KR20000012568U - Waste gas treatment device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기체상의 유독성 가스를 처리하여 무독성 정제가스와 무독성 고체 알갱이 형태의 파티클로 상변환 시킨 후, 정제가스 및 파티클을 원통 형상을 갖는 싸이클론 집진기로 공급하여 파티클중 비교적 큰 중량을 갖는 파티클은 원심력에 의하여 싸이클론 집진기 내부에서 원심 분리시키고, 중량이 미세하여 원심분리되지 않은 상태로 정제가스에 포함되어 있는 파티클은 싸이클론 집진기 내부에 설치된 필터에 의하여 분리시켜 정제 기체만이 외부로 배출되도록 한 폐가스처리장치에 관한 것으로, 본 발명에 의하면 폐가스처리장치에서 유독성 폐가스를 정화시키는 과정에서 부산물로 발생한 분진 형태의 파티클을 집진하는 싸이클론 집진 장치의 내부에 필터 장치를 설치하고, 필터 장치에 피착된 파티클을 제거하는 파티클 제거 수단을 형성함으로써 폐가스처리장치의 크기를 콤팩트화할 뿐만 아니라 필터 장치에 피착된 파티클을 제거하기 위하여 싸이클론 집진장치를 분해할 필요가 없어 폐가스처리장치의 가동 중단 및 폐가스처리장치의 클리닝 주기를 획기적으로 연장시킨다.According to the present invention, after the gaseous toxic gas is converted to a non-toxic purified gas and a non-toxic solid granule, the particles are supplied to a cyclone dust collector having a cylindrical shape, and the particles having a relatively high weight in the particles are Centrifugal separation is performed inside the cyclone dust collector by centrifugal force, and the particles contained in the refined gas without being centrifuged due to their fine weight are separated by a filter installed inside the cyclone dust collector so that only the purified gas is discharged to the outside. The present invention relates to a waste gas treatment device, and according to the present invention, a filter device is installed in a cyclone dust collector that collects dust particles generated as a by-product in the process of purifying toxic waste gas. Forms particle removal means to remove particles As well as compactly the size of waste gas processing equipment, not to remove the particles adhering to the filter unit do not have to disassemble the cyclone collector extends significantly the cleaning period of the downtime and waste gas treatment apparatus of the waste gas treatment apparatus.

Description

폐가스처리장치Waste gas treatment device

본 고안은 폐가스처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기체상의 유독성 가스를 처리하여 무독성 정제가스와 무독성 고체 알갱이 형태의 파티클로 상변환 시킨 후, 정제가스 및 파티클을 원통 형상의 싸이클론 집진기로 공급하여 파티클중 비교적 큰 중량을 갖는 파티클은 원심력에 의하여 싸이클론 집진기 내부에서 원심분리시키고, 중량이 미세하여 원심 분리되지 않은 상태로 정제가스에 포함되어 있는 파티클은 싸이클론 집진기 내부에 설치된 필터에 의하여 분리시켜 정제 기체만이 외부로 배출되도록 한 폐가스처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a waste gas treatment device, and more specifically, to a gaseous toxic gas is converted to a non-toxic purified gas and a non-toxic solid granules phase particles, the purified gas and particles are supplied to the cylindrical cyclone dust collector Therefore, particles having a relatively large weight among the particles are centrifuged in the cyclone dust collector by centrifugal force, and particles contained in the refined gas without being centrifuged due to their fine weight are separated by a filter installed inside the cyclone dust collector. The present invention relates to a waste gas treatment device for allowing only purified gas to be discharged to the outside.

최근들어 급속한 성장 및 기술 개발이 진행되고 있는 반도체 산업은 그 유용성만큼 복잡하면서도 고도의 정밀도를 요구하는 많은 반도체 장비 및 반도체 제조 공정을 필요로 하는 바, 반도체 제조 공정은 공정 특성상 인체에 치명적인 각종 유독성, 부식성, 인화성 가스를 다량으로 사용한다.In recent years, the semiconductor industry, which has undergone rapid growth and technological development, requires many semiconductor equipment and semiconductor manufacturing processes that are as complex as its usefulness and require high precision.The semiconductor manufacturing process has various toxic, Corrosive and flammable gases are used in large quantities.

예를 들어, 대표적인 반도체 박막 제조 공정중 하나인 CVD(CVD: Chemical Vapor Deposition) 공정에서는 다량의 실란, 디클로로 실란, 암모니아, 산화질소, 아르신, 포스핀, 디보론, 보론, 트리클로라이드 등의 유독성 가스를 사용하는 바, 이들은 반도체 공정중 미량만이 소모되고 대부분 폐가스 형태로 공정 설비로부터 배출되는데, 이와 같이 반도체 공정 후 발생한 폐가스는 앞서 언급한 바와 같이 매우 유독성이다.For example, CVD (Chemical Vapor Deposition) process, one of the typical semiconductor thin film manufacturing processes, is toxic to a large amount of silane, dichloro silane, ammonia, nitrogen oxide, arsine, phosphine, diboron, boron, trichloride, etc. With the use of gases, they are consumed only in trace amounts during the semiconductor process and are mostly emitted from the process equipment in the form of waste gases. Thus, the waste gases generated after the semiconductor process are very toxic as mentioned above.

이외에 플라즈마 강화 CVD, 플라즈마 에칭, 에피택시 증착 등과 같은 여러 반도체 공정들에서도 마찬가지로 각종 유독성 폐가스가 생성된다.In addition, various toxic waste gases are generated in many semiconductor processes such as plasma enhanced CVD, plasma etching, epitaxy deposition, and the like.

이와 같이 반도체 제조 공정중 발생한 유독성 폐가스는 그 독성이 매우 심각하여 대기중으로 무단 방출될 경우, 인체 및 생태계에 심각한 영향을 미치게 됨으로 반도체 제조 공정중 발생한 유독성 폐가스는 반드시 법적 기준을 만족할 때가지 폐가스처리장치에 의하여 처리된 후 대기중으로 방출된다.As such, the toxic waste gas generated during the semiconductor manufacturing process is very toxic, and if it is released into the air, the toxic waste gas seriously affects the human body and the ecosystem. Thus, the toxic waste gas generated during the semiconductor manufacturing process must meet the legal standards. Is treated and released into the atmosphere.

이처럼 반도체 공정을 진행하는데 꼭 필요한 폐가스처리장치는 가연성이면서도 유독성인 폐가스에 열을 가하였을 때, 폐가스가 산화 반응에 의하여 무독성 가스 및 부산물로 분해되는 점과, 수용성 폐가스를 수용액에 공급하여 용해시킴으로써 무독성 용액으로 화학반응되는 점에 착안하여 건식 폐가스 처리장치와 습식 폐가스처리장치로 분리된다.Thus, the waste gas treatment device necessary for the semiconductor process is non-toxic by decomposing the waste gas into non-toxic gas and by-products by the oxidation reaction when heat is applied to the flammable and toxic waste gas, and by supplying and dissolving the water-soluble waste gas into the aqueous solution. Focusing on chemical reaction with solution, it is separated into dry waste gas treatment device and wet waste gas treatment device.

건식 폐가스처리장치를 설명하면, 반도체 설비의 배기관을 통하여 배출된 유독성 폐가스를 폐가스 산화용 공기와 혼합시켜주는 매니폴더(manifolder)라 불리우는 공기-폐가스 혼합장치, 매니폴더와 연결되어 매니폴더에서 혼합된 혼합기를 소정 온도 이상으로 가열하여 폐가스를 산화시키는 가열챔버, 가열챔버와 연통되어 가열챔버에서 산화된 폐가스가 상변화되면서 형성된 무독성 파티클을 정제가스로부터 1차 분리시키는 포집챔버, 포집챔버에서 포집되지 않고 정제가스에 포함되어 있는 파티클에 원심력을 가하여 정제가스로부터 2차 원심분리시키는 싸이클론 집진기, 싸이클론 집진기의 외부에 설치되어 정제가스로부터 분리되지 않은 미세 파티클을 포집하여 3차 분리시키는 필터장치로 구성된다.In the description of the dry waste gas treatment device, an air-waste gas mixing device called a manifold, which mixes the toxic waste gas discharged through the exhaust pipe of the semiconductor facility with the waste gas oxidation air, is mixed in the manifold connected to the manifold. A heating chamber for oxidizing the waste gas by heating the mixer to a predetermined temperature or more, and a collecting chamber for primary separation of the non-toxic particles formed by the phase change of the waste gas oxidized in the heating chamber and the collecting chamber, without being collected in the collecting chamber. It consists of a cyclone dust collector for centrifugal separation from the refinery gas by applying centrifugal force to the particles contained in the refinery gas, and a filter device for collecting and separating the fine particles that are not separated from the refinery gas for the third time. do.

필터장치에는 정제가스와 미세 파티클이 혼합된 혼합기가 공급된 후 정제가스는 통과하지만 미세 파티클은 통과하지 못하도록 압소버(absorber)라 불리우는 필터 부재가 가득 충진되어 있다.The filter device is filled with a filter member called an absorber so that the refiner gas passes through the refiner and the fine particles are mixed, but passes through the refinery gas but not the fine particles.

압소버는 십자형상을 갖는 플레이트의 면에 홀이 형성되거나 원통의 외주면에 홀을 형성한 형상으로 파티클과 정제가스는 필터장치를 통과하면서 압소버에 의하여 유속이 감소됨으로써 압소버에는 파티클이 피착되고 정제가스만이 필터장치 외부로 배출된 후 메인 덕트를 통하여 외부로 배출된다.The Absorber is a shape in which holes are formed on the surface of the cross-shaped plate or holes are formed on the outer circumferential surface of the cylinder. As the particles and purified gas pass through the filter device, the flow rate is reduced by the Absorber, whereby particles are deposited on the Absorber and purified. Only gas is discharged out of the filter unit and then out through the main duct.

그러나, 종래 폐가스처리장치는 다음의 복합적인 문제점을 갖고 있다.However, the conventional waste gas treatment apparatus has the following complex problems.

첫 번째로, 폐가스처리장치의 필터장치에 포획된 파티클을 주기적으로 제거하여야만 필터장치의 성능 저하에 따른 폐가스처리장치의 전체 성능 저하가 발생하지 않는데, 필터장치에 포획된 파티클을 주기적으로 제거하기 위해서는 필터장치를 폐가스처리장치로부터 분리시킨 후 필터장치 내부에 수납된 필터부재를 클리닝 하는 방법, 필터장치 내부로 별도의 클리닝 물질을 분사하여 제거하는 방법 등이 있을 수 있다.First, it is necessary to periodically remove particles trapped in the filter device of the waste gas treatment device so that the overall performance of the waste gas treatment device does not occur due to deterioration of the filter device. In order to periodically remove particles trapped in the filter device, After separating the filter apparatus from the waste gas treatment apparatus, there may be a method of cleaning the filter member housed inside the filter apparatus, a method of spraying and removing a separate cleaning material into the filter apparatus.

전자의 경우와 같이 필터장치를 폐가스처리장치로부터 분리시킬 경우, 폐가스처리공정이 일시적으로 중단되어야 하기 때문에 이와 같은 방법은 사용이 매우 불편하고, 후자의 경우와 같이 별도의 클리닝 물질을 분사하는 경우, 필터부재에 피착된 파티클이 완전히 제거되기 쉽지 않기 때문에 클리닝 주기가 짧아지며, 파티클이 완전히 제거되지 않는 문제점이 있다.When the filter device is separated from the waste gas treatment device as in the former case, this method is very inconvenient to use because the waste gas treatment process must be temporarily stopped, and when spraying a separate cleaning material as in the latter case, Since the particles deposited on the filter member are not easy to be completely removed, the cleaning cycle is shortened and there is a problem that the particles are not completely removed.

두 번째로, 파티클이 필터장치의 내부에 충진된 필터부재에 의해서 필터링되지 않고 메인 덕트로 배출되는 빈도가 높아 필터장치의 효율 및 신뢰성이 저하되는 문제점이 있다.Secondly, the particles are not filtered by the filter member filled in the filter device and are discharged to the main duct, so that the efficiency and reliability of the filter device are deteriorated.

세 번째로, 필터장치에 의하여 폐가스처리장치의 전체 크기가 증가되는 문제점이 있다.Third, there is a problem that the overall size of the waste gas treatment device is increased by the filter device.

따라서, 본 고안은 이와 같은 폐가스처리장치의 문제점을 감안하여 안출된 것으로써, 본 고안의 목적은 정제가스에 포함된 파티클을 최종적으로 필터링하는 필터장치를 집진장치인 싸이클론 집진기의 내부에 설치하여 폐가스처리장치의 전체 면적을 크게 감소시킴에 있다.Therefore, the present invention was devised in view of the problems of the waste gas treatment device, and an object of the present invention is to install a filter device for finally filtering the particles contained in the purified gas in the cyclone dust collector, which is a dust collector. The overall area of the waste gas treatment system is greatly reduced.

본 고안의 다른 목적은 폐가스처리장치의 싸이클론 집진장치의 내부에 설치된 필터장치에 피착된 파티클을 싸이클론 집진장치의 분해 없이 제거함에 있다.Another object of the present invention is to remove particles deposited on a filter device installed inside a cyclone dust collector of a waste gas treatment device without disassembling the cyclone dust collector.

본 고안의 또다른 목적은 싸이클론 집진장치의 내부에 설치된 필터장치에 피착된 파티클을 긁어 제거함에 있다.Another object of the present invention is to scrape off particles deposited on the filter device installed inside the cyclone dust collector.

본 고안의 또다른 목적은 싸이클론 집진장치의 내부에 설치된 필터장치에 단속적인 진동을 주어 필터장치에 피착된 파티클을 제거함에 있다.Another object of the present invention is to remove particles deposited on the filter device by giving an intermittent vibration to the filter device installed inside the cyclone dust collector.

본 고안의 또다른 목적은 싸이클론 집진장치의 내부에 설치된 필터장치에 파티클에 단속적인 진동을 가함과 동시에 파티클을 긁어 제거함에 있다.Another object of the present invention is to scrape off the particles while applying intermittent vibration to the particles to the filter device installed inside the cyclone dust collector.

본 고안의 또다른 목적은 후술될 본 고안의 상세한 설명에 의하여 더욱 명확해질 것이다.Another object of the present invention will become more apparent from the detailed description of the present invention to be described later.

도 1은 본 고안에 의한 폐가스처리장치의 개념도.1 is a conceptual diagram of a waste gas treatment apparatus according to the present invention.

도 2는 본 고안에 의한 폐가스처리장치의 사시도.2 is a perspective view of a waste gas treatment apparatus according to the present invention.

도 3은 본 고안에 의한 싸이클론 집진장치의 일실시예를 도시한 종단면도.Figure 3 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of a cyclone dust collector according to the present invention.

도 4는 본 고안에 의한 싸이클론 집진장치의 다른 실시예를 도시한 종단면도.Figure 4 is a longitudinal sectional view showing another embodiment of the cyclone dust collector according to the present invention.

도 5는 본 고안에 의한 싸이클론 집진장치의 또다른 실시예를 도시한 종단면도.Figure 5 is a longitudinal sectional view showing another embodiment of a cyclone dust collector according to the present invention.

도 6은 본 고안에 의한 싸이클론 집진장치의 분해 사시도.Figure 6 is an exploded perspective view of the cyclone dust collector according to the present invention.

이와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위한 폐가스처리장치는 반도체 공정중 발생한 폐가스에 산화용 공기를 혼합시킨 후, 폐가스-공기의 혼합기를 소정 온도로 가열하여 무독성 정제가스와 파티클을 생성한 후, 파티클이 차가운 물질에 피착되는 성질을 이용하여 정제가스로부터 파티클을 1차적으로 선별 포집하여 분리하고, 포집에 의해서도 정제가스로부터 분리되지 않은 파티클을 원심력이 작용하는 싸이클론 집진 챔버에 유입시켜 파티클과 정제가스의 중량차에 의하여 파티클을 2차적으로 원심 분리시킨 후, 중량이 매우 작기 때문에 원심 분리가 용이하지 않은 파티클이 필터링되도록 하는 필터장치를 싸이클론 집진 챔버에 설치하여 3차적으로 파티클을 정제가스로부터 제거한 후, 정제가스를 메인 덕트로 분리 배출시킨다.In order to achieve the object of the present invention, the waste gas treatment apparatus mixes oxidizing air with waste gas generated during a semiconductor process, and then heats the waste gas-air mixer to a predetermined temperature to generate non-toxic purified gas and particles, and then generates particles. Particles and purified gases are first collected and separated from the purified gas by using the property of being deposited on the cold substance, and particles not separated from the purified gas by the collection are introduced into the cyclone dust collection chamber where centrifugal force is applied. Secondary centrifugation of particles by the difference in weight, and after the particle is removed from the purified gas by installing a filter device in the cyclone dust collection chamber to filter particles that are not easy to centrifuge because the weight is very small After that, the purified gas is separated and discharged into the main duct.

본 고안의 목적을 구현하기 위하여 바람직하게 필터장치는 싸이클론 집진장치의 내부에서 소정 회전속도로 회전되고, 싸이클론 집진 설비 내에서 회전하는 필터장치와 접촉하면서 필터장치에 피착된 파티클을 긁어 제거하는 파티클 제거수단이 설치된다.In order to realize the object of the present invention, the filter device is preferably rotated at a predetermined rotational speed inside the cyclone dust collector, and scrapes off particles deposited on the filter device while contacting the filter device rotated in the cyclone dust collector. Particle removal means is provided.

선택적으로, 파티클 제거수단은 필터장치의 외표면을 긁도록 싸이클론 집진장치에 부착되어 고정된 브러쉬를 포함한다.Optionally, the particle removal means comprises a brush attached to and fixed to the cyclone dust collector to scratch the outer surface of the filter device.

선택적으로, 파티클 제거수단은 필터장치의 외표면에 단속적인 진동을 가하도록 싸이클론 집진장치에 부착되어 고정된 진동자를 포함한다.Optionally, the particle removing means comprises a vibrator fixed to and attached to the cyclone dust collector to apply intermittent vibration to the outer surface of the filter device.

바람직하게, 파티클 제거수단은 필터장치의 외표면에 단속적인 진동을 가하여 필터장치에 피착된 파티클을 1차적으로 제거한 상태에서 필터장치의 외표면을 긁도록 싸이클론 집진장치에 부착되어 고정된 진동자 및 브러쉬를 함께 포함한다.Preferably, the particle removing means is a vibrator attached to the cyclone dust collector so as to scratch the outer surface of the filter device in the state of first removing the particles deposited on the filter device by applying intermittent vibration to the outer surface of the filter device and Include a brush together.

바람직하게, 필터장치의 외표면은 필터 면적을 증가시키기 위하여 주름이 형성되어 있다.Preferably, the outer surface of the filter device is pleated to increase the filter area.

이하, 본 고안에 의한 폐가스처리장치의 보다 상세한 구성 및 작용을 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings a more detailed configuration and operation of the waste gas treatment apparatus according to the present invention.

첨부된 도 1, 도 2를 참조하면 본 고안에 의한 폐가스처리장치(700)는 전체적으로 보아 매니폴더(100), 폐가스 산화 챔버(200), 파티클 포집챔버(300) 및 싸이클론 집진장치(400)와 파티클 수거통(500)으로 구성된다.1 and 2 attached to the waste gas treatment apparatus 700 according to the present invention as a whole manifold 100, waste gas oxidation chamber 200, particle collection chamber 300 and the cyclone dust collector 400 And a particle container 500.

구체적으로, 매니폴더(100)는 반도체 공정 설비(미도시)의 폐가스 배기관(10)으로부터 공급받은 폐가스에 산화용 공기 및 산화용 공기와 격렬한 산화 반응이 일어나지 않토록 방지하는 불활성가스를 혼합하도록 원통 형상을 갖는 매니폴더 몸체(30)에 공기공급관(20)과 불활성가스 공급관(40)이 형성된다.Specifically, the manifold 100 is a cylinder so as to mix the oxidizing air and the inert gas to prevent the intense oxidation reaction with the oxidizing air and the waste gas supplied from the waste gas exhaust pipe 10 of the semiconductor processing equipment (not shown). The air supply pipe 20 and the inert gas supply pipe 40 are formed in the manifold body 30 having a shape.

또한, 매니폴더(100)에는 매니폴더(100) 내부의 부압을 측정하는 압력계(50)가 설치되는 바, 압력계(50)는 후술될 싸이클론 집진장치(400)의 이상작동을 감지하는 역할을 하며, 압력계(50)는 측정한 압력에 해당하는 소정 신호를 콘트롤러(60)에 입력시키고, 콘트롤러(60)는 압력계(50)로부터 입력된 신호를 처리하여 후술될 액튜에이터 밸브(332,334)에 제어 신호를 인가한다.In addition, the manifold 100 is provided with a pressure gauge 50 for measuring the negative pressure inside the manifold 100, the pressure gauge 50 serves to detect abnormal operation of the cyclone dust collector 400 to be described later. The pressure gauge 50 inputs a predetermined signal corresponding to the measured pressure to the controller 60, and the controller 60 processes a signal input from the pressure gauge 50 to control actuators 332 and 334 to be described later. Apply.

이와 같이 구성된 매니폴더(100)에는 폐가스 산화 챔버(200)가 연통되는 바, 폐가스 산화챔버(200)는 원통형 히터(미도시)에 삽입된 인너 튜브(미도시)와 히터를 감싸는 아웃터 튜브(110)로 구성되어 폐가스와 산화용 공기 및 불활성가스 혼합기를 소정 온도로 가열시키는 구성을 갖는다.The waste gas oxidation chamber 200 communicates with the manifold 100 configured as described above, and the waste gas oxidation chamber 200 includes an inner tube (not shown) inserted into a cylindrical heater (not shown) and an outer tube 110 surrounding the heater. ) To heat the waste gas, the oxidizing air and the inert gas mixer to a predetermined temperature.

한편, 폐가스 산화 챔버(200)와 연통되는 파티클 포집챔버(300)는 폐가스 산화챔버(200)와 연통되어 폐가스 산화챔버(200)로부터 형성된 무독성 파티클을 정제 가스로부터 분리시키기 위하여 파티클 및 정제가스보다 매우 낮은 온도를 갖음으로써 파티클 및 정제가스가 통과하면서 파티클만이 차가운 면에 응축 피착되도록 구성된 냉각챔버(미도시), 냉각챔버에서 미쳐 응축 피착되지 않은 파티클 및 정제가스가 외부로 배출되지 않토록 냉각챔버를 감싸고 있는 포집 챔버 커버(310), 냉각 챔버 및 포집 챔버 커버(310)에 피착된 파티클을 긁어 제거하는 파티클 제거 유닛(미도시)으로 구성된다.On the other hand, the particle collection chamber 300 in communication with the waste gas oxidation chamber 200 is in communication with the waste gas oxidation chamber 200 is much more than the particles and purified gas to separate the non-toxic particles formed from the waste gas oxidation chamber 200 from the purified gas. Cooling chamber (not shown) configured to have low temperature to allow particles and purified gas to pass through and condensate on the cold side, and cooling chamber so that particles and purified gas that are not condensed and deposited from the cooling chamber are not discharged to the outside. It is composed of a particle removal unit (not shown) for scraping off the particles deposited on the collecting chamber cover 310, the cooling chamber and the collecting chamber cover 310 surrounding the.

파티클 제거 유닛에 의하여 긁혀 제거된 덩어리 형태의 파티클은 연결 배관(320)을 따라서 파티클 수거통(500)으로 유입되고, 냉각챔버에서 미쳐 포집되지 않은 미세 파티클과 정제가스가 혼합된 혼합기는 포집 챔버(300)의 측면에 형성된 관통공과 연통된 혼합기 배관(330)의 단부와 접선 방향으로 연통되어 원심분리 및 필터링이 동시에 수행되는 싸이클론 집진 장치(400)로 공급된다.The particles in the form of lumps scraped off by the particle removal unit are introduced into the particle container 500 along the connection pipe 320, and the mixer in which the fine particles and the purified gas are not collected in the cooling chamber is mixed with the collection chamber 300. It is supplied to the cyclone dust collector 400 which is in tangential communication with the end of the mixer pipe 330 in communication with the through-hole formed in the side of the) is performed at the same time centrifugation and filtering.

이때, 싸이클론 집진장치(400)는 다단계로 적어도 2 대 이상, 본 발명에서는 바람직하게 4 대가 설치된다. 이때, 2 대의 싸이클론 집진장치(400)는 한쌍을 이루면서 직렬 방식으로 연결됨으로써 4 대의 싸이클론 집진장치(400)는 2 개의 싸이클론 집진장치 그룹을 형성한다.At this time, the cyclone dust collector 400 is at least two or more in the multi-step, preferably four units are provided in the present invention. In this case, the two cyclone dust collectors 400 are connected in series in a pair, and the four cyclone dust collectors 400 form two cyclone dust collector groups.

이때, 각각의 싸이클론 집진장치 그룹은 다시 혼합기 배관(330)과 병렬로 연결되고, 혼합기 배관(330)과 병렬 연결되기 위하여 분기된 혼합기 배관(330)에는 에어밸브 또는 솔레노이드 밸브와 같은 액튜에이터 개폐 밸브(332,334)가 설치된다.At this time, each cyclone dust collector group is again connected in parallel with the mixer pipe 330, the branched mixer pipe 330 to be connected in parallel with the mixer pipe 330, actuator opening and closing valves such as air valve or solenoid valve (332,334) are installed.

이와 같이 2 대의 싸이클론 집진장치(400)를 한 쌍으로 묶어 형성된 싸이클론 집진장치 그룹을 혼합기 배관(330)에 병렬 연결시키고, 분기된 혼합기 배관(330)에 각각 액튜에이터 개폐 밸브(332,334)를 형성시킴으로써 액튜에이터 개폐 밸브(332,334)중 어느 하나만을 개방시켜 집진을 수행하다 집진이 수행되고 있는 싸이클론 집진장치 그룹에 작동 이상이 발생한 것을 압력계(50)의 신호에 의하여 콘트롤러(60)가 인식할 경우 콘트롤러(60)는 현재 집진이 수행되고 있는 싸이클론 집진장치 그룹과 연통된 혼합기 배관(330)의 액튜에이터 개폐 밸브를 폐쇄시키고, 나머지 싸이클론 집진장치 그룹과 연통된 액튜에이터 개폐 밸브를 개방시켜 폐가스처리가 중단되지 않토록 한다.As such, the cyclone dust collector group formed by tying two cyclone dust collectors 400 in a pair is connected in parallel to the mixer pipe 330, and the actuator on / off valves 332 and 334 are formed in the branched mixer pipe 330, respectively. When the controller 60 recognizes that an abnormality has occurred in the cyclone dust collector group in which the dust collection is being performed, the controller 60 recognizes that an operation abnormality has occurred by opening only one of the actuator on / off valves 332 and 334. 60 closes the actuator on / off valve of the mixer pipe 330 in communication with the cyclone dust collector group in which dust collection is being performed, and opens the actuator on / off valve in communication with the remaining cyclone dust collector group to stop waste gas treatment. Don't let that happen.

이로써, 폐가스처리 공정이 중단되지 않고도 작동 이상이 발생한 싸이클론 집진장치 그룹을 클리닝 또는 수리할 수 있다.This allows cleaning or repair of the cyclone dust collector group in which a malfunction occurs without interruption of the waste gas treatment process.

싸이클론 집진장치(400)중 파티클의 원심분리 및 필터링이 수행된 후, 완전히 정제된 정제가스는 싸이클론 집진장치(400)와 연통된 불로워(310)에 의하여 배기 덕트(600)를 통하여 배출된다.After centrifugation and filtering of the particles in the cyclone dust collector 400 is performed, the purified gas is completely discharged through the exhaust duct 600 by the blower 310 in communication with the cyclone dust collector 400. do.

이와 같이 파티클의 원심 분리 및 필터링이 진행되는 싸이클론 집진장치를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Referring to the cyclone dust collector in which the centrifugation and filtering of the particles are performed as described above in more detail with reference to the accompanying drawings.

제 1 실시예First embodiment

도 2에 도시된 싸이클론 집진장치(400)중 어느 하나를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, any one of the cyclone dust collector 400 shown in Figure 2 as follows.

첨부된 도 3을 참조하면, 싸이클론 집진장치(400)는 전체적으로 보아 싸이클론 집진장치 몸체(410), 정제가스 배기관(420), 사이클론 집진장치 몸체(410)의 내부에 고정 설치된 필터 장치(430)로 구성된다.Referring to FIG. 3, the cyclone dust collector 400 has a filter device 430 fixedly installed inside the cyclone dust collector body 410, the purified gas exhaust pipe 420, and the cyclone dust collector body 410. It is composed of

보다 구체적으로, 싸이클론 집진장치 몸체(410)는 첨부된 도 2에 도시된 바와 같이 상, 하단부가 개구된 긴 원통 형상으로 원통은 소정 위치에서 하단부로 갈수록 점차 직경이 감소하는 고깔 형태를 갖는다.More specifically, as shown in FIG. 2, the cyclone dust collector body 410 has a long cylindrical shape with upper and lower ends opened, and the cylinder has a solid shape gradually decreasing in diameter from a predetermined position toward the lower end.

상단부에 비하여 직경이 감소된 원통의 하단부에 형성된 개구에는 박스 형상을 갖는 파티클 수거통(500)이 연결된다. 다시 도 3을 참조하면, 원통의 상단부 내측면에는 링 형상의 플랜지(411)가 별도로 설치되거나, 상단부중 일정 길이 만큼을 원통 상단부 내측면 방향을 향하도록 절곡하여 플랜지를 형성한다. 이때, 플랜지(411)에는 복수개의 나사 체결공(411a)이 형성된다.A particle container 500 having a box shape is connected to the opening formed at the lower end of the cylinder whose diameter is reduced compared to the upper end. Referring to FIG. 3 again, a ring-shaped flange 411 is separately provided on the inner side of the upper end of the cylinder, or the flange is formed by bending a predetermined length of the upper end toward the inner side of the upper end of the cylinder. At this time, a plurality of screw fastening holes 411a are formed in the flange 411.

싸이클론 집진장치 몸체(410)에 형성된 플랜지(411)에는 싸이클론 집진장치 몸체(410)의 내부에 고정되도록 필터장치(430)가 고정 설치된다.The flange 411 formed on the cyclone dust collector body 410 is fixed to the filter device 430 to be fixed to the interior of the cyclone dust collector body 410.

이때, 필터장치(430)는 도 2에 도시된 바와 같이 모든 싸이클론 집진기에 장착되거나 직렬 연결된 2 대의 싸이클론 집진기중 비교적 중량이 가벼운 파티클이 집진되는 후단의 싸이클론 집진기에 설치되는 것이 바람직하다.In this case, as shown in FIG. 2, the filter device 430 may be installed in the cyclone dust collector of the rear stage in which particles having a relatively light weight are collected from two cyclone dust collectors or connected in series.

이와 같이 설치된 필터장치(430)는 필터(431), 필터(431)를 싸이클론 집진장치 몸체(410)에 형성된 플랜지(411)에 밀봉되도록 고정시키는 지지부재(432)로 구성된다.The filter device 430 installed as described above includes a filter 431 and a support member 432 for fixing the filter 431 to the flange 411 formed on the cyclone dust collector body 410.

지지부재(432)는 외주면에 플랜지(432a)가 형성된 부싱(432b)으로 플랜지(432a)에는 싸이클론 집진장치 몸체(410)에 형성된 플랜지(411)의 나사 체결공(411a)과 나사 체결 가능한 크기를 갖는다.The support member 432 is a bushing 432b having a flange 432a formed on an outer circumferential surface thereof, and the size of the support member 432 that can be screwed with the screw fastening hole 411a of the flange 411 formed in the cyclone dust collector body 410 on the flange 432a. Has

지지부재(432)의 부싱(432b)의 내경으로는 지지부재(432)의 내주면으로부터 부싱(432b)의 중앙을 향하도록 복수개의 서포트(432c)가 뻗어 있고, 서포트(432c)의 중심에는 또다른 부싱(432d)이 형성된다.The inner diameter of the bushing 432b of the support member 432 extends from the inner circumferential surface of the support member 432 toward the center of the bushing 432b, and another support 432c extends from the inner circumferential surface of the support member 432 to the center of the support 432c. Bushing 432d is formed.

부싱(432d)에는 긴 축(432e)이 결합되고 축(432e)에는 필터(431)가 고정된다.The long shaft 432e is coupled to the bushing 432d, and the filter 431 is fixed to the shaft 432e.

필터(431)는 표면이 규칙적으로 주름져 표면적이 증가된 밸로우즈(bellows) 형상의 필터부재(431a)의 양단부에 금속 재질의 상부 커버(431b) 및 하부 커버(431c)를 고정시켜 제작한다.The filter 431 is manufactured by fixing the upper cover 431b and the lower cover 431c made of a metal material at both ends of the bellows-shaped filter member 431a of which the surface is regularly corrugated to increase the surface area.

지지부재(432)의 플랜지(432a)에 결합되는 필터(431)의 상부 커버(431b)에는 지지부재(432)의 부싱(432b) 내경과 동일하거나 작은 관통공이 형성되고, 필터(431)의 하부 커버(431c)에는 앞서 언급한 축(432e)과 결합된 후 너트(432f)로 체결되도록 나사 체결공(미도시)만이 형성된다.The upper cover 431b of the filter 431 coupled to the flange 432a of the supporting member 432 has a through hole which is equal to or smaller than the inner diameter of the bushing 432b of the supporting member 432, and has a lower portion of the filter 431. Only the screw fastening hole (not shown) is formed in the cover 431c to be coupled to the aforementioned shaft 432e and then fastened with the nut 432f.

필터부재(431a)는 파티클은 투과되지 않고 오로지 정제된 가스만이 통과하는 입도를 갖는다.The filter member 431a has a particle size in which particles are not permeated and only purified gas passes.

이와 같이 형성된 지지부재(432)에는 엘보우관 형태를 갖는 정제가스 배기관(420)의 단부가 지지부재(432)의 플랜지(432)에 나사 체결된다.The end of the purified gas exhaust pipe 420 having an elbow tube shape is screwed to the flange 432 of the support member 432 in the support member 432 formed as described above.

미설명 도면부호 440은 개스킷이고, 450은 혼합 배기관(330)과 연통되며 싸이클론 집진장치 몸체(410)의 내주면 접선 방향에 부착된 혼합기 유입관이다.Reference numeral 440 denotes a gasket, and 450 denotes a mixer inlet pipe communicating with the mixing exhaust pipe 330 and attached to a tangential direction of the inner circumferential surface of the cyclone dust collector body 410.

이와 같이 구성된 본 고안의 제 1 실시예에 의한 싸이클론 집진장치(400)의 작용을 설명하면, 포집챔버(310)의 혼합 배기관(330)을 통하여 파티클-정제가스가 혼합된 혼합기가 싸이클론 집진장치 몸체(410)의 접선방향으로 내부로 유입되어 싸이클론 집진장치 몸체(410) 내부 접선 방향으로 선회되면서 파티클과 정제가스의 혼합기는 동일한 크기의 원심력을 받게 된다.Referring to the operation of the cyclone dust collector 400 according to the first embodiment of the present invention configured as described above, the cyclone dust collector is a particle-purified gas mixed through the mixing exhaust pipe 330 of the collection chamber 310 As the inside of the apparatus body 410 is tangentially introduced into the apparatus body 410 and is pivoted in the tangential direction of the cyclone dust collector body 410, the mixer of the particle and the purified gas receives centrifugal force of the same size.

이때, 파티클중 중량 차이에 의하여 파티클의 선회 배열 또한 달라지게 되는데 예를 들어, 중량이 무거운 파티클은 앞서 언급한 바와 같이 싸이클론 집진장치 몸체(410)의 내벽에 가까운 상태로 선회하면서 중력에 의하여 파티클 수거통(500)으로 수거되고, 비교적 가벼운 파티클은 원심력의 영향을 약하게 받아 파티클 수거통(500)으로 곧바로 유입되지 못하고 싸이클론 집진장치 몸체(410)의 중앙 부분에서 계속 선회된다.At this time, the rotational arrangement of the particles is also changed by the difference in the weight of the particles, for example, the heavy particles are turned by the particles by gravity while turning close to the inner wall of the cyclone dust collector body 410 as mentioned above Collected by the collecting container 500, the relatively light particles are weakly affected by the centrifugal force and do not flow directly into the particle collecting container 500, but are continuously turned in the central portion of the cyclone dust collector body 410.

이때, 싸이클론 집진장치 몸체(410)와 앞서 언급한 필터 장치(431) 및 정제가스 배기관(420) 내의 압력 분포를 살펴보면, 싸이클론 집진장치 몸체(410)와 필터 장치(431)의 사이에 해당하는 부분의 압력이 가장 크고, 정제가스 배기관(420)의 압력이 가장 낮으며 필터 장치(431)의 내측은 정제가스 배기관(420)의 압력과 비슷함으로 압력 분포 구배에 의하여 정제 가스와 파티클은 자연스럽게 필터장치(431) 내부로 유입되고자 한다.At this time, the pressure distribution in the cyclone dust collector body 410 and the aforementioned filter device 431 and the purified gas exhaust pipe 420 corresponds to the space between the cyclone dust collector body 410 and the filter device 431. The pressure of the portion is the largest, the pressure of the refinery gas exhaust pipe 420 is the lowest, and the inside of the filter device 431 is similar to the pressure of the refinery gas exhaust pipe 420, the purified gas and the particles naturally by the pressure distribution gradient It is intended to be introduced into the filter device 431.

그러나, 파티클은 필터부재(431a)를 통과할 수 없음으로 정제 가스만이 필터 부재(431a)를 통과하여 정제가스 배기관(420)으로 배출된다.However, since the particles cannot pass through the filter member 431a, only the purified gas passes through the filter member 431a and is discharged to the purified gas exhaust pipe 420.

앞서 설명한 제 1 실시예는 필터장치(431)를 싸이클론 집진장치(400) 내부에 설치함으로써 본 고안이 목적하고자 하는 폐가스처리장치(700)의 전체 크기를 감소시킬 수는 있지만, 싸이클론 집진장치(400)를 주기적으로 해체하여 필터장치(431)에 피착된 파티클을 제거하여야 함으로 이를 해결코자 후술될 제 2 실시예에서는 싸이클론 집진장치(400)를 해체하여 필터장치(431)에 피착된 파티클을 제거하지 않아도 되도록 한 다른 실시예가 설명되고 있다.The first embodiment described above can reduce the overall size of the waste gas treatment apparatus 700 according to the present invention by installing the filter device 431 inside the cyclone dust collector 400, but the cyclone dust collector In order to solve this problem, the particles 400 deposited on the filter device 431 must be removed by periodically dismantling the 400 and the particles deposited on the filter device 431 by disassembling the cyclone dust collector 400. Another embodiment has been described which eliminates the need to remove.

제 2 실시예Second embodiment

제 2 실시예에 의한 싸이클론 집진장치(400)는 전체적으로 보아 싸이클론 집진장치 몸체(460), 정제가스 배기관(470), 필터장치(480)로 구성되며, 필터 장치(480)는 다시 필터(482), 필터 지지유닛(486), 필터 구동유닛(488)과 파티클 제거 부재(489)를 포함한다.The cyclone dust collector 400 according to the second embodiment is composed of a cyclone dust collector body 460, a purified gas exhaust pipe 470, and a filter device 480 as a whole, and the filter device 480 is again a filter ( 482, filter support unit 486, filter drive unit 488 and particle removal member 489.

싸이클론 집진장치 몸체(460)는 제 1 실시예와 마찬가지로 상, 하단부가 개구된 긴 원통 형상으로 원통의 소정 위치에서 하단부로 갈수록 점차 직경이 감소하는 고깔 형태를 갖는다.Like the first embodiment, the cyclone dust collector body 460 has a long cylindrical shape with upper and lower ends opened and has a solid shape gradually decreasing in diameter from a predetermined position of the cylinder to the lower end.

상단부에 비하여 직경이 감소된 원통의 하단부에 형성된 개구에는 박스 형상을 갖는 파티클 수거통(500)이 연결되고, 원통의 상단부 내측면에는 링 형상의 플랜지(461)가 설치되거나, 상단부중 일정 길이 만큼을 원통 상단부 내측면 방향으로 절곡시켜 플랜지(461)를 형성한다. 이때, 플랜지(461)에는 복수개의 나사 체결공(461a)이 형성된다.A particle container 500 having a box shape is connected to the opening formed at the lower end of the cylinder having a reduced diameter as compared to the upper end, and a ring-shaped flange 461 is installed on the inner side of the upper end of the cylinder, or a predetermined length of the upper end is provided. The flange 461 is formed by bending in the direction of the inner side of the upper end of the cylinder. At this time, a plurality of screw fastening holes 461a are formed in the flange 461.

이와 같이 형성된 싸이클론 집진장치 몸체(460)의 플랜지(461)에는 필터장치(480)의 필터(482)를 지지하는 필터 지지유닛(486)이 설치된다.The filter support unit 486 supporting the filter 482 of the filter device 480 is installed at the flange 461 of the cyclone dust collector body 460 formed as described above.

필터 지지유닛(486)을 보다 구체적으로 설명하면, 외경과 내경이 형성된 부싱 형태의 고정 지지몸체(483)의 상단 외주면에는 선반 가공 등에 의하여 제 1 단턱(483a)이 형성되고, 제 1 단턱(483a)에는 제 1 단턱(483a)에 안착되는 내경과 고정 지지몸체(483)의 외경보다 다소 큰 외경을 갖는 링형 지지플레이트(483b)가 안착된 후, 링형 지지플레이트(483b)와 고정 지지몸체(483)의 제 1 단턱(483a)은 결합된다.The filter support unit 486 will be described in more detail. The first stepped portion 483a is formed on the upper circumferential surface of the fixed support body 483 having the outer diameter and the inner diameter formed by lathe machining, and the first stepped 483a. ) Has a ring-shaped support plate 483b having an inner diameter seated on the first stepped 483a and an outer diameter slightly larger than the outer diameter of the fixed support body 483, and thereafter, the ring-shaped support plate 483b and the fixed support body 483 are seated. The first step 483a of) is combined.

또한, 고정 지지몸체(483)의 상단 내주면은 보오링 가공 또는 드릴링 가공에 의하여 내경이 확장되도록 가공되어 고정 지지몸체(483)의 상단 내주면에는 제 2 단턱(483c)이 형성되고, 고정 지지몸체(483)의 하단 내주면은 보오링 가공 또는 드릴링 가공에 의하여 내경이 확장되도록 가공된 후, 내경이 확장된 부분에는 고정 지지몸체(483)의 내경으로부터 다소 돌출되도록 밀봉링(483d)이 설치된다. 미설명 도면부호 483e는 밀봉링 서포트.In addition, the upper inner circumferential surface of the fixed support body 483 is processed to expand the inner diameter by boring or drilling, so that the second stepped 483c is formed on the upper inner circumferential surface of the fixed support body 483, and the fixed support body ( The lower inner peripheral surface of the 483 is processed to expand the inner diameter by boring or drilling, and then the sealing ring 483d is installed at the portion where the inner diameter is extended so as to slightly protrude from the inner diameter of the fixed support body 483. Reference numeral 483e denotes a sealing ring support.

이와 같이 형성된 고정 지지몸체(483)의 내경으로는 원통 형상의 회전 지지몸체(484)가 삽입된다.As the inner diameter of the fixed support body 483 formed as described above, a cylindrical rotary support body 484 is inserted.

회전 지지몸체(484)의 외주면 상단으로부터 하단을 향하는 방향으로는 제 3 단턱(484a)이 형성되어 있고, 회전 지지몸체(484)의 하단에는 후술될 필터(482)와 밀착되는 필터 지지플레이트(484b)가 나사 등에 의하여 결합된다.A third step 484a is formed in a direction from the upper end of the outer circumferential surface of the rotary support body 484 to the lower end, and the filter support plate 484b in close contact with the filter 482 to be described later on the lower end of the rotary support body 484. ) Is coupled by screws or the like.

이와 같이 형성된 회전 지지몸체(484)를 고정 지지몸체(483)에 대하여 최소의 마찰로 회전 가능하게 고정시키기 위해서 고정 지지몸체(483)의 외주면에 형성된 제 2 단턱(483c)과 회전 지지몸체(484)의 외주면에 형성된 제 3 단턱(484a)면에는 볼 베어링(485)이 개재되는 바, 제 2 단턱(483c)에는 볼 베어링(485)의 외륜(485b)이 안착되고, 제 3 단턱(484a)에는 볼 베어링(485)의 내륜(485a)이 안착된다.The second step 483c and the rotary support body 484 formed on the outer circumferential surface of the fixed support body 483 so as to rotatably fix the rotary support body 484 formed as described above with respect to the fixed support body 483 with minimal friction. Ball bearing 485 is interposed on the third stepped 484a surface formed on the outer circumferential surface of the bar, and the outer ring 485b of the ball bearing 485 is seated on the second stepped 483c, and the third stepped 484a The inner ring 485a of the ball bearing 485 is seated therein.

볼 베어링(485)은 회전 지지몸체(484), 고정 지지몸체(483)에 억지끼워맞춤 방식으로 결합하는 것이 무방하지만, 회전 지지몸체(484) 및 고정 지지몸체(483)를 클리닝 또는 수리하기 위한 분해/조립이 매우 어려움으로 다음과 같이 고정하는 것이 바람직하다.Although the ball bearing 485 may be coupled to the rotary support body 484 and the fixed support body 483 in a press fit manner, the ball bearing 485 may be used to clean or repair the rotary support body 484 and the fixed support body 483. Disassembly / assembly is very difficult and it is preferable to fix it as follows.

먼저, 고정 지지몸체(483)의 내경으로는 회전 지지몸체(484)를 삽입한 상태에서 고정 지지몸체(483)의 제 2 단턱(483c)와 회전 지지몸체(484)의 제 3 단턱(484a)에는 볼 베어링(485)의 내륜(485a)과 외륜(485b)를 단순 삽입시킨다. 이때, 제 3 단턱(484a)이 형성되도록 깍여진 부분에는 암나사부가 형성된다.First, the inner diameter of the fixed support body 483 is the second step 448c of the fixed support body 483 and the third step 484a of the rotary support body 484 with the rotary support body 484 inserted. The inner ring 485a and the outer ring 485b of the ball bearing 485 are simply inserted. At this time, the female screw portion is formed in the portion cut to form the third step 484a.

이어서, 회전 지지몸체(484)의 외경에 형성된 암나사부에는 와셔 형상의 스페이서(484c)가 삽입된 후, 회전 지지몸체(484)의 외경에 형성된 암나사부에는 로크 너트(484d)가 체결되어 볼 베어링(485)의 내륜(485a)은 강하게 고정된다.Subsequently, a washer-shaped spacer 484c is inserted into the female screw portion formed in the outer diameter of the rotary support body 484, and a lock nut 484d is fastened to the female screw portion formed in the outer diameter of the rotary support body 484. The inner ring 485a of 485 is strongly fixed.

이와 같이 로크 너트(484d)에 의하여 볼 베어링(485)의 내륜(485a)이 강하게 고정되더라도 볼 베어링(485)의 외륜(485b)을 고정하지 않으면 볼 베어링(485)을 포함한 회전 지지몸체(484)가 고정 지지몸체(483)로부터 이탈될 수밖에 없음으로 볼 베어링(485)의 외륜(485b)은 고정 지지몸체(483)에 고정되는 별도의 볼 베어링 고정 플레이트(483f)에 의하여 고정된다.Thus, even if the inner ring 485a of the ball bearing 485 is firmly fixed by the lock nut 484d, the rotation supporting body 484 including the ball bearing 485 is not fixed if the outer ring 485b of the ball bearing 485 is fixed. The outer ring 485b of the ball bearing 485 is fixed by a separate ball bearing fixing plate 483f that is fixed to the fixed supporting body 483 because it is to be separated from the fixed supporting body 483.

한편, 원통 형상의 회전 지지몸체(484)의 상단 내주면과 하단 내주면에는 적어도 2 개 이상의 서포트(484e)가 회전 지지몸체(484)의 중심을 향해 뻗어 있으며, 서포트(484e)의 단부에는 부싱이 용접 등의 방법에 의하여 결합되고, 부싱에는 긴 축(484f)이 삽입되어 일체로 고정된다.Meanwhile, at least two supports 484e extend toward the center of the rotary support body 484 on the upper inner circumferential surface and the lower inner circumferential surface of the cylindrical rotating support body 484, and the bushing is welded to the end of the support 484e. And the like, and an elongated shaft 484f is inserted into the bushing to be integrally fixed.

이와 같이 구성된 고정 지지몸체(483)의 링형 지지플레이트(483b)에는 엘보우관 형태의 정제가스 배기관(470)이 착탈 가능하게 결합되고, 정제가스 배기관(470)중 서포트(484e)에 고정된 축(484f)과 대응하는 위치에는 관통공(472)이 형성되고, 관통공(472)으로는 모터(488a)의 회전축(488b)이 삽입된 후, 모터(488a)의 회전축(488b)과 축(484f)은 핀(pin) 결합된다.The ring-shaped support plate 483b of the fixed support body 483 configured as described above is detachably coupled to the purified gas exhaust pipe 470 in the form of an elbow tube, and the shaft fixed to the support 484e of the purified gas exhaust pipe 470. The through hole 472 is formed at a position corresponding to the 484f, and the rotating shaft 488b of the motor 488a is inserted into the through hole 472, and then the rotating shaft 488b and the shaft 484f of the motor 488a are inserted. ) Is pin coupled.

한편, 축(484f)에는 필터(482)의 상부 커버(482a) 및 하부 커버(482b)가 관통되도록 끼워짐으로써 필터(482)의 상부 커버(482a)는 필터 고정용 부싱(484g) 및 필터 지지플레이트(484b)에 밀착되어 고정되고, 필터(482)의 하부 커버(482b)는 축(484f)에 끼워지는 너트에 의하여 강하게 고정된다.On the other hand, the upper cover 482a and the lower cover 482b of the filter 482 are inserted through the shaft 484f so that the upper cover 482a of the filter 482 supports the filter fixing bushing 484g and the filter support. The bottom cover 482b of the filter 482 is tightly fixed to the plate 484b, and is firmly fixed by a nut fitted to the shaft 484f.

이와 같이 복잡한 구성을 갖으면서 필터(482)를 회전시키고자 함은 필터(482)에 부착된 파티클을 싸이클론 집진장치(400)를 분해하지 않고도 제거할 수 있도록 하기 위함으로, 이를 위해서 고정 지지몸체(483)에는 다음 3 가지 실시예에 의한 파티클 제거 부재가 설치된다.In order to rotate the filter 482 while having a complicated configuration as described above, the particles attached to the filter 482 can be removed without disassembling the cyclone dust collector 400. 483 is provided with a particle removing member according to the following three embodiments.

첫 번째 실시예로, 파티클 제거 부재는 필터(482)의 주름진 필터부재(482c)를 물리적으로 긁어 제거하는 브러쉬(489b)로 브러쉬(489b)는 브러쉬 고정부재(489a)에 결합되며 브러쉬 고정부재(489a)는 다시 고정 지지몸체(483)에 결합되어 브러쉬(489b)가 주름진 필터부재(482c)에 접촉되면서 필터부재(482c)에 피착된 파티클을 제거하도록 한다.In the first embodiment, the particle removing member is a brush 489b which physically scrapes off the pleated filter member 482c of the filter 482, and the brush 489b is coupled to the brush holding member 489a and the brush holding member ( 489a is coupled to the fixed support body 483 again to remove the particles deposited on the filter member 482c while the brush 489b contacts the pleated filter member 482c.

두 번째 실시예로, 첨부된 도 5에 도시된 바와 같이 파티클 제거 부재는 필터(482)의 주름진 필터부재(482c)에 단속적으로 충격을 가하여 충격력에 의하여 파티클이 필터부재(482c)로부터 제거되도록 하는 원리를 이용하여 고정 지지몸체(483)에는 고정부재(489c)가 설치되고, 고정부재(489c)에는 필터(480)의 주름과 주름 사이에 위치하는 진동자(489d)가 탄력적으로 설치되어 필터(480)가 회전되면서 진동자(489d)가 주름을 비교적 강하게 타격함으로써 필터(480)에 부착된 파티클이 충격에 의하여 떨어져 나가도록 한다.In a second embodiment, as shown in FIG. 5, the particle removing member intermittently impacts the pleated filter member 482c of the filter 482 such that the particles are removed from the filter member 482c by the impact force. Using the principle, the fixing support body 483 is provided with a fixing member 489c, and the fixing member 489c has a vibrator 489d positioned between the pleats and the pleats of the filter 480 to be elastically installed. As the vibrator 489d strikes the pleats relatively strongly, the particles attached to the filter 480 are blown off by the impact.

세 번째 실시예로, 앞서 설명한 두 실시예를 복합적으로 사용함으로써 파티클 제거 부재는 고정 지지몸체(483)에 복수개의 고정부재(489a,489c)를 설치하여 각각의 고정부재(489a,489c)중 어느 하나에는 필터 부재(482c)에 충격을 가하는 진동자(489d)를 설치하고, 나머지 고정부재(489a,489c)에는 필터 부재(482c)를 긁음으로써 필터 부재(482c)에 피착된 파티클을 제거하여 필터 부재(482c)에 피착된 파티클을 보다 효율적으로 제거할 수 있다.In the third embodiment, by using the above-described two embodiments in combination, the particle removing member is provided with a plurality of fixing members 489a and 489c on the fixing support body 483, so that any one of the fixing members 489a and 489c can be installed. One is provided with a vibrator (489d) that impacts the filter member 482c, and the remaining fixing members (489a, 489c) by removing the particles deposited on the filter member 482c by scratching the filter member 482c, the filter member Particles deposited at 482c can be more efficiently removed.

이와 같이 필터 지지유닛(486), 필터 구동 유닛(488), 필터(482), 파티클 제거 부재(489), 정제가스 배관(470)은 싸이클론 집진기 몸체(480)의 개구된 상단부에 형성된 플랜지(461)에 안착된 후, 플랜지(461)와 필터 지지유닛(486)의 링형 지지플레이트(483b)는 결합되고, 정제가스 배관(470)의 단부에는 블로워(310)가 설치되어, 싸이클론 집진기(400), 폴리머 포집챔버(300) 및 폐가스 산화챔버(200)와 매니폴더(100)에 강한 부압이 작용하도록 한다.As such, the filter support unit 486, the filter driving unit 488, the filter 482, the particle removing member 489, and the purified gas pipe 470 may include a flange formed at an open upper end of the cyclone dust collector body 480. After being seated at 461, the flange 461 and the ring-shaped support plate 483b of the filter support unit 486 are coupled, and a blower 310 is installed at an end of the refinery gas pipe 470 so that the cyclone dust collector ( 400), a strong negative pressure acts on the polymer collection chamber 300, the waste gas oxidation chamber 200, and the manifold 100.

이와 같이 구성된 본 고안에 의한 폐가스처리장치의 작용을 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, the operation of the waste gas treatment apparatus according to the present invention configured as described above is as follows.

먼저, 블로워(310)에 의하여 반도체 공정 설비의 배기구로부터 배기된 폐가스가 매니폴더(100)로 유입되면서 폐가스는 공기 및 불활성가스와 혼합되어 혼합기가 형성되고, 혼합기는 곧바로 폐가스 산화 챔버(200)에 형성된 고온의 열에 의하여 산화되면서 정제가스와 파티클로 상변환된다.First, as the waste gas exhausted from the exhaust port of the semiconductor processing equipment by the blower 310 flows into the manifold 100, the waste gas is mixed with air and an inert gas to form a mixer, and the mixer immediately enters the waste gas oxidation chamber 200. It is oxidized by the formed high temperature heat and converted to purified gas and particles.

이후, 고온의 정제가스와 혼합된 파티클은 포집챔버(300)의 냉각 챔버의 벽에 응축 피착되어 정제가스로부터 파티클은 1차 분리되고, 1차 분리에 의하여 분리되지 않은 파티클과 정제가스는 블로워(310)의 부압에 의하여 다시 혼합기 배관(330)을 따라 싸이클론 집진장치(400) 내부로 유입된다.Thereafter, the particles mixed with the hot refined gas are condensed and deposited on the walls of the cooling chamber of the collecting chamber 300 so that the particles are separated first from the purified gas, and the particles and the purified gas not separated by the primary separation are blowers ( Due to the negative pressure of 310 is introduced into the cyclone dust collector 400 again along the mixer pipe 330.

이때, 파티클과 정제가스의 혼합기가 싸이클론 집진장치(400)를 통과할 때, 혼합기는 싸이클론 집진장치(400)의 내벽을 따라 접선 방향으로 유입되면서, 싸이클론 집진장치(400)의 내부에서 소정 선회강도를 갖으면서 선회하게 된다.At this time, when the mixer of the particle and the purified gas passes through the cyclone dust collector 400, the mixer flows in a tangential direction along the inner wall of the cyclone dust collector 400, the inside of the cyclone dust collector 400 The vehicle turns while having a predetermined turning strength.

이때, 정제가스와 파티클에는 동일한 원심력이 작용하게 되는데, 정제가스에 비하여 무거운 파티클들은 그 중량에 따라서 2차 원심 분리되면서 중량이 무거운 파티클들은 싸이클론 집진장치 몸체(460) 내벽을 따라서 선회하다가 중력 방향으로 조금씩 낙하하면서 파티클 수거통(500)으로 수거된다.At this time, the same centrifugal force is applied to the refined gas and the particles, the heavy particles are compared to the refined gas by the second centrifugal separation according to the weight, the heavy particles are rotated along the inner wall of the cyclone dust collector body 460 and then the gravity direction It is collected by the particle collector 500 while falling little by little.

중량이 너무 미세하여 2차 원심 분리에 의하여서도 집진되지 않는 파티클과 정제가스는 싸이클론 집진기 몸체(460)중에서도 압력이 낮은 필터(482)의 내측으로 유입되려 하지만, 필터(482)의 메쉬(mesh)보다 작은 정제가스는 필터(482) 내측으로 유입되어도 필터(482)의 메쉬보다 큰 파티클은 필터(482) 내측으로 유입되지 않고 필터(482)에 피착되면서 뭉쳐지게 된다.Particles and purified gas which are too fine in weight and are not collected even by secondary centrifugation are introduced into the low pressure filter 482 even in the cyclone dust collector body 460, but the mesh of the filter 482 Even though refined gas smaller than) is introduced into the filter 482, particles larger than the mesh of the filter 482 do not flow into the filter 482 but are agglomerated by being deposited on the filter 482.

필터(482)는 회전 지지몸체(484) 및 필터 구동유닛(488)에 의하여 소정 회전수로 회전하면서 필터(482)와 접촉되도록 고정 지지몸체(483)에 설치된 브러쉬(489b) 또는 진동자(489d)에 의하여 필터(482)의 외측에 피착된 파티클은 수시로 제거된다.The filter 482 is a brush 489b or a vibrator 489d installed on the fixed support body 483 so as to contact the filter 482 while rotating at a predetermined rotational speed by the rotation support body 484 and the filter drive unit 488. The particles deposited on the outside of the filter 482 are removed from time to time.

이때, 브러쉬(489a) 또는 진동자(489d)에 의하여 필터(482)로부터 제거된 파티클은 싸이클론 집진기 몸체(460)의 내부에 형성된 원심력의 작용에 의하여 선회되도록 함으로써 필터(482)에 재부착되는 빈도가 높지 않토록 한다.At this time, the particles removed from the filter 482 by the brush 489a or the vibrator 489d are rotated by the action of the centrifugal force formed in the cyclone dust collector body 460 to be reattached to the filter 482. Should not be high.

첨부된 도면을 참조하여 앞서 설명한 실시예에서는 반도체 공정에서 발생한 유독성 폐가스를 열분해시킨 후 발생한 파티클을 싸이클론 분리기에 의하여 원심 분리함과 동시에 필터링을 수행하는 것을 설명하고 있지만, 반도체 공정 이외에 산업상 미세 파티클을 제거하고자 하는 곳에 본 고안에 의한 필터가 내장된 싸이클론 집진기만을 별도로 설치하여 미세 파티클을 제거하거나 미세 입자로 구성된 연무를 제거하고자 하는 곳에 본 고안에 의한 필터가 내장된 싸이클론 집진기만을 별도로 설치하는 등 본 고안의 기술사상을 벗어나지 않는 범위에서 본 고안에 의한 필터가 내장된 싸이클론 집진기는 폭넓게 응용될 수 있음은 자명하다.Although the embodiments described above with reference to the accompanying drawings illustrate that the particles generated after pyrolyzing toxic waste gas generated in the semiconductor process are subjected to centrifugal separation and filtering at the same time by a cyclone separator. To install only the cyclone dust collector with the filter according to the present invention separately to remove the fine particles, or to install only the cyclone dust collector with the filter according to the present invention where you want to remove the mist consisting of fine particles It is apparent that the cyclone dust collector incorporating the filter according to the present invention can be widely applied without departing from the technical spirit of the present invention.

이상에서 상세하게 설명한 바와 같이, 폐가스처리장치에서 유독성 폐가스를 정화시키는 과정에서 부산물로 발생한 분진 형태의 파티클을 집진하는 싸이클론 집진 장치의 내부에 필터 장치를 설치하고, 필터 장치에 피착된 파티클을 제거하는 파티클 제거 수단을 형성함으로써 폐가스처리장치의 크기를 콤팩트화할 뿐만 아니라 필터 장치에 피착된 파티클을 제거하기 위하여 싸이클론 집진장치를 분해할 필요가 없어 폐가스처리장치의 가동 중단 및 폐가스처리장치의 클리닝 주기를 획기적으로 연장시키는 효과가 있다.As described above in detail, a filter device is installed inside the cyclone dust collector which collects dust particles generated as a by-product during the purification of the toxic waste gas from the waste gas treatment device, and removes particles deposited on the filter device. By forming the particle removal means to compact the size of the waste gas treatment device, it is not necessary to disassemble the cyclone dust collector in order to remove particles deposited on the filter device, so that the waste gas treatment device is stopped and the cleaning cycle of the waste gas treatment device is eliminated. It is effective to significantly extend.

Claims (9)

유독성 폐가스를 공급받아 공기 및 불활성가스를 혼합시키는 매니폴더와;A manifold receiving a toxic waste gas and mixing air and an inert gas; 상기 매니폴더에서 혼합된 혼합기를 공급받아 산화시키는 폐가스 산화 챔버와;A waste gas oxidation chamber configured to receive and oxidize the mixer mixed in the manifold; 상기 폐가스 산화 챔버에서 형성된 정제가스와 고체상의 부산물을 1차 포집하는 포집챔버와;A capture chamber for firstly collecting purified gas and solid by-products formed in the waste gas oxidation chamber; 상기 포집챔버에서 포집되지 않은 파티클 및 상기 정제가스에 원심력을 가하여 상기 파티클을 집진하는 싸이클론 집진장치를 포함하며,It includes a cyclone dust collector for collecting the particles by applying a centrifugal force to the particles and the purified gas not collected in the collection chamber, 상기 싸이클론 집진장치는 상기 파티클 및 상기 정제가스에 원심력이 발생하도록 하는 싸이클론 집진장치 몸체와;The cyclone dust collector includes a cyclone dust collector body for generating centrifugal force to the particles and the purified gas; 상기 싸이클론 집진장치 몸체와 연통된 정제가스 배관과;A purified gas pipe communicating with the cyclone dust collector body; 상기 정제가스 배관과 연통되도록 상기 싸이클론 집진장치 몸체 내부에 설치된 필터 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스처리장치.And a filter means installed in the cyclone dust collector body so as to communicate with the purified gas pipe. 제 1 항에 있어서, 상기 필터 수단은The method of claim 1 wherein the filter means 상기 싸이클론 집진장치 몸체 내부에 설치되며 관통공이 형성된 지지플레이트와;A support plate installed inside the cyclone dust collector body and having a through hole formed therein; 상기 지지플레이트의 상기 관통공에 설치되어 상기 싸이클론 집진장치 몸체 내부로 유입된 상기 파티클과 상기 정제가스중 상기 정제가스만을 상기 정제가스 배관으로 배출시키는 필터인 것을 특징으로 하는 폐가스처리장치.And a filter installed in the through hole of the support plate and discharging only the purified gas from the particles and the purified gas introduced into the cyclone dust collector body to the purified gas pipe. 제 1 항에 있어서 필터수단은The method of claim 1 wherein the filter means 상기 싸이클론 집진장치 몸체 내부에 설치되며 관통공이 형성된 지지플레이트, 상기 관통공에 고정 설치된 원통 형상의 고정 지지몸체, 상기 고정 지지몸체에 삽입된 원통 형상의 회전 지지몸체, 상기 고정 지지몸체와 상기 회전 지지몸체 사이에 설치된 마찰 감소수단, 상기 회전 지지몸체의 중심에 고정된 축을 포함하는 필터 지지유닛과;A support plate having a through hole formed inside the cyclone dust collector body, a fixed support body having a cylindrical shape fixed to the through hole, a rotating support body having a cylindrical shape inserted into the fixed support body, and the fixed support body and the rotation A filter support unit including a friction reducing means installed between the support bodies and a shaft fixed to the center of the rotatable support body; 상기 정제가스배관을 관통하도록 설치되어 상기 축과 결합된 회전축이 형성된 필터 구동 유닛과;A filter driving unit installed to penetrate the purified gas pipe and having a rotating shaft coupled to the shaft; 상기 회전 지지몸체와 밀착된 상태로 상기 축에 의하여 상기 회전 지지몸체에 고정되는 필터와;A filter fixed to the rotatable support body by the shaft in close contact with the rotatable support body; 상기 필터와 접촉되어 상기 필터에 피착된 상기 파티클을 제거하는 파티클 제거 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스처리장치.And particle removal means for contacting the filter to remove the particles deposited on the filter. 제 3 항에 있어서, 상기 고정 지지몸체와 상기 회전 지지몸체의 사이에는 상기 파티클이 유입되지 못하도록 하는 밀봉링이 더 설치되는 것을 특징으로 하는 폐가스처리장치.4. The waste gas treatment apparatus according to claim 3, wherein a sealing ring is further provided between the fixed support body and the rotatable support body to prevent the particles from entering. 제 3 항에 있어서, 상기 파티클 제거 수단은The method of claim 3 wherein the particle removal means 상기 고정 지지몸체에 설치된 지지부재와;A support member installed on the fixed support body; 상기 지지부재와 결합되며 상기 필터와 접촉되는 부러시(bursh)를 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.Waste gas treatment device, characterized in that coupled to the support member and comprises a brush (bursh) in contact with the filter. 제 3 항에 있어서, 상기 파티클 제거 수단은The method of claim 3 wherein the particle removal means 상기 고정 지지몸체에 설치된 지지부재와;A support member installed on the fixed support body; 상기 지지부재와 결합되어 상기 필터에 단속적인 진동을 발생시키는 진동자를 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.And a vibrator coupled to the support member to generate an intermittent vibration in the filter. 제 3 항에 있어서, 상기 파티클 제거 수단은The method of claim 3 wherein the particle removal means 상기 고정 지지몸체에 설치된 복수개의 지지부재와;A plurality of support members installed on the fixed support body; 상기 지지부재중 어느 하나에 결합되어 상기 필터에 단속적인 진동을 발생시키는 진동자;A vibrator coupled to any one of the support members to generate an intermittent vibration in the filter; 상기 지지부재중 어느 하나에 결합되어 상기 필터 표면을 긁는 부러시를 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스처리장치.Waste gas treatment device, characterized in that coupled to any one of the supporting member to the brush to scratch the surface of the filter. 제 2 항 내지 제 7 항에 있어서, 상기 필터는 소정 면적이 개구된 상부 커버 및 나사 체결공이 형성된 하부 커버와;8. The filter according to claim 2, wherein the filter comprises: an upper cover having a predetermined area and a lower cover having a screw fastening hole; 상기 상부 커버와 상기 하부 커버의 사이에 형성된 필터 부재인 것을 특징으로 하는 폐가스처리장치.And a filter member formed between the upper cover and the lower cover. 제 8 항에 있어서, 상기 필터부재의 표면은 표면적을 넓히기 위해서 주름진 것을 특징으로 하는 폐가스처리장치.9. The waste gas treating apparatus according to claim 8, wherein the surface of the filter member is corrugated to increase the surface area.
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