KR20000015118A - 배플을 구비한 크라이오 펌프 - Google Patents
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Abstract
아르곤 가스의 행업(hang-up)을 방지할 수 있도록 사이즈가 큰 복수의 홀이 형성된 원형 플레이트를 구비한 배플(baffle)을 갖춘 크라이오 펌프(cryo pump)에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 크라이오 펌프는 복수의 홀이 형성된 원형 플레이트를 갖춘 배플(baffle)을 구비하고, 상기 홀은 ¼인치보다 크고 1인치 이하인 직경을 가진다.
Description
본 발명은 크라이오 펌프(cryo pump)에 관한 것으로, 특히 반도체 제조 설비에서 사용되는 배플을 구비한 크라이오 펌프에 관한 것이다.
아르곤 가스를 공정 가스로 사용하는 반도체 제조 설비의 일종인 PVD(Physical Vapor Deposition) 장비, 예를 들면 스퍼터링 장비에 있어서, 아르곤 가스를 펌핑하고 진공 챔버의 챔버 내 진공도를 조절하기 위하여 크라이오 펌프를 많이 사용한다.
크라이오 펌프는 가스를 펌핑하기 위하여 극저온의 온도에서 사용되며, 40∼90。K인 제1 스테이지와 8∼15。K인 제2 스테이지를 갖추고 있다.
크라이오 펌프를 사용하여 PVD 장비에서 해당 공정을 진행할 때 주입되는 아르곤 가스가 제1 스테이지인 배플(baffle)을 통과한 후, 제2 스테이지에서 포획되어 펌핑되어야 한다. 상기 제1 스테이지는 주로 수증기를 펌핑하는 역할을 하며, 수증기의 아주 낮은 온도에서 포획되는 N2, Ne, H2, Ar 등이 상기 제1 스테이지의 홀을 통과하여 제2 스테이지인 목탄(charcoal)에서 포획되어 펌핑된다.
그러나, 종래의 크라이오 펌프에서는 제1 스테이지인 배플의 플레이트에 뚫려 있는 홀(hole)의 직경 사이즈가 ¼인치로 아주 작아서 아르곤 가스가 그 홀 주위에 응축되는 경우에 홀이 막히게 되고, 그에 따라 아르곤 가스가 제1 스테이지를 통과하지 못하여 펌핑되지 못하고 아르곤 가스의 행업(hang-up) 현상이 자주 발생하는 문제가 있었다.
본 발명의 목적은 아르곤 가스의 행업 현상이 발생되는 것을 방지할 수 있는 배플을 구비한 크라이오 펌프를 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 크라이오 펌프의 배플에 구비된 원형 플레이트의 평면도이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 복수의 홀이 형성된 원형 플레이트를 갖춘 배플(baffle)을 구비한 크라이오 펌프에 있어서, 상기 홀은 ¼인치보다 크고 1인치 이하인 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 크라이오 펌프를 제공한다.
상기 홀은 원형 또는 다각형으로 형성될 수 있다.
본 발명에 의하면, 크라이오 펌프의 배플에서 아르곤 가스의 행업이 방지된다.
다음에, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
본 발명에서는 크라이오 펌프의 제1 스테이지인 배플의 홀 사이즈를 조절함으로써 아르곤 가스의 행업을 방지한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 크라이오 펌프의 배플에 구비된 원형 플레이트(10)를 개략적으로 도시한 평면도이다.
상기 원형 플레이트에는 복수의 홀(12)이 형성되어 있으며, 각 홀(12)은 ¼인치보다 크고 1인치 이하인 직경을 가진다.
상기 홀(12)은 원형으로 도시되어 있으나, 필요에 따라서 원형 이외의 형상, 예를 들면 삼각형, 사각형, 오각형 등 다각형의 형상을 가질 수도 있다.
상기한 바와 같이 배플의 플레이트(10)에 뚫려 있는 홀(12)의 사이즈를 종래보다 크게 함으로써 상기 홀(12) 주위에서 아르곤 가스가 응축되더라도 상기 홀(12)이 막히지 않고, 따라서 아르곤 가스의 행업 현상이 발생되지 않는다. 펌핑 속도는 홀(12)의 사이즈 및 개수를 조절함으로써 조절될 수 있다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 의하면 배플의 플레이트에 형성된 홀의 사이즈를 크게 형성함으로써 아르곤 가스가 응축되더라도 아르곤 가스의 행업 현상이 발생되지 않는다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러가지 변형이 가능하다.
Claims (2)
- 복수의 홀이 형성된 원형 플레이트를 갖춘 배플(baffle)을 구비한 크라이오 펌프에 있어서,상기 홀은 ¼인치보다 크고 1인치 이하인 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 크라이오 펌프.
- 제1항에 있어서, 상기 홀은 원형 또는 다각형으로 형성된 것을 특징으로 하는 크라이오 펌프.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019980034859A KR20000015118A (ko) | 1998-08-27 | 1998-08-27 | 배플을 구비한 크라이오 펌프 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019980034859A KR20000015118A (ko) | 1998-08-27 | 1998-08-27 | 배플을 구비한 크라이오 펌프 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR20000015118A true KR20000015118A (ko) | 2000-03-15 |
Family
ID=19548485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019980034859A KR20000015118A (ko) | 1998-08-27 | 1998-08-27 | 배플을 구비한 크라이오 펌프 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104074715A (zh) * | 2013-03-25 | 2014-10-01 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵及真空排气方法 |
US10456706B2 (en) | 2013-06-14 | 2019-10-29 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Cryopump |
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1998
- 1998-08-27 KR KR1019980034859A patent/KR20000015118A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI570327B (zh) * | 2013-03-25 | 2017-02-11 | Sumitomo Heavy Industries | Low temperature pump and vacuum exhaust method |
US10030640B2 (en) | 2013-03-25 | 2018-07-24 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Cryopump and vacuum pumping method |
US10456706B2 (en) | 2013-06-14 | 2019-10-29 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Cryopump |
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