KR20000008995A - Surface processed fluoscent material, manufacturing method thereof, and forming method of fluoscent layer of plasma display panel using the same - Google Patents

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KR20000008995A KR1019980029132A KR19980029132A KR20000008995A KR 20000008995 A KR20000008995 A KR 20000008995A KR 1019980029132 A KR1019980029132 A KR 1019980029132A KR 19980029132 A KR19980029132 A KR 19980029132A KR 20000008995 A KR20000008995 A KR 20000008995A
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Abstract

PURPOSE: A surface processed fluorescent material, manufacturing method thereof, and forming method of a fluorescent layer of a plasma display panel using the same are provided. CONSTITUTION: The surface processed fluorescent material comprising: fluorescent material particles(12); an inorganic particle(11) firstly coated on the surfaces of the fluorescent material particles(12), the inorganic particle(11) having SiO2 or MgO; and a heat resisting high molecular film secondly coated on the surfaces of the fluorescent material particles(12), wherein the inorganic particle(11) coated on the surfaces of the fluorescent material particles(12), the heat resisting high molecular film having a polyamide, a polyaramide, and a polyamidimide.

Description

표면처리 형광체와 그 제조 방법 및 이를 이용한 플라즈마 표시 패널의 형광층 형성 방법Surface Treatment Phosphor, Manufacturing Method Thereof and Fluorescence Layer Forming Method Using the Same

본 발명은 표면처리 형광체와 그 제조 방법 및 이를 이용한 플라즈마 표시 패널의 형광층 형성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a surface-treated phosphor, a method of manufacturing the same, and a method of forming a fluorescent layer of a plasma display panel using the same.

최근 대형 평판 디스플레이 장치로 주목받고 있는 플라즈마 디스플레이는, 도 1에 도시된 바와 같이, 배면 기판(1) 상에 스트라이프 상의 데이터 전극(2)들을 형성하고, 그 위를 유전체층(3)으로 덮은 다음, 상기 데이터 전극(2)들과 나란한 방향으로 격벽(4)을 형성하고, 격벽(4) 사이의 데이터 전극(2)들에 대응하는 유전체층(3)의 상면에 형광체(5)를 도포한 구조로 되어 있다. 이러한 플라즈마 대스플레이는 격벽(barrier rib)(4) 사이에 도포되어 있는 형광체(5)들을 제어하여 화상을 표시하는 장치이다. DC형 플라즈마 표시 패널의 경우 음극과 양극이 방전 공간에 노출되어 있는 것에 반해서, AC형 플라즈마 표시 패널의 경우 각 전극에 유전체층과 MgO층으로 피복되어 있다. 어느 형태라도 전극 간의 방전에 의해 발생한 자외선이 방전셀 내면에 도포되어 있는 형광체(5)를 여기시키고 포토루미네슨스(photoluminescence)의 원리에 의해 형광체에서 가시광이 방사된다. 이 때 칼라 표시는 각 표시셀에 적색, 녹색, 청색의 형광체를 도포하여 CRT와 동일 방법으로 표시한다.BACKGROUND OF THE INVENTION A plasma display, which has recently attracted attention as a large flat panel display device, forms data electrodes 2 on a stripe on a back substrate 1 and covers a dielectric layer 3 thereon, as shown in FIG. The partition wall 4 is formed in a direction parallel to the data electrodes 2, and the phosphor 5 is coated on the upper surface of the dielectric layer 3 corresponding to the data electrodes 2 between the partition walls 4. It is. Such a plasma display is a device for displaying an image by controlling the phosphors 5 applied between the barrier ribs 4. In the case of the DC plasma display panel, the cathode and the anode are exposed to the discharge space, whereas in the case of the AC plasma display panel, each electrode is covered with a dielectric layer and an MgO layer. In either form, ultraviolet rays generated by the discharge between the electrodes excite the phosphor 5 coated on the inner surface of the discharge cell, and visible light is emitted from the phosphor by the principle of photoluminescence. In this case, the color display is performed by applying red, green, and blue phosphors to each display cell in the same manner as the CRT.

이와 같은 플라즈마 디스플레이 장치는 메모리 효과를 이용하여 발광 시간을 길게 할 수 있고, 패널 크기에 관계없이 높은 휘도가 얻어지기 때문에 대형화 및 박형화된 평판 표시 패널에 용이하게 적용될 수 있다. 현재 실용화에 문제가 되고 있는 부분은 낮은 콘트라스트비와 높은 방전개시전압, 형광체의 색순도, 발광효율, 낮은 휘도, 수명 등이다. 그 중 적절한 형광체 처리 및 도포는 형광체의 색순도, 색순도 변화, 발광효율, 수명, 휘도 등에 결정적인 영향을 미친다.Such a plasma display device can increase the light emission time by using a memory effect, and can be easily applied to a large sized and thin flat panel display panel because high luminance is obtained regardless of the panel size. Problems in practical use are low contrast ratio, high discharge start voltage, color purity of phosphor, luminous efficiency, low luminance and lifetime. Among them, proper phosphor treatment and coating have a decisive influence on the color purity, color purity change, luminous efficiency, lifetime, luminance, and the like of the phosphor.

형광체는 고체 분말로 되어 있기 때문에, 유기물과 혼합하여 페이스트를 제조하여 사용하는 인쇄법으로 도포한다. 감광성 형광체 페이스트를 사용하는 경우도 있으나, 낮은 노광기 출력, 대형 크롬 마스크의 부재, 안정성이나 감도 부족 등의 이유로 아직 실용화되어 있지 않다.Since the phosphor is made of a solid powder, it is mixed with an organic material and coated by a printing method in which a paste is prepared and used. Although the photosensitive fluorescent substance paste may be used, it has not been put to practical use yet because of low exposure machine output, the absence of a large chromium mask, stability, or lack of sensitivity.

또한, 형광체는 압력, 충격력, 마찰력 등과 같이 형광체 입자가 받는 물리적 힘에 의한 결정파괴와 화학적 변화 및 디스플레이 제작시의 가열에 의한 산화와 불순물 확산 등에 의해 발광효율이 저하될 수 있으므로, 표면 처리물은 화학적 변화에 대하여 형광체가 보호될 수 있어야 하며, 가시광선 및 여기원에 대한 투과도가 높아야 하고, 부착력이 강해야 한다는 특성이 요구된다. 이같은 조건에 충족되도록 SiO2및 MgO를 이용한 형광체의 표면 처리가 행해지고는 있으나, 아직 만족할만한 수준은 아니다.In addition, since the phosphors may have low luminous efficiency due to crystal breakdown and chemical change due to physical force received by the phosphor particles such as pressure, impact force, friction force, oxidation and impurity diffusion due to heating during display fabrication, surface treatments Phosphors should be protected against chemical changes, have high transmittance to visible light and excitation sources, and strong adhesion. Although surface treatment of the phosphor using SiO 2 and MgO is performed to satisfy such conditions, it is not yet satisfactory.

그리고 적절한 형광체 페이스트를 제조하여 인쇄하더라도, 현재 개발되어 있는 형광체(특히 녹색과 청색)를 소성하는 경우 산화와 초기 휘도 열화 현상이 발생하기 때문에, 이를 억제하는 것이 필요하다. 특히 청색 형광체의 경우는 소성시 산화에 의하여 청색에서 적색으로 색상이 변하게 되는데 이러한 칼라 변화 현상이 문제가 되고 있다.Even if an appropriate phosphor paste is produced and printed, it is necessary to suppress the oxidation and initial luminance deterioration when firing the currently developed phosphors (especially green and blue). In particular, in the case of the blue phosphor, the color changes from blue to red due to oxidation during firing, which is a problem of color change.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하고자 창안한 것으로, 녹색과 청색 형광체의 경시변화에 따른 휘도 저하를 방지하고, 형광체 페이스트 소성시 열에 의한 산화가 방지되는 표면처리 형광체와 그 제조 방법 및 이를 이용한 플라즈마 표시 패널의 형광층 형성 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to improve the above problems, the surface treatment phosphor to prevent the lowering of the luminance due to the time-dependent change of green and blue phosphor, and prevent the oxidation by heat during firing of the phosphor paste, a method of manufacturing the same and a plasma using the same It is an object of the present invention to provide a method for forming a fluorescent layer of a display panel.

도 1은 AC형 플라즈마 표시 패널 배면 기판의 사시도이고,1 is a perspective view of an AC plasma display panel back substrate;

도 2는 표면 처리된 형광체 입자의 모식적 단면도이다.2 is a schematic cross-sectional view of the surface-treated phosphor particles.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1. 배면 기판 2. 데이터 전극1. Back substrate 2. Data electrode

3. 유전체층 4. 격벽3. Dielectric layer 4. Bulkhead

5. 형광층 10. 내열성 고분자막(폴리이미드)5. Fluorescent layer 10. Heat resistant polymer film (polyimide)

11. 무기물 입자 12. 형광체11.inorganic particles 12.phosphor

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 표면 처리 형광체는, 형광체 입자들; 상기 형광체 입자들 표면에 1차적으로 코팅된 무기물 입자; 및 상기 무기물 입자가 코팅된 형광체 입자들의 표면에 2차적으로 코팅된 내열성 고분자막;을 구비한 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the surface-treated phosphor according to the present invention includes phosphor particles; Inorganic particles primarily coated on surfaces of the phosphor particles; And a heat-resistant polymer membrane coated on the surface of the phosphor particles coated with the inorganic particles secondarily.

본 발명에 있어서, 상기 무기물 입자는 SiO2혹은 MgO 이고, 상기 내열성 고분자막은 폴리이미드, 폴리아라미드 및 폴리아미드이미드 중 어느 하나인 것이 바람직하다.In the present invention, the inorganic particles are SiO 2 or MgO, the heat-resistant polymer film is preferably any one of polyimide, poly aramid and polyamideimide.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 표면 처리 형광체의 제조 방법은, 형광체 입자들에 무기물을 코팅하는 1차 표면 처리 단계; 및 상기 무기물 입자가 코팅된 형광체 입자에 내열성 고분자막을 코팅하는 2차 표면 처리 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the method for producing a surface-treated phosphor according to the present invention in order to achieve the above object, the first surface treatment step of coating an inorganic material on the phosphor particles; And a second surface treatment step of coating the heat resistant polymer film on the phosphor particles coated with the inorganic particles.

본 발명에 있어서, 상기 1차 표면 처리 단계는 SiO2콜로이드 용액 혹은 Mg(NO3) 수용액을 이용하여 상기 무기물 입자로 SiO2혹은 MgO를 코팅하는 것이 바람직하며, 상기 SiO2콜로이드 용액은 에탄올을 용매로 사용하고, 암모늄하이드록사이드와 같은 염기성 약품을 촉매로 사용하여, 포타슘 실리케이트(potassium silicate)와 에틸 실리케이트(ethyl silicate)를 반응시켜 제조한다.In the present invention, the first surface treatment step is to coat SiO 2 or MgO with the inorganic particles using a SiO 2 colloidal solution or Mg (NO 3 ) aqueous solution, the SiO 2 colloidal solution is ethanol solvent It is prepared by using a basic chemical such as ammonium hydroxide as a catalyst and reacting potassium silicate with ethyl silicate.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 1차 표면 처리 단계는, 순수 형광체를 현탁시켜 교반하면서 상기 SiO2콜로이드 용액을 넣는 서브 단계; ZnSO4수용액을 이용하여 상기 SiO2콜로이드의 불용성 물질을 형광체 입자의 표면에 부착시키는 서브 단계; 및 상기 SiO2콜로이드 불용성 물질이 표면에 부착된 형광체 입자를 여과하여 건조시키는 서브 단계;를 포함하는 것이 바람직하며, 상기 1차 표면 처리 단계는,In addition, in the present invention, the first surface treatment step, the sub-step of adding the SiO 2 colloidal solution while suspending and stirring the pure phosphor; Attaching the insoluble material of the SiO 2 colloid to the surface of the phosphor particles using an aqueous ZnSO 4 solution; And a sub step of filtering and drying the phosphor particles having the SiO 2 colloidal insoluble material attached to a surface thereof, wherein the primary surface treatment step includes:

형광체 입자를 Mg(NO3) 수용액에서 교반하여 섞는 서브 단계; 및 상기 형광체와 Mg(NO3) 수용액의 교반액을 건조하고 소성하는 서브 단계;를 포함하는 것도 바람직하다.A sub-step of mixing the phosphor particles by stirring in an aqueous solution of Mg (NO 3 ); And a sub-step of drying and firing the stirred solution of the phosphor and the aqueous solution of Mg (NO 3 ).

또한, 본 발명에 있어서, 상기 2차 표면 처리 단계에서 상기 내열성 고분자막으로 폴리이미드, 폴리아라미드 및 폴리아미드이미드 중 어느 하나를 사용하며,In the present invention, in the secondary surface treatment step, any one of polyimide, polyaramid and polyamideimide is used as the heat resistant polymer membrane,

상기 2차 표면 처리 단계는, 산이무수물(anhydride)과 디아민과를 NMP(N-methyl pyrrolidinone) 용매를 사용하여 녹인뒤, 10℃ 정도의 비교적 낮은 온도에서 축중합시켜 폴리아믹산을 제조하는 서브 단계; 상기 폴리아믹산은 점도가 10,000cps 내외로서 형광체입자를 코팅하기에는 높은 점도이기 때문에, 중합후 NMP 용매를 더 첨가하여 점도를 100cps 이내로 낮추어 주는 서브 단계; 상기 100cps 이내의 점도를 갖는 폴리아믹산에 상기 SiO2혹은 MgO가 코팅된 형광체 입자를 혼합하는 서브 단계; 및 상기 혼합액을 형광체의 침전을 막기 위해 낮은 속도로 교반해 주면서, 스프레이드라이를 실시하는 서브 단계;를 포함하는 것이 바람직하며, 또한, 상기 스프레이드라이를 실시하는 서브 단계에서 노즐의 압력을 2~10kg/㎠로 하여 상기 NMP 용매를 완전히 증발시키고, 상기 폴리아믹산의 사전 경화(pre-curing)를 위해 스프레이 드라이어 챔버 내의 온도는 200℃ 정도로 하는 것이 바람직하다. 또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 표면 처리 형광체를 이용한 플라즈마 표시 패널의 형광층 형성 방법은, 형광체 입자들에 무기물을 코팅하는 1차 표면 처리 단계; 상기 무기물 입자가 코팅된 형광체 입자에 내열성 고분자막를 코팅하는 2차 표면 처리 단계; 상기 제1 및 제2차 표면 처리된 형광체 입자들을 셀룰로스 계열의 고분자화합물과 BCA, α-Terpineol, 이소아밀아세테이트를 이용하여 형광체 페이스트를 제조하는 단계; 및 상기 형광체 페이스트를 플라즈마 표시 패널의 배면 기판에 인쇄하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The second surface treatment step may include a sub-step of dissolving an acid hydride (anhydride) and a diamine using N-methyl pyrrolidinone (NMP) solvent and then polycondensing at a relatively low temperature of about 10 ° C. to produce a polyamic acid; Since the polyamic acid has a viscosity of about 10,000 cps and a high viscosity to coat the phosphor particles, a step of lowering the viscosity to within 100 cps by adding an NMP solvent after polymerization; Sub-mixing the phosphor particles coated with SiO 2 or MgO to a polyamic acid having a viscosity within 100 cps; And a sub-step of performing a spray dry while stirring the mixture at a low speed to prevent the precipitation of the phosphor; Preferably, the sub-step of performing the spray dry, the pressure of the nozzle 2 ~ 10kg The NMP solvent is completely evaporated at / cm 2, and the temperature in the spray dryer chamber is preferably about 200 ° C. for pre-curing the polyamic acid. In addition, in order to achieve the above object, a method of forming a fluorescent layer of a plasma display panel using a surface-treated phosphor according to the present invention includes: a first surface treatment step of coating an inorganic material on phosphor particles; A second surface treatment step of coating a heat resistant polymer film on the phosphor particles coated with the inorganic particles; Preparing a phosphor paste using the first and second surface treated phosphor particles using a cellulose-based polymer compound, BCA, α-Terpineol, and isoamyl acetate; And printing the phosphor paste on a rear substrate of the plasma display panel.

본 발명에 있어서, 상기 1차 표면 처리 단계는 SiO2콜로이드 용액 혹은 Mg(NO3) 수용액을 이용하여 상기 무기물 입자로 SiO2혹은 MgO를 코팅하고, 상기 2차 표면 처리 단계에서 상기 내열성 고분자막으로 폴리이미드, 폴리아라미드 및 폴리아미드이미드 중 어느 하나를 사용하며, 상기 2차 표면 처리 단계는, 산이무수물(anhydride)과 디아민과를 NMP(N-methyl pyrrolidinone) 용매를 사용하여 녹인뒤, 10℃ 정도의 비교적 낮은 온도에서 축중합시켜 폴리아믹산을 제조하는 서브 단계; 상기 폴리아믹산은 점도가 10,000cps 내외로서 형광체입자를 코팅하기에는 높은 점도이기 때문에, 중합후 NMP 용매를 더 첨가하여 점도를 100cps 이내로 낮추어 주는 서브 단계; 상기 100cps 이내의 점도를 갖는 폴리아믹산에 상기 SiO2혹은 MgO가 코팅된 형광체 입자를 혼합하는 서브 단계; 및 상기 혼합액을 형광체의 침전을 막기 위해 낮은 속도로 교반해 주면서, 스프레이드라이를 실시하는 서브 단계;를 포함하며, 상기 스프레이드라이를 실시하는 서브 단계에서 노즐의 압력을 2~10kg/㎠로 하여 상기 NMP 용매를 완전히 증발시키고, 상기 폴리아믹산의 사전 경화(pre-curing)를 위해 스프레이 드라이어 챔버 내의 온도는 200℃ 정도로 하는 것이 바람직하다.In the present invention, the first surface treatment step may be coated with SiO 2 or MgO with the inorganic particles using a SiO 2 colloidal solution or Mg (NO 3 ) aqueous solution, and in the second surface treatment step the poly- Mid, poly aramid and polyamideimide is used, and the second surface treatment step, the acid dianhydride (anhydride) and diamines with NMP (N-methyl pyrrolidinone) solvent is dissolved, about 10 ℃ A substep of polycondensation at a relatively low temperature to produce a polyamic acid; Since the polyamic acid has a viscosity of about 10,000 cps and a high viscosity to coat the phosphor particles, a step of lowering the viscosity to within 100 cps by adding an NMP solvent after polymerization; Sub-mixing the phosphor particles coated with SiO 2 or MgO to a polyamic acid having a viscosity within 100 cps; And a sub-step of performing a spray dry while stirring the mixed solution at a low speed to prevent precipitation of the phosphor. In the sub-step of performing the spray dry, the nozzle pressure is set to 2 to 10 kg / cm 2. The temperature in the spray dryer chamber is preferably about 200 ° C. to completely evaporate the NMP solvent and pre-cur the polyamic acid.

이하 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 표면 처리 형광체와 그 제조 방법 및 이를 이용한 플라즈마 표시 패널의 형광층 형성 방법을 상세하게 설명한다.Hereinafter, a surface-treated phosphor, a method of manufacturing the same, and a method of forming a phosphor layer of a plasma display panel using the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

플라즈마 디스플레이에서는 일반적으로 형광체 표면 보호막을 통한 발광 안정성을 유지하거나, 발광 효율 향상을 위해 표면처리를 실시하고 있으며, 본 발명에 따른 표면 처리 형광체는, 형광체의 표면처리에 의한 소성시의 산화완화 및 초기 휘도 열화 억제를 목표로 한다. 이를 위하여 본 발명에서는 형광체 입자에 SiO2나 MgO를 표면처리한 뒤, 내열성이 우수한 고분자막을 다시 코팅하여 형광체를 구성한다. 내열성이 우수한 고분자막을 코팅하는 이유는 형광체의 소성시 형광체를 산화시키는 가능성을 없애기 위해서이다.In the plasma display, surface treatment is generally performed to maintain the luminescence stability through the surface protection film of the phosphor or to improve the luminescence efficiency. The surface-treated phosphor according to the present invention is deoxidation and initial stage during firing by surface treatment of the phosphor. It aims at suppressing luminance deterioration. To this end, in the present invention, after the surface treatment of SiO 2 or MgO on the phosphor particles, the polymer film excellent in heat resistance is recoated to form a phosphor. The reason for coating the polymer film having excellent heat resistance is to eliminate the possibility of oxidizing the phosphor during firing of the phosphor.

본 발명에 따른 표면 처리 형광체는 형광체 입자와 이를 1차적으로 표면처리하는데 필요한 SiO2나 MgO, 2차적으로 표면처리하는데 필요한 폴리이미드, 형광체 페이스트를 제조하는데 필요한 셀룰로오스 계통의 고분자 화합물 및 고비점 용매 등으로 구성된다.Surface-treated phosphors according to the present invention are phosphor particles and SiO 2 or MgO required for the primary surface treatment, polyimide for the secondary surface treatment, cellulose-based polymer compounds and high boiling point solvents, etc. It consists of.

본 발명에서 적용될 수 있는 녹색 형광체로는 Zn2SiO4:Mn, BaAl12O19:Mn, BaMgAl14O23:Mn, SrAl12O19:Mn, ZnAl12O19:Mn, CaAl12O19:Mn, YBO3:Tb, LuBO3:Tb, GdBO3:Tb, ScBO3:Tb, Sr4Si3O8C14:Eu등이 있고, 적색 형광체로는 Y2O3:Eu, Y2SiO5:Eu, Y3Al5O12:Eu, Zn3(PO4)2:Mn, YBO3:Eu, (Y,Gd)BO3:Eu, GdBO3:Eu, ScBO3:Eu, LuBO3:Eu 등이 있으며, 청색 형광체로는 CaWO4:Pb, Y2SiO5:Ce, BaMgAl14O23:Eu 등이 있다.Green phosphors that may be applied in the present invention include Zn 2 SiO 4 : Mn, BaAl 12 O 19 : Mn, BaMgAl 14 O 23 : Mn, SrAl 12 O 19 : Mn, ZnAl 12 O 19 : Mn, CaAl 12 O 19 : Mn, YBO 3 : Tb, LuBO 3 : Tb, GdBO 3 : Tb, ScBO 3 : Tb, Sr 4 Si 3 O 8 C 14 : Eu, etc., and red phosphors are Y 2 O 3 : Eu, Y 2 SiO 5 : Eu, Y 3 Al 5 O 12 : Eu, Zn 3 (PO 4 ) 2 : Mn, YBO 3 : Eu, (Y, Gd) BO 3 : Eu, GdBO 3 : Eu, ScBO 3 : Eu, LuBO 3 Examples include Eu, and blue phosphors include CaWO 4 : Pb, Y 2 SiO 5 : Ce, and BaMgAl 14 O 23 : Eu.

녹색 형광체는 10% 최대 강도까지 25~35ms의 방사 소멸 시간(radiative decay time)을 갖기 때문에 동화상 표현에는 매우 느려 잔상이 남는 화상 흐림(image smearing)이 문제가 되고 있지만, Zn2SiO4:Mn 형광체를 사용하여 많은 개선이 되었다. 도핑하는 Mn의 농도가 증가할수록 잔상이 남는 성질은 감소하지만 실제 패널에서 Mn의 농도는 0.8~2.6 중량 퍼센트 정도로 하여 잔상이 남는 시간을 최소화할 수 있다. 또한 도펀트(dopant)로서 Mn, Ce, Tb등을 사용한 Mg(Ga,Al)2O4:Mn, Y3(Al,Ga)5O12:Ce 등의 형광체는 수명 향상에 큰 효과가 있으나 아직은 개선해야 할 부분이 많다. 색순도를 향상시키기 위해서는 BaAl12O19:Mn과 YBO3:Tb 등이 사용될 수 있다.Since green phosphors have a radial decay time of 25 to 35ms up to 10% maximum intensity, image smearing is very slow for moving picture representation, but Zn 2 SiO 4 : Mn phosphors are problematic. Many improvements have been made using. As the concentration of Mn doped increases, the afterimage property decreases, but in actual panel, the concentration of Mn is about 0.8-2.6 wt% to minimize the time that the afterimage remains. In addition, phosphors such as Mg (Ga, Al) 2 O 4 : Mn, Y 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Ce using Mn, Ce, Tb, etc. as dopants have a great effect in improving the lifetime, but are not yet available. There are many things to improve. BaAl 12 O 19 : Mn and YBO 3 : Tb may be used to improve color purity.

적색 형광체는 Eu3 +및 Mn으로 도핑한 형광체들 중 YBO3:Eu가 147nm의 VUV 영역에서 우수한 여기특성을 가지며 Y를 Gd로 치환하면 효율을 최적화할 수 있다.Red phosphor of the phosphor doped with Eu 3 + Mn and YBO 3: may be the substitution has superior characteristics in this VUV region of the 147nm Eu Y with Gd optimize efficiency.

청색 형광체는 Y2SiO5:Ce가 효율 및 색순도가 불충분하기 때문에 청색 발광센터로서 Ce, Ti, Eu2 +등의 새로운 도핑물질을 사용하는 것이 시도되고 있으나 최근 BaMgAl14O23:Eu가 많이 사용되고 있으며, 사용 중 발광 스펙트럼이 변화하여 칼라 시프트가 생기는 현상이나 수명 등을 개선하기 위하여 BaMgAl10O17:Eu2 +도 많이 사용되고 있다.The blue phosphor is Y 2 SiO 5: Ce The efficiency and color purity due to insufficient blue as a light emitting center and that attempts to use the new doping material, such as Ce, Ti, Eu 2 +, but recently BaMgAl 14 O 23: Eu is widely used and, BaMgAl 10 O 17 with an emission spectrum changes during use in order to improve the life of such phenomena and the color shift occurs: there is used a lot of Eu 2 +.

이러한 형광체들 중 특히 녹색과 청색 형광체에서의 수명 개선에 관한 문제점들이 해결되어야 할 가장 큰 과제이며, 패널 휘도 향상을 위해서는 형광체 입자상태와 이에 따른 표면처리 및 도포시의 매칭성이 가장 중요한 문제라고 할 수 있다.Among these phosphors, the problems related to the improvement of lifespan in green and blue phosphors, in particular, are the biggest problem to be solved, and in order to improve the panel brightness, the state of the phosphor particles and the matching between surface treatment and coating are the most important problems. Can be.

이를 위하여 본 발명에서의 SiO2나 MgO 표면처리는 다음과 같은 방법으로 실시한다.To this end, SiO 2 or MgO surface treatment in the present invention is carried out in the following manner.

먼저, SiO2의 표면처리는 에탄올과 같은 알코올을 용매로 사용하고, 암모늄하이드록사이드와 같은 염기성 약품을 촉매로 사용하여, 포타슘 실리케이트(potassium silicate)와 에틸 실리케이트(ethyl silicate)를 반응시켜 SiO2콜로이드 물질을 제조한다. 이것을 숙성이라고 하며, 이렇게 만들어진 SiO2콜로이드 용액을 숙성액이라고 한다. 순수 형광체를 현탁시켜 교반하면서 숙성액을 넣고, ZnSO4수용액을 이용하여 SiO2콜로이드 불용성 물질을 형광체 표면에 부착시킨다. 이 것을 여과하고 건조하여 SiO2가 표면에 부착된 형광체를 제조할 수 있다. MgO 표면 처리는 형광체를 Mg(NO3) 수용액에서 교반하여 섞은 뒤, 건조 소성을 실시하여 처리한다.First, the surface treatment of SiO 2 is carried out using an alcohol such as ethanol as a solvent, a basic chemical such as ammonium hydroxide as a catalyst, and reacting potassium silicate with ethyl silicate to react SiO 2. Prepare colloidal material. This is called aging, and the SiO 2 colloidal solution thus produced is called aging. The pure phosphor is suspended and the aging solution is added with stirring, and the SiO 2 colloidal insoluble substance is attached to the surface of the phosphor using an aqueous solution of ZnSO 4 . This may be filtered and dried to prepare a phosphor having SiO 2 adhered to the surface. MgO surface treatment is carried out by stirring and mixing the phosphor in an aqueous solution of Mg (NO 3 ), followed by dry firing.

본 발명에서 2차적으로 표면 처리하는, 폴리이미드와 같이 내열성이 우수한 고분자 화합물은 다음과 같은 방법으로 처리할 수 있다.In the present invention, the polymer compound having excellent heat resistance, such as polyimide, which is secondarily surface treated can be treated by the following method.

먼저, 산이무수물(anhydride)과 디아민과를 NMP(N-methyl pyrrolidinone) 용매를 사용하여 녹인뒤, 10℃ 정도의 비교적 낮은 온도에서 축중합시켜 폴리아믹산을 제조한다. 이렇게 제조된 폴리아믹산은 점도가 10,000cps 내외로서 형광체입자를 코팅하기에는 높은 점도이기 때문에, 중합후 NMP 용매를 더 첨가하여 점도를 낮추어 준다. 최초 중합시 온도를 약간 높게 하면 점도가 낮은 폴리아믹산이 제조될 수도 있다. 형광체 입자의 코팅을 위한 폴리아믹산의 점도는 100cps 이내가 좋다.First, an acid anhydride and a diamine are dissolved using NMP (N-methyl pyrrolidinone) solvent, and then polycondensed at a relatively low temperature of about 10 ° C. to prepare a polyamic acid. The polyamic acid thus prepared has a viscosity of 10,000 cps and is high for coating phosphor particles, and thus, the viscosity of the polyamic acid is further reduced by adding an NMP solvent. If the temperature is slightly increased during the initial polymerization, a low viscosity polyamic acid may be produced. The viscosity of the polyamic acid for coating the phosphor particles is preferably within 100 cps.

점도가 낮게 합성된 폴리아믹산에 SiO2나 MgO 코팅된 형광체 입자를 혼합한다. 이 혼합액을 형광체의 침전을 막기 위해 낮은 속도로 교반해 주면서, 스프레이드라이를 실시한다. 스프레이 드라이시 노즐의 압력은 2~10kg/㎠가 좋다. 스프레이 드라이를 할때 NMP를 완전히 증발시키고, 폴리아믹산의 사전 경화(pre-curing)를 위해 스프레이 드라이어 챔버 내의 온도는 200℃ 정도로 하는 것이 좋다. 스프레이 드라이를 실시하더라도 형광체 입자에 표면처리된 SiO2나 MgO는 강하게 붙어 있기 때문에, 형광체와 분리되는 현상은 없다. 이렇게 하여 제조된 형광체 입자는 도 2에 도시된 바와 같이 형광체(12) 표면에 1차적으로 SiO2나 MgO의 무기물 입자(11)가 표면처리 되어 있고, 2차적으로 사전 경화(pre-curing)된 폴리아믹산(10)으로 코팅되어 있는 단계이다.The polyamic acid synthesized with low viscosity is mixed with phosphor particles coated with SiO 2 or MgO. Spray-drying is performed while stirring this liquid mixture at low speed in order to prevent precipitation of fluorescent substance. When spray drying, the nozzle pressure should be 2 ~ 10kg / ㎠. When spray drying, the NMP is completely evaporated and the temperature in the spray dryer chamber should be about 200 ° C. for pre-curing the polyamic acid. Even if spray-drying is performed, SiO 2 and MgO surface-treated on the phosphor particles are strongly attached, so that there is no separation from the phosphor. As shown in FIG. 2, the phosphor particles thus prepared are first surface-treated with inorganic particles 11 of SiO 2 or MgO on the surface of the phosphor 12 and secondly pre-cured. It is a step that is coated with the polyamic acid (10).

이렇게 표면처리된 형광체 입자는 인쇄를 위하여 형광체 페이스트로 제조한다. 형광체 페이스트는 인쇄성을 좋게 하기 위하여 유기 매체(vehicle)를 사용하게 되는데, 이 때 사용되는 유기 매체(vehicle)의 구성은 에틸셀룰로스나 니트로셀룰로스 계통의 고분자 화합물과 BCA(Butyl Carbitol Acetate), α-Terpineol, Isoamylacetate와 같은 고비점 용매 혼합물을 혼합한 것이다.The surface treated phosphor particles are made of a phosphor paste for printing. The phosphor paste uses an organic vehicle (vehicle) in order to improve the printability, the composition of the organic vehicle (vehicle) used in the ethyl cellulose or nitrocellulose-based polymer compound and BCA (Butyl Carbitol Acetate), α- It is a mixture of high boiling point solvent mixtures such as Terpineol and Isoamylacetate.

SiO2나 MgO를 표면 처리할 때 형광체에 대한 비율은 1% 이내가 좋고, 0.1~0.5%가 가장 좋다. 스프레이 드라이를 실시하기 위한 용액을 제조할 때 폴리아믹산 용액에 대한 형광체 입자의 비율은 폴리아믹산의 점도가 높을수록 형광체 입자의 함량이 작아져야 하며, 폴리아믹산의 점도가 20cps인 경우 폴리아믹산 100g에 대하여 10g 정도 혼합하는 것이 좋다. 유기 매체(vehicle)에서 고비점 용매와 셀룰로스의 비율은 10:1 정도가 좋으며, 도 2에 도시된 바와 같이 표면처리가 완료된 형광체 입자에, 형광체 페이스트를 만들기 위하여 사용하는 유기 매체(vehicle)의 양은 형광체가 포함되는 전체 조성에 대해 50~90% 정도가 좋다.When surface-treating SiO 2 or MgO, the ratio of the phosphor is less than 1%, and 0.1-0.5% is the best. When preparing a solution for spray drying, the ratio of the phosphor particles to the polyamic acid solution should be such that the higher the viscosity of the polyamic acid, the smaller the content of the phosphor particles should be. Mix about 10g. The ratio of the high boiling point solvent and the cellulose in the organic medium is preferably about 10: 1, and as shown in FIG. 2, the amount of the organic medium used to make the phosphor paste is greater than that of the surface-treated phosphor particles. 50 to 90% of the total composition of the phosphor is good.

이렇게 제조된 형광체 페이스트는 인쇄를 통하여 격벽 사이에 인쇄된다. 인쇄된 형광체층은 탈 유기 매체(vehicle)를 위하여 450℃ 정도에서 소성한다. 이 때 200℃ 내외의 온도에서 고비점 용매는 소진(burn-out)되며, 300~400℃ 정도의 넓은 범위에 걸쳐 셀룰로스 계통의 고비점 용매가 소진(burn-out)된다. 한편, 1차로 사전 경화(pre-curing)되었던 폴리아믹산은 300℃ 정도의 온도에서 사후 경화(post-curing)가 진행되어 폴리이미드가 되지만, 400℃에서 소진(burn-out)된다. 따라서 폴리이미드와 같은 표면 코팅물이 없을 경우, 400℃ 근처 고온에서의 열은 직접 형광체 입자에 가해져 형광체 산화를 촉진시키지만, 폴리이미드와 같은 표면보호층이 있을 경우 열은 폴리이미드를 열분해하는데 사용되기 때문에 형광체 산화의 가능성을 적게 해 준다.The phosphor paste thus prepared is printed between the partition walls through printing. The printed phosphor layer is fired at about 450 ° C. for the deorganized vehicle. At this time, the high boiling point solvent is burned out at a temperature of about 200 ° C., and the high boiling point solvent of the cellulose system is burned out over a wide range of about 300 to 400 ° C. On the other hand, the polyamic acid that has been pre-cured primarily becomes post-curing at a temperature of about 300 ° C. to become polyimide, but is burned out at 400 ° C. Therefore, in the absence of a surface coating such as polyimide, heat at high temperatures near 400 ° C. is directly applied to the phosphor particles to promote phosphor oxidation, whereas in the presence of a surface protective layer such as polyimide, heat is used to pyrolyze the polyimide. This reduces the possibility of phosphor oxidation.

기본적으로 형광체를 둘러싸고 있는 폴리이미드는 페이스트 소성시 전부 열분해 될 수도 있으나, 일부 폴리이미드가 잔존하더라도 상하판 실링시의 열에 의한 형광체 산화를 방지하는 작용을 한다. 이 때 폴리이미드는 모두 열분해된다. 내열성이 낮은 수지로 형광체를 표면코팅 할 경우, 페이스트 소성중 셀룰로스 고분자보다 먼저 열분해되기 때문에 형광체 산화를 방지하는 작용이 없다. 따라서 본 발명에서 사용하는 표면 코팅용 고분자는 내열성이 우수한 폴리이미드나 폴리아라미드, 폴리아미드이미드 등의 내열성 고분자막이 사용될 수 있지만, 코팅의 용이성등을 고려한다면 폴리이미드를 사용하는 것이 가장 좋다고 할 수 있다.Basically, the polyimide surrounding the phosphor may be thermally decomposed when the paste is fired, but even if some polyimide remains, it functions to prevent phosphor oxidation by heat during sealing of the upper and lower plates. At this time, all the polyimide is thermally decomposed. When surface-coating phosphors with a resin having low heat resistance, there is no effect of preventing phosphor oxidation because it is pyrolyzed before cellulose polymer during paste firing. Therefore, the surface coating polymer used in the present invention may be a heat-resistant polymer film such as polyimide, polyaramid, polyamideimide, etc. having excellent heat resistance, but considering the ease of coating, it can be said that polyimide is best used. .

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 표면 처리 형광체와 그 제조 방법 및 이를 이용한 PDP의 형광층 형성 방법은, 형광체 특히 녹색과 청색 형광체의 경시변화에 따른 휘도 저하를 방지하기 위한 SiO2나 MgO등의 무기물로 1차 표면처리하고, 형광체 페이스트 소성시 열에 의한 산화방지를 위한 2차 표면 코팅으로 이루어져 있다.As described above, the surface-treated phosphor according to the present invention, a manufacturing method thereof, and a phosphor layer forming method of the PDP using the same include SiO 2 , MgO, and the like for preventing the luminance deterioration due to the aging change of the phosphor, especially green and blue phosphors. Primary surface treatment with an inorganic material, and consists of a secondary surface coating for the prevention of oxidation by heat during firing of the phosphor paste.

1차 표면처리하는 이유는 아직 확실한 이유가 알려져 있지는 않지만 패널 내에서의 이온 충격을 완화시켜줌에 따라 발광 안정성을 유지하고, 발광 효율을 향상시키며, 형광체 인쇄시 높은 인쇄 밀도로 인쇄가 가능하기 때문이며, 2차 표면 코팅하는 이유는 형광체 페이스트 소성 및 상하판 실링시 형광체에 가해지는 열을 내열성이 우수한 코팅물을 열분해시키는데 사용함에 따라 형광체 산화를 방지하고, 따라서 초기에 급격하게 형광체의 열화에 따른 패널의 휘도가 저하되는 현상을 방지할 수 있기 때문이다.The reason for the first surface treatment is not yet known, but it is possible to maintain the emission stability, improve the emission efficiency, and to print at a high print density when printing the phosphor by mitigating ion bombardment in the panel. The reason for the secondary surface coating is to prevent phosphor oxidation by using the heat applied to the phosphor during pyrolysis of the phosphor paste and the sealing of the upper and lower plates to prevent thermal decomposition of the coating having excellent heat resistance. This is because the phenomenon in which the luminance is lowered can be prevented.

Claims (16)

형광체 입자들;Phosphor particles; 상기 형광체 입자들 표면에 1차적으로 코팅된 무기물 입자; 및Inorganic particles primarily coated on surfaces of the phosphor particles; And 상기 무기물 입자가 코팅된 형광체 입자들의 표면에 2차적으로 코팅된 내열성 고분자막;을 구비한 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체.And a heat-resistant polymer film secondary coated on the surfaces of the phosphor particles coated with the inorganic particles. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 무기물 입자는 SiO2혹은 MgO 인 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체.The inorganic particles are surface treated phosphor, characterized in that SiO 2 or MgO. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 내열성 고분자막은 폴리이미드, 폴리아라미드 및 폴리아미드이미드 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체.The heat resistant polymer film is any one of polyimide, polyaramid and polyamideimide. 형광체 입자들에 무기물을 코팅하는 1차 표면 처리 단계; 및A primary surface treatment step of coating an inorganic substance on the phosphor particles; And 상기 무기물 입자가 코팅된 형광체 입자에 내열성 고분자막을 코팅하는 2차 표면 처리 단계;를A second surface treatment step of coating a heat resistant polymer film on the phosphor particles coated with the inorganic particles; 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체의 제조 방법.The manufacturing method of the surface-treated fluorescent substance characterized by including. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 1차 표면 처리 단계는 SiO2콜로이드 용액 혹은 Mg(NO3) 수용액을 이용하여 상기 무기물 입자로 SiO2혹은 MgO를 코팅하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체의 제조 방법.The first surface treatment step is a method for producing a surface-treated phosphor, characterized in that the coating of SiO 2 or MgO with the inorganic particles using a SiO 2 colloidal solution or Mg (NO 3 ) aqueous solution. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 SiO2콜로이드 용액은 에탄올을 용매로 사용하고, 암모늄하이드록사이드와 같은 염기성 약품을 촉매로 사용하여, 포타슘 실리케이트(potassium silicate)와 에틸 실리케이트(ethyl silicate)를 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체의 제조 방법.The SiO 2 colloidal solution is prepared by reacting potassium silicate with ethyl silicate using ethanol as a solvent and a basic chemical such as ammonium hydroxide as a catalyst. Method for producing treated phosphor. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 1차 표면 처리 단계는,The first surface treatment step, 순수 형광체를 현탁시켜 교반하면서 상기 SiO2콜로이드 용액을 넣는 서브 단계;A sub-step of suspending pure phosphor and adding the SiO 2 colloidal solution while stirring; ZnSO4수용액을 이용하여 상기 SiO2콜로이드의 불용성 물질을 형광체 입자의 표면에 부착시키는 서브 단계; 및Attaching the insoluble material of the SiO 2 colloid to the surface of the phosphor particles using an aqueous ZnSO 4 solution; And 상기 SiO2콜로이드 불용성 물질이 표면에 부착된 형광체 입자를 여과하여 건조시키는 서브 단계;를A sub-step of filtering and drying the phosphor particles having the SiO 2 colloidal insoluble material attached to the surface; 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체의 제조 방법.The manufacturing method of the surface-treated fluorescent substance characterized by including. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 1차 표면 처리 단계는,The first surface treatment step, 형광체 입자를 Mg(NO3) 수용액에서 교반하여 섞는 서브 단계; 및A sub-step of mixing the phosphor particles by stirring in an aqueous solution of Mg (NO 3 ); And 상기 형광체와 Mg(NO3) 수용액의 교반액을 건조하고 소성하는 서브 단계;를Sub step of drying and firing the stirred solution of the phosphor and Mg (NO 3 ) aqueous solution; 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체의 제조 방법.The manufacturing method of the surface-treated fluorescent substance characterized by including. 제4항 또는 제5항에 있어서,The method according to claim 4 or 5, 상기 2차 표면 처리 단계에서 상기 내열성 고분자막으로 폴리이미드, 폴리아라미드 및 폴리아미드이미드 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체의 제조 방법.Method of producing a surface-treated phosphor, characterized in that any one of polyimide, polyaramid and polyamideimide is used as the heat resistant polymer film in the secondary surface treatment step. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 2차 표면 처리 단계는,The second surface treatment step, 산이무수물(anhydride)과 디아민과를 NMP(N-methyl pyrrolidinone) 용매를 사용하여 녹인뒤, 10℃ 정도의 비교적 낮은 온도에서 축중합시켜 폴리아믹산을 제조하는 서브 단계;A sub-step of dissolving an acid anhydride and a diamine using N-methyl pyrrolidinone (NMP) solvent and then polycondensing at a relatively low temperature of about 10 ° C. to produce a polyamic acid; 상기 폴리아믹산은 점도가 10,000cps 내외로서 형광체입자를 코팅하기에는 높은 점도이기 때문에, 중합후 NMP 용매를 더 첨가하여 점도를 100cps 이내로 낮추어 주는 서브 단계;Since the polyamic acid has a viscosity of about 10,000 cps and a high viscosity to coat the phosphor particles, a step of lowering the viscosity to within 100 cps by adding an NMP solvent after polymerization; 상기 100cps 이내의 점도를 갖는 폴리아믹산에 상기 SiO2혹은 MgO가 코팅된 형광체 입자를 혼합하는 서브 단계; 및Sub-mixing the phosphor particles coated with SiO 2 or MgO to a polyamic acid having a viscosity within 100 cps; And 상기 혼합액을 형광체의 침전을 막기 위해 낮은 속도로 교반해 주면서, 스프레이드라이를 실시하는 서브 단계;를A sub-step of performing a spray dry while stirring the mixture at a low speed to prevent the precipitation of the phosphor; 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체의 제조 방법.The manufacturing method of the surface-treated fluorescent substance characterized by including. 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 스프레이드라이를 실시하는 서브 단계에서 노즐의 압력을 2~10kg/㎠로 하여 상기 NMP 용매를 완전히 증발시키고, 상기 폴리아믹산의 사전 경화(pre-curing)를 위해 스프레이 드라이어 챔버 내의 온도는 200℃ 정도로 하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 형광체의 제조 방법.In the sub-drying step, the pressure of the nozzle is 2 to 10 kg / cm 2 to completely evaporate the NMP solvent, and the temperature in the spray dryer chamber is about 200 ° C. for pre-curing the polyamic acid. The manufacturing method of the surface-treated fluorescent substance characterized by the above-mentioned. 형광체 입자들에 무기물을 코팅하는 1차 표면 처리 단계;A primary surface treatment step of coating an inorganic substance on the phosphor particles; 상기 무기물 입자가 코팅된 형광체 입자에 내열성 고분자막를 코팅하는 2차 표면 처리 단계;A second surface treatment step of coating a heat resistant polymer film on the phosphor particles coated with the inorganic particles; 상기 제1 및 제2차 표면 처리된 형광체 입자들을 셀룰로스 계열의 고분자화합물과 BCA, α-Terpineol, 이소아밀아세테이트를 이용하여 형광체 페이스트를 제조하는 단계; 및Preparing a phosphor paste using the first and second surface treated phosphor particles using a cellulose-based polymer compound, BCA, α-Terpineol, and isoamyl acetate; And 상기 형광체 페이스트를 플라즈마 표시 패널의 배면 기판에 인쇄하는 단계;를Printing the phosphor paste on a rear substrate of a plasma display panel; 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널의 형광층 형성 방법.And a fluorescent layer forming method of the plasma display panel. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 1차 표면 처리 단계는 SiO2콜로이드 용액 혹은 Mg(NO3) 수용액을 이용하여 상기 무기물 입자로 SiO2혹은 MgO를 코팅하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널의 형광층 형성 방법.The first surface treatment step is a method of forming a fluorescent layer of a plasma display panel, characterized in that the coating of SiO 2 or MgO with the inorganic particles using a SiO 2 colloidal solution or Mg (NO 3 ) aqueous solution. 제12항 또는 제13항에 있어서,The method according to claim 12 or 13, 상기 2차 표면 처리 단계에서 상기 내열성 고분자막으로 폴리이미드, 폴리아라미드 및 폴리아미드이미드 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널의 형광층 형성 방법.And using one of polyimide, polyaramid and polyamideimide as the heat resistant polymer film in the second surface treatment step. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 2차 표면 처리 단계는,The second surface treatment step, 산이무수물(anhydride)과 디아민과를 NMP(N-methyl pyrrolidinone) 용매를 사용하여 녹인뒤, 10℃ 정도의 비교적 낮은 온도에서 축중합시켜 폴리아믹산을 제조하는 서브 단계;A sub-step of dissolving an acid anhydride and a diamine using N-methyl pyrrolidinone (NMP) solvent and then polycondensing at a relatively low temperature of about 10 ° C. to produce a polyamic acid; 상기 폴리아믹산은 점도가 10,000cps 내외로서 형광체입자를 코팅하기에는 높은 점도이기 때문에, 중합후 NMP 용매를 더 첨가하여 점도를 100cps 이내로 낮추어 주는 서브 단계;Since the polyamic acid has a viscosity of about 10,000 cps and a high viscosity to coat the phosphor particles, a step of lowering the viscosity to within 100 cps by adding an NMP solvent after polymerization; 상기 100cps 이내의 점도를 갖는 폴리아믹산에 상기 SiO2혹은 MgO가 코팅된 형광체 입자를 혼합하는 서브 단계; 및Sub-mixing the phosphor particles coated with SiO 2 or MgO to a polyamic acid having a viscosity within 100 cps; And 상기 혼합액을 형광체의 침전을 막기 위해 낮은 속도로 교반해 주면서, 스프레이드라이를 실시하는 서브 단계;를A sub-step of performing a spray dry while stirring the mixture at a low speed to prevent the precipitation of the phosphor; 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널의 형광층 형성 방법.And a fluorescent layer forming method of the plasma display panel. 제15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 스프레이드라이를 실시하는 서브 단계에서 노즐의 압력을 2~10kg/㎠로 하여 상기 NMP 용매를 완전히 증발시키고, 상기 폴리아믹산의 사전 경화(pre-curing)를 위해 스프레이 드라이어 챔버 내의 온도는 200℃ 정도로 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널의 형광층 형성 방법.In the sub-drying step, the pressure of the nozzle is 2 to 10 kg / cm 2 to completely evaporate the NMP solvent, and the temperature in the spray dryer chamber is about 200 ° C. for pre-curing the polyamic acid. A method of forming a fluorescent layer of a plasma display panel.
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