KR102663934B1 - 삼중 글레이징(triple glazing)을 포함하는 도어(door)를 구비한 가열장치 - Google Patents
삼중 글레이징(triple glazing)을 포함하는 도어(door)를 구비한 가열장치 Download PDFInfo
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Abstract
공동(cavity)을 획정하는 챔버를 구비한 가열 장치로서, 상기 장치는 공동의 내부에서 외부로 각각 1 내지 6으로 번호가 매겨진 면들을 획정하는 세 개의 투명 기판들을 포함하는 삼중 글레이징을 통합하는 도어 혹은 벽을 포함하며, 적어도 제1 기판의 면들(1 및 2) 및 제2 기판의 면들(3 및/또는 4)은 열반사 코팅들로 덮여지는 가열 장치에 있어서,
제1 기판과 제2 기판 사이의 평균 간격(e1)과 제2 기판과 제3 기판 사이의 평균 간격(e2)은 상이하고, 가장 큰 간격과 가장 작은 간격 사이의 비율은 1.1보다 크고, 바람직하게는 1.5보다 크고, 매우 바람직하게는 2보다 크고 또는 심지어 2.5보다 크며, e1 및 e2는 2 내지 20 mm 사이인 것을 특징으로 하는 가열 장치.
제1 기판과 제2 기판 사이의 평균 간격(e1)과 제2 기판과 제3 기판 사이의 평균 간격(e2)은 상이하고, 가장 큰 간격과 가장 작은 간격 사이의 비율은 1.1보다 크고, 바람직하게는 1.5보다 크고, 매우 바람직하게는 2보다 크고 또는 심지어 2.5보다 크며, e1 및 e2는 2 내지 20 mm 사이인 것을 특징으로 하는 가열 장치.
Description
본 발명은 공동(cavity)을 획정(劃定)하는 챔버(chamber)를 갖추고 있는 가열 장치에 관한 것으로, 상기 공동은 장치의 공동 안에 열을 가두는 글레이징을 통합하는 도어에 의해 폐쇄된다. 본 발명은 또한 그러한 도어 및 그러한 장치의 구성 요소로서의 사용에 관한 것이다.
본 발명에 따른 가열 장치는 글레이징 도어를 포함하는 하나 이상의 벽에 의해 획정된 챔버를 포함한다. 가열 수단은 챔버 내부의 공동이 고온으로 가열되도록 한다. 가열 장치는 특히 오븐, 벽난로, 용광로 등에서 선택될 수 있다.
도어의 구성 요소들 또는 가능하게는 가열 장치의 벽의 구성 요소들로 사용되는 글레이징들은 일반적으로 다중 글레이징, 즉 복수의 유리 기판들을 포함하는 글레이징들 및 특히 4 중 글레이징들 이다. 다중 글레이징 유닛들은 사용자를 화상으로부터 보호하기 위해 글레이징의 외부 표면을 만져서도 차갑게 유지하면서 난방 장치 내부의 열을 유지하는 데에 기여한다.
그러한 다중 글레이징은 공간을 획정하기 위해 거리를 두고 유지되는 적어도 2 개의 기판을 포함한다. 글레이징의 면들은 가열 장치의 내부에서 시작하여 가열 장치의 내부에서 외부로 기판의 면에 번호를 매김으로써 관례적으로 표시된다
가열 장치의 구성 요소들로 사용되는 글레이징들은 열 복사, 특히 적외선 (IR) 복사를 반사하는 기능성 코팅으로 코팅된 기판들을 포함할 수 있다. 이러한 코팅들은 열을 챔버 내부로 반사함으로써 가열 장치의 외부로 전달되는 에너지의 양을 줄일 수 있다. 이러한 코팅들을 사용함으로써 가열 장치의 전력 소비를 감소시키고 상기 오븐의 도어를 형성하는 글레이징의 외벽 가열에 기여한다.
예를 들어, 특허 출원 EP1293726 A2는 제1 표면에 열분해에 의해 증착된 열반사 코팅을 포함하고 및 제2 표면에, 물리 기상 증착(PVD) 공정에 의해 증착된 열 반사 코팅을 포함하는 유리 장벽을 기술한다.
은 (또는 은층들)을 기반으로하는 기능성 금속층을 포함하는 코팅들은 벽이나 도어의 광학적 및 심미적 특성, 특히 후자를 통한 좋은 시야를 유지하면서 글레이징들의 방사율을 줄이는 가장 효과적인 방법으로 알려져 있다. 이러한 코팅들은 또한 더 높은 수준의 사용자 보호, 더 낮은 전력 소비 및 더 큰 사용자 편의를 보장합니다.
그러나 이러한 은계(silver-based) 기능성 금속층들을 포함하는 코팅들의 내열성은 종종 불충분하다. 이러한 코팅들의 낮은 내열성 및 내 화학성으로 장기적으로는 부식 반점, 긁힘, 은의 디웨팅(dewetting) 또는 스택(stack)의 전체 또는 부분적인 박리와 같은 결함들이 나타날 수 있다.
이 효과는 얇은 은층을 포함하는 그러한 글레이징들이 오븐 도어들과 같은 가열 장치에 사용되고 열분해 처리들과 같은 습한 환경에서 길고 반복되는 고온 열처리 사이클 대상이 될 때 더욱 두드러진다. 습한 환경에서 이러한 열처리 사이클들은 특히 은의 디웨팅 또는 부식을 통해 은층들의 열화를 가속화한다.
또한 어떠한 결함이나 긁힘은 그것이 부식으로 인한 것인지 기계적 응력으로 인한 것인지 간에 코팅된 기판의 광학 및 에너지 성능뿐만 아니라 심미성을 저하시킬 수 있다.
그러나 특허 출원 US 2012/0084963은 적어도 하나의 은 기반 기능성 금속층과 산화 지르코늄 기반 보호 최상층을 포함하는 얇은 층들의 스택으로 코팅된 투명 기판을 포함하는 오븐 도어의 구성 요소로 사용되는 다중 글레이징을 개시한다. 산화 지르코늄 기반 층들은 고온 열처리 중에 스택을 보호한다. 그러나 이러한 보호 층으로 코팅된 기판은 덥고 습한 환경에서 부식된다.
특허 출원 WO 2016/097560은 적어도 하나의 은계 기능성 금속층을 포함하는 얇은 층들의 스택으로 코팅된 투명 기판을 포함하는 글레이징을 기재하고 있으며, 스택은 티타늄 지르코늄 산화물 기반의 보호 최상층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
특허 출원 US 2003/0113550은 오븐 도어로 사용될 수 있고 일련의 유리 기판을 포함하는 다중 글레이징을 기재하고 있으며, 열 반사 스택들은 이러한 유리 기판들의 다양한 면들에 위치한다.
상기의 공개 특허들에 설명된 스택들은 원칙적으로 오븐의 일반적인 작동 온도에서 요구되는 기계적 강도 및 내 화학성 기준을 충족하도록 허용하지만, 단열 측면에서 성능이 최적이고 특히 저비용으로 제조하기 쉬운 오븐 도어 구성들은 여전히 연구 중이다.
특히 외부 벽면의 차가운 외부면, 즉 있을 수 있는 화상에 대해 사용자의 안전을 보장할 수 있을 뿐만 아니라 장치의 챔버 또는 공동내에 열을 효과적으로 제한할 수 있는 아키텍처를 특히 추구하고 있다. 더욱이, 장치는 가능한 한 에너지 효율적이어야 하고, 특히 벽을 냉각하는 데는 예를 들어 상기 벽의 다양한 구성 기판들 (constituent substrates)을 통하여 냉각 공기의 흐름과 같은 추가 작업이 거의 또는 전혀 필요하지 않는 것이 바람직하다.
본 발명의 목적은 전술한 문제점을 효과적으로 해결할 수 있도록 그러한 장치를 구비한 난방 장치 및 도어 또는 벽을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 가열 장치는 글레이징 도어를 포함하는 하나 이상의 벽에 의해 획정된 챔버를 포함한다. 가열 수단은 챔버 내부의 공동이 고온으로 가열되도록 한다. 가열 장치는 특히 오븐, 벽난로, 용광로 등에서 선택될 수 있다.
열이라는 용어는 오븐의 저항기에 의해 방출되는 복사, 특히 2 마이크로미터와 10 마이크로 미터 사이의 적외선 복사의 전부 또는 일부를 의미하는 것으로 이해된다.
보다 구체적으로, 본 발명은 공동을 획정하는 챔버를 구비한 가열 장치에 관한 것으로, 상기 장치는 공동의 내부에서 외부로 각각 1 내지 6으로 번호가 매겨진 면들을 획정하는 세 개의 투명 기판들을 포함하는 삼중 글레이징을 통합하는 도어 혹은 벽을 포함하며, 적어도 제1 기판의 면들(1 및 2) 및 제2 기판의 면들(3 또는 4)은 열반사 코팅들로 덮여 있으며, 제1 기판과 제2 기판 사이의 평균 간격(e1)과 제2 기판과 제3 기판 사이의 평균 간격(e2)은 상이하고, 가장 큰 간격과 가장 작은 간격 사이의 비율은 1.1보다 크고, 바람직하게는 1.5보다 크고, 매우 바람직하게는 2보다 크고 또는 심지어 2.5보다 크다.
삼중 유리는 3 개의 연속 유리 시트들의 조립을 의미하는 것으로 이해되지만 건물 글레이징 분야에서 일반적으로 사용되는 삼중 유리의 경우와 같이 공간적으로, 특히 밀폐적으로 서로 연결되지 않는다.
본 발명에 따른 유리 기판들은 오븐과 같은 가열 장치의 제조를 위한 것이다. 따라서 표면적은 일반적으로 0.5m2 미만이다.
본 발명의 다른 바람직한 실시예 및/또는 구현 세부 사항들이 아래에 설명된며, 이는 물론 필요하다면 함께 결합될 수 있다:
- 제1 기판의 면1 및 2와 제2 기판의 면3은 열 반사 코팅들로 덮이고, 면4 내지 면6은 바람직하게는 그러한 코팅들이 없다;
- e1> e2;
- e2> e1;
- e1과 e2는 2 내지 20 mm, 바람직하게는 4 내지 15 mm이고;
- 가장 큰 간격과 가장 작은 간격 사이의 비율은 5 미만, 바람직하게는 4 미만, 매우 바람직하게는 3.5 미만, 또는 심지어 3.0 미만이고;
- 기판들 사이의 중간 간격들은 외부 대기와 접촉하는 공기로 채워진다(따라서 표준 압력의 공기로 채워짐);
- 기판들은 서로 평행하다.
- 삼중 글레이징은 다음을 포함한다:
a) 공동과 접촉하는 제1 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향하며 공동과 직접 접촉하는 제1 면(1) 상에, 바람직하게는 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제1 스택(stack),
- 상기 공동의 외부를 향하는 다른 면(2) 상에, 금 또는 은, 바람직하게는 은으로부터 선택된 금속에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제2 스택,
b) 제2 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향한 면(3) 상에, 바람직하게는 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제 3 스택,
- 바람직하게는 열 반사 코팅이 없는 제2 기판의 면(4), 열 반사 코팅이 없는 제3 기판의 면들(5 및 6).
- 삼중 글레이징은 다음을 포함한다:
a) 공동과 접촉하는 제1 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향하며 공동과 직접 접촉하는 제1 면(1) 상에, 바람직하게는 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제1 스택(stack),
- 상기 공동의 외부를 향하는 다른 면(2) 상에, 금 또는 은, 바람직하게는 은으로부터 선택된 금속에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제2 스택,
b) 제2 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향한 면(3) 상에, 금 또는 은, 바람직하게는 은으로부터 선택된 금속에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제3 스택,
- 바람직하게는 열 반사 코팅이 없는 제2 기판의 면(4), 열 반사 코팅이 없는 제3 기판의 면들(5 및 6).
- 면(1)상의 제1 코팅 (또는 제1 스택)은 기능성 층으로서 인듐 주석 산화물을 포함하고, 산화물에서 Sn의 원자 백분율은 유리하게는 5 % 내지 70 %, 특히 10 % 내지 60 %범위 내에 있다;
- 면(1)상의 제1 코팅 (또는 제1 스택)은 기능성 층으로서 바람직하게는 약 85 중량 % 내지 95 중량 %의 인듐 산화물 및 약 15 중량 % 내지 5 중량 %의 주석 산화물을 포함하는 인듐 주석 산화물을 포함한다;
- 상기 삼중 글레이징은 다음을 포함한다:- 면(1)상의 제1 코팅 (또는 제1 스택)은 기판으로부터 시작하여 연속적으로 다음을 포함한다:
- 특히 실리콘 질화물, 실리콘 산화물 또는 아연 주석 산화물로부터 선택된 유전체 화합물의 적어도 하나의 하층(underlayer),
- ITO 기능성 층, 및
- 특히 실리콘 질화물, 실리콘 산화물 또는 아연 주석 산화물로부터 선택된 유전체 화합물의 적어도 하나의 상층(overlayer);
- 면(1)상의 제1 코팅 (또는 제1 스택)은 기판으로부터 시작하여 연속적으로 다음을 포함한다:
- 특히 실리콘 질화물, 실리콘 산화물 또는 아연 주석 산화물로부터 선택된 유전체 화합물의 적어도 하나의 하층,
- 제1 ITO 기능성 층,
- 특히 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 또는 아연 주석 산화물로부터 선택된 유전체 화합물의 중간층(intermediate layer),
- 제2 ITO 기능성 층, 및
- 특히 실리콘 질화물, 실리콘 산화물 또는 아연 주석 산화물로부터 선택된 유전체 화합물의 작어도 하나의 상층(overlayer);
- 면(2)상의 제2 코팅 (또는 제2 스택)은 적어도 하나의 은계(silver based) 기능성 금속 층과 적어도 두 개의 유전체 어셈블리를 포함하고, 각각의 유전체 어셈블리는 적어도 하나의 유전체 층을 포함하고, 각각의 은계 층은 두 개의 유전체층들 사이에 위치한다;
- 제2 기판의 면(3) 또는 면(4)상의 제3 코팅 (또는 제3 스택)은 적어도 하나의 은계 기능성 금속 층 및 바람직하게는 적어도 두 개의 유전체 어셈블리들을 포함하고, 각각의 유전체 어셈블리는 적어도 하나의 유전체 층을 포함하여, 각각 은계 층은 두 유전체 층들 사이에 위치한다.
- 코팅된 적어도 스택의 기판은 구부러져 있고 및/또는 템퍼링되고 바람직하게는 글레이징의 모든 기판들은 템퍼링된다.
본 발명은 또한 삼중 글레이징을 포함하는 가열 장치용 도어 또는 벽에 관한 것으로, 세 개의 투명 기판들은 상기 장치 공동의 내부에서 외부까지 각각 1 내지 6으로 번호가 매겨진 면들을 획정하고, 적어도 제1 기판의 면들(1 및 2) 및 제2 기판의 면(3)은 열 반사 코팅들로 덮여 있으며, 제1 기판과 제2 기판 사이의 평균 간격(e1) 및 제2 기판과 제3 기판 사이의 평균 간격(e2)는 다르고, 가장 큰 간격과 가장 작은 간격 사이의 비율은 1.1보다 크고, 바람직하게는 1.5보다 크고, 매우 바람직하게는 2보다 크거나, 심지어 2.5보다 크다.
본 발명에 따른 도어의 특히 바람직한 모드에 따르면:
- 제1 기판의 면들(1 및 2)과 제2 기판의 면(3)은 열 반사 코팅들로 덮여 있고, 면4 내지 면6은 바람직하게는 그러한 코팅이 없다;
- e1> e2;
- e2> e1;
a) 공동과 접촉하는 제1 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향하며 공동과 직접 접촉하는 제1 면(1) 상에, 바람직하게는 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제1 스택(stack),
- 상기 공동의 외부를 향하는 다른 면(2) 상에, 금 또는 은, 바람직하게는 은으로부터 선택된 금속에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제2 스택,
b) 제2 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향한 면(3) 상에, 바람직하게는 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제 3 스택;
- 상기 삼중 글레이징은 다음을 포함한다:
a) 공동과 접촉하는 제1 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향하며 공동과 직접 접촉하는 제1 면(1) 상에, 바람직하게는 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제1 스택(stack),
- 상기 공동의 외부를 향하는 다른 면(2) 상에, 금 또는 은, 바람직하게는 은으로부터 선택된 금속에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제2 스택,
b) 제2 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향한 면(3) 상에, 은을 기초로 한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제3 스택.
본 발명은 또한 챔버 및/또는 오븐과 같은 공동이 있는 가열 장치의 벽 또는 도어의 구성 요소로서 전술한 바와 같은 삼중 글레이징의 용도에 관한 것이기도 한다.
물론, 가열 장치와 관련하여 위에서 설명한 모든 특징들은 간결함을 위해 여기에서 반복되지는 않지만 상기 벽 또는 도어에도 해당된다.
본 발명에 따라 사용되는 투명 기판들은 바람직하게는 경질 광물 재료, 바람직하게는 유리, 특히 소다 석회 실리카, 보로실리케이트 또는 알루미노실리케이트 유리로 제조된다. 유리 세라믹으로 만들 수도 있다. 유리한 일실시 예에 따르면, 기판은 매우 높은 온도를 잘 견디는 보로실리케이트 유리이다.
기판(들)의 두께는 일반적으로 0.5 mm와 19 mm 사이에서 다양하다. 기판(들)의 두께는 바람직하게는 6 mm 이하, 또는 4 mm 이하이다.
스택들으로 코팅된 투명 기판들은 어닐링, 예를 들어 레이저 또는 화염 어닐링, 템퍼링 및/또는 굽힘과 같은 플래시 어닐링(flash annealing)으로부터 선택된 고온 열처리를 거칠 수 있다. 열처리 온도는 400 ℃ 초과, 바람직하게는 450 ℃ 초과 또는 심지어 500 ℃ 초과이다. 따라서 스택으로 코팅된 기판은 구부러지고 및/또는 템퍼링될 수 있다. 각면 상에 스택으로 코팅된 제1 기판은 특히 가열 장치 또는 내화 도어의 구성 요소로 사용되는 글레이징의 일부를 형성하는 경우 강화 유리 인 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 글레이징은 삼중 글레이징이므로 세 개의 기판, 보다 바람직하게는 유리 기판들, 즉 내부 기판 (제1 기판), 중앙 또는 중간 기판 (제2 기판) 및 외부 기판 (제3 기판), 따라서 여섯 개의 면들을 획정하는 세개의 기판을 포함한다. 면1은 가열 장치의 내부를 향하므로 글레이징의 내부 벽을 형성한다. 면 2 내지 5는 삼중 글레이징의 내부에 있다. 면6은 가열 장치의 외부에 있으므로 글레이징의 외부 벽을 형성한다.
제1 스택과 관련하여, 이것은 바람직하게는 열 반사 기능층으로서 투명한 전도성 산화물로 만들어진 하나 이상의 기능 층을 포함한다 (따라서 특히 은과 같은 금속으로 만들어진 다른 전도성 층은 없다). 본 발명에 따르면, ITO 유형의 투명 전도성 산화물, 즉 혼합된 인듐 주석 산화물을 기반으로 하고 바람직하게는 이로 만들어진 기능층을 포함하는 임의의 코팅이 사용된다. "기초한(based on)"이라는 표현은 특히 본 발명의 맥락에서 문제의 층이 문제의 화합물의 적어도 80 %, 또는 90 % 및 심지어 95 중량 %를 포함하는 것을 의미하는 것으로 이해된다. 층은 유리하게는 그러한 화합물로 구성되거나 본질적으로 구성될 수 있다. 바람직하게는, 증착 된 스택은 기능성 층(들)이 ITO를 기반으로하는 스택이다. 산화물에서 Sn의 원자 백분율은 유리하게는 5 % 내지 70 %, 특히 10 % 내지 60 % 범위 내에 있다. 보다 구체적으로, 본 발명에 따르면, 바람직하게는 인듐(III) 산화물(In2O3) 및 주석(IV) 산화물(SnO2)의 혼합물 층으로 제조되며, 첫 번째의 중량 비율은 약 85 % 내지 95 %이다. 두 번째의 중량 비율은 약 15 % 내지 5 %이다. 특히, 이러한 전도성이지만 그럼에도 불구하고 투명한 층들은 낮은 저항 또는 면저항과 상관 관계가 있는 낮은 방사율을 가지고 있다. 이들은 스퍼터링 진공 증착 및 선택적으로 마그네트론 스퍼터링 진공 증착으로 얻은 재료 층들이다. 더욱 특히, 예기치 않게, 이러한 ITO 기반 스택들을 은으로 만든 기능성 (반사)층을 포함하는 저 방사 코팅과 유리 기판의 다른 면에서 결합했을 때 훨씬 더 나은 성능이 얻어졌다.
본 발명의 바람직한 일실시 예에 따르면, 제1 면 상에 증착된 스택은 ITO에 기초한 두 개의 기능성 층들을 포함하는 스택이고, 두 개의 기능성 층들은 적어도 하나의 유전체 재료 층에 의해 분리된다.
ITO에 기초한 각 층은 특히 20 내지 80 nm, 특히 30 내지 80 nm 범위 내에서 물리적 두께를 가질 수 있다. ITO에 기초한 모든 층들의 누적된 물리적 두께는 바람직하게는 40 내지 200 nm, 특히 60 내지 160 nm 범위 내에 있다.
상기 각각의 중간 유전체 층은 바람직하게는 실리콘, 알루미늄, 티타늄, 주석, 아연, 지르코늄, 니오븀, 니켈, 크롬 또는 이들의 혼합물 중의 하나의 산화물, 질화물 또는 산 질화물로부터 선택된 화합물을 기반으로 한다. 이는 바람직하게는 본질적으로 그러한 화합물로 실제로 구성되거나 또는 구성된다.
보다 구체적으로, 중간 유전체 층(들)은 바람직하게는 본질적으로 실리콘 및/또는 알루미늄의 산화물, 질화물 또는 산 질화물, 티타늄의 질화물 또는 산화물, 니켈 및 크롬 산화물, 니오븀 질화물 또는 주석 및 아연의 산화물로부터 선택된 화합물로 구성된다. 바람직하게는, 상기 각각의 중간 유전체 층은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 티타늄 산화물 또는 아연 주석 산화물을 기초로 한다 (또는 본질적으로 그것으로 구성된다). 실리콘 질화물 또는 실리콘 산화물이 특히 바람직하다. 실리콘 질화물 또는 아연 주석 산화물은 굴절률이 ITO의 굴절률에 가까워서 그 존재가 스택의 광학적 특성을 변경하지 않기 때문에 특히 높이 평가된다. 바람직하게는, 550 nm의 파장에 대한, 중간층(들) (특히 단일 중간층)의 굴절률은 적어도 1.8, 특히 1.9이며, 유리하게는 1.8 내지 2.5 범위, 특히 1.9에서 2.2의 범위 내에 있다. ITO에 기초한 층들을 분리하는 중간층들의 수는 바람직하게는 1 내지 5, 특히 1 내지 3 또는 1 또는 2로 다양하다. 유리하게는, 얇은 층들의 스택은 투명한 전기 전도성 산화물에 기초한 적어도 두 개의 층들 (특히 두 개의 층들)을 포함하며, 이들 층은 최대 두 개의 중간층들, 특히 단일 중간층에 의해 분리된다.
바람직한 조합들 중에서, 스택은 기판으로부터 시작하여 연속적으로 다음을 포함한다 (또는 다음으로 구성된다):
- 예를 들어 실리카에 기초하거나 본질적으로 이로 구성된 접착층;
- 제1 ITO 층;
- 예를 들어 실리카, 실리콘 질화물 또는 아연 주석 산화물에 기초하거나 본질적으로 이로 구성된 중간 유전체 층;
- 제2 ITO 층;
- 예를 들어 실리콘 질화물에 기초하거나 본질적으로 이로 구성되는 산소 장벽을 형성하는 층; 및
- 예를 들어 실리카에 기초하거나 본질적으로 이로 구성된 저 굴절률 층.
금 또는 바람직하게는 은으로부터 선택된 금속에 기초하는 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제 2 스택과 관련하여, 특히 삼중 글레이징의 면 (2)에 위치한다.
금을 기초로 하거나 바람직하게는 은을 기초로 하는 층들은 일반적으로 복수의 유전체 층을 포함하는 유전체 코팅들 사이에 증착되어 스택의 광학적 특성들이 조정될 수 있도록 하고, 챔버가 외부에서 보이도록 충분한 빛의 투과를 허용한다. 이러한 유전체 층들은 또한 화학적 또는 기계적 공격으로부터 은 층을 보호하는 것을 가능하게 한다. 따라서, 얇은 층들의 스택은 유리하게는 적어도 하나의 은을 기초로 하는(silver-based) 기능성 금속층 및 적어도 두개의 유전체 코팅들을 포함하고, 각각의 유전체 코팅은 적어도 하나의 유전체 층을 포함하여 각각의 기능성 금속층이 두 개의 유전체 코팅들 사이에 배치된다.
스택은 스퍼터링, 특히 마그네트론 스퍼터링 (마그네트론 공정)에 의해 증착된다. 이 유리한 실시예에 따르면, 스택의 모든 층들은 마그네트론 스퍼터링에 의해 증착된다.
달리 명시되지 않는 한, 본 명세서에 언급된 두께는 물리적 두께이다. 얇은 층은 그 성질과 조성에 따라 0.1 nm에서 200 미크론 사이의 두께를 갖는 층을 의미하는 것으로 이해된다.
명세서 전반에 걸쳐, 본 발명에 따른 기판은 수평으로 위치되는 것으로 간주된다. 얇은 층들의 스택이 기판 위에 증착된다. "위(above)"와 "아래(below)", "g하부(lower)" 및 "상부(upper)"라는 표현의 의미는 이 방향과 관련하여 고려되어야 한다. 특별히 규정되지 않는 한, "위"및 "아래"라는 표현은 반드시 두 개의 층들 및/또는 코팅들이 서로 접촉하여 위치하는 것을 의미하지는 않는다. 층이 다른 층 또는 코팅과 "접촉하여" 증착된다라고 구체화되어 있으면, 이는 이 두 층들 사이에 하나 이상의 층들이 삽입될 수 없음을 의미한다.
기능성 금속층은 전형적으로는 은을 기반으로 하며 일반적으로 기능성 층의 중량에 대해 적어도 80 %, 바람직하게는 적어도 90 %, 더 좋게는 적어도 95 % 또는 심지어 적어도 98 중량 %의 은을 포함한다. 은을 기초로 하는 금속 기능성 층은 바람직하게는 은을 기초로 하는 금속 기능성 층의 중량에 대해 은 이외의 금속을 1.0 중량 % 미만으로 포함한다.
은을 기초로 하는 기능성 금속층의 두께는 선호도가 증가하는 순서로 5 내지 20 nm, 8 내지 15 nm이다.
스택은 적어도 하나의 차단층(blocking layer)을 포함할 수 있으며, 그 기능은 유전체 코팅의 증착 또는 열처리와 관련된 임의의 열화를 방지함으로써 은층들을 보호하는 것이다. 이러한 차단층들은 바람직하게는 은을 기초로 하는 기능성 금속층과 접촉하여 위치한다.
스택은 은을 기초로 하는 기능성 금속층 아래에 위치하고 그와 직접 접촉하는 적어도 하나의 차단층 및/또는 은을 기초로 하는 기능성 금속층 위에 위치하고 그와 접촉하는 적어도 하나의 차단층을 포함 할 수 있다.
통상적으로 사용되는 차단층들 중, 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 티타늄(Ti), 크롬(Cr) 또는 니켈(Ni)로부터 선택된 금속을 기초로 하거나 또는 이들 중 적어도 두 개의 금속들, 특히 니켈-크롬 합금 (NiCr)으로부터 수득된 합금을 기초로 하는 차단층을 사용한다.
각 차단층 상부층 및 하부층의 두께는 바람직하게는 다음과 같다:
- 적어도 0.2 nm, 또는 적어도 0.5 nm, 및/또는
- 최대 5.0 nm 또는 최대 2.0 nm.
유전체 코팅은 15 nm 초과, 바람직하게는 15 내지 50 nm의 두께를 가지며 더 바람직하게는 30 내지 45 nm이다.
"배리어 기능을 갖는 유전체층"이라는 표현은 주변 대기 또는 투명 기판에서 발생하는 물과 산소의 기능층에로의 고온 확산에 대한 장벽을 형성할 수 있는 물질로 만들어진 층을 의미하는 것으로 이해된다. 배리어 기능을 갖는 유전체 층은 SiO2와 같은 산화물, 실리콘 질화물 Si3N4 및 알루미늄 질화물 AIN과 같은 질화물, 및 선택적으로 적어도 하나의 다른 원소를 사용하여 도핑된 산질화물 SiOxNy로부터 선택된 실리콘 및/또는 알루미늄 화합물에 기초할 수 있다. 배리어 기능을 갖는 유전체층은 또한 아연 주석 산화물을 기반으로 할 수도 있다.
"안정화 기능을 갖는 유전체층"이라는 표현은 기능층과 이 층 사이의 계면을 안정화 할 수 있는 물질로 만들어진 층을 의미하는 것으로 이해된다. 안정화 기능을 갖는 유전체 층은 바람직하게는 결정질 산화물, 특히 산화 아연을 기반으로 하며, 선택적으로 알루미늄과 같은 적어도 하나의 다른 원소에 의해 도핑된다. 안정화 기능을 갖는 유전체층(들)은 바람직하게는 산화 아연 층들이다.
안정화 기능을 갖는 유전체층(들)은 적어도 하나의 은을 기초로 하는 기능성 금속층 또는 각각 은을 기초로 하는 기능성 금속층의 위 및/또는 아래에 놓일 수 있고, 그와 직접 접촉하거나 차단층에 의해 분리될 수 있다.
유리한 일 실시예에 따르면, 실리콘 질화물 및/또는 알루미늄 질화물을 기반으로 하는 유전체층은 바람직하게는 보호 최상층과 접촉하며, 이는 유리하게는 특허 출원 WO 2016/097560에 설명된 바와 같이 티타늄 산화물 또는 티타늄 지르코늄 산화물을 기반으로 할 수 있다. 실리콘 질화물 및/또는 알루미늄 질화물을 기반으로하는 유전체 층의 두께는 다음과 같다.
- 100 nm 이하, 50 nm 이하 또는 45 nm 이하, 및/또는
- 15 nm 이상, 20 nm 이상 또는 25 nm 이상.
이 실시예에 따르면, 스택은 예를 들어 다음을 포함할 수 있다:
- 은을 기반으로 하는 기능성 금속층 아래에 위치한 유전체 코팅;
- 선택적으로 차단층;
- 은을 기반으로 하는 기능성 금속층;
- 선택적으로 차단층;
- 은을 기반으로 하는 기능성 금속층 위에 위치한 유전체 코팅; 과
- 보호 최상층.
일 실시예에 따르면, 스택(stack)은 다음을 포함한다 :
- 실리콘 질화물 및/또는 알루미늄 질화물에 기초한 적어도 하나의 유전체 층 및 선택적으로 산화 아연에 기초하고 안정화 기능을 갖는 유전체 층을 포함하는 은을 기반으로 하는 기능성 금속 층 아래에 위치한 유전체 코팅;
- 선택적으로 차단층;
- 은을 기초로 하는 기능성 금속층;
- 선택적으로 차단층;
- 실리콘 질화물 및/또는 알루미늄 질화물에 기초한 적어도 하나의 유전체 층을 포함하는 은을 기초로 하는 기능성 금속층 위에 위치한 유전체 코팅; 과
- 보호 최상층.
본 발명의 또 다른 가능한 실시예에 따르면, 제2 스택은 금 또는 바람직하게는 은으로부터 선택된 금속을 기반으로 하는 복수의 기능성 층들, 특히 은으로 제조된 두 개 또는 세 개의 층을 포함할 수 있으며, 이들 각각은 바람직하게는 특히 전술한 것과 같은 적어도 하나의 유전체 재료 층에 의해 다음 것들과 분리된다.
그러한 일 실시예에 따르면, 스택은 예를 들어 다음을 포함 할 수 있다:
- 은을 기반으로 하는 기능성 금속층 아래에 위치한 유전체 코팅;
- 선택적으로 차단층;
- 은을 기반으로 하는 제1 기능성 금속층;
- 선택적으로 차단층;
- 은을 기반으로 하는 제1 기능성 금속층 위에 위치한 유전체 코팅;
- 선택적으로 차단층;
- 은을 기반으로 하는 제2 기능성 금속층;
- 선택적으로 차단층;
- 은을 기반으로 하는 제2 기능성 금속층 위에 위치한 유전체 코팅 및
- 보호 최상층.
삼중 글레이징의 면3 또는 면4, 바람직하게는 삼중 글레이징의 면 3에 존재하는 코팅과 관련하여, 이 코팅은 바람직하게는 스택이고, 그의 기능층은 불소 도핑된 산화 주석(SnO2:F)을 기반으로 한다. 후자의 물질은 예를 들어 화학 기상 증착 (CVD), 선택적으로 플라즈마 강화 화학 기상 증착 (PECVD)과 같은 화학적 공정을 통해 통상적으로 증착된다.
대안적으로 및 또한 바람직하게는, 삼중 글레이징의 면3 또는 면4, 바람직하게는 삼중 글레이징의 면3에 존재하는 코팅은 스택이고, 그의 기능층은 은을 기반으로 하는 열 반사층 또는 특히 면 2에 대해 위에서 설명한 유형의 몇몇 은 기능성 층들을 포함한다.
본 발명의 다양한 실시예들은 여기에 첨부된 도 1과 관련하여 아래에 제시된다.
도 1은 본 발명에 따른 삼중 글레이징을 포함하는 가열 장치의 예를 도시한다.
도 1은 본 발명에 따른 삼중 글레이징을 포함하는 가열 장치의 예를 도시한다.
도 1에 따른 삼중 글레이징은 평행하게 배치된 세 개의 유리 기판을 포함하고, 따라서 장치의 공동의 내부에서 외부까지, 내부에서 외부로 통상적으로 1 내지 6으로 표시되는 6 개의 연속되는 유리 표면을 정의한다. 제1 유리 기판과 제2 유리 간격 사이에 간격 e1이 만들어졌다. 제1 유리 기판과 제2 유리 간격 사이에는 e1과 다른 간격 e2가 만들어졌다. 기판 사이의 간격들은 주변 압력에서 공기로 채워지고 외부와 유체 소통된다. 본 발명에 따른 세 가지 구성이 도 1에 나타난다.
a) 간격 e1은 14mm이고 간격 e2는 5mm (구성.1).
b) 간격 e1은 12mm이고 간격 e2가 7mm (구성. 2).
c) 간격 e1은 5mm이고 간격 e2는 14mm (구성. 3).
비교 구성 4(구성. 4)에 따르면, 세 개의 기판이 9.5mm의 동일한 거리만큼 간격으로 떨어진다.
실시예
다음의 모든 실시예들에서, 삼중 글레이징을 포함하고 도 1과 관련하여 위에서 설명한 구성에 따라 오븐(oven) 도어가 제조되었다.
더 구체적으로:
아래 정의된 바와 같이 얇은 층의 스택들은 4 mm 두께의 투명한 소다 석회 유리로 만들어진 제1 기판에 증착되었다:
특허 출원 WO 2015/033067의 실시예 1에 따른 스택이 기판의 제1면(1) 상에 증착되었다.
더 구체적으로, 다음의 스택A가 AC마그네트론 스퍼터링에 의해서 4 mm 두께의 투명한 소다 석회 실리카 유리 기판위에 증착되었다:
유리 / SiNx (2 nm) / SiO2 (34 nm) / ITO (118 nm) / SiNx (6 nm) / SiO2 (65 nm) / TiO2 (3 nm).
괄호 사이의 숫자는 각 층에 증착된 물리적 두께에 해당하며 나노 미터로 표시된다.
실리콘 산화물 층과 실리콘 질화물 층은 각각 산소와 질소가 첨가된 아르곤 플라즈마에서 (8 at%) 알루미늄으로 도핑된 실리콘 타겟을 사용하여 증착되었다. ITO 층들은 아르곤 플라즈마에서 ITO 타겟들을 사용하여 증착되었다. ITO 층은 인듐 (III) 산화물 (In2O3)과 주석 (IV) 산화물 (SnO2)의 혼합물로 구성되며, 첫 번째의 무게 비율은 약 90 %이고 두 번째 무게 비율은 약 10 %이다. SiNx 배리어 층은 2.0 μbar의 압력에서 증착되었습니다. 표준 FR-EN 12898에 따라 측정된 이 스택의 정상 방사율은 18 %이었다.
이 제1 기판의 제2 면(2) 상에, 은 기능층을 포함하고 그 정상 방사율이 3 % 인 다음 스택B가 종래의 스퍼터링 증착 기술을 사용하여 증착되었다 :
유리 / SiNx (30 nm) / ZnO (5 nm) / NiCr (0.5 nm) / Ag (12 nm) / NiCr (0.5 nm) / ZnO (5 nm) / SiNx (30 nm) / TiO2 (3 nm).
제2 기판으로 AGC에서 Planibel G®로 판매하는 기판을 사용했습니다. 이 기판은 4mm 두께의 투명 소다 석회 실리카 유리 시트를 포함하며, 한쪽 면에는 불소 도핑된 주석 산화물 층으로 구성된 코팅 C가 열분해-CVD에 의해 증착되었다.
제3 기판은 4mm 두께의 투명한 소다 석회 실리카 유리 시트였으며, 그 면들은 노출되었고, 즉 상기 코팅들로 덮여 있지 않았다.
실시예 1 내지 3 (본 발명에 따라)
도 1에서 기술된 구성들 A 내지 C에 따라 전술한 세개의 유리 기판들을 조립한 것을 포함하는 본 발명의 기술에 따라 오븐 도어들이 제작되었고 다음을 포함한다:
- 도어의 면(1)에 코팅A 및 도어의 면(2)에 코팅B를 포함하는 전술한 제1 기판,
- 코팅C가 도어 내부를 향하도록, 즉 삼중 글레이징 및 도어의 면(3)에 있는 Planibel G® 제2 기판,
- 그 다음, 삼중 글레이징(도 1 참조) 및 도어의 면들(5와 6)의 코팅되지 않은 면들인 제3 유리 기판.
실시예 1에 따르면, 처음 두 기판들 사이에 14 mm의 간격(e1)이 만들어졌고, 제2 및 제3 기판들 사이에 5 mm 간격(e2)가 만들어졌다.
실시예 2에 따르면, 처음 두 기판들 사이에 12 mm의 간격(e1)이 만들어졌고, 제2 및 제3 기판들 사이에 7 mm의 간격(e2)이 만들어졌다.
실시예 3에 따르면, 처음 두 기판들 사이에 5 mm의 간격(e1)이 만들어졌고, 제2 및 제3 기판들 사이에 14 mm의 간격(e2)가 만들어졌다.
실시예 4 (비교예)
실시예 4에 따르면, 실시예 1 내지 3과 동일한 제조 단계가 재현되었지만, 세 개의 유리 기판들이 9.5 mm의 동일한 거리만큼 이격되었다.
실시예 5 (비교예)
실시예 5에 따르면, 이번에는 오븐 도어 제조를 위해 실시예 4에 제4 유리 기판을 외부에 추가한 구성을 반복하여 사중 글레이징을 조립했으며, 제4 기판은 4mm 두께의 투명 유리 기판, 그 면들은 코팅이 되어 있지 않으며, 전기한 실시예들과 유사한 도어 두께를 유지하기 위해 각 기판은 6 mm의 거리만큼 다음 기판과 이격되어 있다.
실시예 6 (비교예)
실시예 6에 따르면, 이번에는 세 개의 Planibel G® 기판들을 사용하여 오븐 도어 제조를 위해 삼중 글레이징이 조립되었다. Planibel 기판들은 모두 코팅C가 도어 내부를 향하도록 배향되었다. 즉, 코팅C가 삼중 글레이징의 면 1, 3 및 5에 배치되었다. 이 실시예 6에 따르면, 처음 두 기판들 사이에 14 mm의 간격(e1)이 만들어졌고, 제2 및 제3 기판들 사이에 5 mm의 간격(e2)이 만들어졌다.
실시예 7 (비교예)
이 실시예 7에 따라, 이번에는 오븐 도어를 제작하기 위하여 실시예 6에서 서술되어 있는 세개의 Planibel G® 기판들을 사용하여 사중 글레이징이 조립되었다. Planibel 기판들은 사중 글레이징의 처음 세개의 기판들로서 사용되었다. 그것들은 모두 코팅C가 도어의 내부를 향하도록, 즉 코팅C가 사중 글레이징의 면 1, 3 및 5 위에 배치된다. 제4 기판은 4 mm 두께의 투명 유리 기판이고 그것의 면은 코팅되어 있지 않다. 기판들은 약 6 mm의 동일한 거리로 이격되어 있다.
저항기들이 갖추어져 있고 실시예 1 내지 6에 따른 다양한 도어가 구비된 공동(cavity)이 이제 430℃의 온도로 가열되었다.
그 결과들이 아래 표1에 나타나있다.
표1에서 스택A(ITO 기능성 층을 포함)로 코팅된 면은 A로 표시되어 있고, 스택B(은(silver) 기능성 층을 포함)로 코팅된 면은 B로 표시되어 있고, 코팅C(열분해 SnO2:F 층을 포함)로 코팅된 면은 C로 표시되어 있으며 코팅되어 있지 않은 면은 X로 표시되어 있다.
GIFAM(Groupement Interprofessionnel des Fabricants d'Appareils d'Equipement Menager, 가정용기기 제조자협회)에 따르면, 오븐 도어의 외벽 최대 온도는 기기가 "차가운 도어(cold door)" 기기라고 간주되기 위해서는 절대로 70℃를 넘지 말아야 한다고 설명되어 있다.
| 실시예 | F1 | F2 | F3 | F4 | F5 | F6 | F7 | F8 | e1 | e2 | e3 | 공동의 평균온도 (℃) |
외벽온도 (℃) |
| 1* | A | B | C | X | X | X | - | - | 14 | 5 | - | 430 | 67 |
| 2* | A | B | C | X | X | X | - | - | 12 | 7 | - | 430 | 70 |
| 3* | A | B | C | X | X | X | - | - | 5 | 14 | - | 430 | 70 |
| 4 | A | B | C | X | X | X | - | - | 9,5 | 9,5 | - | 430 | 77 |
| 5 | A | B | C | X | X | X | X | X | 6 | 6 | 6 | 430 | 65 |
| 6 | C | X | C | X | C | X | - | - | 14 | 5 | - | 430 | 83 |
| 7 | C | X | C | X | C | X | X | X | 6 | 6 | 6 | 430 | 73 |
* 발명
표1에서 도어 외벽의 온도는 도어 외부 유리판에서 측정된 최대 온도를 나타내고, e1은 기판1 및 기판2 사이의 간격이고, e2는 삼중 글레이징에서 기판2 및 기판3 사이의 간격이다. 사중 글레이징의 경우에서, e3는 기판3 및 기판4 사이의 간격이다.
표1에 나타난 결과는 본 발명의 장점들을 보여준다.
실시예 7은 현재 사용되는 오븐 도어의 대표적인 예이다. 그것은 사중 글레이징을 포함하고 있으며, 글레이징의 면 1, 3 및 5위에 열반사 코팅이 배치되어 있다. 공동의 평균 온도 430℃의 경우, 외부 온도가 73℃인 것이 관찰되었다.
기준 실시예 5는 다양한 유리 기판들의 면1, 2 및 3 위에 열반사 코팅들이 증착된 사중 글레이징이다. 이 구성에서, 외부와 접촉하는 도어의 외면(6) 위에서 측정된 최대 온도는 오븐의 공동이 430℃에 이르렀을 때 65℃와 동일하다. 이러한 온도는 오븐이 예를 들어 열분해 조건하에서 아주 높은 온도에 이르렀을 때 조차도 사용자의 안전을 보장하는 것을 가능하게 해준다. 그러나 이러한 구성의 단점은 네개의 유리 기판들을 사용하는 것과 관련이 있고, 이로써 도어가 무겁고 그것의 제조 비용이 상당히 더 비싸진다는 것이다.
실시예 4에서, 제4 기판이 제거되었고, 제1 및 제2 기판들 사이의 간격 e1과 제2 및 제3 기판들 사이의 간격 e2는 실질적으로 동일하게 유지되었다. 도어의 외부 온도가 상당히 증가한 것이 관찰되었다.
본 발명에 따른 실시예 1 내지 3에서, 실시예 4의 구성(삼중 글레이징 구성)의 수정하였다: 각각의 간격 e1 및 e2을 바꾸고 도어의 두께는 일정하게 유지하였다. 도어의 외부 온도가 기준 실시예 5에서의 도어 외부 온도와 비교할 수 있는 값으로 까지 상당히 감소된 것이 관찰되었다. e1이 e2보다 큰 본 발명의 특히 유리한 구성이 실시예 1에 의해서 실증된다.
따라서 본 발명에 따라서 및 삼중 글레이징을 상기 삼중 글레이징의 각각의 면 1, 2 및 3 위의 세개의 열반사 스택들과 세개의 유리 기판들 사이에 선택된 특별한 간격을 구비한 삼중 글레이징을 조합한 특별한 조합에 의해서, 더 가벼운, 그렇더라도, 모든 안전 보장 사항들을 갖춘 오븐 도어를 사용자에게 제공하는 것이 가능하다.
실시예 6은 현재 관행에 따라 실시예 7과 비교되어야 한다. (실시예 6) 제4 시판을 제거하는 것이 이 경우에는 비교로서 각각의 실시예 5 및 1 내지 3 사에서 관찰된 것 과 같은 세개의 시판들 사이의 다른 간격에 의해서 보상될 수 없다는 것이 관찰될 수 있다.
따라서 이러한 두가지 실시예들을 감안, 반사 코팅들의 배치와 기판들 사이 간격의 특별한 조합이 도어의 외면 온도를 최소하하는 것을 가능하게 한다.
1 제1 유리 기판
2 제2 유리 기판
3 제3 유리 기판
CAV 공동(cavity)
e1 제1 유리 기판과 제2 유리 기판 사이의 간격
e2 제2 유리 기판과 제3 유리 기판 사이의 간격
2 제2 유리 기판
3 제3 유리 기판
CAV 공동(cavity)
e1 제1 유리 기판과 제2 유리 기판 사이의 간격
e2 제2 유리 기판과 제3 유리 기판 사이의 간격
Claims (20)
- 가열 장치의 공동 내부에서 외부로 각각 1 내지 6으로 번호가 매겨진 면들을 획정하는 세 개의 투명 기판들을 갖는 삼중 글레이징을 포함하며 적어도 제1 기판의 면들(1 및 2) 및 제2 기판의 면(3)이 열 반사 코팅들로 덮여 있는 상기 가열 장치를 위한 도어에 있어서,
제1 기판과 제2 기판 사이의 평균 간격(e1) 및 제2 기판과 제3 기판 사이의 평균 간격(e2)는 다르고, 가장 큰 간격과 가장 작은 간격 사이의 비율은 1.1보다 크고, 또는 1.5보다 크고, 또는 2보다 크고, 또는 2.5보다 크고, e1 및 e2는 2 내지 20 mm 사이인 가열 장치를 위한 도어.
- 제1항에 있어서, 제1 기판의 면들(1 및 2)과 제2 기판의 면(3)은 열 반사 코팅들로 덮여 있고 면4 내지 면6은 열반사 코팅이 없는 가열 장치를 위한 도어.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, e1> e2 인 가열 장치를 위한 도어.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, e2> e1 인 가열 장치를 위한 도어.
- 제1항에 있어서, 상기 삼중 글레이징은
a) 공동과 접촉하는 제1 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향하며 공동과 직접 접촉하는 제1 면(1) 상에, 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제1 스택(stack),
- 상기 공동의 외부를 향하는 다른 면(2) 상에, 금 또는 은으로부터 선택된 금속에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제2 스택,
b) 제2 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향한 면(3) 상에, 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제 3 스택을 포함하는 가열 장치를 위한 도어.
- 제1항에 있어서, 상기 삼중 글레이징은
a) 공동과 접촉하는 제1 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향하며 공동과 직접 접촉하는 제1 면(1) 상에, 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제1 스택(stack),
- 상기 공동의 외부를 향하는 다른 면(2) 상에, 금 또는 은으로부터 선택된 금속에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제2 스택,
b) 제2 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향한 면(3) 상에, 은을 기초로 한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제3 스택을 포함하는 가열 장치를 위한 도어.
- 공동(cavity)을 획정하는 챔버를 구비한 가열 장치로서, 상기 장치는 공동의 내부에서 외부로 각각 1 내지 6으로 번호가 매겨진 면들을 획정하는 세 개의 투명 기판들을 포함하는 삼중 글레이징을 통합하는 제1항 또는 제2항에 따른 도어를 포함하며, 적어도 제1 기판의 면들(1 및 2) 및 제2 기판의 면들(3 또는 4 또는 3과 4 모두)은 열반사 코팅들로 덮여지는 가열 장치에 있어서,
제1 기판과 제2 기판 사이의 평균 간격(e1)과 제2 기판과 제3 기판 사이의 평균 간격(e2)은 상이하고, 가장 큰 간격과 가장 작은 간격 사이의 비율은 1.1보다 크고, 또는 1.5보다 크고, 또는 2보다 크고 또는 2.5보다 크며, e1 및 e2는 2 내지 20 mm 사이인 것을 특징으로 하는 가열 장치.
- 제7항에 있어서, e1 및 e2는 4 내지 15 mm 사이인 가열 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 삼중 글레이징은
a) 공동과 접촉하는 제1 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향하며 공동과 직접 접촉하는 제1 면(1) 상에, 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제1 스택(stack),
- 상기 공동의 외부를 향하는 다른 면(2) 상에, 금 또는 은으로부터 선택된 금속에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제2 스택,
b) 제2 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향한 면(3) 상에, 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제 3 스택,
- 열 반사 코팅이 없는 제2 기판의 면(4), 열 반사 코팅이 없는 면들(5 및 6)을 포함하는 가열장치.
- 제7항에 있어서, 상기 삼중 글레이징은
a) 공동과 접촉하는 제1 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향하며 공동과 직접 접촉하는 제1 면(1) 상에, 혼합된 인듐 주석 산화물 또는 불소 또는 안티몬(Sb) 도핑된 주석 산화물로부터 선택되는 투명한 전도성 산화물에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제1 스택(stack),
- 상기 공동의 외부를 향하는 다른 면(2) 상에, 금 또는 은으로부터 선택된 금속에 기초한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제2 스택,
b) 제2 기판의 경우 :
- 상기 공동의 내부를 향한 면(3) 상에, 금 또는 은으로부터 선택된 금속을 기초로 한 하나 이상의 기능성 층들에 의해 본질적으로 열을 반사하는 제3 스택,
- 열 반사 코팅이 없는 제2 기판의 면(4), 열 반사 코팅이 없는 제3 기판의 면들(5 및 6)을 포함하는 가열 장치.
- 제7항에 있어서, 제1 기판의 제2 면(2)상의 제2 코팅은 적어도 하나의 은을 기초로 하는 기능성 금속 층과 적어도 두 개의 유전체 어셈블리들을 포함하고, 각각의 유전체 어셈블리는 적어도 하나의 유전체 층을 포함하고, 각각의 은을 기초로 하는 층은 두 개의 유전체 층들 사이에 위치하는 가열 장치.
- 제7항에 있어서, 제2 기판의 제1 면(3) 또는 제2 기판의 제2 면(4)상의 제3 코팅은 적어도 하나의 은을 기초로 하는 기능성 금속 층 또는 적어도 두 개의 유전체 어셈블리들을 포함하고, 각각의 유전체 어셈블리는 적어도 하나의 유전체 층을 포함하여, 각각 은을 기초로 하는 층은 두 유전체 층들 사이에 위치하는 가열 장치.
- 제7항에 있어서, 적어도 스택의 코팅된 기판은 구부러지고 또는 템퍼링되고 또는 구부러지며 템퍼링되고 또는 글레이징의 모든 기판들은 템퍼링되는 가열 장치.
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|---|---|---|---|---|
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Patent Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
| US5337727A (en) | 1992-03-25 | 1994-08-16 | Schott Glaswerke | Window for a device with elevated inner chamber temperature |
| US20120084963A1 (en) * | 2009-02-19 | 2012-04-12 | Guardian Industries Corp. | Coated article with sputter-deposited transparent conductive coating capable of surviving harsh environments, and method of making the same |
| WO2011104034A1 (en) * | 2010-02-26 | 2011-09-01 | Electrolux Home Products Corporation N.V. | An oven door for a domestic cooking oven |
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