KR19990066155A - Management Method of Semiconductor Equipment with Multi Chamber - Google Patents

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KR19990066155A
KR19990066155A KR1019980001825A KR19980001825A KR19990066155A KR 19990066155 A KR19990066155 A KR 19990066155A KR 1019980001825 A KR1019980001825 A KR 1019980001825A KR 19980001825 A KR19980001825 A KR 19980001825A KR 19990066155 A KR19990066155 A KR 19990066155A
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semiconductor equipment
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장재만
안정삼
장영철
김석현
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윤종용
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Abstract

반도체 설비에 설치되어 있는 다수개의 챔버중 가장 양호한 상태를 갖는 챔버가 선택된 후, 공정이 진행되도록 반도체 설비 관리시스템에 챔버 우선순위 결정모듈을 온라인 시켜 신속한 챔버 관리 및 챔버 운영 효율을 증대시킨 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법이 개시되고 있다.After selecting the chamber having the best condition among the plurality of chambers installed in the semiconductor facility, the chamber prioritization module is brought online to the semiconductor facility management system for the process to proceed. The semiconductor equipment management method which has is disclosed.

본 발명에 의하면, 반도체 설비에 다수개가 설치되어 있는 챔버의 상태를 주기적으로 확인하는 단계와, 확인된 챔버의 상태 데이터를 전송받아 챔버 상태를 디스플레이하는 단계와, 디스플레이된 챔버의 상태를 참조하여 챔버를 선택하는 단계와, 선택된 챔버에 의하여 공정을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the method includes periodically checking a state of a chamber in which a plurality of semiconductor devices are installed, displaying the chamber state by receiving the confirmed state data of the chamber, and referring to the displayed state of the chamber. Selecting the step, and characterized in that it comprises the step of proceeding the process by the selected chamber.

Description

멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법Management Method of Semiconductor Equipment with Multi Chamber

본 발명은 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 설비에 설치되어 있는 다수개의 챔버중 가장 양호한 상태를 갖는 챔버가 선택된 후, 공정이 진행되도록 반도체 설비 관리시스템에 챔버 우선순위 결정모듈을 온라인 시켜 신속한 챔버 관리 및 챔버 운영 효율을 증대시킨 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for managing a semiconductor device having a multi-chamber, and more particularly, to select a chamber having the best state among a plurality of chambers installed in the semiconductor device, and then prioritize the chamber to the semiconductor facility management system so that the process proceeds. The present invention relates to a method for managing a semiconductor device having a multi-chamber that increases the efficiency of chamber management and chamber operation by bringing the ranking module online.

최근들어 급속히 발전하고 있는 가전산업, 컴퓨터 산업 등에 의하여 생산된 제품들은 모두 고성능화와 함께 소형화를 추구하고 있다.The products produced by the home appliance industry and the computer industry, which are rapidly developing in recent years, are all pursuing miniaturization with high performance.

이처럼 제품의 소형화 및 고성능화를 추구하기 위해서는 무엇보다도 고집적도를 갖는 반도체 제품을 필요로 함은 부인할 수 없을 것이다. 이와 같은 이유로 반도체 제품의 보다 향상된 성능을 구현하기 위하여 반도체 제품의 다각적인 개발이 꾸준히 진행되고 있다.As such, the pursuit of miniaturization and high performance of the product requires, among other things, the need for semiconductor products with high integration. For this reason, various developments of semiconductor products have been continuously conducted in order to realize more improved performance of semiconductor products.

또한, 하나의 반도체 제품을 생산하기 위해서는 무수히 많은 제조 공정 및 제조 공정을 수행하는 반도체 설비를 여러번 거쳐야 하기 때문에 최근들어서는 반도체 생산 라인에 설치되어 있는 반도체 설비를 관리하는 방법의 개발이 급속도로 진행되고 있는 실정이다. 향상된 기능을 갖는 반도체 설비 관리 방법에 의하여 실제로 생산라인을 운영함에 있어서 운영 효율을 보다 높게 증대시킬 수 있기 때문이다.In addition, in order to produce a single semiconductor product, a number of manufacturing processes and a plurality of semiconductor equipments for performing the manufacturing process must be performed several times. Recently, development of a method for managing semiconductor equipment installed in a semiconductor production line is rapidly progressing. It is true. This is because the operation efficiency of the semiconductor equipment management method with the improved function can increase the operation efficiency in actual operation of the production line.

도 1은 이와 같은 종래 반도체 설비를 관리 시스템을 도시한 블록도이다.1 is a block diagram showing a system for managing such a conventional semiconductor facility.

종래 반도체 설비 관리 시스템은 전체적으로 보아 공정을 진행하여 반도체 제품을 실제로 제작하는 반도체 설비 A(60), 반도체 설비 B(70), 반도체 설비 C(80),(여기서 반도체 설비 A(60), 반도체 설비 B(70), 반도체 설비 C(80)는 모두 동일한 공정을 진행하는 반도체 설비라고 가정한다) 및 반도체 설비 A, B, C(60,70,80)의 공정 진행 순서와, 공정에 필요한 다양한 데이터를 반도체 설비 A, B, C(60,70,80)로 다운로드(download)시켜주어 반도체 설비 A, B, C(60,70,80)가 공정을 진행할 수 있도록 서포트해주는 호스트(10)를 포함하고 있다.The conventional semiconductor equipment management system is a semiconductor equipment A (60), a semiconductor equipment B (70), a semiconductor equipment C (80), where the semiconductor equipment A (60), a semiconductor equipment, which actually proceeds with the process and actually manufactures a semiconductor product. B 70, semiconductor equipment C 80 are all assumed to be the same semiconductor equipment) and semiconductor equipment A, B, C (60, 70, 80) process proceeding sequence and various data required for the process It includes a host (10) for downloading the semiconductor equipment A, B, C (60, 70, 80) to support the semiconductor equipment A, B, C (60, 70, 80) to proceed with the process Doing.

이에 더하여, 반도체 설비 A, B, C(60,70,80)와 호스트(10)가 상호 통신 가능하도록 반도체 설비 A, B, C(60,70,80)와 호스트(10)를 상호 온라인 시키기 위하여 각각의 반도체 설비 A(60), 반도체 설비 B(70), 반도체 설비 C(80)에는 온라인 서버 A(30), 온라인 서버 B(40), 온라인 서버 C(50) 가 각각 대응되어 설치되어 있다.In addition, the semiconductor facilities A, B, C (60, 70, 80) and the host 10 are brought online with each other so that the host 10 can communicate with each other. For each of the semiconductor equipment A (60), semiconductor equipment B (70), and semiconductor equipment C (80), an online server A (30), an online server B (40), and an online server C (50) are respectively installed correspondingly. have.

또한, 온라인 서버 A(30), 온라인 서버 B(40), 온라인 서버 C(50)는 다시 온라인 서버 A, B, C(30,40,50)를 통합 제어하며 제어에 따른 결과를 호스트(10)에 전달하도록 호스트(10)에는 온라인서버 통합관리모듈(20)이 온라인되어 있다.In addition, the online server A (30), the online server B (40), the online server C (50) is again integrated control of the online servers A, B, C (30, 40, 50) and host the results according to the control (10) On the host 10, the online server integrated management module 20 is online.

보다 상세하게 설명하면, 모두 동일한 공정을 수행하는 반도체 설비 A(60), 반도체 설비 B(70), 반도체 설비 C(80)에는 다수개로 공정을 수행하는 챔버Ⅰ(62,72,82), 챔버 Ⅱ(64,74,84), 챔버 Ⅲ(66,86)이 설치되어 있다.In more detail, the chambers I (62, 72, 82) and the chambers that perform a plurality of processes are performed in the semiconductor equipment A 60, the semiconductor equipment B 70, and the semiconductor equipment C 80, which all perform the same process. II (64, 74, 84) and chamber III (66, 86) are provided.

이들 챔버는 챔버가 온라인 다운 상태(down state) 및 챔버 상태가 불량하여 챔버에서 공정을 진행하지 못하게 될 때에도 공정이 진행되도록 적어도 2 개 이상이 설치되어 있다.At least two of these chambers are provided so that the process proceeds even when the chamber is in an online down state and the chamber state is not able to proceed with the process in the chamber.

또한, 앞서 언급한 반도체 설비 A(60), 반도체 설비 B(70), 반도체 설비 C(80)는 온라인 서버(30,40,50)와 RS-232C 프로토콜 또는 SECS 프로토콜(SEMI Communication Standard)에 의하여 온라인되어 있으며, 온라인 서버(30,40,50)와 온라인서버 통합관리모듈(20), 호스트(10)는 TCP/IP 프로토콜에 의하여 온라인되어 있다.In addition, the semiconductor equipment A 60, the semiconductor equipment B 70, and the semiconductor equipment C 80 mentioned above are connected to the online servers 30, 40, and 50 by the RS-232C protocol or the SECS protocol. Online, the online server 30, 40, 50, the online server integrated management module 20, the host 10 is online by the TCP / IP protocol.

이와 같이 구성된 종래 반도체 설비 관리 시스템에 의하여 반도체 설비(60,70,80)를 관리할 때, 작업자는 반도체 설비 A(60), 반도체 설비 B(70), 반도체 설비 C(80) 중 어느 한 설비에 설치되어 있는 다수개의 챔버Ⅰ(62,72,82), 챔버 Ⅱ(64,74,84), 챔버 Ⅲ(66,86)의 상태를 확인 한 후, 공정 수행이 가능한 챔버에 공정을 수행하기 위하여 공정 시작 대기 신호를 호스트(10)로 송신하면, 호스트(10)는 공정 진행순서 및 공정을 수행하는데 필요한 모든 데이터를 반도체 설비A, B, C(60,70,80)로 다운로드하여 반도체 설비 A,B,C(60,70,80)는 작업자가 지정한 해당 챔버에서 공정을 수행하게 된다.When managing the semiconductor facilities 60, 70, and 80 by the conventional semiconductor equipment management system configured as described above, the worker is any one of the semiconductor equipment A 60, the semiconductor equipment B 70, and the semiconductor equipment C 80. After checking the state of the plurality of chamber I (62, 72, 82), chamber II (64, 74, 84), chamber III (66, 86) installed in the chamber, to perform the process in the chamber capable of performing the process In order to transmit a process start wait signal to the host 10, the host 10 downloads the process proceedings and all data necessary for performing the process to the semiconductor facilities A, B, and C (60, 70, 80) and installs the semiconductor equipment. A, B, C (60, 70, 80) is to perform the process in the chamber specified by the operator.

그러나, 이와 같은 종래 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법에 있어서는 멀티 챔버들을 모두 작업자가 수작업에 의하여 관리하였다. 이유로는 멀티 챔버들에서 발생할 수 있는 많은 이상 상태를 호스트에 저장 관리하기가 어렵기 때문이었다. 이와 같은 이유에 의해서, 작업자는 반도체 생산라인에 산재되어 있는 반도체 설비에 설치되어 있는 멀티 챔버들 각각의 상태를 파악할 수 없기 때문에 반도체 공정을 진행하기 위하여 가장 최적의 상태를 갖는 챔버를 검색하기 어려운 문제점이 있었다.However, in the semiconductor equipment management method having such a conventional multi-chamber, all the multi-chambers are managed by a worker by hand. The reason is that it is difficult to store and manage many abnormal conditions that may occur in multiple chambers in the host. For this reason, it is difficult for an operator to identify the state of each of the multi-chambers installed in the semiconductor facilities scattered on the semiconductor production line, so it is difficult to search for the chamber having the most optimal state for the semiconductor process. There was this.

따라서, 본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 감안하여 안출된 것으로써, 본 발명의 목적은 반도체 설비 및 온라인서버와, 온라인서버 통합관리모듈들과 통신 가능함으로써, 현재 반도체 설비에 설치되어 있는 멀티 챔버 상태(RUN, DOWN, IDLE stature)를 한번에 알 수 있도록 하여 멀티 챔버의 관리를 최적화함에 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of such a conventional problem, and an object of the present invention is to communicate with a semiconductor facility and an on-line server and the on-line server integrated management modules, thereby providing a multi-chamber currently installed in the semiconductor facility. The state (RUN, DOWN, IDLE stature) can be known at once to optimize the management of the multi-chamber.

도 1은 종래 멀티 챔버(multi-chamber)를 갖는 반도체 설비를 관리하는 방법을 도시한 개념도이다.FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating a method of managing a semiconductor facility having a conventional multi-chamber.

도 2는 본 발명에 의한 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비를 관리하는 방법을 도시한 개념도이다.2 is a conceptual diagram illustrating a method of managing a semiconductor facility having a multi-chamber according to the present invention.

도 3은 작업자측에 설치된 인풋/아웃풋 모니터에 나타난 챔버 상태를 도시한 도면이다.3 is a view illustrating a chamber state shown in an input / output monitor installed at an operator side.

도 4는 본 발명 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법을 도시한 순서도이다.4 is a flowchart illustrating a method for managing a semiconductor device having a multi-chamber according to the present invention.

이와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 본 발명 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법은 반도체 설비에 다수개가 설치되어 있는 챔버의 상태를 주기적으로 확인하는 단계와, 확인된 챔버의 상태 데이터를 전송받아 챔버 상태를 디스플레이하는 단계와, 디스플레이된 챔버의 상태를 참조하여 챔버를 선택하는 단계와, 선택된 챔버에 의하여 공정을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The semiconductor device management method having a multi-chamber according to the present invention for achieving the object of the present invention comprises the steps of periodically checking the state of the chamber in which a plurality of semiconductor equipment is installed, and receiving the state data of the identified chamber chamber Displaying a state, selecting a chamber with reference to the displayed state of the chamber, and performing a process by the selected chamber.

바람직하게, 챔버 상태 확인 단계에서는 챔버의 다운, 아이들, 런 상태를 확인하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the chamber state checking step includes the step of checking the down, idle, run state of the chamber.

바람직하게, 챔버 상태를 확인하는 단계 이후에는 챔버 상태 데이터를 장치사용 우선순위 결정 모듈로 다운로드하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, after the step of confirming the chamber state, characterized in that it comprises the step of downloading the chamber state data to the device usage prioritization module.

바람직하게, 챔버 상태를 디스플레이 하는 단계는 장치사용 우선순위 결정 모듈이 챔버의 상태 데이터를 O/I 컴퓨터의 모니터로 전송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, displaying the chamber status comprises the device usage prioritization module transmitting status data of the chamber to a monitor of the O / I computer.

이하, 본 발명 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법 및 시스템을 상세하게 설명하면 다음과 같으며, 먼저 본 발명 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리시스템을 도 3을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a semiconductor device management method and system having a multi-chamber of the present invention will be described in detail. First, the semiconductor device management system having a multi-chamber of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 3.

본 발명 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리시스템은 전체적으로 보아, 동일한 공정을 진행하는 멀티 챔버를 구비한 반도체 설비 A,B,C(160,170,180)와, 반도체 설비 A,B,C(160,170,180)가 최적의 상태로 공정을 진행할 수 있도록 공정 순서 및 데이터를 제공하는 호스트(100)와, 반도체 설비 A,B,C(160,170,180)와 호스트(100)를 상호 온라인 시키기 위하여 상기 반도체 설비 A,B,C(160,170,180) 및 멀티 챔버와 온라인되어 있는 온라인 서버(130,140,150))와, 온라인 서버(130,140,150) 를 통합 제어하는 온라인서버 통합관리모듈(150)과, 온라인 서버(130,140,150)로부터 반도체 설비 A,B,C(160,170,180)에 설치되어 있는 멀티 챔버들의 상태 데이터를 전송받아 이를 작업자에게 디스플레이 시켜주는 장치사용 우선순위 결정모듈(200)을 구비하고 있다.In the semiconductor equipment management system having a multi-chamber, the semiconductor equipments A, B, C (160, 170, 180) and the semiconductor equipment A, B, C (160, 170, 180) having the multi-chambers which perform the same process as a whole are optimal. The semiconductor device A, B, C (160, 170, 180) to bring the host 100 and the semiconductor equipment A, B, C (160, 170, 180) and the host 100 online with each other to provide a process sequence and data so that the process can be performed. And an on-line server (130, 140, 150) that is online with the multi-chambers, an on-line server integrated management module (150) for controlling and controlling the on-line server (130, 140, 150), and the semiconductor equipment A, B, C (160, 170, 180) It is provided with a device use priority determination module 200 for receiving the state data of the multi-chambers installed in the display and display it to the operator.

이와 같은 구성 요소들을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.These components will be described in more detail below.

동일한 공정을 진행하는 반도체 설비 A(160), 반도체 설비 B(140), 반도체 설비 C(150)에는 각각 공정이 실제로 진행되는 챔버Ⅰ(162,172,182), 챔버 Ⅱ(164,174,184), 챔버 Ⅲ(166,186)이 설치되어 있다. 반도체 설비 A, B, C(160,170,180)에는 챔버Ⅰ,Ⅱ,Ⅲ중 일부가 설치될 수 있고, 모두가 설치될 수도 있다.In the semiconductor equipment A 160, the semiconductor equipment B 140, and the semiconductor equipment C 150 which perform the same process, the chambers I (162, 172, 182), chambers II (164, 174, 184), and chamber III (166, 186), in which the processes are actually performed, are respectively provided. It is installed. Some of the chambers I, II, and III may be installed in the semiconductor facilities A, B, and C (160, 170, 180), and all may be installed.

또한, 이와 같이 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 A,B,C(160,170,180)는 온라인 서버 A(130), 온라인 서버 B(140), 온라인 서버 C(150)와 온라인되어 있다. 이때, 반도체 설비 A,B,C(160,170,180)와 온라인 서버 A,B,C(130,140,150)들은 RS-232C 방식 또는 SECS 프로토콜에 의하여 상호 통신하게 된다.In addition, the semiconductor facilities A, B, and C (160, 170, 180) having the multi-chambers are online with the online server A 130, the online server B 140, and the online server C 150. At this time, the semiconductor equipment A, B, C (160, 170, 180) and the online servers A, B, C (130, 140, 150) are mutually communicated by the RS-232C method or SECS protocol.

또한, 반도체 설비 A,B,C(160,170,180)에 각각 온라인되어 있는 온라인 서버A,B,C(130,140,150)는 다시 각각의 온라인 서버를 통합 제어하는 온라인 서버 통합관리 모듈(150)과 온라인되어 있다.In addition, the online servers A, B, and C (130, 140, 150), which are online on the semiconductor facilities A, B, and C (160, 170, 180), respectively, are online with the online server integrated management module 150 that controls the respective online servers.

한편, 온라인 서버 통합관리 모듈(150)은 호스트(100) 및 장치사용 우선순위 결정모듈(200)과 온라인되어 있다.Meanwhile, the online server integrated management module 150 is online with the host 100 and the device usage priority determining module 200.

이 장치사용 우선순위 결정모듈(200)로는 상기 온라인 서버 A,B,C(130,140,150)로부터 확인된 챔버 상태 데이터가 입력되고, 입력된 데이터는 장치사용 우선순위 결정모듈(200)과 온라인되어 있는 O/I 컴퓨터(Operation Interface computer;) 모니터에 의하여 디스플레이된다.The device use priority determination module 200 receives chamber state data checked from the online servers A, B, and C (130, 140, and 150), and the input data is O online with the device use priority determination module 200. / I Computer Displayed by the monitor.

작업자는 단순히 O/I 모니터의 상태를 관찰함으로써 현재 공정 진행중(RUN) 상태인 챔버와, 아이들(IDLE) 상태인 챔버와, 다운(DOWN) 상태의 챔버를 파악할 수 있고, 어느 챔버에서 공정을 진행하는 것이 가장 효과적인지를 판단할 수 있다.By simply observing the status of the O / I monitor, the operator can identify the chamber in the current process run state, the idle state chamber, and the chamber in the down state. You can determine if it is most effective.

이와 같이 작업자가 O/I 모니터를 통하여 챔버를 선정한 후, 선정된 챔버가 어느 것인지를 호스트(100)에 전송하면 해당 챔버는 공정 레디(ready) 상태가 되고, 호스트(100)로부터 공정에 필요한 모든 데이터가 해당 챔버가 설치된 반도체 설비로 다운로드되면 공정을 시작한다.In this way, after the operator selects a chamber through the O / I monitor and transmits the selected chamber to the host 100, the chamber becomes a process ready state, and all the necessary processes for the process from the host 100 are performed. Once the data is downloaded to the semiconductor facility where the chamber is installed, the process begins.

이와 같은 멀티 챔버를 갖는 반도체설비 관리 시스템에 의한 관리 방법을 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, a management method by the semiconductor facility management system having such a multi-chamber is as follows.

먼저, 반도체 설비에 설치된 다수개의 챔버 상태를 온라인 서버가 주기적으로 체킹하여 다수개의 챔버 상태 데이터를 발생시킨다. 또한, 반도체 설비 또한 주기적으로 챔버의 상태 데이터를 온라인 서버에게로 전송하여 온라인 서버가 현재 챔버들의 상태를 인식할 수 있도록 하는 것 또한 무방하다(step 10).First, the online server periodically checks a plurality of chamber states installed in a semiconductor facility to generate a plurality of chamber state data. In addition, the semiconductor equipment also periodically transmits the state data of the chambers to the online server so that the online server can recognize the current state of the chambers (step 10).

온라인 서버는 다수개의 챔버 상태 데이터를 다시 장치사용 우선순위 결정모듈로 다운로드시키고, 장치사용 우선순위 결정모듈은 현재 다수개의 챔버 상태 데이터를 O/I 모니터로 다시 전송하여 작업자가 디스플레이된 다수개의 챔버 상태를 인식할 수 있도록 한다(step 20).The online server downloads the plurality of chamber status data back to the device usage prioritization module, and the device usage prioritization module sends the current chamber status data back to the O / I monitor so that the operator displays the displayed chamber status. (Step 20).

이후, 작업자는 O/I 모니터에 디스플레이된 챔버 상태 데이터를 분석하여 어떤 반도체 설비 및 챔버가 최적의 공정을 수행할 것인가를 결정한다(step 30).The operator then analyzes the chamber state data displayed on the O / I monitor to determine which semiconductor facility and chamber will perform the optimal process (step 30).

여기서 도 4는 O/I 모니터에 디스플레이된 챔버 상태 데이터를 도시한 도면이다.4 is a diagram illustrating chamber state data displayed on an O / I monitor.

첨부된 도면을 참조하면 반도체 설비 A에는 챔버Ⅰ, 챔버 Ⅱ, 챔버 Ⅲ가 설치되어 있는 것을 도시하고 있고, 반도체 설비 B에는 챔버Ⅰ, 챔버Ⅱ가 설치되어 있으며, 반도체 설비 C에는 챔버Ⅰ, 챔버Ⅱ, 챔버Ⅲ가 형성되어 있는 것을 도시하고 있다.Referring to the accompanying drawings, a chamber I, a chamber II, and a chamber III are installed in the semiconductor facility A, chamber I and chamber II are installed in the semiconductor facility B, and chamber I and chamber II are installed in the semiconductor facility C. 2 shows that chamber III is formed.

또한, 현재 O/I 모니터에 도시된 반도체 설비 A 에는 챔버Ⅰ,챔버Ⅱ가 다운 상태로 공정이 현재로는 불가능하고 챔버Ⅲ은 공정 대기상태인 것을 나타내고 있다.In addition, the semiconductor equipment A shown in the current O / I monitor shows that the chambers I and II are in the down state, and the process is not possible at present, and the chamber III is in the process standby state.

또한, 현재 O/I 모니터에 도시된 반도체 설비 B 에는 챔버Ⅰ,챔버Ⅱ 모두가 현재 공정진행중인 것을 도시하고 있다.In addition, the semiconductor equipment B shown in the O / I monitor shows that both chambers I and II are currently in process.

또한, 현재 O/I 모니터에 도시된 반도체 설비 C 에는 챔버Ⅰ, 챔버Ⅱ, 챔버Ⅲ이 모두 공정 대기 상태인 것을 도시하고 있으므로, 이 O/I 모니터를 작업자가 참조하여 공정을 수행할 반도체 설비와 챔버를 선정한다.In addition, the semiconductor equipment C shown in the current O / I monitor shows that the chambers I, II, and III are all in the process standby state. Select the chamber.

현재 O/I 모니터에 도시된 바에 의하면 당연히 작업자는 반도체 설비 및 챔버의 상태가 가장 양호한 반도체 설비 C를 선택할 것이며, 반도체 설비 C 가 부득이한 이유로 공정 수행이 불가능하다면 반도체 설비 B가 공정을 모두 종료할때까지 기다리거나, 반도체 설비 A의 다운 상태를 신속히 복구하는 일련의 과정을 거쳐야 한다.Naturally, the current O / I monitor shows that the operator will select the semiconductor equipment C with the best condition of the semiconductor equipment and chamber, and if the semiconductor equipment B finishes the process if the semiconductor equipment C cannot be performed for unavoidable reasons, Or a series of steps to quickly recover the down state of semiconductor equipment A.

이후, 반도체 공정을 수행할 반도체 설비 및 챔버가 선정되면 작업자는 해당 반도체 설비 및 챔버에 공정 준비를 수행하고, 호스트로부터 공정에 필수적인 공정 순서 및 환경, 기타 공정에 필요한 데이터들을 해당 반도체 설비로 다운로드되도록 한다(step 40).After that, when a semiconductor facility and a chamber are selected to perform a semiconductor process, an operator prepares a process in the semiconductor facility and a chamber, and downloads data necessary for the process, environment, and other processes necessary for the process from the host to the semiconductor facility. (Step 40).

이후, 호스트로부터 공정 데이터의 다운로드가 종료되면 작업자는 반도체 설비 및 챔버에 공정을 수행한다(step 50). 공정이 수행되면 온라인 서버는 다시 반도체 설비가 공정을 종료한 것을 다시 장치사용 우선순위 결정 모듈로 전송함으로써, 장치사용 우선순위 결정모듈은 연결되어 있는 O/I 모니터를 통하여 최적의 공정 환경을 갖는 반도체 설비 및 챔버를 디스플레이 해준다.Thereafter, when the downloading of the process data from the host is completed, the worker performs the process in the semiconductor facility and the chamber (step 50). When the process is performed, the on-line server transmits the completion of the process to the device use prioritization module again, so that the device use prioritization module has a semiconductor having an optimal process environment through the connected O / I monitor. Displays the fixtures and chambers.

이상에서 상세하게 설명한 바와 같이, 반도체 설비와 온라인되어 있는 온라인 서버가 반도체 설비에 설치되어 있는 멀티 챔버의 챔버 상태를 장치사용 우선순위 결정 모듈에 전송하고, 장치사용 우선 순위 모듈로부터 현재 챔버 상태 데이터를 디스플레이부로 전송하여 작업자가 현재 다수개의 반도체 설비와 다수개의 챔버 상태를 한눈에 알아볼수 있도록 하여 공정을 어떤 챔버에서 수행할 것인지, 현재 어떤 챔버가 다운, 아이들 상황인지를 알 수 있음으로 효율적인 멀티 챔버의 관리가 가능해지는 효과가 있다.As described in detail above, the semiconductor device and the online server online transmit the chamber state of the multi-chamber installed in the semiconductor device to the device use priority determining module, and transmit the current chamber state data from the device use priority module. It can be sent to the display unit so that the operator can see at a glance the status of multiple semiconductor equipment and multiple chambers at a glance so that the process can be performed in which chamber and which chamber is currently down or idle. It is effective to manage.

Claims (4)

반도체 설비에 다수개가 설치되어 있는 챔버의 상태를 주기적으로 확인하는 단계와;Periodically checking a state of a chamber in which a plurality of semiconductor facilities are installed; 확인된 상기 챔버의 상태 데이터를 전송받아 챔버 상태를 디스플레이하는 단계와;Receiving the state data of the chamber and displaying the chamber state; 상기 디스플레이된 상기 챔버의 상태를 참조하여 상기 챔버를 선택하는 단계와;Selecting the chamber with reference to the displayed state of the chamber; 상기 선택된 챔버에 의하여 공정을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법.And processing the process by the selected chamber. 제 1 항에 있어서, 상기 챔버 상태 확인 단계에서는 챔버의 다운, 아이들, 런 상태를 확인하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법.The method of claim 1, wherein the checking of the chamber state includes checking down, idle, and run states of the chamber. 제 1 항에 있어서, 상기 챔버 상태를 확인하는 단계 이후에는 챔버 상태 데이터를 장치사용 우선순위 결정 모듈로 다운로드하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법.2. The method of claim 1, including downloading chamber state data to a device usage prioritization module after the step of identifying the chamber state. 제 4 항에 있어서, 상기 챔버 상태를 디스플레이 하는 단계는 상기 장치사용 우선순위 결정 모듈이 상기 챔버의 상태 데이터를 O/I 컴퓨터의 모니터로 전송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 챔버를 갖는 반도체 설비 관리 방법.5. The semiconductor of claim 4, wherein displaying the chamber status comprises transmitting, by the device usage prioritization module, status data of the chamber to a monitor of an O / I computer. How to manage your equipment.
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KR100456395B1 (en) * 2002-04-01 2004-11-10 삼성전자주식회사 Method for monitoring process data of multi chamber equipment
KR100629256B1 (en) * 1999-11-25 2006-09-29 삼성전자주식회사 System for fabricating semiconductor device

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