KR20000044807A - 박막형 광로조절장치의 lsco 전극 형성방법 - Google Patents

박막형 광로조절장치의 lsco 전극 형성방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20000044807A
KR20000044807A KR1019980061307A KR19980061307A KR20000044807A KR 20000044807 A KR20000044807 A KR 20000044807A KR 1019980061307 A KR1019980061307 A KR 1019980061307A KR 19980061307 A KR19980061307 A KR 19980061307A KR 20000044807 A KR20000044807 A KR 20000044807A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
actuator
layer
lsco
thin film
Prior art date
Application number
KR1019980061307A
Other languages
English (en)
Inventor
민동훈
Original Assignee
전주범
대우전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 전주범, 대우전자 주식회사 filed Critical 전주범
Priority to KR1019980061307A priority Critical patent/KR20000044807A/ko
Publication of KR20000044807A publication Critical patent/KR20000044807A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G02B26/0858—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by piezoelectric means
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/01—Manufacture or treatment
    • H10N30/09—Forming piezoelectric or electrostrictive materials
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one piezoelectric, electrostrictive or magnetostrictive element covered by groups H10N30/00 – H10N35/00
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00—Optical: systems and elements
    • Y10S359/904—Micromirror

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

본 발명은 박막형 광로조절장치의 LSCO 전극 형성방법을 개시한다.
본 발명은 구동기판과, 상기 구동기판 위에 제 1 희생층, 멤브레인, 하부전극, 변형층, LSCO 전극 및 상부전극으로 구성된 액츄에이터 및 액츄에이터의 끝단에 지지되는 구동거울을 구비한 박막형 광로조절장치의 제조방법에 있어서, 상기 LSCO 전극을 졸-겔 코팅(sol-gel coating) 공정으로 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 졸-겔 코팅 공정으로 증착된 변형층 위에 동일한 공정방법인 졸-겔 코팅 공정으로 LSCO 전극을 증착함에 따라 변형층 상부가 손상되거나, 변형층과 상부전극 사이에서 전하의 흐름이 차단되어 전기적 신호 인가시 전기적 신호의 변형 및 반응속도 둔화, 신호 강도의 감소 등이 발생되지 않아 액츄에이터의 구동특성을 향상시키는 효과를 얻을 수 있다.

Description

박막형 광로조절장치의 ＬＳＣＯ 전극 형성방법
본 발명은 박막형 광로조절장치(Thinfilm Micromirror Array-actuated)에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 변형층 위에 LSCO 전극을 형성할 때 변형층 표면이 손상받는 것을 최소화하여 액츄에이터의 구동특성을 향상시킬 수 있는 박막형 광로조절장치의 LSCO 전극 형성방법에 관한 것이다.
일반적으로, 광속을 조절하여 화상을 형성할 수 있는 표시장치는 크게 광원으로부터 입사되는 광속을 스크린에 투영하는 방법에 따라서 CRT(Cathod Ray Tube) 등의 직시형 화상표시장치와 투사형 화상표시장치로서 액정 표시장치(Liquid Crystal Display), DMD(Deformable Mirror Device), 또는 TMA(Thinfilm Micromirror Array-actuated)등이 있다.
CRT 장치는 화상의 질은 우수하지만 화면의 대형화에 따라 장치의 중량과 용적이 증가하며 그 제조비용이 상승하는 문제가 있으며, 이에 비하여 액정 표시장치(LCD)는 평판으로 형성할 수 있으나 입사되는 광속의 편광으로 인하여 1∼2％의 낮은 광효율을 가지며, 그 내부의 액정 물질의 응답 속도가 느린 단점이 있었다.
이와 같은 LCD의 문제점들을 해결하기 위하여 DMD, 또는 TMA 등의 표시장치가 개발되었다. 현재, DMD가 약 5% 정도의 광효율을 가지는 것에 비하여 TMA는 10% 이상의 광효율을 얻을 수 있다. 또한, TMA는 입사되는 광속의 극성에 의해 영향을 받지 않을 뿐만아니라 광속의 극성에 영향을 끼치지 않는다.
통상적으로, TMA 내부에 형성된 각각의 액츄에이터들은 인가되는 화상 신호 및 바이어스 전압에 의하여 발생되는 전계에 따라 변형을 일으킨다. 이 액츄에이터가 변형을 일으킬 때, 상기 액츄에이터의 상부에 장착된 각각의 거울들은 전계의 크기에 비례하여 경사지게 된다.
따라서, 경사진 거울들은 광원으로부터 입사된 빛을 소정의 각도로 반사시킬 수 있게 된다.
도 1은 종래의 박막형 광로조절장치의 일예를 도시한 평면도이며, 도 2는 도 1의 A-A선 단면도이다.
도시된 바와 같이, 종래의 박막형 광로조절장치는 구동기판(5)과 그 상부에 형성된 액츄에이터(65) 및 액츄에이터(65) 상부에 형성되는 구동거울(60)로 이루어진다.
전술한 액츄에이터(65)는 멤브레인(30), 하부전극(35), 변형층(electrodisplacive;40), 상부전극(45)을 포함하며, 예컨대, 액츄에이터(65)를 구성하는 물질들은 질화실리콘(Si3N4)층 위에 TaO/Pt/PNZT(Nb1%)/LSCO/Pt로 구성되어 있다. 질화실리콘층은 멤브레인(30)역할을 하며, 하부전극(35) 및 상부전극(45)은 백금(Pt)재질로 이루어지며, 변형층(40)은 (Pb(ZrTi)O3)에 니오븀(Nb)이 소량 첨가된 PNZT 재질로 이루어지며, 멤브레인(30)과 하부전극(35) 사이에는 접착력을 증대시키기 위한 산화탄탈륨(TaO)이 개재되며, 변형층(40)의 결정화에 도움을 주는 LSCO 전극(LaSrCoO3)(45a)이 변형층(40)과 상부전극(45) 사이에 개재되어 있다.
또한, 액츄에이터(65)는 구동기판(5)의 드레인 패드(미도시됨)와 하부전극(35)을 전기적으로 연결하는 비아컨택(55)을 포함한다.
구동거울(60)은 멤브레인(30)의 끝단부 중앙에 형성된 포스트(75)에 의해 그 중심부가 지지되어 있다.
이와같은 종래의 박막형 광로조절장치는 신호전극인 하부전극(35)에 화상 신호 전압이 인가되며, 공통전극인 상부전극(45)에 바이어스 전압이 인가되면 상부전극(45)과 하부전극(35) 사이에 전계가 발생하게 된다. 이 전계에 의하여 상부전극(45)과 하부전극(35) 사이의 변형층(40)이 변형을 일으키게 되며, 상기 변형층(40)은 전계와 수직한 방향으로 수축하게 된다. 이에 따라 변형층(40)을 포함하는 액츄에이터(65)가 소정의 각도로 휘어지고, 액츄에이터(65)의 구동 선단부에 장착된 구동거울(60)은 휘어진 멤브레인(30)에 의해 경사지게 되어 광원으로부터 입사되는 광속을 반사한다. 상기 구동거울(60)에 의해 반사된 광속은 TMA 광학계의 슬릿을 통하여 스크린에 투영된다. 이와 같은 박막형 광로조절장치가 단위 픽셀(pixel)을 이루어 매트릭스 구조로 M×N(M, N은 정수)개로 배열된 TMA 모듈(moudule)을 형성하여 화상을 구현하게 된다.
그런데 종래의 박막형 광로조절장치에서 졸-겔 코팅 공정으로 증착된 변형층(40) 위에 스퍼터링(sputtering) 공정에 의해 LSCO 전극(45a)이 증착됨에 따라 변형층(40) 상부에 손상을 주어 상부전극(45)과 변형층(40) 사이에 도 2에 도시된 바와 같이, 원하지 않는 Sr4Ti3O10층(45b)이 형성된다.
이와 같은 Sr4Ti3O10층(45b)은 LSCO 물질의 스퍼터링 증착 과정에서 손상된 변형층(40) 표면에서 나온 Ti와 LSCO 물질에서 스트론튬(Sr)이 빠져나와 서로 결합되어 생성된 것으로 나타났다. 이러한 Sr4Ti3O10층(45b)의 생성은 하부전극(35)에 전기적 신호 인가시 Sr4Ti3O10층(45b)에서 전하를 흐름을 막아 전기적 신호의 변형 및 반응속도 둔화, 신호 강도의 감소 등을 유발하여 액츄에이터(65)의 구동 특성에 좋지 못한 영향을 주는 문제를 야기한다.
따라서 본 발명은 이와같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 졸-겔 코팅 공정으로 증착된 변형층 위에 LSCO 전극을 증착하면서 변형층 상부가 손상되거나, 변형층과 상부전극 사이에서 전하의 흐름이 차단되어 전기적 신호 인가시 전기적 신호의 변형 및 반응속도 둔화, 신호 강도의 감소 등이 발생되지 않는 박막형 광로조절장치의 LSCO전극 형성방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은 구동기판과, 상기 구동기판 위에 제 1 희생층, 멤브레인, 하부전극, 변형층, LSCO 전극 및 상부전극으로 구성된 액츄에이터 및 액츄에이터의 끝단에 지지되는 구동거울을 구비한 박막형 광로조절장치의 제조방법에 있어서, 상기 LSCO 전극을 졸-겔 코팅(sol-gel coating) 공정으로 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 목적과 여러 가지 장점은 이 기술 분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 아래에 기술되는 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.
도 1은 종래의 박막형 광로조절장치의 평면도,
도 2는 도 1의 A-A'선 단면도,
도 3은 본 발명에 따른 박막형 광로조절장치를 도시한 단면도,
도 4a 내지 4f는 본 발명에 따른 2층구조 박막형 광로조절장치 제조방법을 도시한 공정 단면도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
5 ; 구동기판 30 ; 멤브레인
35 ; 하부전극 40 ; 변형층
45 ; 상부전극 55 ; 비아컨택
60 ; 구동거울 65 ; 액츄에이터
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 박막형 광로조절장치 제조방법을 상세하게 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 박막형 광로조절장치를 도시한 단면도이며, 도 1 및 도 2와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하여 설명한다.
도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 박막형 광로조절장치는 구동기판(5)과 그 상부에 형성된 액츄에이터(65) 및 액츄에이터(65) 상부에 형성되는 구동거울(60)로 이루어진다.
구동기판(5) 내부에는 도면상 미도시되어 있으나, M×N개의 트랜지스터가 내장되어 있으며, 구동기판(5) 상부에는 구동기판(5)에 내장된 트랜지스터가 손상되는 것을 방지하기 위한 인 실리케이트 유리(PSG) 재질의 보호층(15)을 구비한다.
액츄에이터(65)는 질화실리콘(Si3N4)재질의 멤브레인(30) 위에 TaO/Pt/PNZT (Nb1%)/LSCO/Pt로 구성되어 있다. 하부전극(35) 및 상부전극(45)는 백금(Pt)재질로 이루어지며, 변형층(40)은 (Pb(ZrTi)O3)에 니오븀(Nb)이 소량 첨가된 PNZT 재질로 이루어지며, 멤브레인(30)과 하부전극(35) 사이에는 접착력을 증대시키기 위한 산화탄탈륨층(TaO; 31)이 개재되며, 변형층(40)의 결정화에 도움을 주는 LSCO(LaSrCoO3)전극(45a)이 변형층(40)과 상부전극(45) 사이에 개재되어 있다.
한편, 액츄에이터(65)는 구동기판(5)의 드레인 패드(미도시됨)와 하부전극(35)을 전기적으로 연결하는 비아컨택(55)이 이루어진다.
또한, 구동거울(60)은 멤브레인(30)의 끝단부 중앙에 형성된 포스트(75)에 의해 그 중심부가 지지된다.
이와 같은 구조를 갖는 박막형 광로조절장치의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.
도 4a 내지 4f는 본 발명에 따른 2층구조 박막형 광로조절장치 제조방법을 도시한 공정 단면도이다.
도 4a를 참조하면, M×N개의 트랜지스터가 내장되고 그 일측 상부에 드레인 패드(미도시됨)가 형성되어 있는 구동기판(5)을 준비한다. 그 위에 인 실리케이트 유리(PSG)재질의 보호층(15)을 형성하여 후속하는 공정 동안 구동기판(5)에 내장된 트랜지스터가 손상되는 것을 방지한다.
도 4b를 참조하면, 보호층(15)이 형성된 구동기판(5) 상부에 제 1 희생층(25)을 형성한다. 제 1 희생층(25)은 인 실리케이트 유리(PSG) 또는 폴리 실리콘을 저압 화학 기상 증착법(LPCVD)으로 형성한다.
제 1 희생층(25) 위에는 액츄에이터(65)가 형성되므로 평탄한 상태를 유지해야 하는데 트랜지스터가 내장된 구동기판(5) 상부에 형성되는 제 1 희생층(25)의 표면은 평탄도가 매우 불량하다. 따라서, 제 1 희생층(25)의 표면을 CMP(Chemical Mechanical Polishing)공정을 통해 평탄화 한다.
그리고 제 1 희생층(25)을 패터닝하여 드레인 패드(미도시됨)의 상방에 위치한 식각 방지층(20)의 일단을 노출시켜 액츄에이터(65)의 지지영역을 형성한다.
도 4c를 참조하면, 이 지지영역을 포함하는 제 1 희생층(25)의 상부에 화학기상증착(CVD) 공정으로 질화물로 이루어진 멤브레인(30)을 형성하고, 그 위에 스퍼터링 공정으로 하부전극(35)와의 접착성을 고려하여 산화탄탈륨층(35a)을 형성한다. 그리고, 그 위에 스퍼터링 공정으로 전기 전도성이 우수한 백금, 백금-탄탈륨 등의 금속으로 이루어진 하부전극(35)을 형성하고, 그 위에 졸-겔 코팅 공정으로 PNZT로 이루어진 변형층(40)을 형성하고, 그 위에 본 발명의 특징적인 제조공정에 따라 졸-겔 코팅 공정으로 LSCO전극을 형성한다. 그리고 그 위에 스퍼터링 공정으로 알루미늄, 백금 또는 은 등으로 이루어진 상부전극(45)을 형성한다.
이어서, 액츄에이터(65)를 픽셀단위로 분리시키기 위해 상부전극(45), LSCO 전극(45a), 변형층(40), 하부전극(35), 산화탄탈륨층(35a) 및 멤브레인(30)을 패터닝한다.
이어서, 도 4d에 도시된 바와 같이, 액츄에이터(65)의 지지영역에 위치하는 상부전극(45), LSCO 전극(45a), 변형층(40), 하부전극(35), 산화탄탈륨층(35a) 및 멤브레인(30)을 도 2에 도시된 형상으로 차례로 식각하여 멤브레인(30)의 일단을 노출시키고, 이 노출된 지지영역의 일단에 멤브레인(30), 보호층(15)을 차례로 식각하여 드레인 패드(미도시됨)의 일단이 노출되도록 비아홀(50)을 형성하고, 리프트 오프(lift-off)공정으로 드레인 패드(미도시됨)와 하부전극(35)이 전기적으로 연결되도록 비아컨택(55)을 형성한다.
이어서, 도 4e를 참조하면, 먼저 픽셀단위로 패터닝된 액츄에이터(65) 전면에 포토 레지스트(PR) 또는 실리콘(Si) 재질의 제 2 희생층(70)을 형성한다.
이와 같은 제 2 희생층(70) 위에 거울면(60)을 지지할 수 있는 포스트(75)를 형성한 후 그 위에 반사특성이 우수한 알루미늄(Al)을 증착하고 이를 액츄에이터(65) 단위로 패터닝하여 거울면(60)을 형성한다.
이어서, 도 4f를 참조하면, 제 2 희생층(70) 및 제 1 희생층(25)을 XeF2가스를 이용한 식각 또는 산소 플라즈마를 이용한 에슁(ashing)공정 등으로 제거한다.
이처럼 제 2 희생층(70)의 제거로 거울면(60)과 액츄에이터(65) 사이에는 제 2 에어갭(70')이 형성되고, 제 1 희생층(25)의 제거로 구동기판(5)과 액츄에이터(65) 사이에는 제 1 에어갭(25')이 형성되어 액츄에이터(65)의 구동에 따라 거울면(60)이 구동될 수 있는 2층구조의 박막형 광로조절장치의 제조공정을 완료한다.
이와 같이 제조된 본 발명에 따른 박막형 광로조절장치는 졸-겔 코팅 공정으로 증착된 변형층(40) 위에 동일한 공정방법인 졸-겔 코팅 공정으로 LSCO 전극(45a)이 증착됨에 따라 변형층(40) 상부의 손상이 발생되지 않는다.
따라서, 상부전극(45)과 변형층(40) 사이에도 원하지 않는 Sr4Ti3O10층이 형성되지 않으므로 하부전극(35)에 전기적 신호 인가시 변형층(40)과 상부전극(45) 사이에서 전하의 흐름이 차단되어 전기적 신호의 변형 및 반응속도 둔화, 신호 강도의 감소 등이 발생되지 않게 된다.
이와같은 박막형 광로조절장치는 신호전극인 하부전극(35)에 화상 신호 전압이 인가되며, 공통전극인 상부전극(45)에 바이어스 전압이 인가되면 상부전극(45)과 하부전극(35) 사이에 전계가 발생하게 된다. 이 전계에 의하여 상부전극(45)과 하부전극(35) 사이의 변형층(40)이 변형을 일으키게 되며, 상기 변형층(40)은 전계와 수직한 방향으로 수축하게 된다. 이에 따라 변형층(40)을 포함하는 액츄에이터(65)가 소정의 각도로 휘어지고, 액츄에이터(65)의 구동 선단부에 장착된 구동거울(60)은 휘어진 멤브레인(30)에 의해 경사지게 되어 광원으로부터 입사되는 광속을 반사한다. 구동거울(60)에 의해 반사된 광속은 TMA 광학계의 슬릿을 통하여 스크린에 투영된다. 이와 같은 박막형 광로조절장치가 단위 픽셀(pixel)을 이루어 매트릭스 구조로 M×N(M, N은 정수)개로 배열된 TMA 모듈(moudule)을 형성하여 화상을 구현하게 된다.
이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 일실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴없이 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있음을 인지해야 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 졸-겔 코팅 공정으로 증착된 변형층 위에 동일한 공정방법인 졸-겔 코팅 공정으로 LSCO 전극을 증착함에 따라 변형층 상부가 손상되거나, 변형층과 상부전극 사이에서 전하의 흐름이 차단되어 전기적 신호 인가시 전기적 신호의 변형 및 반응속도 둔화, 신호 강도의 감소 등이 발생되지 않아 액츄에이터의 구동특성을 향상시키는 효과를 얻을 수 있다.

Claims (1)

  1. 구동기판과, 상기 구동기판 위에 제 1 희생층, 멤브레인, 하부전극, 변형층, LSCO 전극 및 상부전극으로 구성된 액츄에이터 및 액츄에이터의 끝단에 지지되는 구동거울을 구비한 박막형 광로조절장치의 제조방법에 있어서,
    상기 LSCO 전극을 졸-겔 코팅(sol-gel coating) 공정으로 형성하는 것을 특징으로 하는 박막형 광로조절장치의 LSCO전극 형성방법.
KR1019980061307A 1998-12-30 1998-12-30 박막형 광로조절장치의 lsco 전극 형성방법 KR20000044807A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019980061307A KR20000044807A (ko) 1998-12-30 1998-12-30 박막형 광로조절장치의 lsco 전극 형성방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019980061307A KR20000044807A (ko) 1998-12-30 1998-12-30 박막형 광로조절장치의 lsco 전극 형성방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20000044807A true KR20000044807A (ko) 2000-07-15

Family

ID=19568062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019980061307A KR20000044807A (ko) 1998-12-30 1998-12-30 박막형 광로조절장치의 lsco 전극 형성방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20000044807A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20000044807A (ko) 박막형 광로조절장치의 lsco 전극 형성방법
KR100265943B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법
KR100262736B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치
KR100256796B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법
KR100256877B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치
KR100262734B1 (ko) 박막형광로조절장치와그제조방법
KR100276664B1 (ko) 박막형 광로조절 장치 및 그 제조 방법
KR100256872B1 (ko) 액츄에이터의 초기 기울어짐을 방지할 수 있는 박막형 광로조절 장치 및 그 제조 방법
KR20000044804A (ko) 박막형 광로조절장치의 변형층 제조방법
KR100271002B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법
KR100255749B1 (ko) 질화알루미늄을 이용한 박막형 광로 조절 장치 및 그 제조방법
KR20000026865A (ko) 박막형 광로조절장치의 웨이퍼 뒷면 패턴방법
KR19990085599A (ko) 2층 구조 박막형 광로 조절 장치
KR20000032554A (ko) 2층구조 박막형 광로조절장치 제조방법
KR20000004139A (ko) 2층 구조 박막형 광로 조절 장치
KR20000004136A (ko) 2층 구조 박막형 광로 조절 장치
KR20000032553A (ko) 2층구조 박막형 광로조절장치 제조방법
KR19990018835A (ko) 박막형 광로 조절 장치의 제조방법
KR20000044831A (ko) 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법
KR20000032552A (ko) 2층구조 박막형 광로조절장치 제조방법
KR20000044202A (ko) 화소의 포인트 결함을 방지할 수 있는 박막형 광로조절 장치의제조방법
KR20000032551A (ko) 2층구조 박막형 광로조절장치 제조방법
KR19990034640A (ko) 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법
KR20000044830A (ko) 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법
KR20000032305A (ko) 박막형 광로조절 장치의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid