KR19990034467A - Method of forming fluorescent layer in plasma display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 PDP의 형광층을 형성하는 개선된 방법을 개시한다.The present invention discloses an improved method of forming a fluorescent layer of a PDP.

반사형 PDP에서 격벽간에 형광층을 형성하는 경우에는 격벽 상면에 형광체 슬러리가 잔류하여 이상발광을 일으키는 문제가 있는 바, 본 발명에서는 형광층에 대해 선택적 분해성을 가지는 차폐층을 격벽 상부에 형성하여 형광층을 형성한 뒤 차폐층을 분해시킴으로써 형광층을 깨끗하게 커팅하여 종래 문제점을 해결함과 동시에 형광층 형성의 생산성을 향상시켰다.In the case of forming a fluorescent layer between the partition walls in the reflective PDP, there is a problem that the phosphor slurry remains on the upper surface of the partition wall, thereby causing abnormal light emission. After forming the layer, the shielding layer was decomposed to cleanly cut the fluorescent layer to solve the conventional problems and at the same time improve the productivity of the fluorescent layer formation.

Description

플라즈마 표시소자의 형광층 형성방법Method of forming fluorescent layer in plasma display device

본 발명은 플라즈마 표시소자(PDP: Plasma Display Panel)의 제조에 관한 것으로, 특히 특히 반사형 PDP의 형광층을 형성하는 방법을 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the manufacture of plasma display panels (PDPs), and more particularly to a method of forming a fluorescent layer of a reflective PDP.

기체방전현상을 화상표시에 이용하는 PDP는 형광층의 구비에 의해 칼라화상을 구현할 수 있는데, 형광층의 배열과 이에 따른 방전광의 투과방식에 따라 PDP는 투과형과 방사형으로 대별된다.PDPs using gas discharge phenomena for image display can realize a color image by providing a fluorescent layer. PDPs are classified into transmission type and radial type according to the arrangement of the fluorescent layer and the transmission method of discharge light.

먼저 도1에는 투과형 PDP를 도시하고 있는 바, 그 사이에 방전기체가 충전되는 두 기판(P1, P2)에는 전극(E1, E2)이 교차대향 배열되고 격벽(B)에 의해 화소를 구획하고 있으며, 도시된 PDP는 교류형으로 부호 D와 T는 유전층과 그 보호층을 나타낸다.First, a transmissive PDP is shown in FIG. 1, in which two electrodes P1 and P2 filled with a discharge gas intersect electrodes E1 and E2, and pixels are partitioned by a partition B. The illustrated PDP is of alternating current type, with symbols D and T representing the dielectric layer and its protective layer.

이러한 구성에 있어서 형광층(F)은 전면기판(P1)에 형성되어, 격벽(B)간의 방전공간에서 발생된 방전광이 그대로 형광층(F)을 투과하므로 고휘도, 고재현성은 칼라화상을 구현할 수 있게 된다.In this configuration, the fluorescent layer F is formed on the front substrate P1, so that the discharge light generated in the discharge space between the partition walls B passes through the fluorescent layer F as it is, so that high luminance and high reproducibility can be achieved. It becomes possible.

그러나 이러한 투과형 PDP는 형광층(F)이 얇고 균일한 칼라필터 형태로 구성되어야 전면적으로 균일한 휘도를 구현할 수 있어서 실제 제조가 매우 어려우며, 이에 따라 실용되는 PDP는 대개 도 2와 같은 반사형으로 구성되고 있다.However, such a transmissive PDP has a thin and uniform color filter in the form of a fluorescent layer, so that it is possible to realize a uniform brightness over the entire surface, and thus it is very difficult to manufacture. Therefore, a practical PDP is generally composed of a reflective type as shown in FIG. It is becoming.

도 2에서 형광층(F)은 배면기판(P2)측에 형성되는데, 방전은 일단 배면기판(P2)측으로 투사된 형광층(F)을 여기시켜 그 빛이 전면기판(P1)측으로 반사로 투사되므로 그 기본적인 발광휘도는 도 1의 투과형보다 낮다.In FIG. 2, the fluorescent layer F is formed on the back substrate P2 side, and the discharge excites the fluorescent layer F projected to the back substrate P2 side and the light is reflected by the front substrate P1 side by reflection. Therefore, the basic luminance is lower than that of the transmission type of FIG.

더구나 유전층(D)은 형광층(F)으로 덮이지 않은 전극, 즉 전면기판(P1)측의 전극(E1)상에 적층되어야 하므로 유전층(D)이 방전광의 투과 경로를 가릴 뿐아니라 제조과정에서 백탁화(白濁化)되기 쉬운 ITO등으로 된 보호층(T) 역시 광투과를 저해한다.In addition, since the dielectric layer D must be stacked on the electrode not covered with the fluorescent layer F, that is, the electrode E1 on the front substrate P1 side, the dielectric layer D not only covers the transmission path of the discharge light, but also during the manufacturing process. A protective layer (T) made of ITO or the like which is susceptible to clouding also inhibits light transmission.

이에 따라 반사형 PDP로 발광휘도를 제대로 구현하기 위해서는 반사율이 높은 반사층이 필요할 뿐아니라, 형광층(F)의 표면적을 크게 해야 하므로 도시된 바와 같이 U형 단면의 형광층(F)을 형성하는 등의 수단이 사용되나, 인쇄방법에 의해 U형 단면의 형광층(F)을 형성하는 것은 공정상 용이한 일이 아니다.Accordingly, in order to properly implement the light emission luminance with the reflective PDP, not only a reflective layer having a high reflectance is required but also the surface area of the fluorescent layer F must be increased, thereby forming a fluorescent layer F having a U-shaped cross section as shown. Although the means of is used, it is not easy for the process to form the fluorescent layer F of the U-shaped cross section by the printing method.

이러한 U형 단면의 형광층(F)을 효율적으로 형성하기 위해 본원인은 도 3과 같은 방법을 제안한 바 있다.In order to efficiently form the fluorescent layer F having such a U-shaped cross section, the present inventor has proposed a method as illustrated in FIG. 3.

즉 소정 점도의 형광체 슬러리(phosphor slurry)의 액적(液滴; F')을 인쇄방법에 의해 격벽(B)의 상측에 점적(點適)시켜 이 액적(F')이 자중(自重)에 의해 격벽(B)을 타고 내려가며 격벽(B) 사이에 충전되어 형광층(F)을 형성하게 하는 것이다.That is, droplets (F ') of phosphor slurry having a predetermined viscosity are dropped on the upper side of the partition wall B by a printing method, and the droplets F' are caused by their own weight. It is filled down between the partitions (B) while riding down the partitions (B) to form the fluorescent layer (F).

이러한 방법은 형광체 슬러리의 점도의 조절과 건조속도의 설정에 따라 U형 단면의 형광층(F)을 효율적으로 형성할 수있음이 실제 생산과정에서 실증되었으나, 격벽(B) 상면에 형광체 슬러리가 잔류하여 이상발광등의 간섭현상이 잘 발생되는 문제가 나타났다.This method has been demonstrated in the actual production process that the phosphor layer (F) of the U-shaped cross section can be efficiently formed according to the control of the viscosity of the phosphor slurry and the setting of the drying rate, but the phosphor slurry remains on the upper surface of the partition (B). As a result, problems such as abnormal luminescence interference are easily generated.

이러한 문제는 이 방법만이 아니라 침전법이나 다른 적층인쇄방법등을 사용하더라도 형광층(F)을 격벽(B)상에서 인쇄하는 한 발생될 수밖에 없는 문제인 바, 형광층(F)은 소성(燒成)등에 의해 층을 유지하는 것이 아니라 반데르발스력등 약한 분자력에 의해 층을 유지하므로 세척이나 연마등의 방법을 사용할 수 없어 종래 격벽(B) 상면에 형광체 슬러리가 잔류하지 않도록 인쇄에 주의를 기울이고 심한 경우 폐기하는 외에는 다른 대안이 없었다.Such a problem is inevitably caused as long as the fluorescent layer F is printed on the partition B even if the precipitation method or other multilayer printing method is used, and the fluorescent layer F is fired. Since the layer is not held by weak molecular force such as van der Waals force, it is not possible to use the method of cleaning or polishing, so it is necessary to pay attention to printing so that phosphor slurry does not remain on the upper surface of bulkhead (B). In severe cases, there was no alternative but to discard.

이와 같은 종래의 문제점을 감안하여 본 발명의 목적은 격벽의 상면에 형광체 슬러리가 잔류하지 않도록 형광층을 형성할 수 있는 방법을 제공하는 것이다.In view of such a conventional problem, an object of the present invention is to provide a method for forming a fluorescent layer so that a phosphor slurry does not remain on an upper surface of a partition wall.

도 1은 투과형 PDP의 구성을 보이는 단면도,1 is a cross-sectional view showing the configuration of a transmissive PDP;

도 2는 반사형 PDP의 구성을 보이는 단면도,2 is a cross-sectional view showing the configuration of a reflective PDP;

도 3은 본원에 대한 U형 단면의 형광층을 형성하는 방법을 보이는 단면도,Figure 3 is a cross-sectional view showing a method of forming a fluorescent layer of the U-shaped cross section for the present application,

도 4(A) 내지 (D)는 본 발명 방법을 설명하는 순차적 단면도들,4 (A)-(D) are sequential cross-sectional views illustrating the method of the present invention,

도 5 및 도 6은 각각 도 4(A)의 차페층을 형성하는 바람직한 방법들을 보이는 단면도들이다.5 and 6 are cross-sectional views showing preferred methods of forming the shielding layer of FIG. 4 (A), respectively.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

P1, P2: 전면 및 배면기판 B: 격벽P1, P2: front and back substrates B: bulkhead

F: 형광층 F': 형광체 슬러리(slurry)F: fluorescent layer F ': phosphor slurry

1: 차폐층 1': 감광층1: shielding layer 1 ': photosensitive layer

상술한 목적의 달성을 위해 본 발명은 격벽의 상부에 형광층과 선택적으로 분해될 수 있는 재질로 차폐층을 형성하고, 이 차폐층상에서 형광체 슬러리를 도포하여 형광층을 형성한 뒤, 차폐층을 분해시키는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention forms a shielding layer of a material that can be selectively decomposed with the fluorescent layer on the partition wall, by applying a phosphor slurry on the shielding layer to form a fluorescent layer, the shielding layer It is characterized by decomposing.

본 발명의 한 특징에 의하면 이 선택적 분해성은 열분해성으로 차폐층은 형광층의 건조시의 가열에 의해 열분해될 수 있는 합성수지 계열로 형성될 수 있다.According to one feature of the present invention, this selective degradability is thermally decomposable and the shielding layer may be formed of a synthetic resin series which can be thermally decomposed by heating at the time of drying the fluorescent layer.

그러면 격벽 상부에 형광체 슬러리가 전혀 잔류하지 않게 되므로 이상발광등 화소간의 간섭현상이 근본적으로 방지될 수 있다.Then, since no phosphor slurry remains at the top of the partition wall, interference between pixels such as abnormal light emitting diodes can be fundamentally prevented.

[실시예]EXAMPLE

이와 같은 본 발명은 구체적 특징와 이점들은 첨부된 도면을 참조한 이하의 바람직한 실시예들의 설명으로 더욱 명확해질 것이다.Such specific features and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of the preferred embodiments with reference to the accompanying drawings.

도 4(A)에서 격벽(B)의 상부에는 본 발명 특징에 따라 형광층(F)과 선택적 분해성을 가지는 차폐층(1)이 형성된다. 바람직하기로 차폐층(1)은 격벽(B)의 상면뿐아니라 그 상부 양측의 일부를 피복하도록 대략 ㄷ 자형의 단면으로 형성되는 데, 이러한 단면은 도 5 및 6을 통해 후술하는 사진식각법(photo lithography)에 의해 용이하게 형성될 수 있다.In FIG. 4A, a shielding layer 1 having a selective degradability with the fluorescent layer F is formed on the partition B in accordance with the present invention. Preferably, the shielding layer 1 is formed in a substantially c-shaped cross section so as to cover not only the upper surface of the partition wall B but also a part of both upper sides thereof, and the cross section is a photolithography method described below with reference to FIGS. It can be easily formed by photo lithography.

여기서 차폐층(1)의 선택적 분해성은 열분해성인 것이 바람직한 바, 그러면 별도의 분해 공정이 필요없이 도 4(C)의 형광층(F)의 건조공정에서 차폐층(1)을 분해시킬 수 있게 된다. 이를 위해 차폐층(1)은 200℃ 이하의 저온에서 분해될 수 있도록 합성수지계열, 예를들어 PVA등으로 조성되고 저온분해가 보장되도록 경화제등의 첨가제의 함량을 조절하는 것이 바람직하다.Here, the selective decomposability of the shielding layer 1 is preferably thermally decomposable, so that the shielding layer 1 can be decomposed in the drying process of the fluorescent layer F of FIG. 4C without the need for a separate decomposition process. . To this end, the shielding layer 1 is preferably composed of a synthetic resin series, for example, PVA, so as to be decomposed at a low temperature of 200 ° C. or less, and it is preferable to adjust the content of an additive such as a curing agent to ensure low temperature decomposition.

도 4(A)에서 차폐층(1)이 형성되면 도 4(B)에서 차폐층(1)상에 형광층(F)을 형성한다. 형광층(F)의 형성은 전술한 점적 인쇄법뿐아니라 침전인쇄법이나 적층인쇄법을 사용할 수 있는데, 격벽(B) 상면의 형광체 슬러리의 잔류가 문제되지 않으므로 이들 인쇄방법의 소요 정도(精度)가 크게 낮아져 매우 용이한 인쇄가 가능할 것이다. 또한 본 발명에 의하면 정도는 낮으나 더욱 신속한 분사도포방법도 형광층(F) 형성에 사용할 수 있게 된다.When the shielding layer 1 is formed in FIG. 4A, the fluorescent layer F is formed on the shielding layer 1 in FIG. 4B. The phosphor layer F may be formed using not only the above-described drip printing method but also a precipitation printing method or a lamination printing method. Since the residual of the phosphor slurry on the upper surface of the partition B is not a problem, the degree of accuracy of these printing methods is required. Will be significantly lowered to allow for very easy printing. In addition, according to the present invention, a lower but more rapid spray coating method can be used to form the fluorescent layer (F).

도 3(B)에서 형광층(F)의 형성이 완료되면 도 3(C)에서 이를 건조시키게 되는데, 이것은 일반적으로 150~250℃의 온도가 되도록 적외선 히이터등으로 복사열을 인가하는 방법으로 이루어진다.When the formation of the fluorescent layer (F) in FIG. 3 (B) is completed, it is dried in FIG. 3 (C), which is generally made by a method of applying radiant heat to an infrared heater so as to have a temperature of 150 to 250 ° C.

이때 열분해성 차폐층(1)이 분해되어 가스로 배출되며 그 상부에 부착되었던 잔류형광체 슬러리도 함께 제거된다. 제거된 형광체 슬러리는 분진상태가 되므로 건조위치의 적절한 외기순환으로 형광층(F)에 다시 안착되지 않도록 제거될 수 있다.At this time, the thermally decomposable shielding layer 1 is decomposed and discharged as a gas, and the residual phosphor slurry attached to the upper portion is also removed. Since the removed phosphor slurry is in a dusty state, it may be removed so as not to be settled again in the fluorescent layer (F) by an appropriate air circulation in a dry position.

그러면 도 4(D)에 도시된 바와 같이 격벽(B)의 상면과 그 양측 상부는 나면(裸面)이 되어 형광층(F)이 깨끗이 커팅(cutting)되고, 이에 따라 잔류 형광체의 이상발광 현상이 근본적으로 방지될 수 있다.Then, as shown in FIG. 4D, the upper surface of the partition B and the upper portions of both sides of the partition B become the back surface, thereby cutting the fluorescent layer F cleanly, thereby causing abnormal light emission of the residual phosphor. This can be fundamentally prevented.

도 5 및 도 6에는 이와 같은 차폐층(1) 형성에 바람직한 방법들을 도시하고 있는 바, 이들은 모두 기본적으로 사진식각법이므로 차폐층(1)은 전술한 수지성분뿐아니라 감광물질을 포함하게 된다.5 and 6 show the preferred methods for forming such a shielding layer 1, all of which are basically photolithography, so that the shielding layer 1 includes a photosensitive material as well as the aforementioned resin component.

먼저 도 5에 도시된 방벙은 네가티브(negative)형 감광물질을 사용하는 방법, 즉 노광된 부분이 제거되도록 하는 방법인 바, (A1)과 같이 배면기판(P2)과 격벽(B) 전면에 걸쳐 분사도포방법등으로 감광물질이 포함된 수지층, 즉 감광층(1')을 형성한다.First, the method illustrated in FIG. 5 is a method of using a negative photosensitive material, that is, a method of removing the exposed part, and covers the entire surface of the back substrate P2 and the partition B as shown in (A1). A resin layer containing a photosensitive material, that is, a photosensitive layer 1 'is formed by a spray coating method or the like.

다음 (A2)와 같이 배면기판(P2)의 배면으로부터 노광하면 격벽(B) 자체가 마스크 역할을 하여 감광층(1')을 선별적으로 노광시키게 된다. 이때 차폐층(1)의 형성범위는 노광광원의 이동에 의한 화가률노광등의 방법으로 조정할 수 있어서 세척수의 분사등에 의한 현상을 완료하면 격벽(B) 상부에 ㄷ 자형의 차폐층(1)을 형성하게 된다.As shown in (A2), when the light is exposed from the rear surface of the back substrate P2, the partition wall B serves as a mask to selectively expose the photosensitive layer 1 '. At this time, the forming range of the shielding layer 1 can be adjusted by a method such as an elongation rate exposure due to the movement of the exposure light source. When the development by the spraying of washing water is completed, the c-shaped shielding layer 1 is formed on the partition B. To form.

다음 도 6의 방법은 일반적으로 마스크 노광방식인바, 포지티브(positive)형 감광물질을 사용하는 경우에는 도시된 바와 같이 격벽(B) 상부에 마스크(M)의 개구부(O)를 형성하고, 네가티브형 감광물질을 사용하는 경우에는 그 반대로 빗금친 부분에 개구부를 형성하는 차이외에는 일반적인 마스크노광방법과 대동소이하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.Next, the method of FIG. 6 is a mask exposure method. In the case of using a positive photosensitive material, an opening O of the mask M is formed on the partition B as shown in FIG. In the case of using the photosensitive material, on the contrary, a detailed description thereof will be omitted since it is almost the same as a general mask exposure method except for forming an opening in the hatched portion.

이상과 같이 본 발명에 의하면 격벽(B) 상부에 형광체가 전혀 잔류하지 않게 되므로 이상발광에 의한 화소간의 간섭이 전혀 발생되지 않으며, 이에 따라 인쇄방법의 요구 정도가 낮아질 뿐아니라 종래 사용이 불가능하던 분사도포 방법의 적용도 가능해져 형광층 형성의 생산성도 크게 향상될 수 있다.According to the present invention as described above, since no phosphor remains at the top of the partition B, no interference between pixels due to abnormal light emission is generated, and thus, the required degree of the printing method is lowered, and the conventional spraying is impossible. Application of the coating method also becomes possible, and the productivity of the fluorescent layer formation can be greatly improved.

Claims (5)

플라즈마 표시소자의 격벽 사이의 기판에 형광층을 형성하는 방법에 있어서,In the method for forming a fluorescent layer on the substrate between the partition walls of the plasma display device, 상기 격벽의 상부에 상기 형광층과 선택적으로 분해될 수 있는 재질로 차폐층을 형성하고,Forming a shielding layer on a material on the partition wall to be selectively decomposed with the fluorescent layer, 이 차폐층상에서 형광체 슬러리를 도포하여 형광층을 형성한 뒤,After applying a phosphor slurry on this shielding layer to form a phosphor layer, 상기 차폐층을 분해시키는 것을Decomposing the shielding layer 특징으로 하는 플라즈마 표시소자의 형광층 형성방법.A method of forming a fluorescent layer of a plasma display device. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 차폐층의 선택적 분해성이 열분해성인 것을Selective degradability of the shielding layer is thermally decomposable 특징으로 하는 플라즈마 표시소자의 형광층 형성방법.A method of forming a fluorescent layer of a plasma display device. 제1항 또는 제2항중의 어느 한 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 차폐층이 상기 형광체 슬러리의 건조과정에서 열분해되는 것을The shielding layer is thermally decomposed during the drying of the phosphor slurry 특징으로 하는 플라즈마 표시소자의 형광층 형성방법.A method of forming a fluorescent layer of a plasma display device. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 차폐층이 상기 격벽의 상면과 상부 양측을 덮는 ㄷ 자형 단면으로 구성되는 것을The shielding layer is composed of a c-shaped cross section covering both the upper surface and the upper side of the partition wall 특징으로 하는 플라즈마 표시소자의 형광층 형성방법.A method of forming a fluorescent layer of a plasma display device. 제1항 내지 제4항중의 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 차폐층이 상기 격벽상에 감광층을 도포하여 사진식각함으로써 형성되는 것을The shielding layer is formed by applying a photosensitive layer on the partition wall by photolithography 특징으로 하는 플라즈마 표시소자의 형광층 형성방법.A method of forming a fluorescent layer of a plasma display device.
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