KR102633724B1 - Silicon large diameter transfer type limited ring for semiconductor etching devices with side fastening structure - Google Patents
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Abstract
본 발명은 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 상부링(10)과, 그 하부에 배치되어 가장자리에 슬롯(21)이 형성된 하부링(20)이 구성되어 상호 체결되는 반도체 에칭장치용 이체형 한정 링에 있어서, 상기 상부링(10)의 상부 외측에 상부끼움홈(11)이 형성되고, 상기 하부링(20)의 하부 외측에 하부끼움홈(22)이 형성되며, 양측 내부에 회전결합이 가능하도록 서로 다른 방향의 나사산을 갖는 제1,2체결홈(31a, 31b)이 형성되는 회전몸체(31)와, 일측이 상기 상부끼움홈(11)에 끼움되고 타측이 제1체결홈(31a)과 체결되는 제1고정부재(33)와, 일측이 하부끼움홈(22)에 끼움되고 타측이 제2체결홈(31b)과 체결되는 제2고정부재(35)를 포함하는 체결수단(30)이 구성되어, 상기 회전몸체(31)의 회전으로 제1,2고정부재(33, 35)가 서로 마주하는 방향으로 당겨져 상부링(10)과 하부링(20)을 밀착시켜 고정하도록 구성됨으로써, 선택적으로 체결하여 조립되는 이체형 한정링의 본연의 목적을 그대로 유지함과 동시에, 상하부 면이 상호 마주하는 부분에 단턱을 주어 사용시 플라즈마 가스가 외부로 누설되는 않도록 함과 아울러, 한정링을 결합하여 고정 시, 측면에 별도의 체결수단을 구비함으로써, 최초 가공의 편리성을 부여할 수 있는 유용한 발명이다.The present invention relates to a silicon large-diameter two-piece confinement ring for a semiconductor etching device having a side fastening structure, and more specifically, to an upper ring (10) and a lower ring (10) disposed below and having a slot (21) at the edge ( In the two-piece confinement ring for a semiconductor etching device in which 20) is configured and fastened to each other, an upper fitting groove 11 is formed on the upper outer side of the upper ring 10, and a lower outer ring 20 is formed on the lower outer side of the lower ring 20. A rotating body 31 in which a fitting groove 22 is formed and first and second fastening grooves 31a, 31b having threads in different directions to enable rotational coupling are formed on both sides, and one side is fitted with the upper part. A first fixing member 33 is fitted into the groove 11 and the other side is fastened with the first fastening groove 31a, and one side is fitted into the lower fitting groove 22 and the other side is fastened with the second fastening groove 31b. A fastening means 30 including a second fixing member 35 is configured, and the rotation of the rotating body 31 pulls the first and second fixing members 33 and 35 in the direction facing each other to form an upper ring ( 10) and the lower ring 20 are configured to be fixed in close contact with each other, thereby maintaining the original purpose of the two-piece confinement ring that is selectively fastened and assembled, and at the same time, providing a step at the part where the upper and lower surfaces face each other to prevent plasma gas when used. It is a useful invention that prevents leakage to the outside and provides convenience for initial processing by providing a separate fastening means on the side when combining and fixing the confinement ring.
Description
본 발명은 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링에 관한 것으로, 보다 상세하게는 상호 체결을 위해 개별적으로 구성된 상부링과 하부링의 상호 마주하는 맞닿게 배치된 상태에서 그 외측면에 별도의 체결부재를 이용하여 상기 상부링과 하부링을 체결하여 큰 압력을 전달하지 않고 견고한 체결이 이루어질 수 있도록 하여 훼손, 파손을 방지할 수 있는 기술이다.The present invention relates to a silicon large-diameter two-piece confinement ring for a semiconductor etching device having a side fastening structure. More specifically, the present invention relates to a silicon large-diameter two-piece confinement ring for a semiconductor etching device, and more specifically, in a state in which the upper ring and the lower ring, which are individually configured for mutual fastening, are placed in contact with each other. This is a technology that prevents damage and damage by fastening the upper ring and lower ring using a separate fastening member on the side to ensure a firm fastening without transmitting large pressure.
통상적으로 플라즈마 에칭공정은 챔버에 가스를 흘려주고, 상하 전극에 전압을 걸어 가스가 캐소드를 통과하면서 플라즈마를 형성시키고, 이 플라즈마를 이용하여 웨이퍼를 선택적으로 에칭하는 공정으로써, 플라즈마의 양과 질이 매우 중요한 공정이며, 플라즈마의 양과 질을 좌우하는 것이 캐소드와 한정 링이다.Typically, the plasma etching process flows gas into a chamber, applies voltage to the upper and lower electrodes to form plasma as the gas passes through the cathode, and uses this plasma to selectively etch the wafer. The quantity and quality of the plasma are very high. It is an important process, and the cathode and confinement ring determine the quantity and quality of plasma.
반도체 플라즈마 에칭공정용 한정 링은 반도체 생산에 절대적으로 필요한 플라즈마 에칭공정의 핵심 부품이며, 공정 특성상 고온에서 내 변형성, 고청정성 및 화학적으로 내식성이 우수한 소재를 사용하여야 하나, 현재까지 대부분이 실리콘 소재의 한정 링을 사용하고 있으며 실리콘 한정 링은 수명 문제에 따라 6개월 마다 교체를 해야 함으로써, 교체 비용이 업계의 부담으로 자리매김 하고 있는 실정이다.The confinement ring for the semiconductor plasma etching process is a key component of the plasma etching process that is absolutely necessary for semiconductor production. Due to the nature of the process, materials with excellent deformation resistance, high cleanliness, and chemical corrosion resistance at high temperatures must be used. However, to date, most of them are made of silicon. Confining rings are used, and silicone confining rings must be replaced every six months due to lifespan issues, making replacement costs a burden on the industry.
등록번호 10-1938706호(특) 리테이닝 링(retaining ring)으로서, 폴리싱 동안에 폴리싱 패드에 접촉하기 위한 바닥 표면을 갖는 메인 바디(body), 상기 메인 바디로부터 상방으로 돌출하는 내측 림(rim), 상기 메인 바디로부터 상방으로 돌출하고 갭에 의해 상기 내측 림으로부터 분리된 외측 림, 및 상기 외측 림과 상기 내측 림 사이에 위치된 복수의 방위각으로(azimuthally) 이격된 인터로크 피쳐(interlock feature)들을 갖는 환형(annular) 하부 부분 ― 각각의 인터로크 피쳐는 상기 메인 바디로부터 상방으로 돌출하고, 상기 하부 부분은 상기 인터로크 피쳐들 중 적어도 일부의 상단 표면들에 형성된 복수의 스레디드(threaded) 오목부(recess)들을 포함하고, 상기 하부 부분은 플라스틱임 ―; 및Registration No. 10-1938706 (Special) A retaining ring, comprising a main body having a bottom surface for contacting a polishing pad during polishing, an inner rim projecting upward from the main body, an outer rim projecting upwardly from the main body and separated from the inner rim by a gap, and a plurality of azimuthally spaced interlock features positioned between the outer rim and the inner rim. annular lower portion—each interlock feature protrudes upwardly from the main body, the lower portion comprising a plurality of threaded recesses formed in the top surfaces of at least some of the interlock features; recesses, wherein the lower portion is plastic; and
상단 표면 및 바닥 표면 및 상기 바닥 표면에서의 복수의 방위각으로 이격된 오목부들을 갖는 환형 상부 부분을 포함하며, 상기 상부 부분의 상기 바닥 표면의 오목부들은 상기 상부 부분의 얇은 부분들 및 상기 얇은 부분들 사이에서 상기 얇은 부분들보다 더 두꺼운, 방위각으로 이격된 두꺼운 섹션들을 정의하고, 복수의 상기 인터로크 피쳐들은 복수의 상기 오목부들과 피팅(fit)되며, 상기 상부 부분은 오직 상기 얇은 부분들을 통해 형성되고 상기 복수의 스레디드 오목부들과 정렬되는 복수의 구멍들을 포함하고, 상기 상부 부분은 상기 두꺼운 섹션들의 적어도 일부에만 형성되는 복수의 스레디드 홀(hole)들을 포함하고, 상기 복수의 스레디드 홀들은 상기 상단 부분의 상기 두꺼운 섹션들을 통해 부분적으로 연장하지만, 전체적으로 연장하지는 않고, 상기 상부 부분은 상기 플라스틱보다 더 단단한(rigid) 재료인, 리테이닝 링에 관한 기술이다.an annular upper portion having a top surface and a bottom surface and a plurality of azimuthally spaced depressions in the bottom surface, wherein the depressions in the bottom surface of the upper portion include thin portions of the upper portion and a plurality of azimuthally spaced depressions in the bottom surface. defining azimuthally spaced thick sections thicker than the thin sections between them, wherein the plurality of interlock features fit with the plurality of recesses, and the upper portion only passes through the thin sections. a plurality of holes formed and aligned with the plurality of threaded recesses, the upper portion comprising a plurality of threaded holes formed in only at least a portion of the thick sections, the plurality of threaded holes They are a description of a retaining ring that extends partially, but not entirely, through the thick sections of the upper portion, the upper portion being a material more rigid than the plastic.
공개번호 10-2022-0148031호(특) 가장자리에 체결홀이 형성되는 상부링과, 상기 상부링의 하부에 배치되되 가장자리를 따라 일정간격 이격되게 장방형의 슬롯과, 체결홀이 각각 형성되는 하부링으로 구성되고, 상호 인접하는 부분에 패킹이 구성되며, 각각의 체결홀을 통해 볼트로 상호 결합되어 한정 링에 있어서, 상기 상부링은, 상, 하부면 가장자리 둘레를 따라 삽입테가 각각 형성되는 하부몸체와, 상기 하부몸체의 상부에 배치되어 하부몸체와 결합되는 상부몸체로 구성되고, 상기 상부링과 하부링의 외측 둘레를 따라 일정간격 이격되며 외측으로 연장되는 다수의 보강부가 형성되고, 각각의 보강부 일측에 볼트 체결을 위한 체결홀이 각각 형성되며, 상기 삽입테에 각각의 패킹이 삽입 구성되고 볼트로 각각의 체결홀이 체결되어 구성되는 플라즈마 에칭장치용 다체형 한정 링에 관한 기술이다.Publication No. 10-2022-0148031 (Special) An upper ring in which a fastening hole is formed at the edge, a lower ring in which rectangular slots and fastening holes are disposed on the lower part of the upper ring and spaced at regular intervals along the edge. It consists of a limiting ring, with packing configured in adjacent parts, and mutually coupled with bolts through each fastening hole. In the limiting ring, the upper ring is a lower portion in which insertion frames are formed along the edges of the upper and lower surfaces, respectively. It consists of a body and an upper body disposed on the upper part of the lower body and coupled to the lower body, and a plurality of reinforcing parts extending outwardly and spaced at regular intervals along the outer circumference of the upper ring and the lower ring are formed, each This is a technology for a multi-body confinement ring for a plasma etching device in which fastening holes for fastening bolts are formed on one side of the reinforcement portion, each packing is inserted into the insertion frame, and each fastening hole is fastened with a bolt.
등록번호 20-0491165호(실) 상부링과 하부링으로 각각 구성되되, 상기 상부링은 중앙부의 둘레를 따라 관통되는 다수의 슬롯이 형성되며 하부에는 가장자리에 근접되게 둘레를 따라 다수의 홈부가 일정간격 이격되게 형성되고, 상기 하부링의 가장자리에 근접되되 상기 홈부와 대응되는 위치에 관통홀이 형성되어, 결합부재를 이용하여 상기 관통홀과 홈부에 순차적으로 각각 끼워져 결합되어 챔버의 내부에 장착되는 플라즈마 에칭장치용 한정 링에 있어서, 상기 하부링의 상측 가장자리에 근접하는 둘레를 따라 삽입홈이 형성되고, 상기 삽입홈의 형상과 대응하며 전기전도성을 하며 상기 삽입홈의 상측보다 조금 높게 형성되는 패킹이 삽입구성되어, 상기 상부링과 하부링을 결합 시 플라즈마 가스의 누설을 방지하도록 구성되고, 상기 상부링의 홈부에는 내주가 관통되는 삽입부재가 끼움 또는 열융착에 의해 고정되어, 결합부재와 결합되며, 상기 상부링의 하부 가장자리의 일측에는 돌출 또는 내삽되게 형성되며, 상기 하부링의 상부가장자리의 일측에는 상기 상부링의 돌출 또는 내삽되는 부분과 대응되는 부분에 상기 돌출 또는 내삽되는 형상과 대응되게 형성되어 상호 맞물려지도록 구성되고, 상기 상부링의 내측에는 전도성시트와 인서트링이 순차적으로 적층되며 상기 상부링의 슬롯과 대응되는 위치에 동일한 형상의 각각의 홀이 형성되어 상기 상부링과 결합되는 플라즈마 에칭장치용 이체형 한정 링에 관한 기술이다.Registration number 20-0491165 (Seal) Each consists of an upper ring and a lower ring, wherein the upper ring is formed with a plurality of slots penetrating along the circumference of the central part, and the lower part has a plurality of grooves along the circumference close to the edge. It is formed to be spaced apart, and a through hole is formed close to the edge of the lower ring at a position corresponding to the groove, and is sequentially inserted into and coupled to the through hole and the groove using a coupling member to be mounted inside the chamber. In the confinement ring for a plasma etching device, an insertion groove is formed along the circumference adjacent to the upper edge of the lower ring, a packing that corresponds to the shape of the insertion groove, is electrically conductive, and is formed slightly higher than the upper side of the insertion groove. This insertion configuration is configured to prevent leakage of plasma gas when coupling the upper ring and the lower ring, and an insertion member penetrating the inner circumference is fixed to the groove portion of the upper ring by fitting or heat fusion, and is coupled to the coupling member. It is formed to protrude or interpolate on one side of the lower edge of the upper ring, and on one side of the upper edge of the lower ring has a shape corresponding to the protruding or interpolated part of the upper ring. It is configured to be formed and engaged with each other, and a conductive sheet and an insert ring are sequentially stacked on the inside of the upper ring, and each hole of the same shape is formed at a position corresponding to the slot of the upper ring, so that the plasma is coupled to the upper ring. This is a technology related to a two-body confinement ring for an etching device.
상기한 종래기술들은 반도체의 에치장치용 이체형(분리형) 한정 링에 대한 기술들로, 상부링과 하부링을 분할되게 형성한 후, 상호 마주하는 면에 홀을 형성하고, 볼트 등과 같은 체결수단을 이용하여 체결하도록 구성되어 있다.The above-described prior technologies are technologies for a two-piece (separate) confinement ring for a semiconductor etching device, in which the upper ring and the lower ring are formed separately, then holes are formed on the surfaces facing each other, and fastening means such as bolts are used. It is designed to be concluded using .
그러나, 이러한 구조의 경우 홀을 가공할 시, 상부링 또는 하부링에 자체적인 리스크가 발생할 수가 있으며, 상기 상부링과 하부링의 홀이 완벽하게 마주하게 가공하는 것은 정밀한 기술적 가공방법을 요함에 따라 고가의 장비가 필수적인 단점을 갖고 있다.However, in the case of this structure, when machining holes, inherent risks may occur in the upper ring or lower ring, and machining the holes of the upper ring and lower ring to perfectly face each other requires precise technical processing methods. It has the disadvantage of requiring expensive equipment.
본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출해낸 것으로, 상부링과 하부링을 이체형으로 구성하되, 상호 체결되는 구조는 상하마주하는 면이 아닌, 외측면에 별도의 체결부재를 구성하여 측면에서 상부링과 하부링을 체결할 수 있도록 하여 가공의 편리성과 효율성을 동시에 가질 수 있도록 하며 조립 시에도 상부링과 하부링이 큰 압력이 가해지지 않도록 하여 훼손, 파손을 방지할 수 있는 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링에 주안점을 두고 그 기술적 과제로 완성해낸 것이다.The present invention was devised to solve the problems of the prior art described above. The upper ring and the lower ring are configured in a two-piece structure, but the structure in which they are fastened to each other is not on the upper and lower surfaces facing each other, but a separate fastening member on the outer surface. This allows the upper ring and lower ring to be fastened from the side, enabling both convenience and efficiency in processing, and prevents damage and damage by preventing large pressure from being applied to the upper ring and lower ring during assembly. It was completed as a technical task with a focus on silicon large-diameter, two-body confinement rings for semiconductor etching devices with a fastening structure.
이에 본 발명은, 상부링(10)과, 그 하부에 배치되어 가장자리에 슬롯(21)이 형성된 하부링(20)이 구성되어 상호 체결되는 반도체 에칭장치용 이체형 한정 링에 있어서, 상기 상부링(10)의 상부 외측에 체결수단(30)의 제1고정부재(33)가 끼워지는 상부끼움홈(11)이 형성되고, 상기 하부링(20)의 하부 외측에 상기 체결수단(30)의 제2고정부재(35)가 끼워지는 하부끼움홈(22)이 형성되며, 양측 내부에 회전결합이 가능하도록 서로 다른 방향의 나사산을 갖는 제1,2체결홈(31a, 31b)이 형성되는 회전몸체(31)와, 일측이 상기 상부끼움홈(11)에 끼움되고 타측이 제1체결홈(31a)과 체결되는 제1고정부재(33)와, 일측이 하부끼움홈(22)에 끼움되고 타측이 제2체결홈(31b)과 체결되는 제2고정부재(35)를 포함하는 체결수단(30)이 구성되어, 상기 회전몸체(31)의 회전으로 제1,2고정부재(33, 35)가 서로 마주하는 방향으로 당겨져 상부링(10)과 하부링(20)을 밀착시켜 고정하도록 구성되는 것을 기술적 특징으로 한다.Accordingly, the present invention is a two-piece confinement ring for a semiconductor etching device in which an upper ring 10 and a lower ring 20 disposed below and having a slot 21 at the edge are fastened to each other, wherein the upper ring An upper fitting groove 11 into which the first fixing member 33 of the fastening means 30 is inserted is formed on the upper outer side of (10), and the fastening means 30 is formed on the lower outer side of the lower ring 20. A lower fitting groove 22 is formed into which the second fixing member 35 is inserted, and first and second fastening grooves 31a and 31b are formed on both sides with threads in different directions to enable rotational coupling. A body 31, a first fixing member 33, one side of which is fitted into the upper fitting groove 11 and the other side fastened with the first fastening groove 31a, and one side fitted into the lower fitting groove 22; A fastening means (30) is configured including a second fixing member (35) whose other side is fastened to the second fastening groove (31b), and the first and second fixing members (33, 35) are formed by rotation of the rotating body (31). ) is pulled in a direction facing each other and is configured to fix the upper ring 10 and the lower ring 20 in close contact.
상기 단턱(14, 24)에는, 하나 이상의 끼움부(15)와 홈부(25)가 각각 형성되어 상호 끼워지도록 구성되는 것을 기술적 특징으로 한다.A technical feature is that one or more fitting portions 15 and groove portions 25 are formed on the steps 14 and 24 to fit into each other.
상기 상부끼움홈(11)은, 제1끼움홈(11a)과, 상기 제1끼움홈(11a)과 연장되되 하부로 더 깊게 형성되는 제2끼움홈(11b)으로 형성되고, 상기 상부끼움홈(11)에 끼워지는 제1고정부재(33)의 끝단이 상기 제2끼움홈(11b)에 끼워지며 하부 외측이 상기 제1끼움홈(11a)에 끼워지는 것을 기술적 특징으로 한다.The upper fitting groove (11) is formed of a first fitting groove (11a) and a second fitting groove (11b) that extends from the first fitting groove (11a) and is formed deeper downward. The technical feature is that the end of the first fixing member (33) fitted into (11) is fitted into the second fitting groove (11b) and the lower outer side is fitted into the first fitting groove (11a).
상기 제1체결홈(31a)은 중간지점에서 체결되는 방향의 끝부분까지 나사산이 형성되고, 상기 제2체결홈(31b)은 투입되는 시작지점부터 체결되는 방향의 끝부분까지 나사산이 형성되는 것을 기술적 특징으로 한다.The first fastening groove (31a) has threads formed from the midpoint to the end in the fastening direction, and the second fastening groove (31b) has threads formed from the starting point of input to the end in the fastening direction. It is a technical feature.
본 발명의 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링에 의하면, 선택적으로 체결하여 조립되는 이체형 한정링의 본연의 목적을 그대로 유지함과 동시에, 상하부 면이 상호 마주하는 부분에 단턱을 주어 사용시 플라즈마 가스가 외부로 누설되는 않도록 함과 아울러, 한정링을 결합하여 고정 시, 측면에 별도의 체결수단을 구비함으로써, 최초 가공의 편리성을 부여할 수 있는 유용한 발명이다.According to the silicon large-diameter two-body confinement ring for a semiconductor etching device having a side fastening structure of the present invention, the original purpose of the two-body confinement ring, which is assembled by selective fastening, is maintained as is, and at the same time, a step is formed at the portion where the upper and lower surfaces face each other. It is a useful invention that prevents plasma gas from leaking to the outside when used, and provides convenience for initial processing by providing a separate fastening means on the side when fixing the confinement ring.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 사시도
도 2는 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 정면도, 정단면도
도 3은 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 확대단면도
도 4는 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 분해도
도 5는 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 분해도
도 6은 본 발명의 다른 실시 예를 나타내는 분해도1 is a perspective view showing a preferred embodiment of the present invention
2 is a front view and front cross-sectional view showing a preferred embodiment of the present invention.
Figure 3 is an enlarged cross-sectional view showing a preferred embodiment of the present invention
Figure 4 is an exploded view showing a preferred embodiment of the present invention
Figure 5 is an exploded view showing a preferred embodiment of the present invention
Figure 6 is an exploded view showing another embodiment of the present invention
본 발명은 상호 체결을 위해 개별적으로 구성된 상부링과 하부링의 상호 마주하는 맞닿게 배치된 상태에서 그 외측면에 별도의 체결부재를 이용하여 상기 상부링과 하부링을 체결하여 큰 압력을 전달하지 않고 견고한 체결이 이루어질 수 있도록 하여 훼손, 파손을 방지할 수 있는 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링을 제공한다.The present invention does not transmit a large pressure by fastening the upper ring and the lower ring using a separate fastening member on the outer surface in a state where the upper ring and the lower ring are individually configured for mutual fastening. Provides a silicon large-diameter two-body confinement ring for a semiconductor etching device that has a side fastening structure that prevents damage and damage by ensuring a strong fastening without damage.
이하, 첨부되는 도면과 관련하여 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 구성 및 작용에 대하여 도 1 내지 도 5를 참고로 하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the preferred configuration and operation of the present invention for achieving the above object will be described with reference to FIGS. 1 to 5 in relation to the accompanying drawings.
우선 본 발명을 설명하기에 앞서 그 구성을 도 1 내지 도 5를 참고하여 살펴보면, 상부링(10)과, 그 하부에 배치되어 가장자리에 슬롯(21)이 형성된 하부링(20)이 구성되어 상호 체결되는 반도체 에칭장치용 이체형 한정 링에 있어서, 상기 상부링(10)의 상부 외측에 체결수단(30)의 제1고정부재(33)가 끼워지는 상부끼움홈(11)이 형성되고, 상기 하부링(20)의 하부 외측에 상기 체결수단(30)의 제2고정부재(35)가 끼워지는 하부끼움홈(22)이 형성되며, 양측 내부에 회전결합이 가능하도록 서로 다른 방향의 나사산을 갖는 제1,2체결홈(31a, 31b)이 형성되는 회전몸체(31)와, 일측이 상기 상부끼움홈(11)에 끼움되고 타측이 제1체결홈(31a)과 체결되는 제1고정부재(33)와, 일측이 하부끼움홈(22)에 끼움되고 타측이 제2체결홈(31b)과 체결되는 제2고정부재(35)를 포함하는 체결수단(30)이 구성되어, 상기 회전몸체(31)의 회전으로 제1,2고정부재(33, 35)가 서로 마주하는 방향으로 당겨져 상부링(10)과 하부링(20)을 밀착시켜 고정하도록 구성된다.First, before explaining the present invention, let's look at the configuration with reference to FIGS. 1 to 5. It consists of an upper ring 10 and a lower ring 20 disposed below and having a slot 21 at the edge. In the two-body limiting ring for a semiconductor etching device to be fastened, an upper fitting groove (11) into which the first fixing member (33) of the fastening means (30) is inserted is formed on the upper outer side of the upper ring (10), A lower fitting groove 22 is formed on the lower outer side of the lower ring 20 into which the second fixing member 35 of the fastening means 30 is inserted, and threads in different directions are provided on both sides to enable rotational coupling. A rotating body 31 formed with first and second fastening grooves 31a and 31b, and a first fixing member whose one side is fitted into the upper fitting groove 11 and the other side fastened with the first fastening groove 31a. (33), and a fastening means (30) including a second fixing member (35), one side of which is fitted into the lower fitting groove (22) and the other side of which is fastened with the second fastening groove (31b), is configured, and the rotating body By the rotation of (31), the first and second fixing members (33, 35) are pulled in directions facing each other, thereby fixing the upper ring (10) and the lower ring (20) in close contact.
즉, 본 발명은 상부링(10)과 하부링(20)이 상호 마주하는 방향으로 겹칩시킨 후, 그 외측에 별도의 체결수단(30)을 구비한 후, 상기 체결수단(30)의 조임으로 인해 상부링(10)과 하부링(20)이 상호 체결되어 하나의 형태로 구성된다.That is, in the present invention, after the upper ring 10 and the lower ring 20 are overlapped in the direction facing each other, a separate fastening means 30 is provided on the outside, and then the fastening means 30 is tightened. As a result, the upper ring 10 and the lower ring 20 are coupled to each other to form one form.
상기 상부링(10)은 도 2에 도시된 바와 같이, 원형의 형상을 하며, 중앙부가 관통되게 형성되게 형성되며, 외측에 상부끼움홈(11)이 형성된다.As shown in FIG. 2, the upper ring 10 has a circular shape and is formed so that its central part penetrates, and an upper fitting groove 11 is formed on the outside.
상기 상부끼움홈(11)의 경우 도 4에 도시된 바와 같이, 제1끼움홈(11a)과, 상기 제1끼움홈(11a)과 연장되되 하부로 더 깊게 형성되는 제2끼움홈(11b)으로 형성되고, 상기 상부끼움홈(11)에 끼워지는 제1고정부재(33)의 끝단이 상기 제2끼움홈(11b)에 끼워지며 하부 외측이 상기 제1끼움홈(11a)에 끼워지도록 구성된다.In the case of the upper fitting groove 11, as shown in FIG. 4, a first fitting groove 11a and a second fitting groove 11b that extends from the first fitting groove 11a and is formed deeper at the bottom. It is formed so that the end of the first fixing member 33 fitted into the upper fitting groove 11 is fitted into the second fitting groove 11b and the lower outer side is fitted into the first fitting groove 11a. do.
다시 말해, 상기 상부끼움홈(11)은 실질적으로 제1고정부재(33)의 끝단이 끼워질 수 있도록 하기 위한 구성이다.In other words, the upper fitting groove 11 is configured to allow the end of the first fixing member 33 to be substantially inserted.
상기 하부링(20)은 상기 상부링(10)의 하부에 위치되어 상측 가장자리부분이 상기 상부링(10)의 하부 가장자리와 맞닿게 형성되고, 가장자리에서 내측방향으로 일정간격 이격된 부분이 가장자리를 따라서 일정간격 이격되는 슬롯(21)이 다수개가 형성된다.The lower ring 20 is located at the lower part of the upper ring 10 so that its upper edge is in contact with the lower edge of the upper ring 10, and a portion spaced at a certain distance inward from the edge forms an edge. Accordingly, a plurality of slots 21 are formed at regular intervals.
상기 슬롯(21)의 경우, 본 발명의 한정 링이 에칭장치에 체결 시, 플라즈마 가스가 이동하는 통로 역할을 하는 것이고, 이러한 상기 슬롯(21)은 통상적으로 한정 링에 형성되는 구성으로 별도의 상세한 설명은 생략하기로 한다.In the case of the slot 21, when the confinement ring of the present invention is fastened to the etching device, it serves as a passage through which plasma gas moves. The slot 21 is usually formed in the confinement ring and is described in separate detail. The explanation will be omitted.
한편, 상기 하부링(20)의 하부 외측에는 하부끼움홈(22)이 형성되는데, 상기 하부끼움홈(22)은 제2고정부재(25)의 하부가 끼움될 수 있는 공간이다.Meanwhile, a lower fitting groove 22 is formed on the lower outer side of the lower ring 20, and the lower fitting groove 22 is a space into which the lower part of the second fixing member 25 can be inserted.
또한, 상기 상부끼움홈(11)과 하부끼움홈(22)은 홀 형태가 아닌 홈형태임에 따라 최초 가공 시 편리성을 부여할 수가 있다.In addition, since the upper fitting groove 11 and the lower fitting groove 22 are in the shape of a groove rather than a hole, they can provide convenience during initial processing.
상기한 바와 같은 상부끼움홈(11)과 하부끼움홈(22)은 상부링(10)의 상측 가장자리와, 하부링(20)의 하측 가장자리를 따라 일정간격 이격되게 각각 형성되어, 상부끼움홈(11))과 하부끼움홈(22)에 체결수단(30)의 양측이 각각 끼워져 체결수단(30)에 의해 상부링(10)과 하부링(20)이 상호 마주하는 방향으로 밀착되어 하나의 한정 링을 구성할 수가 있게 된다.The upper fitting groove 11 and the lower fitting groove 22 as described above are formed at regular intervals along the upper edge of the upper ring 10 and the lower edge of the lower ring 20, respectively, and the upper fitting groove ( 11)) and the lower fitting groove 22, both sides of the fastening means 30 are respectively inserted into each other, and the upper ring 10 and the lower ring 20 are in close contact with each other in the direction facing each other by the fastening means 30, forming a single limit. A ring can be formed.
또한, 상기 상부링(10)과 하부링(20)의 상호 맞닿는 부분에는 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 맞닿는 부분이 서로 맞물려지도록 단턱(14, 24)이 각각 형성되도록 하여, 체결수단(30)에 의해 체결된 후, 에칭장치에 장착하여 사용 시 평면상으로 맞닿는 종래의 기술과 달리, 단턱(14, 24)에 의해 플라즈마 가스가 슬롯(21)측으로만 이동될 수 있도록 하여, 밀폐력을 높일 수가 있다.In addition, as shown in FIG. 4, steps 14 and 24 are formed at the mutually abutting portions of the upper ring 10 and the lower ring 20 so that the abutting portions are engaged with each other, and the fastening means 30 ), and then mounted on an etching device, unlike the conventional technology in which the plasma gas is moved only to the slot 21 side by the steps 14 and 24, thereby increasing the sealing force. There is a number.
또한, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 단턱(14, 24)에는, 하나 이상의 끼움부(15)와 홈부(25)가 각각 형성되어 상호 끼워지도록 구성되어, 상기 상부링(10)과 하부링(20)을 체결 전, 위치교정에 있어서 뒤틀리지 않고 정교한 위치교정이 가능하여 체결수단(30)을 체결 시, 체결의 편리성을 도모할 수가 있다.In addition, as shown in FIG. 6, one or more fitting portions 15 and groove portions 25 are formed on the steps 14 and 24 to fit into each other, so that the upper ring 10 and the lower ring Before fastening (20), precise position correction is possible without distortion, so that convenience of fastening can be achieved when fastening the fastening means (30).
상기 체결수단(30)은 도 3 내지 도 5를 참고하여 설명하면, 양측 내부에 회전결합이 가능하도록 서로 다른 방향의 나사산을 갖는 제1,2체결홈(31a, 31b)이 형성되는 회전몸체(31)와, 일측이 상기 상부끼움홈(11)에 끼움되고 타측이 제1체결홈(31a)과 체결되는 제1고정부재(33)와, 일측이 하부끼움홈(22)에 끼움되고 타측이 제2체결홈(31b)과 체결되는 제2고정부재(35)를 포함하는 체결수단(30)이 구성되어, 상기 회전몸체(31)의 회전으로 제1,2고정부재(33, 35)가 서로 마주하는 방향으로 당겨져 상부링(10)과 하부링(20)을 밀착시켜 고정하도록 구성된다.When described with reference to FIGS. 3 to 5, the fastening means 30 is a rotating body ( 31), and a first fixing member 33, one side of which is fitted into the upper fitting groove 11 and the other side fastened with the first fastening groove 31a, and one side of which is fitted into the lower fitting groove 22 and the other side A fastening means 30 is configured including a second fixing member 35 fastened to the second fastening groove 31b, and the first and second fixing members 33 and 35 are connected by rotation of the rotating body 31. They are pulled in directions facing each other and are configured to secure the upper ring 10 and the lower ring 20 in close contact.
다시 말해, 상기 회전몸체(31)는 도 5에 도시된 바와 같이, 양측 내부방향으로 일정한 깊이를 갖는 제1,2체결홈(31a, 31b)이 각각 형성되는데, 이때, 상기 제1체결홈(31a)은 중간지점에서 체결되는 방향의 끝부분까지 나사산이 형성되고, 상기 제2체결홈(31b)은 투입되는 시작지점부터 체결되는 방향의 끝부분까지 나사산이 형성된다.In other words, as shown in FIG. 5, the rotating body 31 is formed with first and second fastening grooves 31a and 31b each having a certain depth in the inner direction on both sides. At this time, the first fastening groove ( 31a) has threads formed from the middle point to the end in the fastening direction, and the second fastening groove 31b has threads formed from the starting point of input to the end in the fastening direction.
즉, 상기 제1체결홈(31a)은 최초 인입되는 방향에서 일정부분까지는 나사산이 형성되지 않고 중앙부분으로 인입되는 그 끝단까지 나사산이 형성되게 되어, 상기 제1고정부재(33)를 체결 시, 편리한 체결을 도모할 수가 있다.That is, the first fastening groove (31a) is not threaded up to a certain portion in the direction from which it is initially inserted, but is formed up to the end where it enters the central portion, so that when fastening the first fixing member (33), Convenient fastening can be achieved.
또한, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 회전몸체(31)의 제1,2체결홈(31a, 31b)에 형성되는 나사산의 경우 서로 다른 방향으로 형성되는 목적은, 상기 회전몸체(31)에 제1,2고정부재(33, 35)가 체결된 상태에서 일측방향으로 회전 시 상기 제1,2고정부재(33, 35)가 상호 마주하는 방향으로 이동될 수 있도록 하고, 타측방향으로 회전 시 상호 마주하지 않는 방향으로 이동될 수 있도록 하여, 상부링(10)과 하부링(20)을 각각 조임시킬 수 있도록 하기 위함이다.In addition, as shown in FIG. 7, the purpose of the threads formed in the first and second fastening grooves 31a and 31b of the rotating body 31 is to be formed in different directions in the rotating body 31. When the first and second fixing members (33, 35) are fastened and rotated in one direction, the first and second fixing members (33, 35) can be moved in a direction facing each other, and when rotated in the other direction, This is to enable them to be moved in directions that do not face each other, so that the upper ring 10 and the lower ring 20 can be tightened respectively.
상기 제1고정부재(33)와 제2고정부재(35)는 일측 끝단이 상기 제1,2체결홈(31a, 31b)에 각각 체결될 수 있도록 끝단 외주에 나사산이 형성되어 체결 되고, 상기 제1,2체결홈(31a, 31b)에 체결되지 않은 타측 끝단은 상기 상부끼움홈(11)과 하부끼움홈(22)에 각각 끼워지도록 구성된다.The first fixing member 33 and the second fixing member 35 are fastened with threads formed on the outer periphery of the ends so that one end can be fastened to the first and second fastening grooves 31a and 31b, respectively. The other end that is not fastened to the first and second fastening grooves (31a, 31b) is configured to be inserted into the upper fitting groove (11) and lower fitting groove (22), respectively.
이때, 상기 제1고정부재(33)의 제1체결홈(31a)에 끼워지는 부분의 경우 상기 제1체결홈(31a)의 구조와 동일하게 형성되어 끼워진다. At this time, the part fitted into the first fastening groove 31a of the first fixing member 33 is formed and fitted in the same structure as the first fastening groove 31a.
상기한 바와 같은 회전몸체(31)는 제1,2고정부재(33, 35)를 제1,2체결홈(31a, 31b)에 체결하여 상기 회전몸체(31)를 회전시켜서 회전몸체(31)에 인입된 제1,2고정부재(33, 35)의 끝단이 서로 마주하는 방향으로 당겨져 최종적으로 상기 회전몸체(31)에 인입되지 않은 제1,2고정부재(33, 35)의 다른 끝단이 상부링(10)과 하부링(20)을 당겨 고정시키도록 구성된다.The rotating body 31 as described above rotates the rotating body 31 by fastening the first and second fixing members 33 and 35 to the first and second fastening grooves 31a and 31b. The ends of the first and second fixing members (33, 35) inserted into are pulled in a direction facing each other, and finally, the other ends of the first and second fixing members (33, 35) that are not inserted into the rotating body (31) are pulled. It is configured to pull and secure the upper ring 10 and lower ring 20.
한편, 종래의 이체형 한정 링의 경우, 상부링과 하부링을 상호 맞닿게 위치시킨 후, 상기 상부링과 하부링이 맞닿는 면에 체결홀을 형성하고 그 체결홀에 볼트 등과 같은 체결부재를 이용하여 직접적인 체결을 함에 따라, 자칫 작업자의 부주의 등에 의해 상부링 또는 하부링의 훼손 또는 파손이 일어나는 경우가 종종 발생하였고, 심지어 상부링 또는 하부링의 체결홈의 훼손, 변형에 의해, 이체형 한정 링의 목적인 부분적인 교체가 불가한 문제점이 있었다.Meanwhile, in the case of a conventional two-body limited ring, the upper ring and the lower ring are placed in contact with each other, then a fastening hole is formed on the surface where the upper ring and the lower ring come into contact, and a fastening member such as a bolt is used in the fastening hole. As a result of direct fastening, damage or damage to the upper ring or lower ring often occurred due to the operator's carelessness, and even damage or deformation of the fastening groove of the upper ring or lower ring caused a limited number of variants. There was a problem that partial replacement, which was the goal, was not possible.
하지만, 본 발명의 이체형 한정 링은 상부링(10) 또는 하부링(20)이 맞닿는 면에 직접적으로 체결홀을 전혀 형성하지 않고, 상부링(10)의 상측 가장자리와 하부링(10)의 하측가장자리에 각각의 상부끼움홈(11)과 하부끼움홈(22)을 형성한 후, 상부링(10)과 하부링(20)의 외측에 일정간격 이격되게 위치되는 체결수단(30)에 의해 간접적으로 체결되게 됨으로써, 체결 시, 체결홀에 대한 훼손 또는 파손, 장기간 사용 중에 체결수단이 분리가 되지 않았던 종래의 문제점을 완벽하게 극복할 수 있는 효과가 있다.However, the two-body limited ring of the present invention does not form a fastening hole directly on the surface where the upper ring 10 or the lower ring 20 abuts, and the upper edge of the upper ring 10 and the lower ring 10 are connected to each other. After forming each upper fitting groove (11) and lower fitting groove (22) on the lower edge, the fastening means (30) located at a certain distance on the outside of the upper ring (10) and lower ring (20) By being indirectly fastened, there is an effect of completely overcoming the conventional problems of damage or damage to the fastening hole during fastening and the fastening means not being separated during long-term use.
다시 말해, 본 발명의 이체형 한정 링은 한정 링의 측면에 별도의 체결수단(30)을 구성하여서 측면에서 손쉽게 조임 및 풀림이 가능하고, 조임 및 풀림에 있어서 상부링(10) 또는 하부링(20)에 직접적인 조임 및 풀림이 이루어지지 않고, 상부링(10)과 하부링(20)의 변형, 훼손, 파손을 최소화시킬 수가 있으며, 장기간 사용 시에도 원활한 분리가 가능한 효과가 있다.In other words, the two-piece confinement ring of the present invention has a separate fastening means 30 on the side of the confinement ring, so that it can be easily tightened and loosened from the side, and the upper ring 10 or the lower ring (10) is used for tightening and loosening. 20), there is no direct tightening or loosening, and deformation, damage, and damage to the upper ring 10 and lower ring 20 can be minimized, and smooth separation is possible even during long-term use.
본 발명의 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링에 의하면, 선택적으로 체결하여 조립되는 이체형 한정링의 본연의 목적을 그대로 유지함과 동시에, 상하부 면이 상호 마주하는 부분에 단턱을 주어 사용시 플라즈마 가스가 외부로 누설되는 않도록 함과 아울러, 한정링을 결합하여 고정 시, 측면에 별도의 체결수단을 구비함으로써, 최초 가공의 편리성을 부여할 수 있는 유용한 발명이다.According to the silicon large-diameter two-body confinement ring for a semiconductor etching device having a side fastening structure of the present invention, the original purpose of the two-body confinement ring, which is assembled by selective fastening, is maintained as is, and at the same time, a step is formed at the portion where the upper and lower surfaces face each other. It is a useful invention that prevents plasma gas from leaking to the outside when used, and provides convenience for initial processing by providing a separate fastening means on the side when fixing the confinement ring.
본 발명의 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링에 의하면, 선택적으로 체결하여 조립되는 이체형 한정링의 본연의 목적을 그대로 유지함과 동시에, 상하부 면이 상호 마주하는 부분에 단턱을 주어 사용시 플라즈마 가스가 외부로 누설되는 않도록 함과 아울러, 한정링을 결합하여 고정 시, 측면에 별도의 체결수단을 구비함으로써, 최초 가공의 편리성을 부여할 수 있는 유용한 발명이다.According to the silicon large-diameter two-body confinement ring for a semiconductor etching device having a side fastening structure of the present invention, the original purpose of the two-body confinement ring, which is assembled by selective fastening, is maintained as is, and at the same time, a step is formed at the portion where the upper and lower surfaces face each other. It is a useful invention that prevents plasma gas from leaking to the outside when used, and provides convenience for initial processing by providing a separate fastening means on the side when fixing the confinement ring.
10 : 상부링 11 : 상부끼움홈 11a : 제1끼움홈
11b : 제2끼움홈
14 : 단턱 15 : 끼움부
20 : 하부링 21 : 슬롯 22 : 하부끼움홈
24 : 단턱 25 : 홈부
30 : 체결수단
31 : 회전몸체 31a : 제1나사산 31b : 제2나사산
33 : 제1고정부재 35 : 제2고정부재 10: upper ring 11: upper fitting groove 11a: first fitting groove
11b: Second fitting groove
14: step 15: fitting part
20: Lower ring 21: Slot 22: Lower fitting groove
24: Step 25: Groove
30: fastening means
31: rotating body 31a: first thread 31b: second thread
33: first fixing member 35: second fixing member
Claims (5)
상기 상부링(10)의 상부 외측에 체결수단(30)의 제1고정부재(33)가 끼워지는 상부끼움홈(11)이 형성되고,
상기 하부링(20)의 하부 외측에 상기 체결수단(30)의 제2고정부재(35)가 끼워지는 하부끼움홈(22)이 형성되며,
양측 내부에 회전결합이 가능하도록 서로 다른 방향의 나사산을 갖는 제1,2체결홈(31a, 31b)이 형성되는 회전몸체(31)와, 일측이 상기 상부끼움홈(11)에 끼움되고 타측이 제1체결홈(31a)과 체결되는 제1고정부재(33)와, 일측이 하부끼움홈(22)에 끼움되고 타측이 제2체결홈(31b)과 체결되는 제2고정부재(35)를 포함하는 체결수단(30)이 구성되어,
상기 회전몸체(31)의 회전으로 제1,2고정부재(33, 35)가 서로 마주하는 방향으로 당겨져 상부링(10)과 하부링(20)을 밀착시켜 고정하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링.
In the two-piece confinement ring for a semiconductor etching device, which consists of an upper ring (10) and a lower ring (20) disposed below and having a slot (21) formed at the edge, and fastened to each other,
An upper fitting groove (11) is formed on the upper outer side of the upper ring (10) into which the first fixing member (33) of the fastening means (30) is inserted,
A lower fitting groove 22 is formed on the lower outer side of the lower ring 20 into which the second fixing member 35 of the fastening means 30 is inserted,
A rotary body (31) in which first and second fastening grooves (31a, 31b) are formed with threads in different directions to enable rotational coupling on both sides, one side is inserted into the upper fitting groove (11), and the other side is A first fixing member (33) fastened to the first fastening groove (31a), and a second fixing member (35) with one side fitted into the lower fitting groove (22) and the other side fastened with the second fastening groove (31b). A fastening means 30 comprising:
The side is characterized in that the first and second fixing members (33, 35) are pulled in a direction facing each other due to the rotation of the rotating body (31) and are configured to fix the upper ring (10) and the lower ring (20) in close contact. A silicon large-diameter two-body confinement ring for semiconductor etching equipment with a fastening structure.
상기 상부링(10)과 하부링(20)이 상호 맞닿는 부분에는, 서로 맞물려지도록 단턱(14, 24)이 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링.
According to clause 1,
A silicon large-diameter two-body confinement ring for a semiconductor etching device having a side fastening structure, wherein steps 14 and 24 are formed at the portions where the upper ring 10 and the lower ring 20 are in contact with each other to engage each other. .
상기 단턱(14, 24)에는,
하나 이상의 끼움부(15)와 홈부(25)가 각각 형성되어 상호 끼워지도록 구성되는 것을 특징으로 하는 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링.
According to clause 2,
In the steps 14 and 24,
A silicon large-diameter two-body confinement ring for a semiconductor etching device having a side fastening structure, characterized in that one or more fitting portions (15) and one groove portion (25) are formed and configured to fit into each other.
상기 상부끼움홈(11)은,
제1끼움홈(11a)과, 상기 제1끼움홈(11a)과 연장되되 하부로 더 깊게 형성되는 제2끼움홈(11b)으로 형성되고,
상기 상부끼움홈(11)에 끼워지는 제1고정부재(33)의 끝단이 상기 제2끼움홈(11b)에 끼워지며 하부 외측이 상기 제1끼움홈(11a)에 끼워지는 것을 특징으로 하는 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링.
According to clause 1,
The upper fitting groove (11) is,
It is formed of a first fitting groove (11a) and a second fitting groove (11b) that extends from the first fitting groove (11a) but is formed deeper at the bottom,
The end of the first fixing member 33 fitted into the upper fitting groove 11 is fitted into the second fitting groove 11b, and the lower outer side is fitted into the first fitting groove 11a. A silicon large-diameter two-body confinement ring for semiconductor etching equipment with a fastening structure.
상기 제1체결홈(31a)은 중간지점에서 체결되는 방향의 끝부분까지 나사산이 형성되고,
상기 제2체결홈(31b)은 투입되는 시작지점부터 체결되는 방향의 끝부분까지 나사산이 형성되는 것을 특징으로 하는 측면 체결구조를 갖는 반도체 에칭장치용 실리콘 대구경 이체형 한정 링. According to clause 1,
The first fastening groove (31a) is threaded from the midpoint to the end in the fastening direction,
The second fastening groove (31b) is a silicon large-diameter two-piece confinement ring for a semiconductor etching device having a side fastening structure, characterized in that the second fastening groove (31b) is threaded from the starting point of input to the end of the fastening direction.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020230059179A KR102633724B1 (en) | 2023-05-08 | 2023-05-08 | Silicon large diameter transfer type limited ring for semiconductor etching devices with side fastening structure |
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| KR1020230059179A KR102633724B1 (en) | 2023-05-08 | 2023-05-08 | Silicon large diameter transfer type limited ring for semiconductor etching devices with side fastening structure |
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| KR1020230059179A KR102633724B1 (en) | 2023-05-08 | 2023-05-08 | Silicon large diameter transfer type limited ring for semiconductor etching devices with side fastening structure |
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| KR (1) | KR102633724B1 (en) |
Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| KR102178105B1 (en) * | 2019-06-05 | 2020-11-12 | 주식회사 건테크 | Limited ring assembly for semiconductor plasma etching process using CVD-SiC material and improving fixing power |
| KR20220148031A (en) * | 2021-04-28 | 2022-11-04 | 주식회사 월덱스 | Multi-body limited ring for plasma etching equipment |
| KR20230027794A (en) * | 2021-08-20 | 2023-02-28 | 에스케이엔펄스 주식회사 | Divided edge ring and ceramic parts thereof |
-
2023
- 2023-05-08 KR KR1020230059179A patent/KR102633724B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
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