KR20000025975A - Multi chamber system comprising wafer sensing apparatus - Google Patents

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KR20000025975A
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서성부
박준석
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윤종용
삼성전자 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A multi chamber system comprising a wafer sensing apparatus is provided to prevent the damage of a wafer by sensing the position of the wafer inserted into a wafer storing part. CONSTITUTION: A multi chamber system(100) comprises a wafer sensing apparatus(134)sensing whether the position of a wafer(112) inserted into a wafer storing part(122) is aligned when the wafer is transported to the wafer storing part at a load lock chamber in a cassette stage(116) of the multi chamber system. The system comprises: chambers(120) where wafer processing processes are proceeded; the cassette stage supplying the wafer to be sent to the chamber; the load lock chamber located between the cassette stage and the chamber; a slit valve for separating the chamber and the load lock chamber from the surroundings; and an inner space whose both sides facing each other are opened; the wafer storing part where a plurality of grooves are formed; a wafer carrying tool carrying the wafer between the cassette stage and the wafer storing part and between the wafer storing part and the chamber; and a wafer storing part sending path formed in the load lock chamber.

Description

웨이퍼 감지 장치를 구비한 다반응실 시스템(Multichamber system having sensors for sensing wafer)Multichamber system having sensors for sensing wafer

본 발명은 웨이퍼 감지 장치를 구비한 다반응실 시스템에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 다반응실 시스템의 카세트 스테이지에서 로드락 실의 웨이퍼 저장부로 웨이퍼를 이송할 때 웨이퍼 저장부에 삽입되는 웨이퍼의 위치가 정렬되었는지를 감지하는 웨이퍼 감지 장치를 구비한 다반응실 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-reaction chamber system having a wafer sensing device, and more particularly, to a position of a wafer inserted into a wafer storage unit when transferring a wafer from the cassette stage of the multi-reaction chamber system to the wafer storage unit of the load lock chamber. A multi-reaction chamber system with a wafer sensing device that detects whether an is aligned.

반도체 제조 공정에서 불순물 확산, 산화막 성장, 박막 증착 등의 웨이퍼 처리 공정을 진행하는 장치는 장치 가동률을 향상시키고, 다른 공정과의 복합화의 필요에 따라 다반응실(Multichamber) 시스템을 사용한다. 다반응실 시스템에서는 대기 중의 먼지, 산소, 습기 등이 반응실 내로 유입되는 것을 방지하기 위해서 로드락 실(Loadlock Chamber)을 사용하는 것이 보편적인 추세이다.In the semiconductor manufacturing process, an apparatus for performing a wafer processing process such as impurity diffusion, oxide film growth, and thin film deposition improves the device operation rate and uses a multichamber system according to the need for complexation with other processes. In a multi-reaction chamber system, it is a common trend to use a loadlock chamber to prevent dust, oxygen, moisture, etc. from entering the reaction chamber.

도 1은 일반적인 다반응실 시스템을 나타내는 평면도이고, 도 2는 웨이퍼 저장부에 웨이퍼가 삽입되는 모습을 나타내는 부분 사시도이다. 도 2는 웨이퍼 양쪽에 위치하는 한 쌍의 웨이퍼 저장부의 한쪽만 도시한 것이고, 화살표는 웨이퍼 저장부의 이동 방향이다.1 is a plan view illustrating a general multi-reaction chamber system, and FIG. 2 is a partial perspective view illustrating a state in which a wafer is inserted into a wafer storage unit. 2 shows only one side of a pair of wafer reservoirs located on both sides of the wafer, and arrows indicate the direction of movement of the wafer reservoir.

도 1 및 도 2를 참조하면, 다반응실 시스템(10)은 AM(Applied Materials)사(社)의 프레시젼(Precision) 5000으로서, 다반응실 시스템(10)은 웨이퍼(12)가 보관된 카세트(14)가 장착되는 카세트 스테이지(Cassette Stage)(16), 로드락 실(18), 웨이퍼(12)가 저장되는 웨이퍼 저장부(22), 웨이퍼(12)를 운반하는 로봇 팔(Robot Arm)(24), 반응실(20) 등으로 이루어진다.1 and 2, the multi-reaction chamber system 10 is a Precision 5000 manufactured by Applied Materials (AM), and the multi-reaction chamber system 10 includes a wafer 12 stored therein. Cassette stage 16 on which the cassette 14 is mounted, the load lock chamber 18, the wafer storage unit 22 in which the wafer 12 is stored, and the robot arm carrying the wafer 12 24), the reaction chamber 20 and the like.

다반응실 시스템(10)에서 웨이퍼(12)가 운반되는 과정은 다음과 같다. 웨이퍼(12)가 보관된 카세트(14)는 카세트 스테이지(16)에 설치된 카세트 승강 장치(도시되지 않음)에 장착된다. 슬릿 밸브(Slit Valve)(26)가 열리면 로봇 팔(24)의 흡착부(28)가 진공을 이용해서 카세트(14) 아래쪽에서부터 한 장씩 웨이퍼(12)를 꺼내서 웨이퍼 저장부(22)의 아래쪽 홈(23)에서부터 웨이퍼(12)를 저장한다. 내벽에 웨이퍼(12)가 수평으로 삽입되는 홈(23)이 일정한 간격으로 형성된 한 쌍의 반원통형의 웨이퍼 저장부(22)는 웨이퍼(12) 양쪽에 위치한다.The wafer 12 is transported in the multi-reaction chamber system 10 as follows. The cassette 14 in which the wafer 12 is stored is mounted in a cassette lifting device (not shown) installed in the cassette stage 16. When the slit valve 26 is opened, the suction unit 28 of the robot arm 24 uses the vacuum to take out the wafers 12 one by one from the lower side of the cassette 14, and then the lower groove of the wafer storage unit 22. The wafer 12 is stored from 23. A pair of semi-cylindrical wafer storage portions 22 formed at regular intervals with grooves 23 into which the wafer 12 is horizontally inserted into the inner wall are positioned on both sides of the wafer 12.

웨이퍼 저장부(22)의 홈(23)에 웨이퍼(12)가 삽입되어 저장되면 웨이퍼 저장부(22)가 일정한 간격으로 하강하여 웨이퍼(12)가 삽입될 수 있도록 다음 위치의 빈 홈(23)이 슬릿 밸브(26)의 높이에 위치한다. 웨이퍼 저장부(22)에 웨이퍼(12)가 모두 저장되면 슬릿 밸브(26)를 닫고 로드락 실(18)을 진공 상태로 만드는데, 반응실(20)보다 약간 높은 압력으로 로드락 실(18)의 압력을 유지한다. 로드락 실(18)이 일정한 압력으로 진공을 유지하면, 반응실(20)의 슬릿 밸브(30)를 열고 웨이퍼 저장부(22)에 있는 웨이퍼(12)를 반응실(20)로 운반하여 공정을 진행한다.When the wafer 12 is inserted and stored in the groove 23 of the wafer storage unit 22, the wafer storage unit 22 descends at regular intervals so that the wafer 12 can be inserted into the empty groove 23 at the next position. It is located at the height of the slit valve 26. When the wafers 12 are all stored in the wafer storage unit 22, the slit valve 26 is closed and the load lock chamber 18 is vacuumed. The load lock chamber 18 is operated at a pressure slightly higher than that of the reaction chamber 20. Maintain the pressure. When the load lock chamber 18 maintains a vacuum at a constant pressure, the slit valve 30 of the reaction chamber 20 is opened, and the wafer 12 in the wafer storage unit 22 is transferred to the reaction chamber 20 to process the process. Proceed.

그런데, 반응을 진행하기 위해서 웨이퍼(12)를 카세트(14)에서 웨이퍼 저장부(22)로 운반하거나 반응이 끝난 웨이퍼(12)를 반응실(20)에서 웨이퍼 저장부(22)로 운반할 때 웨이퍼 저장부(22)의 홈(23)에 삽입된 웨이퍼(12)의 위치 정렬이 잘못되면, 웨이퍼(12)가 슬릿 밸브(26) 또는 웨이퍼 저장부 외벽(19)에 걸리게 된다. 이는 웨이퍼 저장부(22)와 웨이퍼 저장부 외벽(19) 사이의 간격이 좁기 때문이다. 이와 같이 웨이퍼(12)가 슬릿 밸브(26) 또는 웨이퍼 저장부 외벽(19)에 걸린 상태에서 웨이퍼 저장부(22)가 움직이면 웨이퍼(12)가 파손된다.By the way, when the wafer 12 is transported from the cassette 14 to the wafer storage 22 or the wafer 12 is transferred from the reaction chamber 20 to the wafer storage 22 in order to proceed with the reaction. If the position of the wafer 12 inserted into the groove 23 of the wafer storage portion 22 is misaligned, the wafer 12 is caught by the slit valve 26 or the wafer storage portion outer wall 19. This is because the gap between the wafer reservoir 22 and the wafer reservoir outer wall 19 is narrow. As such, when the wafer storage portion 22 moves while the wafer 12 is caught by the slit valve 26 or the wafer storage portion outer wall 19, the wafer 12 is broken.

따라서, 본 발명의 목적은 웨이퍼 저장부에 삽입된 웨이퍼의 위치를 감지하여 웨이퍼의 파손을 방지하는데 있다.Therefore, an object of the present invention is to detect the position of the wafer inserted into the wafer storage portion to prevent breakage of the wafer.

도 1은 일반적인 다반응실 시스템을 나타내는 평면도,1 is a plan view showing a general multi-reaction chamber system,

도 2는 웨이퍼 저장부에 웨이퍼가 삽입된 모습을 나타내는 부분 사시도,2 is a partial perspective view illustrating a state in which a wafer is inserted into a wafer storage unit;

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 다반응실 시스템을 나타내는 평면도,3 is a plan view showing a multi-reaction chamber system according to an embodiment of the present invention,

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 저장부와 웨이퍼 저장부 이동로를 나타내는 부분 사시도이다.4 is a partial perspective view illustrating a wafer storage unit and a wafer storage unit movement path according to an exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 설명>Description of the main parts of the drawing

10, 100; 다반응실 시스템 12, 112; 웨이퍼10, 100; Multireaction chamber systems 12, 112; wafer

14, 114; 카세트 16, 116; 카세트 스테이지14, 114; Cassette 16, 116; Cassette stage

18, 118; 로드락 실 19, 119; 웨이퍼 저장부 외벽18, 118; Rod lock chamber 19, 119; Wafer storage outer wall

20, 120; 반응실 22, 122; 웨이퍼 저장부20, 120; Reaction chambers 22, 122; Wafer Storage

23, 123; 홈 24, 124; 로봇 팔23, 123; Groove 24, 124; Robotic arm

26, 30, 126, 130; 슬릿 밸브 28, 128; 흡착부26, 30, 126, 130; Slit valves 28, 128; Adsorption part

132; 웨이퍼 저장부 이동로 134; 웨이퍼 감지 장치132; A wafer reservoir moving path 134; Wafer sensing device

136; 웨이퍼 저장부의 개방된 부분136; Open portion of wafer reservoir

이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 웨이퍼 처리 공정이 진행되는 반응실, 반응실로 운반할 웨이퍼를 공급하는 카세트 스테이지, 카세트 스테이지와 반응실 사이에 위치하는 로드락 실, 반응실과 로드락 실 및 로드락 실과 카세트 스테이지의 연결 부분에서 반응실 및 로드락 실을 주위로부터 격리시키기 위한 슬릿 밸브, 웨이퍼를 저장하기 위해서 마주보는 양방향이 개방된 내부 공간을 가지고 있으며, 내벽에 웨이퍼가 수평으로 삽입되는 복수 개의 홈이 세로 방향으로 형성되는 웨이퍼 저장부, 카세트 스테이지와 웨이퍼 저장부 및 웨이퍼 저장부와 반응실 사이에서 웨이퍼를 운반하는 웨이퍼 운반 도구 및 웨이퍼 저장부가 이동하기 위해서 로드락 실에 형성된 공간인 웨이퍼 저장부 이동로로 이루어진 다반응실 시스템에서, 웨이퍼 저장부에 저장된 웨이퍼가 웨이퍼 저장부 이동로와 접촉하는 것을 감지하기 위한 웨이퍼 감지 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 다반응실 시스템을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a reaction chamber in which a wafer processing process is performed, a cassette stage for supplying wafers to be transported to the reaction chamber, a load lock chamber located between the cassette stage and the reaction chamber, a reaction chamber and a load lock chamber, and a load lock. A slit valve for isolating the reaction chamber and the load lock chamber from the surroundings at the connection part of the seal and the cassette stage, and has an internal space facing each other to store the wafer, and a plurality of grooves into which the wafer is horizontally inserted into the inner wall. The wafer storage portion, which is a space formed in the load lock chamber for moving the wafer storage portion, the cassette stage and the wafer storage portion, and the wafer transporting tool for transporting the wafer between the wafer storage portion and the reaction chamber, and the wafer storage portion formed in the longitudinal direction. In a multi-reaction chamber system consisting of a furnace, Provided is a multi-reaction chamber system comprising a wafer sensing device for sensing that a stored wafer is in contact with a wafer reservoir moving path.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하고자 한다. 도면 전반에 걸쳐서 동일한 도면 부호는 동일한 구성 요소를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like numbers refer to like elements throughout.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 다반응실 시스템을 나타내는 평면도이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 저장부와 웨이퍼 저장부 이동로를 나타내는 부분 사시도이다. 도 4는 웨이퍼 양쪽에 위치하는 한 쌍의 웨이퍼 저장부의 한쪽만 도시한 것이고, 화살표는 웨이퍼 저장부의 이동 방향이다.3 is a plan view illustrating a multi-reaction chamber system according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a partial perspective view illustrating a wafer storage unit and a wafer storage unit movement path according to an exemplary embodiment of the present invention. 4 shows only one side of a pair of wafer reservoirs located on both sides of the wafer, and arrows indicate the direction of movement of the wafer reservoir.

도 3 및 도 4를 참조하면, 반응실(120)에서 웨이퍼(112) 처리 공정을 진행하기 위한 웨이퍼(112)는 카세트 스테이지(116)에서 공급된다. 카세트 스테이지(116)에서 웨이퍼(112)는 카세트(114)에 보관되고, 로봇 팔(124)과 같은 웨이퍼(112)를 운반하는 도구에 의해서 웨이퍼 저장부(122)로 운반된다. 웨이퍼 운반 도구는 수평 운동을 하는 로봇 팔(124)과 로봇 팔(124)의 한쪽 끝에 형성된 흡착부(128)로 이루어진다. 흡착부(128)는 웨이퍼(112) 아래쪽에서 진공을 이용하여 웨이퍼(112)를 흡착한다.3 and 4, the wafer 112 for processing the wafer 112 in the reaction chamber 120 is supplied from the cassette stage 116. In the cassette stage 116, the wafer 112 is stored in the cassette 114 and is transferred to the wafer reservoir 122 by a tool that carries the wafer 112, such as the robotic arm 124. The wafer conveying tool consists of a robot arm 124 for horizontal movement and an adsorption portion 128 formed at one end of the robot arm 124. The adsorption part 128 adsorbs the wafer 112 using a vacuum under the wafer 112.

반응실(120)과 로드락 실(118) 사이, 로드락 실(118)과 카세트 스테이지(116) 사이의 연결 부분에는 슬릿 밸브(126)가 있어서 반응실(120)과 로드락 실(118)을 진공으로 유지시킬 때에는 슬릿 밸브(126)를 닫아서 주위와 격리시킨다. 웨이퍼(112)를 저장하기 위해서 마주보는 양방향이 개방된 내부 공간을 갖는 한 쌍의 반원통형의 웨이퍼 저장부(122)는 세로 방향으로 층층이 복수 개의 홈(123)이 일정한 간격으로 형성되어 웨이퍼(112)가 수평으로 삽입된다.At the connection between the reaction chamber 120 and the load lock chamber 118, between the load lock chamber 118 and the cassette stage 116, there is a slit valve 126 so that the reaction chamber 120 and the load lock chamber 118 are provided. The slit valve 126 is closed to isolate it from the surroundings. A pair of semi-cylindrical wafer storage portions 122 having an inner space facing each other for storing the wafer 112 have a plurality of grooves 123 formed at regular intervals in a vertical direction, and thus the wafer 112 ) Is inserted horizontally.

웨이퍼 저장부(122)는 수평으로 삽입된 웨이퍼(112)에 대해서 수직 방향으로 직선 운동을 한다. 웨이퍼 저장부(122)가 수직으로 이동하기 위해서 로드락 실(118)에는 웨이퍼 저장부(122)가 수직으로 이동할 수 있는 공간인 웨이퍼 저장부 이동로(132)가 형성된다. 웨이퍼 저장부(122)에 저장된 웨이퍼(112)가 웨이퍼 저장부(132) 입구의 웨이퍼 저장부 외벽(119)과 부딪혀서 깨지는 것을 방지하기 위해서 웨이퍼 저장부 이동로(132) 입구에 웨이퍼 감지 장치(134)를 설치한다.The wafer storage unit 122 linearly moves in a vertical direction with respect to the wafer 112 inserted horizontally. In order to move the wafer storage unit 122 vertically, the load lock chamber 118 is formed with a wafer storage unit movement path 132 which is a space in which the wafer storage unit 122 can move vertically. In order to prevent the wafer 112 stored in the wafer storage 122 from colliding with the wafer storage outer wall 119 at the inlet of the wafer storage 132 and breaking, the wafer sensing device 134 at the entrance of the wafer storage path 132. Install).

카세트 스테이지(116)에 있는 웨이퍼(112)를 웨이퍼 저장부(122)로 운반할 때에는 로봇 팔(124)의 흡착부(128)가 웨이퍼 저장부의 개방된 부분(136)을 지나서 이동한다. 따라서, 웨이퍼 저장부(122)가 이동할 때 웨이퍼(112)와 웨이퍼 저장부의 외벽(119)이 접촉하는 것을 감지하기 위해서, 웨이퍼(112)가 로봇 팔(124)에 의해서 운반되는 방향과 중첩하는 부분의 웨이퍼 저장부 이동로(132) 입구에 웨이퍼 감지 장치(134)를 설치한다.When transporting the wafer 112 in the cassette stage 116 to the wafer reservoir 122, the adsorption portion 128 of the robotic arm 124 moves past the open portion 136 of the wafer reservoir. Thus, in order to detect the contact between the wafer 112 and the outer wall 119 of the wafer reservoir when the wafer reservoir 122 moves, the portion overlapping the direction in which the wafer 112 is carried by the robot arm 124. The wafer sensing device 134 is installed at the entrance of the wafer storage moving path 132.

즉, 웨이퍼 저장부의 개방된 부분(136)과 대향하는 웨이퍼 저장부 이동로(132) 입구에 웨이퍼 감지 장치(134)를 설치하여 웨이퍼(112)가 웨이퍼 저장부의 외벽(119)과 접촉하는 것을 감지하도록 한다. 웨이퍼 감지 장치(134)는 웨이퍼(112)의 각 위치에 대해서 웨이퍼 저장부의 외벽(119)과 접촉하는지 여부를 감지하기 위해서 4개를 설치하는 것이 바람직하다. 웨이퍼 감지 장치(134)가 웨이퍼(112)를 감지하면 웨이퍼(112)가 파손되는 것을 방지하기 위해서 웨이퍼 저장부(122)가 정지된다.That is, the wafer sensing device 134 is installed at the entrance of the wafer storage path 132 facing the open portion 136 of the wafer storage part to detect that the wafer 112 contacts the outer wall 119 of the wafer storage part. Do it. The wafer sensing device 134 is preferably provided with four in order to detect whether the wafer 112 is in contact with the outer wall 119 of the wafer storage unit at each position of the wafer 112. When the wafer sensing device 134 detects the wafer 112, the wafer storage 122 is stopped to prevent the wafer 112 from being damaged.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 웨이퍼 저장부로 운반되는 웨이퍼가 파손되는 것을 방지할 수 있다.As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the wafer conveyed to the wafer storage portion from being damaged.

Claims (7)

웨이퍼 처리 공정이 진행되는 반응실과,A reaction chamber through which a wafer processing process is performed, 상기 반응실로 운반할 상기 웨이퍼를 공급하는 카세트 스테이지와,A cassette stage for supplying the wafer to be transported to the reaction chamber; 상기 카세트 스테이지와 상기 반응실 사이에 위치하는 로드락 실과,A load lock chamber located between the cassette stage and the reaction chamber, 상기 반응실과 상기 로드락 실 및 상기 로드락 실과 상기 카세트 스테이지의 연결 부분에서 상기 반응실 및 상기 로드락 실을 주위로부터 격리시키기 위한 슬릿 밸브와,A slit valve for isolating the reaction chamber and the load lock chamber from a circumference of the reaction chamber, the load lock chamber, and the load lock chamber and the cassette stage; 상기 웨이퍼를 저장하기 위해서 마주보는 양방향이 개방된 내부 공간을 가지고 있으며, 내벽에 상기 웨이퍼가 수평으로 삽입되는 복수 개의 홈이 세로 방향으로 층층이 형성되는 웨이퍼 저장부와,A wafer storage portion having an internal space facing each other for storing the wafer, wherein a plurality of grooves into which the wafer is inserted horizontally is formed in a vertical direction in an inner wall thereof; 상기 카세트 스테이지와 상기 웨이퍼 저장부 및 상기 웨이퍼 저장부와 상기 반응실 사이에서 상기 웨이퍼를 운반하는 웨이퍼 운반 도구와,A wafer conveying tool for conveying the wafer between the cassette stage and the wafer reservoir and between the wafer reservoir and the reaction chamber; 상기 웨이퍼 저장부가 이동하기 위해서 상기 로드락 실에 형성된 공간인 웨이퍼 저장부 이동로로 이루어진 다반응실 시스템에서,In the multi-reaction chamber system consisting of a wafer storage unit movement path which is a space formed in the load lock chamber to move the wafer storage unit, 상기 웨이퍼 저장부에 저장된 상기 웨이퍼가 상기 웨이퍼 저장부 이동로와 접촉하는 것을 감지하기 위한 웨이퍼 감지 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 다반응실 시스템.And a wafer sensing device for sensing that the wafer stored in the wafer reservoir is in contact with the wafer reservoir movement path. 제 1항에 있어서, 상기 웨이퍼는 상기 카세트 스테이지에서 카세트에 보관되고, 상기 카세트 스테이지는 상기 웨이퍼가 보관된 상기 카세트를 상하로 이동시키는 카세트 승강 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 다반응실 시스템.The multi-reaction chamber system according to claim 1, wherein the wafer is stored in a cassette in the cassette stage, and the cassette stage includes a cassette lifting device for moving the cassette in which the wafer is stored up and down. 제 1항에 있어서, 상기 웨이퍼 저장부는 수평으로 저장된 상기 웨이퍼에 대해서 수직 방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는 다반응실 시스템.The multi-reaction chamber system of claim 1, wherein the wafer reservoir moves in a vertical direction with respect to the wafer stored horizontally. 제 1항에 있어서, 상기 웨이퍼 운반 도구는 수평 운동을 하는 로봇 팔과, 상기 로봇 팔의 일단에 형성되어 상기 웨이퍼를 흡착하는 진공 흡착부를 구비하는 것을 특징으로 하는 다반응실 시스템.The multi-reaction chamber system of claim 1, wherein the wafer conveying tool has a robot arm for horizontal movement and a vacuum suction unit formed at one end of the robot arm to adsorb the wafer. 제 1항에 있어서, 상기 웨이퍼 감지 장치는 상기 웨이퍼의 이동 방향과 중첩하는 부분의 상기 웨이퍼 저장부 이동로 입구에 설치되는 것을 특징으로 하는 다반응실 시스템.The multi-reaction chamber system according to claim 1, wherein the wafer sensing device is installed at an inlet of the wafer reservoir moving part in a portion overlapping with the direction of movement of the wafer. 제 5항에 있어서, 상기 웨이퍼 감지 장치는 상기 웨이퍼 저장부의 개방된 방향과 대향하는 상기 웨이퍼 저장부 이동로 입구에 설치되는 것을 특징으로 하는 다반응실 시스템.6. The multi-reaction chamber system as recited in claim 5, wherein the wafer sensing device is installed at the inlet of the wafer reservoir movement path opposite to the open direction of the wafer reservoir. 제 1항에 있어서, 상기 다반응실 시스템은 상기 웨이퍼 감지 장치가 상기 웨이퍼를 감지하면 상기 웨이퍼 저장부가 정지하는 것을 특징으로 하는 다반응실 시스템.The multi-reaction chamber system of claim 1, wherein the wafer storage unit stops when the wafer sensing device detects the wafer.
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