KR19990027067A

KR19990027067A - Flat Mask for Cathode Ray Tube with Half Etching Slit

Info

Publication number: KR19990027067A
Application number: KR1019970049439A
Authority: KR
Inventors: 이제복
Original assignee: 김영남; 오리온전기 주식회사
Priority date: 1997-09-27
Filing date: 1997-09-27
Publication date: 1999-04-15

Abstract

본 발명은 하프 에칭 슬리트를 무효화면부분에 지니는 음극선관용 플랫 마스크를 제공한다.The present invention provides a flat mask for a cathode ray tube having a half etched slit on an invalid screen portion.

그 플랫 마스크는, 형광면(20)에 3색의 도트 내지 스트라이프형 형광체에 충돌하여 화소를 형성하도록 전자총으로부터 방출된 인라인형 3색 전자빔이 통과하는 다수의 애퍼처 내지 슬리트(16a)를 지니는 유효화면부분(46)와, 그 유효화면부분(46)의 외곽에 전자빔이 통과하지 아니하는 무효화면부분(48)이 형성되고, 프레스 성형에 의해 소정의 형상의 새도우 마스크(16)로 성형되는 음극선관용 플랫 마스크에 있어서, 장축과 단축을 지니는 하프 에칭 슬리트(48')가 무효화면부분(48)에 형성된 것을 특징으로 한다.The flat mask is effective to have a plurality of apertures or slits 16a through which an inline type three-color electron beam emitted from an electron gun passes to form a pixel by colliding three fluorescent dots or stripe-shaped phosphors on the fluorescent surface 20. A cathode ray formed on the screen portion 46 and an invalid screen portion 48 through which the electron beam does not pass outside the effective screen portion 46 and formed into a shadow mask 16 having a predetermined shape by press molding. In the conventional flat mask, the half etching slits 48 'having a long axis and a short axis are formed in the ineffective screen portion 48.

이에 따라, 프레스성형시 스커트부분의 주름 내지 변형을 최소화하고, 유효화면부분(26)내의 응력변화를 가급적 최소화시켜 변형을 최소화 내지는 균일화함으로써 음극선관의 화면품질을 향상시킨 것이다.Accordingly, the screen quality of the cathode ray tube is improved by minimizing wrinkles or deformation of the skirt portion during press molding and minimizing or uniformizing the deformation by minimizing the stress change in the effective screen portion 26 as much as possible.

Description

Flat Mask for Cathode Ray Tube with Half Etching Slit

본 발명은 성형성을 향상시킨 음극선관의 새도우마스크 제조용 플랫 마스크에 관한 것으로, 특히 스커트부분의 성형성을 향상시킨 음극선관의 새도우마스크 제조용 플랫 마스크에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat mask for manufacturing a shadow mask of a cathode ray tube with improved moldability, and more particularly to a flat mask for manufacturing a shadow mask of a cathode ray tube with improved formability of a skirt portion.

일반적으로 음극선관은, 도1에 도시된 바와 같이, 판넬(panel)(12), 펀넬(funnel)(13) 및 네크(14)로 구분되는 진공 벌브(bulb)와, 그 네크(14) 내부에 장착되는 전자총(11)과, 판넬(12)의 측벽에 장착되는 새도우마스크(16)를 구비한다.Generally, a cathode ray tube, as shown in FIG. 1, has a vacuum bulb divided into a panel 12, a funnel 13, and a neck 14, and inside the neck 14. And an shadow gun 16 mounted on the sidewall of the panel 12.

그 판넬(12)의 면판(18)의 내면에는 형광면(20)이 형성되어 있어, 전자총(11)으로부터 방출된 전자빔(19a)(19b)은 각종 렌즈계에 의해 집속되고 가속되며, 양극보턴(15)을 통해 인가되는 고전압에 의해 크게 가속되면서 편향요크(17)에 의해 편향되고 새도우마스크(16)의 애퍼처 또는 슬리트(16a)를 통과하여 형광면(20)에 주사된다.A fluorescent surface 20 is formed on the inner surface of the face plate 18 of the panel 12, and the electron beams 19a and 19b emitted from the electron gun 11 are focused and accelerated by various lens systems, and the anode button 15 It is greatly accelerated by the high voltage applied through the deflection yoke (17) and deflected by the deflection yoke (17) and passed through the apertures or slits (16a) of the shadow mask (16) to the fluorescent surface (20).

상술한 새도우마스크(16)는 도2에 도시된 바와 같이 인바(invar)강, 림드(rimmed)강 또는 킬드(killed)강의 압연강판으로 형성되는 것으로, 전자총으로부터 방출된 전자빔이 통과할 수 있도록 다수의 전자빔 통과공인 다수의 애퍼처 또는 슬리트(16a)가 형성된 유효화면부분(26)와, 그 유효화면부분(26)의 외곽에 전자빔통과공이 통과하지 아니하는 무효화면부분(28)으로 구성되고, 그 플랫 마스크(16')를 프레스 성형함으로써 새도우마스크(16)로 형성되게 되며, 도시가 생략된 프레임 및 홀더와 조립됨으로써 판넬(12)의 스터드 핀에 탈착가능하게 장착되게 된다. 이때, 도2에서 그 무효 화면부분(28)에는 하프에칭 도트(28')가 그 플랫 마스크(16')의 전주를 따라 형성됨으로써 새도우마스크(16)로 성형될 때, 그 성형성, 즉 플랫 마스크(16')의 스트래칭(stretching)의 정도를 조절할 수 있게 되어 스커트부분에 주름 발생을 방지하고 코너부분에서의 성형성을 크게 향상시킬 수 있게 되고, 나아가, 성형후의 잔류응력에 의한 새도우마스크(16) 및 도트 내지 슬리트의 변형을 방지할 수 있게 된다.The shadow mask 16 described above is formed of a rolled steel sheet of Invar steel, rimmed steel, or killed steel, as shown in FIG. 2, and allows a plurality of electron beams emitted from the electron gun to pass therethrough. An effective screen portion 26 having a plurality of apertures or slits 16a formed therein, and an invalid screen portion 28 through which the electron beam passing holes do not pass through the effective screen portion 26; By pressing the flat mask 16 ', the flat mask 16' is formed into a shadow mask 16, and is assembled to a stud pin of the panel 12 by being assembled with a frame and a holder (not shown). At this time, when the half-etching dot 28 'is formed along the circumference of the flat mask 16' on the invalid screen portion 28 in FIG. 2, the formability, that is, the flatness, is flat. The degree of stretching of the mask 16 'can be controlled to prevent wrinkles in the skirt portion and greatly improve the formability at the corner portions. Furthermore, the shadow mask due to residual stress after molding ( 16) and the deformation of the dots to slits can be prevented.

그러나, 상술한 하프에칭 도트(28')에 의해서는 하프에칭 도트(28')가 없는 것과 비교할 때, 20 내지 30%정도가 개선될 뿐, 여전히 스커트부분 뿐만 아니라, 유효화면부분(26)에 주름 내지는 국부적인 변형이 발생하고 도트 내지 슬리트의 변형이 상당 부분 존재하게 된다.However, the half-etching dot 28 'described above improves about 20 to 30% as compared to the absence of the half-etching dot 28', and still not only the skirt portion but also the effective screen portion 26. Wrinkles or local strains occur and there is a significant amount of strains in dots or slits.

본 발명은 상술한 문제점을 제거하기 위한 것으로, 무효화면부분에의 하프에칭의 형상을 변화시켜 프레스 성형시 스커트부의 주름이나 유효화면 부분의 국부적인 변형 내지 도트 또는 슬리트의 변형을 최소화시킬 수 있는 하프 에칭 슬리트를 무효화면부분에 지니는 음극선관용 플랫 마스크를 제공하는 데에 그 목적이 있다.The present invention is to eliminate the above-described problems, it is possible to minimize the wrinkles of the skirt portion or the local deformation of the effective screen portion to the deformation of the dot or slits during press molding by changing the shape of the half etching on the invalid screen portion An object of the present invention is to provide a flat mask for a cathode ray tube having a half etched slit on an invalid screen portion.

도1은 칼라음극선관의 부분단면한 개략평면도,1 is a schematic plan view in partial cross section of a color cathode ray tube;

도2는 종래의 하프 에칭 도트를 무효화면부분에 지니는 음극선관용 플랫 마스크의 평면도,2 is a plan view of a flat mask for a cathode ray tube having a conventional half etching dot on an invalid screen portion;

도3은 본 발명에 따른 하프 에칭 슬리트를 무효화면부분에 지니는 음극선관용 플랫 마스크의 평면도.3 is a plan view of a flat mask for a cathode ray tube having a half etching slits according to the present invention in an invalid screen portion;

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings

10 : 음극선관(CRT) 11 : 전자총10 cathode ray tube (CRT) 11 electron gun

12 : 판넬(panel) 13 : 펀넬(funnel)12: panel 13: funnel

14 : 네크(neck) 15 : 양극 보턴14 neck 15 anode button

16 : 새도우마스크 16' : 플랫 마스크16: shadow mask 16 ': flat mask

18 : 판넬면판 19a, 19b : 전자빔18: panel face plate 19a, 19b: electron beam

20 : 형광면(스크린) 26, 46 : 유효화면부분20: fluorescent screen (screen) 26, 46: effective screen portion

28, 48 : 무효화면부분 28' : 하프에칭 도트28, 48: Invalid screen part 28 ': Half etching dot

48' : 하프에칭 슬리트48 ': Half Etching Slit

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 하프 에칭 슬리트를 무효화면부분에 지니는 음극선관용 플랫 마스크는, 형광면에 3색의 도트 내지 스트라이프형 형광체에 충돌하여 화소를 형성하도록 전자총으로부터 방출된 인라인형 3색 전자빔이 통과하는 다수의 애퍼처 내지 슬리트를 지니는 유효화면부분과, 그 유효화면부분의 외곽에 전자빔이 통과하지 아니하는 무효화면부분이 형성되고, 프레스 성형에 의해 소정의 형상의 새도우 마스크로 성형되는 음극선관용 플랫 마스크에 있어서, 장축과 단축을 지니는 하프 에칭 슬리트가 무효화면부분에 형성된 것을 특징으로 한다.A flat mask for a cathode ray tube having a half-etched slitting according to the present invention to an invalid screen portion for achieving the above object is an inline type 3 emitted from an electron gun so as to collide with three-color dots or stripe-type phosphors on a fluorescent surface to form pixels. An effective screen portion having a plurality of apertures or slits through which the color electron beam passes, and an invalid screen portion through which the electron beam does not pass are formed on the periphery of the effective screen portion, and formed into a shadow mask having a predetermined shape by press molding. A flat mask for a cathode ray tube to be formed, wherein the half etching slits having a long axis and a short axis are formed in an invalid screen portion.

상기 하프 에칭 슬리트가 그 장축이 상기 유효화면부의 경계선과 평행하게 형성되도록 배열될 수도 있으며, 보다 정밀하게 프레스성형후의 새도우마스크의 유효화면부의 애퍼처 내지 슬리트 및 스커트부의 변형방향과 그 정도에 따라 그 애퍼처 내지 슬리트 및 그 스커트부의 인접부분의 하프에칭 슬리트의 배열방향과 폭 내지 형상이 결정될 수도 있다.The half etching slits may be arranged such that their major axes are formed parallel to the boundary lines of the effective screen portion, and more precisely in the deformation direction and the extent of the apertures, slits and skirt portions of the effective screen portion of the shadow mask after press molding more precisely. Accordingly, the arrangement direction and the width or the shape of the aperture to the slits and the half-etching slits of the adjacent portions of the skirt portion may be determined.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면, 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도3에는 본 발명에 따른 하프 에칭 슬리트를 무효화면부분에 지니는 음극선관용 플랫 마스크의 평면도가 도시된다.Fig. 3 is a plan view of a flat mask for a cathode ray tube having a half etching slits according to the present invention in an invalid screen portion.

도1 및 도3에서 프레스 성형에 의해 소정의 형상의 새도우 마스크(16)로 성형되는 음극선관용 플랫 마스크(36')는 유효화면부분(46)와 무효화면부분(48)가 형성되고, 그 무효화면부분(48)에는 장축과 단축을 지니는 하프 에칭 슬리트(48')가 다수 형성된다.1 and 3, the cathode mask tube flat mask 36 'formed into a shadow mask 16 having a predetermined shape by press molding has an effective screen portion 46 and an invalid screen portion 48 formed thereon. In the screen portion 48, a plurality of half etching slits 48 'having a long axis and a short axis are formed.

상기 유효화면부분(46)는 도2에 도시된 종래의 기술에서와 같이 전자총으로부터 방출된 인라인형 3색 전자빔이 통과하는 애퍼처 내지 슬리트(16a)가 다수 형성되어 형광면(20)에 3색의 도트 내지 스트라이프형 형광체에 충돌하여 소정의 색의 형광 화소를 형성하게 된다.In the effective screen portion 46, as in the conventional art shown in FIG. It collides with the dot-stripe fluorescent substance of and forms the fluorescent pixel of a predetermined | prescribed color.

상기 무효화면부분(48)는 그 유효화면부분(46)의 외곽에 형성되고 전자빔이 통과하지 아니하여 화소를 형성하지 아니하게 된다.The invalid screen portion 48 is formed outside the effective screen portion 46 and does not pass through the electron beam to form a pixel.

그 무효화면부분(48)에 형성되는 상기 하프 에칭 슬리트(48')는 그 형상과 배열방향을 일정하게 할 수 있다. 일예를 들면, 그 하프 에칭 슬리트(48')의 장축이 상기 유효화면부분(46)의 경계선과 평행하게 형성되도록 배열될 수 있으며, 형상은 플랫 마스크(36')에 형성되는 슬리트와 동일한 형상으로 할 수도 있으며, 또는 장축을 도트의 직경의 2배로 할 수도 있다.The half etching slits 48 'formed on the invalid screen portion 48 can have a constant shape and arrangement direction. For example, the long axis of the half etching slits 48 'may be arranged so as to be formed parallel to the boundary line of the effective screen portion 46, and the shape is the same as that of the slits formed on the flat mask 36'. You may make it a shape, or you may make a long axis twice the diameter of a dot.

또한, 보다 유효하게 변형이나 주름을 제거하기 위해서는 시행착오에 의해 프레스 성형 후의 새도우마스크의 유효화면부분(26)의 애퍼처 내지 슬리트(16a)의 변형방향과 그 정도에 따라 그 인접부분의 하프 에칭 슬리트(48')의 배열방향과 형상을 결정하는 것이다.Further, in order to more effectively remove the deformation and wrinkles, the half of the adjacent part of the effective screen portion 26 of the effective mask portion 26 of the shadow mask after the press-molding by the trial and error, and the degree of deformation of the slits 16a according to the extent thereof. The arrangement direction and shape of the etching slits 48 'are determined.

상술한 하프 에칭 슬리트(48')는 플랫 마스크(36')의 형성시 형성된다. 즉, 스트립형상의 플랫 마스크(36')의 소재를 본 발명의 하프 에칭 슬리트(48') 부분을 포함하여 종래의 식각 방법에 의해 제조되며, 그 뒤, 도3에 도시된 바와 같은 외곽으로 프레스에서 블랭킹되고, 도1에 도시된 형상의 새도우마스크(16)로 프레스 성형되게 된다.The half etched slits 48 'described above are formed upon formation of the flat mask 36'. That is, the material of the strip-shaped flat mask 36 'is manufactured by a conventional etching method including the half-etched slitting 48' portion of the present invention, and then outwardly as shown in FIG. It is blanked in a press and press molded into a shadow mask 16 of the shape shown in FIG.

이와 같이 한 결과, 다른 조건은 동일하게 하고 도2에서의 도트 대신 단순히 슬리트를 형성시키는 것만으로도 그 도트 형상의 하프에칭에 비해 40% 이상 스커트부의 주름이나 변형 및 유효화면부분(46)의 애퍼처 내지 슬리트(16a)의 변형이 감소되었다.As a result of this, other conditions remain the same, and simply forming slits instead of dots in FIG. Deformation of the aperture to the slits 16a was reduced.

이와 같은 현상은 프레스 성형시 그 유효화면부분(46)의 경계선에 대해 대체로 거의 직각으로만 연신되고 그 경계선에 평행한 방향으로는 거의 신율이 작용하지 아니하기 때문에 일어나는 것으로, 도트형상보다 슬리트형상의 하프에칭이 그러한 신율을 흡수하기에 더 적합한 형상이라고 할 수 있다.This phenomenon occurs when the press molding is stretched almost at right angles to the boundary line of the effective screen portion 46, and the elongation is hardly applied in the direction parallel to the boundary line. Half-etching is a more suitable shape to absorb such elongation.

한편, 상술한 하프에칭은 새도우마스크의 전자빔통과공을 가공하기 위한 에칭공정에서 동시에 실시될 수 있으므로, 별도의 공정이 소요되는 것은 아니다.Meanwhile, the above half etching may be simultaneously performed in an etching process for processing the electron beam through hole of the shadow mask, so that a separate process is not required.

이상에서 본 발명의 특정한 실시예를 설명하였으나, 새도우마스크의 형상, 슬리트나 애퍼쳐(aperture)의 구조, 프레스성형조건 등에 따라서 여러가지 변형과 응용이 가능할 것이다.While specific embodiments of the present invention have been described above, various modifications and applications will be possible depending on the shape of the shadow mask, the structure of the slits or apertures, the press molding conditions, and the like.

이상에서 설명한 본 발명의 실시예들에 따른 하프 에칭 슬리트를 무효화면부분에 지니는 음극선관용 플랫 마스크의 구성과 작용에 의하면, 도트형상 대신에 슬리트 형상으로 무효화면부분(48)의 하프에칭을 변경하는 것만으로도 40%이상의 스커트부분이나 유효화면부분(46)의 변형을 감소시킬 수 있으며, 나아가 새도우마스크의 형상 등에 따른 최적 형상의 하프에칭 슬리트에 의해 더욱 변형이 감소될 수 있으며, 이에 따라 전자빔의 랜딩의 정확도를 향상시켜 화질을 개선시킬 수 있는 효과가 있다.According to the structure and function of the flat mask for cathode ray tube having the half etching slits according to the embodiments of the present invention described above in the invalid screen portion, the half etching of the invalid screen portion 48 is performed in the slit shape instead of the dot shape. It is possible to reduce the deformation of the skirt portion or the effective screen portion 46 by more than 40%, and furthermore, the deformation can be further reduced by the half-etching slit of the optimal shape according to the shape of the shadow mask. Accordingly, the image quality may be improved by improving the accuracy of the landing of the electron beam.

Claims

An effective screen portion 46 having a plurality of apertures or slits 16a through which inline type three-color electron beams emitted from an electron gun pass to form a pixel by colliding three fluorescent dots or stripe-shaped phosphors on the fluorescent surface 20. In the flat mask for cathode ray tube, an invalid screen portion 48 in which the electron beam does not pass is formed outside the effective screen portion 46, and formed into a shadow mask 16 having a predetermined shape by press molding. And a flat etching mask for a cathode ray tube having a half etching slitting 48 'having a long axis and a short axis formed in the invalid screen portion 48.

2. The cathode ray according to claim 1, wherein the half etching slits 48 'are arranged such that their major axis is formed parallel to the boundary of the effective screen portion 46. Tolerance flat mask.

The method according to claim 1, wherein the half etching slits 48 'are formed in the deformation direction of the apertures to the slits 16a of the effective screen portion 26 of the shadow mask after press molding to the invalid screen portion 48, and the like. The flat mask for cathode ray tubes having the half-etched slits on the ineffective screen portion characterized in that the arrangement direction and width of the half-etched slits 48 'adjacent to the apertures or slits 16a are determined according to the degree. .