KR102645712B1 - Wafer processing apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판이 수용되고, 진공밀폐되도록 형성된 로드락 챔버; 상기 로드락 챔버가 수용되는 반응 챔버; 및 상기 반응 챔버 내에 수용된 상기 로드락 챔버를 향해 연장되고, 상기 로드락 챔버를 열고 닫을 수 있도록 형성된 개폐부재를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.The present invention includes a load lock chamber formed to accommodate a substrate and be vacuum sealed; a reaction chamber in which the load lock chamber is accommodated; and an opening and closing member extending toward the load lock chamber accommodated in the reaction chamber and configured to open and close the load lock chamber.

Description

기판 처리 장치{WAFER PROCESSING APPARATUS}Substrate processing device {WAFER PROCESSING APPARATUS}

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 구체적으로, 기판이 수용된 로드락 챔버를 챔버 하우징에 대해 로딩 및 언로딩할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and specifically, to a substrate processing apparatus capable of loading and unloading a load lock chamber containing a substrate into a chamber housing.

기판 처리 장치(예를 들어, 반도체 제조 장치)는 진공으로 유지되는 챔버 내에 수용된 기판에 막형성 등의 공정이 수행되도록 형성된다.A substrate processing apparatus (eg, a semiconductor manufacturing apparatus) is formed so that a process such as film formation is performed on a substrate accommodated in a chamber maintained in a vacuum.

이러한 기판 청리 장치는 높은 청정도를 유지할 수 있는 클린룸 내에 설치되며, 기판이 수용되는 챔버 내부 역시 높은 청정도를 유지함과 동시에 외기로 인한 오염을 최소화할 수 있는 진공 분위기(진공 환경)로 유지된다. This substrate cleaning device is installed in a clean room that can maintain high cleanliness, and the inside of the chamber where the substrates are received is also maintained in a vacuum atmosphere that can maintain high cleanliness and minimize contamination from outside air.

이러한 챔버에 대하여 기판을 로딩하거나 언로딩할 때, 기판이 오염되거나 또는 주변 환경의 기체와 반응할 수 있는 문제가 있다. When loading or unloading a substrate into such a chamber, there is a problem that the substrate may become contaminated or react with gases in the surrounding environment.

한편, 종래의 기판 처리 장치는 챔버에 대한 기판의 로딩 및 언로딩 시에 발생될 수 있는 오염을 최소화하기 위하여, 버퍼 장치, 로드락 챔버 및 프로세스 모듈과 같은 챔버들을 각각 별도로 마련하고 있다.Meanwhile, a conventional substrate processing apparatus provides separate chambers such as a buffer device, a load lock chamber, and a process module in order to minimize contamination that may occur during loading and unloading of a substrate into the chamber.

즉, 종래의 기판 처리 장치는 기판의 이송 중에 오염 및 (산화 등의) 반응을 최소화하기 위하여, 전술한 복수개의 챔버들이 나란히 또는 순차적으로 마련되어야 한다.That is, in a conventional substrate processing apparatus, the plurality of chambers described above must be provided side by side or sequentially in order to minimize contamination and reactions (such as oxidation) during substrate transfer.

이러한 종래의 기판 처리 장치는 복수개의 챔버를 위한 공간이 확보되어야 하는 문제가 있다. This conventional substrate processing apparatus has a problem in that space for a plurality of chambers must be secured.

또한, 종래의 기판 처리 장치는 복수의 챔버가 마련됨에도 불구하고, 기판의 이송 중에 기판이 대기 환경에 노출되어 오염되거나, 기체와 반응(예를 들어, 산화)할 수 있는 문제가 있다. In addition, although the conventional substrate processing apparatus is provided with a plurality of chambers, there is a problem in that the substrate may be exposed to the atmospheric environment during transport and become contaminated or react with gas (for example, oxidation).

예를 들어, 등록특허공보 제10-1137665호는 종래의 로드락 챔버를 개시하고 있다.For example, Patent Registration No. 10-1137665 discloses a conventional load lock chamber.

본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위한 것으로서, 기판 처리 장치의 설치를 위한 공간을 최소화할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is intended to solve the above-mentioned problems, and its purpose is to provide a substrate processing device that can minimize the space for installation of the substrate processing device.

또한, 본 발명은 기판이 수용된 로드락 챔버 자체가 반응 챔버 내에 수용되어, 기판의 오염 및 산화 등을 보다 확실하게 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing device in which the load lock chamber itself, in which the substrate is accommodated, is accommodated in the reaction chamber, thereby more reliably preventing contamination and oxidation of the substrate.

또한, 본 발명은 로드락 챔버가 반응 챔버 내에 수용된 상태에서, 로드락 챔버를 용이하게 열고 닫을 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus that can easily open and close a load lock chamber while the load lock chamber is accommodated in a reaction chamber.

또한, 본 발명은 기판이 진공 상태로 유지되는 로드락 챔버에 수용된 상태에서, 반응 챔버 내로 로딩 및 반응 챔버로부터 언로딩되도록 할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus that allows a substrate to be loaded into and unloaded from a reaction chamber while being accommodated in a load lock chamber maintained in a vacuum state.

본 발명은 전술한 목적을 달성하기 위한 것으로서, 진공밀폐된 상태로 기판을 수용하는 로드락 챔버; 상기 로드락 챔버가 수용되는 반응 챔버; 및 상기 로드락 챔버를 개폐하도록 형성된 개폐부재를 포함하고, 상기 개폐부재는 상기 반응 챔버에 형성된 제1홀을 통하여, 상기 로드락 챔버를 향해 연장되는 기판 처리 장치가 제공된다.The present invention is intended to achieve the above-mentioned object, and includes a load lock chamber that accommodates a substrate in a vacuum-sealed state; a reaction chamber in which the load lock chamber is accommodated; and an opening and closing member configured to open and close the load lock chamber, wherein the opening and closing member extends toward the load lock chamber through a first hole formed in the reaction chamber.

따라서, 이동 가능한(즉, 이송 가능한) 상기 로드락 챔버가 상기 반응 챔버 내에 수용되므로, 기판의 이송 중에 발생될 수 있는 오염 및 외부 기체와의 불필요한 반응이 방지될 수 있다. Accordingly, since the movable (i.e., transferable) load lock chamber is accommodated in the reaction chamber, contamination that may occur during transfer of the substrate and unnecessary reaction with external gas can be prevented.

또한, 상기 제1홀은 상기 반응 챔버의 상면에 형성되고, 상기 제1홀은 상기 개폐부재가 관통한 상태에서 실링될 수 있다. 따라서, 상기 개폐부재의 조작 중에도 반응 챔버 내는 진공상태로 유지될 수 있다.Additionally, the first hole may be formed on the upper surface of the reaction chamber, and the first hole may be sealed with the opening and closing member penetrating through the first hole. Accordingly, the reaction chamber can be maintained in a vacuum state even during operation of the opening and closing member.

또한, 상기 로드락 챔버는 회전을 통해 서로 결합 및 분리되는 제1케이스 및 제2케이스를 포함하고, 상기 제1케이스 및 상기 제2케이스 중 하나에는 상기 개폐부재의 일단부에 형성된 제1결합부가 회전결합되는 제2결합부가 형성될 수 있다.In addition, the load lock chamber includes a first case and a second case that are coupled and separated from each other through rotation, and one of the first case and the second case has a first coupling portion formed on one end of the opening and closing member. A second coupling portion that is rotationally coupled may be formed.

따라서, 진공상태인 상기 반응 챔버 내에 수용되어 있는 상기 로드락 챔버의 제1케이스 및 제2케이스가 상기 개폐부재를 통해 서로 분리될 수 있고, 상기 로드락 챔버 내의 기판이 반응 챔버 내의 반응 공간으로 노출될 수 있다.Therefore, the first case and the second case of the load lock chamber accommodated in the reaction chamber in a vacuum state can be separated from each other through the opening and closing member, and the substrate in the load lock chamber is exposed to the reaction space in the reaction chamber. It can be.

또한, 기판 처리 장치는 상기 반응 챔버에 형성된 제2홀을 통하여, 상기 로드락 챔버를 향해 연장되는 누름 바를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 제2홀은 상기 반응 챔버의 상면에 형성되며, 상기 제2홀은 상기 누름 바가 관통한 상태에서 실링될 수 있다.Additionally, the substrate processing apparatus may further include a push bar extending toward the load lock chamber through a second hole formed in the reaction chamber. At this time, the second hole is formed on the upper surface of the reaction chamber, and the second hole can be sealed with the push bar penetrating through it.

따라서, 반응 챔버를 진공으로 유지시킨 상태에서, 상기 개폐부재와 상기 누름 바의 조작을 통해 반응 챔버 내의 로드락 챔버를 용이하게 개폐할 수 있다.Therefore, while the reaction chamber is maintained in a vacuum, the load lock chamber within the reaction chamber can be easily opened and closed by manipulating the opening and closing member and the push bar.

또한, 상기 제1홀과 상기 제2홀은 상기 반응 챔버의 상면에서 서로 이격되어 배치될 수 있다. 따라서, 상기 개폐부재와 상기 누름 바의 조작이 별도로 각각 이루어질 수 있다.Additionally, the first hole and the second hole may be arranged to be spaced apart from each other on the upper surface of the reaction chamber. Accordingly, the opening and closing member and the push bar can be operated separately.

또한, 상기 로드락 챔버는 회전을 통해 서로 결합 및 분리되는 제1케이스 및 제2케이스를 포함하고, 상기 제2케이스의 상면에는, 상기 누름 바의 일단부가 선택적으로 결합되는 누름 홈이 형성될 수 있다.In addition, the load lock chamber includes a first case and a second case that are coupled and separated from each other through rotation, and a pressing groove to which one end of the pressing bar is selectively coupled may be formed on the upper surface of the second case. there is.

따라서, 상기 샤프트의 제2방향 회전을 통해 상기 제2케이스를 상기 제1케이스에 결합시킨 후에, 상기 누름 바를 통해 상기 제2케이스의 회전을 방지한 상태로 상기 샤프트를 제2방향으로 계속 회전시키면, 상기 샤프트가 상기 제2케이스로부터 분리될 수 있다. 또한, 누름 바의 조작 시에도 반응 챔버 내의 진공 상태가 유지될 수 있다.Therefore, after coupling the second case to the first case through rotation of the shaft in the second direction, if the shaft continues to rotate in the second direction while preventing rotation of the second case through the push bar , the shaft may be separated from the second case. Additionally, the vacuum state in the reaction chamber can be maintained even when the push bar is operated.

본 발명에 따르면, 기판 처리 장치의 설치를 위한 공간을 최소화할 수 있는 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a substrate processing device that can minimize the space for installing the substrate processing device.

또한, 본 발명은 기판이 수용된 로드락 챔버 자체가 반응 챔버 내에 수용되어, 기판의 오염 및 산화 등을 보다 확실하게 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a substrate processing device in which the load lock chamber itself, in which the substrate is accommodated, is accommodated in the reaction chamber, thereby more reliably preventing contamination and oxidation of the substrate.

또한, 본 발명은 로드락 챔버가 반응 챔버 내에 수용된 상태에서, 로드락 챔버를 용이하게 열고 닫을 수 있는 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.Additionally, the present invention can provide a substrate processing apparatus that can easily open and close the load lock chamber while the load lock chamber is accommodated in the reaction chamber.

또한, 본 발명에 따르면 기판이 진공 상태로 유지되는 로드락 챔버에 수용된 상태에서 반응 챔버 내로 로딩 및 반응 챔버로부터 언로딩되기 때문에, 기판의 이송과정에서의 기판의 오염을 보다 확실하게 방지할 수 있다.In addition, according to the present invention, since the substrate is loaded into and unloaded from the reaction chamber while housed in a load lock chamber maintained in a vacuum state, contamination of the substrate during the transfer process can be more reliably prevented. .

도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치가 분해된 상태를 나타내는 단면도이다.
도 2는 반응 챔버 내에 로드락 챔버가 수용된 상태에서, 밀폐된 로드락 챔버에 개폐부재(샤프트)가 결합된 상태를 나타내는 도면이다.
도 3은 반응 챔버 내에 로드락 챔버가 수용된 상태에서, 개폐부재(샤프트)에 의해 로드락 챔버가 개방되는 과정을 나타내는 도면이다.
도 4는 반응 챔버 내에 로드락 챔버가 수용된 상태에서, 개폐부재(샤프트)에 의해 로드락 챔버가 밀폐되는 과정을 나타내는 도면이다.
도 5는 반응 챔버 내에 로드락 챔버가 수용된 상태에서, 개폐부재(샤프트)가 로드락 챔버로부터 분리되는 과정을 나타내는 도면이다.1 is a cross-sectional view showing the disassembled state of the substrate processing apparatus according to the present invention.
Figure 2 is a diagram showing a state in which the load lock chamber is accommodated in the reaction chamber and the opening and closing member (shaft) is coupled to the sealed load lock chamber.
Figure 3 is a diagram showing a process in which the load lock chamber is opened by an opening and closing member (shaft) while the load lock chamber is accommodated in the reaction chamber.
Figure 4 is a diagram showing the process of sealing the load lock chamber by an opening and closing member (shaft) while the load lock chamber is accommodated in the reaction chamber.
Figure 5 is a diagram showing a process in which the opening and closing member (shaft) is separated from the load lock chamber while the load lock chamber is accommodated in the reaction chamber.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 첨부된 도면을 참고하여 상세히 설명한다. 첨부된 도면은 본 발명의 예시적인 형태를 도시한 것으로, 이는 본 발명을 보다 상세히 설명하기 위해 제공되는 것일 뿐, 이에 의해 본 발명의 기술적인 범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. The attached drawings show exemplary forms of the present invention, which are provided only to explain the present invention in more detail, and do not limit the technical scope of the present invention.

또한, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응되는 구성요소는 동일한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복 설명은 생략하기로 하며, 설명의 편의를 위하여 도시된 각 구성 부재의 크기 및 형상은 과장되거나 축소될 수 있다.In addition, regardless of the drawing symbols, identical or corresponding components will be assigned the same reference number and duplicate description thereof will be omitted. For convenience of explanation, the size and shape of each component shown may be exaggerated or reduced. there is.

한편, 제 1 또는 제 2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들이 상기 용어들에 의해 한정되지 않으며, 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별시키는 목적으로만 사용된다.Meanwhile, terms including ordinal numbers, such as first or second, can be used to describe various components, but the components are not limited by the terms, and the terms are used to separate one component from another component. It is used only for distinguishing purposes.

도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치가 분해된 상태를 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the disassembled state of the substrate processing apparatus according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 기판이 수용되는 로드락 챔버(100), 상기 로드락 챔버(100)가 수용되는 반응 챔버(200), 상기 로드락 챔버(100)를 향해 연장되고 상기 로드락 챔버(100)를 개폐하도록 형성된 개폐부재(300)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the substrate processing apparatus according to the present invention is directed toward a load lock chamber 100 in which a substrate is accommodated, a reaction chamber 200 in which the load lock chamber 100 is accommodated, and the load lock chamber 100. It includes an opening and closing member 300 that extends and is formed to open and close the load lock chamber 100.

상기 로드락 챔버(100), 상기 반응 챔버(200) 및 상기 개폐부재(300)는 금속 소재로 형성될 수 있다. The load lock chamber 100, the reaction chamber 200, and the opening and closing member 300 may be formed of a metal material.

상기 로드락 챔버(100)는 기판(예를 들어, 처리 대상인 샘플 기판)을 수용하도록 형성될 수 있다. 상기 로드락 챔버(100)는 기판이 놓이는 제1케이스(110) 및 상기 제1케이스(110)에 분리가능하게 결합되는 제2케이스(120)를 포함한다. 예를 들어, 상기 제1케이스(110) 및 상기 제2케이스(120)는 하부케이스 및 상부케이스가 될 수 있다. 즉, 상기 제1케이스(110) 및 상기 제2케이스(120)는 상하방향으로 서로 결합될 수 있다. The load lock chamber 100 may be formed to accommodate a substrate (eg, a sample substrate to be processed). The load lock chamber 100 includes a first case 110 on which a substrate is placed and a second case 120 detachably coupled to the first case 110. For example, the first case 110 and the second case 120 may be a lower case and an upper case. That is, the first case 110 and the second case 120 can be coupled to each other in the vertical direction.

상기 제2케이스(120)는 제1케이스(110)에 회전을 통하여 결합 및 분리될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1케이스(110)의 외주면에 나사산이 형성되고, 상기 제2케이스(120)의 내주면에 나사산이 형성되어 상기 제2케이스(120)가 상기 제1케이스(110)에 회전을 통해 결합 및 분리될 수 있다. The second case 120 can be coupled to and separated from the first case 110 through rotation. For example, a screw thread is formed on the outer peripheral surface of the first case 110, and a screw thread is formed on the inner peripheral surface of the second case 120 so that the second case 120 rotates with the first case 110. Can be combined and separated through.

구체적으로, 상기 제1케이스(110)는 바닥벽 및 상기 바닥벽으로부터 연장되는 제1측벽을 구비하고, 상기 제2케이스(120)는 상벽 및 상기 상벽으로부터 연장되는 제2측벽을 구비할 수 있다. 상기 제2측벽은 상기 제1측벽을 둘러싸도록 형성될 수 있다. 즉, 상기 제2측벽은 상기 제1측벽보다 반경방향 외측에 배치될 수 있다. 다시 말해서, 상기 상벽의 직경은 상기 바닥벽의 직경보다 클 수 있다. Specifically, the first case 110 may have a bottom wall and a first side wall extending from the bottom wall, and the second case 120 may have an upper wall and a second side wall extending from the upper wall. . The second side wall may be formed to surround the first side wall. That is, the second side wall may be disposed radially outer than the first side wall. In other words, the diameter of the upper wall may be larger than the diameter of the bottom wall.

그리고, 상기 제1케이스(110)의 측벽의 외면에 제1나사산이 형성되고, 상기 제2케이스(120)의 측벽의 내면에 상기 제1나사산과 맞물리는 제2나사산이 형성될 수 있다. Additionally, a first screw thread may be formed on the outer surface of the side wall of the first case 110, and a second screw thread that engages with the first screw thread may be formed on the inner surface of the side wall of the second case 120.

상기 제2케이스(120)와 상기 제1케이스(110)의 결합에 의해 상기 로드락 챔버(100)는 진공밀폐될 수 있다. 도시되어 있지는 않지만, 로드락 챔버(100)의 진공밀폐를 위해, 상기 제1케이스(110) 및 상기 제2케이스(120) 중 적어도 하나에 밀봉링 등의 실링부재가 구비되는 것도 가능하다.The load lock chamber 100 can be vacuum sealed by combining the second case 120 and the first case 110. Although not shown, in order to vacuum seal the load lock chamber 100, it is possible for at least one of the first case 110 and the second case 120 to be provided with a sealing member such as a sealing ring.

즉, 상기 로드락 챔버(100)는 밀폐된 상태(즉, 제2케이스(120)와 제1케이스(110)가 결합된 상태)에서, 내부에 진공이 유지된 상태로 기판을 수용할 수 있다. 예를 들어, 기판이 수용된 상기 로드락 챔버(100)는 내부에 진공이 유지된 상태로 상기 반응 챔버(200) 내에 수용될 수 있다.That is, the load lock chamber 100 can accommodate a substrate in a sealed state (i.e., in a state in which the second case 120 and the first case 110 are combined) and a vacuum is maintained therein. . For example, the load lock chamber 100 in which the substrate is accommodated may be accommodated in the reaction chamber 200 with a vacuum maintained therein.

예를 들어, 로드락 챔버(100)의 진공밀폐는 기판에 제조되는 진공상태의 공간에서 상기 제1케이스(110)에 기판을 배치하고, 제2케이스(120)와 제1케이스(110)를 결합함에 따라서 달성될 수 있다.For example, vacuum sealing of the load lock chamber 100 involves placing a substrate in the first case 110 in a vacuum space manufactured on the substrate, and connecting the second case 120 and the first case 110. This can be achieved by combining.

상기 반응 챔버(200)는 상기 로드락 챔버(100)를 수용하도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 반응 챔버(200)는 반응 기체(예를 들어, 소스 기체)를 상기 반응 챔버(200) 내로 공급하는 공급원(미도시)과, 반응 챔버(200) 내부를 배기하는 배기라인 및 배기펌프 등을 포함하는 배기부(미도시)에 연결될 수 있다.The reaction chamber 200 may be formed to accommodate the load lock chamber 100. In addition, the reaction chamber 200 includes a supply source (not shown) that supplies reaction gas (e.g., source gas) into the reaction chamber 200, an exhaust line and an exhaust pump that exhaust the inside of the reaction chamber 200. It may be connected to an exhaust unit (not shown) including a back.

상기 반응 챔버(200)는 상기 로드락 챔버(100)가 분리가능하게 결합되는 챔버 하부(210), 상기 챔버 하부(210) 상에 분리 가능하게 결합되는 챔버 바디(220), 및 상기 챔버 바디(220) 상에 분리 가능하게 결합되는 챔버 커버를 포함한다.The reaction chamber 200 includes a chamber lower part 210 to which the load lock chamber 100 is detachably coupled, a chamber body 220 detachably coupled to the chamber lower part 210, and the chamber body ( 220) and includes a chamber cover detachably coupled to the top.

상기 챔버 하부(210)는 반응 공간의 하면(즉, 반응 챔버의 하벽)을 구획하며, 상기 챔버 하부(210) 상에 상기 로드락 챔버(100)가 분리 가능하게 결합될 수 있다. 예를 들어, 상기 챔버 하부(210)의 중앙부에는 상기 로드락 챔버(100)를 분리 가능하게 결합하기 위하여 오목하게 형성된 결합시트(211)가 형성될 수 있다. 그리고, 상기 로드락 챔버(100)의 하면(즉, 제1케이스의 하면)에는 상기 결합시트(211)에 분리 가능하게 결합되는 돌출부(111)가 형성될 수 있다. 상기 제1케이스(110)는 회전 불가능하게 상기 결합시트(211)에 결합될 수 있다.The lower chamber 210 divides the lower surface of the reaction space (i.e., the lower wall of the reaction chamber), and the load lock chamber 100 can be detachably coupled to the lower chamber 210. For example, a concave coupling sheet 211 may be formed in the central portion of the lower chamber 210 to detachably couple the load lock chamber 100. Additionally, a protrusion 111 that is detachably coupled to the coupling sheet 211 may be formed on the lower surface of the load lock chamber 100 (i.e., the lower surface of the first case). The first case 110 may be coupled to the coupling sheet 211 without being able to rotate.

상기 챔버 하부(210)에는 반응 챔버 내로 반응 기체를 공급하기 위한 공급 라인(미도시)과 연결되는 공급홀(218), 및 반응 챔버 내의 기체를 배기하기 위한 배기라인(미도시)과 연결되는 배기홀(219)이 형성될 수 있다. 상기 공급라인에는 개폐밸브 및 개도조절밸브 중 적어도 하나가 구비될 수 있고, 상기 배기라인에도 개폐밸브 및 개도조절밸브 중 적어도 하나가 구비될 수 있다.The chamber lower part 210 has a supply hole 218 connected to a supply line (not shown) for supplying the reaction gas into the reaction chamber, and an exhaust line connected to an exhaust line (not shown) for exhausting the gas in the reaction chamber. A hole 219 may be formed. The supply line may be equipped with at least one of an opening/closing valve and an opening control valve, and the exhaust line may also be provided with at least one of an opening/closing valve and an opening control valve.

상기 챔버 바디(220)는 반응 공간의 측면(또는 측벽)을 구획하며, 상기 챔버 하부(210) 상에 분리가능하게 결합될 수 있다. 도시된 실시예에서, 상기 챔버 바디(220)는 상단 및 하단이 개방된 각기둥 형태로 형성되어 있으나, 원기둥 형태 등 다양한 형태로 변형이 가능하다는 것은 자명하다. 상기 챔버 바디(220)의 하단은 상기 챔버 하부(210)에 의해 덮이고, 상기 챔버 바디(220)의 상단은 상기 챔버 커버(230)에 의해 덮일 수 있다.The chamber body 220 defines a side (or side wall) of the reaction space and may be detachably coupled to the lower chamber 210. In the illustrated embodiment, the chamber body 220 is formed in a prismatic shape with open top and bottom ends, but it is obvious that it can be modified into various shapes, such as a cylindrical shape. The lower end of the chamber body 220 may be covered by the lower chamber 210, and the upper end of the chamber body 220 may be covered by the chamber cover 230.

상기 챔버 커버(230)는 상기 챔버 바디(220)의 상단을 덮도록 형성될 수 있다. 즉, 상기 챔버 커버(230)는 반응 공간의 상면(또는 상벽)을 구획할 수 있다. 상기 챔버 커버(230)에는 개폐부재(300) 및 후술할 누름 바(push bar)(400)가 관통하는 제1홀(231) 및 제2홀(232)이 형성될 수 있다. 상기 제1홀(231) 및 상기 제2홀(232)은 상기 개폐부재(300) 및 상기 누름 바(400)가 관통한 상태에서 실링될 수 있다.The chamber cover 230 may be formed to cover the top of the chamber body 220. That is, the chamber cover 230 may partition the upper surface (or upper wall) of the reaction space. The chamber cover 230 may be formed with a first hole 231 and a second hole 232 through which the opening and closing member 300 and a push bar 400, which will be described later, pass. The first hole 231 and the second hole 232 may be sealed with the opening and closing member 300 and the push bar 400 penetrating therethrough.

상기 개폐부재(300)는 상기 반응 챔버(200) 내에 수용된 상기 로드락 챔버(100)를 향해 연장될 수 있다. 상기 개폐부재(300)는 상기 로드락 챔버(100)를 열고 닫을 수 있도록 형성될 수 있다. The opening and closing member 300 may extend toward the load lock chamber 100 accommodated in the reaction chamber 200. The opening and closing member 300 may be formed to open and close the load lock chamber 100.

상기 반응 챔버(200) 내에 수용된 상기 로드락 챔버(100)의 개폐는 상기 반응 챔버(200)의 내부가 진공으로 유지된 상태에서 이루어질 수 있다. 즉, 진공 상태의 반응 챔버(200) 내에서 상기 로드락 챔버(100)가 열리거나 닫힐 수 있다.Opening and closing of the load lock chamber 100 accommodated in the reaction chamber 200 may be performed while the interior of the reaction chamber 200 is maintained in a vacuum. That is, the load lock chamber 100 may be opened or closed within the reaction chamber 200 in a vacuum state.

따라서, 상기 로드락 챔버(100) 내에 수용된 기판의 불필요한 오염 또는 산화 등이 방지될 수 있다.Accordingly, unnecessary contamination or oxidation of the substrate accommodated in the load lock chamber 100 can be prevented.

한편, 전술한 바와 같이, 상기 로드락 챔버(100)는 회전을 통해 서로 결합 및 분리되는 제1케이스(110) 및 제2케이스(120)를 포함할 수 있다. 이때, 상기 제1케이스(110) 및 상기 제2케이스(120) 중 하나는 상기 개폐부재(300)의 일단부가 분리 가능하게 결합되도록 형성될 수 있다.Meanwhile, as described above, the load lock chamber 100 may include a first case 110 and a second case 120 that are coupled and separated from each other through rotation. At this time, one of the first case 110 and the second case 120 may be formed so that one end of the opening and closing member 300 is detachably coupled.

구체적으로, 상기 제1케이스(110) 및 상기 제2케이스(120) 중 하나에는 상기 개폐부재(300)의 길이방향 일단부에 형성된 제1결합부(305)가 결합되는 제2결합부(125)가 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1결합부(305)와 상기 제2결합부(125)는 나사산의 형태로 형성될 수 있고, 나사결합(회전결합)의 방식으로 서로 결합될 수 있다.Specifically, a second coupling portion 125 to which the first coupling portion 305 formed at one longitudinal end of the opening and closing member 300 is coupled to one of the first case 110 and the second case 120. ) can be formed. For example, the first coupling portion 305 and the second coupling portion 125 may be formed in the form of screw threads and may be coupled to each other by screw coupling (rotation coupling).

상기 개폐부재(300)의 길이방향 타단부는 반응 챔버(200)의 외측으로 노출될 수 있다. 즉, 상기 개폐부재(300)의 타단부는 상기 상기 제1홀(231)을 통해 상기 챔버 커버(230)의 상측으로 돌출될 수 있다. 이는, 반응 챔버(200)의 외부에서 가해지는 상기 개폐부재(300)의 연직방향 이동 힘 및 회전력이 상기 개폐부재(300)의 타단부를 통해 상기 개폐부재(300)에 전달되도록 하기 위함이다. 즉, 사용자 또는 동력전달장치(미도시)에 의해, 상기 개폐부재(300)의 타단부에 연직방향 이동 힘 또는 회전력이 가해지면 상기 개폐부재(300) 자체가 연직방향으로 이동 또는 회전될 수 있다.The other longitudinal end of the opening and closing member 300 may be exposed to the outside of the reaction chamber 200. That is, the other end of the opening and closing member 300 may protrude toward the upper side of the chamber cover 230 through the first hole 231. This is to ensure that the vertical movement force and rotational force of the opening and closing member 300 applied from the outside of the reaction chamber 200 are transmitted to the opening and closing member 300 through the other end of the opening and closing member 300. That is, when a vertical moving force or rotational force is applied to the other end of the opening and closing member 300 by a user or a power transmission device (not shown), the opening and closing member 300 itself can be moved or rotated in the vertical direction. .

따라서, 상기 개폐부재(300)의 일단부가 상기 제2결합부(125)에 회전 결합된 후에, 상기 제1케이스(110) 및 상기 제2케이스(120) 중 하나를 돌려서 상기 제1케이스(110)와 상기 제2케이스(120)를 용이하게 분리할 수 있다.Therefore, after one end of the opening and closing member 300 is rotationally coupled to the second coupling portion 125, one of the first case 110 and the second case 120 is rotated to connect the first case 110 to the second coupling portion 125. ) and the second case 120 can be easily separated.

도시된 실시예에서, 상기 제2결합부(125)는 상기 제2케이스(120)의 상면에 오목한 형태로 형성될 수 있다. 즉, 상기 제1결합부(305)는 수나사로 형성되고, 상기 제2결합부(125)는 암나사로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 개폐부재(300)의 일단부는 상기 제2결합부(125)에 삽입되는 형태로 상기 제2케이스(120)의 상면에 결합될 수 있다.In the illustrated embodiment, the second coupling portion 125 may be formed in a concave shape on the upper surface of the second case 120. That is, the first coupling portion 305 may be formed with male threads, and the second coupling portion 125 may be formed with female threads. Accordingly, one end of the opening and closing member 300 may be inserted into the second coupling portion 125 and coupled to the upper surface of the second case 120.

보다 구체적으로, 상기 제2케이스(120)의 상면의 반경방향 중앙부에 상기 제2결합부(125)가 형성될 수 있다. 그리고, 상기 개폐부재(300)는 상기 반응 챔버(200)의 상면(즉, 상기 챔버 커버)을 관통하여 상기 제2결합부(125)를 향해 연장하도록 형성된 샤프트일 수 있다.More specifically, the second coupling portion 125 may be formed in the radial central portion of the upper surface of the second case 120. In addition, the opening and closing member 300 may be a shaft formed to extend toward the second coupling portion 125 through the upper surface of the reaction chamber 200 (i.e., the chamber cover).

따라서, 상기 개폐부재(300)가 상기 제2결합부(125)를 향해 내려진 후, 상기 개폐부재(300)의 제1결합부(305)가 상기 제2결합부(125)에 용이하게 회전결합될 수 있다.Therefore, after the opening and closing member 300 is lowered toward the second coupling portion 125, the first coupling portion 305 of the opening and closing member 300 is easily rotationally coupled to the second coupling portion 125. It can be.

상기 개폐부재(300)의 제1결합부(305)를 상기 제2결합부(125)에 결합하기 위한 상기 개폐부재(300)의 회전방향은 상기 제2케이스(120)를 상기 제1케이스(110)로부터 분리하기 위한 제2케이스(120)이 회전방향과 동일할 수 있다.The rotation direction of the opening and closing member 300 for coupling the first coupling portion 305 of the opening and closing member 300 to the second coupling portion 125 is such that the second case 120 is connected to the first case ( The rotation direction of the second case 120 for separation from 110 may be the same.

구체적으로, 상기 개폐부재(샤프트, 300)의 상기 제1결합부(305)는 상기 제2케이스(120)의 제2결합부(125)에 제1방향 회전을 통해 결합될 수 있다. 또한, 상기 2케이스(120)는 상기 제1케이스(110)에 상기 제1방향과 반대되는 제2방향 회전을 통해 결합될 수 있다.Specifically, the first coupling portion 305 of the opening and closing member (shaft, 300) may be coupled to the second coupling portion 125 of the second case 120 through rotation in the first direction. Additionally, the second case 120 may be coupled to the first case 110 by rotating in a second direction opposite to the first direction.

예를 들어, 상기 제1방향은 반시계 방향이 될 수 있고, 상기 제2방향은 시계 방향이 될 수 있다.For example, the first direction may be counterclockwise, and the second direction may be clockwise.

따라서, 상기 제1결합부(305)와 상기 제2결합부(125)가 맞닿은 상태에서, 상기 개폐부재(300)를 제1방향으로 회전시키면, 상기 제1결합부(305)가 상기 제2결합부(125)에 결합되고, 계속해서 개폐부재(300)를 제1방향으로 회전시키면 상기 제2케이스(120)가 상기 제1케이스(110)로부터 분리될 수 있다.Therefore, when the opening and closing member 300 is rotated in the first direction while the first coupling portion 305 and the second coupling portion 125 are in contact with each other, the first coupling portion 305 is connected to the second coupling portion 305. When coupled to the coupling portion 125 and continuously rotating the opening and closing member 300 in the first direction, the second case 120 can be separated from the first case 110.

상기 개폐부재(300)를 상기 제1케이스(110)에 결합 및 분리할 때, 결합부분의 마모를 방지하기 위하여, 상기 개폐부재(300)와 상기 로드락 챔버(100)(예를 들어, 상기 제1케이스(110))는 서로 동일한 강도 또는 동일한 경도를 가지는 소재로 형성될 수 있다.When coupling and separating the opening and closing member 300 from the first case 110, in order to prevent wear of the coupling portion, the opening and closing member 300 and the load lock chamber 100 (e.g., the The first case 110 may be made of materials having the same strength or hardness.

상기와 같이, 개폐부재(300)의 일방향 회전(즉, 제1방향 회전)을 통해 제1케이스(110)와 제2케이스(120)를 용이하게 분리시킬 수 있으며, 개폐부재(300)의 일단부에 고정된 제2케이스(120)를 개폐부재(300)와 함께 상방으로 올려서 로드락 챔버(100) 내에 수용된(즉, 제1케이스(110) 내에 놓인) 기판을 반응 공간에 노출 시킬 수 있다.As described above, the first case 110 and the second case 120 can be easily separated through one-way rotation (i.e., first direction rotation) of the opening and closing member 300, and one end of the opening and closing member 300 The second case 120 fixed to the unit can be raised upward together with the opening and closing member 300 to expose the substrate accommodated in the load lock chamber 100 (i.e., placed in the first case 110) to the reaction space. .

반응 공간 내에서 기판의 처리가 완료되면, 반응 공간을 진공으로 유지한 상태에서, 제2케이스(120)는 다시 기판이 놓여 있는 제1케이스(110)에 결합될 필요가 있다. 이때, 개폐부재(300)의 일단부에 고정된 제2케이스(120)를 개폐부재(300)와 함께 상기 제1케이스(110)를 향해 내린 후, 상기 개폐부재(300)를 제2방향(시계방향)으로 돌리면, 상기 제2케이스(120)가 상기 제1케이스(110)에 결합될 수 있다.When processing of the substrate in the reaction space is completed, the second case 120 needs to be coupled again to the first case 110 on which the substrate is placed while the reaction space is maintained in a vacuum. At this time, the second case 120 fixed to one end of the opening and closing member 300 is lowered together with the opening and closing member 300 toward the first case 110, and then the opening and closing member 300 is moved in the second direction ( When turned clockwise, the second case 120 can be coupled to the first case 110.

상기 제2케이스(120)가 상기 제1케이스(110)에 결합된 후, 상기 개폐부재(300)를 상기 제2케이스(120)로부터 분리하기 위하여, 제2케이스(120)의 회전을 정지시킬 필요가 있다.After the second case 120 is coupled to the first case 110, the rotation of the second case 120 may be stopped in order to separate the opening and closing member 300 from the second case 120. There is a need.

본 발명에 따른 기판 처리 장치는 상기 반응 챔버(200)의 상면을 관통하여 상기 제2케이스(120)를 향해 연장되는 누름 바(400)를 더 포함할 수 있다. 상기 누름 바(400)는 전술한 제2홀(232)을 통해 연장될 수 있다.The substrate processing apparatus according to the present invention may further include a push bar 400 extending through the upper surface of the reaction chamber 200 toward the second case 120. The push bar 400 may extend through the second hole 232 described above.

상기 제2케이스(120)의 상면에는, 상기 누름 바(400)의 일단부가 선택적으로 결합되는 누름 홈(126)이 형성될 수 있다. 상기 누름 홈(126)은 상기 제2결합부(125)로부터 편심된 위치에 배치될 수 있다. A pressing groove 126 to which one end of the pressing bar 400 is selectively coupled may be formed on the upper surface of the second case 120. The pressing groove 126 may be disposed in a position eccentric from the second coupling portion 125.

*다시 말해서, 상기 제2결합부(125)의 반경방향 중심은 상기 제2케이스(120)의 반경방향 중심과 일치하고, 상기 개폐부재(300)의 축의 연장선은 상기 제2케이스(120)의 반경방향 중심을 (연직방향으로) 통과할 수 있다. *In other words, the radial center of the second coupling portion 125 coincides with the radial center of the second case 120, and the extension line of the axis of the opening and closing member 300 is the axis of the second case 120. It can pass through the radial center (vertically).

또한, 상기 누름 홈(126)은 상기 제2결합부(125)로부터 상기 케이스(120)의 반경방향 외측을 향하는 방향으로 이격되도록 배치될 수 있다. 즉, 상기 상기 누름 홈(126)의 중심은 상기 케이스(120)의 반경방향 중심과 상기 케이스(120)의 외주 사이에 배치될 수 있다.Additionally, the pressing groove 126 may be arranged to be spaced apart from the second coupling portion 125 in a direction toward the radial outer side of the case 120. That is, the center of the pressing groove 126 may be disposed between the radial center of the case 120 and the outer periphery of the case 120.

상기 개폐부재(300)를 상기 제2케이스(120)로부터 분리할 때, 상기 누름 홈(126)에 상기 누름 바(400)의 일단부가 결합될 수 있다. 예를 들어, 상기 개폐부재(300)를 상기 제2케이스(120)로부터 분리할 때, 상기 누름 바(400)의 상기 누름 홈(126)을 향하는 일단부가 상기 누름 홈(126)에 결합된 상태에서, 상기 누름 바(400)에 의해 상기 제2케이스(120)가 (하방을 향해) 가압될 수 있다. When separating the opening and closing member 300 from the second case 120, one end of the push bar 400 may be coupled to the push groove 126. For example, when the opening and closing member 300 is separated from the second case 120, one end of the pressing bar 400 facing the pressing groove 126 is coupled to the pressing groove 126. In this case, the second case 120 may be pressed (toward downward) by the push bar 400.

상기 누름 바(400)의 길이방향 타단부는 상기 반응 챔버(200)의 외측으로 노출되도록 상기 반응 참버(200)의 상방으로 돌출될 수 있다. 즉, 상기 누름 바(400)의 타단부는 상기 제2홀(232)을 통해 상기 챔버 커버(230)의 상측으로 돌출될 수 있다. 이는 반응 챔버(200) 외부에서 가해지는 상기 누름 바(400)의 연직방향 이동 힘이 상기 누름 바(400)의 타단부를 통해 상기 누름 바(400)에 전달되도록 하기 위함이다. 즉, 사용자 또는 동력전달장치(미도시)에 의해, 상기 누름 바(400)의 타단부에 연직방향 이동 힘이 가해지면 상기 누름 바(400) 자체가 연직방향으로 이동될 수 있다.The other longitudinal end of the push bar 400 may protrude upward from the reaction chamber 200 to be exposed to the outside of the reaction chamber 200. That is, the other end of the push bar 400 may protrude toward the upper side of the chamber cover 230 through the second hole 232. This is to ensure that the vertical movement force of the push bar 400 applied from outside the reaction chamber 200 is transmitted to the push bar 400 through the other end of the push bar 400. That is, when a vertical movement force is applied to the other end of the push bar 400 by a user or a power transmission device (not shown), the push bar 400 itself can be moved in the vertical direction.

상기 누름 홈(126)에 상기 누름 바(400)의 일단부가 결합된 상태에서, 상기 개폐부재(300)를 제2방향으로 돌리면, 상기 개폐부재(300)가 상기 제2케이스(120)로부터 분리될 수 있다.With one end of the push bar 400 coupled to the push groove 126, when the opening and closing member 300 is turned in the second direction, the opening and closing member 300 is separated from the second case 120. It can be.

상기 누름 바(400)를 상기 누름 홈(126)에 결합 및 분리할 때, 결합부분의 마모를 방지하기 위하여, 상기 누름 바(400)와 상기 로드락 챔버(100)(예를 들어, 상기 제1케이스(110))는 서로 동일한 강도 또는 동일한 경도를 가지는 소재로 형성될 수 있다.When coupling and separating the push bar 400 from the push groove 126, the push bar 400 and the load lock chamber 100 (e.g., the load lock chamber 100) are used to prevent wear of the coupling portion. One case 110 may be made of materials having the same strength or hardness.

상기와 같이, 본 발명에 따르면, 기판이 수용된 로드락 챔버(100) 자체가 반응 챔버(200) 내에 수용되어, 기판의 오염 및 산화 등을 보다 확실하게 방지할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 로드락 챔버(100)가 반응 챔버(200) 내에 수용된 상태에서, 로드락 챔버(100)를 용이하게 열고 닫을 수 있다.As described above, according to the present invention, the load lock chamber 100 in which the substrate is accommodated is itself accommodated in the reaction chamber 200, so that contamination and oxidation of the substrate can be more reliably prevented. Additionally, according to the present invention, the load lock chamber 100 can be easily opened and closed while the load lock chamber 100 is accommodated in the reaction chamber 200.

이하, 다른 도면을 더 참조하여, 로드락 챔버(100)가 반응 챔버(200) 내에 수용된 상태에서, 로드락 챔버(100)가 개폐되는 과정에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, with further reference to other drawings, the process of opening and closing the load lock chamber 100 while the load lock chamber 100 is accommodated in the reaction chamber 200 will be described in more detail.

도 2는 반응 챔버 내에 로드락 챔버가 수용된 상태에서, 밀폐된 로드락 챔버에 개폐부재(샤프트)가 결합된 상태를 나타내는 도면이다.Figure 2 is a diagram showing a state in which the load lock chamber is accommodated in the reaction chamber and the opening and closing member (shaft) is coupled to the sealed load lock chamber.

도 1에서와 같이, 반응 챔버(200)가 분리된 상태에서, 반응 챔버(200) 내에 밀폐된 상태의 로드락 챔버(100)가 수용될 수 있다. As shown in FIG. 1, when the reaction chamber 200 is separated, the sealed load lock chamber 100 can be accommodated in the reaction chamber 200.

로드락 챔버(100)가 챔버 하부(210)에 결합된 상태에서, 챔버 하부(210), 챔버 바디(220) 및 챔버 커버(230)가 결합될 수 있다. 그리고, 개폐부재(300) 및 누름 바(400)가 제1홀(231) 및 제2홀(232)을 통해 연장된 상태에서, 반응 챔버(200) 내부가 진공 처리될 수 있다.When the load lock chamber 100 is coupled to the lower chamber 210, the lower chamber 210, the chamber body 220, and the chamber cover 230 may be coupled. And, with the opening and closing member 300 and the push bar 400 extending through the first hole 231 and the second hole 232, the inside of the reaction chamber 200 can be vacuum treated.

이때, 상기 개폐부재(300)가 상기 로드락 챔버(100)의 제2케이스(120)를 향해 내려지고, 상기 개폐부재(300)의 제1방향(반시계방향)의 회전을 통해 상기 개폐부재(300)의 일단부와 상기 제2케이스(120)가 서로 결합될 수 있다.At this time, the opening and closing member 300 is lowered toward the second case 120 of the load lock chamber 100, and the opening and closing member 300 is rotated in the first direction (counterclockwise). One end of 300 and the second case 120 may be coupled to each other.

상기 개폐부재(300)의 상하방향 이동 및 회전은 관리자에 의해 수동으로 이루어지거나, 또는 외부의 실린더 및 모터 등을 포함하는 자동 구동 장치를 통해 자동으로 이루어질 수 있다.The vertical movement and rotation of the opening and closing member 300 may be performed manually by an administrator, or may be performed automatically through an automatic driving device including an external cylinder and motor.

개폐부재(300)의 상하방향 이동 및 회전이 자동 구동 장치를 통해 이루어지는 경우, 도시되지 않은 제어부에 의해 실린더 및 모터 등의 작동이 제어될 수 있다.When the vertical movement and rotation of the opening and closing member 300 are performed through an automatic driving device, the operation of the cylinder and motor may be controlled by a control unit (not shown).

이하, 다른 도면을 더 참조하여, 로드락 챔버(100)의 개방과정에 대하여 설명한다.Hereinafter, the opening process of the load lock chamber 100 will be described with further reference to other drawings.

도 3은 반응 챔버 내에 로드락 챔버가 수용된 상태에서, 개폐부재(샤프트)에 의해 로드락 챔버가 개방되는 과정을 나타내는 도면이다.Figure 3 is a diagram showing a process in which the load lock chamber is opened by an opening and closing member (shaft) while the load lock chamber is accommodated in the reaction chamber.

도 3을 참조하면, 도 2에서와 같이, 상기 개폐부재(300)의 제1방향의 회전을 통해 상기 개폐부재(300)의 일단부와 상기 제2케이스(120)가 서로 결합된 후, 상기 개폐부재(300)는 계속해서 제1방향으로 회전될 수 있다.Referring to FIG. 3, as in FIG. 2, after one end of the opening and closing member 300 and the second case 120 are coupled to each other through rotation of the opening and closing member 300 in the first direction, the The opening and closing member 300 may continue to rotate in the first direction.

상기 개폐부재(300)의 제1방향으로의 계속된 회전을 통해 로드락 챔버(100)의 제2케이스(120)가 제1케이스(110)로부터 분리될 수 있다. The second case 120 of the load lock chamber 100 may be separated from the first case 110 through continued rotation of the opening and closing member 300 in the first direction.

즉, 상기 개폐부재(300)를 상기 제2케이스(120)에 결합되도록 하는 상기 개폐부재(300)의 회전방향은 상기 제2케이스(120)를 상기 제1케이스(110)로부터 분리되도록 하는 상기 제2케이스(120)의 회전방향과 동일할 수 있다. That is, the rotation direction of the opening and closing member 300, which allows the opening and closing member 300 to be coupled to the second case 120, is such that the second case 120 is separated from the first case 110. It may be the same as the rotation direction of the second case 120.

다시 말해서, 상기 개폐부재(300)를 상기 제2케이스(120)에 결합되도록 하는 상기 개폐부재(300)의 회전방향은 상기 제2케이스(120)를 상기 제1케이스(110)에 결합되도록 하는 회전방향과 반대일 수 있다.In other words, the rotation direction of the opening and closing member 300 that allows the opening and closing member 300 to be coupled to the second case 120 is such that the second case 120 is coupled to the first case 110. It may be opposite to the direction of rotation.

즉, 상기와 같은 개폐부재(300)의 회전을 통해 개폐부재(300)가 제2케이스(120)에 결합 및 분리되도록, 개폐부재(300)의 제1결합부(305)와 제2케이스(120)의 제2결합부(125)에 나사산이 형성될 수 있다. 또한, 상기와 같은 개폐부재(300)의 회전을 통해 제2케이스(120)가 제1케이스(110)에 결합 및 분리되도록, 제2케이스(120)의 하단 내주면 및 제1케이스(110)의 상단 외주면에 나사산이 형성될 수 있다.That is, the first coupling portion 305 of the opening and closing member 300 and the second case ( A screw thread may be formed in the second coupling portion 125 of 120). In addition, so that the second case 120 is coupled to and separated from the first case 110 through the rotation of the opening and closing member 300 as described above, the lower inner peripheral surface of the second case 120 and the first case 110 are connected to each other. A thread may be formed on the upper outer peripheral surface.

상기 개폐부재(300)의 제1방향으로의 계속된 회전을 통해 로드락 챔버(100)의 제2케이스(120)가 제1케이스(110)로부터 분리된 후, 상기 개폐부재(300)를 상기 제1케이스(110)로부터 멀어지는 방향으로(즉, 상방으로) 이동시켜서, 상기 제2케이스(120)를 상기 제1케이스(110)로부터 이격시킬 수 있다. 이 때, 상기 제1케이스(110) 내에 놓인 기판이 반응 챔버(200) 내의 반응 공간에 노출될 수 있다.After the second case 120 of the load lock chamber 100 is separated from the first case 110 through continued rotation of the opening and closing member 300 in the first direction, the opening and closing member 300 is connected to the first case 110. The second case 120 can be spaced apart from the first case 110 by moving it in a direction away from the first case 110 (i.e., upward). At this time, the substrate placed in the first case 110 may be exposed to the reaction space within the reaction chamber 200.

이 상태에서, 상기 반응 챔버(200) 내로 반응 기체(소스 기체)가 공급되어 기판에 대한 처리(예를 들어, 증착 공정)가 수행될 수 있다.In this state, a reaction gas (source gas) is supplied into the reaction chamber 200 to perform processing (eg, deposition process) on the substrate.

이하, 다른 도면을 더 참조하여, 기판에 대한 처리가 완료된 후의 로드락 챔버(100)의 밀폐과정에 대하여 설명한다.Hereinafter, with further reference to other drawings, the sealing process of the load lock chamber 100 after processing of the substrate is completed will be described.

도 4는 반응 챔버 내에 로드락 챔버가 수용된 상태에서, 개폐부재(샤프트)에 의해 로드락 챔버가 밀폐되는 과정을 나타내는 도면이다.Figure 4 is a diagram showing the process of sealing the load lock chamber by an opening and closing member (shaft) while the load lock chamber is accommodated in the reaction chamber.

반응 공간 내에서 기판에 대한 처리가 완료되면, 반응 공간은 진공 상태로 유지될 수 있다. 그리고, 제2케이스(120)가 결합된 개폐부재(300)는 제1케이스(110)를 향해 하방으로 이동될 수 있다. When processing of the substrate in the reaction space is completed, the reaction space may be maintained in a vacuum state. And, the opening and closing member 300 to which the second case 120 is coupled can be moved downward toward the first case 110.

개폐부재(300)의 하방 이동에 의해, 제2케이스(120)의 하단이 제1케이스(110)의 상단에 맞닿으면, 상기 개폐부재(300)가 제2방향(시계방향)으로 회전될 수 있다. When the lower end of the second case 120 comes into contact with the upper end of the first case 110 due to the downward movement of the opening and closing member 300, the opening and closing member 300 is rotated in the second direction (clockwise). You can.

상기 개폐부재(300)의 제2방향 회전에 의해 상기 제2케이스(120)가 상기 제1케이스(110)에 결합될 수 있다. 상기 제2케이스(120)와 상기 제1케이스(110)의 결합에 의해 기판이 수용된 상기 로드락 챔버(100)의 내부는 진공밀폐될 수 있다.The second case 120 may be coupled to the first case 110 by rotating the opening and closing member 300 in the second direction. By combining the second case 120 and the first case 110, the interior of the load lock chamber 100 in which the substrate is accommodated can be vacuum-sealed.

이하, 다른 도면을 더 참조하여, 로드락 챔버로부터 개폐부재를 분리하는 과정에 대하여 설명한다.Hereinafter, with further reference to other drawings, the process of separating the opening and closing member from the load lock chamber will be described.

도 5는 반응 챔버 내에 로드락 챔버가 수용된 상태에서, 개폐부재(샤프트)가 로드락 챔버로부터 분리되는 과정을 나타내는 도면이다.Figure 5 is a diagram showing a process in which the opening and closing member (shaft) is separated from the load lock chamber while the load lock chamber is accommodated in the reaction chamber.

도 5를 참조하면, 도 4와 같이 상기 개폐부재(300)의 제2방향 회전에 의해 상기 제2케이스(120)가 상기 제1케이스(110)에 결합된 후, 상기 개폐부재(300)를 제2방향으로 계속해서 회전시키면 상기 개폐부재(300)가 상기 제2케이스(120)로부터 분리될 수 있다.Referring to FIG. 5, after the second case 120 is coupled to the first case 110 by rotating the opening and closing member 300 in the second direction as shown in FIG. 4, the opening and closing member 300 is If continued to rotate in the second direction, the opening and closing member 300 may be separated from the second case 120.

이때, 상기 개폐부재(300)가 제2방향으로 회전될 때 로드락 챔버(100)가 함께 제2방향으로 회전되면, 제2케이스(120)로부터 개폐부재(300)의 분리가 용이하지 않을 수 있다.At this time, if the load lock chamber 100 is also rotated in the second direction when the opening and closing member 300 is rotated in the second direction, it may not be easy to separate the opening and closing member 300 from the second case 120. there is.

따라서, 상기 개폐부재(300)를 상기 제2케이스(120)로부터 분리하기 전에, 누름 바(400)가 제2케이스(120)의 상면에 형성된 누름 홈(126)을 향해 내려올 수 있다.Accordingly, before separating the opening and closing member 300 from the second case 120, the push bar 400 may come down toward the pressing groove 126 formed on the upper surface of the second case 120.

그리고, 상기 누름 바(400)의 일단부가 상기 누름 홈(126)에 삽입된 상태에서, 상기 개폐부재(300)가 제2방향으로 회전되면, 상기 개폐부재(300)가 상기 제2케이스(120)로부터 용이하게 분리될 수 있다.And, with one end of the push bar 400 inserted into the push groove 126, when the opening and closing member 300 is rotated in the second direction, the opening and closing member 300 moves into the second case 120. ) can be easily separated from.

즉, 상기 누름 바(400)는 상기 개폐부재(300)의 회전 시에, 제2케이스(120) 가 개폐부재(300)와 함께 회전하는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다. 더 나아가, 상기 누름 바(400)로 상기 로드락 챔버(100)를 하방으로 누른 상태에서, 상기 개폐부재(300)가 제2방향으로 회전될 수 있다. 이 경우, 상기 개폐부재(300)를 상기 제2케이스(120)로부터 분리할 때, 상기 로드락 챔버(100)의 불필요한 슬립(회전 슬립)이 방지될 수 있다.That is, the push bar 400 may serve to prevent the second case 120 from rotating together with the opening and closing member 300 when the opening and closing member 300 rotates. Furthermore, while pressing the load lock chamber 100 downward with the push bar 400, the opening and closing member 300 may be rotated in the second direction. In this case, when the opening and closing member 300 is separated from the second case 120, unnecessary slip (rotational slip) of the load lock chamber 100 can be prevented.

개폐부재(300)가 상기 제2케이스(120)로부터 분리된 후에, 개폐부재(300) 및 누름 바(400)가 상방으로 올려지고, 반응 챔버(200)가 개방(즉, 챔버 하부로부터 챔버 바디가 분리)될 수 있다(도 1 참조). 그리고, 반응 챔버(200) 내에 수용된 진공밀폐상태의 로드락 챔버가 반응 챔버 외부로 옮겨질 수 있다.After the opening and closing member 300 is separated from the second case 120, the opening and closing member 300 and the push bar 400 are raised upward, and the reaction chamber 200 is opened (i.e., the chamber body from the bottom of the chamber can be separated (see Figure 1). Also, the vacuum-sealed load lock chamber accommodated in the reaction chamber 200 can be moved outside the reaction chamber.

상기 누름 바(400)의 상하방향 이동은 수동으로 행해지거나, 또는 실린더 및 모터 등을 포함하는 자동구동장치를 통해 자동으로 행해질 수 있다. 누름 바(400)의 상하방향 이동이 자동으로 행해지는 경우, 실린더 및 모터 등을 포함하는 자동구동장치는 도시되지 않은 제어부에 의해 제어될 수 있다.The vertical movement of the push bar 400 may be performed manually or automatically through an automatic driving device including a cylinder and a motor. When the vertical movement of the push bar 400 is performed automatically, an automatic driving device including a cylinder and a motor may be controlled by a control unit (not shown).

위에서 설명된 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.The preferred embodiments of the present invention described above have been disclosed for illustrative purposes, and those skilled in the art will be able to make various modifications, changes, and additions within the spirit and scope of the present invention, and such modifications and changes will be possible. and additions should be regarded as falling within the scope of the patent claims below.

100 로드락 챔버
110 제1케이스
120 제2케이스
200 반응 챔버
210 챔버 하부
220 챔버 바디
230 챔버 커버
300 개폐부재
400 누름 바100 loadlock chamber
110 Case 1
120 2nd case
200 reaction chamber
210 chamber lower part
220 chamber body
230 chamber cover
300 opening and closing member
400 push bar

Claims (7)

진공밀폐된 상태로 기판을 수용하는 로드락 챔버;
상기 로드락 챔버가 수용되는 반응 챔버; 및
상기 로드락 챔버를 개폐하도록 형성된 개폐부재를 포함하고,
상기 개폐부재는 상기 반응 챔버에 형성된 제1홀을 통하여, 상기 로드락 챔버를 향해 연장되는 기판 처리 장치.A load lock chamber that accommodates the substrate in a vacuum-sealed state;
a reaction chamber in which the load lock chamber is accommodated; and
It includes an opening and closing member formed to open and close the load lock chamber,
The opening and closing member extends toward the load lock chamber through a first hole formed in the reaction chamber. 제1항에 있어서,
상기 제1홀은 상기 반응 챔버의 상면에 형성되고, 상기 제1홀은 상기 개폐부재가 관통한 상태에서 실링되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.According to paragraph 1,
The first hole is formed on the upper surface of the reaction chamber, and the first hole is sealed while the opening and closing member penetrates. 제1항에 있어서,
상기 로드락 챔버는 회전을 통해 서로 결합 및 분리되는 제1케이스 및 제2케이스를 포함하고,
상기 제1케이스 및 상기 제2케이스 중 하나에는 상기 개폐부재의 일단부에 형성된 제1결합부가 회전결합되는 제2결합부가 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.According to paragraph 1,
The load lock chamber includes a first case and a second case that are coupled and separated from each other through rotation,
A substrate processing apparatus, characterized in that one of the first case and the second case is formed with a second coupling portion to which the first coupling portion formed at one end of the opening and closing member is rotationally coupled. 제1항에 있어서,
상기 반응 챔버에 형성된 제2홀을 통하여, 상기 로드락 챔버를 향해 연장되는 누름 바를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.According to paragraph 1,
A substrate processing apparatus further comprising a push bar extending toward the load lock chamber through a second hole formed in the reaction chamber. 제4항에 있어서,
상기 제2홀은 상기 반응 챔버의 상면에 형성되며, 상기 제2홀은 상기 누름 바가 관통한 상태에서 실링되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.According to clause 4,
The second hole is formed on the upper surface of the reaction chamber, and the second hole is sealed while the push bar penetrates. 제4항에 있어서,
상기 제1홀과 상기 제2홀은 상기 반응 챔버의 상면에서 서로 이격되어 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.According to clause 4,
The first hole and the second hole are disposed to be spaced apart from each other on the upper surface of the reaction chamber. 제4항에 있어서,
상기 로드락 챔버는 회전을 통해 서로 결합 및 분리되는 제1케이스 및 제2케이스를 포함하고,
상기 제2케이스의 상면에는, 상기 누름 바의 일단부가 선택적으로 결합되는 누름 홈이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.According to paragraph 4,
The load lock chamber includes a first case and a second case that are coupled and separated from each other through rotation,
A substrate processing apparatus, characterized in that a pressing groove is formed on the upper surface of the second case, into which one end of the pressing bar is selectively coupled.
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