KR102633961B1 - film - Google Patents

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Abstract

60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85)가 모두 27 이하인 저광택층(A층)을 갖는 필름으로서, 상기 60° 광택도(G60)와, 상기 85° 광택도(G85)가 0.1≤(G85)/(G60)≤3을 만족하는 필름에 의해 전사 필름으로서 사용했을 경우에 입사 각도에 의하지 않는 균일한 저광택 외관을 전사 가능한 필름을 제공한다.A film having a low gloss layer (A layer) having both a 60° glossiness (G 60 ) and an 85° glossiness (G 85 ) of 27 or less, wherein the 60° glossiness (G 60 ) and the 85° glossiness (G 85 ) are both 27 or less. G 85 ) provides a film that satisfies 0.1≤(G 85 )/(G 60 )≤3 and can transfer a uniform, low-gloss appearance regardless of the angle of incidence when used as a transfer film.

Description

필름film

본 발명은 필름에 관한 것이다.The present invention relates to films.

최근 스마트폰, 태블릿의 확대에 따르는 회로의 집적화에 의해 프린트 배선 기판은 고정밀도, 고밀도화가 진행되어 있다. 프린트 배선 기판은 그 제조 공정에 있어서 절연 기재(폴리이미드 수지, 폴리페닐렌술피드 수지 등) 표면에 회로를 설치한 후에 절연 및 회로 보호를 목적으로 하여 접착층을 갖는 내열 수지 필름인 커버레이를 피복하고, 이형 필름을 통해 프레스 라미네이트에 의한 성형을 행하는 경우가 있다. 이때 이형 필름에는 프린트 배선판 재료, 프레스판과의 이형성, 형상 추종성, 균일한 성형성뿐만 아니라 피이형 대상에 매트조 외관(저광택 외관)을 전사하는 특성(매트조 외관 전사성)이 요구된다. 또한, 회로 기판 표면에 가열 프레스에 의해 절연층이나 하드 코트층, 전자파 실드층 등의 기능층을 전사시키는 전사 필름에 있어서도 매트조 외관 전사성을 갖는 필름의 니즈가 높아지고 있다.Recently, with the expansion of smartphones and tablets and the integration of circuits, printed wiring boards have become increasingly high-precision and high-density. In the manufacturing process of a printed wiring board, a circuit is installed on the surface of an insulating substrate (polyimide resin, polyphenylene sulfide resin, etc.) and then covered with a coverlay, which is a heat-resistant resin film with an adhesive layer, for the purpose of insulating and protecting the circuit. , there are cases where molding is performed by press lamination through a release film. At this time, the release film requires not only release properties from printed wiring board materials and press plates, shape followability, and uniform formability, but also the property of transferring a matte appearance (low-gloss appearance) to the release target (matte appearance transferability). In addition, for transfer films that transfer functional layers such as an insulating layer, hard coat layer, and electromagnetic wave shield layer to the surface of a circuit board by heat pressing, the need for a film with a matte appearance and transferability is increasing.

종래, 매트조 외관 전사성을 갖는 이형 필름이나 전사 필름으로서는 샌드매트 필름이나 케미컬 매트, 코팅 매트 등의 가공품이 일반적이지만 공정 증가에 의한 비용 상승이나 품위의 과제에 대한 개선이 요망되고 있었다. 이들 과제를 해결하는 방법으로서는 다량의 입자를 수지와 함께 압출하는 방법으로 제조되는 입자 혼련 필름이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1, 2). 또한, 고도인 매트조 외관을 갖는 필름으로서 표면에 수지층을 코팅에 의해 설치한 필름이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 3).Conventionally, processed products such as sand mat films, chemical mats, and coated mats are common as release films or transfer films having matte-like appearance transferability, but improvements have been desired to address issues such as increased costs and quality due to increased processing. As a method for solving these problems, a particle mixing film manufactured by extruding a large amount of particles together with a resin has been proposed (for example, Patent Documents 1 and 2). Additionally, a film having a sophisticated matte-like appearance with a resin layer coated on the surface has been proposed (for example, patent document 3).

일본 특허공개 2016-97522호 공보Japanese Patent Publication No. 2016-97522 일본 특허공개 2014-24341호 공보Japanese Patent Publication No. 2014-24341 일본 특허공개 2005-24942호 공보Japanese Patent Publication No. 2005-24942

특허문헌 1, 2, 3에 기재된 필름은 어느 정도 광택도를 낮게 할 수 있지만 최근 구해지는 입사 각도에 의하지 않는 저광택 외관을 달성하는 것이 곤란했다. 본 발명의 과제는 상술한 종래 기술의 문제점을 해소하는 것에 있다. 즉, 전사 필름으로서 사용했을 경우에 입사 각도에 의하지 않는 균일한 저광택 외관을 전사 가능한 필름을 제공하는 것에 있다.Although the films described in Patent Documents 1, 2, and 3 can lower gloss to some extent, it was difficult to achieve a low-gloss appearance that does not depend on the recently determined angle of incidence. The object of the present invention is to solve the problems of the prior art described above. In other words, the goal is to provide a film that can transfer a uniform, low-gloss appearance regardless of the angle of incidence when used as a transfer film.

상기 과제를 해결하기 위해서 본 발명의 필름은 다음 구성을 갖는다.In order to solve the above problems, the film of the present invention has the following structure.

(1) 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85)가 모두 27 이하인 저광택층(A층)을 갖는 필름으로서, 상기 A층이 적어도 편측의 표층에 있으며, 상기 60° 광택도(G60)와, 상기 85° 광택도(G85)가 하기 (I)식을 만족하는 필름.(1) A film having a low gloss layer (A layer) having both a 60° glossiness (G 60 ) and an 85° glossiness (G 85 ) of 27 or less, wherein the A layer is in the surface layer on at least one side, and the 60° glossiness (G 85 ) is both 27 or less. A film whose glossiness (G 60 ) and the 85° glossiness (G 85 ) satisfy the equation (I) below.

0.1≤(G85)/(G60)≤3···(I)0.1≤(G 85 )/(G 60) ≤3···(I)

(2) (1)에 있어서, 상기 저광택층(A층)의 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85)가 모두 10 이하인 필름.(2) The film according to (1), wherein the 60° glossiness (G 60 ) and the 85° glossiness (G 85 ) of the low gloss layer (A layer) are both 10 or less.

(3) (1) 또는 (2)에 있어서, 필름의 20㎝×30㎝ 범위에 있어서의 인장 파단 강도의 편차가 20% 이하인 필름.(3) The film according to (1) or (2), wherein the variation in tensile breaking strength in a 20 cm x 30 cm range of the film is 20% or less.

(4) (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 있어서, 상기 A층의 편측에 기재층을 갖는 필름.(4) The film according to any one of (1) to (3), which has a base material layer on one side of the A layer.

(5) (4)에 있어서, 기재층, A층 모두 폴리에스테르 수지를 주성분으로 하는 필름.(5) The film according to (4), wherein both the base layer and the A layer contain polyester resin as a main component.

(6) (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 있어서, 상기 A층의 두께가 3㎛를 초과하고, 20㎛ 이하인 필름.(6) The film according to any one of (1) to (5), wherein the thickness of the layer A exceeds 3 μm and is 20 μm or less.

(7) (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 있어서, 상기 A층이 입자를 포함하고 있으며, 상기 입자의 평균 입자 지름이 1.5㎛ 이상 15㎛ 이하이며, 그 함유량이 A층 전체를 100질량%로 하여 18질량%를 초과하고, 40질량% 이하인 필름.(7) The method according to any one of (1) to (6), wherein the A layer contains particles, the average particle diameter of the particles is 1.5 μm or more and 15 μm or less, and the content thereof makes the entire A layer 100% by mass. A film containing more than 18% by mass and less than or equal to 40% by mass.

(8) (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 있어서, 상기 A층이 입자를 포함하고 있으며, 상기 입자의 평균 입자 지름이 3㎛ 이상 15㎛ 이하이며, 그 함유량이 A층 전체를 100질량%로 하여 18질량% 이상 40질량% 이하 함유해서 이루어지는 필름.(8) The method according to any one of (1) to (6), wherein the A layer contains particles, the average particle diameter of the particles is 3 ㎛ or more and 15 ㎛ or less, and the content thereof is 100% by mass of the entire A layer. A film comprising 18% by mass or more and 40% by mass or less.

(9) (7) 또는 (8)에 있어서, 상기 입자의 원형도가 0.995 이하인 필름.(9) The film according to (7) or (8), wherein the circularity of the particles is 0.995 or less.

(10) (7) 또는 (8)에 있어서, 상기 입자 원형도가 0.995 이하이며, 또한 부피도가 0.5 이상인 필름.(10) The film according to (7) or (8), wherein the particle circularity is 0.995 or less and the bulkiness is 0.5 or more.

(11) (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 있어서, 60° 광택도(G60)가 6 미만인 필름.(11) The film according to any one of (1) to (10), wherein the 60° glossiness (G 60 ) is less than 6.

(12) (1) 내지 (11) 중 어느 하나에 있어서, 길이 방향(MD), 폭 방향(TD) 중 적어도 한 방향의 MIT 굴곡 파단 횟수가 7500회 이상인 필름.(12) The film according to any one of (1) to (11), wherein the number of MIT bending fractures in at least one of the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD) is 7,500 or more.

(13) (1) 내지 (12) 중 어느 하나에 있어서, 길이 방향(MD), 폭 방향(TD)의 100℃로부터 150℃의 범위에서의 열 치수 변화율이 모두 0.015%/℃ 이하인 필름.(13) The film according to any one of (1) to (12), wherein the thermal dimensional change rate in the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD) in the range from 100°C to 150°C is 0.015%/°C or less.

(14) (1) 내지 (13) 중 어느 하나에 있어서, 상기 A층 표면의 중심선 평균 거칠기(SRa)가 1000㎚를 초과하고, 3000㎚ 이하인 필름.(14) The film according to any one of (1) to (13), wherein the center line average roughness (SRa) of the surface of the layer A exceeds 1000 nm and is 3000 nm or less.

(15) (1) 내지 (14) 중 어느 하나에 있어서, 길이 방향(MD), 폭 방향(TD)의 150℃에서의 열수축률이 모두 2% 이하인 필름.(15) The film according to any one of (1) to (14), wherein the thermal contraction rate at 150°C in the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD) is 2% or less.

(16) (1) 내지 (15) 중 어느 하나에 있어서, 하기 방법에 의해 측정한 150℃, 10분간 열처리 후의 컬 높이가 0㎜ 이상 30㎜ 이하인 필름.(16) The film according to any one of (1) to (15), wherein the curl height after heat treatment at 150°C for 10 minutes, measured by the following method, is 0 mm or more and 30 mm or less.

(측정 방법) 필름을 임의의 한 방향으로 100㎜, 상기 방향에 직교하는 방향으로 100㎜의 크기로 잘라내어 샘플로 한다. 상기 샘플을 150℃의 열풍 순환식 오븐에서 10분간 방치해서 열처리를 행한 후 유리판 상에 두고, 유리판 면으로부터 수직 방향에서의 4코너의 들뜸량을 측정하고, 최대의 높이를 컬 높이로 한다.(Measurement method) The film is cut to a size of 100 mm in any one direction and 100 mm in a direction perpendicular to this direction to make a sample. After performing heat treatment by leaving the sample in a hot air circulation oven at 150°C for 10 minutes, it is placed on a glass plate, the amount of lifting at four corners in the vertical direction from the surface of the glass plate is measured, and the maximum height is taken as the curl height.

(17) (1) 내지 (16) 중 어느 하나에 있어서, 상기 A층 표면의 표면 자유 에너지가 44mN/m 이하인 필름.(17) The film according to any one of (1) to (16), wherein the surface free energy of the surface of the layer A is 44 mN/m or less.

(18) (1) 내지 (17) 중 어느 하나에 있어서, 전사 용도에 사용되는 필름.(18) The film according to any one of (1) to (17), which is used for transfer purposes.

(19) (1) 내지 (18) 중 어느 하나에 기재된 필름의 A층의 표면에 이형층이 적층되어 이루어지는 적층체.(19) A laminate formed by laminating a release layer on the surface of layer A of the film according to any one of (1) to (18).

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명의 필름은 60° 광택도(G60), 85° 광택도(G85)가 모두 27 이하로 낮고, 또한 그 차가 특정 범위에 제어되어 있기 때문에 입사 각도에 의하지 않고 우수한 저광택 외관을 나타내므로, 예를 들면 전사 필름으로서 사용했을 경우에 전사 대상물에 저광택의 외관을 부여하는 전사성이 우수하다. 그 때문에, 예를 들면 회로 형성 공정에 있어서 매트조 외관의 전사성이 우수한 전사용 필름으로서 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 건재, 자동차 부품이나 스마트폰 등의 일렉트로닉스 제품, 가전 제품 등의 성형 부재의 가식(加飾) 용도나 기능층으로의 슬라이딩성, 에어 빠짐성, 광확산성이라는 기능성 부여를 목적으로 하는 표면 형상의 전사 용도에 있어서도 적합하게 사용할 수 있다.The film of the present invention has both 60° glossiness (G 60 ) and 85° glossiness (G 85 ) as low as 27 or less, and since the difference is controlled to a specific range, it exhibits an excellent low-gloss appearance regardless of the angle of incidence. , for example, when used as a transfer film, it has excellent transfer properties that give a low-gloss appearance to the transfer object. Therefore, for example, it can be suitably used as a transfer film with excellent transferability of a matte appearance in a circuit formation process. In addition, it is used for decoration of molded parts of building materials, automobile parts, electronic products such as smartphones, and home appliances, and is used as a surface for the purpose of imparting functionality such as sliding, air escape, and light diffusion to the functional layer. It can also be suitably used for shape transfer purposes.

도 1은 부피도의 구하는 법을 나타내는 모식도이다.Figure 1 is a schematic diagram showing how to obtain the volume diagram.

본 발명의 필름은 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85)가 모두 27 이하인 저광택층(A층)을 갖는 필름이며, 상기 A층이 적어도 편측의 표층에 있는 필름이다. 상기 60° 광택도(G60), 85° 광택도(G85)는 저광택 외관의 관점으로부터 모두 10 이하인 것이 바람직하며, 6 미만이면 가장 바람직하다. 저광택층에 사용되는 수지는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프타레이트 등의 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리에테르에테르케톤, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 불소 수지, 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌술피드, 폴리우레탄, 및 환상 올레핀계 수지 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도 필름의 취급성이나 치수 안정성, 제조 시의 경제성의 관점으로부터 폴리에스테르를 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서 주성분으로 한다는 것은 상기 층 전체에 대하여 50질량% 이상 함유하는 것을 말한다.The film of the present invention is a film having a low gloss layer (A layer) with both 60° glossiness (G 60 ) and 85° glossiness (G 85 ) of 27 or less, and the A layer is a film in the surface layer of at least one side. . It is preferable that the 60° glossiness (G 60 ) and the 85° glossiness (G 85 ) are both 10 or less from the viewpoint of a low-gloss appearance, and most preferably less than 6. The resin used in the low-gloss layer is not particularly limited, but examples include polyesters such as polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyarylate, polyethylene, polypropylene, polyamide, Polyimide, polymethyl pentene, polyvinyl chloride, polystyrene, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyether ether ketone, polysulfone, polyether sulfone, fluororesin, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyurethane, and Cyclic olefin resins, etc. can be used. Among these, it is preferable to use polyester as the main component from the viewpoints of film handling, dimensional stability, and economic efficiency during production. In addition, in the present invention, the main component refers to containing 50% by mass or more relative to the entire layer.

본 발명에 있어서 폴리에스테르란 주쇄 중의 주요한 결합을 에스테르 결합으로 하는 고분자의 총칭이며, 통상 디카복실산 성분과 글리콜 성분을 중축합 반응시킴으로써 얻을 수 있다.In the present invention, polyester is a general term for polymers in which the main bond in the main chain is an ester bond, and can usually be obtained by subjecting a dicarboxylic acid component and a glycol component to a polycondensation reaction.

여기에서 사용하는 디카복실산 성분으로서는 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 2,6-나프탈렌디카복실산, 디페닐디카복실산, 디페닐술폰디카복실산, 디페녹시에탄디카복실산, 5-나트륨술폰디카복실산 등의 방향족 디카복실산, 옥살산, 숙신산, 아디프산, 세박산, 다이머산, 말레산, 푸말산 등의 지방족 디카복실산, 1,4-시클로헥산디카복실산 등의 지환족 디카복실산, 파라옥시벤조산 등의 옥시카복실산 등의 각 성분을 들 수 있다. 또한, 디카복실산 에스테르 유도체 성분으로서 상기 디카복실산 화합물의 에스테르화물, 예를 들면 테레프탈산 디메틸, 테레프탈산 디에틸, 테레프탈산 2-히드록시에틸메틸에스테르, 2,6-나프탈렌디카복실산 디메틸, 이소프탈산 디메틸, 아디프산 디메틸, 말레산 디에틸, 다이머산 디메틸 등의 각 성분을 들 수 있다. 본 발명의 수지 필름을 구성하는 폴리에스테르 수지에 있어서 전체 디카복실산 성분 중의 테레프탈산 및/또는 나프탈렌디카복실산의 비율은 바람직하게는 85㏖% 이상, 보다 바람직하게는 90㏖% 이상인 것이 내열성, 생산성의 점으로부터 바람직하다.Dicarboxylic acid components used here include aromatics such as terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenylsulfonedicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, and 5-sodium sulfonedicarboxylic acid. Aliphatic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acid, oxalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, dimer acid, maleic acid, and fumaric acid, alicyclic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, and oxycarboxylic acids such as paraoxybenzoic acid. Each component such as these can be mentioned. In addition, as dicarboxylic acid ester derivative components, esterified products of the above dicarboxylic acid compounds, such as dimethyl terephthalate, diethyl terephthalate, 2-hydroxyethylmethyl terephthalate, dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, dimethyl isophthalate, and adip. Each component, such as dimethyl acid, diethyl maleate, and dimethyl dimer acid, is mentioned. In the polyester resin constituting the resin film of the present invention, the ratio of terephthalic acid and/or naphthalenedicarboxylic acid in all dicarboxylic acid components is preferably 85 mol% or more, more preferably 90 mol% or more in terms of heat resistance and productivity. It is preferable from

또한, 글리콜 성분으로서는 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올, 스피로글리콜, 네오펜틸글리콜, 비스페놀 A, 비스페놀 S 등 각 성분을 들 수 있다. 그 중에서도 취급성의 점에서 에틸렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,3-프로판디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜의 각 성분이 바람직하게 사용된다. 본 발명의 수지 필름을 구성하는 폴리에스테르 수지에 있어서 전체 디올 성분 중의 에틸렌글리콜의 비율이 65㏖% 이상이면 내열성, 생산성의 점으로부터 바람직하다. 이들 디카복실산 성분, 글리콜 성분은 2종 이상을 병용해도 좋다.In addition, glycol components include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2, 2-dimethyl-1,3-propanediol, diethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, spiroglycol, neopentyl glycol, bisphenol A, bisphenol S, etc. Ingredients can be mentioned. Among them, from the viewpoint of ease of handling, the following components are preferably used: ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-propanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, neopentyl glycol, and diethylene glycol. In the polyester resin constituting the resin film of the present invention, it is preferable from the viewpoint of heat resistance and productivity that the ratio of ethylene glycol in all diol components is 65 mol% or more. Two or more types of these dicarboxylic acid components and glycol components may be used together.

본 발명의 필름은 상기 A층의 편측에 기재층을 갖는 필름인 것이 바람직하다. A층의 편측에 기재층을 갖는 필름 구성으로 함으로써 강도, 저광택성을 양립하기 쉬워지기 때문에 바람직하다. 본 발명의 필름은 A층/기재층의 2층 구성, A층/기재층/A층의 3층 구성 등의 구성이 바람직하게 사용된다. 본 발명에 있어서 양면의 표층에 A층이 배치되어 있을 경우, 60° 광택도(G60)가 보다 낮은 면을 A1층, 60° 광택도(G60)가 높은 면을 A2층이라고 한다.It is preferable that the film of the present invention has a base material layer on one side of the A layer. It is preferable to have a film structure with a base material layer on one side of the A layer because it becomes easier to achieve both strength and low glossiness. The film of the present invention is preferably used in a two-layer structure of A layer/base layer, or a three-layer structure of A layer/base layer/A layer. In the present invention, when the A layer is disposed on the surface layer of both sides, the side with the lower 60° glossiness (G 60 ) is called the A1 layer, and the side with the higher 60° glossiness (G 60 ) is called the A2 layer.

본 발명의 필름에 있어서 A층의 편측에 기재층을 갖는 필름일 경우, 기재층을 구성하는 수지로서는 저광택층(A층)에 사용되는 수지와 마찬가지로, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프타레이트 등의 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리에테르에테르케톤, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 불소 수지, 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌술피드, 폴리우레탄, 및 환상 올레핀계 수지 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도 필름의 취급성이나 치수 안정성, 제조 시의 경제성의 관점으로부터 폴리에스테르를 주성분으로 하는 것이 바람직하다.In the case of the film of the present invention having a base layer on one side of layer A, the resin constituting the base layer is similar to the resin used in the low gloss layer (layer A), such as polyethylene terephthalate and polypropylene terephthalate. , polyester such as polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyarylate, polyethylene, polypropylene, polyamide, polyimide, polymethyl pentene, polyvinyl chloride, polystyrene, polymethyl methacrylate, polycarbonate, poly Etheretherketone, polysulfone, polyethersulfone, fluororesin, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyurethane, and cyclic olefin resin can be used. Among these, it is preferable to use polyester as the main component from the viewpoints of film handling, dimensional stability, and economic efficiency during production.

본 발명의 필름은 상기 A층의 두께가 3㎛를 초과하고, 20㎛ 이하인 것이 바람직하다. 상기 A층의 두께를 3㎛보다 두껍게 함으로써 A층 중의 입자의 수가 충분히 많아지며, 60° 광택도, 85° 광택도를 모두 20 이하로 낮게 제어하기 쉬워진다. 또한, 상기 A층 두께를 20㎛보다 두껍게 해도 광택도로의 영향은 작아지는 한편, 입자의 수가 지나치게 많아지기 때문에 생산성이 저하되는 경우가 있다. 그 때문에 A층의 두께는 20㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. A층의 두께는 3.5㎛ 이상 15㎛ 이하이면 보다 바람직하고, 4㎛ 이상 10㎛ 이하이면 가장 바람직하다.In the film of the present invention, the thickness of the layer A is preferably greater than 3 μm and less than or equal to 20 μm. By making the thickness of the A layer thicker than 3 μm, the number of particles in the A layer increases sufficiently, and it becomes easy to control both the 60° glossiness and the 85° glossiness to 20 or less. In addition, even if the thickness of the layer A is thicker than 20 ㎛, the influence on glossiness is reduced, but the number of particles increases too much, which may reduce productivity. Therefore, it is preferable that the thickness of layer A is 20 μm or less. The thickness of layer A is more preferably 3.5 μm or more and 15 μm or less, and most preferably 4 μm or more and 10 μm or less.

본 발명의 필름에 있어서 저광택층(A층)은 입자를 포함하고 있는 것이 바람직하다. A층에 함유시키는 입자는 무기 입자, 유기 입자 모두 적용할 수 있고, 무기 입자와 유기 입자를 병용하는 것도 가능하다. 여기에서 사용하는 무기 입자 및/또는 유기 입자로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 무기 입자로서는 실리카, 규산 알루미늄, 탄산 칼슘, 인산 칼슘, 산화 알루미늄 등, 유기 입자로서는 스티렌, 실리콘, 아크릴산류, 메타크릴산류, 폴리에스테르류, 디비닐 화합물 등을 구성 성분으로 하는 입자를 사용할 수 있다. 그 중에서도 습식 및 건식 실리카, 콜로이달실리카, 규산 알루미늄 등의 무기 입자 및 스티렌, 실리콘, 아크릴산, 메타크릴산, 폴리에스테르, 디비닐벤젠 등을 구성 성분으로 하는 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 저광택 외관, 경제성의 관점으로부터는 실리카, 규산 알루미늄이 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 이들의 외부 첨가 입자는 2종 이상을 병용해도 좋다.In the film of the present invention, the low gloss layer (A layer) preferably contains particles. The particles contained in the A layer can be either inorganic particles or organic particles, and it is also possible to use inorganic particles and organic particles in combination. There is no particular limitation on the inorganic particles and/or organic particles used here, but for example, inorganic particles include silica, aluminum silicate, calcium carbonate, calcium phosphate, aluminum oxide, etc., and organic particles include styrene, silicon, acrylic acid, and metabolites. Particles containing acrylic acid, polyester, divinyl compound, etc. as constituents can be used. Among them, it is preferable to use inorganic particles such as wet and dry silica, colloidal silica, aluminum silicate, and particles containing styrene, silicon, acrylic acid, methacrylic acid, polyester, divinylbenzene, etc. as constituents. Silica and aluminum silicate are particularly preferably used from the viewpoint of low gloss appearance and economic efficiency. Additionally, two or more types of these externally added particles may be used in combination.

본 발명에 있어서는 사용되는 무기 입자, 유기 입자에 대해서는 염료, 무기 안료, 유기 안료 등 착색을 목적으로 하는 착색제는 포함하지 않는다. 구체적으로는 벵갈라, 몰리브덴 레드, 카드뮴 레드, 크롬 오렌지, 크롬 버밀리언, 군청, 감청, 코발트 블루, 세룰리안 블루 등의 청색 안료, 산화크롬, 비리디언, 에메랄드 그린, 코발트 그린, 황연, 카드뮴 옐로, 황색 산화철, 티탄 옐로, 망간 바이올렛, 미네랄 바이올렛, 이산화티탄, 황산바륨, 아연화, 황산아연, 카본 블랙, 흑색 산화철 등의 무기 안료, 축합 아조, 프탈로시아닌, 퀴나크리돈, 디옥사진, 이소인도리논, 퀴노프탈론, 안트라퀴논계 등의 유기 안료는 본 발명의 무기 입자, 유기 입자에는 해당되지 않는다.In the present invention, the inorganic particles and organic particles used do not include colorants for the purpose of coloring, such as dyes, inorganic pigments, and organic pigments. Specifically, blue pigments such as Bengala, molybdenum red, cadmium red, chrome orange, chrome vermilion, ultramarine blue, royal blue, cobalt blue, cerulean blue, chromium oxide, viridian, emerald green, cobalt green, yellow lead, cadmium yellow, Inorganic pigments such as yellow iron oxide, titanium yellow, manganese violet, mineral violet, titanium dioxide, barium sulfate, zinc oxide, zinc sulfate, carbon black, black iron oxide, condensed azo, phthalocyanine, quinacridone, dioxazine, isoindolinone, Organic pigments such as quinophthalone and anthraquinone do not apply to the inorganic particles and organic particles of the present invention.

본 발명에 있어서 저광택층(A층) 표면의 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85) 모두를 낮게 하기 위해서 상기 A층 중에는 평균 입자 지름이 1.5㎛ 이상 15㎛ 이하의 입자가 A층 전체를 100질량%로 하여 18질량%를 초과하고, 40질량% 이하 함유하고 있는 것이 바람직하다. 저광택 표면화의 관점으로부터 A층 중의 입자의 평균 입자 지름은 3㎛ 이상 15㎛ 이하이면 보다 바람직하며, 6㎛ 이상 15㎛ 이하이면 가장 바람직하다. 또한, A층 중의 입자 농도로서는 A층 전체를 100질량%로 하여 18질량% 이상 40질량% 이하이면 보다 바람직하며, 22질량%를 초과하고, 40질량% 이하이면 가장 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서의 평균 입자 지름은 D=ΣDi/N(Di: 입자의 원상당경, N: 입자의 개수)으로 나타내어지는 수 평균 지름 D를 가리킨다.In the present invention, in order to lower both the 60° glossiness (G60) and the 85° glossiness (G 85 ) of the surface of the low gloss layer (layer A), particles with an average particle diameter of 1.5 ㎛ or more and 15 ㎛ or less are included in the A layer. It is preferable that it contains more than 18% by mass and 40% by mass or less, assuming that the entire layer A is 100% by mass. From the viewpoint of creating a low-gloss surface, it is more preferable that the average particle diameter of the particles in layer A is 3 μm or more and 15 μm or less, and most preferably it is 6 μm or more and 15 μm or less. Furthermore, the particle concentration in the A layer is more preferably 18 mass% to 40 mass%, with the entire A layer being 100 mass%, and most preferably exceeds 22 mass% and 40 mass% or less. In addition, the average particle diameter in the present invention refers to the number average diameter D expressed as D=ΣDi/N (Di: equivalent circular diameter of particle, N: number of particles).

또한, 본 발명에 있어서 각도에 의하지 않는 저광택 표면을 실현하기 위해서 상기 60° 광택도(G60)와, 상기 85° 광택도(G85)가 하기 (I)식을 만족하는 것이 필요하다.In addition, in order to realize a low gloss surface independent of angle in the present invention, it is necessary that the 60° glossiness (G 60 ) and the 85° glossiness (G 85 ) satisfy the equation (I) below.

0.1≤(G85)/(G60)≤3···(I)0.1≤(G 85 )/(G 60 )≤3···(I)

(I)식을 만족한다는 것은 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85)의 차가 특정 범위로 작게 제어되어 있는 것을 나타내고, 보는 각도에 의하지 않는 균일한 저광택 표면이 된다. 균일 저광택 표면의 관점으로부터 (II)식을 만족하면 보다 바람직하고, (III)식을 만족하면 가장 바람직하다.Satisfying equation (I) indicates that the difference between 60° glossiness (G 60 ) and 85° glossiness (G 85 ) is controlled to be small within a specific range, resulting in a uniform low-gloss surface that does not depend on the viewing angle. From the viewpoint of a uniform, low-gloss surface, it is more preferable if equation (II) is satisfied, and it is most preferable if equation (III) is satisfied.

0.1≤(G85)/(G60)≤2···(II)0.1≤(G 85 )/(G 60 )≤2···(II)

0.1≤(G85)/(G60)≤1.5···(III)0.1≤(G 85 )/(G 60 )≤1.5···(III)

본 발명에 있어서 저광택층(A층)의 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85)를 모두 27 이하로 하고, 상기 (I)식을 만족하는 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만, 사용하는 입자로서 다면체 형상을 갖는 입자를 사용하는 방법, 단분산형의 입자를 사용하는 방법, 다면체 형상을 갖고, 또한 단분산형의 입자를 사용하는 방법 등을 들 수 있다. 다면체 형상을 갖는 입자나 단분산형의 입자를 적용함으로써 필름 표면에 불균일한 형상을 부여할 수 있고, 모든 방향에 있어서 저광택화를 달성하기 쉬워진다. 본 발명에 있어서의 다면체 형상이란 복수의 평면으로 둘러싸인 입체를 가리킨다. 평면의 수는 3면 이상이면 특별히 제한은 없지만, 필름 표면의 불균일 형상 부여의 관점으로부터 4면체 이상이면 보다 바람직하고, 4면체 이상 8면체 이하이면 가장 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서의 다면체 형상으로서는 삼각형, 사각형, 오각형 등의 각종의 다각형에 의해 그 표면이 형성되어 있는 것이면 좋다. 본 발명의 필름에 있어서 저광택층(A층) 중에 함유하는 입자는 후술하는 측정 방법에 의해 구해지는 투영상의 원형도(4π×면적/주위 길이2)가 0.995 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.990 이하이다. 한편, 원형도가 지나치게 낮으면 본 발명의 필름이 배향 필름일 경우 연신 방향으로 입자의 방향이 일치되어 버려 필름 표면에 방향 의존성이 적은 형상을 형성하기 어려워지는 경우가 있기 때문에 원형도는 0.800 이상인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 필름에 있어서 저광택층(A층) 중에 함유하는 입자는 후술하는 측정 방법에 의해 구해지는 부피도가 0.5 이상인 것이 바람직하다. 본 발명의 필름이 배향 필름일 경우 필름을 연신하는 공정을 거쳐 형성된다. 그때 부피도가 작은 입자(침상 입자나 판상 입자)일 경우 연신 방향으로 입자의 방향이 일치되어 버려 필름 표면에 방향 의존성이 적은 형상을 형성하기 어려워진다. 저광택층(A층) 중에 부피도가 큰 입자를 함유함으로써 연신하는 공정을 거쳐 형성되는 필름이어도 필름 표면에 방향 의존성이 적은 형상을 부여하는 것이 용이해진다. 부피도는 보다 바람직하게는 0.6 이상이며, 더 바람직하게는 0.7 이상이다. 한편, 필름 표면에 불균일한 형상을 부여함으로써 각도 의존성 없이 저광택화를 달성하는 관점에서는 부피도는 0.9 이하인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서 단분산형의 입자란 2차 응집 입자가 거의 없고, 1차 입자로서 폴리머 중에 분산되는 입자인 것이며, 필름을 투과형 전자 현미경에 의해 관찰했을 때 0.01㎟의 시야당 2차 응집 입자의 수가 20개 이하인 입자인 것을 가리킨다.In the present invention, the 60° glossiness (G 60 ) and the 85° glossiness (G 85 ) of the low gloss layer (A layer) are both set to 27 or less, and the method that satisfies the above equation (I) is not particularly limited. , the particles to be used include a method of using particles having a polyhedral shape, a method of using monodisperse particles, and a method of using particles of a polyhedral shape and monodisperse type. By applying polyhedral-shaped particles or monodisperse particles, a non-uniform shape can be given to the film surface, making it easy to achieve low gloss in all directions. The polyhedron shape in the present invention refers to a solid surrounded by a plurality of planes. The number of planes is not particularly limited as long as it is three or more, but from the viewpoint of imparting a non-uniform shape to the film surface, it is more preferable that it is tetrahedral or more, and it is most preferable that it is tetrahedral or more but octahedron or less. In addition, the polyhedron shape in the present invention may be one whose surface is formed by various polygons such as triangles, squares, and pentagons. In the film of the present invention, the particles contained in the low-gloss layer (layer A) preferably have a circularity (4π×area/peripheral length 2 ) of 0.995 or less on the projection, as determined by the measurement method described later. More preferably, it is 0.990 or less. On the other hand, if the circularity is too low, if the film of the present invention is an oriented film, the direction of the particles may coincide with the stretching direction, making it difficult to form a shape with little direction dependence on the film surface. Therefore, the circularity should be 0.800 or more. desirable. In addition, in the film of the present invention, it is preferable that the volume of the particles contained in the low-gloss layer (A layer) is 0.5 or more as determined by the measurement method described later. When the film of the present invention is an oriented film, it is formed through a process of stretching the film. At that time, if the particles have a small volume (needle-shaped particles or plate-shaped particles), the direction of the particles coincides with the stretching direction, making it difficult to form a shape with less direction dependence on the film surface. By containing large-volume particles in the low-gloss layer (A layer), it becomes easy to give the film surface a shape with little direction dependence even if the film is formed through a stretching process. The volume degree is more preferably 0.6 or more, and even more preferably 0.7 or more. On the other hand, from the viewpoint of achieving low gloss without angle dependence by giving the film surface a non-uniform shape, the volume ratio is preferably 0.9 or less. In addition, in the present invention, monodisperse particles are particles that have almost no secondary aggregated particles and are dispersed in the polymer as primary particles, and when the film is observed with a transmission electron microscope, secondary agglomerates per 0.01 mm2 field of view. Indicates that the number of particles is 20 or less.

본 발명에 있어서 각도에 의하지 않는 저광택 표면을 형성하고, 매트조 전사성과 필름 강도를 양립하기 위해서는 4㎛ 이상 10㎛ 이하의 두께로 한 A층에 다면체 형상의 평균 입자 지름이 6㎛ 이상 15㎛ 이하의 입자를 A층 전체를 100질량%로 하여 22질량% 이상 40질량% 이하 함유하는 구성이 매우 바람직한 실시형태가 된다.In the present invention, in order to form a low-gloss surface independent of angle and achieve both matte transferability and film strength, layer A with a thickness of 4 ㎛ or more and 10 ㎛ or less must have an average polyhedral particle diameter of 6 ㎛ or more and 15 ㎛ or less. A configuration containing 22% by mass or more and 40% by mass or less of particles of 100% by mass of the entire layer A is a very preferable embodiment.

본 발명의 필름은 필름 강도 향상의 관점으로부터 길이 방향(MD), 폭 방향(TD) 중 적어도 한 방향의 MIT 굴곡 파단 횟수가 7500회 이상인 것이 바람직하다. MIT 굴곡 파단 횟수를 7500회 이상으로 함으로써 전사 후에 필름을 박리할 때의 찢어짐이나 벽개의 발생을 억제할 수 있다. MIT 굴곡 횟수는 길이 방향(MD), 폭 방향(TD) 모두가 7500회 이상이면 보다 바람직하다. 길이 방향(MD), 폭 방향(TD) 중 적어도 한 방향의 MIT 굴곡 파단 횟수가 7500회 이상으로 하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 2축 연신 폴리에스테르 필름으로 할 경우에 열처리 전에 A층의 결정화 온도(Tcc) 이상의 온도에 있어서 연신을 행하는 방법 등이 바람직하게 사용된다. 상기 조건을 적용함으로써 열처리 전에 미세한 배향 결정을 형성하게 해 열처리에 의해 성장함으로써 필름 찢어짐이나 벽개의 기점이라고 생각되는 라멜라를 저감하는 것이 가능해진다.From the viewpoint of improving film strength, the film of the present invention preferably has an MIT bending fracture count of 7500 or more in at least one of the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD). By setting the number of MIT bending fractures to 7500 or more, the occurrence of tearing or cleavage when peeling the film after transfer can be suppressed. It is more preferable that the number of MIT bends is 7500 or more in both the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD). The method of increasing the number of MIT bending fractures in at least one of the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD) to 7,500 or more is not particularly limited, but for example, in the case of a biaxially stretched polyester film, layer A is applied before heat treatment. A method of performing stretching at a temperature equal to or higher than the crystallization temperature (Tcc) is preferably used. By applying the above conditions, it becomes possible to form fine oriented crystals before heat treatment and grow them by heat treatment, thereby reducing the number of lamellae that are considered to be the starting point of film tearing or cleavage.

본 발명의 필름은 열 프레스 등의 고온 가공에 있어서의 품위 향상의 관점으로부터 길이 방향(MD), 폭 방향(TD)의 100℃로부터 150℃의 범위에서의 열 치수 변화율이 모두 0.015%/℃ 이하인 것이 바람직하다. 상기 방향에 있어서 열 치수 변화율을 0.015%/℃ 이하로 함으로써 고온 가공 시의 팽창 변형에 의한 주름의 발생을 억제할 수 있다. 열 치수 변화율은 0.012%/℃ 이하이면 보다 바람직하며, 0.009%/℃ 이하이면 가장 바람직하다. 본 발명에 있어서 길이 방향(MD), 폭 방향(TD)의 100℃로부터 150℃의 범위에서의 열 치수 변화율을 0.015%/℃ 이하로 하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 2축 연신 폴리에스테르 필름으로 할 경우에 열처리 후에 단계적으로 강온(降溫)하고, 각 단계에서 이완시키는 방법 등이 바람직하게 사용된다.The film of the present invention has a thermal dimensional change rate of 0.015%/°C or less in the longitudinal direction (MD) and transverse direction (TD) from 100°C to 150°C from the viewpoint of quality improvement in high-temperature processing such as heat pressing. It is desirable. By setting the thermal dimensional change rate in the above direction to 0.015%/°C or less, the occurrence of wrinkles due to expansion deformation during high-temperature processing can be suppressed. It is more preferable that the thermal dimensional change rate is 0.012%/℃ or less, and most preferably it is 0.009%/℃ or less. In the present invention, the method of reducing the thermal dimensional change rate in the range of 100°C to 150°C in the longitudinal direction (MD) and transverse direction (TD) to 0.015%/°C or less is not particularly limited, but for example, biaxially oriented poly When making an ester film, a method of lowering the temperature in stages after heat treatment and relaxing at each stage is preferably used.

본 발명의 필름은 매트조 외관 전사성의 관점으로부터 A층 표면의 중심선 평균 거칠기 SRa가 1000㎚를 초과하고, 3000㎚ 이하인 것이 바람직하다. A층측의 중심선 평균 거칠기 SRa가 1000㎚ 이하일 경우에는 매트조 전사성이 충분하지 않을 경우가 있으며, 3000㎚보다 크게 하고자 하면 필름의 강도가 저하되어버리는 경우가 있다. 매트조 전사성과 필름 강도의 관점으로부터 A층측의 중심선 평균 거칠기 SRa는 1100㎚ 이상 2500㎚ 이하이면 보다 바람직하며, 1200㎚ 이상 2000㎚ 이하이면 가장 바람직하다. 본 발명에 있어서 A층측의 중심선 평균 거칠기 SRa를 1000㎚를 초과하고, 3000㎚ 이하로 하는 방법으로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만 A층 중의 입자의 함유량을 조정하는 방법, A층 중에 함유하는 입자의 주변의 공극을 저감하는 것이 바람직한 방법으로서 들 수 있다. 입자 주변의 공극을 저감함으로써 입자의 형상을 표면에 형성하기 쉬워지고, 중심선 평균 거칠기 SRa를 1000㎚를 초과하고, 3000㎚ 이하로 크게 제어하기 쉬워진다. A층 중의 입자 주변의 공극을 저감하는 방법으로서, 예를 들면 기재층, 저광택층(A층) 모두 폴리에스테르로 이루어지며, 2축 연신 폴리에스테르 필름으로 하는 경우에는 저광택층(A층)의 연신성을 높이는 방법, 후술하는 연신 후의 열처리 공정에 있어서 고온에서 처리를 행함으로써 공극을 저감하는 방법 등이 바람직하게 사용된다. 저광택층(A층)은 연신성을 높이기 위해서 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리프로필렌테레프탈레이트 수지 및/또는 그 공중합체, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지 및/또는 그 공중합체를 함유하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of transferability of the matte appearance of the film of the present invention, it is preferable that the center line average roughness SRa of the surface of layer A exceeds 1000 nm and is 3000 nm or less. If the center line average roughness SRa on the A-layer side is 1000 nm or less, the matte transferability may not be sufficient, and if it is set to be larger than 3000 nm, the strength of the film may decrease. From the viewpoint of matte transferability and film strength, it is more preferable that the center line average roughness SRa on the A layer side is 1100 nm or more and 2500 nm or less, and most preferably 1200 nm or more and 2000 nm or less. In the present invention, the method of adjusting the center line average roughness SRa on the A layer side from more than 1000 nm to 3000 nm or less is not particularly limited, but includes a method of adjusting the content of particles in the A layer, and a method of adjusting the content of particles in the A layer. Reducing voids can be cited as a preferable method. By reducing the voids around the particle, it becomes easier to form the shape of the particle on the surface, and it becomes easier to largely control the center line average roughness SRa from exceeding 1000 nm to 3000 nm or less. As a method of reducing voids around particles in the A layer, for example, both the base layer and the low gloss layer (A layer) are made of polyester, and in the case of a biaxially stretched polyester film, the low gloss layer (A layer) is stretched. A method of increasing tenacity, a method of reducing voids by treating at a high temperature in the heat treatment process after stretching described later, etc. are preferably used. The low gloss layer (layer A) preferably contains copolymerized polyethylene terephthalate resin, polypropylene terephthalate resin and/or its copolymer, and polybutylene terephthalate resin and/or its copolymer in order to increase stretchability.

본 발명의 필름은 필름의 치수 안정성의 관점으로부터 길이 방향(MD), 폭 방향(TD)의 150℃에서의 열수축률이 모두 2% 이하인 것이 바람직하다. 길이 방향(MD), 폭 방향(TD)의 150℃에서의 열수축률을 2% 이하로 낮게 제어함으로써 각종 가공 공정에서의 컬, 주름 등의 발생을 억제하는 것이 가능해진다. 본 발명은 치수 안정성을 보다 높이기 위해서 길이 방향(MD), 폭 방향(TD)의 150℃에서의 열수축률은 1.8% 이하이면 보다 바람직하며, 1.5% 이하이면 가장 바람직하다.From the viewpoint of dimensional stability of the film, the film of the present invention preferably has a thermal contraction rate of 2% or less in both the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD) at 150°C. By controlling the thermal contraction rate at 150°C in the longitudinal direction (MD) and transverse direction (TD) to 2% or less, it is possible to suppress the occurrence of curls, wrinkles, etc. in various processing processes. In the present invention, in order to further increase dimensional stability, it is more preferable that the thermal contraction rate at 150°C in the longitudinal direction (MD) and transverse direction (TD) is 1.8% or less, and most preferably 1.5% or less.

본 발명의 필름은 취급성의 관점으로부터 150℃, 10분간 열처리 후의 컬 높이가 0㎜ 이상 30㎜ 이하인 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서의 150℃, 10분간 열처리 후의 컬 높이란 필름을 임의의 한 방향으로 100㎜, 상기 방향에 직교하는 방향으로 100㎜의 크기로 잘라내어 샘플로 하고, 상기 샘플을 150℃의 열풍 순환식 오븐에서 10분간 방치해서 열처리를 행한 후 유리판 상에 두고, 유리판 면으로부터 수직 방향에서의 4코너의 들뜸량을 측정하고, 최대의 높이를 컬 높이로 하여 산출한다. 컬 높이는 0㎜ 이상 25㎜ 이하이면 보다 바람직하며, 0㎜ 이상 20㎜ 이하이면 가장 바람직하다.From the viewpoint of handleability, the film of the present invention preferably has a curl height of 0 mm or more and 30 mm or less after heat treatment at 150°C for 10 minutes. In the present invention, the curl height after heat treatment at 150°C for 10 minutes means cutting a film into a size of 100 mm in any one direction and 100 mm in a direction perpendicular to that direction to make a sample, and blowing the sample through hot air circulation at 150°C. After performing heat treatment by leaving it in the oven for 10 minutes, it is placed on a glass plate, the amount of lifting at four corners in the direction perpendicular to the surface of the glass plate is measured, and the maximum height is calculated as the curl height. It is more preferable that the curl height is 0 mm or more and 25 mm or less, and it is most preferable that the curl height is 0 mm or more and 20 mm or less.

본 발명에 있어서 길이 방향(MD), 폭 방향(TD)의 150℃에서의 열수축률을 2% 이하로 하는 방법, 150℃, 10분간 열처리 후의 컬 높이를 0㎜ 이상 30㎜ 이하로 하는 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 2축 연신 후의 필름의 열처리조건을 조정하는 방법을 들 수 있다. 처리 온도는 고온으로 함으로써 배향 완화가 일어나며, 열수축률은 저감되는 경향이 되지만 치수 안정성, 필름의 품위의 관점으로부터 2축 연신 후의 열처리 온도는 220℃~240℃이면 바람직하며, 225℃~240℃이면 더 바람직하고, 230℃~240℃이면 가장 바람직하다. 또한, 필름의 열처리 온도는 시차 주사형 열량계(DSC)에 있어서 질소 분위기하 20℃/분의 승온 속도로 측정했을 때의 DSC 곡선에 열이력에 기인하는 미소 흡열 피크에 의해 구할 수 있고, 본 발명의 필름에 있어서는 미소 흡열 피크 온도는 220~240℃인 것이 바람직하다.In the present invention, the method of reducing the heat shrinkage rate at 150°C in the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD) to 2% or less, and the method of reducing the curl height after heat treatment at 150°C for 10 minutes to 0 mm or more and 30 mm or less, include: Although it is not particularly limited, an example is a method of adjusting the heat treatment conditions of the film after biaxial stretching. By setting the treatment temperature to a high temperature, orientation relaxation occurs and heat shrinkage tends to decrease. However, from the viewpoint of dimensional stability and film quality, the heat treatment temperature after biaxial stretching is preferably 220°C to 240°C, and 225°C to 240°C. It is more preferable, and it is most preferable if it is 230°C to 240°C. In addition, the heat treatment temperature of the film can be determined from the micro endothermic peak resulting from the heat history in the DSC curve when measured with a differential scanning calorimeter (DSC) at a temperature increase rate of 20°C/min in a nitrogen atmosphere, and the present invention In the film, the micro endothermic peak temperature is preferably 220 to 240°C.

또한, 바람직한 열처리 시간으로서는 5~60초 사이에서 임의로 설정할 수 있지만 치수 안정성, 필름의 품위, 생산성의 관점으로부터 10~40초로 하는 것이 바람직하며, 15~30초로 하는 것이 바람직하다. 또한, 열처리는 길이 방향 및/또는 폭 방향으로 이완시키면서 행함으로써 열수축률을 저감시킬 수 있다. 열처리 시에 이완시킬 때의 이완율(릴랙스율)은 1% 이상이 바람직하며, 치수 안정성, 생산성의 관점으로부터는 1% 이상 10% 이하이면 바람직하고, 1% 이상 5% 이하이면 가장 바람직하다.Additionally, the preferred heat treatment time can be set arbitrarily between 5 and 60 seconds, but from the viewpoints of dimensional stability, film quality, and productivity, it is preferable to set it to 10 to 40 seconds, and more preferably 15 to 30 seconds. In addition, heat treatment can be performed while relaxing in the longitudinal direction and/or the width direction to reduce the thermal contraction rate. The relaxation rate (relaxation rate) when relaxing during heat treatment is preferably 1% or more. From the viewpoint of dimensional stability and productivity, it is preferable that it is 1% or more and 10% or less, and most preferably 1% or more and 5% or less.

또한, 2단계 이상의 조건에서 열처리하는 방법도 매우 바람직하다. 220℃~240℃의 고온에서의 열처리 후에 열처리 온도보다 낮은 온도에서 길이 방향 및/또는 폭 방향으로 이완시키면서 열처리함으로써 열수축률을 더 저감시키는 것이 가능해진다. 이때 2단계째의 열처리 온도는 120℃~200℃ 미만이면 바람직하며, 150℃~180℃이면 더 바람직하다. 또한, 150℃, 10분간 열처리 후의 컬 높이를 0㎜ 이상 30㎜ 이하로 하는 방법으로서 수지 압출 시의 냉각 드럼 상과 반대면의 수지의 냉각 속도에 차를 발생시키지 않도록, 예를 들면 냉각 드럼면의 반대면측에 냉각 닙 롤을 설치하는 방법도 바람직하게 사용된다. 또한, 본 발명의 필름이 기재층의 적어도 편면에 상기 A층을 갖는 필름 구성인 경우에는 기재층의 양면에 A층을 갖는 구성으로 하는 것, 기재층의 편면에 A층을 가질 경우에도 기재층과 A층의 수지를 유사의 조성으로 하는 것이 바람직하다.In addition, a method of heat treatment under two or more stages is also highly desirable. After heat treatment at a high temperature of 220°C to 240°C, it is possible to further reduce the heat shrinkage rate by heat treatment while relaxing in the longitudinal direction and/or the width direction at a temperature lower than the heat treatment temperature. At this time, the heat treatment temperature in the second stage is preferably less than 120°C to 200°C, and more preferably 150°C to 180°C. In addition, as a method of setting the curl height after heat treatment at 150°C for 10 minutes to 0 mm or more and 30 mm or less, there is no difference in the cooling rate of the resin on the top and the opposite side of the cooling drum during resin extrusion, for example, on the cooling drum surface. A method of installing a cooling nip roll on the opposite side is also preferably used. In addition, when the film of the present invention has a film structure having the A layer on at least one side of the base layer, it is configured to have the A layer on both sides of the base layer, and even when it has the A layer on one side of the base layer, the base layer It is preferable that the resins of the and A layers have similar compositions.

본 발명의 필름은 필름의 20㎝×30㎝ 범위에 있어서의 인장 파단 강도의 편차가 20% 이하인 것이 바람직하다. 인장 파단 강도의 편차를 작게 함으로써 필름의 취급성이 향상되고, 필름 반송 시, 전사 박리 시에 강도가 약한 개소에서의 필름 찢어짐 발생을 억제할 수 있다. 본 발명에 있어서의 필름의 20㎝×30㎝ 범위에 있어서의 인장 파단 강도의 편차는 필름을 임의의 위치에서 폭 20㎝×길이 30㎝의 크기로 잘라낸 샘플에 대해서 길이 방향으로 15㎝로 2등분하고, 각각 15㎝ 길이의 샘플을 폭 방향으로 1㎝ 폭으로 잘라내어 길이 15㎝×폭 1㎝의 스트립형상 샘플 40개에 대해서 인장 시험에 의해 파단 강도를 측정하고, 산출한다. 필름의 20㎝×30㎝ 범위에 있어서의 인장 파단 강도의 편차는 15% 이하이면 보다 바람직하며, 0.1% 이상 10% 이하이면 가장 바람직하다.The film of the present invention preferably has a variation in tensile breaking strength of 20% or less over a 20 cm x 30 cm range. By reducing the variation in tensile breaking strength, the handleability of the film is improved, and the occurrence of film tearing at locations where strength is weak during film transport or transfer peeling can be suppressed. In the present invention, the deviation in the tensile breaking strength of the film in the range of 20 cm Then, each 15 cm long sample was cut into 1 cm wide pieces in the width direction, and the breaking strength was measured and calculated by a tensile test for 40 strip-shaped samples of 15 cm long x 1 cm wide. It is more preferable that the deviation of the tensile breaking strength in the range of 20 cm x 30 cm of the film is 15% or less, and most preferably it is 0.1% or more and 10% or less.

본 발명의 필름의 20㎝×30㎝ 범위에 있어서의 인장 파단 강도의 편차를 20% 이하로 하는 방법으로서는, 예를 들면 A층 중에 포함되는 입자의 분산성을 향상시키는 방법을 들 수 있다. 입자의 분산성이 향상되어 A층 중에 균일하게 입자가 존재함으로써 인장 파단 강도의 편차도 저감할 수 있다. 입자의 분산성을 향상시키는 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 A층을 구성하는 베이스 수지와 상용성이 높은 수지에 입자를 콤파운드하고, 상기 입자 콤파운드 원료를 베이스 수지에 알로이 압출하여 A층을 형성하는 방법 등을 들 수 있다. 예를 들면, 베이스 수지가 폴리에틸렌테레프탈레이트의 경우에는 콤파운드용 수지로서는 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리프로필렌테레프탈레이트 등을 선정하는 것이 바람직하다.A method of reducing the variation in tensile strength at break in the 20 cm x 30 cm range of the film of the present invention to 20% or less includes, for example, a method of improving the dispersibility of particles contained in the A layer. The dispersibility of the particles is improved and the particles exist uniformly in the A layer, thereby reducing the variation in tensile breaking strength. The method for improving the dispersibility of particles is not particularly limited, but for example, the particles are compounded with a resin that is highly compatible with the base resin constituting the A layer, and the particle compound raw material is alloy-extruded into the base resin to form the A layer. A method of forming, etc. may be mentioned. For example, when the base resin is polyethylene terephthalate, it is desirable to select polybutylene terephthalate, polypropylene terephthalate, etc. as the compound resin.

본 발명의 필름은 전사성의 관점으로부터 A층 표면의 표면 자유 에너지를 44mN/m 이하로 하는 것이 바람직하다. 표면 자유 에너지를 44mN/m 이하로 함으로써 전사 재료와의 박리성이 향상되기 때문에 전사, 박리가 용이해져 전사성이 향상된다. A층측의 표면 자유 에너지는 40mN/m 이하이면 보다 바람직하며, 35mN/m 이하이면 가장 바람직하다. 한편, 전사 재료의 균일 도포성이나 가공 중의 밀착성의 관점으로부터는 20mN/m 이상인 것이 바람직하다.From the viewpoint of transferability, the film of the present invention preferably has a surface free energy of the A-layer surface of 44 mN/m or less. By setting the surface free energy to 44 mN/m or less, peelability from the transfer material is improved, making transfer and peeling easier and transferability improved. The surface free energy on the A-layer side is more preferably 40 mN/m or less, and most preferably 35 mN/m or less. On the other hand, from the viewpoint of uniform applicability of the transfer material and adhesion during processing, it is preferable that it is 20 mN/m or more.

본 발명의 표면 자유 에너지를 상술한 범위로 하는 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만 실리콘 화합물, 왁스 화합물, 불소계 화합물 등의 이형제를 A층 중에 함유하는 방법 등을 들 수 있다.The method for adjusting the surface free energy of the present invention to the above-mentioned range is not particularly limited, but includes a method of containing a mold release agent such as a silicone compound, a wax compound, or a fluorine-based compound in the A layer.

본 발명에 있어서는 가열 시의 내열성의 관점으로부터 A층을 멜라민 수지와 이형제를 함유하는 층(이후, 이형제를 함유하는 층을 이형층이라고 칭하는 경우가 있다)으로 하는 것이 바람직하다. 내열성, 이형 안정성의 관점으로부터 A층 중의 멜라민 수지의 함유량은 50질량% 이상인 것이 바람직하다.In the present invention, from the viewpoint of heat resistance during heating, it is preferable that layer A be a layer containing a melamine resin and a mold release agent (hereinafter, the layer containing a mold release agent may be referred to as a mold release layer). From the viewpoint of heat resistance and mold release stability, the content of melamine resin in layer A is preferably 50% by mass or more.

멜라민 수지로서는 멜라민포름알데히드 수지나 메틸화멜라민포름알데히드 수지, 부틸화멜라민포름알데히드 수지, 에테르화멜라민포름알데히드 수지, 에폭시 변성 멜라민포름알데히드 수지 등의 멜라민포름알데히드 수지, 요소 멜라민 수지, 아크릴멜라민 수지 등을 들 수 있지만 멜라민포름알데히드 수지가 바람직하며, 적당한 이형성을 갖는 점에서 메틸화멜라민포름알데히드 수지가 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 본 발명의 A층은 제막성, 연신 추종성의 관점으로부터 바인더 수지, 이형제 외에 바인더 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 바인더 수지로서는 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지가 바람직하게 사용되고, 특히 아크릴계 수지가 바람직하게 사용된다. 아크릴계 수지로서는 (메타)아크릴산 알킬에스테르의 단독 중합체 또는 공중합체, 측쇄 및/또는 주쇄 말단에 경화성 관능기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체를 들 수 있고, 경화성 관능기로서는 수산기, 카복실기, 에폭시기, 아미노기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 아크릴모노머와 측쇄 및/또는 주쇄 말단에 경화성 관능기를 갖는 아크릴산 에스테르가 공중합된 아크릴모노머 공중합체가 바람직하다. 또한, 본 발명의 A층에 함유하는 이형제로서는, 예를 들면 불소 화합물, 장쇄 알킬 화합물, 및 왁스 화합물 등을 들 수 있다. 이들의 이형제는 단독으로 사용해도 좋고, 복수종 사용해도 좋다.Melamine resins include melamine formaldehyde resins such as melamine formaldehyde resin, methylated melamine formaldehyde resin, butylated melamine formaldehyde resin, etherified melamine formaldehyde resin, and epoxy-modified melamine formaldehyde resin, urea melamine resin, and acrylic melamine resin. However, melamine formaldehyde resin is preferable, and methylated melamine formaldehyde resin is particularly preferably used because it has appropriate release properties. In addition, the layer A of the present invention preferably contains a binder resin in addition to a binder resin and a mold release agent from the viewpoint of film forming properties and stretching followability. As the binder resin, polyester resin, acrylic resin, and urethane resin are preferably used, and acrylic resin is especially preferably used. Acrylic resins include homopolymers or copolymers of (meth)acrylic acid alkyl esters, and (meth)acrylic acid ester copolymers having a curable functional group at the side chain and/or main chain terminal, and the curable functional group includes hydroxyl group, carboxyl group, epoxy group, and amino group. etc. can be mentioned. Among them, an acrylic monomer copolymer obtained by copolymerizing an acrylic monomer and an acrylic acid ester having a curable functional group at the side chain and/or main chain terminal is preferable. In addition, examples of the release agent contained in layer A of the present invention include fluorine compounds, long-chain alkyl compounds, and wax compounds. These mold release agents may be used individually, or multiple types may be used.

본 발명에 사용할 수 있는 불소 화합물로서는 화합물 중에 불소 원자를 함유하고 있는 화합물이다. 예를 들면, 퍼플루오로알킬기 함유 화합물, 불소 원자를 함유하는 올레핀 화합물의 중합체, 플루오로벤젠 등의 방향족 불소 화합물 등을 들 수 있다. 본 발명의 이형 필름을 성형 동시 전사박 용도 등으로 사용할 경우 전사 시에 높은 열부하가 가해지기 때문에 내열성, 오염성을 고려하면 불소 화합물은 고분자 화합물인 것이 바람직하다.Fluorine compounds that can be used in the present invention are compounds that contain a fluorine atom. Examples include perfluoroalkyl group-containing compounds, polymers of olefin compounds containing fluorine atoms, and aromatic fluorine compounds such as fluorobenzene. When the release film of the present invention is used for molding transfer film applications, etc., a high heat load is applied during transfer, so considering heat resistance and contamination, it is preferable that the fluorine compound is a polymer compound.

장쇄 알킬 화합물이란 탄소수가 6개 이상, 특히 바람직하게는 8개 이상의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 갖는 화합물인 것이다. 구체예로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만 장쇄 알킬기 함유 폴리비닐 수지, 장쇄 알킬기 함유 아크릴 수지, 장쇄 알킬기 함유 폴리에스테르 수지, 장쇄 알킬기 함유 아민 화합물, 장쇄 알킬기 함유 에테르 화합물, 장쇄 알킬기 함유 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 장쇄 알킬 화합물은 고분자 화합물이면 이형 필름 박리 시에 접합해 있는 상대방 기재 표면으로의 A층 유래의 성분이 트랜스퍼되는 것을 억제할 수 있기 때문에 바람직하다.A long-chain alkyl compound is a compound having a straight-chain or branched alkyl group having 6 or more carbon atoms, particularly preferably 8 or more carbon atoms. Specific examples include, but are not limited to, polyvinyl resins containing long-chain alkyl groups, acrylic resins containing long-chain alkyl groups, polyester resins containing long-chain alkyl groups, amine compounds containing long-chain alkyl groups, ether compounds containing long-chain alkyl groups, quaternary ammonium salts containing long-chain alkyl groups, etc. . If the long-chain alkyl compound is a high molecular compound, it is preferable because it can suppress the transfer of components derived from the A layer to the surface of the other substrate to which the release film is bonded.

본 발명에 사용할 수 있는 왁스란 천연 왁스, 합성 왁스, 그들의 배합한 왁스 중으로부터 선택된 왁스이다. 천연 왁스란 식물계 왁스, 동물계 왁스, 광물계 왁스, 석유 왁스이다. 식물계 왁스로서는 칸데릴라 왁스, 카르나우바 왁스, 라이스 왁스, 목랍, 호호바유를 들 수 있다. 동물계 왁스로서는 밀랍, 라놀린, 경랍을 들 수 있다. 광물계 왁스로서는 몬탄 왁스, 오조케라이트, 세레신을 들 수 있다. 석유 왁스로서는 파라핀 왁스, 마이크로크리스탈린 왁스, 페트롤레이텀을 들 수 있다. 합성 왁스로서는 합성 탄화수소, 변성 왁스, 수소화 왁스, 지방산, 산아미드, 아민, 이미드, 에스테르, 케톤을 들 수 있다. 합성 탄화수소로서는 피셔·트로프슈 왁스(별명 사조일 왁스), 폴리에틸렌 왁스가 유명하지만 이것 외에 저분자량의 고분자(구체적으로는 점도 평균 분자량 500으로부터 20000의 고분자)인 이하의 폴리머도 포함된다. 즉, 폴리프로필렌, 에틸렌·아크릴산 공중합체, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜과 폴리프로필렌글리콜의 블록 또는 그래프트 결합체가 있다. 변성 왁스로서는 몬탄 왁스 유도체, 파라핀 왁스 유도체, 마이크로크리스탈린 왁스 유도체를 들 수 있다. 여기에서의 유도체란 정제, 산화, 에스테르화, 비누화 중 어느 하나의 처리 또는 그들의 조합에 의해 얻어지는 화합물이다. 수소화 왁스로서는 경화 피마자유 및 경화 피마자유 유도체를 들 수 있다.The wax that can be used in the present invention is a wax selected from natural waxes, synthetic waxes, and waxes blended thereof. Natural waxes include plant wax, animal wax, mineral wax, and petroleum wax. Examples of plant-based waxes include candelilla wax, carnauba wax, rice wax, wood wax, and jojoba oil. Animal waxes include beeswax, lanolin, and spermaceti. Examples of mineral waxes include montan wax, ozokerite, and ceresin. Petroleum waxes include paraffin wax, microcrystalline wax, and petrolatum. Examples of synthetic waxes include synthetic hydrocarbons, denatured waxes, hydrogenated waxes, fatty acids, acid amides, amines, imides, esters, and ketones. Famous synthetic hydrocarbons include Fischer-Tropsch wax (aka Sazoyl wax) and polyethylene wax, but in addition to these, the following polymers that are low molecular weight polymers (specifically, polymers with a viscosity average molecular weight of 500 to 20,000) are also included. That is, there are polypropylene, ethylene-acrylic acid copolymer, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and block or graft combinations of polyethylene glycol and polypropylene glycol. Modified waxes include montan wax derivatives, paraffin wax derivatives, and microcrystalline wax derivatives. The derivative herein is a compound obtained by any of purification, oxidation, esterification, saponification, or a combination thereof. Hydrogenated waxes include hydrogenated castor oil and hydrogenated castor oil derivatives.

이들 이형제를 A층의 표면에 균일하게 분산시킴으로써 A층 상에 적층, 박리하는 피이형층과의 밀착력, 박리력을 적정한 범위로 할 수 있다. 이형제로서는 장쇄 알킬 화합물을 사용하면 광범위로 박리력을 조정할 수 있다는 점에서 본 발명의 용도상 바람직하다.By dispersing these release agents uniformly on the surface of layer A, the adhesion and peeling force with the release layer to be laminated and peeled off from layer A can be kept in an appropriate range. The use of a long-chain alkyl compound as a mold release agent is preferable for use in the present invention because the peeling force can be adjusted over a wide range.

이어서, 본 발명의 필름의 구체적인 제조 방법의 예에 대해서 기재하지만, 본 발명은 이러한 예에 한정되어 해석되는 것은 아니다.Next, examples of specific manufacturing methods for the film of the present invention will be described, but the present invention is not to be construed as being limited to these examples.

본 발명의 필름이 기재층, 저광택층(A층)으로 구성되고, 각층 모두 폴리에스테르 수지가 사용되는 경우 각기 다른 압출기에 각 수지를 공급하여 용융 압출한다. 이때 수지 온도는 255℃~295℃로 제어하는 것이 바람직하다. 이어서, 필터나 기어 펌프를 통해 이물의 제거, 압출량의 균정화를 각각 행하고, T 다이로부터 냉각 드럼 상에 시트상으로 공압출하여 적층 시트를 얻는다. 그때 고전압을 가한 전극을 사용해서 정전기로 냉각 드럼과 수지를 밀착시키는 정전 인가법, 캐스팅 드럼과 압출한 폴리머 시트 사이에 수막을 형성하는 캐스트법, 캐스팅 드럼 온도를 폴리에스테르 수지의 유리 전이점~(유리 전이점 -20℃)으로 해서 압출한 폴리머를 점착시키는 방법 또는 이들의 방법을 복수 조합한 방법에 의해 시트상 폴리머를 캐스팅 드럼에 밀착시켜 냉각 고화한다. 이들 캐스트법 중에서도 폴리에스테르를 사용하는 경우에는 생산성이나 평면성의 관점으로부터 정전 인가하는 방법이 바람직하며, 가열 시의 컬 억제의 관점으로부터는 냉각 드럼과 반대면측에 냉각 닙 롤을 설치하는 방법도 바람직하게 사용된다. 본 발명의 필름은 내열성, 치수 안정성의 관점으로부터 2축 배향 필름으로 하는 것이 바람직하다. 2축 배향 필름은 미연신 필름을 길이 방향으로 연신한 후 폭 방향으로 연신하거나, 또는 폭 방향으로 연신한 후 길이 방향으로 연신하는 축차 2축 연신 방법에 의해, 또는 필름의 길이 방향, 폭 방향을 거의 동시에 연신해 가는 동시 2축 연신 방법 등에 의해 연신을 행함으로써 얻을 수 있다.When the film of the present invention consists of a base layer and a low-gloss layer (A layer), and each layer uses a polyester resin, each resin is supplied to a different extruder and melt-extruded. At this time, it is desirable to control the resin temperature between 255℃ and 295℃. Next, foreign substances are removed and the extrusion amount is equalized through a filter or a gear pump, and the sheet is co-extruded from the T die onto a cooling drum to obtain a laminated sheet. At that time, the electrostatic application method uses an electrode applied with high voltage to electrostatically adhere the cooling drum to the resin, the casting method forms a water film between the casting drum and the extruded polymer sheet, and the casting drum temperature is adjusted to the glass transition point of the polyester resin~( The sheet-shaped polymer is brought into close contact with the casting drum and cooled and solidified by a method of adhering the extruded polymer at a glass transition point of -20°C or a combination of these methods. Among these casting methods, when using polyester, electrostatic application is preferable from the viewpoint of productivity and flatness, and from the viewpoint of suppressing curl during heating, a method of installing a cooling nip roll on the side opposite to the cooling drum is also preferable. It is used. The film of the present invention is preferably a biaxially oriented film from the viewpoint of heat resistance and dimensional stability. Biaxially oriented films are produced by a sequential biaxial stretching method in which an unstretched film is stretched in the longitudinal direction and then stretched in the width direction, or stretched in the width direction and then stretched in the longitudinal direction, or by stretching the film in the longitudinal or width directions. It can be obtained by performing stretching using a simultaneous biaxial stretching method in which stretching is performed almost simultaneously.

이러한 연신 방법에 있어서의 연신 배율로서는 길이 방향에 2.8배 이상 3.4배 이하, 더 바람직하게는 2.9배 이상 3.3배 이하가 채용된다. 또한, 연신 속도는 1,000%/분 이상 200,000%/분 이하인 것이 바람직하다. 또한, 길이 방향의 연신 온도는 70℃ 이상 90℃ 이하로 하는 것이 바람직하다. 또한, 폭 방향의 연신 배율로서는 바람직하게는 2.8배 이상 3.8배 이하, 더 바람직하게는 3배 이상 3.6배 이하가 채용된다. 폭 방향의 연신 속도는 1,000%/분 이상 200,000%/분 이하인 것이 바람직하다. 또한, 폭 방향의 연신 온도는 70℃ 이상 180℃ 이하로 하는 것이 바람직하지만 필름 강도 향상의 관점으로부터 A층의 결정화 온도 이상의 온도로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 2축 연신 후에 필름의 열처리를 행한다. 열처리는 오븐 중 가열한 롤 상 등 종래 공지의 임의의 방법에 의해 행할 수 있다. 이 열처리는 120℃ 이상 폴리에스테르의 결정 융해 피크 온도 이하의 온도에서 행해지지만 A층 중의 입자 주변의 공극을 저감시키는 관점으로부터, 또한 150℃에서의 열수축률을 2% 이하로 낮게 제어하는 관점으로부터도 열처리 온도는 220℃ 이상으로 고온으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 100℃로부터 150℃의 범위에서의 열 치수 변화율을 0.015%/℃ 이하로 하는 관점으로부터 열처리 후에 단계적으로 강온하면서 이완 처리를 행하는 것이 바람직하다. 보다 구체적으로는 열처리의 최대 온도(Tmax)에서 릴랙스율 0.5% 이상의 이완 열처리를 행하고, 이어서 Tmax -50℃ 이상 Tmax -5℃ 이하의 온도에 있어서 릴랙스율 0.5% 이상의 이완 열처리를 1단계 이상 행하는 것이 바람직하다. Tmax -50℃ 이상 Tmax -5℃ 이하에 있어서의 이완 열처리는 Tmax -25℃ 이상 Tmax -5℃ 이하 및 Tmax -50℃ 이상 Tmax -25 미만의 각 온도 범위에 있어서 각 1회 이상 실시하는 것이 바람직하다. 이완 열처리는 길이 방향 또는 폭 방향 중 어느 방향으로 행해도 좋지만 축차 2축 연신에 의해 2축 연신하는 경우에는 2축째의 연신 방향에 대하여 연신 후에 연속해서 이완 열처리를 행하는 것이 생산성의 관점으로부터 바람직하다.The draw ratio in this stretching method is 2.8 times to 3.4 times, more preferably 2.9 times to 3.3 times in the longitudinal direction. Additionally, the stretching speed is preferably 1,000%/min or more and 200,000%/min or less. Additionally, the stretching temperature in the longitudinal direction is preferably 70°C or higher and 90°C or lower. Additionally, the stretch ratio in the width direction is preferably 2.8 times or more and 3.8 times or less, and more preferably 3 times or more and 3.6 times or less. The stretching speed in the width direction is preferably 1,000%/min or more and 200,000%/min or less. In addition, the stretching temperature in the width direction is preferably 70°C or higher and 180°C or lower, but from the viewpoint of improving film strength, it is more preferable that the stretching temperature is higher than the crystallization temperature of the A layer. Additionally, the film is heat treated after biaxial stretching. Heat treatment can be performed by any conventionally known method, such as on a roll heated in an oven. This heat treatment is performed at a temperature of 120°C or higher and below the crystal melting peak temperature of polyester, but also from the viewpoint of reducing voids around the particles in the A layer and from the viewpoint of controlling the heat shrinkage rate at 150°C to 2% or less. The heat treatment temperature is preferably 220°C or higher. Additionally, from the viewpoint of keeping the thermal dimensional change rate in the range from 100°C to 150°C to 0.015%/°C or less, it is preferable to perform the relaxation treatment while gradually lowering the temperature after the heat treatment. More specifically, relaxation heat treatment with a relaxation rate of 0.5% or more is performed at the maximum temperature of heat treatment (Tmax), and then one or more stages of relaxation heat treatment with a relaxation rate of 0.5% or more are performed at a temperature of Tmax -50℃ or more and Tmax -5℃ or less. desirable. Relaxation heat treatment at Tmax -50°C or higher and Tmax -5°C or lower is preferably performed at least once in each temperature range of Tmax -25°C or higher and Tmax -5°C or lower and Tmax -50°C or higher and Tmax -25 or lower. do. The relaxation heat treatment may be performed in either the longitudinal direction or the width direction. However, in the case of biaxial stretching by sequential biaxial stretching, it is preferable from the viewpoint of productivity to continuously perform the relaxation heat treatment after stretching in the second stretching direction.

또한, 본 발명의 필름은 안정된 이형성을 확보하기 위해서 필름의 A층의 표면에 이형층을 설치해서 이루어지는 적층체로 하는 것도 바람직한 실시형태이다. 이형층을 설치하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만 인라인에서 코팅시키는 방법을 들 수 있다. 코팅층을 필름 제조 공정 내의 인라인에서 설치하는 방법으로서는 적어도 1축 연신을 행한 필름 상에 코팅층 조성물을 물로 분산시킨 것을 메탈링바나 그라비아롤 등을 사용하여 균일하게 도포하고, 연신을 실시하면서 도제를 건조시키는 방법이 바람직하며, 그때 이형층의 두께로서는 0.02㎛ 이상 0.1㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 또한, 이형층 중에 각종 첨가제, 예를 들면 산화방지제, 내열안정제, 자외선흡수제, 적외선흡수제, 안료, 염료, 유기 또는 무기 입자, 대전방지제, 핵제 등을 첨가해도 좋다.In addition, in order to ensure stable release properties, the film of the present invention is also preferably a laminate formed by providing a release layer on the surface of layer A of the film. The method of installing the release layer is not particularly limited, but includes an in-line coating method. A method of installing a coating layer in-line within the film manufacturing process involves uniformly applying a coating layer composition dispersed in water onto at least a uniaxially stretched film using a metal ring bar or gravure roll, and drying the coating while stretching. This method is preferable, and the thickness of the release layer at that time is preferably 0.02 μm or more and 0.1 μm or less. Additionally, various additives such as antioxidants, heat stabilizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, pigments, dyes, organic or inorganic particles, antistatic agents, nucleating agents, etc. may be added to the release layer.

본 발명의 필름은 60° 광택도(G60), 85° 광택도(G85)가 모두 20 이하로 낮고, 또한 그 차가 특정 범위로 작게 제어되어 있기 때문에 입사 각도에 의하지 않고 우수한 저광택 외관을 나타내며, 전사 필름으로서 사용했을 경우에 저광택 외관의 전사성이 우수하다. 그 때문에 회로 형성 공정에 있어서 매트조 외관의 전사성이 우수한 전사용 필름으로서 적합하게 사용할 수 있다.The film of the present invention has both 60° glossiness (G 60 ) and 85° glossiness (G 85 ) as low as 20 or less, and the difference is controlled to be small within a specific range, so it exhibits an excellent low-gloss appearance regardless of the angle of incidence. , When used as a transfer film, the transferability of the low-gloss appearance is excellent. Therefore, it can be suitably used as a transfer film with excellent transferability of a matte appearance in the circuit formation process.

(실시예)(Example)

(1) 폴리에스테르의 조성(1) Composition of polyester

폴리에스테르 수지 및 필름을 헥사플루오로이소프로판올(HFIP)에 용해하고, 1H-NMR 및 13C-NMR을 사용하여 각 모노머 잔기 성분이나 부생 디에틸렌글리콜에 대해서 함유량을 정량할 수 있다. 적층 필름의 경우에는 적층 두께에 따라 필름의 각층을 삭제함으로써 각층 단체를 구성하는 성분을 채취하여 평가할 수 있다. 또한, 본 발명의 필름에 대해서는 필름 제조 시의 혼합 비율로부터 계산에 의해 조성을 산출했다.The polyester resin and film can be dissolved in hexafluoroisopropanol (HFIP), and the content of each monomer residue or by-product diethylene glycol can be quantified using 1 H-NMR and 13 C-NMR. In the case of a laminated film, the components constituting each layer can be sampled and evaluated by removing each layer of the film according to the laminated thickness. In addition, for the film of the present invention, the composition was calculated by calculation from the mixing ratio at the time of film production.

(2) 폴리에스테르의 고유 점도(2) Intrinsic viscosity of polyester

폴리에스테르 수지 및 필름의 고유 점도는 폴리에스테르를 오쏘클로로페놀에 용해하고, 오스왈드 점도계를 사용하여 25℃에서 측정했다. 적층 필름의 경우에는 적층 두께에 따라 필름의 각층을 삭제함으로써 각층 단체의 고유 점도를 평가할 수 있다.The intrinsic viscosity of the polyester resin and film was measured at 25°C by dissolving polyester in orthochlorophenol and using an Oswald viscometer. In the case of a laminated film, the intrinsic viscosity of each layer alone can be evaluated by removing each layer of the film according to the lamination thickness.

(3) 필름 두께(3) Film thickness

다이얼게이지를 사용하여 필름 두께를 측정했다.Film thickness was measured using a dial gauge.

(4) 각층 두께(4) Each layer thickness

필름을 에폭시 수지에 포매하고, 필름 단면을 마이크로톰으로 잘라냈다. 상기 단면을 투과형 전자 현미경(Hitachi, Ltd.제 TEM H7100)으로 5000배의 배율로 관찰하고, 각층의 두께를 구했다.The film was embedded in epoxy resin, and a cross-section of the film was cut with a microtome. The cross section was observed at a magnification of 5000 times using a transmission electron microscope (TEM H7100 manufactured by Hitachi, Ltd.), and the thickness of each layer was determined.

(5) 입자의 평균 입자 지름(5) Average particle diameter of particles

필름으로부터 수지를 플라스마 저온 회화 처리법(Yamato Scientific Co., Ltd.제 PR-503형)으로 제거하여 입자를 노출시킨다. 이것을 투과형 전자 현미경(Hitachi, Ltd.제 TEM H7100)으로 관찰하여 입자의 화상(입자에 의해 생기는 광의 농담)을 이미지 애널라이저(Cambridge Instrument Co., Ltd.제 QTM900)에 결부시키고, 관찰 개소를 바꾸어 입자수 100개로 다음의 수치 처리를 행하고, 그것에 의해 구한 수 평균 지름 D를 평균 입자 지름이라고 했다.The resin is removed from the film by a plasma low-temperature incineration treatment (PR-503 type manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) to expose the particles. This was observed with a transmission electron microscope (TEM H7100, manufactured by Hitachi, Ltd.), and the image of the particle (light intensity generated by the particle) was attached to an image analyzer (QTM900, manufactured by Cambridge Instrument Co., Ltd.), and the observation point was changed to determine the particle size. The following numerical processing was performed on 100 numbers, and the number average diameter D obtained thereby was called the average particle diameter.

D=ΣDi/ND=ΣDi/N

여기에서 Di는 입자의 원상당경, N은 입자의 개수이다.Here, Di is the equivalent circular diameter of the particle, and N is the number of particles.

(6) 입자의 형상·원형도(6) Shape and circularity of particles

(5)와 마찬가지로 해서 입자의 화상을 관찰했다. 또한, 원형도는 하기 식에 의해 산출하고, 입자수 100개의 평균값을 본 발명의 원형도라고 했다.In the same manner as (5), the image of the particles was observed. In addition, the circularity was calculated by the following formula, and the average value of 100 particles was taken as the circularity of the present invention.

원형도=4π×면적/주위 길이2 Circularity=4π×area/peripheral length 2

(7) 입자의 형상·부피도(7) Shape and volume of particles

필름 길이 방향에 평행하며, 또한 필름 두께 방향에 수직인 필름 단면 및 필름 폭 방향에 평행하며, 또한 필름 두께 방향에 수직인 필름 단면을 마이크로톰으로 잘라내고, (5)에 기재된 방법으로 관찰을 행했다. 단면에 있어서의 입자에서 입자의 단과 단이 가장 길어지는 길이를 L1, 상기 L1을 구하는 것에 있어서 입자의 단과 단을 이은 선분의 수직인 방향에서 입자의 단과 단이 가장 길어지는 길이를 L2라고 한다(도 1). 부피도는 필름 길이 방향에 평행하며, 또한 필름 두께 방향에 수직인 필름 단면 및 필름 폭 방향에 평행하며, 또한 필름 두께 방향에 수직인 필름 단면 각각에 있어서 L2/L1을 구해서 각각 100개의 평균으로 하여 구했다.A film cross section parallel to the film longitudinal direction and perpendicular to the film thickness direction and a film cross section parallel to the film width direction and perpendicular to the film thickness direction were cut with a microtome and observed by the method described in (5). The length at which the ends of a particle are longest in a particle in a cross section is L1, and in calculating L1, the length at which the ends of a particle are longest in the direction perpendicular to the line segment connecting the ends of the particle is called L2 ( Figure 1). The volume diagram is calculated by calculating L2/L1 for each of the film cross-sections parallel to the film length direction and perpendicular to the film thickness direction and the film cross-sections parallel to the film width direction and perpendicular to the film thickness direction, and taking the average of 100 each. Saved.

(8) 입자의 함유량(8) Particle content

폴리머 1g을 1N-KOH 메탄올 용액 200㎖에 투입해서 가열 환류하고, 폴리머를 용해했다. 용해가 종료된 상기 용액에 200㎖의 물을 첨가하고, 이어서 상기 액체를 원심 분리기에 걸쳐 입자를 침강시켜서 상청액을 제거했다. 입자에는 물을 더 첨가하여 세정, 원심 분리를 2회 반복했다. 이렇게 해서 얻어진 입자를 건조시키고, 그 질량을 잼으로써 입자의 함유량을 산출했다.1 g of polymer was added to 200 ml of 1N-KOH methanol solution and heated to reflux to dissolve the polymer. 200 ml of water was added to the solution where dissolution was completed, and the liquid was then passed through a centrifuge to settle the particles to remove the supernatant. Additional water was added to the particles, and washing and centrifugation were repeated twice. The particles obtained in this way were dried and their mass was measured to calculate the particle content.

(9) 광택도(9) Glossiness

JIS-Z-8741(1997년)에 규정된 방법에 따라 Suga Test Instruments Co., Ltd.제 디지털 변각 광택도계 UGV-5D를 사용하여 60° 경면 광택도 및 85° 경면 광택도를 각각 N=3으로 측정하고, 평균값을 본 발명의 60° 광택도(G60), 85° 광택도(G85)라고 했다.According to the method specified in JIS-Z-8741 (1997), 60° specular gloss and 85° specular gloss were measured using a digital variable angle glossmeter UGV-5D manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. N = 3 each. was measured, and the average values were referred to as 60° glossiness (G 60 ) and 85° glossiness (G 85 ) of the present invention.

(10) MIT 굴곡 횟수(10) Number of MIT bends

폴리에스테르 필름을 폭 15㎜ 길이 100㎜의 스트립형으로 잘라내어 샘플로 했다. MIT 내절도 시험기(MYS-TESTER Company Limited제)를 사용하여 필름 길이 방향 및 폭 방향을 각 3회 측정 후 평균값 산출했다.The polyester film was cut into a strip of 15 mm in width and 100 mm in length to serve as a sample. Using an MIT tear resistance tester (manufactured by MYS-TESTER Company Limited), the film was measured three times in the longitudinal and width directions, and the average value was calculated.

·선단: R0.38㎜·Tip: R0.38㎜

·굴곡 각도: 좌우 135°·Bending angle: 135° left and right

·굴곡 속도: 175 왕복/매분·Bending speed: 175 round trips/minute

·하중: 9.8N·Load: 9.8N

(11) 중심선 평균 거칠기 SRa(11) Center line average roughness SRa

길이 4.0㎝×폭 3.5㎝의 치수로 잘라낸 것을 샘플로 하고, 촉침법의 고정세 미세 형상 측정기(3차원 표면 조도계)를 사용하여 JIS B0601-1994에 준거해서 하기 조건에서 필름의 표면 형태를 측정했다.A sample was cut to the dimensions of 4.0 cm in length x 3.5 cm in width, and the surface shape of the film was measured under the following conditions in accordance with JIS B0601-1994 using a high-precision fine shape measuring device (3D surface roughness meter) using the stylus method. .

·측정 장치: 3차원 미세 형상 측정기(Kosaka Laboratory Ltd.제, ET-4000A형)・Measurement device: 3D fine shape measuring device (Kosaka Laboratory Ltd., type ET-4000A)

·해석 기기: 3차원 표면 거칠기 해석 시스템(TDA-31형)·Analysis device: 3D surface roughness analysis system (TDA-31 type)

·촉침: 선단 반경 0.5㎛R, 지름 2㎛, 다이아몬드제·Stylus: tip radius 0.5㎛R, diameter 2㎛, made of diamond

·침압: 100μN·Accumulation pressure: 100μN

·측정 방향: 필름 길이 방향, 필름 폭 방향을 각 1회 측정 후 평균·Measurement direction: average after measuring once each in the film length direction and film width direction

·X 측정 길이: 1.0㎜·X Measurement Length: 1.0mm

·X 이송 속도: 0.1㎜/s(측정 속도)·X feed speed: 0.1 mm/s (measurement speed)

·Y 이송 피치: 5㎛(측정 간격)Y feed pitch: 5㎛ (measurement interval)

·Y 라인 수: 81개(측정 개수)· Number of Y lines: 81 (number of measurements)

·Z 배율: 20배(종배율)·Z magnification: 20x (vertical magnification)

·저역 컷오프: 0.20㎜·Low range cutoff: 0.20mm

·고역 컷오프: R+W㎜(거칠기 컷오프값) R+W란 컷오프하지 않는 것을 의미한다.·High-range cutoff: R+W㎜ (roughness cutoff value) R+W means no cutoff.

·필터 방식: 가우시안 공간형·Filter method: Gaussian space type

·레벨링: 있음(경사 보정)·Leveling: Yes (slope correction)

·기준 면적: 1㎟·Reference area: 1㎟

상기 조건에서 측정을 행하고, 그 후 해석 시스템을 사용하여 중심선 평균 거칠기 SRa를 산출했다.Measurements were performed under the above conditions, and then the center line average roughness SRa was calculated using an analysis system.

(12) 100℃로부터 150℃의 범위에서의 열 치수 변화율(12) Thermal dimensional change rate in the range from 100℃ to 150℃

길이 방향(MD), 폭 방향(TD)이 각각 길이 방향이 되도록 길이 50㎜×폭 4㎜의 직사각형으로 잘라내어 샘플로 하고, 열기계 분석 장치(Seiko Instruments Inc.제, TMA EXSTAR6000)를 사용하여 하기 조건하에서 승온하고, 100℃로부터 150℃에 있어서의 열 치수 변화율을 측정했다.A sample was cut into a rectangle of 50 mm in length x 4 mm in width so that the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD) were each longitudinal, and the following was used using a thermomechanical analysis device (TMA EXSTAR6000, manufactured by Seiko Instruments Inc.) The temperature was raised under the conditions, and the rate of thermal dimensional change from 100°C to 150°C was measured.

시험 길이: 15㎜, 하중: 19.6mN, 승온 속도: 10℃/분,Test length: 15 mm, load: 19.6 mN, temperature increase rate: 10°C/min,

측정 온도 범위: 30~200℃Measurement temperature range: 30~200℃

100℃로부터 150℃의 범위에서의 열 치수 변화율(%)=[{150℃에서의 필름 길이(㎜)-100℃에서의 필름 길이(㎜)}/100℃에서의 필름 길이(㎜)]×100Thermal dimensional change rate (%) in the range from 100°C to 150°C = [{Film length at 150°C (mm) - Film length at 100°C (mm)}/Film length at 100°C (mm)] 100

또한, 측정은 각 필름 모두 길이 방향 및 폭 방향으로 5샘플 실시하여 평균값으로 평가를 행했다.In addition, the measurement was performed on 5 samples of each film in the longitudinal direction and the width direction, and evaluation was performed using the average value.

(13) 150℃ 열수축률(13) 150℃ heat shrinkage rate

길이 방향(MD), 폭 방향(TD)이 각각 길이 방향이 되도록 길이 150㎜×폭 10㎜의 직사각형으로 잘라내어 샘플로 했다. 샘플에 100㎜의 간격으로 표선을 그리고, 3g의 추를 매달아 150℃로 가열한 열풍 오븐 내에 30분간 설치하여 가열 처리를 행했다. 열처리 후의 표선간 거리를 측정하고, 가열 전후의 표선간 거리의 변화로부터 하기 식에 의해 열수축률을 산출했다. 측정은 각 필름 모두 길이 방향 및 폭 방향으로 5샘플 실시해서 평균값으로 평가를 행했다.A sample was cut into a rectangle of 150 mm in length x 10 mm in width so that the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD) were each longitudinal. Marking lines were drawn on the sample at intervals of 100 mm, a 3 g weight was hung, and heat treatment was performed by placing it in a hot air oven heated to 150°C for 30 minutes. The distance between the gauge lines after heat treatment was measured, and the heat contraction rate was calculated from the change in the distance between the gauge lines before and after heating using the following formula. The measurement was performed on 5 samples of each film in the longitudinal and width directions, and evaluation was performed using the average value.

열수축률(%)={(가열 처리 전의 표선간 거리)-(가열 처리 후의 표선간 거리)}/(가열 처리 전의 표선간 거리)×100Heat shrinkage rate (%) = {(distance between marked lines before heat treatment) - (distance between marked lines after heat treatment)}/(distance between marked lines before heat treatment) × 100

(14) 150℃, 10분 열처리 후의 컬 높이(14) Curl height after heat treatment at 150℃ for 10 minutes

필름을 임의의 한 방향으로 100㎜, 상기 방향에 직교하는 방향으로 100㎜의 크기로 잘라내어 샘플로 한다. 상기 샘플을 150℃의 열풍 순환식 오븐에서 10분간 방치해서 열처리를 행한 후 유리판 상에 두고, 유리판 면으로부터 수직 방향에서의 4코너의 들뜸량을 측정하고, 최대의 높이를 컬 높이로 했다.The film is cut to a size of 100 mm in any one direction and 100 mm in a direction perpendicular to this direction to make a sample. The sample was heat treated by leaving it in a hot air circulation oven at 150°C for 10 minutes and then placed on a glass plate. The amount of lifting at four corners in the vertical direction from the surface of the glass plate was measured, and the maximum height was taken as the curl height.

(15) 필름의 20㎝×30㎝ 범위에 있어서의 인장 파단 강도의 편차(15) Variation in tensile breaking strength in the range of 20 cm × 30 cm of film

필름을 임의의 위치에서 폭 20㎝×길이 30㎝의 크기로 잘라낸 샘플에 대해서 길이 방향으로 15㎝로 2등분하고, 각각 15㎝ 길이의 샘플을 폭 방향으로 1㎝ 폭으로 잘라내어 길이 15㎝×폭 1㎝의 스트립형상 샘플 40개를 작성한다. 상기 샘플에 대해서 인장 시험기(ORIENTEC CORPORATION제 TENSILON UCT-100)를 사용하여 초기 인장 척간 거리 50㎜로 하고, 인장 속도를 300㎜/분으로 하여 인장 시험을 행하고, 필름이 파단되었을 때의 강도(인장 파단 강도)를 측정해서 하기와 같이 편차를 구했다.The film was cut into 20 cm wide x 30 cm long samples at random positions, divided into two 15 cm long samples, and each 15 cm long sample was cut into 1 cm wide pieces in the width direction, making 15 cm long x wide. Create 40 strip-shaped samples of 1 cm. For the above sample, a tensile test was performed using a tensile tester (TENSILON UCT-100 manufactured by ORIENTEC CORPORATION) with an initial tensile chuck distance of 50 mm and a tensile speed of 300 mm/min, and the strength (tensile strength) when the film was broken was measured. Breaking strength) was measured and the deviation was obtained as follows.

인장 파단 강도의 편차(%)={(최대값-최소값)/평균값}×100Deviation of tensile breaking strength (%)={(maximum value-minimum value)/average value}×100

(16) 표면 자유 에너지(16) Surface free energy

측정액으로서는 물, 에틸렌글리콜, 포름아미드, 및 디요오드메탄의 4종류를 사용하고, 접촉각계(Kyowa Interface Science Co., Ltd제 CA-D형)를 사용하여 각 액체의 필름 표면에 대한 정적 접촉각을 구했다. 각각의 액체에 대해서 5회 측정하고, 그 평균 접촉각(θ)과 측정액(j)의 표면 장력의 각 성분을 하기 식에 각각 대입하여 4개의 식으로 이루어지는 연립방정식을 γL, γ+, γ-에 대해서 풀었다.Four types of measurement liquids were used: water, ethylene glycol, formamide, and diiodomethane, and the static contact angle of each liquid with respect to the film surface was measured using a contact angle meter (CA-D type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). saved. Each liquid was measured five times, and the average contact angle (θ) and each component of the surface tension of the measured liquid (j) were substituted into the equations below to create a simultaneous equation consisting of four equations: γ L , γ + , γ - Solved about this.

LγjL)1/2+2(γ+γj-)1/2+2(γj+γ-)1/2 L γj L ) 1/2 +2(γ + γj - ) 1/2 +2(γj + γ - ) 1/2

=(1+cosθ)[γjL+2(γj+γj-)1/2]/2=(1+cosθ)[γj L +2(γj + γj - ) 1/2 ]/2

단, γ=γL+2(γ+γ-)1/2 However, γ=γ L +2(γ + γ - ) 1/2

γj=γjL+2(γj+γj-)1/2 γj=γj L +2(γj + γj - ) 1/2

여기에서 γ, γL, γ+, γ-는 각각 필름 표면의 표면 자유 에너지, 장거리간력항, 루이스산 파라미터, 루이스염기 파라미터를, 또한 γj, γjL, γj+, γj-는 각각 사용한 측정액의 표면 자유 에너지, 장거리간력항, 루이스산 파라미터, 루이스염기 파라미터를 나타낸다. 또한, 여기에서 사용한 각 액체의 표면 장력은 Oss("fundamentals of Adhesion", L. H. Lee(Ed.), p153, Plenumess, New York(1991))에 의해 제안된 값을 사용했다.Here, γ, γ L , γ + , and γ - are the surface free energy of the film surface, long-range force term, Lewis acid parameter, and Lewis base parameter, respectively, and γj, γj L , γj + , and γj - are the measurement liquid used, respectively. The surface free energy, long-range force term, Lewis acid parameter, and Lewis base parameter are shown. In addition, the surface tension of each liquid used here was the value proposed by Oss ("fundamentals of Adhesion", LH Lee (Ed.), p153, Plenumess, New York (1991)).

(17) 박리성(17) Peelability

필름을 길이 100㎜×폭 100㎜로 잘라내어 사용했다. 하기 하드 코트층 형성용 도료 조성물을 건조 후의 두께가 5㎛가 되도록 유량을 제어해서 슬롯 다이 코터를 사용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조해서 용제를 제거하여 하드 코트층이 적층된 적층체를 얻었다.The film was cut into 100 mm in length x 100 mm in width and used. The coating composition for forming the hard coat layer below was applied using a slot die coater with the flow rate controlled so that the thickness after drying was 5㎛, dried at 100°C for 1 minute to remove the solvent, and the laminate with the hard coat layer was obtained. got it

얻어진 필름/하드 코트층 적층체를 상금형 온도, 하금형 온도 모두 온도 160℃로 가열한 프레스기를 사용하고, 두께 0.2㎜의 알루미늄판/두께 0.125㎜의 폴리이미드 필름(DU PONT-TORAY CO., LTD.제 KAPTON 500H/V)/적층체/두께 0.125㎜의 폴리이미드 필름(DU PONT-TORAY CO., LTD.제 KAPTON 500H/V)/두께 0.2㎜의 알루미늄판의 구성체를 1.5㎫의 조건하에서 1시간 가열 프레스를 행했다. 가열 프레스 후에 적층체를 인출하고, 고압 수은등을 사용하여 300mJ/㎠의 자외선을 적층체측으로부터 조사하여 하드 코트층을 경화시켜 샘플을 얻는다. 이 샘플을 필름, 하드 코트층 계면에서 박리 테스트를 실시하고, 이하 기준에서 박리성의 평가를 행했다. 또한, 필름에 이형층이 설치되어 있을 경우에는 필름/이형층과 하드 코트층 계면에서 박리 테스트를 행했다. 박리 테스트는 5회 행하고, 하기 평가 기준에서 평가를 행했다.The obtained film/hard coat layer laminate was heated to 160°C for both the upper and lower mold temperatures using a press machine, and an aluminum plate with a thickness of 0.2 mm/a polyimide film with a thickness of 0.125 mm (DU PONT-TORAY CO., DU PONT-TORAY CO., LTD. LTD. KAPTON 500H/V) / Laminate / 0.125 mm thick polyimide film (DU PONT-TORAY CO., LTD. KAPTON 500H/V) / 0.2 mm thick aluminum plate composition under the condition of 1.5 MPa. Heat pressing was performed for 1 hour. After heat pressing, the laminate is taken out, and ultraviolet rays of 300 mJ/cm2 are irradiated from the laminate side using a high-pressure mercury lamp to cure the hard coat layer to obtain a sample. This sample was subjected to a peeling test at the interface between the film and the hard coat layer, and peelability was evaluated based on the following criteria. Additionally, when a release layer was provided on the film, a peeling test was performed at the interface between the film/release layer and the hard coat layer. The peeling test was performed 5 times and evaluated according to the following evaluation criteria.

(하드 코트층 형성용 도료 조성물)(Paint composition for forming hard coat layer)

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용하여 희석해서 고형분 농도 40질량%의 하드 코트층 형성용 도료 조성물을 얻었다.The following materials were mixed and diluted using methyl ethyl ketone to obtain a coating composition for forming a hard coat layer with a solid content concentration of 40% by mass.

톨루엔 30질량부30 parts by mass of toluene

다관능 우레탄아크릴레이트 25질량부25 parts by mass of multifunctional urethane acrylate

(DAICEL-ALLNEX LTD.제 KRM8655)(KRM8655 manufactured by DAICEL-ALLNEX LTD.)

펜타에리스리톨트리아크릴레이트 혼합물 25질량부25 parts by mass of pentaerythritol triacrylate mixture

(Nippon Kayaku Co., Ltd.제 PET30)(PET30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

다관능 실리콘 아크릴레이트 1질량부1 part by mass of multifunctional silicone acrylate

(DAICEL-ALLNEX LTD.제 EBECRYL1360)(EBECRYL1360 manufactured by DAICEL-ALLNEX LTD.)

광중합 개시제 3질량부3 parts by mass of photopolymerization initiator

(Ciba Specialty Chemicals Inc.제 IRGACURE184)(IRGACURE184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc.)

(평가 기준)(Evaluation standard)

A: 저항 없이 박리 가능하며, (5회의 박리 테스트에 있어서 모두)필름 찢어짐은 발생하지 않았다.A: Peeling is possible without resistance, and no tearing of the film occurred (in all 5 peeling tests).

B: 박리 시에 저항을 느꼈지만 박리 가능하며, (5회의 박리 테스트에 있어서 모두)필름 찢어짐은 발생하지 않았다.B: Resistance was felt during peeling, but peeling was possible, and no tearing of the film occurred (in all five peeling tests).

C: 박리 가능했지만 (5회의 박리 테스트에 있어서 어느 하나 있어서)박리 시에 필름 찢어짐이 발생하는 것이 있었다.C: Although peeling was possible (in any one of the five peeling tests), film tearing occurred during peeling.

D: (5회의 박리 테스트에 있어서 모두)박리할 수 없었다.D: It was not possible to peel (in all 5 peeling tests).

(18) 가열 프레스 후의 컬성(18) Curlability after heat pressing

(17)과 마찬가지로 하여 가열 프레스한 후의 적층체에 대해서 유리판 상에 두고, 유리판 면으로부터 수직 방향에서의 4코너의 들뜸량을 측정하고, 최대의 높이를 컬 높이로 했다.In the same manner as in (17), the laminate after heat pressing was placed on a glass plate, the amount of lifting at four corners in the direction perpendicular to the glass plate surface was measured, and the maximum height was taken as the curl height.

A: 컬 높이가 0㎜ 이상 10㎜ 미만A: Curl height is between 0mm and less than 10mm

B: 컬 높이가 10㎜ 이상 20㎜ 미만B: Curl height is 10mm or more but less than 20mm

C: 컬 높이가 20㎜ 이상 30㎜ 미만C: Curl height greater than 20 mm but less than 30 mm

D: 컬 높이가 30㎜ 이상D: Curl height is 30 mm or more

(18) 매트조 외관의 전사성, 균일 외관(18) Transferability and uniform appearance of matte appearance

(17)의 방법으로 얻어진 하드 코트층의 박리면측에 대해서 광택도를 측정하고, 그 평균값에 대해서 이하의 기준에서 평가했다.The glossiness was measured on the peeled surface side of the hard coat layer obtained by the method in (17), and the average value was evaluated according to the following criteria.

(매트조 외관의 전사성)(Transferability of matte appearance)

A: 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85) 모두 10 이하A: Both 60° glossiness (G 60 ) and 85° glossiness (G 85 ) are 10 or less.

B: 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85)의 한쪽은 10 이하이었지만, 다른 한쪽은 10보다 크고 27 이하이었다B: One side of the 60° glossiness (G 60 ) and the 85° glossiness (G 85 ) was 10 or less, but the other side was greater than 10 and less than 27.

C: 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85) 모두 10 이상 27 이하이었다C: Both 60° glossiness (G 60 ) and 85° glossiness (G 85 ) were 10 to 27.

D: 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85) 중 적어도 한쪽이 27보다 컸다.D: At least one of the 60° glossiness (G 60 ) and the 85° glossiness (G 85 ) was greater than 27.

(매트조 외관 균일 외관)(Matte-like appearance and uniform appearance)

A: 0.1≤(G85)/(G60)≤1.5A: 0.1≤(G 85 )/(G 60 )≤1.5

B: 1.5<(G85)/(G60)≤2B: 1.5<(G 85 )/(G 60 )≤2

C: 2.0<(G85)/(G60)≤3C: 2.0<(G 85 )/(G 60 )≤3

D: 0.1>(G85)/(G60) 또는 (G85)/(G60)>3D: 0.1>(G 85 )/(G 60 ) or (G 85 )/(G 60 )>3

(19) 전사 품위(19) Warrior Dignity

(17)의 방법으로 얻어진 하드 코트층의 박리면측에 대해서 외관을 육안으로 관찰하고, 이하의 기준에서 평가했다.The appearance of the peeled surface side of the hard coat layer obtained by the method (17) was observed with the naked eye, and evaluated based on the following criteria.

A: 주름이 보이지 않는다A: No wrinkles are visible.

B: A에 해당하지 않고, 주름의 발생이 2개 이하B: Does not apply to A, and no more than 2 wrinkles occur

C: A, B에 해당하지 않고, 주름의 발생이 5개 이하C: Does not correspond to A or B, and the number of wrinkles is less than 5

D: A, B, C 중 어느 것에도 해당하지 않는다D: Does not apply to any of A, B, or C

(폴리에스테르의 제조)(Manufacture of polyester)

제막에 제공한 폴리에스테르 수지는 이하와 같이 준비했다.The polyester resin used for film unveiling was prepared as follows.

(폴리에스테르 A)(polyester A)

디카복실산 성분으로서 테레프탈 성분이 100㏖%, 글리콜 성분으로서 에틸렌글리콜 성분이 100㏖%인 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지(고유 점도 0.75).Polyethylene terephthalate resin (intrinsic viscosity 0.75) containing 100 mol% of terephthalic acid as a dicarboxylic acid component and 100 mol% of ethylene glycol as a glycol component.

(폴리에스테르 B)(polyester B)

이소프탈산이 디카복실산 성분에 대하여 20㏖% 공중합된 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지(고유 점도 0.8).A copolymerized polyethylene terephthalate resin in which 20 mol% of isophthalic acid is copolymerized with respect to the dicarboxylic acid component (intrinsic viscosity 0.8).

(폴리에스테르 C)(polyester C)

디카복실산 성분으로서 테레프탈 성분이 100㏖%, 글리콜 성분으로서 1,4-부탄디올 성분이 100㏖%인 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지(고유 점도 1.2).A polybutylene terephthalate resin (intrinsic viscosity 1.2) containing 100 mol% of terephthalic acid as a dicarboxylic acid component and 100 mol% of 1,4-butanediol as a glycol component.

(폴리에스테르 D)(polyester D)

DU PONT-TORAY CO., LTD.제 "HYTREL(등록상표)" 7247.“HYTREL (registered trademark)” 7247, manufactured by DU PONT-TORAY CO., LTD.

(입자 마스터 E)(Particle Master E)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 6㎛·6면체 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing hexahedron-shaped aluminum silicate particles with an average particle diameter of 6 μm in polyester A at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 F)(Particle Master F)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 7.5㎛·6면체 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master (intrinsic viscosity 0.7) containing aluminum silicate particles with an average particle diameter of 7.5 μm and a hexahedral shape in polyester A at a particle concentration of 30% by mass.

(입자 마스터 G)(Particle Master G)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 10㎛·6면체 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing hexahedral aluminum silicate particles with an average particle diameter of 10 μm in polyester A at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 H)(Particle Master H)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 7.5㎛·8면체 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing octahedron-shaped aluminum silicate particles with an average particle diameter of 7.5 μm in polyester A at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 I)(Particle Master I)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 5㎛·구상 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing spherical aluminum silicate particles with an average particle diameter of 5 μm in polyester A at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 J)(Particle Master J)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 7.5㎛·구상 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing spherical aluminum silicate particles with an average particle diameter of 7.5 μm in polyester A at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 K)(Particle Master K)

폴리에스테르 C 중에 평균 입자 지름 6㎛·6면체 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing hexahedron-shaped aluminum silicate particles with an average particle diameter of 6 μm in polyester C at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 L)(Particle Master L)

폴리에스테르 C 중에 평균 입자 지름 7.5㎛·6면체 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing hexahedron-shaped aluminum silicate particles with an average particle diameter of 7.5 μm in polyester C at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 M)(Particle Master M)

폴리에스테르 C 중에 평균 입자 지름 10㎛·6면체 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing hexahedral aluminum silicate particles with an average particle diameter of 10 μm in polyester C at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 N)(Particle Master N)

폴리에스테르 C 중에 평균 입자 지름 7.5㎛·8면체 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing octahedron-shaped aluminum silicate particles with an average particle diameter of 7.5 μm in polyester C at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 O)(Particle Master O)

폴리에스테르 C 중에 평균 입자 지름 5㎛·구상 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing spherical aluminum silicate particles with an average particle diameter of 5 μm in polyester C at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 P)(Particle Master P)

폴리에스테르 C 중에 평균 입자 지름 7.5㎛·구상 형상의 규산 알루미늄 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master containing spherical aluminum silicate particles with an average particle diameter of 7.5 μm in polyester C at a particle concentration of 30% by mass (intrinsic viscosity 0.7).

(입자 마스터 Q)(Particle Master Q)

폴리에스테르 C 중에 평균 입자 지름 6㎛·평균 두께 0.10㎛의 알루미나 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.7).A polyethylene terephthalate particle master (intrinsic viscosity 0.7) containing alumina particles with an average particle diameter of 6 μm and an average thickness of 0.10 μm in polyester C at a particle concentration of 30% by mass.

(이형층 형성용 용액(수분산체))(Solution for forming release layer (water dispersion))

이하에 나타내는 가교제: 바인더 수지:이형제:입자를 각각 질량비 60:23:17로 혼합하고, 고형분이 1%의 질량비가 되도록 순수로 희석해서 조정했다.The crosslinking agent shown below: binder resin: release agent: particles were mixed at a mass ratio of 60:23:17, respectively, and the solid content was diluted with pure water to adjust the mass ratio to 1%.

·가교제: 메틸화멜라민/요소 공중합의 가교제 수지(SANWA CHEMICAL CO., LTD.제 "NIKALAC"(등록상표) 「MW12LF」)Cross-linking agent: Cross-linking agent resin of methylated melamine/urea copolymerization (“NIKALAC” (registered trademark) “MW12LF” manufactured by SANWA CHEMICAL CO., LTD.)

·바인더 수지 I: 아크릴모노머 공중합체(NIPPON CARBIDE INDUSTRIES CO., INC.제)Binder Resin I: Acrylic monomer copolymer (manufactured by NIPPON CARBIDE INDUSTRIES CO., INC.)

·이형제: 유리제 반응 용기 중에 퍼플루오로알킬기 함유 아크릴레이트인 CF3(CF2)nCH2CH2OCOCH=CH2(n=5~11, n의 평균=9) 80.0g, 아세트아세톡시에틸메타크릴레이트 20.0g, 도데실메르캅탄 0.8g, 탈산소한 순수 354.7g, 아세톤 40.0g, C16H33N(CH3)3Cl 1.0g 및 C8H17C6H4O(CH2CH2O)nH(n=8) 3.0g을 넣고, 아조비스이소부틸아미딘 2염산염 0.5g을 첨가하고, 질소 분위기하에서 교반하면서 60℃에서 10시간 공중합 반응시켜서 얻어진 공중합체 에멀션.· Release agent: 80.0 g of CF 3 (CF 2 ) n CH 2 CH 2 OCOCH = CH 2 (n = 5 to 11, average of n = 9), an acrylate containing a perfluoroalkyl group, in a glass reaction vessel, acetoacetoxyethyl. 20.0 g of methacrylate, 0.8 g of dodecyl mercaptan, 354.7 g of deoxygenated pure water, 40.0 g of acetone, 1.0 g of C 16 H 33 N(CH 3 ) 3 Cl, and C 8 H 17 C 6 H 4 O(CH 2 A copolymer emulsion obtained by adding 3.0 g of CH 2 O) n H (n=8), adding 0.5 g of azobisisobutylamidine dihydrochloride, and copolymerizing the mixture at 60°C for 10 hours while stirring in a nitrogen atmosphere.

·입자: 평균 입자 지름 170㎚의 실리카 입자(Nissan Chemical Corporation제 "SNOWTEX"(등록상표) MP2040)를 고형분 농도가 40질량%가 되도록 순수로 희석해서 얻어진 수분산체.· Particles: An aqueous dispersion obtained by diluting silica particles ("SNOWTEX" (registered trademark) MP2040, manufactured by Nissan Chemical Corporation) with an average particle diameter of 170 nm with pure water so that the solid content concentration is 40% by mass.

(실시예 1)(Example 1)

조성, 적층비가 표와 같이 되도록 원료를 각각 압출기에 공급하고, 압출기 실린더 온도를 270℃, 단관 온도를 275℃, 꼭지쇠 온도를 280℃로 설정하고, 수지 온도 280℃에서 T 다이에 의해 25℃로 온도 제어한 냉각 드럼 상에 시트상으로 토출했다. 그때 직경 0.1㎜의 와이어상 전극을 사용해서 정전 인가하여 냉각 드럼에 밀착시키고, 또한 냉각 드럼과 반대면측에 25℃로 온도 제어한 냉각 닙 롤을 설치하여 미연신 시트를 얻었다. 이어서, 길이 방향으로 연신 온도 85℃에서 3.1배 연신하고, 그 후 코로나 방전 처리를 실시하고, 이형층 형성용 용액(수분산체)을 메탈링바를 사용하여 웨트 두께가 13.5㎛가 되도록 도포하고, 이어서 텐터식 횡연신기에서 폭 방향으로 연신 온도 100℃에서 연신 배율 3.3배 연신했다. 그 후 텐터 내에서 235℃에서 15초간 열처리를 행하고, 계속해서 폭 방향으로 3.5% 이완하면서 175℃에서 10초간 열처리를 행하고, 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다(저광택층(A층) 표면을 A1면, 기재층측 표면을 B면이라고 했다).Raw materials are supplied to each extruder so that the composition and stacking ratio are as shown in the table, the extruder cylinder temperature is set to 270°C, the single tube temperature is set to 275°C, and the stopper temperature is set to 280°C. The resin temperature is set at 280°C to 25°C using a T die. It was discharged in the form of a sheet on a cooling drum whose temperature was controlled. At that time, electrostatic application was applied using a wire-like electrode with a diameter of 0.1 mm, and the sheet was brought into close contact with the cooling drum. Additionally, a cooling nip roll temperature-controlled at 25°C was installed on the opposite side of the cooling drum to obtain an unstretched sheet. Next, it was stretched 3.1 times in the longitudinal direction at a stretching temperature of 85°C, after which corona discharge treatment was performed, and a release layer forming solution (aqueous dispersion) was applied using a metal ring bar so that the wet thickness was 13.5 ㎛. It was stretched in the width direction in a tenter-type transverse stretching machine at a stretching temperature of 100°C and a stretching ratio of 3.3 times. Afterwards, heat treatment was performed at 235°C for 15 seconds in a tenter, and then heat treatment was performed at 175°C for 10 seconds with 3.5% relaxation in the width direction, to obtain a film with a film thickness of 50 μm (the surface of the low gloss layer (A layer) was A1. surface, the surface on the base layer side was called B-side).

(실시예 2)(Example 2)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(실시예 3)(Example 3)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(실시예 4)(Example 4)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(실시예 5)(Example 5)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(실시예 6)(Example 6)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(실시예 7)(Example 7)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(실시예 8)(Example 8)

조성을 표와 같이 하고, 폭 방향으로 연신 후에 225℃에서 폭 방향으로 1% 이완하면서 30초 열처리한 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.The composition was as shown in the table, and after stretching in the width direction, a film with a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 2, except that it was heat treated for 30 seconds at 225°C while relaxing 1% in the width direction.

(실시예 9)(Example 9)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(실시예 10)(Example 10)

조성을 표와 같이 하고, 압출기에 의해 냉각 드럼 상에 시트 압출할 때 냉각 드럼과 반대면측의 냉각 닙 롤을 설치하지 않고 미연신 시트를 얻고, 손 방향으로 연신한 후 코로나 방전 처리, 이형층 도포를 실시하지 않은 이외에는 실시예 4와 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.The composition is as shown in the table, and when the sheet is extruded on the cooling drum by an extruder, an unstretched sheet is obtained without installing a cooling nip roll on the side opposite to the cooling drum. After stretching in the hand direction, corona discharge treatment and mold release layer application are performed. A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 4 except that it was not carried out.

(실시예 11)(Example 11)

조성을 표와 같이 하고, A층/기재층/A층의 3층 구성으로 한 이외에는 실시예 5와 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.The composition was as shown in the table, and a film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 5 except that it had a three-layer structure of A layer/base layer/A layer.

(실시예 12)(Example 12)

조성을 표와 같이 하고, A층/기재층/A층의 3층 구성으로 한 이외에는 실시예 5와 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.The composition was as shown in the table, and a film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 5 except that it had a three-layer structure of A layer/base layer/A layer.

(실시예 13)(Example 13)

조성을 표와 같이 하고, A층/기재층/A층의 3층 구성으로 한 이외에는 실시예 5와 마찬가지로 하여 필름 두께 38㎛의 필름을 얻었다.The composition was as shown in the table, and a film with a film thickness of 38 μm was obtained in the same manner as in Example 5 except that it had a three-layer structure of A layer/base layer/A layer.

(실시예 14)(Example 14)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(실시예 15)(Example 15)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(실시예 16)(Example 16)

길이 방향 연신 후에 코로나 방전 처리, 이형층 도포하지 않은 이외에는 실시예 5와 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 5, except that corona discharge treatment and release layer were not applied after longitudinal stretching.

(실시예 17)(Example 17)

조성을 표와 같이 변경하고, 횡연신 온도를 140℃로 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed as shown in the table and the transverse stretching temperature was changed to 140°C.

(실시예 18)(Example 18)

조성을 표와 같이 변경하고, 횡연신 온도를 140℃로 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed as shown in the table and the transverse stretching temperature was changed to 140°C.

(실시예 19)(Example 19)

조성을 표와 같이 변경한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed as shown in the table.

(실시예 20)(Example 20)

조성을 표와 같이 변경한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed as shown in the table.

(실시예 21)(Example 21)

조성을 표와 같이 변경하고, 폭 방향으로의 연신 후에 폭 방향으로의 이완 열처리를 235℃에서 2.0%, 210℃에서 1.5%의 조건에서 각각 5초간씩 행한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.The composition was changed as shown in the table, and the film thickness was 50 ㎛ in the same manner as in Example 1, except that after stretching in the width direction, relaxation heat treatment in the width direction was performed under the conditions of 2.0% at 235 ° C. and 1.5% at 210 ° C. for 5 seconds each. obtained a film of

(실시예 22)(Example 22)

조성을 표와 같이 변경하고, 폭 방향으로의 연신 후에 폭 방향으로의 이완 열처리를 235℃에서 1.5%, 215℃에서 1.0%, 200℃에서 1.0%의 조건에서 각각 5초간씩 행한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.The composition was changed as shown in the table, and after stretching in the width direction, relaxation heat treatment in the width direction was performed under the conditions of 1.5% at 235°C, 1.0% at 215°C, and 1.0% at 200°C for 5 seconds each, as in Example 1. In the same manner, a film with a film thickness of 50 μm was obtained.

(실시예 23)(Example 23)

조성을 표와 같이 변경하고, 폭 방향으로의 연신 후에 폭 방향으로의 이완 열처리를 240℃에서 3.5%, 15초간 행한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.The composition was changed as shown in the table, and after stretching in the width direction, a relaxation heat treatment in the width direction was performed at 240°C at 3.5% for 15 seconds in the same manner as in Example 1 to obtain a film with a film thickness of 50 μm.

(실시예 24)(Example 24)

조성을 표와 같이 변경하고, 폭 방향으로의 연신 후에 폭 방향으로의 이완 열처리를 235℃에서 2.0%, 210℃에서 1.5%의 조건에서 각각 5초간씩 행한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.The composition was changed as shown in the table, and the film thickness was 50 ㎛ in the same manner as in Example 1, except that after stretching in the width direction, relaxation heat treatment in the width direction was performed under the conditions of 2.0% at 235 ° C. and 1.5% at 210 ° C. for 5 seconds each. obtained a film of

(실시예 25)(Example 25)

조성을 표와 같이 변경하고, 폭 방향으로의 연신 후에 폭 방향으로의 이완 열처리를 235℃에서 1.5%, 215℃에서 1.0%, 200℃에서 1.0%의 조건에서 각각 5초간씩 행한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.The composition was changed as shown in the table, and after stretching in the width direction, relaxation heat treatment in the width direction was performed under the conditions of 1.5% at 235°C, 1.0% at 215°C, and 1.0% at 200°C for 5 seconds each, as in Example 1. In the same manner, a film with a film thickness of 50 μm was obtained.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

(비교예 6)(Comparative Example 6)

조성을 표와 같이 하고, 폭 방향으로의 연신 배율을 3.8배로 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.The composition was as shown in the table, and a film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the stretching ratio in the width direction was 3.8 times.

(비교예 7)(Comparative Example 7)

조성을 표와 같이 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 50㎛의 필름을 얻었다.A film with a film thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in the table.

본 발명의 필름은 60° 광택도(G60), 85° 광택도(G85)가 모두 27 이하로 낮고, 또한 그 차가 특정 범위로 작게 제어되어 있기 때문에 입사 각도에 의하지 않고 우수한 저광택 외관을 나타내고, 전사 필름으로서 사용했을 경우에 저광택 외관의 전사성이 우수하다. 그 때문에, 예를 들면 회로 형성 공정에 있어서 매트조 외관의 전사성이 우수한 전사용 필름으로서 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 건재, 자동차 부품이나 스마트폰 등의 일렉트로닉스 제품, 가전 제품 등의 성형 부재의 가식 용도나 기능층으로의 슬라이딩성, 에어 빠짐성, 광확산성이라는 기능성 부여를 목적으로 하는 표면 형상의 전사 용도에 있어서도 적합하게 사용할 수 있다.The film of the present invention has both 60° glossiness (G 60 ) and 85° glossiness (G 85 ) as low as 27 or less, and the difference is controlled to be small within a specific range, so it exhibits an excellent low-gloss appearance regardless of the angle of incidence. , When used as a transfer film, the transferability of the low-gloss appearance is excellent. Therefore, for example, it can be suitably used as a transfer film with excellent transferability of a matte appearance in a circuit formation process. In addition, it is used for decorating molded parts of building materials, electronic products such as automobile parts and smartphones, and home appliances, and for transferring surface shapes for the purpose of imparting functionality such as sliding, air escape, and light diffusion to the functional layer. It can also be used suitably.

Claims (19)

60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85)가 모두 27 이하인 저광택층(A층)을 갖는 필름으로서,
상기 A층이 적어도 편측의 표층에 있으며, 상기 60° 광택도(G60)와, 상기 85° 광택도(G85)가 하기 (I)식을 만족하고, 상기 A층의 편측에 기재층을 갖고, 기재층, A층 모두 폴리에스테르 수지를 각각 층 전체에 대하여 50질량% 이상 함유하는, 기재층, A층 모두 2축 배향하고 있는 2축 배향 필름.
0.1≤(G85)/(G60)≤3···(I)
A film having a low gloss layer (A layer) with both a 60° glossiness (G 60 ) and an 85° glossiness (G 85 ) of 27 or less,
The A layer is on at least one surface layer, the 60° glossiness (G 60 ) and the 85° glossiness (G 85 ) satisfy the following equation (I), and a base layer is provided on one side of the A layer. A biaxially oriented film in which both the base material layer and the A layer each contain 50% by mass or more of polyester resin relative to the entire layer, and both the base material layer and the A layer are biaxially oriented.
0.1≤(G 85 )/(G 60 )≤3···(I)
제 1 항에 있어서,
상기 저광택층(A층)의 60° 광택도(G60)와, 85° 광택도(G85)가 모두 10 이하인 필름.
According to claim 1,
A film in which both the 60° glossiness (G 60 ) and the 85° glossiness (G 85 ) of the low gloss layer (A layer) are 10 or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
필름의 20㎝×30㎝ 범위에 있어서의 인장 파단 강도의 편차가 20% 이하인 필름.
The method of claim 1 or 2,
A film in which the variation in tensile breaking strength in the 20 cm x 30 cm range of the film is 20% or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 A층의 두께가 3㎛를 초과하고, 20㎛ 이하인 필름.
The method of claim 1 or 2,
A film wherein the thickness of the A layer exceeds 3 ㎛ and is 20 ㎛ or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 A층이 입자를 포함하고 있으며, 상기 입자의 원형도가 0.995 이하인 필름.
The method of claim 1 or 2,
A film in which the layer A contains particles, and the circularity of the particles is 0.995 or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 A층이 입자를 포함하고 있으며, 상기 입자가 무기 입자인 필름.
The method of claim 1 or 2,
A film wherein the layer A contains particles, and the particles are inorganic particles.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 A층이 입자를 포함하고 있으며, 상기 입자의 부피도가 0.5 이상인 필름.
The method of claim 1 or 2,
A film in which the layer A contains particles, and the volume of the particles is 0.5 or more.
삭제delete 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
60° 광택도(G60)가 6 미만인 필름.
The method of claim 1 or 2,
Films with a 60° glossiness (G 60 ) of less than 6.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
길이 방향(MD), 폭 방향(TD) 중 적어도 한 방향의 MIT 굴곡 파단 횟수가 7500회 이상인 필름.
The method of claim 1 or 2,
A film with an MIT bending fracture count of 7500 or more in at least one of the longitudinal direction (MD) and transverse direction (TD).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
길이 방향(MD), 폭 방향(TD)의 100℃로부터 150℃의 범위에서의 열 치수 변화율이 모두 0.015%/℃ 이하인 필름.
The method of claim 1 or 2,
A film whose thermal dimensional change rate in the longitudinal direction (MD) and transverse direction (TD) in the range of 100°C to 150°C is 0.015%/°C or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 A층 표면의 중심선 평균 거칠기(SRa)가 1000㎚를 초과하고, 3000㎚ 이하인 필름.
The method of claim 1 or 2,
A film in which the center line average roughness (SRa) of the surface of layer A exceeds 1000 nm and is 3000 nm or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
길이 방향(MD), 폭 방향(TD)의 150℃에서의 열수축률이 모두 2% 이하인 필름.
The method of claim 1 or 2,
A film with a thermal contraction rate of 2% or less in both the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD) at 150°C.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
하기 방법에 의해 측정한 150℃, 10분간 열처리 후의 컬 높이가 0㎜ 이상 30㎜ 이하인 필름.
(측정 방법) 필름을 임의의 한 방향으로 100㎜, 상기 방향에 직교하는 방향으로 100㎜의 크기로 잘라내어 샘플로 한다. 상기 샘플을 150℃의 열풍 순환식 오븐에서 10분간 방치하여 열처리를 행한 후 유리판 상에 두고, 유리판 면으로부터 수직 방향에서의 4코너의 들뜸량을 측정하고, 최대의 높이를 컬 높이로 한다.
The method of claim 1 or 2,
A film with a curl height of 0 mm or more and 30 mm or less after heat treatment at 150°C for 10 minutes, measured by the following method.
(Measurement method) The film is cut to a size of 100 mm in any one direction and 100 mm in a direction perpendicular to this direction to make a sample. After performing heat treatment by leaving the sample in a hot air circulation oven at 150°C for 10 minutes, it is placed on a glass plate, the amount of lifting at four corners in the vertical direction from the surface of the glass plate is measured, and the maximum height is taken as the curl height.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 A층 표면의 표면 자유 에너지가 44mN/m 이하인 필름.
The method of claim 1 or 2,
A film having a surface free energy of the A layer surface of 44 mN/m or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
전사 용도에 사용되는 필름.
The method of claim 1 or 2,
Film used for transfer purposes.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 필름의 A층의 표면에 이형층이 적층되어 이루어지는 적층체.A laminate comprising a release layer laminated on the surface of layer A of the film according to claim 1 or 2. 삭제delete 삭제delete
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