a magnet power supply, a piezo valve and an operating gas to generate plasma by a series of pulse discharges. The working gas injection system, which is composed of a working gas tank, and a vacuum pump are attached as shown in FIG. 4 as well as FIG. 3. Several exhaust ports are arranged radially at the center of the longitudinal axis of the original electrode for current return, and the exhaust ports are connected to a vacuum pump for evacuation. In the case of multi-element surface treatment, the working gas injection system is configured to supply several kinds of working gases at a certain fraction.

도 5는 동적 플라즈마 층(p)을 양방향으로 왕복 운동시킬 수 있도록 도 3의 장치를 변형한 장치의 개략적 구조를 보여주는 단면도로서, 도 3에서 원통형 구조물의 좌측단에 마련된 동축 플라즈마 총 원리를 이용한 구조를 원통형 구조물의 우측단에도 마련하여 구성하고, 각 단에는 일련의 펄스방전으로 플라즈마를 발생시키기 위한 각각의 직류 펄스 모듈레이션 전원(DC Pulse Modulation Power Supply) P1, P2를 연결한다. 진공배기와 작동기체 주입은 도 3이나 도 4의 경우에서와 같은 작동기체 주입계통과 진공 배기계통을 양 단에 설치하여 해당하는 역할과 기능을 하도록 한다.FIG. 5 is a cross-sectional view showing a schematic structure of a device in which the apparatus of FIG. 3 is modified to reciprocate the dynamic plasma layer p in both directions. FIG. It is also provided on the right end of the cylindrical structure, and each end is connected to each of the DC pulse modulation power supply (P1, P2) for generating a plasma by a series of pulse discharge. The vacuum exhaust and the operating gas injection are provided at both ends of the operating gas injection system and the vacuum exhaust system as in the case of Figure 3 or Figure 4 to have a corresponding role and function.

다음에 상술한 구성을 갖는 본 발명에 따른 동적 플라즈마의 확산에 의한 관내벽 표면 처리 장치의 동작 과정을 상세히 설명한다.Next, the operation of the inner wall surface treatment apparatus by the diffusion of the dynamic plasma according to the present invention having the above-described configuration will be described in detail.

먼저, 진공 상태에서 피에조 밸브(Valve)로 작동기체를 주입하고 펄스 모듈레이션 전원(Power Supply)으로 고전압 펄스를 인가하여 도 3 또는 도 4의 좌측단에서부터 방전을 시작시킨다. 이때 기체 주입과 고전압 펄스를 동조시킨다.First, the operating gas is injected into the piezo valve (Valve) in a vacuum state and a high voltage pulse is applied to the pulse modulation power supply to start discharging from the left end of FIG. 3 or 4. At this time, the gas injection is synchronized with the high voltage pulse.

방전개시에는 격발전극이나 레이저 등의 트리거로 도움을 받을 수 있다. 공정에 따라서는 작동기체를 정압상태로 하여 방전 할 수 있다. 방전이 시작되면 중앙전극(c), 원판 플라즈마 층(p), 내벽 표면처리를 하고자 하는 원통형 관(s) 또는 도 4의 경우에는 원통형 그물체(m), 전류도입전극(a) 로 구성되는 방전전류(i) 회로가 구성되어 중앙전극(c)과 원통형 구조 사이에 원주방향의 자장(Bs)이 발생하게 된다.At the start of discharge, a trigger such as a trigger electrode or a laser can be used to assist. Depending on the process, the working gas can be discharged in a constant pressure state. When the discharge is started, the center electrode (c), the disk plasma layer (p), the inner surface of the cylindrical tube (s) to be treated, or in the case of Figure 4 consists of a cylindrical mesh (m), the current-carrying electrode (a) A discharge current (i) circuit is constructed such that a circumferential magnetic field B s is generated between the central electrode c and the cylindrical structure.

이 자장에 의하여 원판 모양의 플라즈마 층(p)이 가속되어 축방향 운동(v)을 하게 된다. 동시에 전자석(Magnet)으로 부터 공급되는 외부자장(Be)으로 원판 플라즈마 층(p)은 중앙전극(c)을 중심으로 회전하게 된다.This magnetic field causes the disk-shaped plasma layer p to be accelerated to perform the axial motion v. Circular plate at the same time as the external magnetic field (B e) to be supplied from the electric magnet (Magnet) plasma layer (p) is rotated around the center electrode (c).

결과적으로, 플라즈마는 내벽 표면처리를 하고자 하는 원통형 관(s) 내부에서 나선형 운동을 하게 되고 이러한 동적 플라즈마는 원통형 관(s) 내벽에서 원주 방향으로 균일한 플라즈마 확산 분포를 제공하게 된다. 특히 축방향으로 동적 플라즈마 층(p)이 이동하는 과정중에도 지속적으로 플라즈마에 전류와 에너지를 변조하여 공급하므로써 원통형 관(s) 내벽에 축방향으로 균질하거나 일정 분포를 갖는 표면처리를 기할 수 있게 된다. 원판 모양의 플라즈마 층(p)은 원통형 관(s)을 종주하면서 전 내벽을 표면처리 한 후, 전류회귀전극(b)에 이르러 소멸된다. 원하는 표면처리 결과를 얻기까지 일련의 방전을 반복한다.As a result, the plasma undergoes a helical motion inside the cylindrical tube s to be subjected to the inner wall surface treatment, and this dynamic plasma provides a uniform plasma diffusion distribution in the circumferential direction on the inner wall of the cylindrical tube s. In particular, by modulating and supplying current and energy to the plasma continuously during the movement of the dynamic plasma layer (p) in the axial direction, it is possible to provide a surface treatment having a uniform or uniform distribution in the axial direction on the inner wall of the cylindrical tube (s). . The disk-like plasma layer p surface-treats the entire inner wall while crossing the cylindrical tube s, and then disappears by reaching the current return electrode b. The series of discharges is repeated until the desired surface treatment results are obtained.

한편, 표면처리 대상이 되는 특정의 원통형 관(s)과 요구되는 표면처리층에 따라 중앙전극의 외경, 재질, 길이, 그리고 작동기체 종류, 기체 주입량 및 주입기체의 펄스형상, 방전 전압 및 전류의 펄스형상, 전극의 극성, 플라즈마 발생 시작위치, 축방향 외부자장의 세기와 방향 및 공간분포, 방전주기, 방전횟수 및 일련의 방전전력 변조 등의 장치 변수 및 공정변수가 조정되며, 도 4에서와 같이 비도전성 원통형 관(s)의 내벽을 표면 처리하는 경우에 있어서는 이 외에도 원통형 그물체(m)의 재질과 그물 규격이 중요해진다.On the other hand, according to the specific cylindrical tube (s) to be subjected to the surface treatment and the required surface treatment layer, the outer diameter, material, length and type of working gas, gas injection amount and pulse shape of the injection gas, discharge voltage and current Device variables and process variables such as pulse shape, electrode polarity, plasma generation start position, intensity and direction of axial external magnetic field and space distribution, discharge cycle, frequency of discharge and series of discharge power modulation are adjusted. Likewise, in the case of surface treatment of the inner wall of the non-conductive cylindrical tube s, the material and the net size of the cylindrical net body m become important.

또한, 도 3 및 도 4의 장치는 동적 플라즈마 층(p)을 양방향으로 왕복 운동시켜 표면처리 속도와 균질도 그리고 에너지 효율를 높일 수 있도록 그 일례로서 도 5와 같이 변형할 수 있게 되는데, 도 6의 직류 펄스 모듈레이션 전원의 출력 타이밍도에 도시된 바와 같이, 번갈아 양단에서 직류 펄스 전력을 인가 함으로서 이를 실시하게 된다. 각각의 직류 펄스 모듈레이션 전원은 동적 플라즈마 층(p)이 양단에 도달하였을 때 각 위치에서 정전 탐침(u1.u2)으로 측정한 동적 플라즈마 층(p)의 위치신호의 귀환(feedback)으로 작동된다. 즉, 동적 플라즈마 층(p)이 좌측단에 이르면 u1의 신호처리기(Signal Processor)로부터 출력된 신호가 P2 출력의 차단과 P1 출력의 시작을 지시하게 되며 우측단에 이르게 되면 u2 의 신호처리기(Signal Processor)로부터 출력된 신호가 P1 출력의 차단과 P2 출력의 시작을 지시하게 된다. 일련의 동적 플라즈마 층(p)의 왕복은 원하는 표면처리 결과가 얻어질 때 까지 반복한다.In addition, the apparatus of FIGS. 3 and 4 can be modified as shown in FIG. 5 as an example to increase the surface treatment speed, homogeneity and energy efficiency by reciprocating the dynamic plasma layer p in both directions. As shown in the output timing diagram of the DC pulse modulation power supply, this is done by alternately applying DC pulse power at both ends. Each DC pulse modulation power supply is operated with the feedback of the position signal of the dynamic plasma layer p measured by the electrostatic probe u1.u2 at each position when the dynamic plasma layer p reaches both ends. That is, when the dynamic plasma layer p reaches the left end, the signal output from the signal processor of u1 indicates the interruption of the output of P2 and the start of the output of P1. When the signal reaches the right end, the signal of u2 is reached. The signal output from the processor indicates the blocking of the P1 output and the start of the P2 output. The reciprocation of the series of dynamic plasma layers p is repeated until the desired surface treatment results are obtained.

상술한 바와 같이, 본 발명에서는 표면처리 하고자 하는 원통형 관이 진공용기와 전극의 역할을 겸하도록 하고 중앙전극의 길이를 원통형 관의 길이와 같게 하여 플라즈마 발생부와 플라즈마 표면처리부를 분리하지 않고 일체화 하였다.As described above, in the present invention, the cylindrical tube to be surface treated also serves as a vacuum vessel and an electrode, and the center electrode has the same length as that of the cylindrical tube and is integrated without separating the plasma generating unit and the plasma surface treating unit. .

이와같이 별도의 진공용기를 사용하지 않아 장치와 공정이 단순하면서도 지속적으로 고밀도 플라즈마에 에너지가 공급되도록 하므로써, 관의 길이/직경 비가 커져도 표면처리의 균질도와 박막성형 속도가 높다. 길이방향에 따른 박막 두께 등의 표면처리 정도를 조정하거나 관의 내벽이 총열의 강선과 같이 나선형 구조를 갖는 특이 내벽구조를 표면처리 할 경우, 외부에서 인가하는 축방향 자장의 세기와 공간분포, 그리고 일련의 방전펄스전력을 변조하여 표면처리 한다.In this way, since a separate vacuum vessel is not used, the device and the process are simple and continuously supply energy to the high density plasma, so that even if the length / diameter ratio of the tube is large, the homogeneity of the surface treatment and the film forming speed are high. When adjusting the degree of surface treatment such as thin film thickness along the length direction, or when the inner wall of the tube is surface treated with a spiral inner structure such as a barrel wire, the strength and spatial distribution of the axial magnetic field applied from outside A series of discharge pulse power is modulated and surface treated.

또한, 장치의 구조적 특성상 질화, 탄화, a-C 또는 TiN, TiAlN, TiC, 마그네타이트(Fe3O4), Ni-W, Ni-B, CrN 등 복합원소에 이르기까지 원하는 표면처리층의 종류에 따라 적합한 작동기체의 종류와 중앙전극을 선택 한다. 처리 되는 표면에서 플라즈마가 매우 짧은 시간 동안만 작용하고 표면에 조사되는 에너지 및 전류 밀도를 조절 할 수 있으므로 필요할 경우 모재의 변형없는 표층 가열로 확산속도나 ??상 등의 상변이 및 화합물층 조성 등의 조정을 박막성형과 동시에 수행한다.The process desired surface to complex elements such as the structural nature of nitride, carbide of the device, aC, or T i N, T i AlN, T i C, the magnetite (Fe 3 O 4), Ni -W, Ni-B, CrN Depending on the type of layer, the appropriate type of operating gas and the center electrode are selected. Plasma acts only for a very short time on the surface to be treated and the energy and current density irradiated to the surface can be controlled, so if necessary, surface layer heating without deformation of the base material, such as diffusion rate, phase transition such as ?? phase, compound layer composition, etc. Adjustments are made simultaneously with thin film molding.

따라서, 이와 같이 본 발명은 동적 플라즈마 확산법을 이용하여 다양한 원통형 배관 및 기계요소의 내벽을 용도에 맞게 고속으로 표면처리하는 장치로서, 원자력을 포함하는 일반산업분야와 군수산업분야에서 실용화시킬 수 있는 것이다.Thus, the present invention is a device for surface treatment of the inner walls of various cylindrical pipes and mechanical elements at high speed by using the dynamic plasma diffusion method, which can be put to practical use in the general industry and the military industry including nuclear power. .

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 동적 플라즈마 확산법을 이용하여 다양한 원통형 기계요소의 내벽을 용도에 맞게 표면처리하는 장치로서, 내경에 비하여 길이가 긴 원통형 관에서 균질한 표면처리 효과를 얻는데 유용하며, 길이 방향에 따른 표면 처리 정도를 조정하는 것도 외부에서 인가하는 자장의 세기/공간분포와 함께 방전 펄스 전력을 변조함으로써 가능하도록 하고, 관의 내벽이 총열의 강선과 같은 나선형 구조를 갖는 등의 특이구조에도 외부인가 자장의 세기로 플라즈마의 회전속도를 조절하므로써 원하는 표면처리를 기할 수 있으며, 질화, 탄화, a-C 또는 TiN, TiAlN, TiC, 마그네타이트(Fe3O4), Ni-W, Ni-B, CrN 등 복합원소에 이르기까지 원하는 표면처리층에 따라 적합한 작동기체나 중앙전극의 재료를 선택할 수 있는 효과가 있으며, 고밀도의 동적 플라즈마에 의한 빠른 표면처리 그리고 매우 짧은 시간동안 작용하는 표면 입사 에너지 밀도의 조절에 의한 모재의 변형없는 표층 가열로 입자의 확산속도나 상변이 및 화합물층 조성 등의 조정이 동시에 처리 되도록 함으로써 우수한 공정성과 생산성으로 양질의 표면처리를 할 수 있어, 해당하는 일반 산업 분야와 군수 산업 분야에서 널리 실용화시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, a device for surface treatment of various cylindrical mechanical elements by using the dynamic plasma diffusion method, which is useful for obtaining a homogeneous surface treatment effect in a cylindrical tube having a length longer than the inner diameter, It is also possible to adjust the degree of surface treatment along the longitudinal direction by modulating the discharge pulse power together with the intensity / spatial distribution of the magnetic field applied from the outside, and the specific structure such that the inner wall of the tube has a spiral structure such as the barrel wire. By controlling the rotational speed of the plasma by the intensity of the external magnetic field, the desired surface treatment can be achieved. Nitriding, carbonization, aC or T i N, T i AlN, T i C, magnetite (Fe 3 O 4 ), Ni- According to the desired surface treatment layer ranging from composite elements such as W, Ni-B, CrN, etc., it is possible to select a suitable working gas or material of the center electrode. Fast surface treatment by high-density dynamic plasma and surface layer heating without deformation of base material by control of surface incident energy density acting for a very short time allows simultaneous adjustment of particle diffusion rate, phase change and compound layer composition Due to the fairness and productivity can be a good surface treatment, there is an effect that can be widely applied in the general industrial sector and the military industry.

Claims (3)

진공상태에서 플라즈마 발생을 위한 기체를 주입하고 전계 및 자계에 의거한 플라즈마 확산에 의거하여 원통형 관(s)의 내벽을 표면 처리하기 위한 장치에 있어서,In the apparatus for injecting gas for plasma generation in a vacuum state and surface treatment of the inner wall of the cylindrical tube (s) based on the plasma diffusion based on the electric field and magnetic field, 플라즈마 발생을 위한 동축의 중앙전극(c), 상기 중앙전극(c) 주변으로 끝단부가 원판형으로 형성되고 원판형에 이어지는 원통형 형상을 갖는 전류도입전극(a)과, 일측이 상기 전류도입전극(a)의 원통형 형상과 밀폐 접촉하여 진공용기 겸 전극의 일부로 형성되는 상기 원통형 관(s)과, 상기 원통형 관(s)의 타측에 밀폐 접촉되고 상기 원통형 관(s)내의 동축의 중앙전극(c)과 절연되어 연결되는 전류회귀용 전극(b)을 일체형으로 구성한 것을 특징으로 하는 동적 플라즈마의 확산에 의한 관내벽 표면 처리 장치.Coaxial center electrode (c) for the generation of plasma, a current-carrying electrode (a) having a cylindrical shape that is formed in a disc shape and has a disc shape around the center electrode (c), and one side of the current induction electrode ( The cylindrical tube (s) formed in part of the vacuum vessel and the electrode in hermetic contact with the cylindrical shape of a), and the coaxial central electrode (c) in the cylindrical tube (s) in hermetic contact with the other side of the cylindrical tube (s). And a current return electrode (b) which is insulated and connected to each other. 제 1 항에 있어서, 상기 원통형 관(s)이 부도체일 경우에 상기 전류도입전극(a)과 전류회귀용 전극(b)을 도전 연결하며, 상기 중앙전극(c)과 원통형 관(s) 사이에 위치하는 도전성 원통형 그물체(m)를 더 포함하여 방전전극 겸 플라즈마/이온 인출전극으로 이용하는 것을 특징으로 하는 동적 플라즈마의 확산에 의한 관내벽 표면 처리 장치.According to claim 1, wherein when the cylindrical tube (s) is a non-conductive conductive connection between the current induction electrode (a) and the current return electrode (b), between the central electrode (c) and the cylindrical tube (s) An inner wall surface treatment apparatus for diffusing a dynamic plasma, further comprising a conductive cylindrical mesh (m) positioned at a portion thereof to serve as a discharge electrode and a plasma / ion extracting electrode. 진공상태에서 플라즈마 발생을 위한 기체를 주입하고 전계 및 자계에 의거한 플라즈마 확산에 의거하여 원통형 관(s)의 내벽을 표면 처리하기 위한 장치에 있어서,In the apparatus for injecting gas for plasma generation in a vacuum state and surface treatment of the inner wall of the cylindrical tube (s) based on the plasma diffusion based on the electric field and magnetic field, 동축의 중앙전극(c)과, 상기 중앙전극(c) 주변으로 끝단부가 원판형으로 형성되고 원판형에 이어지는 원통형 형상을 갖는 제 1 전류도입전극(a)과, 일측이 상기 전류도입전극(a)의 원통형 형상과 밀폐 접촉하여 진공용기 겸 전극의 일부로 형성되는 상기 원통형 관(s)과, 상기 원통형 관(s)의 타측에 밀폐 접촉되는 제 2 전류도입전극(a)을 일체형으로 구성하고, 상기 제 1, 2 전류도입전극(a) 근방에서 각각 플라즈마 발생을 위한 기체를 주입하고 상기 제 1, 2 전류도입전극(a)의 전계를 선택적으로 각각 스위칭하여 발생된 동적 플라즈마 층(p)을 양방향으로 왕복 운동시키면서 상기 원통형 관(s) 내벽을 표면 처리하는 것을 특징으로 하는 동적 플라즈마의 확산에 의한 관내벽 표면 처리 장치.Coaxial center electrode (c), the first current-carrying electrode (a) having a cylindrical shape that is formed in a disk-shaped end portion around the center electrode (c) and continues to the disk shape, and one side of the current induction electrode (a) The cylindrical tube (s) formed as part of the vacuum container and the electrode in hermetic contact with the cylindrical shape of the diaphragm), and the second current induction electrode (a) in hermetic contact with the other side of the cylindrical tube (s). The dynamic plasma layer p generated by injecting gas for plasma generation in the vicinity of the first and second current induction electrodes a and selectively switching the electric fields of the first and second current induction electrodes a respectively. An inner wall surface treatment apparatus by diffusion of a dynamic plasma, characterized in that the inner wall of the cylindrical tube (s) is surface treated while reciprocating in both directions.
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