KR20000011145A - Aromatic polycarbodiimides and films thereof - Google Patents
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Abstract
Description
통상적인 방향족 폴리카보디이미드로는 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI)나 트릴렌디이소시아네이트(TDI) 등을 단량체로 사용하여 이것을 중합한 것이 공지되어 있다. 이러한 폴리카보디이미드는 그 우수한 내열성에 의해 내염화(耐炎化) 필름이나 내열성 접착제로서 사용되고 있다.As a typical aromatic polycarbodiimide, it is known to polymerize this using diphenylmethane diisocyanate (MDI), triylene diisocyanate (TDI), etc. as a monomer. Such polycarbodiimide has been used as a flame resistant film or a heat resistant adhesive due to its excellent heat resistance.
그러나, 이러한 폴리카보디이미드 필름은 용해성이 불충분하고, 분자량의 증대에 따라서 겔화하거나, 고체가 되어 석출하거나 하여, 충분한 고분자량 중합체는 얻어지지 않는다. 또한 400℃ 이상의 고온에 노출하여도 휘발성 가스나 분해 단량체를 생성하지 않는다고 하는 점에서는 내열성을 가지지만, 200℃ 이상으로 열처리하면 자기유지성(自己維持性)이 없어, 부서지기 쉽게 되어 실용적으로 견디지 못한다. 또한, 동박(銅箔) 등의 피착체(被着體)로 가열 압착한 경우의 접착력에 관해서도 충분하다고 말할 수 없다.However, such a polycarbodiimide film is insufficient in solubility and gels or precipitates as a solid with increasing molecular weight, so that a sufficient high molecular weight polymer is not obtained. In addition, it has heat resistance in that it does not generate volatile gases or decomposition monomers even when exposed to high temperatures of 400 ° C. or higher. However, when heat-treated at 200 ° C. or higher, it is not self-maintaining and brittle and cannot be practically tolerated. . Moreover, the adhesive force at the time of heat-compression bonding with a to-be-adhered body, such as copper foil, cannot be said to be enough.
본 발명은 신규한 방향족 폴리카보디이미드에 관한 것이다. 본 발명의 방향족 폴리카보디이미드는 고내열성 등 각종의 우수한 특성을 가지는 필름이나 접착제, 성형물을 제공한다.The present invention relates to novel aromatic polycarbodiimides. The aromatic polycarbodiimide of the present invention provides a film, an adhesive, and a molded article having various excellent properties such as high heat resistance.
도 1은 실시예 1에서 얻어진 중합체의 적외선 흡수 스펙트럼을 나타내는 도면이다.1 is a diagram showing an infrared absorption spectrum of a polymer obtained in Example 1. FIG.
도 2는 실시예 3에서 얻어진 중합체의 적외선 흡수 스펙트럼을 나타내는 도면이다.2 is a diagram showing an infrared absorption spectrum of a polymer obtained in Example 3. FIG.
본 발명자 등은, 이러한 종래의 폴리카보디이미드의 결점을 해소하기 위하여 각종 방향족 중합체에 관해서 검토를 거듭한 결과, 본 발명의 신규한 방향족 폴리카보디이미드를 제조하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은 화학식 I로 나타내는 구성 단위를 가지는 방향족 폴리카보디이미드를 제공하는 것이다:MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to eliminate the fault of this conventional polycarbodiimide, this inventor etc. studied various aromatic polymers and came to manufacture the novel aromatic polycarbodiimide of this invention. That is, the present invention provides an aromatic polycarbodiimide having a structural unit represented by the formula (I):
상기식에서,In the above formula,
R은 수소 또는 알킬 그룹 (탄소수 1 내지 5개, 바람직하게는 l 내지 3개)이고, n은 3 내지 600의 정수를 나타낸다.R is hydrogen or an alkyl group (1 to 5 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms) and n represents an integer of 3 to 600.
화학식 I에 있어서, R은 특히 바람직하게는 수소 또는 메틸 그룹을 나타내고, 결합 위치는 바람직하게는 헥사플루오로이소프로필리덴 그룹의 m- 또는 p- 위치이다.In the general formula (I), R particularly preferably represents a hydrogen or methyl group, and the bonding position is preferably the m- or p- position of the hexafluoroisopropylidene group.
또한, 본 발명은 이의 유기용매 용액 및 필름을 제공하는 것이다. 또한, 본 명세서에 있어서 필름은 중합체의 성막된 형상의 것을 의미하며, 소위 시트라고 불리는 것도 포함한다. 본 발명의 중합체는 신규한 고분자 화합물이고, 우수한 용해성과 함께 대단히 높은 내열성을 가지며, 또한 접착성, 저온가공성 및 내습성에서도 우수하다.The present invention also provides an organic solvent solution and a film thereof. In addition, in this specification, a film means the thing of the film-formed form of a polymer, and includes what is called a sheet | seat. The polymer of the present invention is a novel high molecular compound, has very high heat resistance with excellent solubility, and is also excellent in adhesiveness, low temperature processing and moisture resistance.
본 발명의 폴리카보디이미드는 화학식 II로 나타내는 상응하는 디이소시아네이트를 단량체로 사용하여, 이것을 인(燐)계 촉매의 존재하에, 그 자체를 공지의 방법으로 중합함에 의해 얻어진다:The polycarbodiimide of the present invention is obtained by using the corresponding diisocyanate represented by the formula (II) as a monomer and polymerizing it by a known method in the presence of a phosphorus based catalyst:
이러한 디이소시아네이트의 대표적인 것으로서는, 화학식 IIa 및 2b로 나타내는 것을 들 수 있다.As typical of such diisocyanate, what is represented by general formula (IIa) and 2b is mentioned.
상기식에서,In the above formula,
R은 상기와 동일하다.R is the same as above.
또한, 화학식 IIb의 화합물은 신규한 물질이다. 또한, 화학식 IIa의 화합물은 공지된 물질이고, 그 제조법에 관한 문헌이나 이것을 사용한 폴리우레탄의 제조법에 관한 문헌 [Andrianov, at. al., Vysokomol, Soedin., Ser. B. 20(6), 471, (1978)] 등도 있지만, 이러한 문헌에는 화학식 IIa의 화합물로부터 폴리카보디이미드를 제조하는 것에 관한 기재는 전혀 없다.In addition, compounds of formula (IIb) are novel materials. In addition, the compound of the formula (IIa) is a known substance, and the literature on the preparation thereof and the preparation of the polyurethane using the same [Andrianov, at. al., Vysokomol, Soedin., Ser. B. 20 (6), 471, (1978), and the like, but these documents do not describe any preparation of polycarbodiimides from compounds of formula IIa.
단량체Monomer
본 발명의 폴리카보디이미드의 원료인 화학식 II의 디이소시아네이트 화합물은, 그 전구체인 화학식 III으로 나타내는 상응하는 디아민으로부터 다양한 공지된 방법에 의해 이소시아네이트를 형성시킴으로써 제조할 수가 있다:The diisocyanate compounds of formula (II), the raw material of the polycarbodiimide of the present invention, can be prepared by forming isocyanates by various known methods from the corresponding diamines represented by the formula (III), the precursors of which:
상기식에서,In the above formula,
R은 상기와 동일하다.R is the same as above.
이러한 디아민 화합물의 이소시아네이트화 방법으로서는, 포스겐, 디페닐카보네이트, 또는 카보닐디이미다졸을 작용시키는 방법을 들 수 있다. 또한, 다른 방법으로서 디아민 화합물을 할로겐화 알킬포메이트를 사용하여 일단 우레탄으로 전환시키고, 이것을 클로로실란, 카테콜보란 등의 촉매 존재하에서 이소시아네이트화하는 것이 가능하다.As an isocyanation method of such a diamine compound, the method of making phosgene, diphenyl carbonate, or carbonyl diimidazole be made to act. Alternatively, it is possible to convert the diamine compound into urethane once using a halogenated alkylformate and isocyanate it in the presence of a catalyst such as chlorosilane, catecholborane and the like.
또한, 다른 방법으로는 디이소시아네이트의 전구체로서, 화학식 IV로 나타내는 카복실산을 사용하고, 이것을 쿠르티우스 분해에 의해 이소시아네이트화하는 방법 등을 사용하여도 좋다:Alternatively, as a precursor of the diisocyanate, a carboxylic acid represented by the formula (IV) may be used, and a method of isocyanate by Curtis decomposition may be used:
상기식에서,In the above formula,
R은 상기와 동일하다.R is the same as above.
이들 제조 방법 중, 디아민 화합물은 할로겐화 알킬포메이트 또는 할로겐화 아릴포메이트를 사용하여 일단 우레탄으로 합성하고, 이것에 촉매로서 클로로실란을 사용하여 이소시아네이트화하는 방법 [G Greber, et. al., Angew, Chem. Int. Ed., Vol.17, No.12, 941(1968)]이나, 또는 카테콜보란을 사용하여 이소시아네이트화하는 방법 [V.L.K. Valli, et. al., J. 0rg. Chem., Vol. 60, 257(1995)]이 수율 및 안전성의 측면에서 바람직하기 때문에, 하기에서 상세하게 기술한다.Among these production methods, the diamine compound is first synthesized into urethane using halogenated alkylformate or halogenated arylformate and isocyanated using chlorosilane as a catalyst [G Greber, et. al., Angew, Chem. Int. Ed., Vol. 17, No. 12, 941 (1968)], or a method of isocyanate using catecholborane [V.L.K. Valli, et. al., J. 0rg. Chem., Vol. 60, 257 (1995) are preferred in terms of yield and safety, and are described in detail below.
우레탄 합성Urethane synthetic
우선, 상응하는 화학식 III의 디아민 화합물에 메틸클로로포메이트, 에틸클로로포메이트, 페닐클로로포메이트, p-니트로클로로포메이트 등을 반응시켜 우레탄을 합성한다. 원료로서 사용할 수 있는 디아민 화합물로서는, 구체적으로는 화학식 IIIa로 나타내는 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판 또는, 화학식 IIIb로 나타내는 2,2-비스(3-아미노-4-메틸페닐)헥사플루오로프로판 등을 들 수 있다:First, urethane is synthesized by reacting a corresponding diamine compound of formula III with methylchloroformate, ethylchloroformate, phenylchloroformate, p-nitrochloroformate and the like. As a diamine compound which can be used as a raw material, Specifically, 2, 2-bis (4-aminophenyl) hexafluoro propane represented by general formula (IIIa), or 2, 2-bis (3-amino-4- methylphenyl represented by general formula (IIIb). Hexafluoropropane and the like.
또한, 이소시아네이트화를 원활히 진행시키기 위해서는 페닐클로로포메이트 또는 p-니트로페닐클로로포메이트가 적합하지만, p-니트로페닐클로로포메이트는 활성이 지나치게 높고, 부 반응이 많이 일어날 우려가 있기 때문에, 페닐클로로포메이트가 가장 바람직하다. 이들 클로로포메이트류의 사용량은 디아민의 몰수의 1.5 내지 4.0몰배, 바람직하게는 1.6 내지 3.8몰배, 최적으로는 1.8 내지 3.6몰배가 바람직하다.In addition, phenylchloroformate or p-nitrophenylchloroformate is suitable for smoothly proceeding isocyanation, but p-nitrophenylchloroformate has high activity and may cause a lot of side reactions. Formate is most preferred. The amount of these chloroformates used is preferably 1.5 to 4.0 mole times, preferably 1.6 to 3.8 mole times, and optimally 1.8 to 3.6 mole times the number of moles of diamine.
이들 반응에 사용되는 용매는 디아민을 용해시키는 것이면 무방하다. 예를 들면 THF, 디옥산, 디에틸에테르 등의 에테르계 화합물, 톨루엔, 크실렌, 벤젠 등의 방향족 탄화수소계 화합물, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤계 화합물, 초산에틸 등의 에스테르계 화합물 등을 들 수 있다. 이들의 용매는 단독으로 사용하여도 좋고, 2종 이상 혼합하여 사용하여도 좋다.The solvent used for these reactions may dissolve diamine. For example, ether compounds, such as THF, dioxane, and diethyl ether, aromatic hydrocarbon compounds, such as toluene, xylene, and benzene, ketone compounds, such as acetone and methyl ethyl ketone, ester compounds, such as ethyl acetate, etc. are mentioned. Can be. These solvents may be used alone or in combination of two or more thereof.
반응 온도는 -40 내지 100℃, 바람직하게는 -20 내지 80℃, 가장 바람직하게는 0 내지 60℃이다. -40℃ 미만에서는 반응이 진행하기 어렵고, 100℃ 이상의 고온에서는 축합 등의 부 반응이 일어날 가능성이 있다.The reaction temperature is -40 to 100 ° C, preferably -20 to 80 ° C, most preferably 0 to 60 ° C. If it is less than -40 degreeC, reaction will hardly progress, and there exists a possibility that side reactions, such as condensation, may occur at high temperature 100 degreeC or more.
반응에 의해 생성되는 염화수소를 트랩하는 염기로서는, 사용한 용매에 용해될 수 있지만 반응을 저해하지 않는 것이면 무방하며, 예를 들면 트리에틸아민, 수산화나트륨, 피리딘, 디아자비사이클로운데센(DBU) 등을 들 수 있다. 염기의 사용량은 사용한 디아민의 몰수의 1.5 내지 4.0배이고, 바람직하게는 1.8 내지 3.5배이다.The base for trapping the hydrogen chloride produced by the reaction may be dissolved in the solvent used but may not inhibit the reaction. Examples thereof include triethylamine, sodium hydroxide, pyridine, diazabicycloundecene (DBU), and the like. Can be mentioned. The amount of the base used is 1.5 to 4.0 times the molar number of the diamine used, preferably 1.8 to 3.5 times.
수득된 우레탄을 정제하기 위해서는, 재결정, 칼럼 등 종래의 공지된 방법을 사용하는 것이 가능하다. 또한, 필요에 따라서 증류를 행하여도 좋다.In order to refine | purify the obtained urethane, it is possible to use conventionally well-known methods, such as recrystallization and a column. Moreover, you may distill as needed.
(a) 클로로실란을 사용한 이소시아네이트화(a) Isocyanation with Chlorosilane
상기 우레탄을 클로로실란을 사용하여 이소시아네이트화하기 위해서는, 우레탄의 몰 량의 1.5 내지 4.6배, 바람직하게는 1.6 내지 4.0배, 가장 바람직하게는 1.8 내지 3.5배의 클로로실란을 촉매로 하여 열분해를 수행한다.In order to isocyanate the urethane with chlorosilane, pyrolysis is carried out using 1.5 to 4.6 times of molar amount of urethane, preferably 1.6 to 4.0 times, most preferably 1.8 to 3.5 times of chlorosilane as a catalyst. .
클로로실란류로서는, 트리메틸클로로실란, 트리에틸클로로실란, 트리메톡시클로로실란, 디메틸디클로로실란, 메틸트리클로로실란, 디클로로실란, 트리클로로실란, 테트라클로로실란 등이 사용된다. 하지만, 그 중에서도 취급 용이성이나 가격의 측면에서, 트리메틸클로로실란이 적합하다.As the chlorosilanes, trimethylchlorosilane, triethylchlorosilane, trimethoxychlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, dichlorosilane, trichlorosilane, tetrachlorosilane and the like are used. Among them, however, trimethylchlorosilane is suitable in view of ease of handling and price.
사용되는 용매는 우레탄을 용해 또는 현탁시킬 수 있는 것이 바람직하고, 상기의 에테르계 화합물, 방향족 탄화수소, 할로겐화 탄화수소를 예로 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 사용하거나, 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 경우에 따라서는, 반응 도중에 그 일부 내지 전부를 다른 용매로 치환시킴으로써 반응 온도를 변화시키는 것도 가능하다.It is preferable that the solvent used can melt | dissolve or suspend urethane, and the said ether type compound, an aromatic hydrocarbon, and a halogenated hydrocarbon are mentioned as an example. These solvents may be used alone or in combination. In some cases, it is also possible to change the reaction temperature by substituting part or all of the solvent with another solvent during the reaction.
반응 온도는 0℃로부터 사용한 용매의 비점까지, 바람직하게는 실온으로부터 비점까지이다. 반응 온도가 지나치게 낮으면 반응이 전혀 진행되지 않는 경우가 있다. 반대로 반응 온도를 지나치게 승온시키거나 지나치게 장시간 가열하면, 생성물이 분해되는 경우가 있다. 따라서, IR 등으로 반응을 추적하면서 서서히 온도를 상승시켜 진행시키는 것이 좋다.The reaction temperature is from boiling point to the boiling point of the solvent used, preferably from room temperature to the boiling point. When reaction temperature is too low, reaction may not progress at all. On the contrary, when the reaction temperature is excessively raised or heated for too long, the product may be decomposed. Therefore, it is advisable to gradually raise the temperature and proceed while tracking the reaction with IR or the like.
반응시에 생성되는 염화수소를 트랩하는 염기로서는, 상기 우레탄 제조에서 사용된 것과 동일물이 사용되며, 사용량도 동일하다.As a base which traps hydrogen chloride produced at the time of reaction, the same thing as what was used for the said urethane manufacture is used, and its usage is also the same.
(b) 할로겐화 카테콜보란을 사용한 이소시아네이트화(b) Isocyanation with Halogenated Catecholborane
우레탄의 이소시아네이트화에는, 상기 클로로실란 대신에 할로겐화 카테콜보란을 촉매로서 사용한 방법을 적용할 수 있다. 할로겐화 카테콜보란으로서는, 클로로카테콜보란, 브로모카테콜보란 등을 들 수 있지만, 취급용이성, 가격의 측면에서, 클로로카테콜보란이 바람직하다. 또한, 그 사용량은 상기 클로로실란의 경우와 동일하다. 카테콜보란류는 클로로실란류 보다도 우레탄의 열분해에 대하여 높은 활성을 갖기 때문에, 페닐우레탄 이외의 우레탄도 사용할 수 있다.In the isocyanation of urethane, the method which used the halogenated catechol borane as a catalyst instead of the said chlorosilane can be applied. Examples of the halogenated catecholborane include chlorocatecholborane and bromocatecholborane, but chlorocatecholborane is preferred from the viewpoint of ease of handling and price. In addition, the usage-amount is the same as that of the said chlorosilane. Since catecholboranes have higher activity against pyrolysis of urethanes than chlorosilanes, urethanes other than phenylurethanes can also be used.
반응 용매는 우레탄을 용해 또는 현탁시킬 수 있는 것이면 좋고, 상기 클로로실란을 사용한 이소시아네이트화와 동일물을 사용하여도 좋다. 이들 용매는 단독으로 사용하거나, 2종 이상 혼합하여 사용하여도 좋다. 또한, 경우에 따라서는 반응 도중에 그 일부 내지 전부를 다른 용매로 치환함에 의해 반응 온도를 변화시키는 것도 가능하다.The reaction solvent may be any one capable of dissolving or suspending urethane, and may be the same as isocyanate using the chlorosilane. These solvents may be used alone or in combination of two or more thereof. In some cases, it is also possible to change the reaction temperature by substituting part or all of the solvent with another solvent during the reaction.
반응 온도는 일반적으로 -50 내지 80℃, 바람직하게는 -20 내지 60℃, 더욱 바람직하게는 0 내지 40℃이며, 사용하는 우레탄에 따라서 다르다. 반응 온도가 지나치게 낮으면 반응이 전혀 진행되지 않는 경우가 있다. 반대로, 반응 온도를 지나치게 승온시키거나 지나치게 장시간 가열하면, 생성물이 분해되는 경우가 있다. 따라서, IR 등으로 반응을 추적하면서 서서히 온도를 상승시켜 진행시키는 것이 좋다. 반응시에 생성하는 염화수소를 트랩하기 위해서는, 상기와 동일하게 하여 염기를 사용한다.The reaction temperature is generally -50 to 80 ° C, preferably -20 to 60 ° C, more preferably 0 to 40 ° C, depending on the urethane used. When reaction temperature is too low, reaction may not progress at all. On the contrary, if the reaction temperature is excessively raised or heated for too long, the product may decompose. Therefore, it is advisable to gradually raise the temperature and proceed while tracking the reaction with IR or the like. In order to trap the hydrogen chloride produced at the time of reaction, a base is used similarly to the above.
반응 후, 수득된 디이소시아네이트 단량체는 용매를 제거하여, 섬광 칼럼 또는 재결정 또는 감압증류를 수행하여 정제할 수 있다.After the reaction, the diisocyanate monomer obtained can be purified by removing the solvent and performing a flash column or recrystallization or distillation under reduced pressure.
폴리카보디이미드의 제조Preparation of Polycarbodiimide
상기 디이소시아네이트를 사용하여 폴리카보디이미드를 제조하기 위해서는, 디이소시아네이트 단량체를 단독으로 사용하거나, 또한 그 성질을 손상하지 않는 범위, 즉 50 몰% 이하에서 다른 유기 디이소시아네이트, 예를 들면 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,6-토릴렌디이소시아네이트, 2,4-토릴렌디이소시아네이트, 1-메톡시페닐-2,4-디이소시아네이트, 3,3'-디메톡시-4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 4.4'-디페닐에테르디이소시아네이트, 3.3'-디메틸-4,4'-디페닐에테르디이소시아네이트, o-토릴렌디이소시아네이트 등과 공중합하여도 좋다.In order to prepare polycarbodiimide using the diisocyanate, other organic diisocyanates such as 4,4 are used within the range of not using the diisocyanate monomer alone or impairing its properties, that is, 50 mol% or less. '-Diphenylmethane diisocyanate, 2,6-torylene diisocyanate, 2,4-torylene diisocyanate, 1-methoxyphenyl-2,4-diisocyanate, 3,3'-dimethoxy-4,4'- You may copolymerize with diphenylmethane diisocyanate, 4.4'- diphenyl ether diisocyanate, 3.3'- dimethyl- 4,4'- diphenyl ether diisocyanate, o- toylene diisocyanate.
중합 온도는 40 내지 150℃가 바람직하고, 50 내지 140℃가 보다 바람직하다. 반응 온도가 40℃ 보다 낮으면, 반응 시간이 지나치게 길게 되어 실용적이지 않다. 또한 150℃를 넘으면, 반응 온도에서 사용할 수 있는 용매의 선택이 곤란하다.40-150 degreeC is preferable and 50-140 degreeC of polymerization temperature is more preferable. When reaction temperature is lower than 40 degreeC, reaction time becomes too long and it is not practical. Moreover, when it exceeds 150 degreeC, selection of the solvent which can be used at reaction temperature is difficult.
폴리카보디이미드 합성에 있어서의 디이소시아네이트의 농도는 2 내지 50 중량% (이후, %로 인용), 바람직하게는 5 내지 45%, 가장 바람직하게는 15 내지 40% 이다. 농도가 2% 보다 낮으면, 카보디이미드화가 진행되지 않는 경우가 있다. 또한 60%를 넘으면 반응의 제어가 곤란하게 될 가능성이 있다.The concentration of diisocyanate in the polycarbodiimide synthesis is 2 to 50% by weight (hereinafter referred to as%), preferably 5 to 45%, most preferably 15 to 40%. If the concentration is lower than 2%, carbodiimidization may not proceed. If it exceeds 60%, the reaction may be difficult to control.
폴리카보디이미드의 합성시 및 폴리카보디이미드 용액에 있어서 사용되는 유기 용매는, 이러한 반응에서 종래 공지된 것이라도 좋다. 구체적으로는 테트라클로로에틸렌, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름 등의 할로겐화 탄화수소, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논 등의 케톤계 용매, 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 환상 에테르계 용매, 톨루엔, 크실렌, 벤젠 등의 방향족 탄화수소계 용매를 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하거나, 2 종 이상을 혼합하여 사용하여도 좋다. 또한, 반응의 도중에 그 일부 또는 전부를 다른 용매로 치환하여도 좋다.The organic solvent used at the time of synthesis | combination of a polycarbodiimide and in a polycarbodiimide solution may be a conventionally well-known thing in such reaction. Specifically, halogenated hydrocarbons such as tetrachloroethylene, 1,2-dichloroethane and chloroform, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane And aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, and benzene. These may be used independently, or may mix and use 2 or more types. In addition, one part or all part may be substituted by the other solvent in the middle of reaction.
카보디이미드화에 사용하는 촉매로서는, 공지의 인(燐)계 촉매가 어느것이나 적합하게 사용되며, 예를 들면 1-페닐-2-포스폴렌-1-옥시드, 3-메틸-2-포스폴렌-1-옥시드, 1-에틸-2-포스폴렌-1-옥시드, 3-메틸-1-페닐-2-포스폴렌-1-옥시드, 또는 이것들의 3-포스폴렌 이성체 등의 포스폴포옥사이드를 들 수 있다.As a catalyst used for carbodiimidation, any well-known phosphorus catalyst is used suitably, For example, 1-phenyl- 2-phosphole 1-oxide and 3-methyl- 2-force Force such as pollen-1-oxide, 1-ethyl-2-phosphole-1-1-oxide, 3-methyl-1-phenyl-2-phosphole-1-1-oxide, or these 3-phosphole isomers And phospho oxides.
또한 중합 반응의 말기, 중기, 초기의 어느 것이든, 또는 전반에 걸쳐, 모노이소시아네이트를 가하여 말단 차단 처리를 행하여도 좋다. 이러한 모노이소시아네이트로서는, 페닐이소시아네이트, p-니트로페닐이소시아네이트, p- 또는 m-토릴이소시아네이트, p-포르밀페닐이소시아네이트, p-이소프로필페닐 이소시아네이트의 방향족 모노소시아네이트를 어느 것이든지 사용할 수 있다. 이렇게 수득된 폴리카보디이미드 용액은 용액의 보존 안정성에서 우수하다.In addition, you may perform terminal blocking treatment by adding a monoisocyanate in all the terminal, middle, and initial stages of a polymerization reaction, or the whole. As such monoisocyanate, any of aromatic monosocyanates of phenyl isocyanate, p-nitrophenyl isocyanate, p- or m-tolyl isocyanate, p-formylphenyl isocyanate and p-isopropylphenyl isocyanate can be used. The polycarbodiimide solution thus obtained is excellent in the storage stability of the solution.
또한, 반응 종료 후에 메탄올, 에탄올, 이소프로필렌알콜, 헥산 등의 빈용매(poor solvent)에 반응액을 투입하고, 폴리카보디이미드를 침전물로서 석출시켜, 미반응의 단량체나 촉매를 제거하여도 좋다. 이러한 조작을 수행함으로서 폴리카보디이미드의 용액 안정성을 향상시킬 수 있다.After completion of the reaction, the reaction solution may be added to a poor solvent such as methanol, ethanol, isopropylene alcohol, or hexane to precipitate polycarbodiimide as a precipitate to remove unreacted monomers and catalysts. . By performing such an operation, the solution stability of the polycarbodiimide can be improved.
폴리카보디이미드의 용액을 조제하기 위해서는, 중합체를 침전물로서 석출시킨 후, 소정의 조작에 의해 침전물을 회수하고, 세정 및 건조를 수행하고, 재차 유기 용매에 용해한다.In order to prepare a solution of polycarbodiimide, the polymer is precipitated as a precipitate, and then the precipitate is recovered by a predetermined operation, washed and dried, and dissolved in an organic solvent again.
또한, 중합체 용액 중에 포함되는 부 생성물을 흡착제 등에 흡착시켜 정제하여도 좋다. 흡착제로서는 예를 들면 알루미나겔, 실리카겔, 활성탄, 제올라이트, 활성 산화마그네슘, 활성 보크사이트, 백토, 활성백토, 분자체 카본 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.Moreover, you may refine | purify by adsorbing the adduct contained in a polymer solution etc. by an adsorbent. As the adsorbent, for example, alumina gel, silica gel, activated carbon, zeolite, activated magnesium oxide, activated bauxite, clay, activated clay, molecular sieve carbon and the like can be used alone or in combination.
본 발명의 폴리카보디이미드의 분자량은, 수평균 분자량 1,000 내지 200,000, 바람직하게는 2,000 내지 l00,000이다. 즉, 화학식 I에 있어서 n은 3 내지 600의 정수, 바람직하게는 6 내지 300의 정수이다. 폴리카보디이미드의 분자량이 이것보다 지나치게 높으면, 상온에서의 정치에서도 수분 내지 수시간으로 용이하게 겔화하기 때문에, 실용적으로 바람직하지 못하다. 또한, 분자량이 지나치게 낮으면, 이의 필름에 대한 신뢰성이 모자라기 때문에 바람직하지 못하다.The molecular weight of the polycarbodiimide of this invention is a number average molecular weight 1,000-200,000, Preferably it is 2,000-10,000. That is, in the formula (I), n is an integer of 3 to 600, preferably an integer of 6 to 300. If the molecular weight of polycarbodiimide is too high than this, since it gelatinizes easily even if it stays at normal temperature in several minutes-several hours, it is not practically preferable. Moreover, when molecular weight is too low, since the reliability with respect to the film is insufficient, it is unpreferable.
필름 및 접착 시트의 제조Preparation of Films and Adhesive Sheets
본 발명의 폴리카보디이미드 필름 (또는 시트)은, 폴리카보디이미드와 니스를 공지의 방법 (캐스팅, 스핀코팅, 롤코팅 등)을 사용하여 적당한 두께로 제막함에 의해 얻어진다. 이 필름은 통상, 용매의 제거에 필요한 온도로 건조하면 좋고, 예를 들면 30 내지 300℃로 건조할 수가 있다. 특히, 경화 반응을 너무 진행시키지 않고서 건조시키기 위해서는 50 내지 250℃가 바람직하다. 건조 온도가 30℃ 보다 낮으면, 필름 중에 용매가 잔존하여, 필름의 신뢰성이 모자라게 되어 바람직하지 못하다. 또한, 건조 온도가 300℃ 보다 높으면, 폴리카보디이미드 수지의 가교가 진행하여, 강도 등의 관점에서 실용적으로 부적당하게 될 가능성이 있어 바람직하지 못하다.The polycarbodiimide film (or sheet) of the present invention is obtained by forming a polycarbodiimide and a varnish into an appropriate thickness using a known method (casting, spin coating, roll coating, etc.). This film may be dried at the temperature normally required for removing the solvent, and can be dried at, for example, 30 to 300 ° C. In particular, in order to dry without hardening reaction too much, 50-250 degreeC is preferable. If the drying temperature is lower than 30 ° C, the solvent remains in the film, and the reliability of the film is insufficient, which is not preferable. Moreover, when drying temperature is higher than 300 degreeC, crosslinking of a polycarbodiimide resin may advance and it may become practically inadequate from a viewpoint of strength, etc., and is unpreferable.
본 발명의 폴리카보디이미드 수지 조성물에는, 그 가공성, 내열성을 손상하지 않는 범위에서 미세한 무기 충전제를 배합하여도 무방하다. 또한 표면평활성을 얻기 위해서 평활제, 레벨링제 (leveling agent), 탈포제 등의 각종 첨가제를 필요에 따라서 첨가하여도 좋다.A fine inorganic filler may be mix | blended with the polycarbodiimide resin composition of this invention in the range which does not impair the workability and heat resistance. Moreover, in order to obtain surface smoothness, you may add various additives, such as a leveling agent, a leveling agent, and a defoaming agent, as needed.
본 발명의 중합체를 필름상으로 성형한 성형물은 내열성 접착 시트로서 사용할 수 있다. 필름 또는 접착 시트로 성형할 수 있는 시트 두께로서는, 일반적으로는 1 내지 2000㎛이지만, 이것에 한정되는 것이 아니라 목적으로 따라서 적절하게 선택할 수가 있다. 또한, 시트의 형상이나 크기에 관해서도, 리드프레임이나 반도체칩 등, 피착체에 따라서 적절하게 선택할 수 있다.The molded article shape | molded the polymer of this invention in the film form can be used as a heat resistant adhesive sheet. As sheet thickness which can be shape | molded by a film or an adhesive sheet, although it is 1-2000 micrometers in general, it is not limited to this and can select suitably according to the objective. The shape and size of the sheet can also be appropriately selected depending on the adherend such as a lead frame or a semiconductor chip.
접착 시트를 제조하는 경우, 전도성의 부여나 전열성의 향상, 탄성율의 조절, 특히 고탄성율화 등을 도모하기 위해서, 예를 들면 알루미늄, 동, 은, 금, 니켈, 크롬, 납, 주석, 아연, 팔라듐, 땜납 등의 금속, 또는 합금, 알루미나, 실리카, 마그네시아, 질화 규소 등의 세라믹, 기타 카본 등으로 이루어지는 각종의 무기 분말을 필요에 따라서 1 종 또는 2 종 이상 배합하여도 좋다.In the case of manufacturing the adhesive sheet, for example, aluminum, copper, silver, gold, nickel, chromium, lead, tin, zinc, palladium, in order to provide conductivity, improve heat transfer properties, control elastic modulus, and particularly high elastic modulus. You may mix | blend 1 type, or 2 or more types of various inorganic powders which consist of metals, such as a solder, or ceramics, such as an alloy, alumina, silica, magnesia, and silicon nitride, other carbon, etc. as needed.
또한, 이들 필름을 지지체상에 형성하고 다층의 접착 시트로 하여도 좋다. 이러한 구성의 접착 시트를 제조하기 위해서는, 지지체상에 와니스를 도포하여도 좋고, 미리 필름을 형성하고, 이것을 프레스 등에 의해 적층 성형하여 제조하여도 좋다.Moreover, these films may be formed on a support body and may be a multilayer adhesive sheet. In order to manufacture the adhesive sheet of such a structure, a varnish may be apply | coated on a support body, a film may be formed previously, and this may be manufactured by laminating by press etc.
여기서 사용되는 지지체로서는, 금속박, 절연성 필름 등을 들 수 있다. 금속박으로서는 알루미늄, 동, 은, 금, 니켈, 인듐, 크롬, 납, 주석, 아연, 팔라듐 등의 어느 것이든지 사용할 수 있고, 이들을 단독으로 또는 합금으로서 사용하여도 좋다. 또한, 절연성 필름으로서는, 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등, 내열성이나 내약품성을 가지는 필름이면 어느 것이든지 사용하여도 좋다.As a support body used here, metal foil, an insulating film, etc. are mentioned. As metal foil, any of aluminum, copper, silver, gold, nickel, indium, chromium, lead, tin, zinc, palladium, etc. can be used, You may use these independently or as an alloy. Moreover, as an insulating film, you may use any film as long as it is a film which has heat resistance and chemical-resistance, such as a polyimide, polyester, and a polyethylene terephthalate.
금속박과 절연성 필름은, 각각 단독으로 사용하거나, 양자를 2층 이상 적층한, 예를 들면, 금속박/절연성 필름 등의 2층 기재로 하여도 좋다. 이러한 2층 기재로서는, 예를 들면 구리/폴리이미드 2층 기재 등을 들 수 있다.The metal foil and the insulating film may be used alone or as two-layer base materials such as a metal foil / insulating film in which two or more layers are laminated, for example. As such a two-layer base material, a copper / polyimide two-layer base material etc. are mentioned, for example.
본 발명의 시트상 접착제는, 가열 처리에 의해 열경화하여 견고한 접착력를 발현함과 동시에, 저흡습성의 경화물이 된다. 가열처리를 수행하기 위해서는, 예를 들면, 히터, 초음파, 고주파, 자외선 등의 적당한 방법이 사용되어도 무방하다. 따라서 본 발명의 접착 시트는, 각종 재료의 접착 처리에 바람직하고, 특히 고신뢰성의 고착(固着) 처리가 요구되고, 이 때문에 저흡습성인 것을 요구하는 반도체칩이나 리드프레임 등으로 대표되는 전기·전자 부품의 고착 처리에 바람직하다. 본 발명의 접착 시트는 저흡습성인 점, 가요성(flexibility)이 풍부하고 취급하기 용이한 점, 반도체 소자에 대하여 접착성이 좋은 점, 보존 안정성이 좋은 점 등의 관점에서 우수하다.The sheet-like adhesive of the present invention is thermally cured by heat treatment to express a firm adhesive force and to become a low hygroscopic cured product. In order to perform the heat treatment, a suitable method such as a heater, an ultrasonic wave, a high frequency wave, or an ultraviolet ray may be used, for example. Therefore, the adhesive sheet of this invention is suitable for the adhesion | attachment process of various materials, and especially the highly reliable fixing process is requested | required, for this reason, electrical and electronics represented by a semiconductor chip, a lead frame, etc. which require low hygroscopicity, etc. It is suitable for the fixing process of parts. The adhesive sheet of the present invention is excellent in view of low hygroscopicity, abundance of flexibility and ease of handling, good adhesion to semiconductor elements, and good storage stability.
또한, 상기의 디아민의 우레탄화, 이소시아네이트화 및 카보디이미드화는, 각각의 공정에서 단리, 정제를 수행하여, 단계적으로 진행시켜도 좋고, 1개의 반응기 중에서 이들의 공정을 계속하여 일련의 반응으로서 행하여도 좋다.In addition, the urethanation, isocyanation, and carbodiimide-ization of said diamine may be isolated and refine | purified in each process, and may be advanced in stages, and these processes are continued as a series of reactions in one reactor, Also good.
다음에서, 본 발명을 실시예 및 비교예에 의해 더욱 구체적으로 설명한다. 또한, 수득된 폴리카보디이미드의 특성은 다음과 같이 하여 측정하였다.In the following, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. In addition, the characteristic of the obtained polycarbodiimide was measured as follows.
분자량Molecular Weight
HLC8020 (제조원: 도소)를 사용하고, THF를 전개 용매로서 측정하고, 폴리스티렌 스탠다드 환산으로 산출한다.Using HLC8020 (manufactured by Tosoh), THF is measured as a developing solvent and calculated in terms of polystyrene standard.
IRIR
FT/IR-230 (제조원: 니혼덴시(日本電子))을 사용하여 측정한다.It is measured using FT / IR-230 (manufactured by Nippon Denshi).
열경화 온도Thermosetting temperature
DSC-200 (제조원: (주)세이코-덴시(電子)공업)을 사용하여 측정하여, 삼량체화의 발열 피크를 열경화 온도로 한다.The exothermic peak of trimerization is made into thermosetting temperature by measuring using DSC-200 (manufactured by Seiko-Denshi Co., Ltd.).
유리 전이점(Tg)Glass transition point (Tg)
TMA/SS100 (제조원: (주)세이코-덴시(電子)공업제)을 사용하여 실온으로부터 10℃/min로 400℃ 까지 승온하여 측정한다.It measures by heating up to 400 degreeC at room temperature from 10 degreeC / min using TMA / SS100 (manufactured by Seiko-Denshi Co., Ltd.).
열분해 개시 온도(Td)Pyrolysis Initiation Temperature (Td)
TG/DTA300 (제조원: (주)세이코-덴시(電子)공업)을 사용하여 측정하였다.It measured using TG / DTA300 (manufactured by Seiko-Denshi Co., Ltd.).
실시예 1Example 1
삼구 플라스크 (300 mL)에, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판 5.0 g (15.0 mmol), 디클로로메탄 120 mL 및 트리에틸아민 3.0 g (30.0 mmol)을 도입한다. 플라스크를 빙냉시키고, 질소 기체하에서 페닐클로로포메이트 4.7 g (30.0 mmol)을 투입한다. 15 분간 교반한 후, 반응계를 실온으로 회복시켜, 밤새 교반시킨다.To a three-necked flask (300 mL) is introduced 5.0 g (15.0 mmol) of 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 120 mL of dichloromethane and 3.0 g (30.0 mmol) of triethylamine. The flask is ice cooled and 4.7 g (30.0 mmol) of phenylchloroformate are added under nitrogen gas. After stirring for 15 minutes, the reaction system is returned to room temperature and stirred overnight.
실온에서 트리에틸아민 3.0 g (30.0 mmol), 다음에 트리메틸클로로실란 3.3 g (30.0 mmol)을 플라스크에 넣고, 45분간 교반시킨다. 톨루엔 100 mL를 가하고, 반응 온도를 서서히 80℃ 까지 상승시키면서 5.5시간동안 교반시킨다. 그 동안, 디클로로메탄을 대부분을 증류 제거한다. 반응에 따라 생성된 트리에틸아민 염산염을 여과 분별한 후, 카보디이미드화 촉매 (3-메틸-1-페닐-2-포스폴렌-1-옥사이드) 540 mg (2.8 mmol)을 가하여 80℃에서 3 시간 교반시킨다. IR에 의해 카보디이미드화를 확인한 후 (도 1), 중합체 용액을 헥산 3L에 투입하고, 석출한 고체를 회수하여 감압하에서, 30℃에서 12시간 건조하고, Mn=2,400의 중합체를 수율 89%로 수득한다.At room temperature, 3.0 g (30.0 mmol) of triethylamine, followed by 3.3 g (30.0 mmol) of trimethylchlorosilane, are stirred for 45 minutes. 100 mL of toluene was added and stirred for 5.5 hours while slowly raising the reaction temperature to 80 ° C. In the meantime, most of dichloromethane is distilled off. The triethylamine hydrochloride produced according to the reaction was filtered off, and then 540 mg (2.8 mmol) of a carbodiimide catalyzed catalyst (3-methyl-1-phenyl-2-phosphole-1-oxide) was added to the mixture at 80 ° C. Stir for time. After confirming carbodiimidation by IR (FIG. 1), the polymer solution was added to 3 L of hexane, and the precipitated solid was collected and dried at 30 ° C. under reduced pressure for 12 hours, yielding 89% of a polymer having Mn = 2,400. Obtained as
이 중합체를 사이클로헥사논에 재용해하고, 35 ㎛ 동박(銅箔)으로 캐스팅하고, 200℃에서 20 분간 건조하여 접착 시트를 작성하였다. 시트의 동박을 염화철 수용액으로 에칭하여 두께 20 ㎛, 열경화 온도 400℃ 이상, Tg=220℃, Td=490℃의 필름을 수득한다. 이 필름을 또한 200℃로 60 분간 건조하여도 가요성를 가지고 있는 것으로 나타난다.This polymer was redissolved in cyclohexanone, cast with 35 micrometers copper foil, and dried at 200 degreeC for 20 minutes, and the adhesive sheet was created. The copper foil of the sheet was etched with an aqueous solution of iron chloride to obtain a film having a thickness of 20 µm, a thermal curing temperature of 400 ° C or higher, Tg = 220 ° C, and Td = 490 ° C. The film also appears to have flexibility even when dried at 200 ° C. for 60 minutes.
실시예 2Example 2
실시예 1에서 수득된 구리/폴리카보디이미드 접착 시트를 42 합금판에 첩부하고, 350℃, 50 kg/㎠의 압력으로 1초간 프레스하여 하나로 부착시킨다. 접착력을 측정한 바 1200 g/㎝의 접착력을 나타낸다. 이를 80℃/90% RH의 항온항습기에서 168시간 투입한 후의 접착력은 1000 g/㎝이다.The copper / polycarbodiimide adhesive sheet obtained in Example 1 is affixed to a 42 alloy plate, and it presses for 1 second at 350 degreeC and the pressure of 50 kg / cm <2>, and attaches it to one. The adhesive force was measured, indicating an adhesive force of 1200 g / cm. After 168 hours of incorporation in a constant temperature and humidity chamber at 80 ° C./90% RH, the adhesive strength was 1000 g / cm.
실시예 3Example 3
삼구 플라스크 (300 mL)에, 2,2-비스(3-아미노-4-메틸페닐)헥사플루오로프로판 5.0 g (13.7 mmol)과 톨루엔 100 mL, 트리에틸아민 2.8 g (27.5 mmol)을 도입한다. 플라스크를 빙냉시키고, 질소 기체하에서 페닐클로로포메이트 4.3 g (27.5 mmol)을 부가한다. 30 분간 교반한 후, 반응계를 실온으로 회복시켜, 하루동안 교반시킨다.To a three-necked flask (300 mL), 5.0 g (13.7 mmol) of 2,2-bis (3-amino-4-methylphenyl) hexafluoropropane, 100 mL of toluene and 2.8 g (27.5 mmol) of triethylamine are introduced. The flask is ice cooled and 4.3 g (27.5 mmol) of phenylchloroformate are added under nitrogen gas. After stirring for 30 minutes, the reaction system is returned to room temperature and stirred for one day.
실온에서 트리에틸아민 2.8 g (27.5 mmol), 이어서 트리메틸클로로실란 3.0 g (27.5 mmol)을 플라스크에 넣고, 1시간동안 교반시킨다. 반응 온도를 서서히 80℃까지 상승시키면서 5시간동안 교반시킨다. 이어서, 카보디이미드화 촉매 (3-메틸-1-페닐-2-포스폴렌-1-옥시드) 500 mg (2.6 mmol)을 가하여 80℃에서 2시간 교반시킨다. IR에 의해 카보디이미드화를 확인한 후 (도 2), 생성된 트리에틸아민 염산염을 여과에 의해 제거한다. 이어서, 중합체 용액을 헥산 4 L에 투입하고, 석출된 고체를 회수하여 감압하에서, 30℃에서 12시간동안 건조하여, Mn=4,600의 중합체를 수율 70%로 수득한다.2.8 g (27.5 mmol) of triethylamine, followed by 3.0 g (27.5 mmol) of trimethylchlorosilane at room temperature are added to the flask and stirred for 1 hour. Stirred for 5 hours while slowly raising the reaction temperature to 80 ℃. Subsequently, 500 mg (2.6 mmol) of a carbodiimide catalyst (3-methyl-1-phenyl-2-phosphole-1-1-oxide) were added and stirred at 80 ° C. for 2 hours. After confirming carbodiimidation by IR (FIG. 2), the resulting triethylamine hydrochloride is removed by filtration. Subsequently, the polymer solution was poured into 4 L of hexane, and the precipitated solid was collected and dried at 30 ° C. for 12 hours under reduced pressure to give a polymer of Mn = 4,600 in a yield of 70%.
이 중합체를 톨루엔에 재용해하고, 35 ㎛ 동박으로 캐스팅하고, 200℃에서 20 분간 건조하여 접착 시트를 작성한다. 시트의 동박을 염화철 수용액으로 에칭하여 두께 17 ㎛, 열경화 온도 400℃이상, Tg=160℃, Td=460℃의 필름을 수득한다. 이 필름을 또한 200℃로 60 분간 건조하여도 가요성을 가지고 있는 것으로 나타난다.This polymer is redissolved in toluene, cast with 35 µm copper foil, dried at 200 ° C. for 20 minutes to form an adhesive sheet. The copper foil of the sheet was etched with an aqueous solution of iron chloride to obtain a film having a thickness of 17 µm, a thermal curing temperature of 400 ° C or higher, Tg = 160 ° C, and Td = 460 ° C. The film also appears to have flexibility even when dried at 200 ° C. for 60 minutes.
실시예 4Example 4
실시예 3에서 얻어진 구리/폴리카보디이미드 접착 시트를 42 합금판에 첩부하고, 350℃, 50 kg/㎠의 압력으로 1초간 프레스하여 하나로 부착시킨다. 접착력을 측정한 바 980 g/cm의 접착력을 나타낸다. 이것을 80℃/90% RH의 항온항습기에서 168 시간 투입한 후의 접착력은 860 g/cm이다.The copper / polycarbodiimide adhesive sheet obtained in Example 3 is affixed on a 42 alloy plate, and it presses at 350 degreeC and the pressure of 50 kg / cm <2> for 1 second, and sticks it together. Adhesion was measured to show an adhesion of 980 g / cm. The adhesion after 168 hours of application at 80 ° C./90% RH in a thermo-hygrostat is 860 g / cm.
비교 실시예 1Comparative Example 1
단량체로서 TDI를 사용한 이외는 실시예 1 및 실시예 3과 같은 순서로 중합을 수행하였다. 즉, 가지형 (eggplant type) 플라스크(100 mL)에 TDI 5.0 g (29 mmol), THF 25mL 및 카보디이미드화 촉매 (3-메틸-1-페닐-2-포스폴렌-1-옥시드) 43.0 mg (0.22 mmol)을 도입한다. 60℃에서 15시간동안 교반시키면 Mn=6,700의 폴리카보디이미드 용액이 수득된다. 와니스를 유리판 상에 캐스팅하고, 90℃에서 30 분간 건조하여 필름을 작성한다. 이 필름의 열경화 온도는 350℃에서, 200℃에서 1시간의 열처리를 수행하면 변색되고, 가요성이 없어지고, 자기유지성을 잃게 된다.The polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 and Example 3 except that TDI was used as the monomer. That is, in an eggplant flask (100 mL), 5.0 g (29 mmol) of TDI, 25 mL of THF and a carbodiimidation catalyst (3-methyl-1-phenyl-2-phosphole-1-1-oxide) 43.0 mg (0.22 mmol) is introduced. Stirring at 60 ° C. for 15 hours yields a polycarbodiimide solution with Mn = 6,700. The varnish is cast on a glass plate and dried at 90 ° C. for 30 minutes to form a film. The heat curing temperature of the film is discolored when the heat treatment is performed at 350 ° C. for 1 hour at 200 ° C., and the flexibility is lost and self-maintainability is lost.
비교 실시예 2Comparative Example 2
비교 실시예 1에서 작성한 와니스를 35 ㎛ 동박 상에 도포하고, 90℃에서 30 분간 건조하여 접착 시트를 작성하였다. 이것을 사용하여 실시예 2와 같이 하여 접착력을 측정한 바, 초기는 600 g/cm의 접착력을 나타내었지만, 80℃/90% RH의 항온항습기에서 168 시간 투입하면 박리된다.The varnish created in the comparative example 1 was apply | coated on 35 micrometer copper foil, and it dried at 90 degreeC for 30 minutes, and created the adhesive sheet. Using this, the adhesive force was measured in the same manner as in Example 2, but initially exhibited an adhesive force of 600 g / cm, but was peeled off after 168 hours in a constant temperature and humidity chamber at 80 ° C / 90% RH.
본 발명의 수지 조성물은 일반의 유기 용매에 용해하기 쉽고, 성형 가공이 용이하다. 또한 유리 전이점이 낮고, 저온가공성이 향상된다. 또한, 반도체 소자 등의 피착체에 대하여 접착성이 좋고, 저흡습성이고 보존안정성이 우수하고, 상온에서의 장기 보존이 가능하다. 또한, 200℃ 이상에서 열처리를 행한 경우도 가요성을 가지는 등, 내열성에서도 우수하다. 또한, 중합체 사슬이 m- 위치에서 결합한 중합체의 경우, 보다 유리 전이점이 낮고, 저온가공성이 향상된다.The resin composition of this invention is easy to melt | dissolve in a general organic solvent, and shaping | molding process is easy. Moreover, a glass transition point is low and low temperature workability improves. Moreover, adhesiveness is good with adherends, such as a semiconductor element, it is low hygroscopicity, is excellent in storage stability, and long-term storage at normal temperature is possible. Moreover, also when it heat-processes at 200 degreeC or more, it is excellent also in heat resistance, such as having flexibility. In addition, in the case of the polymer in which the polymer chain is bonded at the m- position, the glass transition point is lower and the low temperature workability is improved.
Claims (5)
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Family Applications (1)
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- 1998-03-18 KR KR10-1998-0709305A patent/KR100505906B1/en not_active IP Right Cessation
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