KR20000021288A - 반도체 소자 제조에 이용되는 식각장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 챔버 내에 웨이퍼가 놓이는 지지대와, 상기 지지대의 하부에 결합되고 고전압 단자부 및 헬륨 공급부를 갖는 캐소드를 포함하는 식각장치에 있어서, 상기 지지대의 하부에 돌출되고 오링을 끼울수 있는 홈을 갖는 돌출부와, 상기 돌출부에 대응하여 상기 캐소드 상부에 형성되고 상기 고전압 단자부 및 헬륨 공급부가 마련되는 오목부를 통하여 상기 지지대와 캐소드가 결합되는 것을 특징으로 하는 식각장치를 제공한다. 이에 따라, 본 발명은 헬륨 가스 누설 및 챔버 압력 누설 문제를 해결할 수 있다.
Description
본 발명은 반도체 소자 제조에 이용되는 제조 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 소자 제조에 이용되는 식각장치에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하는 데 있어서 다양한 장치, 예컨대 막 형성 장치, 이온주입장치, 식각 장치 등이 있다. 이중에서, 식각장치는 반도체 기판 상에 형성된 막질을 플라즈마를 이용하여 식각하는 장치이다. 따라서, 상기 상기 식각장치는 애노드 역할을 하며 식각공정이 진행되는 챔버와, 상기 챔버내에 웨이퍼가 놓이는 지지대와, 상기 지지대의 하부에 위치하는 캐소드 등으로 구성된다. 여기서, 종래의 지지대와 캐소드의 결합관계를 설명한다.
도 1은 종래의 식각장치의 캐소드와 지지대와의 결합관계를 설명하기 위하여 도시한 단면도이다.
구체적으로, 종래의 식각장치에서 캐소드(1, cathode)에는 웨이퍼의 후면 냉각을 위한 헬륨 공급단(3)과, ESC 척을 위한 고전압 단자(5)가 구비되어 있다. 상기 캐소드 상에는 웨이퍼가 놓이는 지지대(7, pedestal)가 마련되어 있어, 오링(9)와 화살표 방향의 스크루 조립을 통하여 상기 캐소드(1)와 지지대(7)는 조립된다.
그런데, 종래의 식각장치에 있어서 상기 지지대(7)와 캐소드(1) 간의 스크루 조립이 불량할 경우 챔버의 압력 누설이 불량하고, 헬륨 공급단(3)에 흐르는 헬륨가스가 누설되는 문제점이 있다.
또한, 상기 종래의 식각장치처럼 캐소드(1) 위로 오링(9)을 놓고 지지대(7)를 조립할 때, 오링(9)의 이탈 및 스크루 조임 정도가 쉽게 달라지므로 오링(9)과 지지대(7)의 접촉이 불량하여 헬륨이 누설되는 문제가 발생한다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 지지대와 캐소드 간의 결합을 신뢰성 있게 할 수 있는 식각장치에 관한 것이다.
도 1은 종래의 식각장치의 캐소드와 지지대와의 결합관계를 설명하기 위하여 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 식각장치의 캐소드와 지지대와의 결합관계를 설명하기 위하여 도시한 단면도이다.
도 3은 도 2의 지지대의 돌출부를 확대하여 도시한 도면이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 챔버 내에 웨이퍼가 놓이는 지지대와, 상기 지지대의 하부에 결합되고 고전압 단자부 및 헬륨 공급부를 갖는 캐소드를 포함하는 식각장치에 있어서, 상기 지지대의 하부에 돌출되고 오링을 끼울수 있는 홈을 갖는 돌출부와, 상기 돌출부에 대응하여 상기 캐소드 상부에 형성되고 상기 고전압 단자부 및 헬륨 공급부가 마련되는 오목부를 통하여 상기 지지대와 캐소드가 결합되는 것을 특징으로 하는 식각장치를 제공한다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 식각장치의 캐소드와 지지대와의 결합관계를 설명하기 위하여 도시한 단면도이고, 도 3은 도 2의 지지대의 돌출부를 확대하여 도시한 도면이다.
구체적으로, 본 발명의 식각장치에서 캐소드(11)에는 웨이퍼의 후면 냉각을 위한 헬륨 공급단(13)과, ESC 척을 위한 고전압 단자(15)가 구비되어 있다. 상기 캐소드(11) 상에는 웨이퍼가 놓이는 지지대(17)가 마련되어 있고, 상기 지지대(17)와 캐소드(11)가 오링 또는 화살표 방향의 스크루를 이용하여 결합된다.
특히, 본 발명의 식각장치에 있어서 지지대(17)의 하부에 오링(18)을 끼울 수 있는 홈(19)을 갖는 돌출부(21)가 설치되어 있으며, 상기 돌출부(21)에 대응되게 상기 캐소드(11)의 상부 표면에 형성되고 상기 고전압 단자부(15) 및 헬륨 공급부(13)가 마련되는 오목부(23)가 형성되어 있다. 그리고, 상기 헬륨 공급단(13)에 대응되는 부분의 오목부의 하부에는 다른 오링(25)이 설치된다.
이렇게 되면, 상기 지지대(17)와 캐소드(11)를 결합할 때, 상기 지지대(17)의 돌출부(21)와 캐소드(11)의 오목부(23)가 이중의 오링을 통하여 신뢰성있게 결합할 수 있어 종래의 헬륨 누설 및 챔버 압력 누설 문제를 해결할 수 있다. 그리고, 스크루 조임 불량에 따른 지지대의 기울어짐 또는 들뜸에 의한 헬륨 리크 및 챔버 압력 에러를 방지할 수 있다. 또한, 헬륨 및 챔버 압력 누설을 위한 불필요한 스크루 갯수를 줄임으로서 조립 불량 원인을 제거할 수 있다.
본 실시예에서는 화살표 방향의 스크루를 이용하여 지지대와 캐소드를 결합하였으나, 스크루를 이용하지 않고도 결합할 수 있다.
이상, 실시예를 통하여 본 발명을 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식으로 그 변형이나 개량이 가능하다.
상술한 바와 같이 본 발명의 식각장치는 지지대와 캐소드를 결합할 때, 상기 지지대의 하부에 돌출된 오링을 갖는 돌출부와 캐소드의 상부에 형성된 오목부가 신뢰성 있게 결합되므로 헬륨 가스 누설 및 챔버 압력 누설 문제를 해결할 수 있다. 또한, 지지대와 캐소드를 결합할 때, 스크루 조임 불량에 따른 지지대의 기울어짐 또는 들뜸에 의한 헬륨 가스 리크 및 챔버 압력 에러를 방지할 수 있다.
Claims (1)
- 챔버 내에 웨이퍼가 놓이는 지지대와, 상기 지지대의 하부에 결합되고 고전압 단자부 및 헬륨 공급부를 갖는 캐소드를 포함하는 식각장치에 있어서,상기 지지대의 하부에 돌출되고 오링을 끼울수 있는 홈을 갖는 돌출부와, 상기 돌출부에 대응하여 상기 캐소드 상부에 형성되고 상기 고전압 단자부 및 헬륨 공급부가 마련되는 오목부를 통하여 상기 지지대와 캐소드가 결합되는 것을 특징으로 하는 식각장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980040304A KR20000021288A (ko) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | 반도체 소자 제조에 이용되는 식각장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980040304A KR20000021288A (ko) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | 반도체 소자 제조에 이용되는 식각장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000021288A true KR20000021288A (ko) | 2000-04-25 |
Family
ID=19552202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019980040304A KR20000021288A (ko) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | 반도체 소자 제조에 이용되는 식각장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20000021288A (ko) |
-
1998
- 1998-09-28 KR KR1019980040304A patent/KR20000021288A/ko not_active Application Discontinuation
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