KR19980044356A

KR19980044356A - Multifunctional Multilayer Conductive Film

Info

Publication number: KR19980044356A
Application number: KR1019960062435A
Authority: KR
Inventors: 유종훈; 이종천
Original assignee: 손욱; 삼성전관 주식회사
Priority date: 1996-12-06
Filing date: 1996-12-06
Publication date: 1998-09-05

Abstract

본 발명은 다기능성 다층 전도막에 관한 것으로서, 기판 위에 전면적으로 제1 비전도층이 형성되어 있고, 제1 비전도층 위의 일부에 전도층이 형성되어 있으며 전도층 위의 일부에 제2 비전도층이 형성되어 있다. 각각의 비전도층과 전도층은 하나의 물질의 단일층이나 여러 물질로 이루어진 복합층으로 형성된다. 이러한 다층 전도막은 전도막의 역할 뿐만 아니라 기체 방지막, 솔벤트 방지막, 이온 방지막, 평활층의 역할도 하게 되므로 공정이 단순해지고, 이에 따라 수율도 향상된다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multifunctional multilayer conductive film, in which a first nonconductive layer is formed on a substrate, a conductive layer is formed on a portion of the first nonconductive layer, and a second vision is formed on a portion of the conductive layer. A coating layer is formed. Each nonconductive and conductive layer is formed of a single layer of a material or a composite layer of several materials. The multilayer conductive film not only serves as a conductive film but also serves as a gas barrier film, a solvent barrier film, an ion barrier film, and a smooth layer, thereby simplifying the process and thus improving the yield.

Description

Multifunctional Multilayer Conductive Film

본 발명은 다층 전도막에 관한 것으로서, 특히 다기능성 다층 전도막에 관한 것이다.The present invention relates to a multilayer conductive film, and more particularly, to a multifunctional multilayer conductive film.

일반적으로, 다기능 전도막은 기존의 단일층 전도막으로는 그 구현이 불가능하며, 비전도층과 전도층으로 구성되는 다층 전도막인 경우에만 가능하다. 이때, 각 층을 구성하는 물질의 선택은 여러 가지 특성들을 고려하여야 한다. 다층 전도막의 전도층과 비전도층은 각각 하나의 물질로 단일층으로 구성이 가능하나 여러 물질의 복합층으로 각각의 전도층이나 비전도층으로 구성될 수도 있다. 이들의 결정은 필요로 하는 광학적 특성, 전기적 특성, 선택적 식각 정도 또한 부수적 기능의 요구 정도에 따라 결정된다.In general, the multifunctional conductive film cannot be implemented with a conventional single layer conductive film, and is only possible when the multilayer conductive film is composed of a non-conductive layer and a conductive layer. At this time, the selection of the material constituting each layer should consider a variety of properties. The conductive layer and the non-conductive layer of the multilayer conductive film may be composed of a single layer of one material each, but may be composed of each conductive layer or non-conductive layer of a composite layer of several materials. Their determination depends on the optical, electrical, and selective etching required, as well as on the demand for ancillary functions.

그러면, 첨부한 도면을 참고로 하여 종래의 다층 전도막에 대하여 설명한다.Next, a conventional multilayer conductive film will be described with reference to the accompanying drawings.

도1은 종래의 기술에 따른 다층 전도막의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a multilayer conductive film according to the prior art.

기판(4) 위에 비전도층(3), 전도층(2), 비전도층(1)의 순서로 형성되어 있는 다층 전도막(1')이 형성되어 있고, 다층 전도막(1')의 가운데 부분(5)은 식각되어 있다. 종래의 액정 표시 소자에 있어서, 다층 전도막(1')은 전도막 본래의 목적으로 사용키 위해 식각시에 비전도층(3), 전도층(2), 비전도층(1)의 모든 전도막을 완전히 없애서 사용하고 있으며, 가스 방지막, 솔벤트 방지막, 이온 방지막 또는 평활층이 필요한 경우, 별도의 물질을 사용하여 추가로 별도층을 형성하여 사용하였다.The multilayer conductive film 1 'formed in the order of the nonconductive layer 3, the conductive layer 2, and the nonconductive layer 1 is formed on the board | substrate 4, and the multilayer conductive film 1' The middle part 5 is etched. In the conventional liquid crystal display device, the multilayer conductive film 1 'is used for all the conduction of the non-conductive layer 3, the conductive layer 2, and the non-conductive layer 1 at the time of etching for use as the conductive film original purpose. The membrane is completely removed and used, and when a gas barrier film, a solvent barrier film, an ion barrier film, or a smooth layer is required, an additional layer is used to form a separate layer.

그러나, 이러한 종래의 다층 전도막을 사용할 경우 앞에서 설명한 바와 같이 여러 목적의 추가 층들이 액정 표시 소자의 구성 요소가 됨으로써 소자 자체의 구조가 복잡해지고, 추가 층들의 적층 공정에 의해 공정 수가 증가할 뿐만 아니라, 각 공정 별로 양질의 추가층을 유지해야 한다. 결과적으로 각 공정별로 불량 요인이 추가로 발생하며 생산 원가가 높아진다.However, in the case of using such a conventional multilayer conductive film, as described above, the additional layers for various purposes become components of the liquid crystal display device, which complicates the structure of the device itself, and increases the number of steps by the lamination process of the additional layers. A good additional layer should be maintained for each process. As a result, additional defects are generated for each process, resulting in higher production costs.

본 발명의 과제는 이러한 문제점을 해결하는 것으로서, 다층 전도막이 전도막으로서의 역할 뿐만 아니라 부수적인 목적으로도 사용될 수 있는 구조를 구현하는데에 있다.An object of the present invention is to solve such a problem, and to realize a structure in which a multilayer conductive film can be used not only as a conductive film but also for ancillary purposes.

도1은 종래의 기술에 따른 다층 전도막 패턴의 단면도이고,1 is a cross-sectional view of a multilayer conductive film pattern according to the prior art,

도2는 본 발명의 실시예에 따른 다층 전도막 패턴의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a multilayer conductive film pattern according to an embodiment of the present invention.

이러한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 다층 전도막은 기판 위에 전면적으로 제1 비전도층이 형성되어 있고, 제1 비전도층 위의 일부에 전도층이 형성되어 있으며 전도층 위의 일부에 제2 비전도층이 형성되어 있다.In the multilayer conductive film according to the present invention for solving this problem, a first non-conductive layer is formed on the entire surface of the substrate, a conductive layer is formed on a portion of the first non-conductive layer, and a second portion is formed on the conductive layer. A nonconductive layer is formed.

각각의 비전도층과 전도층은 하나의 물질의 단일층이나 여러 물질로 이루어진 복합층으로 형성된다.Each nonconductive and conductive layer is formed of a single layer of a material or a composite layer of several materials.

이러한 다층 전도막에서는 선택적으로 식각하여 남겨진 다층 전도막의 층으로 인해 기체의 유입이 방지되며, 솔벤트나 이온 등의 통과가 저지되며 전도막의 전도층을 위한 평활도가 유지된다.In this multilayer conductive film, the inflow of gas is prevented due to the layer of the multilayer conductive film that is selectively etched away, the passage of solvent or ions is prevented, and smoothness for the conductive layer of the conductive film is maintained.

그러면, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 따른 다층 전도막에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세하게 설명한다.Next, the multilayer conductive film according to the embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that a person skilled in the art can easily carry out the present invention.

도2는 본 발명에 따른 다층 전도막 구조를 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a multilayer conductive film structure according to the present invention.

도2에 도시한 바와 같이, 기판(4) 위에 제1 비전도층(3), 전도층(2), 제2 비전도층(1)의 순서로 적층되어 있는 다층 전도막(1')이 형성되어 있다. 다층 전도막(1')의 전도층(2) 및 제2 비전도층(1)의 일부분(5)만 선택적으로 식각되어 있고 제1 비전도층(3)은 식각되지 않고 남겨져 있다. 각각의 층(1, 2, 3)은 단일층이거나 복합층으로 구성이 가능하다.As shown in Fig. 2, the multilayered conductive film 1 'laminated on the substrate 4 in the order of the first nonconductive layer 3, the conductive layer 2, and the second nonconductive layer 1 is formed. Formed. Only the conductive layer 2 and the portion 5 of the second nonconductive layer 1 of the multilayer conductive film 1 'are selectively etched and the first nonconductive layer 3 is left unetched. Each layer 1, 2, 3 may be a single layer or a composite layer.

즉, 전도층(2)은 은(Ag)이나 금(Au)의 단일층 또는 복합된 다층 구조로 형성 가능하고, 비전도층(1, 3)이나 부수적인 전도층으로는 산화 주석(SnOx),산화 탈륨(TiOx) 혹은 ITO가 독립된 층 혹은 복합적으로 구성된 다층으로 형성되어 있다. 이러한 구조나 물질의 다층 전도막은 저항이 20Ω/□ 이하로 유지가 가능하며, 투과율은 80% 이상 유지가 가능하다. 다시 말하면, 제2 비전도층(1)과 전도층(2)의 일부만 식각되어 있는 이러한 구조에서는 전도층(2)은 원래 목적대로 전기-광학적인 특성을 가지는 전도막의 역할을 하며, 남아 있는 제1 비전도층(3)은 전극과 전극을 분리시키는 역할을 할 수 있다.That is, the conductive layer 2 may be formed of a single layer or a composite multilayer structure of silver (Ag) or gold (Au), and tin oxide (SnOx) as the non-conductive layers 1 and 3 or an additional conductive layer. Thallium oxide (TiOx) or ITO is formed as an independent layer or a multilayered composite. The multilayer conductive film of such a structure or material can maintain a resistance of 20 Ω / □ or less and transmittance of 80% or more. In other words, in such a structure in which only a part of the second nonconductive layer 1 and the conductive layer 2 are etched, the conductive layer 2 serves as a conductive film having electro-optical properties as originally intended, and the remaining agent The first nonconductive layer 3 may serve to separate the electrode from the electrode.

또한, 이 구조에서 제1 비전도층(3)은 전극 부분과 비 전극 부분 모두에 걸쳐 남아 있기 때문에 부수적인 기능도 할 수가 있다. 부수적인 역할로는, 외부로부터 액정 쪽으로의 기체의 유입을 방지시켜 주며, 반대로 액정쪽에서 기판 쪽으로의 솔벤트나 이온의 이동을 막으면서 또한 전도층의 평활성을 유지시켜 주는 평활층의 역할도 해준다. 이러한 부수적인 기능들은 액정 표시 장치의 종류에 따라 다르기는 하지만 실제로 필요로 하는 기능들로서 특히 플라스틱(plastic) 액정 표시 장치의 경우 절실히 요구되는 기능들이다.In addition, in this structure, since the first nonconductive layer 3 remains over both the electrode portion and the non-electrode portion, it can also function as a secondary function. As a side role, it prevents the inflow of gas from the outside to the liquid crystal and, conversely, serves as a smoothing layer that prevents the movement of solvent or ions from the liquid crystal side toward the substrate and also maintains the smoothness of the conductive layer. These subsidiary functions vary depending on the type of liquid crystal display, but are actually required functions, especially those required for plastic liquid crystal displays.

이상에서와 같이, 전도막을 다층으로 형성하고 전도막 구성층 중 일부만 선택적으로 식각함으로써, 전도막의 역할 뿐만 아니라 가스 방지막, 솔벤트 방지막, 이온 방지막 그리고 평활층 등의 부수적인 기능들도 할 수 있도록 한다. 이처럼, 전도막 자체의 다기능성에 의해, 부수적인 기능을 위한 막들의 적층 공정이 불필요하게 되므로 공정 수가 줄어들며 액정 표시 소자의 구조가 간단해진다. 이에 따라 불량율이 감소하고 생산 원가가 절감되는 효과가 있다.As described above, by forming the conductive film in multiple layers and selectively etching only a part of the conductive film constituent layers, not only the role of the conductive film but also additional functions such as a gas barrier film, a solvent barrier film, an ion barrier film, and a smooth layer may be provided. As described above, the multi-functionality of the conductive film itself eliminates the process of stacking the films for the secondary function, thereby reducing the number of steps and simplifying the structure of the liquid crystal display element. Accordingly, the defective rate is reduced and the production cost is reduced.

Claims

Board,

A first nonconductive layer formed entirely on the substrate,

A conductive layer formed on a portion of the first non-conductive layer,

A second nonconductive layer formed on a portion of the conductive layer

Multilayer conductive film comprising a.

The multilayer conductive film of claim 1, wherein the first non-conductive layer is formed of a single layer of one material or a composite layer of several materials.

The multilayer conductive film of claim 1, wherein the second nonconductive layer is formed of a single layer or a composite layer.

The multilayer conductive film according to claim 2 or 3, wherein the first nonconductive layer or the second nonconductive layer is formed of tin oxide or thallium oxide.

The multilayer conductive film of claim 1, wherein the conductive layer is formed of a single layer or a composite layer.

The multilayer conductive film of claim 5, wherein the conductive layer is formed of silver or gold.