KR19990027069A

KR19990027069A - 모아레현상 감소를 위한 음극선관용 플랫마스크

Info

Publication number: KR19990027069A
Application number: KR1019970049441A
Authority: KR
Inventors: 이제복
Original assignee: 김영남; 오리온전기 주식회사
Priority date: 1997-09-27
Filing date: 1997-09-27
Publication date: 1999-04-15

Abstract

본 발명은 음극선관의 새도우마스크 제조용 플랫 마스크를 제공한다.

그 플랫 마스크는, 중앙의 애퍼처는 진원으로 하고 수평축(H)상의 애퍼처는 중앙에서 멀리 떨어질수록 수직축(V) 방향으로 수평폭(HW)을 점차 길게 하고, 수직축(V)상의 애퍼처들은 중앙에서 멀리 떨어질수록 수직축(V)방향으로 수직폭(VW)을 점차 길게 하며, 대각선축(D)상의 애퍼처들은 중앙에서 멀리 떨어질수록 그 대각선축(D)에 수직인 방향으로 대각선 폭(DW2)을 점차 길게 하여 형성되는 것을 특징으로 한다.

이에 따라, 성형성에 의한 애퍼처의 형상의 변화를 고려하여 모아레현상을 거의 대부분 감소시킬 수 있으며, 이에 따라 화질을 개선시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

모아레현상 감소를 위한 음극선관용 플랫 마스크

본 발명은 모아레현상 감소를 위한 음극선관용 플랫 마스크에 관한 것으로, 특히 성형성에 의한 애퍼처의 형상의 변화를 고려함을써 모아레현상을 감소시킬 수 있는 음극선관용 플랫 마스크에 관한 것이다.

일반적으로 음극선관은, 도1에 도시된 바와 같이, 판넬(panel)(12), 펀넬(funnel)(13) 및 네크(14)로 구분되는 진공 벌브(bulb)와, 그 네크(14) 내부에 장착되는 전자총(11)과, 판넬(12)의 측벽에 장착되는 새도우마스크(16)를 구비한다.

그 판넬(12)의 면판(18)의 내면에는 형광면(20)이 형성되어 있어, 전자총(11)으로부터 방출된 전자빔(19a)(19b)은 각종 렌즈계에 의해 집속되고 가속되며, 양극보턴(15)을 통해 인가되는 고전압에 의해 크게 가속되면서 편향요크(17)에 의해 편향되고 새도우마스크(16)의 애퍼처 또는 슬리트(16a)를 통과하여 형광면(20)에 주사된다.

도2에는 종래의 모아레현상 감소를 위한 수직피치의 변화예가 플랫 마스크의 애퍼처의 패턴도로서 도시되며, 도3에는 종래의 모아레현상 감소를 위한 애퍼처의 형상의 변화예가 플랫 마스크의 애퍼처의 패턴도로서 도시된다.

모아레현상은 형광체(R, G, B)의 도트피치, 주사선의 입사주기 등에 따른 형광체의 발광강도 변화의 폭과 그 피치 등을 원인으로 발생하게 된다.

이를 해결하기 위해 도트의 수직피치의 변화, 도트 형상의 변화, 주사선의 피치 변화 등이 시도되고 있다.

도2에서 애퍼처의 수직피치의 변화의 예가 도시된다. 도2에서 플랫 마스크(16')는 유효화면부분(26)과 무효화면부분(28)으로 구분되며, 그 유효화면부분(26)에 에칭에 의해 다수의 애퍼처가 형성되는데, 그 애퍼처들은 중앙의 애퍼처로부터 외곡으로 갈수록 애퍼처의 수직피치(PV)가 커짐으로써 모아레현상을 감소시킨 것이다.

도3에는 애퍼처 형상의 변화를 통해 모아레현상을 감소시킨 구조가 도시된다. 도3에서 애퍼처간의 수직피치(PV)는 고정시키고 애퍼처의 수직길이(VW)를 증가시킴으로써 모아레현상을 감소시키고 있다.

상술한 바와 같이 모아레현상이 발생한 때에 수차례 도트 형상을 변화시키거나 도트의 수직피치를 변화시켜 모아레현상을 제거하고자 하나, 포커싱 빔의 팬턴과의 미스매칭(MIS-MATCHING)으로 인한 한계 때문에 완전하게 제거하는 것은 어렵다.

또한, 플랫 마스크(16')상에 소정의 패턴으로 다수의 애퍼처들을 에칭에 의해 형성하더라도 프레스 가공중에 그 형상 내지 피치들이 신율에 따라 변화하게 되어 쉽게 원하는 패턴으로 형성하기가 어렵다.

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 랜딩되는 빔형상과 플랫 마스크의 성형성을 고려하여 모아레현상을 최소화할 수 있는 음극선관의 새도우마스크 제조용 플랫 마스크를 제공하는 데에 그 목적이 있다.

도1은 칼라음극선관의 부분단면한 개략평면도,

도2는 종래의 모아레현상 감소를 위한 수직피치의 변화예를 도시한 플랫 마스크의 애퍼처의 패턴도,

도3은 종래의 모아레현상 감소를 위한 애퍼처의 변화예를 도시한 플랫 마스크의 애퍼처의 패턴도,

도4는 싱글 스태틱 포커스(single static focus)에 의한 전자빔의 일반적인 패턴도,

도5는 본 발명에 따른 모아레현상 감소를 위한 애퍼처의 변화예를 도시한 플랫 마스크의 애퍼처의 패턴도.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

10 : 음극선관(CRT) 11 : 전자총

12 : 판넬(panel) 13 : 펀넬(funnel)

14 : 네크(neck) 15 : 양극 보턴

16 : 새도우마스크 16' : 플랫 마스크

18 : 판넬면판 19a,19b : 전자빔

20 : 형광면(스크린) 26 : 유효화면부분

28 : 무효화면부분 H : 수평축

V : 수직축 D : 대각선축

PV : 수직피치 VW : 애퍼처의 수직폭

HW : 애퍼처의 수평폭 DW1 : 애퍼처의 대각선 길이

DW2 : 애퍼처의 대각선 폭

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 음극선관의 새도우마스크 제조용 플랫 마스크는, 형광면에 3색의 도트형상의 형광체에 충돌하여 화소를 형성하도록 전자총으로부터 방출된 인라인형 3색 전자빔이 통과하는 다수의 애퍼처를 지니는 유효화면부분과, 그 유효화면부분의 외곽에 전자빔이 통과하지 아니하는 무효화면부분으로 형성되고, 프레스 성형에 의해 소정의 형상의 곡면부와 스커트부로 된 새도우 마스크로 성형되는 음극선관용 플랫 마스크에 있어서, 중앙의 애퍼처는 진원으로 하고 수평축상의 애퍼처는 중앙에서 멀리 떨어질수록 수직축 방향으로 수평폭을 점차 길게 하고, 수직축상의 애퍼처들은 중앙에서 멀리 떨어질수록 수직축 방향으로 수직폭을 점차 길게 하며, 대각선축상의 애퍼처들은 중앙에서 멀리 떨어질수록 그 대각선축에 수직인 방향으로 대각선 폭을 점차 길게 하여 형성되는 것을 특징으로 한다.

상기 대각선축상의 애퍼처들은 중앙에서 멀리 떨어질수록 그 대각선축 방향으로 대각선 폭이 감소하며, 그 대각선축상의 애퍼처들의 대각선 길이와 대각선 폭은 그 플랫 마스크의 신율 특성에 따라 변화될 수 있다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면, 다음과 같다.

먼저 도4에는 싱글 스태틱 포커스(single static focus)에 의한 전자빔의 일반적인 패턴도가 도시되며, 모아레현상이 일어나는 부분이 함께 도시된다. 도4에서 중앙의 전자빔은 수직축(V)방향으로 길게 형성되고 수직축(V)상의 외곽선 부근에서는 진원에 가까우며, 수평축(H) 상의 외곽선 부근에서는 수평축(H) 방향으로 길게 형성되고, 대각선축(D)상의 외곽선 부근의 전자빔은 그 대각선축(D)에 직각인 방향으로 길게 나타난다.

이와 같이 나타나는 전자빔의 패턴에 있어서 모아레현상은 점선으로 도시된 바와 같이 중앙으로부터 멀어질수록 일정거리의 원주상에 강하게 나타난다.

따라서, 도5에 도시되는 본 발명에 따른 모아레현상 감소를 위한 애퍼처는 중앙에서 진원으로 되고, 수평축(H)상에서는 애퍼처가 중앙에서 멀리 떨어질수록 수직축(V) 방향으로 애퍼처의 수평폭(HW)이 도5에 도시된 바와 같이 점차 길게 된다.

또한, 수직축(V)상의 애퍼처는 중앙에서 멀리 떨어질수록 수직축(V)방향으로 수직폭(VW)이 점차 길게 된다.

이와 같이 함으로써 도2 및 도3에 도시된 구성과는 다르지만, 종래의 기술에서와 같은 작용으로 본 발명에 의해서도 원주방향으로 갈수록 심화되는 모아레현상이 제거될 수 있게 된다.

또한, 본 발명에 따라서는 대각선축(D)상의 애퍼처도 중앙에서 멀리 떨어질수록 그 대각선축(D)에 수직인 방향으로 대각선 폭(DW2)이 점차 길게 하여 형성되며, 나아가 플랫 마스크(16')의 재질에 따라서는 그 연신율이 큰 경우, 상기 대각선축(D)상의 애퍼처들은 중앙에서 멀리 떨어질수록 그 대각선축(D) 방향으로 대각선 폭(DW2)이 감소되는 것이 바람직하다.

그러한 대각선축(D)상의 애퍼처들의 대각선 길이(DW1)와 대각선 폭(DW2)의 변화의 정도는 그 플랫 마스크(16')의 신율 특성에 따라 결정될 수 있다.

이와 같이 대각선축(D)상의 애퍼처도 그 대각선 길이(DW1)와 대각선폭(DW2)을 변화시킴으로써 프레스 성형시 화살포(DD,DD)방향으로의 신율에 따른 애퍼처 형상의 변화를 보상할 수 있게 되고, 대각선축(D)상에서 소망하는 진원의 애퍼처를 얻을 수 있어 전자빔의 포커싱 형상과 일치하게 되고 모아레현상을 감소시킬 수 있게 된다.

이상에서 본 발명의 특정한 실시예를 설명하였으나, 새도우마스크의 재질, 주사선의 피치 등에 따라서 여러가지 변형과 응용이 가능할 것이다.

이상에서 설명한 본 발명의 실시예들에 따른 음극선관의 새도우마스크 제조용 플랫 마스크의 구성과 작용에 의하면, 플랫 마스크(16')에 있어 수직축(V)과 대각선축(D)으로는 각각 그 방향으로 애퍼처의 길이를 길게 변화시키고 수평축(H) 방향으로는 그 축에 직각인 방향으로 애퍼처의 길이를 길게 변화시킴으로써 성형성에 의한 애퍼처의 형상의 변화를 고려하여 모아레현상을 거의 대부분 감소시킬 수 있으며, 이에 따라 화질을 개선시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims

형광면(20)에 3색의 도트형상의 형광체(R, G, B)에 충돌하여 화소를 형성하도록 전자총으로부터 방출된 인라인형 3색 전자빔(19a,19b)이 통과하는 다수의 애퍼처(16a)를 지니는 유효화면부분(26)와, 그 유효화면부분(26)의 외곽에 전자빔이 통과하지 아니하는 무효화면부분(28)으로 형성되고, 프레스 성형에 의해 소정의 형상의 곡면부와 스커트부로 된 새도우 마스크(16)로 성형되는 음극선관용 플랫 마스크에 있어서, 중앙의 애퍼처는 진원으로 하고 수평축(H)상의 애퍼처는 중앙에서 멀리 떨어질수록 수직축(V) 방향으로 수평폭(HW)을 점차 길게 하고, 수직축(V)상의 애퍼처들은 중앙에서 멀리 떨어질수록 수직축(V) 방향으로 수직폭(VW)을 점차 길게 하며, 대각선축(D)상의 애퍼처들은 중앙에서 멀리 떨어질수록 그 대각선축(D)에 수직인 방향으로 대각선 폭(DW2)을 점차 길게 하여 형성되는 것을 특징으로 하는 음극선관의 새도우마스크 제조용 플랫 마스크.
제1항에 있어서, 상기 대각선축(D)상의 애퍼처들은 중앙에서 멀리 떨어질수록 그 대각선축(D) 방향으로 대각선 폭(DW2)이 감소하며, 그 대각선축(D)상의 애퍼처들의 대각선 길이(DW1)와 대각선 폭(DW2)의 변화의 정도는 그 플랫 마스크(16')의 신율 특성에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 음극선관의 새도우마스크 제조용 플랫 마스크.