KR19980037921A - Sensing Amplifier Circuit of Nonvolatile Semiconductor Memory Device - Google Patents

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KR19980037921A
KR19980037921A KR1019960056744A KR19960056744A KR19980037921A KR 19980037921 A KR19980037921 A KR 19980037921A KR 1019960056744 A KR1019960056744 A KR 1019960056744A KR 19960056744 A KR19960056744 A KR 19960056744A KR 19980037921 A KR19980037921 A KR 19980037921A
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이동기
염진선
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 불휘발성 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 더 구체적으로는 프로그램 검증 동작시 효과적인 센싱 마진을 확보하기 위한 불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로에 관한 것으로써, 본 발명은 데이터를 저장하기 위한 셀 어레이에 전기적으로 연결된 제 1 비트라인쌍과; 상기 제 1 비트라인쌍에 각각 대응되는 제 2 비트라인쌍과; 외부로부터 인가되는 제 1 및 제 2 신호들에 응답하여 상기 제 1 비트라인쌍을 미리 예정된 레벨로 프리챠지하기 위한 제 1 프리챠지 및 등화수단과; 외부로부터 인가되는 제 3 및 제 4 신호들에 응답하여, 상기 제 1 비트라인쌍과 상기 제 2 비트라인쌍을 전기적으로 절연시키는 분리수단과; 상기 제 1 비트라인쌍에 각각 챠지된 소정레벨의 전압차를 감지하고 이를 증폭하여 상기 제 2 비트라인쌍으로 전달하기 위한 제 1 감지증폭수단과; 상기 제 1 감지증폭수단을 통해 상기 제 2 비트라인쌍으로 전달된 소정레벨의 전압차를 감지하고 이를 증폭하는 제 2 감지증폭수단과; 외부로부터 인가되는 제 5 신호 및 제 6 신호에 응답하여 상기 제 2 비트라인쌍을 미리 예정된 레벨로 프리챠지하고 이를 등화하기 위한 제 2 프리챠지 및 등화수단과; 외부로부터 인가되는 제 7 신호에 응답하여, 프로그램 검증동작시 상기 제 1 및 제 2 비트라인쌍을 충분히 접지전압으로 디스챠지시키기 위한 디스챠지수단으로 이루어졌다.The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly, to a sensing amplifier circuit of a nonvolatile semiconductor memory device for securing an effective sensing margin during a program verifying operation. The present invention relates to a cell for storing data. A first pair of bitlines electrically connected to the array; A second bit line pair respectively corresponding to the first bit line pair; First precharge and equalization means for precharging the first pair of bit lines to a predetermined level in response to first and second signals applied from the outside; Separating means for electrically insulating said first bit line pair and said second bit line pair in response to third and fourth signals applied from the outside; First sensing amplification means for sensing a voltage difference of a predetermined level charged in the first bit line pair, amplifying the voltage difference, and transferring the amplified signal to the second bit line pair; Second sense amplifying means for detecting and amplifying a voltage difference of a predetermined level transferred to the second bit line pair through the first sense amplifying means; Second precharge and equalization means for precharging and equalizing the second bit line pair to a predetermined level in response to a fifth signal and a sixth signal applied from the outside; In response to the seventh signal applied from the outside, discharge means for discharging the first and second bit line pairs sufficiently to the ground voltage during the program verify operation.

Description

불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로.(a circuit of sensing and amplifing of non volatile semiconductor memory device)(A circuit of sensing and amplifing of non volatile semiconductor memory device)

본 발명은 불휘발성 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 더 구체적으로는 프로그램 검증 동작시 효과적인 센싱 마진을 확보하기 위한 불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로에관한 것이다.The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly, to a sensing amplifier circuit of a nonvolatile semiconductor memory device for securing an effective sensing margin during a program verifying operation.

도 1에는 종래기술에 따른 불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로의 구성을 보여주는 블록도가 도시되어 있다.1 is a block diagram illustrating a configuration of a sense amplifier circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to the prior art.

도 1에 도시된 종래 기술에 따른 불휘발성 반도체 메모리 장치는 셀 어레이(10), 제 1 프리챠지 및 등화부(30), 분리부(40), 제 1 감지증폭부(50), 제 2 감지증폭부(60), 그리고 프리챠지 및 등화부(70)로 구성되어 있다. 상기 셀 어레이(10)는 데이터를 저장하기 위한 영역이며, 상기 셀 어레이(10)에는 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)이 전기적으로 연결되어 있다. 상기 셀 어레이(10) 내의 비트라인과 증폭단의 비트라인을 분리시키기 위한 절연수단(20)이 연결되어 있다. 상기 제 1 프리챠지 및 등화부(30)는 상기 셀 어레이(10)에 저장된 데이터를 센싱하기 전에 상기 제 1 및 제 2 서브비트라인(SBL, SBLB)을 소정 전압레벨로 프리챠지하고 이를 등화하기 위한 것이다. 상기 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)을 소정 전압레벨로 프리챠지하기 위해 제 1 프리챠지 신호(PiSBLPBe)에 응답하여 인에이블되는 프리챠지용 PMOS 트랜지스터(M5)와 제 2 프리챠지 신호(PiSBLPBo)에 응답하여 인에이블되는 프리챠지용 PMOS 트랜지스터(M6)로 이루어졌다. 그리고, 소정 레벨로 프리챠지된 상기 제 1 비트라인쌍(SBL, SBLB)을 등화하기 위해 외부로부터 인가되는 등화 신호(PiSBLEQ)에 응답하여 인에이블되는 PMOS 트랜지스터(M17)로 이루어졌다.The nonvolatile semiconductor memory device according to the related art shown in FIG. 1 includes a cell array 10, a first precharge and equalizer 30, a separator 40, a first sense amplifier 50, and a second sense. It consists of an amplification part 60 and the precharge and equalization part 70. The cell array 10 is an area for storing data, and first and second sub bit lines SBL and SBLB are electrically connected to the cell array 10. Insulation means 20 for separating the bit line in the cell array 10 and the bit line of the amplifier stage are connected. The first precharge and equalizer 30 precharges and equalizes the first and second sub-bit lines SBL and SBLB to a predetermined voltage level before sensing data stored in the cell array 10. It is for. A precharge PMOS transistor M5 and a second precharge enabled in response to a first precharge signal PiSBLPBe to precharge the first and second sub-bit lines SBL and SBLB to a predetermined voltage level. A precharge PMOS transistor M6 is enabled in response to the charge signal PiSBLPBo. The PMOS transistor M17 is enabled in response to an equalization signal PiSBLEQ applied from the outside to equalize the first bit line pairs SBL and SBLB precharged to a predetermined level.

그리고, 상기 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)과 각각 대응되는 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)이 상기 분리수단(40)을 통해 전기적으로 절연되어 있다. 상기 분리수단(40)은 외부로부터 인가되는 제 1 및 제 2 분리신호들(PiISOe, PiISOo)에 응답하여 상기 서브 및 래치비트라인들(SBL, SBLB, LBL, LBLB)을 분리절연시키며, NMOS 트랜지스터들(M8, M9)로 이루어졌다. 상기 NMOS 트랜지스터(M8)는 상기 제 1 분리신호(PiISOe)가 인가되는 신호라인(7)에 게이트가 연결되며 상기 제 1 서브비트라인 SBL과 상기 제 1 래치비트라인 LBL 사이에 채널이 연결되어 있다. 상기 NMOS 트랜지스터(M8)는 상기 제 2 분리신호(PiISOo)가 인가되는 신호라인(8)에 게이트가 연결되며 상기 제 2 서브비트라인 SBL과 상기 제 2 래치비트라인 LBLB 사이에 채널이 연결되어 있다.The first and second latch bit lines LBL and LBLB corresponding to the first and second sub bit lines SBL and SBLB are respectively electrically insulated through the separating means 40. The separating means 40 isolates and insulates the sub and latch bit lines SBL, SBLB, LBL, and LBLB in response to the first and second separation signals PiISOe and PiISOo applied from the outside, and an NMOS transistor. (M8, M9). The NMOS transistor M8 has a gate connected to a signal line 7 to which the first isolation signal PiISOe is applied, and a channel is connected between the first sub bit line SBL and the first latch bit line LBL. . The NMOS transistor M8 has a gate connected to a signal line 8 to which the second isolation signal PiISOo is applied, and a channel is connected between the second sub bit line SBL and the second latch bit line LBLB. .

상기 제 1 감지증폭수단(50)은 상기 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)에 각각 챠지된 전압레벨의 차를 직접감지하고 이를 증폭하여 상기 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)로 전달한다. 그리고, 상기 제 1 감지증폭수단(50)은 외부로부터 인가되는 센스 인에이블 신호(PiSAE)와 센스앰프 전압(VSA)에 응답하여 동작하며, NMOS 트랜지스터들(M10 - M13)로 이루어졌다. 상기 NMOS 트랜지스터들(M10, M11)은 상기 제 1 래치비트라인 LBL과 상기 센스앰프 전압(VSA)이 인가되는 신호라인(10) 사이에 각 채널이 직렬연결되며, 상기 제 1 서브비트라인 SBL과 상기 센스 인에이블 신호(PiSAE)가 인가되는 신호라인(9)에 각각 게이트가 연결되어 있다. 상기 NMOS 트랜지스터들(M12, M13)은 상기 제 2 비트라인 LBL과 상기 센스앰프 전압(VSA)이 인가되는 신호라인(10) 사이에 각 채널이 직렬연결되며, 상기 제 2 서브비트라인 SBLB과 상기 센스 인에이블 신호(PiSAE)가 인가되는 신호라인(9)에 각각 게이트가 연결되어 있다.The first sense amplifier 50 directly senses the difference between the voltage levels charged in the first and second sub-bit lines SBL and SBLB, respectively, and amplifies the first and second latch bit lines. Pass in (LBL, LBLB). The first sense amplifier 50 operates in response to a sense enable signal PiSAE and a sense amplifier voltage VSA applied from the outside, and includes NMOS transistors M10 through M13. The NMOS transistors M10 and M11 are connected in series between the first latch bit line LBL and the signal line 10 to which the sense amplifier voltage VSA is applied, and the first sub bit line SBL is connected in series. Gates are connected to signal lines 9 to which the sense enable signal PiSAE is applied. Each of the NMOS transistors M12 and M13 is connected in series between the second bit line LBL and the signal line 10 to which the sense amplifier voltage VSA is applied, and the second sub bit line SBLB and the second sub bit line SBLB are connected in series. Gates are respectively connected to the signal lines 9 to which the sense enable signal PiSAE is applied.

그리고, 상기 제 2 감지증폭수단(60)은 상기 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)로 각각 전달된 전압레벨의 차를 감지하고 이를 증폭하는 역할을 하며, 래치된 NMOS 트랜지스터들(M14, M15)과 PMOS 트랜지스터들(M16, M17)로 이루어졌다. 상기 제 2 프리챠지 및 등화수단(70)은 상기 셀 어레이(10)에 저장된 데이터를 센싱하기 전에 상기 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)을 소정 전압레벨로 프리챠지하고 이를 등화하기 위한 것이다. 상기 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)을 소정 전압레벨로 프리챠지하기 위해 제 1 등화신호(PiSAEQB)에 응답하여 인에이블되는 PMOS 트랜지스터들(M18, M19)과, 프리챠지된 상기 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)을 등화하기 위해 제 2 등화신호(PiSAEQ)에 응답하여 인에이블되는 NMOS 트랜지스터(M20)로 이루어졌다.The second sense amplifier 60 detects and amplifies a difference between voltage levels transmitted to the first and second latch bit lines LBL and LBLB, respectively, and latches the NMOS transistors. (M14, M15) and PMOS transistors (M16, M17). The second precharge and equalization means 70 precharges and equalizes the first and second latch bit lines LBL and LBLB to a predetermined voltage level before sensing data stored in the cell array 10. It is to. PMOS transistors M18 and M19 that are enabled in response to a first equalization signal PiSAEQB to precharge the first and second latch bit lines LBL and LBLB to a predetermined voltage level. An NMOS transistor M20 is enabled in response to the second equalization signal PiSAEQ to equalize the second pair of bit lines LBL and LBLB.

도 2에는 종래기술에 따른 동작 타이밍도가 도시되어 있고, 도 3에는 종래기술에 따른 프로그램 검증시 제 1 감지증폭수단의 트랜지스터들의 디벨러프 상태를 보여주는 도면이 도시되어 있다. 도 1 내지 도 3을 참조하면서, 종래기술에 따른 프로그램 검증 동작을 설명하면 다음과 같다.FIG. 2 is a timing diagram of an operation according to the prior art, and FIG. 3 is a diagram illustrating a development state of transistors of the first sensing amplification unit during program verification according to the prior art. Referring to Figures 1 to 3, the program verification operation according to the prior art will be described.

일반적으로, 불휘발성 반도체 메모리 장치에 있어서 프로그램이란 셀의 문턱전압을 포지티브(positive) 상태로 만드는 과정을 말한다. 반대로, 소거란 셀의 문턱전압을 네거티브(negative) 상태로 만드는 과정을 말한다. 통상적으로, 프로그램 검증이란 프로그램된 셀의 게이트 단자에 '0'볼트를 인가하여 셀의 채널을 통해 흐르는 전류의 양에 의해 프로그램 유무를 판정하는 것을 말한다. 종래의 프로그램 검증 동작을 설명하면 다음과 같다.In general, in a nonvolatile semiconductor memory device, a program refers to a process of making a threshold voltage of a cell positive. In contrast, erasing refers to a process of making a threshold voltage of a cell negative. In general, program verification refers to determining whether a program is performed by applying a '0' volt to a gate terminal of a programmed cell and determining the amount of current through the channel of the cell. The conventional program verification operation is described as follows.

먼저, 프로그램 검증이 시작됨을 알리는 신호(PIPGMVFB)가 인이에블되면 셀 어레이단의 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)과 감지증폭단의 제 1 및 제 2 래치비트라인(LBL, LBLB)을 미리 예정된 레벨로 프리챠지하게 된다. 이때, 셀 어레이(10) 쪽의 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)은 외부로부터 인가되는 제어신호들(PiSBLPe, PiSBLPo)에 의해 제 1 프리챠지 및 등화수단(30)의 PMOS 트랜지스터들(M5, M6)이 턴-온된다. 이로써, 전원전압(Vcc)의 프리챠지 전압(VSBL)이 인가되는 신호라인(3)을 통해 상기 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)은 전원전압(Vcc)으로 프리챠지된다. 그리고, 감지증폭단의 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)은 외부로부터 인가되는 제어신호(PiSAEQB)에 의해 제 2 프리챠지 및 등화수단(70)의 PMOS 트랜지스터들(M18, M19)이 턴-온된다. 이에따라, 상기 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)은 상기 트랜지스터들의 문턱전압 레벨(Vtp)로 프리챠지된다.First, when the signal PIPGMVFB indicating that the program verification is started is enabled, the first and second sub bit lines SBL and SBLB of the cell array stage and the first and second latch bit lines LBL, of the sense amplifier stage. LBLB) is precharged to a predetermined level. At this time, the first and second sub-bit lines SBL and SBLB on the side of the cell array 10 are PMOS of the first precharge and equalization means 30 by control signals PiSBLPe and PiSBLPo applied from the outside. Transistors M5 and M6 are turned on. As a result, the first and second sub-bit lines SBL and SBLB are precharged to the power supply voltage Vcc through the signal line 3 to which the precharge voltage VSBL of the power supply voltage Vcc is applied. The first and second latch bit lines LBL and LBLB of the sense amplifier stage are connected to the PMOS transistors M18 and M19 of the second precharge and equalization means 70 by a control signal PiSAEQB applied from the outside. Is turned on. Accordingly, the first and second latch bit lines LBL and LBLB are precharged to the threshold voltage level Vtp of the transistors.

이후, 제 1 서브비트라인(SBL)에 전기적으로 연결된 셀 어레이(10)의 임의의 메모리 셀을 선택하기 위해 이에 대응되는 워드라인을 인에이블시킨다. 이로인해, 상기 제 1 서브비트라인(SBL)은 디벨러프된다. 여기서, 디벨러프(develop)란 프리챠지된 비트라인 레벨이 셀 전류에 의해 디스챠지되어 그의 레벨이 떨어지는 현상을 말한다. 또한, 제 2 감지증폭수단(60)의 반대 비트라인에는 자동적으로 레퍼런스 셀(reference cell)이 선택되고 레퍼런스 셀은 프로그램된 셀과 소거된 셀의 게이트에 '0'볼트가 바이어스되었을때의 전류량의 반으로 조정된 셀을 말한다. 그후, 일정기간 동안 상기 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)이 디벨러프가 일어나면 제 1 서브비트라인(SBL)의 디벨러프 정도를 제 1 래치비트라인(LBL)으로 전달하는 동작이 이루어진다. 이를위해, 외부로부터 인가되는 제어신호(PiSAE)가 펄스 형태로 인에이블되는 동안 제 1 감지증폭수단(50)의 NMOS 트랜지스터들(M11, M13)이 턴-온됨으로써 이루어진다.Thereafter, the corresponding word line is enabled to select any memory cell of the cell array 10 electrically connected to the first sub bit line SBL. As a result, the first sub-bit line SBL is developed. Here, the development refers to a phenomenon in which the precharged bit line level is discharged by the cell current and its level drops. In addition, a reference cell is automatically selected to the opposite bit line of the second sense amplification means 60, and the reference cell is the amount of current when '0' volts are biased to the gates of the programmed and erased cells. Refers to a cell adjusted in half. Thereafter, when the first and second sub-bit lines SBL and SBLB develop during a predetermined period, an operation of transferring the level of development of the first sub-bit line SBL to the first latch bit line LBL. This is done. To this end, the NMOS transistors M11 and M13 of the first sense amplifier 50 are turned on while the control signal PiSAE applied from the outside is enabled in the form of a pulse.

즉, 상기 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB) 중 높은 전압레벨을 갖는 쪽이 상기 제 1 감지증폭수단(50)의 NMOS 트랜지스터들(M10, M12) 중 어느 하나를 턴-온시킨게 된다. 이로써, 전원전압(Vcc)으로 인가되는 프리챠지 신호(VSA)를 래치타입의 제 2 감지증폭수단(60)으로 전달하고, 낮은 레벨을 갖는 서브비트라인은 상기 제 1 감지증폭수단(50)의 트랜지스터를 턴-온시키지 못해 이를 전달시키지 못하게 된다. 도 2를 참조하면, 제 1 서브비트라인(SBL)에 프로그램된 셀이 있다면 제 1 래치비트라인(LBL)은 전원전압이 제 2 래치비트라인(LBLB)은 접지전압이 래치된다. 이와 반대로, 프로그램이 덜된 경우에는 레퍼런스 셀보다 디벨러프가 적게 일어나 제 1 감지증폭수단(50)을 통해 제 2 감지증폭수단(60)으로 접지전압이 래치된다. 위와같은 일련의 과정을 통해 프로그램 검증을 수행하였다.That is, the one having the higher voltage level among the first and second sub-bit lines SBL and SBLB turns on any one of the NMOS transistors M10 and M12 of the first sense amplifier 50. It will be made. As a result, the precharge signal VSA applied to the power supply voltage Vcc is transmitted to the second sense amplifier 60 of the latch type, and a sub bit line having a low level is connected to the first sense amplifier 50. It will not turn on the transistor and will not deliver it. Referring to FIG. 2, if there is a cell programmed in the first sub bit line SBL, the first latch bit line LBL is latched with a power supply voltage, and the second latch bit line LLBB is latched with a ground voltage. On the contrary, when the program is less, there is less development than the reference cell so that the ground voltage is latched to the second sense amplifier 60 through the first sense amplifier 50. The program verification was performed through the above process.

그러나, 상술한 바와같은 불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로에 의하면, 프로그램 검증시 감지증폭단의 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)에 미리 예정된 레벨로 프리챠지를 수행함에 있어서 제 2 프리챠지 및 등화수단의 PMOS 트랜지스터들(M18, M19)을 통해 접지전압 레벨을 래치비트라인들로 완전하게 전달하지 못하고 이의 문턱전압 레벨(Vtp)로 프리챠지하게 되었다. 이로인해, 제 1 서브비트라인(SBL)에 챠지된 전압레벨을 이에 대응되는 제 1 래치비트라인으로 전달할 때, 제 1 감지증폭수단의 NMOS 트랜지스터들(M10, M12)의 바디 효과에 의해 전류량이 감소한다. 그리고, 바디 효과(body effect)에 의해 상기 트랜지스터들(M10, M12)의 문턱전압이 상대적으로 높아져 기존의 디벨러프된 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)의 전압레벨로는 센싱하기가 어려워져 센싱 마진 및 센싱 속도가 감소하는 문제점이 생겼다.However, according to the sensing amplification circuit of the nonvolatile semiconductor memory device as described above, the first and second latch bit lines LBL and LBLB of the sensing amplification stage are precharged at a predetermined level in the program verifying operation. Through the PMOS transistors M18 and M19 of the two precharge and equalization means, the ground voltage level is not completely transferred to the latch bit lines, but is precharged to its threshold voltage level Vtp. As a result, when the voltage level charged in the first sub bit line SBL is transferred to the first latch bit line corresponding thereto, the amount of current is increased by the body effect of the NMOS transistors M10 and M12 of the first sensing amplification means. Decreases. In addition, the threshold voltage of the transistors M10 and M12 is relatively increased due to a body effect, thereby sensing the voltage level of the existing developed first and second sub-bit lines SBL and SBLB. The difficulty in doing so has caused a problem in that the sensing margin and the sensing speed decrease.

따라서 본 발명의 목적은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 프로그램 검증 동작시 효과적인 센싱 마진을 확보하기 위한 불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로를 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide a sense amplification circuit of a nonvolatile semiconductor memory device for securing an effective sensing margin during a program verifying operation.

도 1은 종래기술에 따른 불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로의 구성을 보여주는 블록도;1 is a block diagram showing a configuration of a sense amplifier circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to the prior art;

도 2는 종래기술에 따른 동작 타이밍도;2 is an operation timing diagram according to the prior art;

도 3은 프로그램 검증시 제 1 감지증폭수단의 트랜지스터들이 디벨러프되는 상태를 보여주는 도면;3 shows a state in which the transistors of the first sense amplifying means are developed during program verification;

도 4는 본 발명에 따른 불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로의 구성을 보여주는 블록도;4 is a block diagram showing a configuration of a sense amplifier circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention;

도 5는 프로그램 검증시 제 1 감지증폭수단의 트랜지스터들이 디벨러프되는 상태를 보여주는 도면,FIG. 5 is a view illustrating a state in which transistors of the first sense amplifier are develped during program verification;

*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10 : 셀 어레이30 : 제 1 프리챠지 및 등화수단10 cell array 30 first precharge and equalization means

40 : 분리수단50 : 제 1 감지증폭수단40 separation means 50 first detection amplification means

60 : 제 2 감지증폭수단70 : 제 2 프리챠지 및 등화수단60 second sensing amplification means 70 second precharge and equalization means

80 : 디스챠지수단80: discharge means

상술한 바와같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일특징에 의하면, 데이터를 저장하기 위한 셀 어레이에 전기적으로 연결된 제 1 비트라인쌍과; 상기 제 1 비트라인쌍에 각각 대응되는 제 2 비트라인쌍과; 외부로부터 인가되는 제 1 및 제 2 신호들에 응답하여 상기 제 1 비트라인쌍을 미리 예정된 레벨로 프리챠지하기 위한 제 1 프리챠지 및 등화수단과; 외부로부터 인가되는 제 3 및 제 4 신호들에 응답하여, 상기 제 1 비트라인쌍과 상기 제 2 비트라인쌍을 전기적으로 절연시키는 분리수단과; 상기 제 1 비트라인쌍에 각각 챠지된 소정레벨의 전압차를 감지하고 이를 증폭하여 상기 제 2 비트라인쌍으로 전달하기 위한 제 1 감지증폭수단과; 상기 제 1 감지증폭수단을 통해 상기 제 2 비트라인쌍으로 전달된 소정레벨의 전압차를 감지하고 이를 증폭하는 제 2 감지증폭수단과; 외부로부터 인가되는 제 5 신호 및 제 6 신호에 응답하여 상기 제 2 비트라인쌍을 미리 예정된 레벨로 프리챠지하고 이를 등화하기 위한 제 2 프리챠지 및 등화수단과; 외부로부터 인가되는 제 7 신호에 응답하여, 프로그램 검증동작시 상기 제 1 및 제 2 비트라인쌍을 충분히 접지전압으로 디스챠지시키기 위한 디스챠지수단을 포함한다.According to one aspect of the present invention for achieving the above object, a first bit line pair electrically connected to a cell array for storing data; A second bit line pair respectively corresponding to the first bit line pair; First precharge and equalization means for precharging the first pair of bit lines to a predetermined level in response to first and second signals applied from the outside; Separating means for electrically insulating said first bit line pair and said second bit line pair in response to third and fourth signals applied from the outside; First sensing amplification means for sensing a voltage difference of a predetermined level charged in the first bit line pair, amplifying the voltage difference, and transferring the amplified signal to the second bit line pair; Second sense amplifying means for detecting and amplifying a voltage difference of a predetermined level transferred to the second bit line pair through the first sense amplifying means; Second precharge and equalization means for precharging and equalizing the second bit line pair to a predetermined level in response to a fifth signal and a sixth signal applied from the outside; And discharge means for sufficiently discharging the first and second bit line pairs to a ground voltage in a program verifying operation in response to a seventh signal applied from the outside.

이 실시예에 있어서, 상기 디스챠지수단은 상기 제 6 신호에 동기된 상기 제 7 신호에 응답하여 인에이블되는 PMOS 트랜지스터로 구성된다.In this embodiment, the discharge means is constituted by a PMOS transistor enabled in response to the seventh signal synchronized with the sixth signal.

이와같은 회로에 의해서, 감지증폭단의 비트라인들을 충분히 접지전압으로 프리챠지함으로써 센싱 마진을 좋게할 수 있을 뿐만아니라, 센싱 손실 및 센싱 속도의 감소를 방지할 수 있다.Such a circuit not only improves the sensing margin by precharging the bit lines of the sense amplifier stage to the ground voltage sufficiently, but also prevents the sensing loss and the reduction of the sensing speed.

이하 본 발명의 실시예에 따른 참조도면 도 4 내지 도 5에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, reference will be made in detail with reference to FIGS. 4 to 5 according to an embodiment of the present invention.

도 4 내지 도 5에 있어서, 도 1 내지 도 3에 도시된 구성요소와 동일한 기능을 갖는 구성요소에 대해서 동일한 참조번호를 병기한다.In Figs. 4 to 5, the same reference numerals are given to the components having the same functions as the components shown in Figs.

본 발명은 프로그램 검증모드시 감지증폭단의 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)을 로우 레벨인 접지전압(Vss)레벨로 충분하게 디스챠지시켜주기 위한 것이다. 즉, 본 발명에 따른 디스챠지수단의 PMOS 트랜지스터(M21)를 통해 프로그램 검증시 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)을 프리챠지하는 주 신호인 PiSAEQ 신호와 동기되어 프리챠지시 상기 트랜지스터(M21)를 통해 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)을 접지전압 레벨(Vss)로 디스챠지시킨다. 따라서, 이러한 구현을 통해 제 1 감지증폭수단의 NMOS 트랜지스터들(M10, M12)은 바디 효과를 바라보지 않게되어 보다 좋은 센싱 마진을 갖게되며, 아울러 종래에 생긴 센싱 손실 및 센싱 속도의 감소를 방지할 수 있다.The present invention is to sufficiently discharge the first and second latch bit lines LBL and LBLB of the sense amplifier stage to the ground voltage Vss level at the low level in the program verify mode. That is, when precharging in synchronization with the PiSAEQ signal, which is a main signal for precharging the first and second latch bit lines LBL and LBLB, during program verification through the PMOS transistor M21 of the discharge means according to the present invention. The first and second latch bit lines LBL and LBLB are discharged to the ground voltage level Vss through the transistor M21. Therefore, through this implementation, the NMOS transistors M10 and M12 of the first sensing amplification means do not look at the body effect and have a better sensing margin, and also prevent the reduction of the sensing loss and the sensing speed in the related art. Can be.

도 4에는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로의 구성을 보여주는 블록도가 도시되어 있다.4 is a block diagram illustrating a configuration of a sense amplifier circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 본 발명에 따른 감지증폭회로는 셀 어레이(10), 제 1 프리챠지 및 등화수단(30), 분리수단(40), 제 1 감지증폭수단(50), 제 2 감지증폭수단(60), 제 2 프리챠지 및 등화수단(70), 그리고 다스챠지수단(80)으로 구성되어 있다. 데이터를 저장하기 위한 셀 어레이(10)에는 전기적으로 제 1 비트라인쌍(SBL, SBLB)이 연결되어 있다. 그리고, 상기 제 1 비트라인쌍(SBL, SBL)에 각각 대응되는 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)은 상기 분리수단(40)을 통해 분리되어 있다. 상기 제 1 프리챠지 및 등화수단(30)은 외부로부터 인가되는 프리챠지 신호들(PiSBLPe, PiSBLPo)에 응답하여 상기 제 1 비트라인쌍(SBL, SBLB)을 미리 예정된 레벨로 프리챠지한다. 그리고, 상기 분리수단(40)은 외부로부터 인가되는 제어신호들(PIISOe, PIISOo)에 응답하여, 상기 제 1 비트라인쌍(SBL, SBLB)과 상기 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)을 전기적으로 절연시킨다. 상기 제 1 감지증폭수단(50)은 상기 제 1 비트라인쌍(SBL, SBLB)에 각각 챠지된 소정레벨의 전압차를 감지하고 이를 증폭하여 상기 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)로 전달한다.In the sense amplifier circuit according to the present invention shown in FIG. 4, the cell array 10, the first precharge and equalization means 30, the separation means 40, the first sense amplifier 50, the second sense amplifier means (60), the second precharge and equalization means (70), and the dossier means (80). First bit line pairs SBL and SBLB are electrically connected to the cell array 10 for storing data. The second bit line pairs LBL and LBLB respectively corresponding to the first bit line pairs SBL and SBL are separated through the separating means 40. The first precharge and equalization means 30 precharges the first bit line pair SBL and SBLB to a predetermined level in response to precharge signals PiSBLPe and PiSBLPo applied from the outside. The separating means 40 electrically connects the first bit line pairs SBL and SBLB and the second bit line pairs LBL and LBLB in response to control signals PIISOe and PIISOo applied from the outside. Insulate The first sensing amplification means 50 senses a voltage difference of a predetermined level charged in the first bit line pairs SBL and SBLB, respectively, and amplifies the voltage difference to transfer the voltage difference to the second bit line pairs LBL and LBLB. .

상기 제 2 감지증폭수단(60)은 상기 제 1 감지증폭수단(40)을 통해 상기 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)로 전달된 소정레벨의 전압차를 감지하고 이를 증폭한다. 상기 제 2 프리챠지 및 등화수단(70)은 외부로부터 인가되는 프리챠지 신호들(PISAEQB, PiSAEQ)에 응답하여 상기 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)을 미리 예정된 레벨로 프리챠지하고 이를 등화한다. 그리고, 상기 디스챠지수단(80)은 외부로부터 인가되는 제어신호(PiISOSC)에 응답하여, 프로그램 검증동작시 상기 제 1 및 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)을 충분히 접지전압(Vss)으로 디스챠지시키는 역할을 한다. 여기서, 상기 디스챠지수단(80)은 상기 프리챠지 신호(PiSAEQB)와 동기된 상기 제어신호(PiSOSC)에 응답하여 인에이블되는 PMOS 트랜지스터(M21)로 이루어졌다.The second sense amplifier 60 detects and amplifies a voltage difference of a predetermined level transferred to the second bit line pair LBL and LBLB through the first sense amplifier 40. The second precharge and equalization means 70 precharges and equalizes the second bit line pair LBL and LBLB to a predetermined level in response to precharge signals PISAEQB and PiSAEQ applied from the outside. . In addition, the discharge means 80 discharges the first and second bit line pairs LBL and LBLB to a sufficient ground voltage Vss during a program verifying operation in response to a control signal PiISOSC applied from the outside. It is responsible for charging. Here, the discharge means 80 includes a PMOS transistor M21 enabled in response to the control signal PiSOSC synchronized with the precharge signal PiSAEQB.

도 5에는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로그램 검증시 제 1 감지증폭수단의 트랜지스터들의 디벨러프 상태를 보여주는 도면이 도시되어 있다. 도 4 내지 도 5를 참조하면서, 본 발명에 따른 프로그램 검증 동작을 설명하면 다음과 같다. 먼저, 프로그램 검증이 시작됨을 알리는 신호(PIPGMVFB)가 인이에블되면 셀 어레이단의 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)과 감지증폭단의 제 1 및 제 2 래치비트라인(LBL, LBLB)을 미리 예정된 레벨로 프리챠지하게 된다. 이때, 셀 어레이(10) 쪽의 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)은 외부로부터 인가되는 제어신호들(PiSBLPe, PiSBLPo)에 의해 제 1 프리챠지 및 등화수단(30)의 PMOS 트랜지스터들(M5, M6)이 턴-온된다. 이로써, 전원전압(Vcc)의 프리챠지 전압(VSBL)이 인가되는 신호라인(3)을 통해 상기 제 1 및 제 2 서브비트라인들(SBL, SBLB)은 전원전압(Vcc)으로 프리챠지된다.FIG. 5 is a diagram showing the development of transistors of the first sense amplifying means during program verification according to a preferred embodiment of the present invention. 4 to 5, the program verification operation according to the present invention will be described. First, when the signal PIPGMVFB indicating that the program verification is started is enabled, the first and second sub bit lines SBL and SBLB of the cell array stage and the first and second latch bit lines LBL, of the sense amplifier stage. LBLB) is precharged to a predetermined level. At this time, the first and second sub-bit lines SBL and SBLB on the side of the cell array 10 are PMOS of the first precharge and equalization means 30 by control signals PiSBLPe and PiSBLPo applied from the outside. Transistors M5 and M6 are turned on. As a result, the first and second sub-bit lines SBL and SBLB are precharged to the power supply voltage Vcc through the signal line 3 to which the precharge voltage VSBL of the power supply voltage Vcc is applied.

그리고, 감지증폭단의 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)은 외부로부터 인가되는 제어신호(PiSAEQB)에 의해 제 2 프리챠지 및 등화수단(70)의 PMOS 트랜지스터들(M18, M19)이 턴-온된다. 이에따라, 상기 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)은 상기 트랜지스터들의 문턱전압 레벨(Vtp)로 프리챠지된다. 이때, 본 발명에 따른 디스챠지수단(80)의 PMOS 트랜지스터(M21)의 게이트 단자로 상기 제 1 및 제 2 프리챠지 및 등화수단(70)으로 인가되는 제어신호(PiSAEQ)에 동기된 제어신호(PiISOSC)가 인가된다. 이로써, 상기 트랜지스터(M21)가 턴-온됨으로써 상기 제 1 및 제 2 래치비트라인들(LBL, LBLB)을 접지전압으로 완전하게 디스챠지 즉, 원하는 레벨인 '0'V로 프리챠지시킬 수 있게 되었다. 이후, 검증동작을 종래기술과 동일한 과정을 통해 이루어진다. 따라서, 제 1 감지증폭수단(50)을 통해 제 1 및 제 2 서브비트라인(SBL, SBLB)의 전압차를 감지할 때 제 10 및 제 11 NMOS 트랜지스터들(M10, M11)의 바디효과를 없앰으로써 문턱전압이 상승하는 것을 막을 수 있다. 결국, 종래와 같이 제 1 감지증폭수단(50)의 트랜지스터들(M10, M12)의 바디효과에 따라 센싱이 이루어지지 않았던 것을 방지할 수 있게 되었다.The first and second latch bit lines LBL and LBLB of the sense amplifier stage are connected to the PMOS transistors M18 and M19 of the second precharge and equalization means 70 by a control signal PiSAEQB applied from the outside. Is turned on. Accordingly, the first and second latch bit lines LBL and LBLB are precharged to the threshold voltage level Vtp of the transistors. At this time, the control signal (synchronized to the control signal PiSAEQ applied to the first and second precharge and equalization means 70 to the gate terminal of the PMOS transistor M21 of the discharge means 80 according to the present invention) PiISOSC) is applied. Accordingly, the transistor M21 is turned on so that the first and second latch bit lines LBL and LBLB can be completely discharged to the ground voltage, that is, precharged to a desired level of '0'V. It became. Thereafter, the verification operation is performed through the same process as in the prior art. Accordingly, the body effect of the tenth and eleventh NMOS transistors M10 and M11 is eliminated when the voltage difference between the first and second sub-bit lines SBL and SBLB is sensed through the first sense amplifier 50. As a result, the threshold voltage can be prevented from rising. As a result, according to the conventional body effect of the transistors (M10, M12) of the first sense amplification means 50 it can be prevented that the sensing is not made.

상기한 바와같이, 본 발명에 따른 디스챠지수단의 PMOS 트랜지스터를 통해 프로그램 검증시 제 1 및 제 2 래치비트라인들을 프리챠지하는 주 신호인 PiSAEQ 신호와 동기되어 비트라인 프리챠지시 상기 트랜지스터를 통해 제 1 및 제 2 래치비트라인들을 접지전압 레벨로 디스챠지시킨다. 따라서, 이러한 구현을 통해 제 1 감지증폭수단의 NMOS 트랜지스터들은 바디 효과를 바라보지 않게되어 보다 좋은 센싱 마진을 갖게되며, 아울러 종래에 생긴 센싱 손실 및 센싱 속도의 감소를 방지할 수 있다.As described above, when the program verification is performed through the PMOS transistor of the discharge means according to the present invention, the transistor is driven through the transistor when the bit line is precharged in synchronization with the PiSAEQ signal, which is a main signal that precharges the first and second latch bit lines. The first and second latch bit lines are discharged to the ground voltage level. Therefore, through this implementation, the NMOS transistors of the first sensing amplification means do not look at the body effect and have a better sensing margin, and also prevent the reduction of the sensing loss and the sensing speed in the related art.

Claims (2)

데이터를 저장하기 위한 셀 어레이(10)에 전기적으로 연결된 제 1 비트라인쌍(SBL, SBLB)과;First bit line pairs SBL and SBLB electrically connected to a cell array 10 for storing data; 상기 제 1 비트라인쌍(SBL, SBL)에 각각 대응되는 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)과;Second bit line pairs LBL and LBLB respectively corresponding to the first bit line pairs SBL and SBL; 외부로부터 인가되는 제 1 및 제 2 신호들(PiSBLPe, PiSBLPo)에 응답하여 상기 제 1 비트라인쌍(SBL, SBLB)을 미리 예정된 레벨로 프리챠지하기 위한 제 1 프리챠지 및 등화수단(30)과;First precharge and equalization means 30 for precharging the first pair of bit lines SBL and SBLB to a predetermined level in response to externally applied first and second signals PiSBLPe and PiSBLPo; ; 외부로부터 인가되는 제 3 및 제 4 신호들(PiISOe, PiISOo)에 응답하여, 상기 제 1 비트라인쌍(SBL, SBLB)과 상기 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)을 전기적으로 절연시키는 분리수단(40)과;Separation means for electrically insulating the first bit line pairs SBL and SBLB and the second bit line pairs LBL and LBLB in response to externally applied third and fourth signals PiISOe and PiISOo. 40; 상기 제 1 비트라인쌍(SBL, SBLB)에 각각 챠지된 소정레벨의 전압차를 감지하고 이를 증폭하여 상기 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)으로 전달하기 위한 제 1 감지증폭수단(50)과;First sensing amplification means 50 for sensing a voltage difference of a predetermined level charged in the first bit line pairs SBL and SBLB, amplifying the voltage difference, and transferring the voltage difference to the second bit line pairs LBL and LBLB; ; 상기 제 1 감지증폭수단(40)을 통해 상기 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)으로 전달된 소정레벨의 전압차를 감지하고 이를 증폭하는 제 2 감지증폭수단(60)과;Second sense amplification means (60) for sensing and amplifying a voltage difference of a predetermined level transferred to the second bit line pair (LBL, LBLB) through the first sense amplification means (40); 외부로부터 인가되는 제 5 신호(PiSAEQB) 및 제 6 신호(PiSAEQ)에 응답하여 상기 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)을 미리 예정된 레벨로 프리챠지하고 이를 등화하기 위한 제 2 프리챠지 및 등화수단(70)과;Second precharge and equalization means for precharging and equalizing the second bit line pair LBL and LBLB to a predetermined level in response to a fifth signal PiSAEQB and a sixth signal PiSAEQ applied from the outside. 70 and; 외부로부터 인가되는 제 7 신호(PiISOSC)에 응답하여, 프로그램 검증동작시 상기 제 1 및 제 2 비트라인쌍(LBL, LBLB)을 충분히 접지전압(Vss)으로 디스챠지시키기 위한 디스챠지수단(80)을 포함한 불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로.The discharge means 80 for discharging the first and second bit line pairs LBL and LBLB to the ground voltage Vss sufficiently during the program verify operation in response to the seventh signal PiISOSC applied from the outside. Detection amplifier circuit of a nonvolatile semiconductor memory device including a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 디스챠지수단(80)은 상기 제 6 신호(PiSAEQ)에 동기된 상기 제 7 신호(PiSOSC)에 응답하여 인에이블되는 PMOS 트랜지스터(M21)로 구성된 불휘발성 반도체 메모리 장치의 감지증폭회로.And said discharge means (80) comprises a PMOS transistor (M21) enabled in response to said seventh signal (PiSOSC) synchronized with said sixth signal (PiSAEQ).
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KR100585628B1 (en) * 2005-01-24 2006-06-07 삼성전자주식회사 Program operating method of nonvolatile semiconductor memory device without bitline discharge

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