KR20000054919A - Flat mask and method of manufacturing shadow mask for cathode ray tube using the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 음극선관용 새도우 마스크에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 말하자면 플랫 마스크를 포밍(forming)시, 빔통과용 홀의 변형을 방지할 수 있도록 한 플랫 마스크와 이를 이용한 새도우 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a shadow mask for a cathode ray tube, and more particularly, to a flat mask and a method of manufacturing a shadow mask using the same to prevent deformation of the beam passing hole when forming the flat mask.
일반적으로 음극선관에서 사용되는 새도우 마스크는, 음극선관의 작용시 전자총에서 출사된 전자빔이 형광면에 랜딩될 수 있도록 하기 위해, 다수의 홀을 형성하고 있다.In general, the shadow mask used in the cathode ray tube forms a plurality of holes so that the electron beam emitted from the electron gun can be landed on the fluorescent surface when the cathode ray tube is operated.
이러한 새도우 마스크는, 소위 유공부라 불리우는 유효 화면부에 다수의 홀을 형성한 플랫 마스크(flat mask)가 프레스로 포밍되어 이루지게 되는 바, 이 포밍 공정에 의해 상기 유공부의 사방으로는 측면부인 스컷트부가 형성되어지게 된다.Such a shadow mask is formed by forming a flat mask by forming a plurality of holes into an effective screen portion called a perforated portion by pressing, and forming a portion of the perforated portion of the perforated portion by the forming process. The cut portion is formed.
상기 플랫 마스크에 형성되는 다수의 홀은, 음극선관의 특성에 따라 도트 또는 슬롯 형상으로 이루어지게 되며, 이들은 통상 유공부의 전체에 걸쳐 동일한 방향성을 갖고 형성된다.A plurality of holes formed in the flat mask is made in the shape of a dot or a slot according to the characteristics of the cathode ray tube, these are usually formed with the same direction over the entire hole.
이러한 종래의 음극선관용 새도우 마스크를 도면을 통해 살펴 보면 다음과 같다.Looking at the shadow mask for a conventional cathode ray tube through the drawings as follows.
도 4는 종래의 새도우 마스크를 위한 플랫 마스크의 부분 평면도로서, 이 플랫 마스크(1)는, 대략 음극선관의 어스팩트비에 맞추어 형성된 유공부(10a)에 다수의 전자빔 통과홀(10b)이 형성되고. 상기 유공부(10a)의 사방으로는 포밍공정으로 통해 굽힘 가공될 스컷트부(10c)가 마련되어 이루어지는 것이 보통이다.4 is a partial plan view of a flat mask for a conventional shadow mask, wherein the flat mask 1 has a plurality of electron beam through holes 10b formed in a hole portion 10a formed in accordance with an aspect ratio of a cathode ray tube. Being. It is common that the cut portions 10c to be bent through the forming process are provided on all sides of the hole portions 10a.
이 때, 상기 전자빔 통과홀(10b)은, 도 5에 도시한 바와 같이, 상기 유공부(10a)의 전면에 걸쳐 동일한 방향성을 가지면서, 소정의 수직 피치와 수평 피치를 가지고 형성된다. 도 5에 도시된 전자빔 통과홀(10b)은 이 도면을 기준으로 볼 때, 수직 방향을 동일한 방향으로 하면서 슬롯 타입으로 형성되고 있다.At this time, the electron beam through hole 10b is formed with a predetermined vertical pitch and a horizontal pitch while having the same directivity over the entire surface of the hole 10a, as shown in FIG. The electron beam through hole 10b shown in Fig. 5 is formed in the slot type with the vertical direction in the same direction, based on this drawing.
그런데, 상기와 같이 유공부(10a)의 전면에 걸쳐 상기 전자빔 통과홀(10b)이 동일한 방향성을 가지고 형성된 플랫 마스크(1)는, 실질적으로 포밍공정을 치를 때, 상기 홀(10b)의 방향성을 흐트리게 되어 최종적으로 완성된 홀(10b)의 상태를 저하시키는 문제점이 있다.However, the flat mask 1 formed with the same directivity of the electron beam through-hole 10b over the entire surface of the perforation portion 10a as described above, when the forming process is substantially performed, the orientation of the hole 10b There is a problem in that the state of the finally completed hole 10b is blurred.
특히, 상기 홀(10b)의 제조 상태 불량은, 상기 유공부(10a)에 있어 대각 주변부에서 더욱 일어나고 있는데, 이처럼 홀(10b)이 최초 방향성을 달리 하여 형성되면, 전자빔을 통과시킬 때에 갖게 되는 여유도를 떨어 뜨리는 등의 문제점을 유발하게 된다.In particular, the manufacturing failure of the hole (10b) is occurring in the periphery of the periphery of the hole 10a, and if the hole (10b) is formed with different initial orientations in this way, the margin to have when passing through the electron beam It will cause problems such as dropping the road.
따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 포밍 공정을 통해 일어나는 전자빔 통과홀의 방향성 변형을 방지할 수 있도록 한 플랫 마스크와 이를 이용한 음극선관용 새도우 마스크의 제조 방법을 제공함에 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a flat mask and a method of manufacturing a shadow mask for cathode ray tube using the same to prevent the directional deformation of the electron beam through hole occurring through the forming process. Is in.
이에 본 발명은 상기 목적을 실현하기 위하여,In order to realize the above object,
다수의 전자빔 통과용 구멍부가 형성되는 유공부와;A hole portion in which a plurality of electron beam passing holes are formed;
이 유공부의 사방 가장자리에서 소정의 간격을 두고 형성되는 스컷트부를 포함하고,It includes a cut portion formed at predetermined intervals on all four edges of the hole,
상기 구멍부 중, 상기 유공부의 대각 주변부에 위치하는 구멍부가, 적어도 한쌍의 대향면을 경사지게 형성하여 이루어지는 플랫 마스크를 제안한다.The flat mask which forms the at least one pair of opposing surface inclined at the diagonal periphery of the said hole part among the said hole parts is proposed.
또한, 본 발명은 상기 목적을 실현하기 위하여,In addition, the present invention to realize the above object,
다수의 전자빔 통과홀이 형성될 유공부와 이 유공부의 사방 둘레로 소정의 간격을 두고 자리할 스컷트부가 설정되어 있는 원판상에, 상기 유공부의 대각 방향 주변부에는 적어도 한쌍의 대향면이 경사진 전자빔 통과홀을 형성하고, 상기 주변부 이외의 유공부 부분에는 경사면이 없는 전자빔 통과홀을 형성하여 이루는 플랫 마스크 형성 단계와;At least one pair of opposing surfaces is disposed on the diagonally peripheral portion of the perforated portion on a disc having a perforated portion where a plurality of electron beam through holes are to be formed and a cut portion to be positioned at predetermined intervals around the perforated portion of the perforated portion. A flat mask forming step of forming a photo electron beam through hole, and forming an electron beam through hole without an inclined surface in a portion of the pores other than the periphery;
상기 플랫 마스크 상에 설정된 성형면을 기준으로 상기 스컷트부를 굽힘 가공하는 포밍 단계를 포함하는 음극선관용 새도우 마스크의 제조 방법을 제안한다.A method of manufacturing a shadow mask for a cathode ray tube includes a forming step of bending the cut part on the basis of a molding surface set on the flat mask.
도 1은 본 발명에 관련하는 음극선관을 도시한 절개 사시도이고,1 is a cutaway perspective view showing a cathode ray tube according to the present invention,
도 2는 본 발명에 관련하는 플랫 마스크를 도시한 평면도이고,2 is a plan view showing a flat mask according to the present invention;
도 3은 본 발명에 관련하는 새도우 마스크의 전자빔 통과공을 도시한 도면이고,3 is a view showing an electron beam through hole of the shadow mask according to the present invention,
도 4는 종래의 음극선관용 새도우 마스크의 플랫 마스크를 도시한 부분 평면도이고,4 is a partial plan view showing a flat mask of a shadow mask for a conventional cathode ray tube,
도 5는 종래의 음극선관용 새도우 마스크의 전자빔 통과공을 도시한 도면이다.5 is a view showing an electron beam through hole of a shadow mask for a conventional cathode ray tube.
이하, 본 발명을 명확히 하기 위한 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 의거하여 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 실시예와 관련되는 음극선관을 도시한 절개 사시도로서, 도시된 바와 같이 상기 음극선관은 유리 재질로 이루어진 패널(2), 펀넬(4), 넥크부(6)의 조합체인 진공관으로 형성된다.1 is a perspective view showing a cathode ray tube according to an embodiment of the present invention, as shown in the cathode ray tube is a combination of a panel 2, a funnel 4, a neck 6 made of a glass material It is formed into a vacuum tube.
이 진공관의 구성을 자세히 살펴 보면 우선, 상기 패널(2)은 대략 장방형의 꼴로 이루어지면서 이의 내면에는 도트 또는 스트라이프 형상으로 형성된 형광막이 포함된 형광체 스크린(8)이 형성된다.Looking at the configuration of the vacuum tube in detail, first, the panel 2 is formed in a substantially rectangular shape, and a phosphor screen 8 including a fluorescent film formed in a dot or stripe shape is formed on an inner surface thereof.
이러한 패널(2)에 연결 설치되는 상기 펀넬(4)은, 전체적으로 깔대기 형상을 취하는 바, 그 외주상에는 전자빔(B)의 편향을 위해 자계를 형성하는 편향 요크(10)가 설치되고, 이 펀넬(4)에 연결 설치되는 넥크부(6)에는 R,G,B 3개의 전자빔(B)을 발생시키기 위한 전자총(12)이 삽입 설치된다.The funnel 4 connected to the panel 2 has a funnel shape as a whole, and a deflection yoke 10 is formed on the outer circumference thereof to form a magnetic field for deflection of the electron beam B. 4, an electron gun 12 for inserting R, G, B three electron beams B is inserted into and installed in the neck part 6 connected to the neck.
또한, 상기 패널(1)의 내측에는 상기 음극선관에서 색선별 장치로서 작용하는 새도우 마스크(14)가 마스크 프레임(16)에 의해 지지되어 설치되는 바, 이 새도우 마스크(14)는 주지된 바와 같이 다수의 전자빔 통과용 구멍부(14a)가 형성되는 유공부(14b)와, 이 유공부(14b)의 사방 가장자리로부터 소정의 간격을 두고 굽힘 형성되는 스컷트부(14c)를 포함하여 이루어진다. 이 때, 이 새도우 마스크(14)도 상기 패널(2)에 대응되어 상기 유공부(14b)를 대략 장방형으로 이루면서 이 유공부(14b)에 소정의 곡률을 주어 형성된다.In addition, a shadow mask 14 serving as a color screening device in the cathode ray tube is supported and installed inside the panel 1, and the shadow mask 14 is known as described above. The hole part 14b in which the several electron beam passage hole part 14a is formed, and the cut part 14c formed by bending at predetermined intervals from the four edges of this hole part 14b are comprised. At this time, the shadow mask 14 also corresponds to the panel 2 and is formed by giving a predetermined curvature to the hole 14b while making the hole 14b substantially rectangular.
이에 상기와 같이 형성되는 상기 음극선관은, 상기 전자총(12)으로부터 발생된 전자빔(B)을 상기 편향 요크(10)에 의해 상기 패널(2)의 장축방향(H) 및 단축방향(V)로 편향시켜, 상기 전자빔(B)이 상기 새도우 마스크(14)의 일 구멍부(14a)에서 컨버어젼스 되도록 한 후, 이를 상기 형광체 스크린(8)에 충돌시켜 이 때 발생되는 빛으로 소정의 화상을 구현하게 된다.In the cathode ray tube formed as described above, the electron beam B generated from the electron gun 12 is moved in the major axis direction H and the minor axis direction V of the panel 2 by the deflection yoke 10. Deflecting so that the electron beam B converges at one hole 14a of the shadow mask 14, and then collides with the phosphor screen 8 to produce a predetermined image with light generated at this time. Will be implemented.
이러한 음극선관에서, 상기 새도우 마스크(14)는 다음과 같은 플랫 마스크를 이용하여 제조되어진다.In this cathode ray tube, the shadow mask 14 is manufactured using the following flat mask.
도 2는 본 실시예에 따른 플랫 마스크(140)를 도시한 평면도로서, 이 플랫 마스크(140)는 상기한 스컷트부(14c)가 상기 유공부(14b)로부터 굽힘 가공되기 전의 평탄한 상태의 마스크를 나타낸다.2 is a plan view showing a flat mask 140 according to the present embodiment, which is a mask in a flat state before the cut portion 14c is bent from the hole portion 14b. Indicates.
도시된 바와 같이 상기 플랫 마스크(140)에는, 상기한 유공부(14b)의 자리가 임의의 크기로 설정되며, 이 유공부(14b)의 사방으로는 소정의 간격을 두고 스컷트부(14c)가 설정되어 있다.As shown in the flat mask 140, the positions of the hole portions 14b are set to arbitrary sizes, and the cut portions 14c are spaced at predetermined intervals from all sides of the hole portions 14b. Is set.
물론, 상기 유공부(14) 내에는 다수의 전자빔 통과공(14a,14'a)이 임의의 패턴을 유지하여 형성되며, 상기 스컷트부(14c)의 코너부이나 이의 중심부 가장자리에는, 코너 노치(corner notch)(14d)와 가이드 노치(guide notch)(14e)가 형성되어 있다.Of course, a plurality of electron beam through holes 14a and 14'a are formed in the perforated portion 14 to maintain an arbitrary pattern, and corner notches are formed at the corner of the cut portion 14c or the center edge thereof. A corn notch 14d and a guide notch 14e are formed.
이러한 플랫 마스크(140)에서, 상기한 전자빔 통과공(14a,14'a)은, 상기 유공부(14b)에 있어 이의 대각부 주변부에 형성되는 형상과, 상기 대각부 주변부 이외의 부분에 형성되는 형상을 달리하게 된다.In such a flat mask 140, the electron beam passing holes 14a and 14'a are formed in the perforated portion 14b in the shape formed around the diagonal portion thereof and in portions other than the diagonal portion peripheral portion. The shape will be different.
즉, 상기 대각부 주변부 이외의 부분에 형성되는 전자빔 통과공(14a)은, 도 5에 도시한 있듯이 통상적인 슬롯형으로 이루어진다.That is, the electron beam through hole 14a formed in the portion other than the diagonal portion peripheral portion is formed in a conventional slot type as shown in FIG.
이에 반면, 상기 유공부(14b)의 대각부 주변부에 형성되는 전자빔 통과공(14'a)은, 도 3에 도시한 바와 같이 적어도 마주 보는 한쌍의 대향면을 경사지게 한 꼴로 형성된다.On the other hand, the electron beam through hole 14'a formed at the periphery of the diagonal portion of the perforated portion 14b is formed to be inclined at least a pair of opposing facing surfaces as shown in FIG.
다시 말해, 상기 전자빔 통과공(14'a)은, 상기 유공부(14a)의 단축(V) 방향을 따라 배치되는 장공으로 이루어지면서, 상기 단축(V) 방향 상에 배치되는 대향면을 경사지게 하여 형성된다. 이 때, 상기 대향면이 갖는 경사 방향은, 상기 유공부(14a)의 대각(D) 방향에 맞추어 이루어짐이 바람하다.In other words, the electron beam through hole 14'a is formed of a long hole disposed along the short axis V direction of the hole 14a, and the opposite surface disposed on the short axis V direction is inclined. Is formed. At this time, the inclined direction of the opposing surface is preferably made to match the diagonal D direction of the hole 14a.
이와 같은 전자빔 통과공(14a,14'a)을 갖는 플랫 마스크(140)가 일반적인 감광액 도포,노광,현상,에칭 공정 등이 상기 플랫 마스크(140)를 이루는 원판 상에 실시되어 이루어지게 되면, 이 플랫 마스크(140)는, 소정의 수소 열처리(annealing)를 거친 후, 포밍 공정으로 옮겨져 상기한 스컷트부(14c)가 굽힘 가공되도록 성형된다. 여기서 이 포밍 공정은 상기 플랫 마스크(14c)상에 설정된 성명면(14f)을 기준으로 행해지게 된다.When the flat mask 140 having the electron beam through holes 14a and 14'a is applied to a plate forming the flat mask 140 by a general photoresist coating, exposure, development, and etching process, The flat mask 140 is subjected to a predetermined hydrogen heat treatment (annealing), and then moved to a forming step to be formed such that the cut portion 14c is bent. Here, this forming process is performed based on the statement surface 14f set on the flat mask 14c.
여기서 이 포밍 공정은, 통상과 같이 프레스에 의한 가공 방법에 따라 이루어지게 되는 바, 상기 플랫 마스크(140)가 프레스에 의해 포밍될 때, 상기 유공부(14b)의 대각부 주위에 형성된 상기한 전자빔 통과공(14'a)은, 프레스가 가하는 압력에 따라, 프레스의 압력이 비교적 덜 가해지는 다른 부위의 전자빔 통과공(14a)과 같은 일반적인 형상으로 변형을 일으키게 된다.In this case, the forming step is performed according to a processing method by a press as usual, and when the flat mask 140 is formed by a press, the above-described electron beam formed around the diagonal portion of the hole 14b. The through hole 14'a is deformed into a general shape such as the electron beam through hole 14a in another part where the pressure of the press is applied relatively according to the pressure applied by the press.
즉, 본 발명에서는 기존의 플랫 마스크를 포밍시 일어났던 전자빔 통과공의 변형 정도에 맞추어 상기 유공부(14b) 대각부 주변부에 형성되는 전자빔 통과공(14'a)을 미리 경사지게 형성해 놓고 이를 포밍하게 됨으로써, 이에 대한 최종적인 왜곡 변형을 방지할 수 있게 되는 것이다.That is, in the present invention, the electron beam through hole 14'a formed in the periphery of the diagonal portion 14b of the perforated portion 14b is formed to be inclined in advance according to the degree of deformation of the electron beam through hole that occurred when the existing flat mask is formed. Therefore, it is possible to prevent the final distortion deformation for this.
이에 상기한 포밍 공정에 따라 상기 유공부(14b)의 전면에 걸쳐 전자빔 통과공이 최초에 원하던 설계치대로 모양을 갖추면서 상기 플랫 마스크(140)가 새도우 마스크(14)로 성형되면, 이 새도우 마스크(14)는 이후의 탈지 및 흑화 공정을 거쳐 최종적으로 완성되어지게 된다.Accordingly, when the flat mask 140 is molded into the shadow mask 14 while the electron beam passing hole is shaped to the desired design value over the entire surface of the hole 14b according to the forming process, the shadow mask 14 ) Is finally completed through a subsequent degreasing and blackening process.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였으나, 본 발명은이에 한정되는 것은 아니고 특허 청구의 범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하는 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, this also belongs to the scope of the present invention.
상기와 같이 본 발명에 의한 음극선관용 새도우 마스크용 플랫 마스크는, 최종 완성된 새도우 마스크의 전자빔 통과공이 유공부에 있어 부분적으로 찌그러져 성형되는 것을 방지하도록 한다.As described above, the flat mask for the cathode ray tube shadow mask according to the present invention prevents the electron beam through hole of the final shadow mask from being partially crushed and molded in the perforated part.
따라서, 본 발명의 플랫 마스크는 해당 새도우 마스크의 전자빔 통과공이 전자빔에 대한 충분한 통과 여유도를 갖도록 하여, 이에 따른 양호한 작용으로 음극선관의 품위를 향상시키는데 효과를 가지게 된다.Therefore, the flat mask of the present invention has the effect that the electron beam through hole of the shadow mask has a sufficient margin of passage to the electron beam, thereby improving the quality of the cathode ray tube with a good effect.
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20061127 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |