KR20000032339A - Method for manufacturing compartment for plasma display panel - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing a compartment for a plasma display panel is provided to form a thick glass membrane in a low temperature. CONSTITUTION: A method for manufacturing a compartment for a plasma display panel includes a first to a third step. In the first step, a lower support(2) is formed on an alkali glass sheet(1), a silver electrode(3) is formed on the lower support, and a glass powder is applied on the silver electrode. In the second step, a glass plate is accumulated on the glass powder, and a white back(4) and a thick glass membrane(5) is formed by sintering the glass powder and the glass plate. In the third step, a part of the thick glass membrane is selectively exposed, and the thick glass membrane is etched with a diluted acid until the white back is exposed.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법Manufacturing method of micro partition walls of plasma display panel

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법에 관한 것으로, 특히 격벽용 유리기판으로 연화점이 550℃ 이상인 저납유리 또는 무연유리를 사용하며, 가열된 산을 이용하여 미세격벽 패턴을 형성함으로써, 열처리시 격벽의 변형문제와 소성시 남아있는 기공을 제거하는데 적당하도록 한 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a micro-barrier of a plasma display panel, in particular, using a low lead glass or a lead-free glass having a softening point of 550 ℃ or more as a glass substrate for a partition, by forming a fine partition wall pattern using a heated acid, The present invention relates to a method of fabricating a micro-barrier for a plasma display panel suitable for removing deformation of the partition and removing pores remaining during firing.

일반적으로, 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 과정에서 가장 난해한 공정은 격벽제조공정이라 할 수 있다. 현재까지 공정이 안정되고 경제적인 스크린 인쇄법에 의해 격벽이 제작되었으나 점차 고정세화, 대화면화 추세에 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 발전추세에 맞춰 70 μ m 이하의 격벽너비를 구현하기가 어려우므로, 많은 업체에서 샌드블라스트법을 채용하고 있다. 그러나 샌드블라스트법도 노즐의 크기와 샌드입자의 한계로 고해상도 텔레비젼(HDTV)의 응용까지는 어렵다고 판단된다. 이는 상기 고해상도 티브이에 플라즈마 디스플레이 패널을 응용하기 위해서는 55인치 이상의 패널 크기가 요구되며 50 μ m 이하의 초정밀 격벽 제조기술이 요구되기 때문이다.In general, the most difficult process in the process of manufacturing a plasma display panel may be referred to as a partition wall manufacturing process. To date, bulkheads have been manufactured by stable and economical screen printing.However, in line with the development trend of plasma display panels, which have become increasingly high resolution and large screen, 70 μ Since it is difficult to realize partition widths of less than m, many companies have adopted the sandblasting method. However, the sandblasting method is also difficult to apply to high-definition television (HDTV) due to the size of the nozzle and the limitation of sand particles. In order to apply the plasma display panel to the high resolution TV, a panel size of 55 inches or more is required. μ This is because ultra-precision bulkhead manufacturing technology of m or less is required.

상기와 같은 문제를 해결하기 위해 강산에 의한 에칭법을 사용하여 유리를 에칭함으로써 격벽을 제조하는 방법이 연구되고 있으며, 이와 같은 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.In order to solve the above problems, a method of manufacturing a barrier rib by etching glass using an etching method using a strong acid has been studied. Referring to the accompanying drawings, a method of manufacturing a micro barrier rib of the conventional plasma display panel will be described in detail. As follows.

도1은 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽을 제조하는 제조공정 단면도로서, 이에 도시한 바와 같이 유리기판(1)의 상부전면에 하지층(2)을 형성하고, 그 하지층(2)의 상부에 은을 도포하고 패턴을 형성하여 다수의 은전극(3)을 형성한 다음, 상기 다수의 은전극(3)과 하지층(2)의 상부에 백색유전막(4)을 도포한 후, 그 백색유전막(4)의 상부에 격벽용 유리후막(5)을 인쇄한 후 소정의 온도에서 소성한 다음, 상기 격벽용 유리후막(5)의 상부에 포토레지스트(PR)를 도포하고 노광 및 현상하여 패턴을 형성한 후, 그 포토레지스트(PR) 패턴을 식각마스크로 하여, 희석된 산을 노즐을 통해 고압으로 분사하는 방법에 의해 상기 노출된 격벽용 유리후막95)의 일부를 상기 백색유전막(4)이 노출될 때까지 에칭하여 격벽을 제조하게 된다.FIG. 1 is a cross-sectional view of a manufacturing process for manufacturing a fine partition of a conventional plasma display panel. As shown therein, an underlayer 2 is formed on an upper surface of a glass substrate 1, and an upper portion of the underlayer 2 is formed. Silver is applied and a pattern is formed to form a plurality of silver electrodes 3, and then a white dielectric film 4 is applied on the plurality of silver electrodes 3 and the base layer 2, and then the white dielectric film After printing the glass thick film 5 for the partition on the upper part of (4) and baking at a predetermined temperature, the photoresist PR is applied on the upper part of the glass thick film for the partition 5, and the pattern is exposed and developed. After forming, using the photoresist (PR) pattern as an etch mask, a portion of the exposed barrier rib thick film 95 is sprayed by a method of spraying diluted acid at high pressure through a nozzle. Etch until exposed to make the barrier ribs.

이하, 상기와 같은 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법을 좀 더 상세히 설명한다.Hereinafter, the method of manufacturing the micro-barrier of the conventional plasma display panel as described above will be described in more detail.

먼저, 일반 창유리로 사용되는 소다회 유리인 유리기판(1)의 상부에 PbO-B2O3-SiO2계 저온형 유리를 증착하여 하지층(2)을 형성한다. 상기 유리기판(1)은 격벽 패턴의 정세도를 유지하기 위하여 연화점이 비교적 높은 유리기판도 사용되고 있으나 가격이 높아 공정온도를 될 수 있는 한 낮게 유지하기 위하여 사용해야하는 소다회 유리를 사용하며, 상기 하지층(2)은 이후에 형성되는 은전극이 상기 유리기판(1)으로 확산되는 것을 방지할 목적으로 형성한다.First, a base layer 2 is formed by depositing PbO—B 2 O 3 —SiO 2 based low temperature glass on the glass substrate 1, which is a soda ash glass used as general window glass. In order to maintain the fineness of the partition pattern, the glass substrate 1 also uses a glass substrate having a relatively high softening point, but uses soda ash glass which must be used to maintain the process temperature as low as possible due to its high price. (2) is formed for the purpose of preventing the silver electrode formed thereafter from being diffused into the glass substrate (1).

그 다음, 상기 하지층(2)의 상부에 은을 도포하고, 패턴을 형성하여 상호 소정거리만큼 이격되는 다수의 은전극(3)을 형성한다.Next, silver is coated on the base layer 2 to form a pattern to form a plurality of silver electrodes 3 spaced apart from each other by a predetermined distance.

그 다음, 상기 은전극(3)과 하지층(2)의 상부전면에 백색유전막(whiteback)을 20~30 μ m의 두께로 도포하며, 그 상부면은 평면이 되도록 한다. 이때 백색유전막(4)은 플라즈마 디스플레이 패널 배면판의 유전체로 사용된다.Then, a white dielectric film (whiteback) 20 to 30 on the upper surface of the silver electrode (3) and the base layer (2) μ It is applied with a thickness of m and its top surface is planar. At this time, the white dielectric film 4 is used as the dielectric of the plasma display panel back plate.

그 다음, 상기 백색유전막(4)의 상부에 격벽용 유리후막(5)을 300 μ m의 두께로 인쇄한 후, 550~600℃에서 소성한다. 이때, 격벽용 유리후막(5)은 유리분말을 사용하기 때문에 그 격벽용 유리후막(5) 내에 기공이 잔존하게 될 수 있다.Next, a barrier glass thick film 5 is placed on top of the white dielectric film 4. μ After printing with the thickness of m, it bakes at 550-600 degreeC. At this time, since the partition glass thick film 5 uses glass powder, pores may remain in the partition glass thick film 5.

그 다음, 상기 격벽용 유리후막(5)의 상부전면에 포토레지스트(PR)를 도포하고, 노광 및 현상하여 상기 특정 은전극(3)의 일측면 상부에 일측면이 접하며, 타측면이 상기 은전극(3)과 인접한 은전극(3)의 일측면과 소정거리 이격된 위치의 상부영역에 위치하는 다수의 패턴을 형성한다.Then, photoresist (PR) is applied to the upper surface of the barrier glass thick film (5), and exposed and developed so that one side is in contact with the upper side of the specific silver electrode (3), the other side is the silver A plurality of patterns are formed in an upper region of a position spaced a predetermined distance from one side of the silver electrode 3 adjacent to the electrode 3.

그 다음, 노즐을 이용하여 희석된 산을 고압으로 상기 노출된 격벽용 유리후막(5)에 분사하여 그 노출된 격벽용 유리후막(5)을 상기 백색유전막(4)이 노출될 때 까지 에칭하고, 상기 포토레지스트(PR) 패턴을 제거하여 상기 격벽용 유리후막(5)을 요철형태로 형성하여 격벽을 제조하게 된다.Then, the diluted acid is sprayed onto the exposed barrier rib thick film 5 at high pressure by using a nozzle to etch the exposed barrier rib thick film 5 until the white dielectric film 4 is exposed. The barrier rib is manufactured by removing the photoresist (PR) pattern to form the barrier glass thick film 5 in the form of irregularities.

그러나, 상기와 같은 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법은 초미세격벽 제조에는 적합한 방법이나 유리분말에 의한 소결법에 의하여 기공이 남게 되고, 소성온도가 550~600℃(연화온도 450~500℃)정도로 유리 조성의 선정에 제한이 있으며 따라서 열팽창 계수의 정합이 잘 되지 않아 소성공정 중에 계면응력으로 크랙이 발생할 수 있고, 상기 소성온도가 600℃정도로 높아 값이 저렴한 소다회 유리기판을 사용할 경우, 그 기판이 변형되는 문제점이 있었다.However, the method of manufacturing a micro-barrier of the conventional plasma display panel as described above is suitable for the production of ultra-fine bulkheads, but the pores remain by sintering by glass powder, and the firing temperature is 550-600 ° C. (softening temperature 450-500 ° C.) There is a limit to the selection of the glass composition, so that the thermal expansion coefficient is not well matched, so that cracks may occur due to interfacial stress during the firing process, and when the low-temperature soda ash glass substrate is used because the firing temperature is about 600 ° C., the substrate There was a problem with this transformation.

이와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 저온에서 격벽용 유리후막을 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a fine partition wall of a plasma display panel capable of forming a glass thick film for partition walls at a low temperature.

도1은 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조공정 단면도.1 is a cross-sectional view of a manufacturing process of a fine bulkhead of a conventional plasma display panel.

도2a 내지 도2c는 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조공정 수순단면도.Figures 2a to 2c is a cross-sectional view of the procedure for producing a fine partition wall plasma display panel of the present invention.

***도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명****** Description of the symbols for the main parts of the drawings ***

1:유리기판 2:하지막1: glass substrate 2: lower film

3:은전극 4:백색유전막3: silver electrode 4: white dielectric film

5:격벽용 유리후막 6:내열성 스테인레스 강판5: Glass thick film for bulkhead 6: Heat-resistant stainless steel sheet

7:흑색 유리후막7: black glass thick film

상기와 같은 목적은 소다회 유리기판의 상부에 하지층을 형성하고, 그 하지층의 상부에 은전극을 형성한 다음, 적심성과 접합특성이 우수한 유리분말을 도포하는 유리분말 도포단계와; 상기 유리분말의 상부에 연화점이 상대적으로 높고 강산에 대한 에칭특성이 우수한 유리판을 적층한 후 압력과 열을 가해 상기 유리분말과 유리판을 소결하여 백색유전막과 그 상부에 격벽용 유리후막을 형성하는 소결단계와; 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 격벽용 유리후막의 일부영역을 선택적으로 노출시킨 후, 희석된 강산으로 그 하부의 백색유전막이 노출될 때까지 에칭하여 격벽을 형성하는 에칭단계를 포함하여 구성함으로써 달성되는 것으로, 이와 같은 본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.The above object is a glass powder coating step of forming a base layer on top of the soda ash glass substrate, forming a silver electrode on the top of the base layer, and then applying a glass powder excellent in wettability and bonding characteristics; Sintering step of laminating the glass powder and the glass plate by applying pressure and heat after laminating a glass plate having a relatively high softening point and excellent etching characteristics for strong acid on top of the glass powder to form a white dielectric film and a glass thick film for partition walls thereon. Wow; By selectively exposing a portion of the glass thick film for barrier ribs using a photoresist pattern, and then etching until the white dielectric film underneath is exposed with diluted strong acid to form the barrier ribs. When described in detail with reference to the accompanying drawings, the present invention as follows.

도2a 내지 도2d는 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조공정 수순단면도로서, 이에 도시한 바와 같이 유리기판(1)의 상부에 하지층(2)을 형성하고, 그 하지층(2)의 상부에 다수의 은전극(3)을 형성한 다음, 유리분말(4')을 상기 은전극(3)과 하지층(2)의 상부에 도포하고, 그 유리분말(4')의 상부에 유리판(5')을 적층한 후, 그 적층된 유리판(5')의 상부에 내열성 스테인레스 강판(6)을 올려놓고 가압과 동시에 상기 유리분말(4')과 유리판(5')을 소결하여 격벽용 유리후막(5)과 저온용 백색유전막(4)을 형성하는 단계(도2a)와; 상기 내열성 스테인레스 강판(6)을 제거하여 상기 소결된 격벽용 유리후막(5)을 노출시키고, 그 노출된 격벽용 유리후막(5)의 상부에 흑색 유리후막(7)을 형성한 후, 그 흑색 유리후막(7)의 상부에 포토레지스트(PR) 패턴을 형성하여 상기 흑색 유리후막(7)의 상부면을 선택적으로 노출시키는 단계(도2b)와; 상기 노출된 흑색 유리후막(7)과 그 하부의 격벽용 유리후막(5)을 노즐을 통해 분사되는 임의의 온도로 가열된 산으로 에칭하여 그 하부의 저온용 백색유전막(4)을 노출시키는 단계(도2c)를 포함하여 구성된다.FIG. 2A to FIG. 2D are cross-sectional views of a process for manufacturing a fine bulkhead of a plasma display panel according to the present invention. As shown in FIG. A plurality of silver electrodes 3 are formed on the glass powder 4 ', and then the glass powder 4' is applied to the upper portion of the silver electrode 3 and the base layer 2, and the glass plate 4 is formed on the glass powder 4 '. After stacking 5 '), the heat-resistant stainless steel plate 6 is placed on the laminated glass plate 5', and the glass powder 4 'and the glass plate 5' are sintered at the same time as pressing and sintering. Forming a thick film 5 and a low temperature white dielectric film 4 (FIG. 2A); The heat resistant stainless steel sheet 6 was removed to expose the sintered partition glass thick film 5, and a black glass thick film 7 was formed on the exposed partition glass thick film 5, and then the black Forming a photoresist (PR) pattern on top of the glass thick film (7) to selectively expose the top surface of the black glass thick film (7); Etching the exposed black glass thick film 7 and the lower glass thick film 5 for the bottom wall with an acid heated to an arbitrary temperature sprayed through a nozzle to expose the lower temperature white dielectric film 4 below the black glass thick film 7 It is comprised including (FIG. 2C).

이하, 상기와 같은 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법을 좀 더 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the micro-barrier of the plasma display panel of the present invention as described above will be described in more detail.

먼저, 도2a에 도시한 바와 같이 소다회 유리기판(1)의 상부에 PbO-B2O3-SiO2계 유리인 하지층(2)을 20~30 μ m의 두께로 코팅한다. 그 다음, 상기 하지층(2)의 상부에 은을 인쇄하고 패터닝하여 상호 소정거리 이격되는 다수의 은전극(3)을 형성한다.First, as shown in FIG. 2A, the base layer 2, which is a PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based glass, is placed on top of the soda ash glass substrate 1 in a range of 20 to 30. μ coating to a thickness of m. Next, silver is printed and patterned on the upper layer 2 to form a plurality of silver electrodes 3 spaced apart from each other by a predetermined distance.

그 다음, 저온용 백색유전막(4)을 형성하기 위해, 소결특성이 우수하며 이후에 형성되는 격벽용 유리후막(5)과 상기 하지층(2)의 접합이 잘되도록 점도가 낮고 적심성이 우수한 PbO-B2O3-SiO2계 유리분말(4')을 도포한다. 이때 반사율을 향상시키기 위해 Al2O3또는 TiO2등의 백색분말을 10~40% 첨가할 수 있다.Then, in order to form the low-temperature white dielectric film 4, the sintering characteristics are excellent, and the viscosity is low and the wettability is excellent so that the adhesion between the glass thick film 5 for partition walls and the underlying layer 2 to be formed thereafter is good. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -based glass powder 4 'is applied. In this case, 10 to 40% of white powder such as Al 2 O 3 or TiO 2 may be added to improve the reflectance.

그 다음, 상기 유리분말(4')의 상부에 산에 잘 용해되며, 연화점이 550℃ 이상으로 다음의 열공정에서 변형되지 않는 유리판(5')을 적층한다. 이때 적층되는 유리판(5')은 소결 후 격벽용 유리소재(5)로 사용하며, 그 반사율을 높이기 위해 유리성분을 조절하거나, 유백색을 갖는 유리 또는 열처리를 통해 결정화되어 반사율이 60%를 넘는 유리판을 사용한다. 또한 그 유리판은 무연유리 또는 저납유리(20% PbO)를 사용하여 환경오염을 방지할 수 있으며, 유리 분말을 사용할 때의 문제점인 내부 기공의 발생을 방지할 수 있어 소자의 특성을 향상시킬 수 있게 된다.Then, a glass plate 5 'which is well dissolved in an acid on the upper part of the glass powder 4' and is not deformed in the next thermal process at a softening point of 550 ° C. or more is laminated. At this time, the laminated glass plate 5 'is used as the partition glass material 5 after sintering, and the glass plate having a reflectance exceeding 60% by crystallization through glass or heat treatment having a glass component or a milky white to increase the reflectance thereof. Use In addition, the glass plate can use lead-free glass or low lead glass (20% PbO) to prevent environmental pollution, and to prevent the occurrence of internal pores, which is a problem when using glass powder, to improve the characteristics of the device. do.

그 다음, 상기 적층된 유리판(5')의 상부에 내열성 스테인레스 강판(6) 등의 내열성 금속판을 얹어 가압과 동시에 소결하여 상기 유리분말(4')을 소결하여 저온용 백색유전막(4)을 형성하며, 상기 유리판(5')을 소결하여 격벽용 유리후막(5)을 형성한다.Then, a heat-resistant metal plate such as a heat-resistant stainless steel sheet 6 is placed on the laminated glass plate 5 'and sintered at the same time by pressing to sinter the glass powder 4' to form a low-temperature white dielectric film 4. The glass plate 5 'is sintered to form a partition glass thick film 5.

그 다음, 도2b에 도시한 바와 같이 상기 스테인레스 강판(6)을 제거하여 그 하부의 격벽용 유리후막(5)을 노출시킨다.Next, as shown in FIG. 2B, the stainless steel sheet 6 is removed to expose the bottom glass thick film 5 for the partition wall.

그 다음, 상기 노출된 격벽용 유리후막(5)의 상부에 흑색 유리후막(7)을 10~30 μ m로 코팅한 후 580℃ 이하의 온도에서 소성하여 화질의 콘트라스트가 향상될 수 있도록 한다.Next, the black glass thick film 7 on the exposed portion of the glass thick film 5 for the partition wall 10 to 30 μ After coating with m and firing at a temperature of 580 ℃ or less so that the contrast of the image quality can be improved.

그 다음, 상기 흑색 유리후막(7)의 상부에 포토레지스트(PR)를 도포하고, 노광 및 현상하여 상기 흑색 유리후막(7)의 특정 부분을 선택적으로 노출시키는 패턴을 형성한다.Next, photoresist PR is applied on the black glass thick film 7, and exposed and developed to form a pattern for selectively exposing a specific portion of the black glass thick film 7.

그 다음, 도2c에 도시한 바와 같이 상기 노출된 흑색 유리후막(7)과 그 노출된 흑색 유리후막(7) 하부의 격벽용 유리후막(5)을 가열 및 희석된 강산을 이용하여 에칭한다. 이때 강산은 10~30% 희석된 염산 또는 황산을 상온 내지 80℃로 가열하여 사용하며, 분사노즐의 압력을 조절하여 에칭깊이와 형태를 조절할 수 있게 된다.Then, as shown in FIG. 2C, the exposed black glass thick film 7 and the partition glass thick film 5 below the exposed black glass thick film 7 are etched using heated and diluted strong acid. At this time, the strong acid is used by heating 10 ~ 30% diluted hydrochloric acid or sulfuric acid to room temperature to 80 ℃, it is possible to control the etching depth and shape by adjusting the pressure of the injection nozzle.

상기한 바와 같이 본 발명은 격벽용 유리후막을 유리판을 적층한 후 소결하여 형성함으로써, 격벽용 유리후막에 내부 기공이 발생하는 것을 방지하여 소자의 특성을 향상시키는 효과와 아울러 백색유전막을 유전체로 사용함과 아울러 그 백색유전막을 적심성이 우수하고, 접합특성이 우수한 것을 사용하여 상대적으로 낮은 온도에서 소성 및 격벽용 유리후막을 접합함이 가능하여 기판의 변형을 방지하는 효과가 있다.As described above, the present invention uses a white dielectric film as a dielectric as well as an effect of improving internal characteristics of the device by preventing internal pores from being generated by stacking the glass thick film for partition walls and stacking the sintered glass plates. In addition, by using the white dielectric film having excellent wettability and excellent bonding properties, it is possible to bond the glass thick film for plastic and partition walls at a relatively low temperature, thereby preventing deformation of the substrate.

Claims (8)

소다회 유리기판의 상부에 하지층을 형성하고, 그 하지층의 상부에 은전극을 형성한 다음, 적심성과 접합특성이 우수한 유리분말을 도포하는 유리분말 도포단계와; 상기 유리분말의 상부에 연화점이 상대적으로 높고 강산에 대한 에칭특성이 우수한 유리판을 적층한 후 압력과 열을 가해 상기 유리분말과 유리판을 소결하여 백색유전막과 그 상부에 격벽용 유리후막을 형성하는 소결단계와; 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 격벽용 유리후막의 일부영역을 선택적으로 노출시킨 후, 희석된 강산으로 그 하부의 백색유전막이 노출될 때까지 에칭하여 격벽을 형성하는 에칭단계를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법.Forming a base layer on top of the soda ash glass substrate, forming a silver electrode on top of the base layer, and then applying a glass powder having excellent wettability and bonding characteristics; Sintering step of laminating the glass powder and the glass plate by applying pressure and heat after laminating a glass plate having a relatively high softening point and excellent etching characteristics for strong acid on top of the glass powder to form a white dielectric film and a glass thick film for partition walls thereon. Wow; And selectively exposing a portion of the glass thick film for the partition wall using a photoresist pattern, and then etching until the white dielectric film below is exposed with diluted strong acid to form the partition wall. A method of manufacturing a fine partition wall of a plasma display panel. 제 1항에 있어서, 상기 유리분말은 저온용 백색유전막을 형성하기 위해, 소결특성이 우수하며 상기 격벽용 유리판과 상기 하지층의 접합이 잘되도록 점도가 낮고 적심성이 우수한 PbO-B2O3-SiO2계 유리분말인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법.The PBO-B 2 O 3 of claim 1, wherein the glass powder has excellent sintering properties and a low viscosity and good wettability so as to form a good adhesion between the partition glass plate and the base layer in order to form a low-temperature white dielectric film. -SiO 2 -based glass powder manufacturing method of the micro-bulb barrier, characterized in that the plasma display panel. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 유리분말은 반사율을 향상시키기 위해 Al2O3또는 TiO2등의 백색분말을 10~40% 첨가한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법.3. The method of claim 1, wherein the glass powder is added with 10 to 40% of white powder such as Al 2 O 3 or TiO 2 in order to improve reflectance. 제 1항에 있어서, 상기 유리판은 희석된 산에 잘 용해되며, 연화점이 550℃ 이상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법.The method of claim 1, wherein the glass plate is well soluble in dilute acid and has a softening point of 550 ° C. or higher. 제 1항 또는 제 4항에 있어서, 상기 유리판은 열처리를 통해 결정화시켜 반사율이 60%를 넘거나 유백색 유리판인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법.The method of claim 1 or 4, wherein the glass plate is crystallized by heat treatment to have a reflectance of more than 60% or a milky white glass plate. 제 5항에 있어서, 상기 유리판은 무연유리 또는 납의 함유량이 20%이하인 저납유리인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법.The method of claim 5, wherein the glass plate is lead-free glass or low lead glass containing 20% or less of lead. 제 1항에 있어서, 상기 소결단계는 적층된 유리판의 상부에 내열성 금속판을 얹고, 그 내열성 금속판에 압력을 가함과 동시에 열공정을 통해 상기 백색유전막과 격벽용 유리판을 소결 및 접합하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법.The method of claim 1, wherein the sintering step is characterized by placing a heat-resistant metal plate on top of the laminated glass plate, applying pressure to the heat-resistant metal plate and sintering and bonding the white dielectric film and the partition glass plate through a thermal process. A method of manufacturing a fine partition wall of a plasma display panel. 제 1항에 있어서, 상기 에칭단계는 상기 격벽용 유리후막의 상부에 흑색 유리후막을 코팅한 후, 사진식각공정을 통해 상기 흑색 유리후막의 일부와 그 하부의 격벽용 유리후막을 선택적으로 에칭하여 격벽을 제조하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 미세격벽 제조방법.The method of claim 1, wherein the etching step comprises coating a black glass thick film on top of the barrier glass thick film, and selectively etching a portion of the black glass thick film and the partition glass thick film thereunder through a photolithography process. A method of manufacturing a fine partition wall of a plasma display panel, characterized in that the partition wall is manufactured.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100587273B1 (en) * 1999-06-24 2006-06-08 엘지전자 주식회사 Anisotropical Glass Etching Method and Fabricating Method for Barrier Rib of Flat Panel Display Using the same

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