KR20000050724A - Manufacture method of color CRT - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 칼라음극선관에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 패널의 표면에 형성되는 대전방지막 및 반사방지막에 광흡수성을 부여함과 동시에 각 막의 표면저항을 규격수준에 맞추기 위한 칼라음극선관의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color cathode ray tube, and more particularly, to a method for producing a color cathode ray tube for providing light absorption to an antistatic film and an antireflection film formed on a surface of a panel and at the same time adjusting the surface resistance of each film to a standard level. It is about.
일반적으로, 칼라음극선관은 텔레비젼 수상기를 비롯하여 오실로스코우프나 레이다의 관측용 등으로 가장 널리 사용되는 표시장치이다.In general, color cathode ray tubes are the most widely used display devices for observation of oscilloscopes, radars, etc., including television receivers.
이러한 칼라음극선관은 전기적인 신호로 수신된 영상정보를 시각정보로 변환시켜주는 전광소자인 광의 3원색 발광 스펙트럼을 갖는 적, 녹, 청형광체 화소들과, 광흡수성 물질인 흑연(Graphite), 그리고 휘도 향상을 위한 알루미늄막 등으로 이루어진 형광막을 통해 칼라 영상을 재현시켜 인간의 시각에 전달해주는 역할을 하는 기기이다.The color cathode ray tube includes red, green, and blue phosphor pixels having three primary color emission spectra of light, which is an all-optical device that converts image information received as an electrical signal into visual information, graphite as a light absorbing material, and It is a device that plays the role of delivering color images to human vision through fluorescent film made of aluminum film for improving brightness.
따라서, 칼라음극선관은 사용자에게 전기적 안전성 및 사용상 편리성을 제공해야만 하며, 이를 위해 스크린의 표면에 대전방지막 및 반사방지막을 형성하게 된다.Therefore, the color cathode ray tube must provide the user with electrical safety and convenience in use, and for this purpose, an antistatic film and an antireflection film are formed on the surface of the screen.
도 1 은 종래 칼라음극선관의 패널 표면에 대전방지막 및 방사방지막을 형성한 구조를 나타낸 개략도로서, 패널(1) 전면에 전원의 온/오프시 음극선관에 인가되는 고전압에 의해 발생되는 전기적 챠지 현상을 제거할 수 있는 대전기능을 갖는 대전방지막(2)과, 외부로부터 입사되는 빛이 패널(1)의 전면으로 반사되어 사용자의 시야를 방해하고 피로감을 조성하므로 이와 같은 빛의 양을 감소시키기 위한 반사방지막(3)이 구성된다.1 is a schematic diagram showing a structure in which an antistatic film and an anti-radiation film are formed on a panel surface of a conventional color cathode ray tube, and an electric charge phenomenon generated by a high voltage applied to a cathode ray tube when a power supply is turned on or off in front of the panel 1 is illustrated in FIG. Antistatic film (2) having a charging function to remove the and the light incident from the outside is reflected to the front of the panel 1 to obstruct the user's view and create a feeling of fatigue to reduce the amount of such light The antireflection film 3 is configured.
이때, 대전방지막(2)은 안티몬(Sb) 성분이 약 3∼5% 분산된 SnO2성분의 졸(sol)용액을 스핀 또는 스프레이 방법으로 도포하여 구성하게 되고, 반사방지막(3)은 대전방지막(2)과는 그 굴절율이 다른 실리카(SiO2) 성분을 대전방지막(2)과 동일한 방법으로 도포하여 구성하게 된다.At this time, the antistatic film 2 is formed by applying a spin or spray method of a sol solution of SnO 2 component in which antimony (Sb) component is dispersed about 3 to 5%, and the antireflection film 3 is an antistatic film 3 A silica (SiO 2 ) component having a different refractive index than that of (2) is applied by the same method as that of the antistatic film 2 and constituted.
이하, 대전방지막(2) 및 반사방지막(3)을 형성하는 방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of forming the antistatic film 2 and the antireflection film 3 will be described in detail.
먼저, 음극선관의 패널(1) 표면을 세정하고, 세록스(CeO2)를 이용하여 연마한 후 연마 표면을 순수와 알콜을 이용하여 세척한 다음 건조시킨다.First, the surface of the panel 1 of the cathode ray tube is cleaned, polished using Cerox 2 , and then the polished surface is washed with pure water and alcohol and then dried.
건조된 음극선관을 예열로에 안착하여 그 표면을 약 40∼50℃로 가열한 후 스핀 또는 스프레이 코팅 방식을 이용하여 Sb성분이 약 3∼5% 분산된 SnO2성분의 졸(sol)용액을 도포함으로써 대전방지막(2)이 형성되고, 그 상부에 대전방지막(2)과 굴절율이 다른 실리카 성분을 상기한 방법으로 코팅 처리하여 반사방지막(3)을 구성하게 된다.The dried cathode ray tube was placed in a preheating furnace, and the surface thereof was heated to about 40 to 50 ° C., followed by spin or spray coating, to obtain a SnO 2 sol solution containing about 3 to 5% of the Sb component. The antistatic film 2 is formed by coating, and the antireflection film 3 is formed by coating a silica component having a refractive index different from that of the antistatic film 2 on the upper surface thereof by the above-described method.
이후, 반사방지막(3) 상부에 스프레이 방법으로 요철을 형성하게 되는데, 이는 반사방지막(3) 코팅시 문제가 되는 얼룩을 잘 보이지 않게 하여 확산 반사율을 줄여줌과 동시에 손지문 묻어남을 줄이기 위한 것이다.Thereafter, irregularities are formed on the anti-reflection film 3 by spraying, which is to reduce the diffuse reflectance and at the same time reduce the smudges of fingerprints by preventing the stains that are problematic when coating the anti-reflection film 3.
그러나 이와 같이 스핀 또는 스프레이 방법으로 대전방지막을 형성함에 있어서는 약품 세척 공정이 불리하고 패널면에 스크레치 불량이 증가하며, 흡착시 자국이 발생하는 등 이물질 관리에 어려움이 발생되었다.However, in the formation of the antistatic film by the spin or spray method, the chemical cleaning process is disadvantageous, the scratch defects increase on the panel surface, and foreign matters are difficult to manage, such as marks on adsorption.
또한, 상기한 방법에 의해 형성된 대전방지막은 그 표면 저항이 10E7∼10E8(Ω/?)수준이 되어 MPR∥ 규격에는 도달하나 현재 가장 관심이 고조되고 있는 TCO 규격에는 미치지 못하고 있다.In addition, the antistatic film formed by the above-described method has a surface resistance of 10E7 to 10E8 (Ω /?), Which reaches the MPR∥ standard, but does not meet the TCO standard, which is currently gaining attention.
즉, 모니터 세트에서 전계, 자계 규격에 도달하기 위해서는 표면저항 수준이 10E3(Ω/?) 이하(TCO 규격)에 도달해야 하나 졸(sol) 코팅 용액으로서는 이와 같은 수준의 대전방지막을 구성할 수는 없었다.In other words, in order to reach the electric field and magnetic field specifications in the monitor set, the surface resistance level must reach 10E3 (Ω /?) Or lower (TCO standard), but as the sol coating solution, such an antistatic film cannot be formed. There was no.
따라서, 본 발명은 이러한 점을 감안하여 제안된 것으로, 대전방지막에 대전기능 이외에 광흡수성을 갖도록 하여 사용자의 피로감을 줄이는 칼라음극선관 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been proposed in view of the above, and an object thereof is to provide a method for manufacturing a color cathode ray tube to reduce fatigue of a user by having an anti-static film having light absorption in addition to a charging function.
다른 견지로는, 칼라음극선관의 표면저항을 TCO 규격 수준에 맞추어 세계 시장에서의 경쟁력을 확보하는 데 그 목적이 있다.In another aspect, the objective is to secure the competitiveness in the global market by matching the surface resistance of color cathode ray tubes to TCO standards.
도 1 은 일반적인 칼라음극선관의 구성도이고,1 is a configuration diagram of a general color cathode ray tube,
도 2 는 본 발명에 의한 칼라음극선관의 패널 구성도이고,2 is a panel configuration diagram of a color cathode ray tube according to the present invention;
도 3 은 본 발명에 의한 칼라음극선관의 대전방지막 및 반사방지막 형성공정도로서,3 is an antistatic film and antireflection film forming process chart of a color cathode ray tube according to the present invention;
(가)는 연마 및 세척공정이고,(A) is the polishing and cleaning process,
(나)는 대전방지막 및 반사방지막 증착공정이고,(B) is an antistatic film and antireflection film deposition process,
도 4 는 본 발명에 의한 대전방지막의 산소 첨가량에 따른 표면저항 및 광투과율의 변화를 나타낸 그래프로서,4 is a graph showing the change in the surface resistance and light transmittance according to the oxygen amount of the antistatic film according to the present invention,
(가)는 산소 첨가량에 따른 표면저항을 나타낸 그래프이고,(A) is a graph showing the surface resistance according to the amount of oxygen added,
(나)는 산소 첨가량에 따른 광투과율을 나타낸 그래프이다.(B) is a graph showing the light transmittance according to the amount of oxygen added.
*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for the main parts of the drawing ***
101 : 패널102 : 대전방지막101 panel 102: antistatic film
103 : 반사방지막104, 104' : 고정대103: antireflection film 104, 104 ': fixing table
105 : 연마기106 : 용액주입 노즐105: grinder 106: solution injection nozzle
107 : 진공챔버108, 108' : 금속타겟107: vacuum chamber 108, 108 ': metal target
이러한 목적들을 달성하기 위한 본 발명에 따른 칼라음극선관 제조방법은, 패널의 전면을 연마 처리·세정·건조·이물질 제거한 후 대전방지막을 코팅하는 칼라음극선관 제조방법에 있어서,In the color cathode ray tube manufacturing method according to the present invention for achieving the above object, in the method for producing a color cathode ray tube coated with an antistatic film after polishing, washing, drying, removing foreign matters on the entire surface of the panel,
소정의 진공챔버내에서 IT를 주성분으로 하는 타겟을 설치하고 소정의 물리적인 힘을 가함과 동시에 산소(O)를 주입하면서 그 양을 제어하여 상기 패널의 전면에 가시광선 영역인 400∼780㎚ 범위에서 광흡수성과 대전방지 기능을 동시에 만족시키는 인듐틴옥사이드(ITO)로 된 대전방지막을 형성하는 것을 특징으로 한다.In the predetermined vacuum chamber, a target mainly composed of IT is installed, and a predetermined physical force is applied, while oxygen (O) is injected to control the amount thereof, so that the visible light region in the front of the panel is in the range of 400 to 780 nm. It characterized in that to form an antistatic film of indium tin oxide (ITO) that satisfies the light absorption and antistatic function at the same time.
바람직하기로, 상기 대전방지막과는 굴절율이 다르며 광반사율이 낮은 이산화규소(SiO2), 이산화티타늄(TiO2), 산화나니오븀(Nb2O5) 중 적어도 하나가 포함된 금속타겟을 설치한 후 물리 증착법으로 적어도 1층의 반사방지막을 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.Preferably, a metal target including at least one of silicon dioxide (SiO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), and niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a different refractive index and lower light reflectance than the antistatic film is provided. It is characterized in that it further comprises the step of forming at least one anti-reflection film by physical vapor deposition.
바람직하기로, 상기 대전방지막 형성시 첨가되는 산소의 비는 막 표면저항을 500∼3300(Ω/?) 수준으로 유지하기 위해 인듐틴옥사이드(ITO)의 IT와 반응하는 O가 포화상태일 경우를 100%라 할 때 37.5∼100% 범위를 갖는 것을 특징으로 한다.Preferably, the ratio of oxygen added when the antistatic film is formed is a case where O reacts with IT of indium tin oxide (ITO) to maintain the film surface resistance at a level of 500 to 3300 (Ω /?). When it is 100%, it is characterized by having a range of 37.5 to 100%.
바람직하기로, 상기 대전방지막의 투과율 범위가 가시광선 영역인 400∼780㎚에서 68∼98%인 것을 특징으로 한다.Preferably, the antistatic film has a transmittance range of 68 to 98% at 400 to 780 nm, which is a visible light region.
선택적으로, 상기 대전방지막 형성시 첨가되는 산소의 비는 막 표면저항을 500∼1000(Ω/?) 수준으로 유지하기 위해 인듐틴옥사이드(ITO)의 IT와 반응하는 O가 포화상태일 경우를 100%라 할 때 80∼100% 범위를 갖는 것을 특징으로 한다.Optionally, the ratio of oxygen added during the formation of the antistatic film is 100 when O reacted with IT of indium tin oxide (ITO) to maintain the film surface resistance at a level of 500 to 1000 (Ω /?). When it is referred to as%, it is characterized by having a range of 80 to 100%.
선택적으로, 상기 대전방지막의 투과율 범위가 가시광선 영역인 400∼780㎚에서 85∼98%인 것을 특징으로 한다.Optionally, the antistatic film has a transmittance range of 85 to 98% at 400 to 780 nm, which is a visible light region.
이와 같이 하면, 대전방지막 형성시 산소 농도 제어에 따라 대전방지막의 표면저항 수준을 다양하게 구현할 수 있으며, 국제 규격으로 주목되는 TCO규격에 부합되는 표면저항 수준을 유지할 수 있다.In this way, the surface resistance level of the antistatic film can be variously implemented according to the oxygen concentration control when the antistatic film is formed, and it is possible to maintain the surface resistance level that meets the TCO standard which is noted as an international standard.
그 결과, 대전물질의 부착 및 이물질 관리가 용이해지고, 대전방지막에 광흡수성이 부여되어 화면상에서 광반사율이 작아지므로 사용자의 피로감을 덜 수 있는 이점이 있다.As a result, the adhesion of the charged material and the management of foreign matters are easy, and the light absorption is given to the antistatic film, so that the light reflectivity is reduced on the screen, thereby reducing the user's fatigue.
그리고, 본 발명의 실시 예로는 다수개가 존재할 수 있으며, 이하에서는 가장 바람직한 실시 예에 대하여 상세히 설명하기로 한다.And, there may be a plurality of embodiments of the present invention, hereinafter will be described in detail with respect to the most preferred embodiment.
이 바람직한 실시 예를 통해 본 발명의 목적, 특징 및 이점들을 보다 잘 이해할 수 있게 된다.This preferred embodiment allows for a better understanding of the objects, features and advantages of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 칼라음극선관 제조방법 바람직한 실시 예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a preferred embodiment of a color cathode ray tube manufacturing method according to the present invention with reference to the accompanying drawings will be described in detail.
도 2 는 본 발명에 의한 방법으로 칼라음극선관에 대전방지막과 반사방지막을 형성한 상태도로서, 음극선관용 패널(101)의 외면에 광흡수 기능을 함께 갖는 대전 방지막(102) 및 1층 이상의 반사방지막(103)이 코팅되어 있음을 알 수 있다.FIG. 2 is a state diagram in which an antistatic film and an antireflection film are formed on a color cathode ray tube by the method according to the present invention, wherein an antistatic film 102 having at least one light absorption function on an outer surface of the cathode ray tube panel 101 and an antireflection film of at least one layer are provided. It can be seen that 103 is coated.
이 중 대전방지막(102)은 광흡수성이 부여된 것으로, 인듐틴옥사이드(ITO)의 산소 함유량 조정에 의한 광흡수의 양이 변하는 성질을 이용하여 스퍼터링(Sputtering) 방식으로 코팅한 것이다.Among these, the antistatic film 102 is provided with light absorbency, and is coated by a sputtering method using a property of changing the amount of light absorption by adjusting the oxygen content of indium tin oxide (ITO).
이때, 인듐틴옥사이드(ITO)의 산소 함유량 변화는 인듐틴옥사이드(ITO)의 IT와 반응하는 O의 량이 포화상태일 경우를 기준으로 일정 범위내에서 적절히 조정하면서 대전방지막(102)이 가시광선 영역인 400∼780㎚ 범위에서 최적의 광흡수성을 갖도록 조건을 선택해야 한다.At this time, the change in the oxygen content of the indium tin oxide (ITO) is appropriately adjusted within a certain range on the basis of the case where the amount of O reacting with the IT of the indium tin oxide (ITO) is saturated, the antistatic film 102 is visible region The conditions should be selected to have an optimal light absorbency in the range of 400 to 780 nm.
예를 들면, 대전방지막(102) 형성시 인듐틴옥사이드(ITO)의 IT와 반응하는 O가 포화상태일 경우를 100%라 할 때 첨가되는 산소의 비를 37.5∼100% 범위내에서 조정하게 되면 대전방지막(102)의 투과율 범위가 가시광선 영역인 400∼780㎚에서 68∼98%이고, 이때의 표면저항은 500∼3300(Ω/?) 수준이 되어 보다 넓은 영역의 표면 저항을 나타내게 된다.For example, when O is reacted with IT of indium tin oxide (ITO) at the time of forming the antistatic film 102, the ratio of oxygen added when 100% is adjusted within the range of 37.5 to 100%. The transmittance range of the antistatic film 102 is 68 to 98% at 400 to 780 nm, which is the visible light region, and the surface resistance at this time is 500 to 3300 (? /?), Indicating a wider surface resistance.
또한, 산소의 비를 80∼100% 범위내에서 조정하게 되면 대전방지막(102)의 투과율 범위가 가시광선 영역인 400∼780㎚에서 85∼98%이고, 이때의 표면저항은 500∼1000(Ω/?) 수준이 되어 TCO 규격 수준을 만족시킬 수 있다.When the ratio of oxygen is adjusted within the range of 80 to 100%, the transmittance range of the antistatic film 102 is 85 to 98% at 400 to 780 nm, which is the visible light region, and the surface resistance at this time is 500 to 1000 (Ω). /?) Level to satisfy the TCO specification level.
즉, 스퍼터링 방법으로 대전방지막(102)을 형성함에 있어 IT와 반응하는 O의 함량 제어에 따라 그 표면 저항을 다양하게 구현할 수 있는 것이다.That is, in forming the antistatic film 102 by the sputtering method, the surface resistance can be variously implemented according to the control of the content of O reacting with IT.
도 4는 이러한 산소 함량 변화에 따른 표면 저항 및 광투과율을 그래프로 나타낸 것이다.4 is a graph showing surface resistance and light transmittance according to such oxygen content change.
이때, IT에 결합된 O의 함유량이 포화상태를 기준으로 37.5% 미만일 경우에는 대전방지막(102)의 투명도가 저하되고, 100% 이상일 경우에는 산소 함량이 포화상태가 되어 그 이상 첨가할 필요가 없게 된다.At this time, when the content of O bonded to IT is less than 37.5% based on the saturation state, the transparency of the antistatic film 102 is lowered, and when the content of O is 100% or more, the oxygen content becomes saturated and no further addition is necessary. do.
다음으로, 반사방지막(103) 형성시는 저굴절율을 가진 이산화규소(SiO2), 이산화티타늄(TiO2) 또는 산화나니오븀(Nb2O5) 중 선택된 1종 또는 그 이상의 화합물이 주성분인 물질을 스퍼터링 방법으로 1층 또는 그 이상으로 코팅하여 구성하게 된다.Next, when the antireflection film 103 is formed, one or more compounds selected from silicon dioxide (SiO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), or niobium oxide (Nb 2 O 5 ) having a low refractive index are the main components. It is configured by coating in one or more layers by the sputtering method.
이때의 막 두께는 가시광의 투과가 가능한 10∼1000㎚로 함이 바람직하다.It is preferable that the film thickness at this time is 10-1000 nm which can transmit visible light.
이하에서는 첨부된 도 3 을 참조하여 본 발명에 의한 칼라음극선관의 대전방지막 및 반사방지막의 제조방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing an antistatic film and an antireflection film of a color cathode ray tube according to the present invention will be described with reference to the accompanying FIG. 3.
먼저 도 3 의 (가)와 같이 패널(101)과 펀넬의 조립이 완성된 상태의 음극선관을 고정대(104)에 올려 놓고 음극선관 전면을 세록스(CeO2) 등의 연마제를 이용하여 연마기(105)로 연마처리한 후 용액주입 노즐(106)을 통해 세정하고, 건조 및 이물질 제거를 위해 에어블로우(Air-blow) 처리한다.First, as shown in (a) of FIG. 3, the cathode ray tube in which the assembly of the panel 101 and the funnel is completed is placed on the holder 104, and the front side of the cathode ray tube is polished using an abrasive such as Cerox (CeO 2 ). 105) and then cleaned through the solution injection nozzle 106, and air-blow (dry) and remove the foreign matter.
이후, 도 3 의 (나)와 같이 약 10E-5 torr의 진공챔버(107) 안에 상기 처리된 음극선관을 고정대(104')에 올려 놓고 음극선관의 패널(101) 전면에 인듐틴옥사이드(ITO)를 형성하기 위한 금속타겟(108)을 설치한 후 물리적인 힘을 가함과 동시에 산소를 주입하면서 패널(101)의 전면에 인듐틴옥사이드(ITO)를 코팅하여 광흡수성을 갖는 대전방지막(102)을 형성한다.Thereafter, the treated cathode ray tube is placed on the holder 104 'in the vacuum chamber 107 of about 10E-5 torr as shown in FIG. 3B, and indium tin oxide (ITO) is placed on the front surface of the panel 101 of the cathode ray tube. After installing the metal target 108 to form the () to apply a physical force and at the same time injecting oxygen while coating the indium tin oxide (ITO) on the front surface of the panel 101, the antistatic film 102 having light absorption To form.
마지막으로, 상기 대전방지막(102)과는 굴절율이 다르며 광반사율이 낮은 물질(이산화규소(SiO2), 이산화티타늄(TiO2) 또는 산화나니오븀(Nb2O5) 등)로 된 금속타겟(108')을 설치한 후 동일한 방법으로 반사방지막(103)을 형성하여 완성한다.Finally, a metal target made of a material having a different refractive index and a low light reflectance (silicon dioxide (SiO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), or niobium oxide (Nb 2 O 5 ), etc.) from the antistatic film 102 ( 108 ') and then the anti-reflection film 103 is formed and completed in the same manner.
이와 같은 방법을 물리증착법(PVD)이라 하고, 스퍼터링 방법(진공증착법)이 이에 속한다.Such a method is called physical vapor deposition (PVD), and the sputtering method (vacuum deposition) belongs to this method.
여기서, 상기 대전방지막(102)에 광흡수성을 부여한 것은 반사율이 작으면 사용자의 피로감을 줄일 수 있음에 착안한 것으로, 광흡수성이 부여되면 화면상에서 그에 해당하는 만큼 반사율을 줄일 수 있게 된다.In this case, the light absorbency is provided to the antistatic film 102. The light reflectance is reduced to reduce the user's fatigue. When the light absorbency is provided, the corresponding reflectance can be reduced on the screen.
그리고, 상기에서 본 발명의 특정한 실시 예가 설명 및 도시되었지만 본 발명이 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다.In addition, although specific embodiments of the present invention have been described and illustrated above, it is obvious that the present invention may be variously modified and implemented by those skilled in the art.
이와 같은 변형된 실시 예들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며, 이와 같은 변형된 실시 예들은 본 발명의 첨부된 특허청구범위 안에 속한다 해야 할 것이다.Such modified embodiments should not be individually understood from the technical spirit or the prospect of the present invention, and such modified embodiments should fall within the appended claims of the present invention.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 물리증착법에 의해 대전방지막 및 반사방지막을 구성함으로써 대전물질의 부착 및 이물질 관리가 용이해지며, 특히 대전방지막에 광흡수성을 부여함으로써 화면상에서 광반사율이 작아지므로 사용자의 피로감을 덜 수 있으며, 상기 대전방지막의 표면저항이 500∼1000(Ω/?)범위에서 형성되므로 현재 가장 주목되는 TCO규격을 만족시킬 수 있게 된다.As described above, according to the present invention, the antistatic film and the antireflection film are formed by physical vapor deposition, thereby facilitating the attachment of the charged material and the management of the foreign matter. The fatigue can be reduced, and the surface resistance of the antistatic film is formed in the range of 500 to 1000 (Ω /?), Thereby satisfying the TCO standard, which is currently the most noticeable.
또한, 종래 칼라음극선관의 대전방지막 형성에 사용되던 졸 용액이 약품 세척 공정에 굉장히 불리하게 작용되는 반면 본 발명에 의한 방법은 약품 세척 공정이 필요 없으므로 수명성 및 안정성이 확보되어 반영구적으로 사용할 수 있는 효과가 있다.In addition, while the sol solution used in the conventional antistatic film formation of the color cathode ray tube acts very disadvantageously in the chemical cleaning process, the method according to the present invention does not need the chemical cleaning process, so it can be used semi-permanently because its lifespan and stability are secured. It works.
Claims (6)
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR20030013999A (en) * | 2001-08-10 | 2003-02-15 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | A braun-tube |
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