KR102623827B1 - Optical filter and imaging apparatus - Google Patents

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신이치 오가와
타케시 야마자키
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Abstract

(과제)
인산염계 유리 또는 불인산염 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 수지막을 마련한 적외 커트 필터를 제공한다.
(해결 수단)
인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판; 단층 구조를 가지는 접합층; 및 수지막을 포함하며, 수지막은 접합층을 통하여 흡수 유리 기판 상에 제공되고, 접합층은 Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터이거나, 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판; 및 수지막을 포함하며, 수지막은 Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하고, 수지막이 흡수 유리 기판 상에 제공되는 것을 특징으로 하는 광학 필터이다.
(assignment)
An infrared cut filter provided with a resin film having high adhesion to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate glass.
(Solution)
An absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass; A bonding layer having a single-layer structure; and a resin film, wherein the resin film is provided on the absorption glass substrate through a bonding layer, and the bonding layer includes Si atoms and at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms. Or, an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass; and a resin film, wherein the resin film contains Si atoms and at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms, and the resin film is provided on an absorption glass substrate.

Description

광학 필터 및 촬상 장치{OPTICAL FILTER AND IMAGING APPARATUS} Optical filter and imaging device {OPTICAL FILTER AND IMAGING APPARATUS}

본 발명은 광학 필터 및 촬상 장치에 관한 것이다. The present invention relates to optical filters and imaging devices.

컴팩트 디지털 카메라나 디지털 SLR 카메라 등의 디지털 스틸 카메라(DSC: Digital Still Camera)에 탑재되는 CCD나 CMOS 이미지 센서 등의 고체 촬상 소자를 사용한 촬상 장치에서는 색조를 양호하게 재현하고 또한 선명한 화상을 얻기 위해서 가시광을 투과하고 자외광 및 근적외광을 차폐하는 적외 커트 필터(IRCF(Infra-Red Cut Filter))라고 불리는 것이 사용되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1(일본 특개 2014-148567호 공보) 참조). In imaging devices using solid-state imaging elements such as CCD or CMOS image sensors mounted on digital still cameras (DSC: Digital Still Cameras) such as compact digital cameras and digital SLR cameras, visible light is used to reproduce color tones well and obtain clear images. A so-called infra-red cut filter (IRCF (Infra-Red Cut Filter)) that transmits and blocks ultraviolet light and near-infrared light is used (for example, see Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2014-148567)).

도 1은 DSC를 구성하는 카메라 모듈의 개략 설명도이며, 도 1(a)이 스마트폰 등에 탑재되는 컴팩트 디지털 카메라에 따른 카메라 모듈의 개략 설명도, 도 1(b)이 디지털 SLR 카메라에 따른 카메라 모듈의 개략 설명도이다. Figure 1 is a schematic diagram of a camera module constituting a DSC, where Figure 1(a) is a schematic diagram of a camera module according to a compact digital camera mounted on a smartphone, etc., and Figure 1(b) is a schematic diagram of a camera module according to a digital SLR camera. This is a schematic explanation of the module.

도 1(a)에 나타내는 카메라 모듈에 있어서는 렌즈(L)를 투과한 광 중 적외 커트 필터(IRCF)(1)에 의해 자외광 및 근적외광을 선택적으로 반사하여 인간의 시감도 특성에 맞춘 가시광 영역의 광만을 선택적으로 모듈 내에 도입하여 이미지 센서(IC) 내에 받아들이고 있다. 또 도 1(b)에 나타내는 카메라 모듈에 있어서도 마찬가지로 렌즈(L)를 투과한 광 중 적외 커트 필터(IRCF)(1)에 의해 자외광 및 근적외광을 선택적으로 반사한 다음, 커버 글래스(CG)에 의해 α선을 제거하면서 먼지의 침입을 억제하고, 인간의 시감도 특성에 맞춘 가시광 영역의 광만을 선택적으로 모듈 내에 도입하여 이미지 센서(IC) 내에 받아들이고 있다. In the camera module shown in FIG. 1(a), ultraviolet light and near-infrared light are selectively reflected by an infrared cut filter (IRCF) 1 among the light transmitted through the lens L, and a visible light range tailored to the human visual sensitivity characteristics is provided. Only light is selectively introduced into the module and accepted into the image sensor (IC). Likewise, in the camera module shown in FIG. 1(b), ultraviolet light and near-infrared light are selectively reflected by the infrared cut filter (IRCF) 1 among the light transmitted through the lens L, and then the cover glass (CG) By removing α-rays, the intrusion of dust is suppressed, and only light in the visible light range tailored to human visibility characteristics is selectively introduced into the module and accepted into the image sensor (IC).

그리고 상기 적외 커트 필터(IRCF)로서는 유리 기판의 상면측(광입사면측)에 반사막(UVIR막)이 마련됨과 아울러, 유리 기판의 하면측(광출사면측)에 반사 방지막(AR막)이 마련된 것이 주류였다. As the infrared cut filter (IRCF), a reflective film (UVIR film) is provided on the upper surface side (light incident surface side) of the glass substrate, and an anti-reflective film (AR film) is provided on the lower surface side (light exit surface side) of the glass substrate. It was mainstream.

도 2(a)는 종래의 적외 커트 필터(IRCF)(1)의 구조를 나타내는 개략 설명도이며, 도 2(a)에 나타내는 적외 커트 필터(IRCF)(1)에 있어서는 유리 기판(3)의 상면측(광입사면측)에 반사막(UVIR막)(2)이 마련됨과 아울러, 유리 기판(3)의 하면측(광출사면측)에 반사 방지막(AR막)(4)이 마련되어, 상부로부터 입사한 광 중 자외광 및 근적외광을 반사막(2)에 의해 선택적으로 반사하여, 인간의 시감도 특성에 맞춘 가시광 영역의 광만을 유리 기판(3) 및 반사 방지막(AR막)(4) 내를 투과시켜, 반사 방지막(AR막)(4)의 하부로부터 출사시키고 있다. FIG. 2(a) is a schematic diagram showing the structure of a conventional infrared cut filter (IRCF) 1. In the infrared cut filter (IRCF) 1 shown in FIG. 2(a), the glass substrate 3 A reflective film (UVIR film) 2 is provided on the upper surface side (light incident surface side), and an anti-reflective film (AR film) 4 is provided on the lower surface side (light exit surface side) of the glass substrate 3, so that incident light occurs from the top. Among the types of light, ultraviolet light and near-infrared light are selectively reflected by the reflective film (2), and only light in the visible light range tailored to human visibility characteristics is transmitted through the glass substrate (3) and the anti-reflective film (AR film) (4). , it is emitted from the bottom of the anti-reflection film (AR film) 4.

그러나, 디지털 스틸 카메라는 그 박형화의 요구에 따라 각종 구성 부품도 소형화, 저배화(低背化)하고 있어, 이미지 센서에 대해서도 보다 비스듬한 광이 입사하도록 광학 설계가 되어 있다. 한편, 상기 반사형의 적외 커트 필터(IRCF)는 광의 파장 의존성이 높은 점에서, 광의 입사각이 커지면 커트 오프 주파수가 단파장측으로 어긋나는 위상의 어긋남을 발생시켜, 렌즈의 중심 부근을 통과한 광과 주변 부분을 통과한 광에서는 적외 커트 필터(IRCF)로 입사하는 광선의 입사각이 상이한 점에서 간섭 어긋남에 의한 색 재현성의 저하를 발생시키기 쉬워진다. However, in response to the demand for thinner digital still cameras, various component parts are becoming smaller and shorter, and the image sensor is also optically designed to allow more oblique light to enter the camera. On the other hand, since the reflection-type infrared cut filter (IRCF) has a high dependence on the wavelength of light, when the incident angle of light increases, a phase shift occurs in which the cut-off frequency is shifted toward the short wavelength side, so that the light passing near the center of the lens and the peripheral portion In the light that has passed through the infrared cut filter (IRCF), the angle of incidence of the light incident on the light is different, so it is easy to cause a decrease in color reproducibility due to interference misalignment.

이 때문에, 적외 커트 필터(IRCF)로서 반사막(UVIR막) 뿐만아니라 흡수 수지막을 별도 마련하거나, 유리 기판으로서 광흡수성을 띤 것(흡수 유리 기판)을 병용함으로써, 반사막(UVIR막)의 부담을 경감시키고, 입사광 중의 자외광 및 근적외광을 보다 효과적으로 저감하면서 우수한 경사 입사 특성을 발휘할 수 있는 하이브리드 타입의 적외 커트 필터(IRCF)가 검토되도록 되고 있다. For this reason, the burden on the reflective film (UVIR film) is reduced by separately providing an absorbing resin film in addition to the reflecting film (UVIR film) as the infrared cut filter (IRCF), or by using a light-absorbing glass substrate (absorbing glass substrate) together. In addition, a hybrid type infrared cut filter (IRCF) that can exhibit excellent oblique incidence characteristics while more effectively reducing ultraviolet light and near-infrared light in incident light is being studied.

도 2(b)는 상기 하이브리드 타입의 적외 커트 필터(IRCF)(1)의 구조예를 나타내는 개략 설명도이며, 도 2(b)에 나타내는 적외 커트 필터(IRCF)(1)에 있어서는 자외광 및 근적외광의 적어도 어느 한쪽을 흡수하는 흡수 유리 기판(3')의 상면측(광입사면측)에 반사막(UVIR막)(2)이 마련됨과 아울러, 상기 흡수 유리 기판(3')의 하면측(광출사면측)에 또한 자외광 또는 근적외광을 흡수하는 흡수 수지막(5) 및 반사 방지막(AR막)(4)이 순차적으로 마련되어 있어, 상기 반사막(UVIR막)(2), 흡수 유리 기판(3') 및 흡수 수지막(5)을 병용함으로써, 입사광 중의 자외광 및 근적외광을 보다 효과적으로 저감하면서 높은 경사 입사 특성하에서 가시광 영역의 광만을 하부 방향으로 투과시켜 출사할 수 있는 구조로 되어 있다. Figure 2(b) is a schematic diagram showing a structural example of the hybrid type infrared cut filter (IRCF) 1. In the infrared cut filter (IRCF) 1 shown in Figure 2(b), ultraviolet light and A reflective film (UVIR film) 2 is provided on the upper surface side (light incident surface side) of the absorption glass substrate 3' that absorbs at least one side of the near-infrared light, and the lower surface side of the absorption glass substrate 3' ( On the light exit surface side), an absorption resin film 5 and an anti-reflection film (AR film) 4 that absorb ultraviolet light or near-infrared light are sequentially provided, and the reflection film (UVIR film) 2 and the absorption glass substrate ( By using 3') and the absorption resin film 5 together, the ultraviolet light and near-infrared light in the incident light are more effectively reduced, and only light in the visible light region can be transmitted downward and emitted under a high oblique incidence characteristic.

일본 특개 2014-148567호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2014-148567

그러나, 본 발명자들이 검토한 바, 상기 자외광 또는 근적외광을 흡수하는 흡수 유리 기판의 구성 재료로서는 통상 인산염 유리 또는 불인산염 유리 등의 인산염계 유리가 사용되고 있고, 한편 상기 흡수 수지막의 구성 재료로서는 각종 중합체로 이루어지는 유기 재료가 사용되고 있는데, 양자의 밀착성이 반드시 충분하지는 않고, 특히 수분 공존하에 있어서의 밀착성이 부족하기 쉬운 것이 판명되었다. However, as studied by the present inventors, phosphate-based glass such as phosphate glass or fluorophosphate glass is usually used as a constituent material of the absorption glass substrate that absorbs ultraviolet light or near-infrared light, while various constituent materials of the absorption resin film are used. Although organic materials made of polymers are used, it has been found that the adhesion between the two is not necessarily sufficient, and that the adhesion is particularly likely to be insufficient in the presence of moisture.

이와 같은 상황하 본 발명은 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 수지막을 마련한 광학 필터를 제공함과 아울러, 관련되는 광학 필터를 가지는 촬상 장치를 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다. Under such circumstances, the present invention aims to provide an optical filter provided with a resin film having high adhesion to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, and also to provide an imaging device having the related optical filter. It is done.

상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명자가 예의 검토한 바, 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, Si 원자와, Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 접합 성분을 사용하여 수지막이 마련되어 이루어지는 광학 필터에 의해, 상기 기술 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내고, 본 지견에 기초하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다. In order to achieve the above object, the present inventor has intensively studied and found that an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass contains at least one type selected from Si atoms, Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms. It was discovered that the above-described technical problem could be solved by an optical filter in which a resin film is provided using a bonding component, and the present invention was completed based on this finding.

즉, 본 발명은 That is, the present invention

(1) 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판; 단층 구조를 가지는 접합층; 및 수지막을 포함하며, 수지막은 접합층을 통해서 흡수 유리 기판 상에 제공되고, 접합층은 Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터(이하, 적절히 본 발명의 광학 필터 1이라고 부른다), (1) An absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass; A bonding layer having a single-layer structure; and a resin film, wherein the resin film is provided on the absorption glass substrate through a bonding layer, and the bonding layer includes Si atoms and at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms. (hereinafter appropriately referred to as optical filter 1 of the present invention),

(2) 상기 접합층에 있어서, Si 원자, Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 총 수에 차지하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율이 0원자% 초과 33.3원자% 이하인 상기 (1)에 기재된 광학 필터, (2) In the bonding layer, the above ( The optical filter described in 1),

(3) 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(I) (3) For the absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, the following general formula (I)

M(OSiR1R2R3)n (I) M(OSiR 1 R 2 R 3 ) n (I)

(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R1, R2 및 R3은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSiR1R2R3기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, M is a Ti atom, a Zr atom, or an Al atom, and R 1 , R 2 and R 3 are linear or branched hydrocarbon groups of 1 to 10 carbon atoms that may contain an oxygen atom or a nitrogen atom, and are the same as each other. It may be different or different, and n is 4 when M is a Ti atom or Zr atom and 3 when M is an Al atom, and the plurality of -OSiR 1 R 2 R 3 groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(II) Compounds represented by and the following general formula (II)

(TikOk - 1)(OSiR4R5R6)2k +2 (II) (Ti k O k - 1 )(OSiR 4 R 5 R 6 ) 2k +2 (II)

(단, R4, R5 및 R6은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSiR4R5R6기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 4 , R 5 and R 6 are linear or branched hydrocarbon groups with 1 to 10 carbon atoms that may contain oxygen or nitrogen atoms, and may be the same or different from each other, and k is 2 or more and 15 or less. is a real number, and a plurality of -OSiR 4 R 5 R 6 groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 광학 필터(이하, 적절히 본 발명의 광학 필터 1-1이라고 부른다), The optical filter according to (1) or (2) above, wherein a resin film is provided through a bonding layer containing a hydrolyzed, dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by (hereinafter, appropriately referred to as the optical filter of the present invention) (referred to as optical filter 1-1),

(4) 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(III) (4) For the absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, the following general formula (III)

M{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}n (III) M{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} n (III)

(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSi(OR7)(OR8)(OR9)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, M is a Ti atom, Zr atom, or Al atom, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, and n is M In the case of this Ti atom or Zr atom, it is 4, and in the case where M is an Al atom, it is 3, and the plurality of -OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(IV) Compounds represented by and the following general formula (IV)

(TikOk - 1){OSi(OR10)(OR11)(OR12)}2k+2 (IV) (Ti k O k - 1 ){OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 2k+2 (IV)

(단, R10, R11 및 R12는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 10 , R 11 and R 12 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, k is a real number from 2 to 15, and a plurality of -OSi ( OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 상기 (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 기재된 광학 필터(이하, 적절히 본 발명의 광학 필터 1-2라고 부른다), The optical filter according to any one of (1) to (3) above, wherein a resin film is provided through a bonding layer containing a hydrolyzed, dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by (hereinafter, appropriately (referred to as optical filter 1-2 of the present invention),

(5) 상기 일반식(III)으로 표시되는 커플링제가 하기 일반식(V) (5) The coupling agent represented by the general formula (III) above has the following general formula (V)

Si(OR7)(OR8)(OR9)OH (V) Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH (V)

(단, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 규소 화합물과, 하기 일반식(VI) A silicon compound represented by and the following general formula (VI)

Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) (VI) Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) (VI)

(단, R13, R14, R15 및 R16은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.), 하기 일반식(VII) (However, R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.), general formula (VII)

Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20) (VII) Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )(OR 20 ) (VII)

(단, R17, R18, R19 및 R20은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) 및 하기 일반식(VIII) (However, R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.) and the following general formula (VIII)

Al(OR21)(OR22)(OR23) (VIII) Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ) (VIII)

(단, R21, R22 및 R23은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 21 , R 22 and R 23 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상과의 반응물로 이루어지는 상기 (4)에 기재된 광학 필터, The optical filter according to (4) above, which consists of a reactant with at least one type selected from metal alkoxides represented by,

(6) 상기 접합층이 추가로 실란올의 탈수축합물을 포함하는 상기 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 광학 필터, (6) The optical filter according to any one of (1) to (5) above, wherein the bonding layer further contains a dehydration condensate of silanol,

(7) 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(V) (7) For the absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, the following general formula (V)

Si(OR7)(OR8)(OR9)OH (V) Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH (V)

(단, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 규소 화합물 50몰% 이상 100몰% 미만과, 하기 일반식(VI) 50 mol% or more but less than 100 mol% of a silicon compound represented by the following general formula (VI)

Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) (VI) Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) (VI)

(단, R13, R14, R15 및 R16은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.), 하기 일반식(VII) (However, R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.), general formula (VII)

Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20) (VII) Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )(OR 20 ) (VII)

(단, R17, R18, R19 및 R20은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) 및 하기 일반식(VIII) (However, R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.) and the following general formula (VIII)

Al(OR21)(OR22)(OR23) (VIII) Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ) (VIII)

(단, R21, R22 및 R23은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 21 , R 22 and R 23 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상 0몰% 초과 50몰% 이하와의 반응물을 포함하는 커플링제 조성물의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 상기 (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 기재된 광학 필터, The above (wherein a resin film is provided through a bonding layer containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of a coupling agent composition containing a reactant with more than 0 mol% but not more than 50 mol% of at least one type selected from metal alkoxides represented by ( The optical filter according to any one of 1) to (6),

(8) 상기 커플링제 조성물이 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 80몰% 초과 100몰% 미만 및 상기 일반식(VI)~일반식(VIII)으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 알콕시드 0몰% 초과 20몰% 미만과의 반응물로 이루어지는 상기 (7)에 기재된 광학 필터, (8) The coupling agent composition contains more than 80 mol% but less than 100 mol% of a silicon compound represented by the general formula (V) and at least one metal alkoxide selected from the general formulas (VI) to (VIII) 0 The optical filter according to (7) above, which consists of a reactant with more than 20 mol% and less than 20 mol%,

(9) 상기 커플링제 조성물이 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 85~94몰% 및 상기 일반식(VI)~일반식(VIII)으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 알콕시드 6~15몰%와의 반응물로 이루어지는 상기 (7)에 기재된 광학 필터, (9) The coupling agent composition contains 85 to 94 mol% of a silicon compound represented by the general formula (V) and 6 to 15 moles of at least one metal alkoxide selected from the general formulas (VI) to (VIII). The optical filter according to (7) above, which consists of a reactant with %,

(10) 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판; 및 수지막을 포함하며, 수지막은 Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하고, 수지막이 흡수 유리 기판 상에 제공되는 것을 특징으로 하는 광학 필터(이하, 적절히 본 발명의 광학 필터 2라고 부른다), (10) An absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass; and a resin film, wherein the resin film includes at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms along with Si atoms, and the resin film is provided on an absorption glass substrate (hereinafter, appropriately referred to as an optical filter). called optical filter 2 of the invention),

(11) 상기 수지막에 있어서, Si 원자, Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 총 수에 차지하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율이 0원자% 초과 33.3원자% 이하인 상기 (10)에 기재된 광학 필터, (11) In the resin film, the above ( The optical filter described in 10),

(12) 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(I) (12) For an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, the following general formula (I)

M(OSiR1R2R3)n (I) M(OSiR 1 R 2 R 3 ) n (I)

(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R1, R2 및 R3은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSiR1R2R3기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, M is a Ti atom, a Zr atom, or an Al atom, and R 1 , R 2 and R 3 are linear or branched hydrocarbon groups of 1 to 10 carbon atoms that may contain an oxygen atom or a nitrogen atom, and are the same as each other. It may be different or different, and n is 4 when M is a Ti atom or Zr atom and 3 when M is an Al atom, and the plurality of -OSiR 1 R 2 R 3 groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(II) Compounds represented by and the following general formula (II)

(TikOk - 1)(OSiR4R5R6)2k +2 (II) (Ti k O k - 1 )(OSiR 4 R 5 R 6 ) 2k +2 (II)

(단, R4, R5 및 R6은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSiR4R5R6기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 4 , R 5 and R 6 are linear or branched hydrocarbon groups with 1 to 10 carbon atoms that may contain oxygen or nitrogen atoms, and may be the same or different from each other, and k is 2 or more and 15 or less. is a real number, and a plurality of -OSiR 4 R 5 R 6 groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 수지막이 마련되어 이루어지는 상기 (10) 또는 (11)에 기재된 광학 필터(이하, 적절히 본 발명의 광학 필터 2-1이라고 부른다), The optical filter according to (10) or (11) above, which is provided with a resin film containing a hydrolyzed, dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by (hereinafter, appropriately referred to as optical filter 2-1 of the present invention) It is called),

(13) 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(III) (13) For the absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, the following general formula (III)

M{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}n (III) M{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} n (III)

(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSi(OR7)(OR8)(OR9)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, M is a Ti atom, Zr atom, or Al atom, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, and n is M In the case of this Ti atom or Zr atom, it is 4, and in the case where M is an Al atom, it is 3, and the plurality of -OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(IV) Compounds represented by and the following general formula (IV)

(TikOk - 1){OSi(OR10)(OR11)(OR12)}2k+2 (IV) (Ti k O k - 1 ){OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 2k+2 (IV)

(단, R10, R11 및 R12는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 10 , R 11 and R 12 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, k is a real number from 2 to 15, and a plurality of -OSi ( OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 수지막이 마련되어 이루어지는 상기 (10) 내지 (12) 중 어느 하나에 기재된 광학 필터(이하, 적절히 본 발명의 광학 필터 2-2라고 부른다), The optical filter according to any one of (10) to (12) above, which is provided with a resin film containing a hydrolyzed, dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by (hereinafter, appropriately referred to as the optical filter of the present invention) (call it 2-2),

(14) 상기 일반식(III)으로 표시되는 커플링제가 하기 일반식(V) (14) The coupling agent represented by the general formula (III) above has the following general formula (V)

Si(OR7)(OR8)(OR9)OH (V) Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH (V)

(단, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 규소 화합물과, 하기 일반식(VI) A silicon compound represented by and the following general formula (VI)

Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) (VI) Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) (VI)

(단, R13, R14, R15 및 R16은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.), 하기 일반식(VII) (However, R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.), general formula (VII)

Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20) (VII) Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )(OR 20 ) (VII)

(단, R17, R18, R19 및 R20은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) 및 하기 일반식(VIII) (However, R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.) and the following general formula (VIII)

Al(OR21)(OR22)(OR23) (VIII) Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ) (VIII)

(단, R21, R22 및 R23은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 21 , R 22 and R 23 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상과의 반응물로 이루어지는 상기 (13)에 기재된 광학 필터, The optical filter according to (13) above, which consists of a reactant with at least one type selected from metal alkoxides represented by,

(15) 상기 수지막이 추가로 실란올의 탈수축합물을 포함하는 상기 (10) 내지 (14) 중 어느 하나에 기재된 광학 필터, (15) The optical filter according to any one of (10) to (14) above, wherein the resin film further contains a dehydration condensate of silanol,

(16) 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(V) (16) For an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, the following general formula (V)

Si(OR7)(OR8)(OR9)OH (V) Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH (V)

(단, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 규소 화합물 50몰% 이상 100몰% 미만과, 하기 일반식(VI) 50 mol% or more but less than 100 mol% of a silicon compound represented by the following general formula (VI)

Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) (VI) Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) (VI)

(단, R13, R14, R15 및 R16은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.), 하기 일반식(VII) (However, R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.), general formula (VII)

Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20) (VII) Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )(OR 20 ) (VII)

(단, R17, R18, R19 및 R20은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) 및 하기 일반식(VIII) (However, R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.) and the following general formula (VIII)

Al(OR21)(OR22)(OR23) (VIII) Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ) (VIII)

(단, R21, R22 및 R23은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 21 , R 22 and R 23 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상 0몰% 초과 50몰% 이하와의 반응물을 포함하는 커플링제 조성물의 가수분해, 탈수축합물을 함유하는 수지막이 마련되어 이루어지는 상기 (10) 내지 (15) 중 어느 하나에 기재된 광학 필터, (10) to (15) above, wherein a resin film is provided containing the hydrolysis and dehydration condensation product of a coupling agent composition containing a reactant with more than 0 mol% but not more than 50 mol% of one or more types of metal alkoxides represented by ) The optical filter described in any one of the following,

(17) 상기 커플링제 조성물이 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 80몰% 초과 100몰% 미만 및 상기 일반식(VI)~일반식(VIII)으로 표시되는 1종 이상의 금속 알콕시드 0몰% 초과 20몰% 미만과의 반응물로 이루어지는 상기 (16)에 기재된 광학 필터, (17) The coupling agent composition contains more than 80 mol% but less than 100 mol% of the silicon compound represented by the general formula (V) and one or more metal alkoxides represented by the general formulas (VI) to (VIII) 0 The optical filter according to (16) above, which consists of a reactant with more than 20 mol% and less than 20 mol%,

(18) 상기 커플링제 조성물이 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 85~94몰% 및 상기 일반식(VI)~일반식(VIII)으로 표시되는 1종 이상의 금속 알콕시드 6~15몰%와의 반응물로 이루어지는 상기 (16)에 기재된 광학 필터, 및 (18) The coupling agent composition contains 85 to 94 mol% of a silicon compound represented by the general formula (V) and 6 to 15 mole of at least one metal alkoxide represented by the general formulas (VI) to (VIII). The optical filter according to (16) above, consisting of a reactant with %, and

(19) 고체 촬상 소자와, 촬상 렌즈와, 상기 (1) 내지 (18) 중 어느 하나에 기재된 광학 필터를 가지는 것을 특징으로 하는 촬상 장치 (19) An imaging device comprising a solid-state imaging element, an imaging lens, and an optical filter according to any one of (1) to (18) above.

를 제공하는 것이다. is to provide.

본 발명에 의하면, 인산염계 유리 또는 불인산염 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 수지막을 마련한 광학 필터를 제공할 수 있음과 아울러, 관련되는 광학 필터를 가지는 촬상 장치를 제공할 수 있다. According to the present invention, it is possible to provide an optical filter provided with a resin film having high adhesion to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate glass, and also to provide an imaging device having the associated optical filter.

도 1은 카메라 모듈의 개략 설명도이며, 도 1(a)이 컴팩트 디지털 카메라에 따른 카메라 모듈의 개략 설명도, 도 1(b)이 디지털 SLR 카메라에 따른 카메라 모듈의 개략 설명도이다.
도 2는 적외 커트 필터(IRCF)(1)의 구조를 나타내는 개략 설명도이며, 도 2(a)는 반사막(UVIR막)에 의해 자외광 및 근적외광을 반사하는 반사 타입의 IRCF의 개략 설명도이며, 도 2(b)는 반사막(UVIR막)과 함께 자외광 또는 근적외광을 흡수하는 흡수 유리 기판 및 자외광 또는 근적외광을 흡수하는 흡수 수지막을 가지는 하이브리드 타입의 IRCF의 개략 설명도이다.
도 3은 본 발명에 따른 광학 필터의 일례에 있어서의 주사형 투과 전자현미경-에너지 분산형 X선 분광 분석기(STEM-EDX)에 의한 단면 화상(상 콘트라스트)이다.
도 4는 본 발명에 따른 광학 필터의 일례에 있어서의 STEM-EDX 라인(광학 필터를 구성하는 각 원소의 깊이 방향에 있어서의 EDX선(K선) 검출 강도 라인)을 나타내는 도면이다.
FIG. 1 is a schematic diagram of a camera module, FIG. 1(a) is a schematic diagram of a camera module for a compact digital camera, and FIG. 1(b) is a schematic diagram of a camera module for a digital SLR camera.
Figure 2 is a schematic diagram showing the structure of an infrared cut filter (IRCF) 1, and Figure 2(a) is a schematic diagram of a reflection type IRCF that reflects ultraviolet light and near-infrared light by a reflective film (UVIR film). 2(b) is a schematic diagram of a hybrid type IRCF having a reflective film (UVIR film), an absorbing glass substrate that absorbs ultraviolet light or near-infrared light, and an absorbing resin film that absorbs ultraviolet light or near-infrared light.
Fig. 3 is a cross-sectional image (image contrast) obtained by a scanning transmission electron microscope-energy dispersive X-ray spectrometer (STEM-EDX) of an example of an optical filter according to the present invention.
Fig. 4 is a diagram showing the STEM-EDX line (the EDX line (K line) detection intensity line in the depth direction of each element constituting the optical filter) in an example of the optical filter according to the present invention.

본 발명의 광학 필터 1은 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판; 단층 구조를 가지는 접합층; 및 수지막을 포함하며, 수지막은 접합층을 통해서 흡수 유리 기판 상에 제공되고, 접합층은 Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이며, 그 구체적 태양으로서는 후술하는 본 발명의 광학 필터 1-1 또는 본 발명의 광학 필터 1-2를 들 수 있다. The optical filter 1 of the present invention includes an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass; A bonding layer having a single-layer structure; and a resin film, wherein the resin film is provided on the absorbent glass substrate through a bonding layer, and the bonding layer includes Si atoms and at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms, Specific examples include optical filter 1-1 of the present invention or optical filter 1-2 of the present invention, which will be described later.

또 본 발명의 광학 필터 2는 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판; 및 수지막을 포함하며, 수지막은 Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하고, 수지막이 흡수 유리 기판 상에 제공되는 것을 특징으로 하는 것이며, 그 구체적 태양으로서는 후술하는 본 발명의 광학 필터 2-1 또는 본 발명의 광학 필터 2-2를 들 수 있다. Additionally, the optical filter 2 of the present invention includes an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass; and a resin film, wherein the resin film contains at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms along with Si atoms, and the resin film is provided on an absorption glass substrate, the specific embodiment of which will be described later. Optical Filter 2-1 of the present invention or Optical Filter 2-2 of the present invention may be mentioned.

본 발명의 광학 필터 1과 본 발명의 광학 필터 2는 흡수 유리 기판에 대하여, Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 단층 구조를 가지는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 것이거나, 또는 Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 수지막이 마련되어 이루어지는 것이라는 점에 있어서 상이하고, 그 밖의 점에 있어서 공통된다. The optical filter 1 of the present invention and the optical filter 2 of the present invention are formed by interposing a bonding layer having a single-layer structure containing Si atoms and at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms on an absorption glass substrate. They differ in that they are formed by providing a resin film, or by providing a resin film containing Si atoms and at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms, and are common in other respects.

이 때문에 이하에 기재하는 본 발명의 광학 필터의 설명은 특별히 언급하지 않는 한 본 발명의 광학 필터 1 및 본 발명의 광학 필터 2에 공통되는 것으로 한다. For this reason, the description of the optical filter of the present invention described below is assumed to be common to the optical filter 1 of the present invention and the optical filter 2 of the present invention unless otherwise specified.

[유리 기판] [Glass substrate]

본 발명에 따른 광학 필터는 유리 기판으로서 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판을 가지고 있다. The optical filter according to the present invention has an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass as a glass substrate.

본 발명에 따른 광학 필터에 있어서, 흡수 유리 기판으로서는 두께가 0.01~1.50mm인 것이 바람직하고, 0.01~0.70mm인 것이 보다 바람직하며, 0.01~0.30mm인 것이 더욱 바람직하다. In the optical filter according to the present invention, the absorption glass substrate preferably has a thickness of 0.01 to 1.50 mm, more preferably 0.01 to 0.70 mm, and even more preferably 0.01 to 0.30 mm.

흡수 유리 기판의 두께가 상기 범위 내에 있는 것에 의해, 광학 필터의 박형화를 용이하게 달성할 수 있다. When the thickness of the absorption glass substrate is within the above range, thinning of the optical filter can be easily achieved.

본 발명에 따른 광학 필터에 있어서, 흡수 유리 기판은 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어진다. In the optical filter according to the present invention, the absorbing glass substrate is made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass.

본원발명에 있어서의 인산염계 유리는 필수 성분으로서의 P, O와, 다른 임의 성분을 포함하는 유리이며, CuO를 포함하는 것이 특히 바람직하다. 인산염계 유리가 CuO를 포함함으로써, 근적외광을 보다 효과적으로 흡수할 수 있다. 인산염계 유리의 다른 임의 성분으로서는 예를 들면 Ca, Mg, Sr, Ba, Li, Na, K, Cs 등을 들 수 있다. The phosphate-based glass in the present invention is a glass containing P and O as essential components and other optional components, and it is particularly preferable that it contains CuO. By containing CuO, the phosphate-based glass can absorb near-infrared light more effectively. Other optional components of phosphate-based glass include, for example, Ca, Mg, Sr, Ba, Li, Na, K, Cs, etc.

본원발명에 있어서의 불인산염계 유리는 필수 성분으로서의 P, O, F와, 다른 임의 성분을 포함하는 유리이며, CuO를 포함하는 것이 특히 바람직하다. 불인산염계 유리가 CuO를 포함함으로써, 근적외광을 보다 효과적으로 흡수할 수 있다. 불인산염계 유리의 다른 임의 성분으로서는 예를 들면 Ca, Mg, Sr, Ba, Li, Na, K, Cs 등을 들 수 있다. The fluorophosphate-based glass in the present invention is a glass containing P, O, and F as essential components and other optional components, and it is particularly preferable that it contains CuO. By containing CuO, the fluorophosphate-based glass can absorb near-infrared light more effectively. Other optional components of fluorophosphate-based glass include, for example, Ca, Mg, Sr, Ba, Li, Na, K, Cs, etc.

상기 인산염계 유리로서는 As the phosphate-based glass,

P2O5 0질량% 초과 70질량% 이하, P 2 O 5 more than 0 mass% and less than 70 mass%,

Al2O3 0~40질량%, Al 2 O 3 0~40% by mass,

BaO 0~40질량%, BaO 0-40% by mass,

CuO 0~40질량% CuO 0~40% by mass

를 포함하는 것이 바람직하다. It is desirable to include.

상기 인산염계 유리로서는 As the phosphate-based glass,

P2O5 20~60질량%, P 2 O 5 20~60% by mass,

Al2O3 0~10질량%, Al 2 O 3 0-10% by mass,

BaO 0~10질량%, BaO 0-10% by mass,

CuO 0~10질량% CuO 0~10% by mass

를 포함하는 것이 보다 바람직하다. It is more preferable to include.

상기 인산염계 유리로서는 As the phosphate-based glass,

P2O5 20~60질량%, P 2 O 5 20~60% by mass,

Al2O3 1~10질량%, Al 2 O 3 1 to 10% by mass,

BaO 1~10질량%, BaO 1-10% by mass,

CuO 1~10질량% CuO 1-10% by mass

를 포함하는 것이 더욱 바람직하다. It is more preferable to include.

상기 불인산염계 유리로서는 As the above fluorophosphate glass,

P2O5 0질량% 초과 70질량% 이하, P 2 O 5 more than 0 mass% and less than 70 mass%,

Al2O3 0~40질량%, Al 2 O 3 0~40% by mass,

BaO 0~40질량%, BaO 0-40% by mass,

CuO 0~40질량% CuO 0~40% by mass

를 포함하고, 추가로 불화물을 0질량% 초과 40질량% 이하 포함하는 Contains, and further contains more than 0% by mass and 40% by mass or less of fluoride.

것이 바람직하다. It is desirable.

상기 불인산염계 유리로서는 As the above fluorophosphate glass,

P2O5 20~60질량%, P 2 O 5 20~60% by mass,

Al2O3 0~10질량%, Al 2 O 3 0-10% by mass,

BaO 0~10질량%, BaO 0-10% by mass,

CuO 0~10질량% CuO 0~10% by mass

를 포함하고, 추가로 불화물을 1~30질량% 포함하는 Contains, and further contains 1 to 30% by mass of fluoride.

것이 보다 바람직하다. It is more preferable.

상기 불인산염계 유리로서는 As the above fluorophosphate glass,

P2O5 20~60질량%, P 2 O 5 20~60% by mass,

Al2O3 1~10질량%, Al 2 O 3 1 to 10% by mass,

BaO 1~10질량%, BaO 1-10% by mass,

CuO 1~10질량% CuO 1-10% by mass

를 포함하고, 추가로 불화물을 2~30질량% 포함하는 Contains, and additionally contains 2 to 30% by mass of fluoride.

것이 더욱 바람직하다. It is more desirable.

상기 불화물로서는 MgF2, CaF2, SrF2 등으로부터 선택되는 1종 이상을 들 수 있다. Examples of the fluoride include one or more types selected from MgF 2 , CaF 2 , SrF 2 , etc.

본 발명의 광학 필터 1은 상기 유리 기판에 대하여, Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 단층 구조를 가지는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 것이다. The optical filter 1 of the present invention is characterized in that a resin film is provided on the glass substrate through a bonding layer having a single layer structure containing Si atoms and at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms. It is done.

본 발명의 광학 필터 1에 있어서, 접합층으로서는 후술하는 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 것을 들 수 있다. In the optical filter 1 of the present invention, the bonding layer includes one containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of a coupling agent described later.

본 발명의 광학 필터 1에 있어서, 접합층은 Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 단층 구조를 가지는 것이다. In the optical filter 1 of the present invention, the bonding layer has a single layer structure containing Si atoms and one or more types selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms.

본 출원 서류에 있어서 단층 구조는 하기 조건에 의해 주사형 투과 전자현미경-에너지 분산형 X선 분광 분석기(STEM-EDX)에 의해 측정했을 때 얻어지는 측정 화상(상 콘트라스트) 또는 원소 분석 결과로부터, 동일 조성을 가지는 형성 재료로 이루어지는 것이 특정되는 층 구조를 의미한다. In this application document, the single-layer structure has the same composition from the measurement image (image contrast) or elemental analysis results obtained when measured by a scanning transmission electron microscope-energy dispersive X-ray spectrometer (STEM-EDX) under the following conditions. A branch refers to a layered structure that is specified to be made of a forming material.

<측정 조건> <Measurement conditions>

주사형 투과 전자현미경 : 니혼덴시(주)제 ARM200F Scanning transmission electron microscope: ARM200F manufactured by Nippon Electronics Co., Ltd.

에너지 분산형 X선 분광 분석기 : 니혼덴시(주)제 JED-2300T Energy-dispersive X-ray spectroscopic analyzer: JED-2300T manufactured by Nippon Electronics Co., Ltd.

시료 조제 : 집속 이온 빔 가공(FIB) Sample preparation: Focused ion beam processing (FIB)

가속 전압 : 200kV Acceleration Voltage: 200kV

원소 분석 : EDX 매핑(해상도 : 256×256) Elemental analysis: EDX mapping (resolution: 256×256)

도 3은 본 발명에 따른 광학 필터의 일례에 있어서, 상기 측정 조건에 의해 얻어지는 STEM-EDX 화상(상 콘트라스트)이며, 동일 도면으로부터, 광학 필터가 흡수 유리 기판 G에 대하여, 접합층 B를 개재시켜 수지막 R이 마련되어 이루어지고, 접합층 B가 단층 구조로 이루어지는 것을 알 수 있다. 3 is a STEM-EDX image (image contrast) obtained under the above measurement conditions in an example of the optical filter according to the present invention. From the same figure, the optical filter is shown with respect to the absorption glass substrate G through the bonding layer B. It can be seen that the resin film R is provided and the bonding layer B has a single-layer structure.

본 발명의 광학 필터 1에 있어서, 접합층의 두께는 1000nm 이하인 것이 바람직하고, 10~500nm인 것이 보다 바람직하며, 30~300nm인 것이 더욱 바람직하다. In the optical filter 1 of the present invention, the thickness of the bonding layer is preferably 1000 nm or less, more preferably 10 to 500 nm, and even more preferably 30 to 300 nm.

접합층의 두께가 1000nm 이하인 것에 의해, 접합층 형성시(소성시)에 있어서의 불균일의 발생을 억제하기 쉬워져, 접합층의 막면을 용이하게 균일화할 수 있다. When the thickness of the bonding layer is 1000 nm or less, it is easy to suppress the occurrence of unevenness during the formation of the bonding layer (during firing), and the film surface of the bonding layer can be easily made uniform.

또 접합층의 두께가 10nm 이상인 경우, 접합층이 충분한 접합 강도를 발휘하기 쉬워져, 광학 필터의 기계적 강도를 용이하게 향상시킬 수 있다. Additionally, when the thickness of the bonding layer is 10 nm or more, the bonding layer can easily exhibit sufficient bonding strength, and the mechanical strength of the optical filter can be easily improved.

또한 본 출원 서류에 있어서, 접합층의 두께는 상기 STEM-EDX를 사용하여 측정했을 때 얻어지는 광학 필터 단면의 측정 화상(상 콘트라스트)에 있어서, 접합층의 두께를 50점 측정했을 때의 산술평균값을 의미한다. In addition, in this application document, the thickness of the bonding layer is the arithmetic mean value when the thickness of the bonding layer is measured at 50 points in the measurement image (image contrast) of the optical filter cross section obtained when measured using the above-described STEM-EDX. it means.

본 발명의 광학 필터 1에 있어서, 접합층은 Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함한다. Si 원자와 함께 접합층 중에 함유되는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상으로서는 Ti 원자인 것이 바람직하다. In the optical filter 1 of the present invention, the bonding layer includes Si atoms and at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms. It is preferable that at least one type selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms contained in the bonding layer together with Si atoms is a Ti atom.

도 4는 상기 서술한 조건에 의해 측정한 본 발명에 따른 광학 필터 1의 STEM-EDX 라인(광학 필터를 구성하는 각 원소의 깊이 방향에 있어서의 EDX선(K선) 검출 강도 라인)을 예시하는 것이다. 도 4에 나타내는 예에 있어서는 표면으로부터의 거리 0~980nm의 영역에 C 원자 및 O 원자를 주성분으로서 포함하는(후술한다) 수지막이 마련되고, 표면으로부터의 거리 980~1150nm의 영역에 Si 원자, Ti 원자 및 O 원자를 주성분으로서 포함하는 접합층이 마련되며, 표면으로부터의 거리가 1150nm보다 큰 영역에 P 원자, F 원자 및 O 원자를 주성분으로서 포함하는 흡수 유리 기판이 마련되어 있는 것을 알 수 있고, 관련되는 STEM-EDX 라인에 의해 각 영역의 구성 원소를 확인할 수 있고, 또 접합층 등의 두께를 확인할 수도 있다. Figure 4 illustrates the STEM-EDX line (EDX line (K line) detection intensity line in the depth direction of each element constituting the optical filter) of optical filter 1 according to the present invention measured under the conditions described above. will be. In the example shown in Fig. 4, a resin film containing C atoms and O atoms as main components (described later) is provided in the region at a distance of 0 to 980 nm from the surface, and Si atoms and Ti are in the region at a distance of 980 to 1150 nm from the surface. It can be seen that a bonding layer containing atoms and O atoms as main components is provided, and an absorption glass substrate containing P atoms, F atoms and O atoms as main components is provided in a region where the distance from the surface is greater than 1150 nm, The constituent elements of each region can be confirmed using the STEM-EDX line, and the thickness of the bonding layer, etc. can be confirmed.

도 4에 나타내는 예에 있어서는 광학 필터 1의 접합층이 Si 원자와 함께 Ti 원자를 포함하는 것인 것을 알 수 있다. In the example shown in FIG. 4, it can be seen that the bonding layer of optical filter 1 contains Ti atoms as well as Si atoms.

본 발명의 광학 필터 1을 구성하는 접합층에 있어서, Si 원자, Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 총 수(총 원자수)에 차지하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율 α(원자%)는 0원자% 초과 33.3원자% 이하인 것이 바람직하고, 9~33.3 원자%인 것이 보다 바람직하며, 12~33.3원자%인 것이 더욱 바람직하다. In the bonding layer constituting the optical filter 1 of the present invention, the ratio of the total number of atoms of Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms to the total number of Si atoms, Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms (total number of atoms): α (Atomic %) is preferably greater than 0 atomic % and less than or equal to 33.3 atomic %, more preferably 9 to 33.3 atomic %, and even more preferably 12 to 33.3 atomic %.

본 출원 서류에 있어서, 상기 접합층을 구성하는 Si 원자, Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 총 수(총 원자수)에 차지하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율 α(원자%)는 이하의 방법에 의해 산출되는 값을 의미한다. In this application document, the ratio α (atoms %) means the value calculated by the method below.

(1) 상기 서술한 측정 조건에 의해 광학 필터의 STEM-EDX 측정을 행하여, 도 4에 예시하는 바와 같은 STEM-EDX 라인(광학 필터를 구성하는 각 원소의 깊이 방향에 있어서의 EDX선(K선) 검출 강도 라인)을 얻는다. (1) A STEM-EDX measurement of the optical filter was performed under the measurement conditions described above, and a STEM-EDX line (EDX line (K line) in the depth direction of each element constituting the optical filter) as illustrated in FIG. ) to obtain the detected intensity line).

(2) 접합층을 구성하는 영역에 있어서의 Si 원자의 EDX선 적산 강도 XSi, Ti 원자의 EDX선 적산 강도 XTi, Zr 원자의 EDX선 적산 강도 XZr 및 Al 원자의 EDX선 적산 강도 XAl을 각각 구한다. (2) Integrated EDX-ray intensity of Si atoms in the region constituting the bonding layer Find Al respectively.

(3) (2)에서 구한 각 EDX선 적산 강도에 k팩터(가속 전압이나 검출 효율에 의존하는 원자 번호마다 상이한 보정 계수. 이하 편의적으로 Si 원자의 k팩터를 KSi, Ti 원자의 k팩터를 KTi, Zr 원자의 k팩터를 KZr, Al 원자의 k팩터를 KAl로 한다.)를 곱한 값이 각 구성 원소의 중량비에 대응한다고 간주할 수 있다. 이 때문에 예를 들면 접합층을 구성하는 Ti 원자의 중량 비율 ATi(중량%)은 하기 식에 의해 산출할 수 있다. (3) A k factor (a different correction factor for each atomic number depending on the acceleration voltage or detection efficiency) is added to the integrated intensity of each EDX line obtained in (2). For convenience, the k factor of the Si atom is hereinafter referred to as K Si and the k factor of the Ti atom is The k factor of K Ti and Zr atoms is K Zr , and the k factor of Al atoms is K Al .) can be considered to correspond to the weight ratio of each constituent element. For this reason, for example, the weight ratio A Ti (% by weight) of Ti atoms constituting the bonding layer can be calculated by the following formula.

Figure 112019057239819-pat00001
Figure 112019057239819-pat00001

(4) 또한 상기 각 원자의 EDX선 적산 강도 X에 k팩터를 곱한 값을 각각의 원자량 M으로 나눈 값이 각 구성 원소의 원자수의 비에 대응한다고 간주할 수 있다. 이 때문에 Si 원자의 원자량을 MSi, Ti 원자의 원자량을 MTi, Zr 원자의 원자량을 MZr, Al 원자의 원자량을 MAl로 한 경우, 예를 들면 접합층을 구성하는 Ti 원자의 원자수의 비율 αTi(원자%)는 하기 식에 의해 산출할 수 있다. (4) Additionally, it can be considered that the value obtained by multiplying the EDX-ray integrated intensity For this reason, if the atomic weight of the Si atom is M Si , the atomic weight of the Ti atom is M Ti , the atomic weight of the Zr atom is M Zr , and the atomic weight of the Al atom is M Al , for example, the number of Ti atoms constituting the bonding layer is M Al. The ratio α Ti (atomic %) can be calculated by the following formula.

또 접합층을 구성하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율 α(원자%)는 하기 식에 의해 산출할 수 있다. Additionally, the ratio α (atomic %) of the total number of atoms of Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms constituting the bonding layer can be calculated using the following formula.

예를 들면 도 4에 나타내는 예에 있어서는 접합층 중에 Si 원자 및 Ti 원자가 포함되는데, Zr 원자 및 Al 원자는 포함되지 않기 때문에, 접합층을 구성하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율 α(원자%)는 하기 식에 의해 산출할 수 있다. For example, in the example shown in FIG. 4, Si atoms and Ti atoms are included in the bonding layer, but Zr atoms and Al atoms are not included, so the total number of atoms of Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms constituting the bonding layer is The ratio α (atomic %) can be calculated by the following formula.

또한 본 출원 서류에 있어서, KSi=1.000, KTi=1.033, KZr=5.696, KAl=1.050으로 했다. Additionally, in this application document, K Si = 1.000, K Ti = 1.033, K Zr = 5.696, and K Al = 1.050.

본 발명의 광학 필터 1의 실시형태로서는 본 발명의 광학 필터 1-1 및 본 발명의 광학 필터 1-2를 들 수 있다. Embodiments of the optical filter 1 of the present invention include the optical filter 1-1 of the present invention and the optical filter 1-2 of the present invention.

본 발명의 광학 필터 1-1은 상기 흡수 유리 기판에 대하여 하기 일반식(I) The optical filter 1-1 of the present invention has the following general formula (I) for the absorption glass substrate:

M(OSiR1R2R3)n (I) M(OSiR 1 R 2 R 3 ) n (I)

(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R1, R2 및 R3은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSiR1R2R3기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, M is a Ti atom, a Zr atom, or an Al atom, and R 1 , R 2 and R 3 are linear or branched hydrocarbon groups of 1 to 10 carbon atoms that may contain an oxygen atom or a nitrogen atom, and are the same as each other. It may be different or different, and n is 4 when M is a Ti atom or Zr atom and 3 when M is an Al atom, and the plurality of -OSiR 1 R 2 R 3 groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(II) Compounds represented by and the following general formula (II)

(TikOk - 1)(OSiR4R5R6)2k +2 (II) (Ti k O k - 1 )(OSiR 4 R 5 R 6 ) 2k +2 (II)

(단, R4, R5 및 R6은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSiR4R5R6기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 4 , R 5 and R 6 are linear or branched hydrocarbon groups with 1 to 10 carbon atoms that may contain oxygen or nitrogen atoms, and may be the same or different from each other, and k is 2 or more and 15 or less. is a real number, and a plurality of -OSiR 4 R 5 R 6 groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 것이다. A resin film is provided through a bonding layer containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by .

또 본 발명의 광학 필터 1-2는 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 하기 일반식(III) In addition, the optical filter 1-2 of the present invention has the following general formula (III) on an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass.

M{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}n (III) M{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} n (III)

(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSi(OR7)(OR8)(OR9)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, M is a Ti atom, Zr atom, or Al atom, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, and n is M In the case of this Ti atom or Zr atom, it is 4, and in the case where M is an Al atom, it is 3, and the plurality of -OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(IV) Compounds represented by and the following general formula (IV)

(TikOk - 1){OSi(OR10)(OR11)(OR12)}2k+2 (IV) (Ti k O k - 1 ){OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 2k+2 (IV)

(단, R10, R11 및 R12는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 10 , R 11 and R 12 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, k is a real number from 2 to 15, and a plurality of -OSi ( OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 것이다. A resin film is provided through a bonding layer containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by .

상기 접합층의 구성 성분인 일반식(III)으로 표시되는 화합물은 상기 일반식(I)으로 표시되는 화합물을 보다 한정한 것이 되고 있고, 또 상기 접합층의 구성 성분인 일반식(IV)으로 표시되는 화합물은 상기 일반식(II)으로 표시되는 화합물을 보다 한정한 것이 되고 있다. The compound represented by the general formula (III), which is a constituent of the bonding layer, is a more limited version of the compound represented by the general formula (I), and is also represented by the general formula (IV), which is a constituent of the bonding layer. The compounds are more limited to those represented by the general formula (II).

이 때문에 이하 본 발명의 광학 필터 1의 접합층에 따른 설명으로서, 접합층의 구성 성분인 일반식(I)으로 표시되는 화합물 및 일반식(III)으로 표시되는 화합물과, 상기 일반식(II) 및 일반식(IV)으로 표시되는 화합물에 대해서 순차적으로 설명하면서, 접합층의 형성 방법에 대해서 설명하는 것으로 한다. For this reason, hereinafter, as a description of the bonding layer of optical filter 1 of the present invention, a compound represented by the general formula (I) and a compound represented by the general formula (III), which are constituents of the bonding layer, and the compound represented by the general formula (II) and the compound represented by general formula (IV) will be sequentially explained, while the method of forming the bonding layer will be explained.

본 발명의 광학 필터 1에 있어서, 하기 일반식(I) In the optical filter 1 of the present invention, the following general formula (I)

M(OSiR1R2R3)n (I) M(OSiR 1 R 2 R 3 ) n (I)

으로 표시되는 화합물을 구성하는 M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, Ti 원자인 것이 바람직하다. M constituting the compound represented by is a Ti atom, a Zr atom, or an Al atom, and is preferably a Ti atom.

상기 일반식(I)으로 표시되는 화합물에 있어서, R1, R2 및 R3은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기이며, 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~4의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기인 것이 바람직하고, 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~3의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다. In the compound represented by the general formula (I), R 1 , R 2 and R 3 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms which may include an oxygen atom or a nitrogen atom, and It is preferable that it is a straight-chain or branched hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms which may contain an atom, and more preferably it is a straight-chain or branched hydrocarbon group of 1 to 3 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a nitrogen atom.

R1, R2 및 R3로서 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기의 직쇄상, 분기쇄상 또는 환상의 탄화수소기 등이나, -C3H6(COO)CHCH2, -CH2(COO)CHCH2, -C2H4(COO)CHCH2, -C4H8(COO)CHCH2, -C5H10(COO)CHCH2, -C6H12(COO)CHCH2, -C7H14(COO)CHCH2, -C8H16(COO)CHCH2, -C9H18(COO)CHCH2, -C10H20(COO)CHCH2 등의 직쇄상, 분기쇄상 또는 환상의 탄화수소기 등으로부터 선택되는 것을 들 수 있다. R 1 , R 2 and R 3 are specifically linear, branched or cyclic hydrocarbon groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, and decyl. Etc., -C 3 H 6 (COO)CHCH 2 , -CH 2 (COO)CHCH 2 , -C 2 H 4 (COO)CHCH 2 , -C 4 H 8 (COO)CHCH 2 , -C 5 H 10 (COO)CHCH 2 , -C 6 H 12 (COO)CHCH 2 , -C 7 H 14 (COO)CHCH 2 , -C 8 H 16 (COO)CHCH 2 , -C 9 H 18 (COO)CHCH 2 , -C 10 H 20 (COO) CHCH 2 and the like may be selected from linear, branched or cyclic hydrocarbon groups.

본 발명에 따른 광학 필터 1에 있어서, R1, R2 및 R3의 탄소수가 상기 범위 내에 있는 것에 의해, 규소 화합물과 금속 알콕시드와의 적합한 반응 속도를 유지하기 쉬워지고, 보다 균질한 커플링제를 조제하기 쉬워진다. In the optical filter 1 according to the present invention, when the carbon numbers of R 1 , R 2 and R 3 are within the above range, it becomes easy to maintain an appropriate reaction rate between the silicon compound and the metal alkoxide, and a more homogeneous coupling agent is obtained. It becomes easier to prepare.

또 일반식(I)으로 표시되는 화합물에 있어서, 규소 원자에 결합하는 R1, R2 및 R3로 표시되는 관능기는 수지막과 접합층과의 접합성에 영향을 줄 수 있다. 그 때문에 접합층 상에 마련하는 수지막에 따라 적절한 R1, R2 및 R3기를 선택함으로써, 수지막과 접합층과의 접합성을 조정할 수 있다. In addition, in the compound represented by general formula (I), the functional groups represented by R 1 , R 2 and R 3 bonded to the silicon atom may affect the bonding properties between the resin film and the bonding layer. Therefore, the bonding property between the resin film and the bonding layer can be adjusted by selecting appropriate R 1 , R 2 and R 3 groups depending on the resin film provided on the bonding layer.

상기 R1, R2 및 R3은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. Said R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different from each other.

또 n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSiR1R2R3기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. Moreover, n is 4 when M is a Ti atom or Zr atom and 3 when M is an Al atom, and the plurality of -OSiR 1 R 2 R 3 groups may be the same or different from each other.

본 발명의 광학 필터 1에 있어서, 일반식(I)으로 표시되는 화합물로서는 하기 일반식(III) In the optical filter 1 of the present invention, the compound represented by general formula (I) is the following general formula (III)

M{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}n (III) M{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} n (III)

(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSi(OR7)(OR8)(OR9)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, M is a Ti atom, Zr atom, or Al atom, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, and n is M In the case of this Ti atom or Zr atom, it is 4, and in the case where M is an Al atom, it is 3, and the plurality of -OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물을 들 수 있다. Compounds represented by are included.

상기 일반식(III)으로 표시되는 화합물에 있어서, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, Ti 원자인 것이 바람직하다. In the compound represented by the general formula (III), M is a Ti atom, a Zr atom, or an Al atom, and is preferably a Ti atom.

상기 일반식(III)으로 표시되는 화합물에 있어서, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기이며, 탄소수 1~4의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~3의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다. In the compound represented by the general formula (III), R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 4 carbon atoms. It is preferable, and it is more preferable that it is a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms.

R7, R8 및 R9로서 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기의 직쇄상 또는 분기쇄상, 환상의 탄화수소기 등으로부터 선택되는 것을 들 수 있다. R 7 , R 8 and R 9 specifically represent linear or branched or cyclic hydrocarbon groups of methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, and decyl groups. and those selected from the like.

R7, R8 및 R9는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. R 7 , R 8 and R 9 may be the same or different from each other.

본 발명에 따른 광학 필터 1에 있어서, R7, R8 및 R9의 탄소수가 상기 범위 내에 있는 것에 의해, 규소 화합물과 금속 알콕시드와의 적합한 반응 속도를 유지하기 쉬워지고, 보다 균질한 커플링제를 조제하기 쉬워진다. In the optical filter 1 according to the present invention, when the carbon numbers of R 7 , R 8 and R 9 are within the above range, it becomes easy to maintain an appropriate reaction rate between the silicon compound and the metal alkoxide, and a more homogeneous coupling agent is obtained. It becomes easier to prepare.

상기 R7, R8 및 R9는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. Said R 7 , R 8 and R 9 may be the same or different from each other.

또 n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSi(OR7)(OR8)(OR9)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. Additionally, n is 4 when M is a Ti atom or Zr atom and 3 when M is an Al atom, and the plurality of -OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 ) groups may be the same or different from each other.

상기 일반식(III)으로 표시되는 커플링제는 하기 일반식(V) The coupling agent represented by the general formula (III) has the following general formula (V)

Si(OR7)(OR8)(OR9)OH (V) Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH (V)

(단, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 규소 화합물과, 하기 일반식(VI) A silicon compound represented by and the following general formula (VI)

Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) (VI) Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) (VI)

(단, R13, R14, R15 및 R16은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.), 하기 일반식(VII) (However, R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.), general formula (VII)

Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20) (VII) Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )(OR 20 ) (VII)

(단, R17, R18, R19 및 R20은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) 및 하기 일반식(VIII) (However, R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.) and the following general formula (VIII)

Al(OR21)(OR22)(OR23) (VIII) Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ) (VIII)

(단, R21, R22 및 R23은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 21 , R 22 and R 23 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상 At least one type selected from metal alkoxides represented by

과의 반응물로 이루어지는 것인 것이 바람직하다. It is preferable that it consists of a reactant of and.

상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물에 있어서, 상기 R7, R8 및 R9의 탄소수나 구체예는 상기 서술한 바와 같으며, R7, R8 및 R9는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. In the silicon compound represented by the general formula (V), the carbon number and specific examples of R 7 , R 8 and R 9 are as described above, and R 7 , R 8 and R 9 may be the same or different from each other. You can do it.

상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물은 이하와 같이 대응하는 실란알콕시드를 부분 가수분해함으로써 용이하게 생성할 수 있다. The silicon compound represented by the general formula (V) can be easily produced by partially hydrolyzing the corresponding silane alkoxide as follows.

Si(OR7)(OR8)(OR9)(ORa)+H2O→Si(OR7)(OR8)(OR9)OH+RaOH Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )(OR a )+H 2 O→Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH+R a OH

(단, R7, R8, R9 및 Ra는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 7 , R 8 , R 9 and R a are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

상기 탄화수소기 R7, R8 및 R9의 바람직한 태양은 상기 서술한 바와 같으며, Ra의 바람직한 태양도 탄화수소기 R7, R8 및 R9의 바람직한 태양과 마찬가지이다. The preferred embodiments of the hydrocarbon groups R 7 , R 8 and R 9 are as described above, and the preferred embodiments of R a are the same as those of the hydrocarbon groups R 7 , R 8 and R 9 .

실란알콕시드는 그 전부가 가수분해된 경우에는 이하와 같이 반응이 진행되어 실란올 Si(OH)4를 생성한다. When all of the silane alkoxides are hydrolyzed, the reaction proceeds as follows to produce silanol Si(OH) 4 .

Si(OR7)(OR8)(OR9)(ORa)+4H2O→Si(OH)4+R7OH+R8OH+R9OH+RaOH Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )(OR a )+4H 2 O→Si(OH) 4 +R 7 OH+R 8 OH+R 9 OH+R a OH

한편, 실란알콕시드를 가수분해하는 수분량을 제어하여 부분 가수분해함으로써, 상기와 같이 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물을 얻을 수 있다. On the other hand, by partially hydrolyzing the silane alkoxide by controlling the amount of water used to hydrolyze it, a silicon compound represented by general formula (V) can be obtained as described above.

상기 일반식(VI) Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16)으로 표시되는 티탄알콕시드, 상기 일반식(VII) Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20)으로 표시되는 지르코늄알콕시드 및 상기 일반식(VIII) Al(OR21)(OR22)(OR23)으로 표시되는 알루미늄알콕시드에 있어서, R13~R23(R13, R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22 및 R23)은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기이며, 탄소수 2~9의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기인 것이 바람직하고, 탄소수 3~8의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다. Titanium alkoxide represented by the general formula (VI) Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ), the general formula (VII) Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )( In the zirconium alkoxide represented by OR 20 ) and the aluminum alkoxide represented by the general formula (VIII) Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ), R 13 to R 23 (R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 and R 23 ) are straight-chain or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and straight-chain hydrocarbon groups having 2 to 9 carbon atoms. Alternatively, it is preferable that it is a branched hydrocarbon group, and it is more preferable that it is a linear or branched hydrocarbon group having 3 to 8 carbon atoms.

R13, R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22 또는 R23으로서 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기의 직쇄상 또는 분기쇄상, 환상의 탄화수소기 등으로부터 선택되는 것을 들 수 있다. R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 or R 23 specifically methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group. Examples include those selected from linear or branched hydrocarbon groups such as yl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, and decyl group, and cyclic hydrocarbon groups.

R13, R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22 및 R23은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 and R 23 may be the same or different from each other.

본 발명에 따른 광학 필터 1에 있어서, R13, R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22 또는 R23의 탄소수가 2 이상인 것에 의해, 금속 알콕시드의 수분에 대한 안정성을 효과적으로 향상시킬 수 있고, 9 이하인 것에 의해, 금속 알콕시드의 점성의 증가를 억제하여, 핸들링성을 효과적으로 높일 수 있다. In the optical filter 1 according to the present invention, the carbon number of R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 or R 23 is 2 or more, The stability of the metal alkoxide to moisture can be effectively improved, and by being 9 or less, an increase in the viscosity of the metal alkoxide can be suppressed and handling properties can be effectively improved.

상기 일반식 Si(OR7)(OR8)(OR9)OH으로 표시되는 규소 화합물과 상기 일반식(VI)으로 표시되는 티탄알콕시드 Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16)를 예로 들어 설명하면, 양자의 반응은 이하와 같이 진행된다고 생각된다. A silicon compound represented by the general formula Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH and a titanium alkoxide Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR Taking 16 ) as an example, both reactions are thought to proceed as follows.

4Si(OR7)(OR8)(OR9)OH+Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) 4Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH+Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 )

→Ti{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}4+R13OH+R14OH+R15OH+R16OH →Ti{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} 4 +R 13 OH+R 14 OH+R 15 OH+R 16 OH

반응계 내에 일반식 Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16)으로 표시되는 티탄알콕시드 1몰에 대하여 일반식 Si(OR7)(OR8)(OR9)OH으로 표시되는 규소 화합물이 4몰 이상 존재하는 규소 화합물의 과잉 존재하에서 반응시킴으로써, 계 내에 존재하는 티탄알콕시드는 모두 상기 식에 따라 반응한다고 생각된다. For 1 mole of titanium alkoxide represented by the general formula Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) in the reaction system , By reacting in the excessive presence of a silicon compound in which 4 mol or more of the silicon compound exists, it is thought that all titanium alkoxides present in the system react according to the above formula.

본 발명에 따른 광학 필터 1로서는 흡수 유리 기판에 대하여 하기 일반식(III) The optical filter 1 according to the present invention has the following general formula (III) for an absorbing glass substrate:

M{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}n (III) M{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} n (III)

(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSi(OR7)(OR8)(OR9)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, M is a Ti atom, Zr atom, or Al atom, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, and n is M In the case of this Ti atom or Zr atom, it is 4, and in the case where M is an Al atom, it is 3, and the plurality of -OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물을 포함하는 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 후술하는 수지막이 마련되어 이루어지는 것을 들 수 있다. An example is one in which the resin film described later is provided through a bonding layer containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of a coupling agent containing a compound represented by .

상기 일반식(III)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 커플링제가 Ti{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}4인 경우를 예로 들어 설명하면, 상기 커플링제는 이하의 반응식에 나타내는 바와 같이 계 내에 물을 가함으로써 가수분해 반응이 진행된다. Taking the case where the coupling agent consisting of the compound represented by the general formula (III) is Ti{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} 4 as an example, the coupling agent is as shown in the reaction formula below. Likewise, the hydrolysis reaction proceeds by adding water to the system.

Ti{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}4+12H2O→Ti{OSi(OH)3}4+4R7OH+4R8OH+4R9OH Ti{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} 4 +12H 2 O→Ti{OSi(OH) 3 } 4 +4R 7 OH+4R 8 OH+4R 9 OH

상기 가수분해 반응은 예를 들면 10~40℃의 온도 조건하, 적절히 HCl 등의 촉매를 사용하여, 적량의 물의 존재하에서 행할 수 있다. The hydrolysis reaction can be performed, for example, under temperature conditions of 10 to 40°C, using a catalyst such as HCl as appropriate, and in the presence of an appropriate amount of water.

이어서 상기 일반식(III)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 커플링제의 가수분해물을 포함하는 도포액을 흡수 유리 기판에 도포하여 도포막을 형성한다. Next, a coating liquid containing a hydrolyzate of a coupling agent consisting of a compound represented by the above general formula (III) is applied to the absorbent glass substrate to form a coating film.

상기 도포액 중의 일반식(III)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 커플링제의 함유 농도는 0.1~10.0질량%인 것이 바람직하다. 또 상기 도포액의 흡수 유리 기판으로의 도포량은 0.01~0.10ml/cm2인 것이 바람직하다. It is preferable that the concentration of the coupling agent composed of a compound represented by general formula (III) in the coating liquid is 0.1 to 10.0 mass%. In addition, the amount of the coating liquid applied to the absorption glass substrate is preferably 0.01 to 0.10 ml/cm 2 .

상기 커플링제의 가수분해물을 함유하는 도포액을 도포하는 방법으로서는 침지 코팅법, 캐스트 코팅법, 스프레이 코팅법, 스핀 코팅법 등으로부터 선택되는 1종 이상의 코팅법을 들 수 있다. Methods for applying the coating solution containing the hydrolyzate of the coupling agent include one or more coating methods selected from dip coating, cast coating, spray coating, and spin coating.

그리고나서 상기 도포막 상에 후술하는 수지막 형성용 도포액을 도포하여 흡수 수지 도포막을 형성한 후, 적절히 가열함으로써, 커플링제의 가수분해물의 탈수축합물로서 [-Ti(OSiO3)3-]n(단, n은 정의 정수이다.)으로 표시되는 반응물을 얻을 수 있다. Then, the coating liquid for forming a resin film described later is applied on the coating film to form an absorbent resin coating film, and then appropriately heated to form [-Ti(OSiO 3 ) 3 -] as a dehydration condensate of the hydrolyzate of the coupling agent. A reactant expressed as n (however, n is a positive integer) can be obtained.

상기 탈수축합물은 커플링제끼리와 함께, 커플링제와 흡수 유리 내지는 수지막과 강고하게 결합한다고 생각되며, 이 때문에 본 발명에 의하면 인산염계 유리 또는 불인산염 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 수지막을 마련한 광학 필터 1을 용이하게 제공할 수 있다. It is believed that the dehydration condensate, together with the coupling agents, bonds strongly to the coupling agent and the absorption glass or the resin film, and for this reason, according to the present invention, it exhibits high adhesion to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate glass. It is possible to easily provide optical filter 1 provided with a resin film.

본 발명의 광학 필터 1은 접합층이 추가로 실란올의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 것이어도 된다. In the optical filter 1 of the present invention, the bonding layer may further contain a hydrolyzed and dehydrated condensate of silanol.

즉, 실란올 Si(OH)4는 적절히 가열함으로써 이하의 반응식에 나타내는 바와 같이 탈수축합물 (Si-O-Si)2를 발생시킨다. That is, silanol Si(OH) 4 generates dehydration condensate (Si-O-Si) 2 as shown in the following reaction equation by appropriately heating.

Si(OH)4→(Si-O-Si)2+2H2O Si(OH) 4 →(Si-O-Si) 2 +2H 2 O

본 발명자들의 검토에 의하면, 상기 실란올의 탈수축합물만으로는 특히 수분 공존화에 있어서 흡수 유리 기판이나 수지막에 대한 밀착성이 부족하기 쉽지만, 상기 일반식(I) 또는 일반식(III)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 커플링제의 가수분해물을 탈수축합하여 얻어지는 탈수축합물과 병용함으로써, 상호 보완하여 상기 밀착성이 향상된다고 생각된다. According to the present inventors' examination, the dehydration condensate of the silanol alone tends to lack adhesion to the absorption glass substrate or the resin film, especially in the coexistence of moisture, but the product represented by the general formula (I) or (III) It is believed that by using the hydrolyzate of the coupling agent made of the compound together with the dehydration condensation product obtained by dehydration condensation, the above-mentioned adhesion is improved by complementing each other.

상기 실란올은 상기 일반식(I) 또는 일반식(III)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 커플링제의 가수분해물을 포함하는 도포액 중에 첨가한 다음, 관련되는 도포액을 흡수 유리 기판에 도포하여 도포막을 형성하고, 이어서 적절히 상기 가열 처리를 가함으로써, 커플링제의 가수분해물의 탈수축합물 [-Ti(OSiO3)3-]n(단, n은 정의 정수이다.)과 함께 실란올의 탈수축합물을 생성할 수 있다. The silanol is added to a coating liquid containing a hydrolyzate of a coupling agent consisting of a compound represented by the general formula (I) or (III), and then the related coating liquid is applied to an absorbent glass substrate to form a coating film. is formed, and then appropriately subjected to the heat treatment, thereby forming a dehydration condensation product of silanol together with [-Ti(OSiO 3 ) 3 -] n (where n is a positive integer) of the hydrolyzate of the coupling agent. can be created.

본 발명의 광학 필터 1은 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(V) The optical filter 1 of the present invention has the following general formula (V) on an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass:

Si(OR7)(OR8)(OR9)OH (V) Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH (V)

(단, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 규소 화합물 50몰% 이상 100몰% 미만과, 하기 일반식(VI) 50 mol% or more but less than 100 mol% of a silicon compound represented by the following general formula (VI)

Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) (VI) Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) (VI)

(단, R13, R14, R15 및 R16은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.), 하기 일반식(VII) (However, R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.), general formula (VII)

Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20) (VII) Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )(OR 20 ) (VII)

(단, R17, R18, R19 및 R20은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) 및 하기 일반식(VIII) (However, R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.) and the following general formula (VIII)

Al(OR21)(OR22)(OR23) (VIII) Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ) (VIII)

(단, R21, R22 및 R23은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 21 , R 22 and R 23 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상 0몰% 초과 50몰% 이하와의 반응물을 포함하는 커플링제 조성물의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 것인 것이 바람직하다. A resin film is provided through a bonding layer containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of a coupling agent composition containing a reactant with more than 0 mol% and up to 50 mol% of one or more types of metal alkoxides represented by It is desirable.

상기 금속 알콕시드가 50몰% 이하인 것에 의해, 얻어지는 커플링제의 도포성을 효과적으로 향상시킬 수 있다. When the amount of the metal alkoxide is 50 mol% or less, the applicability of the resulting coupling agent can be effectively improved.

본 발명에 따른 광학 필터 1에 있어서, 커플링제 조성물은 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 50몰% 이상 100몰% 미만과 상기 일반식(VI), 일반식(VII) 및 일반식(VIII)으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상 0몰% 초과 50몰% 이하와의 반응 조성물인 것이 바람직하고, 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 80몰% 초과 100몰% 미만과 상기 일반식(VI), 일반식(VII) 및 일반식(VIII)으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상 0몰% 초과 20몰% 미만과의 반응 조성물인 것이 보다 바람직하며, 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 85~94몰%와 일반식(VI), 일반식(VII) 및 일반식(VIII)으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상 6~15몰%와의 반응 조성물인 것이 더욱 바람직하다. In the optical filter 1 according to the present invention, the coupling agent composition contains 50 mol% to less than 100 mol% of the silicon compound represented by the general formula (V) and the general formula (VI), general formula (VII), and general formula ( It is preferable that it is a reaction composition with more than 0 mol% but not more than 50 mol% of at least one type selected from the metal alkoxides represented by VIII), and more than 80 mol% and less than 100 mol% of the silicon compound represented by the general formula (V). It is more preferable that it is a reaction composition of more than 0 mol% but less than 20 mol% of at least one metal alkoxide selected from the above general formula (VI), general formula (VII) and general formula (VIII). 85 to 94 mol% of a silicon compound represented by general formula (V) and 6 to 15 mol% of one or more metal alkoxides represented by general formula (VI), general formula (VII) and general formula (VIII) It is more preferable that it is a reaction composition with .

상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물과 상기 일반식(VI), 일반식(VII) 및 일반식(VIII)으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상과의 반응 비율이 상기 범위 내에 있는 것에 의해, 균질함과 아울러, 매끄러우며 벗겨짐이 발생하기 어려운 막을 용이하게 형성할 수 있다. The reaction rate between the silicon compound represented by the general formula (V) and one or more metal alkoxides selected from the general formula (VI), general formula (VII), and general formula (VIII) is within the above range. As a result, it is possible to easily form a film that is not only homogeneous but also smooth and unlikely to peel off.

상기 흡수 유리 기판이나, 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물이나, 일반식(VI), 일반식(VII) 및 일반식(VIII)으로 표시되는 금속 알콕시드 등의 상세는 상기 서술한 바와 같다. Details of the absorption glass substrate, the silicon compound represented by formula (V), the metal alkoxide represented by formula (VI), formula (VII), and formula (VIII) are as described above. .

본 발명에 따른 광학 필터 1에 있어서, 커플링제 조성물이 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물과 일반식(VI), 일반식(VII) 및 일반식(VIII)으로 표시되는 금속 알콕시드를 상기 비율로 반응시킨 반응물인 것에 의해, 상기 커플링제 조성물을 포함하는 균일한 도포 용액을 용이하게 조제할 수 있고, 균일한 막 형성을 용이하게 행할 수 있다. In the optical filter 1 according to the present invention, the coupling agent composition includes a silicon compound represented by general formula (V) and a metal alkoxide represented by general formula (VI), general formula (VII), and general formula (VIII). By being a reactant reacted in proportion, a uniform application solution containing the above-mentioned coupling agent composition can be easily prepared, and a uniform film can be easily formed.

상기 서술한 바와 같이, 상기 일반식(V) Si(OR7)(OR8)(OR9)OH으로 표시되는 규소 화합물과 상기 일반식(VI)으로 표시되는 티탄알콕시드 Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16)을 예로 들면, 양자의 반응은 이하와 같이 진행된다. As described above, the silicon compound represented by the general formula (V) Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH and the titanium alkoxide Ti(OR 13 ) represented by the general formula (VI) ( Taking OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) as an example, both reactions proceed as follows.

4Si(OR7)(OR8)(OR9)OH+Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) 4Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH+Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 )

→Ti{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}4+R13OH+R14OH+R15OH+R16OH →Ti{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} 4 +R 13 OH+R 14 OH+R 15 OH+R 16 OH

상기 티탄알콕시드 1몰에 대하여 규소 화합물이 4몰 이상 존재하는 규소 화합물의 과잉 존재하에서 반응시킨 경우, 계 내에 존재하는 상기 티탄알콕시드는 모두 상기 식에 따라 반응한다고 생각되는 것에 대해, 상기 티탄알콕시드 1몰에 대하여 상기 규소 화합물이 4몰 미만이 되면, 생성되는 티탄 화합물 중에 알콕시기(OR13기, OR14기, OR15기, OR16기)가 잔존해버리고, 이와 같은 알콕시기가 잔존하는 티탄 화합물이 다수 존재하면, 도포 용액 중에서 티탄 화합물이 침전해버려, 균일한 막 형성을 행하기 어려워진다. 이 때문에, 이론량보다 규소 화합물이 과잉 존재하에서 반응시킨 커플링 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. When reacted in the presence of an excess of a silicon compound in which 4 mol or more of the silicon compound exists relative to 1 mol of the titanium alkoxide, it is believed that all of the titanium alkoxides present in the system react according to the above formula, so that the titanium alkoxide When the amount of the silicon compound per mole is less than 4 moles, alkoxy groups (OR 13 groups, OR 14 groups, OR 15 groups, OR 16 groups) remain in the titanium compound produced, and titanium with such alkoxy groups remains. If a large number of compounds are present, the titanium compound will precipitate in the coating solution, making it difficult to form a uniform film. For this reason, it is preferable to use a coupling composition reacted in the presence of a silicon compound in excess of the theoretical amount.

상기 서술한 바와 같이, 상기 반응에서 생성된 Ti{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}4는 적절히 HCl 등의 무기산으로 이루어지는 촉매의 존재하에서 가수분해함으로써 하기 반응식에 의한 가수분해 반응을 발생시킨다. As described above, Ti{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} 4 produced in the above reaction is appropriately hydrolyzed in the presence of a catalyst consisting of an inorganic acid such as HCl, thereby carrying out a hydrolysis reaction according to the following reaction formula. generates

Ti{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}4+12H2O→Ti{OSi(OH)3}4+4R7OH+4R8OH+4R9OH Ti{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} 4 +12H 2 O→Ti{OSi(OH) 3 } 4 +4R 7 OH+4R 8 OH+4R 9 OH

또 이 때 계 내에 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물이 과잉량 존재하면, 하기 반응식에 따라 가수분해를 발생시키고 실란올 Si(OH)4를 생성한다. Also, at this time, if an excessive amount of the silicon compound represented by general formula (V) is present in the system, hydrolysis occurs according to the following reaction equation and silanol Si(OH) 4 is generated.

Si(OR7)(OR8)(OR9)OH+3H2O→Si(OH)4+R7OH+R8OH+R9OH Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH+3H 2 O→Si(OH) 4 +R 7 OH+R 8 OH+R 9 OH

상기 서술한 바와 같이, 상기 가수분해물 Ti{OSi(OH)3}4는 적절히 가열 처리를 시행함으로써, 가수분해물의 탈수축합물로서 [-Ti(OSiO3)3-]n(단, n은 정의 정수이다.)으로 표시되는 반응물을 얻을 수 있다. As described above, the hydrolyzate Ti{OSi(OH) 3 } 4 is obtained as a dehydration condensation product of the hydrolyzate by appropriately heat-treating [-Ti(OSiO 3 ) 3 -] n (where n is defined) It is an integer.) You can obtain a reactant expressed as

또 상기 서술한 바와 같이, 상기 가수분해에 의해 발생한 실란올 Si(OH)4도 적절히 가열 처리를 시행함으로써 하기 반응식에 나타내는 탈수축합 반응을 발생시켜 탈수축합물 (Si-O-Si)2를 발생시킨다. In addition, as described above, the silanol Si(OH) 4 generated by the above hydrolysis is also subjected to appropriate heat treatment to generate a dehydration condensation reaction shown in the following reaction equation to generate a dehydration condensation product (Si-O-Si) 2 I order it.

Si(OH)4→(Si-O-Si)2+2H2O Si(OH) 4 →(Si-O-Si) 2 +2H 2 O

상기 실란올의 탈수축합물만으로는 특히 수분 공존화에 있어서 흡수 유리 기판이나 수지막에 대한 밀착성이 부족하기 쉽지만, 상기 커플링제의 가수분해물 Ti{OSi(OH)3}4의 탈수축합물과 병용함으로써, 상호 보완하여 흡수 유리 기판 등과의 밀착성이 향상된다고 생각된다. The dehydration condensation product of the silanol alone tends to lack adhesion to the absorption glass substrate or the resin film, especially in the coexistence of moisture, but by using it in combination with the dehydration condensation product of the hydrolyzate Ti{OSi(OH) 3 } 4 of the coupling agent. , it is thought that adhesion to the absorption glass substrate, etc. is improved by complementing each other.

상기 커플링제 조성물은 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물과 상기 일반식(VI), 일반식(VII) 또는 일반식(VIII)으로 표시되는 금속 알콕시드와의 반응 생성물 이외에, 추가로 반응 촉매, pH 조정제, 레벨링제, 소포제 등의 임의 성분을 함유하고 있어도 된다. In addition to the reaction product between the silicon compound represented by the general formula (V) and the metal alkoxide represented by the general formula (VI), general formula (VII), or general formula (VIII), the coupling agent composition further reacts. It may contain optional components such as a catalyst, pH adjuster, leveling agent, and anti-foaming agent.

본 발명의 광학 필터 1에 있어서, 하기 일반식(II) In the optical filter 1 of the present invention, the following general formula (II)

(TikOk - 1)(OSiR4R5R6)2k +2 (II) (Ti k O k - 1 )(OSiR 4 R 5 R 6 ) 2k +2 (II)

(단, R4, R5 및 R6은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSiR4R5R6기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 4 , R 5 and R 6 are linear or branched hydrocarbon groups with 1 to 10 carbon atoms that may contain oxygen or nitrogen atoms, and may be the same or different from each other, and k is 2 or more and 15 or less. is a real number, and a plurality of -OSiR 4 R 5 R 6 groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물은 상기 서술한 일반식(I)으로 표시되는 것과 상이하며, Ti 원자를 2원자 이상 포함하는 다량체 구조(-Ti-O-Ti-)를 분자 내에 가지는 것이다. The compound represented by is different from that represented by the general formula (I) described above, and has a multimer structure (-Ti-O-Ti-) containing two or more Ti atoms in the molecule.

일반식(II)으로 표시되는 화합물에 있어서, R4, R5 및 R6은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기이며, 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~4의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기인 것이 바람직하고, 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~3의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다. In the compound represented by general formula (II), R 4 , R 5 and R 6 are straight-chain or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms which may include an oxygen atom or a nitrogen atom. It is preferable that it is a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, which may contain an oxygen atom or a nitrogen atom, and more preferably a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, which may contain an oxygen atom or a nitrogen atom.

R4, R5 및 R6으로서 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기의 직쇄상, 분기쇄상 또는 환상의 탄화수소기 등이나, -C3H6(COO)CHCH2, -CH2(COO)CHCH2, -C2H4(COO)CHCH2, -C4H8(COO)CHCH2, -C5H10(COO)CHCH2, -C6H12(COO)CHCH2, -C7H14(COO)CHCH2, -C8H16(COO)CHCH2, -C9H18(COO)CHCH2, -C10H20(COO)CHCH2 등의 직쇄상, 분기쇄상 또는 환상의 탄화수소기 등으로부터 선택되는 것을 들 수 있다. R 4 , R 5 and R 6 are specifically linear, branched or cyclic hydrocarbon groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl and decyl. Etc., -C 3 H 6 (COO)CHCH 2 , -CH 2 (COO)CHCH 2 , -C 2 H 4 (COO)CHCH 2 , -C 4 H 8 (COO)CHCH 2 , -C 5 H 10 (COO)CHCH 2 , -C 6 H 12 (COO)CHCH 2 , -C 7 H 14 (COO)CHCH 2 , -C 8 H 16 (COO)CHCH 2 , -C 9 H 18 (COO)CHCH 2 , -C 10 H 20 (COO) CHCH 2 and the like may be selected from linear, branched or cyclic hydrocarbon groups.

일반식(II)으로 표시되는 화합물에 있어서, R4, R5 및 R6의 탄소수가 상기 범위 내에 있는 것에 의해, 규소 화합물과 금속 알콕시드와의 적합한 반응 속도를 유지하기 쉬워지고, 보다 균질한 커플링제를 조제하기 쉬워진다. In the compound represented by general formula (II), when the carbon numbers of R 4 , R 5 and R 6 are within the above range, it becomes easier to maintain an appropriate reaction rate between the silicon compound and the metal alkoxide, and a more homogeneous reaction is achieved. It becomes easier to prepare the coupling agent.

또 일반식(II)으로 표시되는 화합물에 있어서, 규소 원자에 결합하는 R4, R5 및 R6으로 표시되는 관능기는 수지막과 접합층과의 접합성에 영향을 줄 수 있다. 그 때문에 접합층 상에 마련하는 수지막에 따라 적절한 R4, R5 및 R6기를 선택함으로써, 수지막과 접합층과의 접합성을 조정할 수 있다. In addition, in the compound represented by general formula (II), the functional groups represented by R 4 , R 5 and R 6 bonded to the silicon atom may affect the bonding properties between the resin film and the bonding layer. Therefore, the bonding property between the resin film and the bonding layer can be adjusted by selecting appropriate R 4 , R 5 and R 6 groups depending on the resin film provided on the bonding layer.

일반식(II)으로 표시되는 화합물에 있어서, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 4 이상 10 이하의 실수인 것이 보다 바람직하고, 특히 4, 7 또는 10인 것이 바람직하다. In the compound represented by general formula (II), k is a real number of 2 to 15, more preferably a real number of 4 to 10, and especially preferably 4, 7, or 10.

일반식(II)으로 표시되는 화합물에 있어서, k가 상기 범위 내에 있는 것에 의해, 인산염계 유리 또는 불인산염 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 수지막을 용이하게 마련할 수 있다. In the compound represented by general formula (II), when k is within the above range, a resin film having high adhesion to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate glass can be easily prepared.

일반식(II)으로 표시되는 화합물에 있어서, R4, R5 및 R6은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. In the compound represented by general formula (II), R 4 , R 5 and R 6 may be the same or different from each other.

또 복수의 -OSiR4R5R6기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. Moreover, a plurality of -OSiR 4 R 5 R 6 groups may be the same or different from each other.

본 발명의 광학 필터 1에 있어서, 일반식(II)으로 표시되는 화합물로서는 하기 일반식(IV) In optical filter 1 of the present invention, the compound represented by general formula (II) is the following general formula (IV)

(TikOk - 1){OSi(OR10)(OR11)(OR12)}2k+2 (IV) (Ti k O k - 1 ){OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 2k+2 (IV)

(단, R10, R11 및 R12는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 10 , R 11 and R 12 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, k is a real number from 2 to 15, and a plurality of -OSi ( OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물을 들 수 있다. Compounds represented by are included.

일반식(IV)으로 표시되는 화합물을 구성하는 R10, R11 및 R12는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기이며, 탄소수 1~4의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~3의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다. R 10 , R 11 and R 12 , which constitute the compound represented by general formula (IV), are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 4 carbon atoms. It is preferable, and it is more preferable that it is a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms.

R10, R11 및 R12로서 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기의 직쇄상 또는 분기쇄상, 환상의 탄화수소기 등으로부터 선택되는 것을 들 수 있다. R 10 , R 11 and R 12 specifically represent straight or branched or cyclic hydrocarbon groups of methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, and decyl groups. and those selected from the like.

R10, R11 및 R12는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. R 10 , R 11 and R 12 may be the same or different from each other.

일반식(IV)으로 표시되는 화합물에 있어서, R10, R11 및 R12의 탄소수가 상기 범위 내에 있는 것에 의해, 규소 화합물과 금속 알콕시드와의 적합한 반응 속도를 유지하기 쉬워지고, 보다 균질한 커플링제를 조제하기 쉬워진다. In the compound represented by general formula (IV), when the carbon numbers of R 10 , R 11 and R 12 are within the above range, it becomes easier to maintain an appropriate reaction rate between the silicon compound and the metal alkoxide, and a more homogeneous reaction is achieved. It becomes easier to prepare the coupling agent.

일반식(IV)으로 표시되는 화합물에 있어서, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 4 이상 10 이하의 실수인 것이 보다 바람직하고, 특히 4, 7 또는 10인 것이 바람직하다. In the compound represented by general formula (IV), k is a real number of 2 to 15, more preferably a real number of 4 to 10, and especially preferably 4, 7, or 10.

또 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. Additionally, the plurality of -OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.

일반식(IV)으로 표시되는 화합물에 있어서, k가 상기 범위 내에 있는 것에 의해, 인산염계 유리 또는 불인산염 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 수지막을 용이하게 마련할 수 있다. In the compound represented by general formula (IV), when k is within the above range, a resin film having high adhesion to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate glass can be easily prepared.

일반식(IV)으로 표시되는 화합물에 있어서, k가 2인 경우는 하기 구조식에 의해 나타낼 수 있다. In the compound represented by general formula (IV), when k is 2, it can be represented by the following structural formula.

(단, 복수의 R10, R11 및 R12는 각각 동일해도 되고 상이해도 되며, 또 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, the plurality of R 10 , R 11 and R 12 may be the same or different, and the plurality of -OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.)

일반식(IV)으로 표시되는 화합물에 있어서, k가 3인 경우는 하기 구조식에 의해 나타낼 수 있다. In the compound represented by general formula (IV), when k is 3, it can be represented by the following structural formula.

(단, 복수의 R10, R11 및 R12는 각각 동일해도 되고 상이해도 되며, 또 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, the plurality of R 10 , R 11 and R 12 may be the same or different, and the plurality of -OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.)

상기 일반식(IV)으로 표시되는 커플링제는 하기 일반식(IX) The coupling agent represented by the general formula (IV) is the general formula (IX) below:

Si(OR10)(OR11)(OR12)OH (IX) Si(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )OH (IX)

(단, R10, R11 및 R12는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 10 , R 11 and R 12 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 규소 화합물과, 하기 식 A silicon compound represented by and the following formula

Ti(OH)4 Ti(OH) 4

으로 표시되는 테트라히드록시티탄과의 반응물로 이루어지는 것인 것이 바람직하다. It is preferable that it consists of a reactant with tetrahydroxy titanium represented by .

상기 일반식(IX)으로 표시되는 규소 화합물에 있어서, 상기 R10, R11 및 R12의 탄소수나 구체예는 상기 서술한 바와 같으며, R10, R11 및 R12는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. In the silicon compound represented by the general formula (IX), the carbon number and specific examples of R 10 , R 11 and R 12 are as described above, and R 10 , R 11 and R 12 may be the same or different from each other. You can do it.

상기 일반식(IX) Si(OR10)(OR11)(OR12)OH으로 표시되는 규소 화합물과 상기 식 Ti(OH)4으로 표시되는 테트라히드록시티탄과의 반응은 예를 들면 이하와 같이 진행된다고 생각된다. The reaction between the silicon compound represented by the general formula (IX) Si(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )OH and tetrahydroxytitanium represented by the formula Ti(OH) 4 is, for example, as follows. I think it's progressing.

6Si(OR10)(OR11)(OR12)OH+2Ti(OH)4 6Si(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )OH+2Ti(OH) 4

→Ti2O{OSi(OR10)(OR11)(OR12)}6+4H2O →Ti 2 O{OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 6 +4H 2 O

상기 반응에 의해 얻어지는 일반식 Ti2O{OSi(OR10)(OR11)(OR12)}6으로 표시되는 화합물은 상기 일반식(IV)으로 표시되는 화합물에 있어서 k가 2인 경우에 상당한다. The compound represented by the general formula Ti 2 O{OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 6 obtained by the above reaction corresponds to the case where k is 2 in the compound represented by the above general formula (IV) do.

반응계 내에 테트라히드록시티탄(Ti(OH)4) 2몰에 대하여 일반식 Si(OR10)(OR11)(OR12)OH으로 표시되는 규소 화합물이 6몰 이상 존재하는 규소 화합물의 과잉 존재하에서 반응시킴으로써, 계 내에 존재하는 테트라히드록시티탄은 모두 상기 식에 따라 반응한다고 생각된다. In the presence of an excess of a silicon compound in which more than 6 moles of a silicon compound represented by the general formula Si(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )OH exist in the reaction system relative to 2 moles of tetrahydroxytitanium (Ti(OH) 4 ) By reacting, it is believed that all tetrahydroxytitanium existing in the system reacts according to the above formula.

본 발명에 따른 광학 필터 1로서는 흡수 유리 기판에 대하여 하기 일반식(IV) As optical filter 1 according to the present invention, the absorption glass substrate has the following general formula (IV)

(TikOk - 1){OSi(OR10)(OR11)(OR12)}2k+2 (IV) (Ti k O k - 1 ){OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 2k+2 (IV)

(단, R10, R11 및 R12는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 10 , R 11 and R 12 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, k is a real number from 2 to 15, and a plurality of -OSi ( OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 후술하는 수지막이 마련되어 이루어지는 것이 바람직하다. It is preferable that the resin film described later is provided through a bonding layer containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by .

상기 일반식(IV)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 커플링제가 Ti2O{OSi(OR10)(OR11)(OR12)}6인 경우(상기 일반식(IV)으로 표시되는 화합물에 있어서, k가 2인 경우)를 예로 들어 설명하면, 상기 커플링제는 이하의 반응식에 나타내는 바와 같이 계 내에 물을 가함으로써 가수분해 반응이 진행된다. When the coupling agent consisting of the compound represented by the general formula (IV) is Ti 2 O{OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 6 (in the compound represented by the general formula (IV) above, Taking the case where k is 2) as an example, the hydrolysis reaction of the coupling agent proceeds by adding water to the system as shown in the reaction equation below.

Ti2O{OSi(OR10)(OR11)(OR12)}6+18H2O→ Ti 2 O{OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 6 +18H 2 O→

Ti2O{OSi(OH)3}6+6R10OH+6R11OH+6R12OH Ti 2 O{OSi(OH) 3 } 6 +6R 10 OH+6R 11 OH+6R 12 OH

상기 가수분해 반응은 예를 들면 10~40℃의 온도 조건하, 적절히 HCl 등의 촉매를 사용하여, 적량의 물의 존재하에서 행할 수 있다. The hydrolysis reaction can be performed, for example, under temperature conditions of 10 to 40°C, using a catalyst such as HCl as appropriate, and in the presence of an appropriate amount of water.

이어서 상기 일반식(IV)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 커플링제의 가수분해물을 포함하는 도포액을 흡수 유리 기판에 도포하여 도포막을 형성한다. Next, a coating liquid containing a hydrolyzate of a coupling agent consisting of a compound represented by the above general formula (IV) is applied to the absorbent glass substrate to form a coating film.

상기 도포액 중의 일반식(IV)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 커플링제의 함유 농도는 0.5~20질량%인 것이 바람직하다. 또 상기 도포액의 흡수 유리 기판으로의 도포량은 0.005~0.5ml/cm2인 것이 바람직하다. It is preferable that the concentration of the coupling agent composed of a compound represented by general formula (IV) in the coating liquid is 0.5 to 20 mass%. In addition, the amount of the coating liquid applied to the absorption glass substrate is preferably 0.005 to 0.5 ml/cm 2 .

상기 커플링제의 가수분해물을 함유하는 도포액을 도포하는 방법으로서는 침지 코팅법, 캐스트 코팅법, 스프레이 코팅법, 스핀 코팅법 등으로부터 선택되는 1종 이상의 코팅법을 들 수 있다. Methods for applying the coating solution containing the hydrolyzate of the coupling agent include one or more coating methods selected from dip coating, cast coating, spray coating, and spin coating.

그리고나서 상기 도포막 상에 후술하는 수지막 형성용 도포액을 도포하여 흡수 수지 도포막을 형성한 후, 적절히 가열함으로써, 가수분해물의 탈수축합물로서 [-(TiO3)2(SiO3)5-]m(단, m은 정의 정수이다.)으로 표시되는 반응물을 얻을 수 있다. Then, the coating liquid for forming a resin film, which will be described later, is applied on the coating film to form an absorbent resin coating film, and then appropriately heated to produce [-(TiO 3 ) 2 (SiO 3 ) 5 - as a dehydration condensate of the hydrolyzate. ] A reactant expressed as m (however, m is a positive integer) can be obtained.

상기 탈수축합물은 커플링제끼리와 함께, 커플링제와 흡수 유리 내지는 수지막과 강고하게 결합한다고 생각되며, 이 때문에 본 발명에 의하면, 인산염계 유리 또는 불인산염 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 수지막을 마련한 광학 필터 1을 용이하게 제공할 수 있다. It is believed that the dehydration condensate, together with the coupling agents, bonds strongly to the coupling agent and the absorption glass or the resin film, and for this reason, according to the present invention, it has high adhesion to the absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate glass. Optical filter 1 provided with a resin film having can be easily provided.

본 발명의 광학 필터 1에 있어서는 상기 서술한 바와 같이 상기 접합층이 추가로 실란올의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 것이어도 된다. In the optical filter 1 of the present invention, as described above, the bonding layer may further contain a hydrolyzed and dehydrated condensate of silanol.

즉, 실란올 Si(OH)4는 적절히 가열함으로써, 이하의 반응식에 나타내는 바와 같이 탈수축합물 (Si-O-Si)2를 발생시킨다. That is, when silanol Si(OH) 4 is appropriately heated, dehydration condensation product (Si-O-Si) 2 is generated as shown in the reaction formula below.

Si(OH)4→(Si-O-Si)2+2H2O Si(OH) 4 →(Si-O-Si) 2 +2H 2 O

본 발명자들의 검토에 의하면, 상기 실란올의 탈수축합물만으로는 특히 수분 공존화에 있어서 흡수 유리 기판이나 수지막에 대한 밀착성이 부족하기 쉽지만, 상기 일반식(II) 또는 일반식(IV)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 커플링제의 가수분해물을 탈수축합하여 얻어지는 탈수축합물과 병용함으로써, 상호 보완하여 상기 밀착성이 향상된다고 생각된다. According to the present inventors' examination, the dehydration condensation product of the silanol alone tends to lack adhesion to the absorption glass substrate or the resin film, especially in the coexistence of moisture, but the product represented by the general formula (II) or (IV) It is believed that by using the hydrolyzate of the coupling agent made of the compound together with the dehydration condensation product obtained by dehydration condensation, the above-mentioned adhesion is improved by complementing each other.

상기 실란올은 상기 일반식(II) 또는 일반식(IV)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 커플링제의 가수분해물을 포함하는 도포액 중에 첨가한 다음, 관련되는 도포액을 흡수 유리 기판에 도포하여 도포막을 형성하고, 이어서 적절히 상기 가열 처리를 가함으로써, 커플링제의 가수분해물의 탈수축합물과 함께 실란올의 탈수축합물을 생성할 수 있다. The silanol is added to a coating liquid containing a hydrolyzate of a coupling agent consisting of a compound represented by the general formula (II) or (IV), and then the related coating liquid is applied to an absorbent glass substrate to form a coating film. By forming and then appropriately applying the heat treatment, a dehydration-condensation product of silanol can be produced along with a dehydration-condensation product of the hydrolyzate of the coupling agent.

이어서 본 발명의 광학 필터 2에 대해서 설명한다. Next, optical filter 2 of the present invention will be described.

본 발명의 광학 필터 2는 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판; 및 수지막을 포함하며, 수지막은 Si 원자와 함께 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하고, 수지막이 흡수 유리 기판 상에 제공되는 것을 특징으로 하는 것이며, 그 구체적 태양으로서는 본 발명의 광학 필터 2-1 또는 본 발명의 광학 필터 2-2를 들 수 있다. The optical filter 2 of the present invention includes an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass; and a resin film, wherein the resin film contains Si atoms and at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms, and the resin film is provided on the absorption glass substrate. Specific embodiments thereof include: Optical Filter 2-1 of the present invention or Optical Filter 2-2 of the present invention may be mentioned.

본 발명의 광학 필터 2-1은 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(I) The optical filter 2-1 of the present invention has the following general formula (I) on an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass:

M(OSiR1R2R3)n (I) M(OSiR 1 R 2 R 3 ) n (I)

(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R1, R2 및 R3은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSiR1R2R3기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, M is a Ti atom, a Zr atom, or an Al atom, and R 1 , R 2 and R 3 are linear or branched hydrocarbon groups of 1 to 10 carbon atoms that may contain an oxygen atom or a nitrogen atom, and are the same as each other. It may be different or different, and n is 4 when M is a Ti atom or Zr atom and 3 when M is an Al atom, and the plurality of -OSiR 1 R 2 R 3 groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(II) Compounds represented by and the following general formula (II)

(TikOk - 1)(OSiR4R5R6)2k +2 (II) (Ti k O k - 1 )(OSiR 4 R 5 R 6 ) 2k +2 (II)

(단, R4, R5 및 R6은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSiR4R5R6기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 4 , R 5 and R 6 are linear or branched hydrocarbon groups with 1 to 10 carbon atoms that may contain oxygen or nitrogen atoms, and may be the same or different from each other, and k is 2 or more and 15 or less. is a real number, and a plurality of -OSiR 4 R 5 R 6 groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 수지막이 마련되어 이루어지는 것이다. A resin film containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of one or more coupling agents selected from the compounds represented by is provided.

또 본 발명의 광학 필터 2-2는 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(III) In addition, the optical filter 2-2 of the present invention has the following general formula (III) for an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass.

M{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}n (III) M{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} n (III)

(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSi(OR7)(OR8)(OR9)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, M is a Ti atom, Zr atom, or Al atom, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, and n is M In the case of this Ti atom or Zr atom, it is 4, and in the case where M is an Al atom, it is 3, and the plurality of -OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(IV) Compounds represented by and the following general formula (IV)

(TikOk - 1){OSi(OR10)(OR11)(OR12)}2k+2 (IV) (Ti k O k - 1 ){OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 2k+2 (IV)

(단, R10, R11 및 R12는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (However, R 10 , R 11 and R 12 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, k is a real number from 2 to 15, and a plurality of -OSi ( OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.)

으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 함유하는 수지막이 마련되어 이루어지는 것이다. This is achieved by providing a resin film containing the hydrolysis and dehydration condensation product of one or more coupling agents selected from the compounds represented by.

본 발명의 광학 필터 2는 상기 본 발명의 광학 필터 1과의 관계에서는 접합층의 구성 성분(예를 들면, 커플링제 또는 커플링제 조성물의 가수분해, 탈수축합물)을 후술하는 수지막 내에 포함하는 점에 있어서 상기 광학 필터 1과 상이하지만, 그 밖의 점에 있어서 공통된다. 이 때문에 공통되는 사항에 대한 설명의 상세는 상기 서술한 바와 같다. In relation to the optical filter 1 of the present invention, the optical filter 2 of the present invention includes the components of the bonding layer (for example, a coupling agent or a hydrolyzed, dehydrated condensate of the coupling agent composition) in a resin film described later. Although it is different from the optical filter 1 above in some respects, it is common in other respects. For this reason, the details of the explanation of common matters are as described above.

또 본 발명의 광학 필터 2를 구성하는 수지막에 있어서, Si 원자, Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 총 수(총 원자수)에 차지하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율 α(원자%)도 0원자% 초과 33.3원자% 이하인 것이 바람직하고, 9~33.3원자%인 것이 보다 바람직하며, 12~33.3원자%인 것이 더욱 바람직하다. In addition, in the resin film constituting the optical filter 2 of the present invention, the ratio of the total number of atoms of Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms to the total number of Si atoms, Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms (total number of atoms) α (atomic %) is also preferably greater than 0 atomic % and less than or equal to 33.3 atomic %, more preferably 9 to 33.3 atomic %, and even more preferably 12 to 33.3 atomic %.

또한 본 출원 서류에 있어서, 상기 수지막을 구성하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율 α(원자%)도 상기 서술한 접합층을 구성하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율 α(원자%)와 마찬가지의 측정 조건에 의해 광학 필터의 STEM-EDX 측정을 행함으로써 산출한 값을 의미한다. In addition, in this application document, the ratio α (atomic %) of the total number of atoms of Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms constituting the resin film is also the total number of Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms constituting the above-described bonding layer. It means a value calculated by performing a STEM-EDX measurement of an optical filter under the same measurement conditions as the atomic ratio α (atomic %).

본 발명의 광학 필터 2의 제조 방법으로서는 예를 들면 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 상기 커플링제 조성물의 가수분해물을 함유하는(후술한다) 수지막 형성액을 도포하여 도포막을 형성하고, 그 다음에 적절히 가열 처리 등을 하여 탈수축합 반응을 시행하는 방법을 들 수 있다. 본 제조 방법에 의해, 상기 커플링제가 커플링제끼리가 강고하게 결합하거나 또는 커플링제의 가수분해, 탈수축합물 및 흡수 유리 기판이 강고하게 결합하여 원하는 광학 필터를 형성할 수 있다. As a method for manufacturing the optical filter 2 of the present invention, for example, a resin film forming liquid containing a hydrolyzate of the coupling agent composition (described later) is applied to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass. A method of forming a coating film, followed by appropriate heat treatment, etc. to perform a dehydration condensation reaction is an example. By this manufacturing method, the coupling agent can be strongly bonded to each other or the hydrolysis and dehydration condensation product of the coupling agent and the absorbing glass substrate can be strongly bonded to form a desired optical filter.

[수지막] [Resin film]

본 발명에 따른 광학 필터에 있어서, 수지막으로서는 예를 들면 자외광 또는 근적외광을 흡수하는 흡수 수지막, 반사 방지막, 반사 증폭막, 유리의 흐릿해짐을 막기 위한 보호막, 유리의 강도를 향상시키기 위한 강화막, 발수막 등을 들 수 있다. In the optical filter according to the present invention, the resin film includes, for example, an absorption resin film that absorbs ultraviolet light or near-infrared light, an anti-reflection film, a reflection amplification film, a protective film to prevent glass from blurring, and a film to improve the strength of glass. Reinforced membranes, water-repellent membranes, etc. may be mentioned.

자외광 또는 근적외광을 흡수하는 흡수 수지막으로서는 근적외 흡수 색소 및 투명 수지를 포함하는 것을 들 수 있고, 투명 수지 중에 근적외 흡수 색소가 균일하게 용해 또는 분산되어 이루어지는 것이 바람직하다. Examples of the absorbing resin film that absorbs ultraviolet light or near-infrared light include those containing a near-infrared absorbing dye and a transparent resin, and it is preferable that the near-infrared absorbing dye is uniformly dissolved or dispersed in the transparent resin.

흡수 수지막을 구성하는 근적외선 흡수 색소로서는 종래 공지의 것을 채용할 수 있고, 시아닌계 색소, 폴리메틴계 색소, 스쿠아릴륨계 색소, 포르피린계 색소, 금속 디티올 착체계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 디이모늄계 색소 및 무기산화물 입자로부터 선택되는 1종 이상이 바람직하고, 스쿠아릴륨계 색소, 시아닌계 색소, 프탈로시아닌계 색소로부터 선택되는 1종 이상이 보다 바람직하다. As the near-infrared absorbing dye constituting the absorption resin film, conventionally known dyes can be adopted, and include cyanine-based dyes, polymethine-based dyes, squarylium-based dyes, porphyrin-based dyes, metal dithiol complex-based dyes, phthalocyanine-based dyes, and dimonium-based dyes. At least one type selected from pigments and inorganic oxide particles is preferable, and at least one type selected from squarylium-based pigments, cyanine-based pigments, and phthalocyanine-based pigments is more preferable.

수지막을 구성하는 수지로서는 종래 공지의 투명 수지를 채용할 수 있고, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 엔·티올 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리술폰 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리파라페닐렌 수지, 폴리아릴렌에테르포스핀옥시드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 환상 올레핀 수지 및 폴리에스테르 수지로부터 선택되는 1종 이상을 들 수 있다. As the resin constituting the resin film, conventionally known transparent resins can be adopted, including acrylic resin, epoxy resin, ene-thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyether sulfone resin, One or more types selected from polyparaphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamidoimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, and polyester resin can be mentioned.

투명 수지로서는 투명성, 근적외선 흡수 색소의 투명 수지에 대한 용해성 및 내열성의 관점에서 유리 전이점(Tg)이 높은 것이 바람직하고, 구체적으로는 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리이미드 수지 및 에폭시 수지로부터 선택되는 1종 이상이 바람직하고, 폴리에스테르 수지, 폴리이미드 수지로부터 선택되는 1종 이상이 보다 바람직하다. The transparent resin preferably has a high glass transition point (Tg) from the viewpoint of transparency, solubility of the near-infrared absorbing dye in the transparent resin, and heat resistance, and specifically, polyester resin, polycarbonate resin, polyether sulfone resin, and polyarylate. At least one type selected from resin, polyimide resin, and epoxy resin is preferable, and at least one type selected from polyester resin and polyimide resin is more preferable.

폴리에스테르 수지로서는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지로부터 선택되는 1종 이상이 바람직하다. As the polyester resin, at least one type selected from polyethylene terephthalate resin and polyethylene naphthalate resin is preferable.

수지막은 상기 근적외선 흡수 색소 및 투명 수지 이외에, 추가로 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 색조 보정 색소, 레벨링제, 대전 방지제, 열안정제, 광안정제, 산화 방지제, 분산제, 난연제, 활제, 가소제 등의 임의 성분을 함유해도 된다. In addition to the near-infrared absorbing dye and transparent resin, the resin film may further contain color correction dye, leveling agent, antistatic agent, heat stabilizer, light stabilizer, antioxidant, dispersant, flame retardant, lubricant, plasticizer, etc., to the extent that they do not impair the effect of the present invention. It may contain optional ingredients.

상기 서술한 바와 같이, 본 발명에 따른 광학 필터가 본 발명의 광학 필터 1인 경우, 예를 들면 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판 상에 상기 커플링제 조성물을 함유하는 함유액을 가수분해한 가수분해 형성막을 형성하고, 그 위에 자외광 및 근적외광의 적어도 어느 한쪽을 흡수하는 수지막 형성액을 도포하여 도포막을 형성한다. As described above, when the optical filter according to the present invention is optical filter 1 of the present invention, for example, a liquid containing the coupling agent composition is applied on an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass. A hydrolyzed hydrolyzed film is formed, and a resin film-forming liquid that absorbs at least one of ultraviolet light and near-infrared light is applied thereon to form a coating film.

또 본 발명에 따른 광학 필터가 본 발명의 광학 필터 2인 경우, 예를 들면 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 상기 커플링제 조성물을 함유하는 수지막 형성액을 도포하여 도포막을 형성한다. In addition, when the optical filter according to the present invention is the optical filter 2 of the present invention, for example, a resin film forming liquid containing the coupling agent composition is applied to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass. Forms a coating film.

수지막은 예를 들면 색소와, 투명 수지와, 또한 본 발명의 제2 형태에 따른 적외 커트 필터를 형성하는 경우는 커플링제와, 임의 배합 성분을 용매에 용해 또는 분산시켜 수지막 형성액을 조제하고, 이것을 도공하여 건조시키고, 또한 필요에 따라 경화시킴으로써 형성할 수 있다. The resin film is prepared by dissolving or dispersing, for example, a pigment, a transparent resin, and, in the case of forming an infrared cut filter according to the second aspect of the present invention, a coupling agent and optional mixing ingredients in a solvent, , it can be formed by coating it, drying it, and further hardening it as needed.

상기 수지막 형성액은 카티온계, 아니온계, 노니온계 등의 공지의 계면활성제를 포함하는 것이어도 된다. The resin film forming liquid may contain a known surfactant such as a cationic, anionic, or nonionic surfactant.

수지막 형성액의 도공에는 침지 코팅법, 캐스트 코팅법, 스프레이 코팅법, 스핀 코팅법 등으로부터 선택되는 1종 이상의 코팅법을 채용할 수 있다. For coating the resin film forming liquid, one or more coating methods selected from dip coating, cast coating, spray coating, spin coating, etc. can be employed.

상기 수지막 형성액을 기재 상에 도공 후, 건조 처리함으로써 수지막을 형성할 수 있다. A resin film can be formed by coating the above-mentioned resin film-forming liquid on a substrate and then drying it.

본 발명에 따른 광학 필터로서는 예를 들면 적외 커트 필터(IRCF)를 들 수 있다. Examples of the optical filter according to the present invention include an infrared cut filter (IRCF).

본 발명에 따른 광학 필터가 적외 커트 필터(IRCF)인 경우, 예를 들면 도 2(b)에 예시하는 바와 같이 자외광 또는 근적외광을 흡수하는 흡수 유리 기판(3')의 하면측(광출사면측)에 추가로 자외광 또는 근적외광을 흡수하는 흡수 수지막(5)을 가지는 적외 커트 필터(IRCF)(1)를 들 수 있다. When the optical filter according to the present invention is an infrared cut filter (IRCF), for example, as illustrated in FIG. 2(b), the lower surface of the absorption glass substrate 3' that absorbs ultraviolet light or near-infrared light (light emission) An infrared cut filter (IRCF) 1 has an absorbing resin film 5 on the surface side that additionally absorbs ultraviolet light or near-infrared light.

도 2(b)에 예시하는 태양에 있어서는 자외광 또는 근적외광을 흡수하는 흡수 유리 기판(3')의 상면측(광입사면측)에 반사막(UVIR막)(2)이 마련됨과 아울러, 상기 자외광 또는 근적외광을 흡수하는 흡수 수지막(5)의 하면측에 추가로 반사 방지막(AR막)(4)이 마련되어 이루어진다. In the embodiment illustrated in FIG. 2(b), a reflective film (UVIR film) 2 is provided on the upper surface side (light incident surface side) of the absorption glass substrate 3' that absorbs ultraviolet light or near-infrared light, and the above-described An anti-reflection film (AR film) 4 is additionally provided on the lower surface of the absorption resin film 5 that absorbs external light or near-infrared light.

상기 예에 있어서, 반사막(UVIR막)으로서는 가시광을 투과하고, 자외 영역 및 근적외 영역의 광을 차폐하는 것이면 되고, 이와 같은 반사막(UVIR막)으로서는 유전체 다층막으로 이루어지는 것을 들 수 있다. In the above example, the reflective film (UVIR film) may be any that transmits visible light and blocks light in the ultraviolet region and near-infrared region. Examples of such a reflective film (UVIR film) include those made of a dielectric multilayer film.

유전체 다층막은 저굴절률의 유전체막(저굴절률막)과 고굴절률의 유전체막(고굴절률막)을 교대로 적층한 유전체 다층막으로 구성되어 있고, 고굴절률막의 구성 재료로서는 Ta2O5, TiO2, Nb2O5 등으로부터 선택되는 1종 이상을 들 수 있고, TiO2가 바람직하다. The dielectric multilayer film is composed of a dielectric multilayer film in which low refractive index dielectric films (low refractive index films) and high refractive index dielectric films (high refractive index films) are alternately laminated. The constituent materials of the high refractive index film are Ta 2 O 5 , TiO 2 , One or more types selected from Nb 2 O 5 and the like can be mentioned, and TiO 2 is preferable.

또 저굴절률막의 구성 재료로서는 SiO2, SiOxNy 등으로부터 선택되는 1종 이상을 들 수 있고, SiO2가 바람직하다. Furthermore, the constituent material of the low refractive index film may include one or more types selected from SiO 2 , SiO x N y , etc., and SiO 2 is preferable.

반사 방지막(AR막)으로서도 유전체 다층막을 들 수 있다. A dielectric multilayer film can also be used as an antireflection film (AR film).

본 발명에 의하면, 인산염계 유리 또는 불인산염 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 수지막을 마련한 적외 커트 필터를 제공할 수 있다. According to the present invention, an infrared cut filter provided with a resin film having high adhesion to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate glass can be provided.

이어서 본 발명에 따른 촬상 장치에 대해서 설명한다. Next, the imaging device according to the present invention will be described.

본 발명에 따른 촬상 장치는 고체 촬상 소자와, 촬상 렌즈와, 본 발명에 따른 광학 필터를 가지는 것을 특징으로 하는 것이다. The imaging device according to the present invention is characterized by having a solid-state imaging element, an imaging lens, and an optical filter according to the present invention.

고체 촬상 소자로서는 CCD(전하 결합 소자, Charge-Coupled Device) 센서나 CMOS(상보성 금속 산화물 반도체, Complementary Metal Oxide Semiconductor) 센서 등의 이미지 센서를 들 수 있다. Examples of solid-state imaging devices include image sensors such as CCD (Charge-Coupled Device) sensors and CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) sensors.

본 발명에 따른 촬상 장치의 구성예로서는 도 1에 예시하는 카메라 모듈을 들 수 있다. An example of the configuration of the imaging device according to the present invention includes the camera module illustrated in FIG. 1.

도 1(a)은 스마트폰 등에 탑재되는 컴팩트 디지털 카메라에 따른 카메라 모듈의 개략 설명도이며, 도 1(a)에 나타내는 카메라 모듈은 1(또는 1 이상의 정수 n)장의 렌즈(L)(또는 렌즈(L1…Ln)), 본 발명에 따른 광학 필터 1 및 이미지 센서(IC)를 가지고 있다. FIG. 1(a) is a schematic diagram of a camera module according to a compact digital camera mounted on a smartphone, etc., and the camera module shown in FIG. 1(a) includes a lens L (or lens) of 1 (or an integer n of 1 or more). (L1...Ln)), and has an optical filter 1 and an image sensor (IC) according to the present invention.

또 도 1(b)은 디지털 SLR 카메라에 따른 카메라 모듈의 개략 설명도이며, 도 1(b)에 나타내는 카메라 모듈은 렌즈(L), 본 발명에 따른 광학 필터 1, 커버 글래스(CG) 및 이미지 센서(IC)를 가지고 있다. In addition, Figure 1(b) is a schematic diagram of a camera module according to a digital SLR camera, and the camera module shown in Figure 1(b) includes a lens (L), an optical filter 1 according to the present invention, a cover glass (CG), and an image. It has a sensor (IC).

본 발명에 의하면, 인산염계 유리 또는 불인산염 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 수지막을 마련한 광학 필터를 가지는 촬상 장치를 제공할 수 있다. According to the present invention, it is possible to provide an imaging device having an optical filter provided with a resin film having high adhesion to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate glass.

(실시예) (Example)

이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 더욱 설명하는데, 본 발명은 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be further explained by examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

(실시예 1~실시예 7, 비교예 1) (Examples 1 to 7, Comparative Example 1)

1. 커플링제 함유 도포액의 조제 1. Preparation of coating solution containing coupling agent

(1) 용기 중에 0.5N(mol/L)의 HCl 수용액 0.3mL와 2-메톡시에탄올 2.2mL를 칭량하고, 밀폐하에서 혼합했다. (1) In a container, 0.3 mL of 0.5 N (mol/L) HCl aqueous solution and 2.2 mL of 2-methoxyethanol were weighed and mixed under sealing.

(2) 상기 용기 내에 오르토규산테트라에틸(Si(OC2H5)4)을 가하고, 밀폐하에서 30분간 혼합하여, 하기 반응식으로 표시되는 반응을 발생시켰다. (2) Tetraethyl orthosilicate (Si(OC 2 H 5 ) 4 ) was added to the container, and mixed for 30 minutes under sealing to cause a reaction represented by the following reaction formula.

Si(OC2H5)4+H2O→HO-Si(OC2H5)3+C2H5OH Si(OC 2 H 5 ) 4 +H 2 O→HO-Si(OC 2 H 5 ) 3 +C 2 H 5 OH

상기 반응에 의해 물이 모두 소비되어 수산기가 발생하기 때문에, 가수분해속도가 빠른 Ti의 알콕시드를 가해도 수산화물이 석출되지 않고, 용액이 균질하게 되는 것이 기대되었다. Since all the water is consumed by the above reaction and hydroxyl radicals are generated, it was expected that even if an alkoxide of Ti, which has a high hydrolysis rate, is added, the hydroxide will not precipitate and the solution will become homogeneous.

(3) 상기 용기 내에 추가로 티탄(IV)n-부톡시드(Ti(OC4H9)4)를 표 1에 나타내는 비율이 되도록 각각 첨가하고, 밀폐하에서 30분간 혼합함으로써, 커플링제 함유 도포액을 조제했다. 표 1에 HO-Si(OC2H5)3 및 Ti(OC4H9)4의 합계를 100몰%로 했을 때의 HO-Si(OC2H5)3 및 Ti(OC4H9)4의 첨가 비율을 각각 기재한다. (3) Titanium(IV)n-butoxide (Ti(OC 4 H 9 ) 4 ) was further added to the container in the ratio shown in Table 1 and mixed for 30 minutes under seal to obtain a coating liquid containing a coupling agent. was prepared. In Table 1, HO-Si(OC 2 H 5 ) 3 and Ti(OC 4 H 9 ) when the total of HO-Si(OC 2 H 5 ) 3 and Ti(OC 4 H 9 ) 4 is 100 mol%. The addition ratio of 4 is described respectively.

또한 이 때 용기 내에서는 하기 반응식으로 표시되는 반응이 발생했다고 생각된다. Also, at this time, it is believed that a reaction represented by the following reaction equation occurred within the container.

4OH-Si(OC2H5)3+Ti(OC4H9)4→Ti(O-Si(OC2H5)3)4+4C4H9OH 4OH-Si(OC 2 H 5 ) 3 +Ti(OC 4 H 9 ) 4 →Ti(O-Si(OC 2 H 5 ) 3 ) 4 +4C 4 H 9 OH

2. 도포막의 형성 2. Formation of coating film

상기 커플링제 함유 도포액을 함유하는 용기 내에 대하여, 또한 0.5N의 HCl 수용액 1.2mL와, 물 4.7mL와, 2-메톡시에탄올 8.1mL를 칭량하고, 밀폐하에서 30분간 혼합하여 도포막 형성액을 조제했다. With respect to the container containing the above-mentioned coupling agent-containing coating liquid, 1.2 mL of 0.5N HCl aqueous solution, 4.7 mL of water, and 8.1 mL of 2-methoxyethanol were further weighed and mixed under seal for 30 minutes to form a coating film forming liquid. It was prepared.

이 때 용기 내에서는 하기 반응식으로 표시되는 반응이 발생했다고 생각된다. At this time, it is believed that a reaction represented by the following reaction equation occurred within the container.

Ti{(O-Si(OC2H5)3}4+12H2O→Ti{(O-Si(OH)3}4+12C2H5OH Ti{(O-Si(OC 2 H 5 ) 3 } 4 +12H 2 O→Ti{(O-Si(OH) 3 } 4 +12C 2 H 5 OH

HO-Si(OC2H5)3+3H2O→Si(OH)4+3C2H5OH HO-Si(OC 2 H 5 ) 3 +3H 2 O→Si(OH) 4 +3C 2 H 5 OH

얻어진 도포막 형성액을 스핀 코터를 사용하여 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판(HOYA(주)제 CD700, 두께 0.59mm) 상에 0.03mL/cm2가 되도록 도포했다. The obtained coating film forming liquid was applied at a concentration of 0.03 mL/cm 2 on an absorption glass substrate made of fluorophosphate-based glass (CD700 manufactured by HOYA Co., Ltd., thickness 0.59 mm) using a spin coater.

상기 도포막 형성액이 도포된 흡수 유리 기판을 250℃로 가열한 핫플레이트에 얹어 30분간 가열하여 탈수축합시킴으로써 표면에 경화막(접합층)을 가지는 흡수 유리 기판(이하, 「평가 기판 1」이라고 부른다.)을 제작했다. The absorbent glass substrate coated with the coating film forming liquid is placed on a hot plate heated to 250°C and heated for 30 minutes to dehydrate and condense to form an absorbent glass substrate (hereinafter referred to as “evaluation substrate 1”) having a cured film (bonding layer) on the surface. It is called.) was produced.

상기 각 실시예 및 비교예에 있어서 각각 복수의 평가 기판 1을 제작하고, 이하와 같이 (1) 미처리의 것, (2) 자비 처리한 것, (3) 고도 가속 수명 시험 장치 처리(PCT 처리)한 것, 또는 (4) 고온 고습 처리를 시행한 것을 준비했다. In each of the above examples and comparative examples, a plurality of evaluation substrates 1 were produced, and (1) untreated, (2) boiled, and (3) treated with a highly accelerated life test device (PCT treated) as follows. prepared, or (4) treated with high temperature and high humidity.

상기 자비 처리, 고도 가속 수명 시험 장치 처리(PCT 처리) 및 고온 고습 처리의 내용은 각각 이하와 같다. The contents of the boiling treatment, highly accelerated life test device treatment (PCT treatment), and high temperature and high humidity treatment are as follows.

(자비 처리) (Mercy processing)

비등한 탕욕 중에 평가 기판을 침지하고, 60분간 계속해서 비등한 후, 평가 기판을 꺼내어, 질소 블로우에 의해 건조시킨다. The evaluation substrate is immersed in a boiling water bath and boiled continuously for 60 minutes, then the evaluation substrate is taken out and dried by nitrogen blowing.

(고도 가속 수명 시험 장치 처리(PCT 처리)) (Highly accelerated life test device processing (PCT processing))

고도 가속 수명 시험 장치(에스펙(주)제 EHS-411M)에 평가 기판을 투입하고, 온도 135℃, 습도 85%의 조건하에서 72시간 0.13MPa로 가압 처리한 후, 평가 기판을 꺼낸다. The evaluation board is placed in a highly accelerated life test device (EHS-411M manufactured by Spec Co., Ltd.), and pressurized at 0.13 MPa for 72 hours under conditions of a temperature of 135°C and a humidity of 85%, and then the evaluation board is taken out.

(고온 고습 처리) (High temperature and high humidity treatment)

고온 고습 시험기(에스펙(주)제 PL-2KPH)에 평가 기판을 투입하고, 온도 85℃, 습도 85%의 조건하에서 1000시간 처리한 후, 평가 기판을 꺼낸다. The evaluation board is placed in a high-temperature, high-humidity tester (PL-2KPH manufactured by Spec Co., Ltd.), and processed for 1000 hours under conditions of a temperature of 85° C. and a humidity of 85%, and then the evaluation board is taken out.

상기 (1) 미처리의 평가 기판, (2) 자비 처리한 평가 기판, (3) 고도 가속 수명 시험 장치 처리(PCT 처리)한 평가 기판 및 (4) 고온 고습 처리를 시행한 평가 기판에 대해서, JIS 5600-5-6의 규정에 준거하여 상기 경화막을 마련한 면에 대하여 부착성 크로스 커트 시험을 행했다. Regarding the above (1) untreated evaluation board, (2) boiled evaluation board, (3) evaluation board treated with highly accelerated life test device (PCT treatment), and (4) evaluation board subjected to high temperature and high humidity treatment, JIS An adhesion cross cut test was performed on the surface on which the cured film was prepared in accordance with the provisions of 5600-5-6.

이 때의 시험 결과를 이하의 평가 기준 0~5에 기초하여 분류했다. 결과를 표 1에 나타낸다. The test results at this time were classified based on the following evaluation criteria 0 to 5. The results are shown in Table 1.

0 : 커트의 가장자리가 완전히 매끄러우며, 어느 격자의 눈에도 벗겨짐이 없음. 0: The edge of the cut is completely smooth, and there is no peeling in any of the grid eyes.

1 : 커트의 교차점에 있어서의 적층체의 작은 벗겨짐 있음. 단위면적당 5% 미만의 벗겨짐 있음. 1: There is small peeling of the laminate at the intersection of cuts. There is less than 5% peeling per unit area.

2 : 도막이 커트의 가장자리를 따라 및/또는 교차점에 있어서 벗겨져 있음. 단위면적당 5% 이상 15% 미만의 벗겨짐 있음. 2: The paint film is peeling off along the edges of the cut and/or at the intersection. There is peeling of more than 5% and less than 15% per unit area.

3 : 도막이 커트의 가장자리를 따라 부분적 또는 전면적으로 크게 벗겨짐이 발생되어 있고, 및/또는 눈의 여러 부분이 부분적 또는 전면적으로 벗겨져 있음. 단위면적당 15% 이상 35% 미만의 벗겨짐 있음. 3: The paint film has peeled off significantly, partially or completely, along the edge of the cut, and/or several parts of the eye have peeled off partially or completely. There is peeling of more than 15% and less than 35% per unit area.

4 : 도막이 커트의 가장자리를 따라 부분적 또는 전면적으로 크게 벗겨짐이 발생되어 있고, 및/또는 수개소의 눈이 부분적 또는 전면적으로 벗겨져 있음. 단위면적당 35% 미만의 벗겨짐 있음. 4: The coating film has peeled off significantly, partially or completely, along the edge of the cut, and/or several spots have peeled off partially or completely. There is less than 35% peeling per unit area.

5 : 단위면적당 35% 이상의 벗겨짐 있음. 5: There is peeling of more than 35% per unit area.

(실시예 8) (Example 8)

실시예 6에 있어서, 티탄(IV)n-부톡시드(Ti(OC4H9)4) 대신에 지르코늄(IV)n-부톡시드(Zr(OC4H9)4)를 사용한 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 하여 커플링제 함유 도포액을 조제한 후, 도포막을 마련한 평가 기판 1을 작성하여, 마찬가지로 크로스 커트 시험을 행했다. 결과를 표 2에 나타낸다. In Example 6, except that zirconium (IV) n-butoxide (Zr(OC 4 H 9 ) 4 ) was used instead of titanium (IV) n-butoxide (Ti(OC 4 H 9 ) 4 ). After preparing a coating liquid containing a coupling agent in the same manner as in 6, evaluation board 1 with a coating film was prepared, and a cross cut test was similarly performed. The results are shown in Table 2.

(실시예 9) (Example 9)

실시예 3에 있어서, 티탄(IV)n-부톡시드(Ti(OC4H9)4) 대신에 알루미늄n-부톡시드(Al(OC4H9)3)를 사용한 것 이외에는 실시예 3과 마찬가지로 하여 커플링제 함유 도포액을 조제한 후, 도포막을 마련한 평가 기판 1을 작성하여, 마찬가지로 크로스 커트 시험을 행했다. 결과를 표 3에 나타낸다. In the same manner as Example 3, except that aluminum n-butoxide (Al(OC 4 H 9 ) 3 ) was used instead of titanium (IV) n-butoxide (Ti(OC 4 H 9 ) 4 ). After preparing the coating liquid containing the coupling agent, evaluation board 1 with a coating film was prepared, and a cross cut test was similarly performed. The results are shown in Table 3.

(실시예 10~실시예 12) (Example 10 to Example 12)

1. 커플링제 함유 도포액의 조제 1. Preparation of coating solution containing coupling agent

(1) 용기 중에 0.5N(mol/L)의 HCl 수용액 0.3mL와 2-메톡시에탄올 2.2mL를 칭량하고, 밀폐하에서 혼합했다. (1) In a container, 0.3 mL of 0.5 N (mol/L) HCl aqueous solution and 2.2 mL of 2-methoxyethanol were weighed and mixed under sealing.

(2) 상기 용기 내에 오르토규산테트라에틸(Si(OC2H5)4)을 가하고, 밀폐하에서 30분간 혼합하여, 하기 반응식으로 표시되는 반응을 발생시켰다. (2) Tetraethyl orthosilicate (Si(OC 2 H 5 ) 4 ) was added to the container, and mixed for 30 minutes under seal to generate a reaction represented by the following reaction formula.

Si(OC2H5)4+H2O→HO-Si(OC2H5)3+C2H5OH Si(OC 2 H 5 ) 4 +H 2 O→HO-Si(OC 2 H 5 ) 3 +C 2 H 5 OH

상기 반응에 의해 물이 모두 소비되어 수산기가 발생하기 때문에, 가수분해 속도가 빠른 Ti의 알콕시드를 가해도 수산화물이 석출되지 않고, 용액이 균질하게 되는 것이 기대되었다. Since all water is consumed by the above reaction and hydroxyl radicals are generated, it was expected that even if an alkoxide of Ti, which has a high hydrolysis rate, is added, hydroxide will not precipitate and the solution will become homogeneous.

(3) 상기 용기 내에 추가로 테트라-n-부톡시티탄 중합체(Ti4O3(OC4H9)10)를 표 4에 나타내는 비율이 되도록 각각 첨가하고, 밀폐하에서 30분간 혼합함으로써, 커플링제 함유 도포액을 조제했다. 또한 이 때 용기 내에서는 하기 반응식으로 표시되는 반응이 발생했다고 생각된다. (3) Tetra-n-butoxytitanium polymer (Ti 4 O 3 (OC 4 H 9 ) 10 ) was further added to the container in the ratio shown in Table 4 and mixed for 30 minutes under seal to form a coupling agent. A containing coating liquid was prepared. Also, at this time, it is believed that a reaction represented by the following reaction equation occurred within the container.

10OH-Si(OC2H5)3+Ti4O3(OC4H9)10→Ti4O3(O-Si(OC2H5)3)10+10C4H9OH 10OH-Si(OC 2 H 5 ) 3 +Ti 4 O 3 (OC 4 H 9 ) 10 →Ti 4 O 3 (O-Si(OC 2 H 5 ) 3 ) 10 +10C 4 H 9 OH

Ti4O3(OC4H9)10(실시예 10) 대신에 Ti7O6(OC4H9)16(실시예 11) 및 Ti10O9(OC4H9)22(실시예 12)를 사용하여 마찬가지로 도포액을 작성했다. 표 4에 각 도포액에 있어서의 규소 화합물 및 티탄 화합물의 배합 비율을 각각 기재한다. 또한 표 4에 기재된 함유 비율은 HO-Si(OC2H5)3과 일반식 TikOk -1(OC4H9)2k+ 2으로 표시되는 각 티탄 화합물과의 합계를 100몰%로 했을 때의 HO-Si(OC2H5)3 및 티탄 화합물의 각 배합 비율을 의미하고 있다. Instead of Ti 4 O 3 (OC 4 H 9 ) 10 (Example 10), Ti 7 O 6 (OC 4 H 9 ) 16 (Example 11) and Ti 10 O 9 (OC 4 H 9 ) 22 (Example 12) ) was used to prepare a coating liquid in the same way. Table 4 lists the mixing ratios of the silicon compound and titanium compound in each coating liquid. Additionally, the content ratio shown in Table 4 is based on the sum of HO-Si(OC 2 H 5 ) 3 and each titanium compound represented by the general formula Ti k O k -1 (OC 4 H 9 ) 2k+ 2 as 100 mol%. It means the respective mixing ratios of HO-Si(OC 2 H 5 ) 3 and titanium compounds.

2. 도포막의 형성 2. Formation of coating film

상기 커플링제 함유 도포액을 함유하는 용기 내에 대하여, 추가로 0.5N의 HCl 수용액 1.2mL와, 물 4.7mL와, 2-메톡시에탄올 8.1mL를 칭량하고, 밀폐하에서 30분간 혼합하여 도포막 형성액을 조제했다. Into the container containing the above-mentioned coupling agent-containing coating liquid, 1.2 mL of 0.5N HCl aqueous solution, 4.7 mL of water, and 8.1 mL of 2-methoxyethanol were additionally weighed and mixed under seal for 30 minutes to form a coating film forming liquid. was prepared.

예를 들면 Ti4O3(OC4H9)10을 사용한 경우, 용기 내에서는 하기 반응식으로 표시되는 반응이 발생했다고 생각된다. For example, when Ti 4 O 3 (OC 4 H 9 ) 10 was used, it is believed that a reaction represented by the following reaction formula occurred within the container.

Ti4O3{O-Si(OC2H5)3}10+30H2O→Ti4O3{(O-Si(OH)3}10+30C2H5OH Ti 4 O 3 {O-Si(OC 2 H 5 ) 3 } 10 +30H 2 O→Ti 4 O 3 {(O-Si(OH) 3 } 10 +30C 2 H 5 OH

HO-Si(OC2H5)3+3H2O→Si(OH)4+3C2H5OH HO-Si(OC 2 H 5 ) 3 +3H 2 O→Si(OH) 4 +3C 2 H 5 OH

얻어진 도포막 형성액을 스핀 코터를 사용하여 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판(HOYA(주)제 CD700, 두께 0.59mm) 상에 0.03mL/cm2가 되도록 도포했다. The obtained coating film forming liquid was applied at a concentration of 0.03 mL/cm 2 on an absorption glass substrate made of fluorophosphate-based glass (CD700 manufactured by HOYA Co., Ltd., thickness 0.59 mm) using a spin coater.

상기 도포막 형성액이 도포된 흡수 유리 기판을 250℃로 가열한 핫플레이트에 얹어 30분간 가열하여 탈수축합시킴으로써 표면에 경화막(접합층)을 가지는 흡수 유리 기판(평가 기판 1)을 제작했다. The absorbent glass substrate coated with the coating film forming liquid was placed on a hot plate heated to 250°C and dehydrated and condensed for 30 minutes to produce an absorbent glass substrate (evaluation substrate 1) having a cured film (bonding layer) on the surface.

3. 수지막의 형성 3. Formation of resin film

상기 공정에 의해 얻어진, 표면에 경화막(접합층)을 가지는 흡수 유리 기판 상에 이하의 순서에 따라 추가로 수지막을 형성했다. A resin film was further formed on the absorbent glass substrate having a cured film (bonding layer) on the surface obtained through the above process according to the following procedure.

(1) 용기 중에 폴리비닐부티랄 수지 0.2g과 시클로펜탄온 1.8g을 칭량하고, 밀폐하에서 혼합했다. (1) 0.2 g of polyvinyl butyral resin and 1.8 g of cyclopentanone were weighed in a container and mixed under sealing.

(2) 상기 용기 내에 톨루엔디이소시아네이트를 0.09g 가하고, 밀폐하에서 혼합하여 수지막 형성액을 조제했다. (2) 0.09 g of toluene diisocyanate was added to the container and mixed under seal to prepare a resin film forming liquid.

(3) 얻어진 수지막 형성액을 스핀 코터를 사용하여 상기 공정에 의해 얻어진 표면에 경화막(접합층)을 가지는 흡수 유리 기판 상에 0.03mL/cm2가 되도록 도포했다. (3) The obtained resin film forming liquid was applied at a concentration of 0.03 mL/cm 2 to an absorbent glass substrate having a cured film (bonding layer) on the surface obtained by the above process using a spin coater.

(4) 상기 수지막 형성액이 도포된 흡수 유리 기판을 160℃로 가열한 핫플레이트에 얹어 20분간 가열하여 경화시킴으로써 표면에 수지막을 가지는 유리 기판(평가 기판 2)을 제작했다. (4) The absorbed glass substrate coated with the resin film forming solution was placed on a hot plate heated to 160°C and cured by heating for 20 minutes to produce a glass substrate (evaluation substrate 2) having a resin film on the surface.

상기 실시예 10~12에 있어서, 경화막(접합층)만 형성한 평가 기판 1과, 접합층 상에 추가로 수지막을 형성한 평가 기판 2에 대해서, 이하와 같이 (1) 미처리의 것 및 (2) 실시예 1~실시예 9와 마찬가지로 자비 처리한 것을 준비했다. In Examples 10 to 12, for evaluation substrate 1 on which only the cured film (bonding layer) was formed and evaluation substrate 2 on which a resin film was additionally formed on the bonding layer, (1) untreated and (1) untreated and ( 2) Boiling treatment was prepared in the same manner as Examples 1 to 9.

상기 (1) 미처리의 평가 기판 및 (2) 자비 처리한 평가 기판에 대해서, 상기 서술한 JIS 5600-5-6의 규정에 준거하여 상기 평가 기판 1의 경화막(접합층)을 마련한 면 또는 상기 평가 기판 2의 수지막을 마련한 면에 대하여 부착성 크로스 커트 시험을 행하고, 실시예 1~실시예 9와 마찬가지로 평가 기준 0~5에 기초하여 평가했다. 결과를 표 4에 나타낸다. For the (1) untreated evaluation substrate and (2) the boiling-treated evaluation substrate, the surface on which the cured film (bonding layer) of the evaluation substrate 1 was provided in accordance with the provisions of JIS 5600-5-6 described above or the above An adhesion cross cut test was performed on the surface of the evaluation substrate 2 on which the resin film was provided, and evaluation was performed based on evaluation criteria 0 to 5 in the same manner as Examples 1 to 9. The results are shown in Table 4.

또 실시예 11에서 얻어진 평가 기판 2에 있어서, STEM-EDX 측정을 행하여 STEM-EDX 라인(광학 필터를 구성하는 각 원소의 깊이 방향에 있어서의 EDX선 검출 강도 라인)을 얻고, 접합층 부분을 구성하는, Si 원자 및 Ti 원자의 총 수에 차지하는 Ti 원자의 함유 비율 α(원자%)와, Si 원자 및 Ti 원자의 총 수에 차지하는 Si 원자의 함유 비율 β(원자%)를 각각 하기 식에 의해 산출했다.Additionally, in evaluation substrate 2 obtained in Example 11, a STEM-EDX measurement was performed to obtain a STEM-EDX line (EDX line detection intensity line in the depth direction of each element constituting the optical filter), and a bonding layer portion was formed. The content ratio α (atomic %) of Ti atoms to the total number of Si atoms and Ti atoms and the content ratio β (atomic %) of Si atoms to the total number of Si atoms and Ti atoms are determined by the following equations, respectively. calculated.

(또한 XSi는 접합층을 구성하는 영역에 있어서의 Si 원자의 EDX선 적산 강도, XTi는 접합층을 구성하는 영역에 있어서의 Ti 원자의 EDX선 적산 강도, KSi는 Si 원자의 k팩터(보정 계수), KTi는 Ti 원자의 k팩터(보정 계수), MSi는 Si 원자의 원자량, MTi는 Ti 원자의 원자량을 의미한다.) ( In addition , (Correction coefficient), K Ti refers to the k factor (correction coefficient) of Ti atoms, M Si refers to the atomic weight of Si atoms, and M Ti refers to the atomic weight of Ti atoms.)

결과를 표 5에 나타낸다. The results are shown in Table 5.

배합 비율(몰%) Mixing ratio (mol%) 평가 기판 1의 크로스 커트 시험 결과 Crosscut test results for evaluation board 1 OH-Si(OC2H5)3 OH-Si(OC 2 H 5 ) 3 Ti(OC4H9)4 Ti(OC 4 H 9 ) 4 (1)
미처리
(One)
unprocessed
(2)
자비 처리
(2)
mercy treatment
(3)
PCT 처리
(3)
PCT processing
(4)
고온 고습 처리
(4)
High temperature and high humidity treatment
비교예 1 Comparative Example 1 100 100 0 0 - - 5 5 5 5 - - 실시예 1 Example 1 97 97 3 3 - - 1 One 5 5 - - 실시예 2 Example 2 94 94 6 6 - - 1 One 5 5 - - 실시예 3 Example 3 91 91 9 9 - - 0 0 1 One - - 실시예 4 Example 4 88 88 12 12 0 0 0 0 0 0 - - 실시예 5 Example 5 85 85 15 15 0 0 0 0 0 0 - - 실시예 6 Example 6 82 82 18 18 - - 0 0 0 0 0 0 실시예 7 Example 7 80 80 20 20 0 0 0 0 - - - -

배합 비율(몰%) Mixing ratio (mol%) 평가 기판 1의 크로스 커트 시험 결과 Crosscut test results for evaluation board 1 OH-Si(OC2H5)3 OH-Si(OC 2 H 5 ) 3 Zr(OC4H9)4 Zr(O C 4 H 9 ) 4 (1)
미처리
(One)
unprocessed
(2)
자비 처리
(2)
mercy treatment
(3)
PCT 처리
(3)
PCT processing
(4)
고온 고습 처리
(4)
High temperature and high humidity treatment
실시예 8 Example 8 82 82 18 18 - - 0 0 - - - -

배합 비율(몰%) Mixing ratio (mol%) 평가 기판 1의 크로스 커트 시험 결과 Crosscut test results for evaluation board 1 OH-Si(OC2H5)3 OH-Si(OC 2 H 5 ) 3 Al(OC4H9)3 Al(OC 4 H 9 ) 3 (1)
미처리
(One)
unprocessed
(2)
자비 처리
(2)
mercy treatment
(3)
PCT 처리
(3)
PCT processing
(4)
고온 고습 처리
(4)
High temperature and high humidity treatment
실시예 9 Example 9 91 91 9 9 - - 0 0 - - - -

배합 비율(몰%) Mixing ratio (mol%) 크로스 커트 시험 결과 Cross Cut Test Results 평가 기판 1
(접합층)
Evaluation board 1
(bonding layer)
평가 기판 2
(수지막)
Evaluation Board 2
(resin film)
OH-Si(OC2H5)3 OH-Si(OC 2 H 5 ) 3 TikOk -1(OC4H9)2k+2 Ti k O k -1 (OC 4 H 9 ) 2k+2 k k (1)
미처리
(One)
unprocessed
(2)
자비 처리
(2)
mercy treatment
(1)
미처리
(One)
unprocessed
(2)
자비 처리
(2)
mercy treatment
실시예 10 Example 10 91 91 9 9 4 4 - - 0 0 0 0 1 One 실시예 11 Example 11 94 94 6 6 7 7 0 0 0 0 0 0 1 One 실시예 12 Example 12 96 96 4 4 10 10 0 0 0 0 0 0 1 One

배합 비율(몰%) Mixing ratio (mol%) 함유 비율(원자%) Content ratio (atomic %) OH-Si(OC2H5)3 OH-Si(OC 2 H 5 ) 3 TikOk -1(OC4H9)2k+2 Ti k O k -1 (OC 4 H 9 ) 2k+2 k k Ti 원자 함유 비율α Ti atom content ratio α Si 원자 함유 비율β Si atom content ratio β 실시예 11 Example 11 94 94 6 6 7 7 22 22 78 78

표 1~표 3으로부터, 실시예 1~실시예 9에 있어서는 흡수 유리 기판 상에 형성된 경화막이 일반식 M{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}n으로 표시되는 특정의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 경화막(접합층)인 점에서, 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 것을 알 수 있다. From Tables 1 to 3, in Examples 1 to 9, the cured film formed on the absorption glass substrate was a specific coupling agent represented by the general formula M{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} n. Since it is a cured film (bonding layer) containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of , it can be seen that it has high adhesion to the absorption glass substrate.

또 표 4~표 5로부터, 실시예 10~실시예 12에 있어서는 흡수 유리 기판 상에 형성된 경화막(접합층) 또는 수지막이 일반식 (TikOk - 1){OSi(OR10)(OR11)(OR12)}2k+ 2으로 표시되는 특정의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 경화막(접합층) 또는 관련되는 경화막(접합층) 상에 형성된 수지막인 점에서, 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 것을 알 수 있다. 특히, 실시예 10~실시예 12에 있어서는 경화막을 구성하는 티탄 화합물의 배합 비율(몰%)이 낮아도, 티탄 화합물의 배합 비율(몰%)이 동일 정도인 실시예 1~실시예 3에 비교하여 밀착성이 우수한 것을 알 수 있다. 이 때문에 티탄 화합물로서 단량체보다 다량체를 사용한 편이 보다 낮은 함유 비율로 우수한 밀착성을 발휘할 수 있는 것을 알 수 있다. Additionally, from Tables 4 to 5, in Examples 10 to 12, the cured film (bonding layer) or resin film formed on the absorption glass substrate had the general formula (Ti k O k - 1 ) {OSi (OR 10 ) (OR 11 )(OR 12 )} 2k+ 2 In that it is a resin film formed on a cured film (bonding layer) or a related cured film (bonding layer) containing the hydrolysis and dehydration condensate of a specific coupling agent, It can be seen that it has high adhesion to the absorption glass substrate. In particular, in Examples 10 to 12, although the mixing ratio (mol%) of the titanium compound constituting the cured film is low, compared to Examples 1 to 3 where the mixing ratio (mol%) of the titanium compound is about the same. It can be seen that adhesion is excellent. For this reason, it can be seen that using a multimer rather than a monomer as a titanium compound can demonstrate excellent adhesion at a lower content ratio.

한편, 표 1로부터, 비교예 1에 있어서는 흡수 유리 기판 상에 형성된 경화막(접합층)이 특정의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하지 않는 점에서, 특히 수분 존재하에 있어서 흡수 유리 기판에 대한 밀착성이 떨어지는 것을 알 수 있다. On the other hand, from Table 1, in Comparative Example 1, the cured film (bonding layer) formed on the absorption glass substrate does not contain hydrolysis or dehydration condensation products of a specific coupling agent, so that the absorption glass substrate It can be seen that the adhesion to is poor.

본 발명에 의하면, 인산염계 유리 또는 불인산염 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여 높은 밀착성을 가지는 수지막을 마련한 적외 커트 필터를 제공함과 아울러, 관련되는 적외 커트 필터를 가지는 촬상 장치를 제공할 수 있다. According to the present invention, an infrared cut filter provided with a resin film having high adhesion to an absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate glass can be provided, and an imaging device having the related infrared cut filter can be provided.

1…광학 필터(적외 커트 필터(IRCF))
2…반사막(UVIR막)
3…유리 기판
3'…흡수 유리 기판
4…반사 방지막(AR막)
5…흡수 수지막
L…렌즈
CG…커버 글래스
IC…이미지 센서
One… Optical filter (infrared cut filter (IRCF))
2… Reflective membrane (UVIR membrane)
3… glass substrate
3'… Absorbent glass substrate
4… Anti-reflective film (AR film)
5… absorption resin film
L… lens
CG… cover glass
IC… image sensor

Claims (19)

인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판; 단층 구조를 가지는 접합층; 및 수지막을 포함하는 광학 필터로서,
수지막은 접합층을 통해서 흡수 유리 기판 상에 제공되며,
접합층은 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하고, 커플링제는 Si 원자를 함유하는 규소 화합물과 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 함유하는 금속 알콕시드의 반응물인, 광학 필터.
An absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass; A bonding layer having a single-layer structure; and an optical filter comprising a resin film,
A resin film is provided on the absorbent glass substrate through a bonding layer,
The bonding layer includes a hydrolyzed and dehydrated condensate of one or more coupling agents, and the coupling agent is a silicon compound containing a Si atom and a metal alkoxide containing one or more selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms. A reactant, an optical filter.
제 1 항에 있어서, 상기 접합층에 있어서, Si 원자, Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 총 수에 차지하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율이 0원자% 초과 33.3원자% 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필터. The method according to claim 1, wherein in the bonding layer, the ratio of the total number of Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms to the total number of Si atoms, Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms is greater than 0 at% and 33.3 at%. An optical filter characterized by the following. 제 1 항에 있어서, 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(I)
M(OSiR1R2R3)n (I)
(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R1, R2 및 R3은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSiR1R2R3기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(II)
(TikOk-1)(OSiR4R5R6)2k+2 (II)
(단, R4, R5 및 R6은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSiR4R5R6기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
The absorption glass substrate according to claim 1, which is made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, has the following general formula (I):
M(OSiR 1 R 2 R 3 ) n (I)
(However, M is a Ti atom, a Zr atom, or an Al atom, and R 1 , R 2 and R 3 are linear or branched hydrocarbon groups of 1 to 10 carbon atoms that may contain an oxygen atom or a nitrogen atom, and are the same as each other. It may be different or different, and n is 4 when M is a Ti atom or Zr atom and 3 when M is an Al atom, and the plurality of -OSiR 1 R 2 R 3 groups may be the same or different from each other.)
Compounds represented by and the following general formula (II)
(Ti k O k-1 )(OSiR 4 R 5 R 6 ) 2k+2 (II)
(However, R 4 , R 5 and R 6 are linear or branched hydrocarbon groups with 1 to 10 carbon atoms that may contain oxygen or nitrogen atoms, and may be the same or different from each other, and k is 2 or more and 15 or less. is a real number, and a plurality of -OSiR 4 R 5 R 6 groups may be the same or different from each other.)
An optical filter comprising a resin film provided through a bonding layer containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by .
제 1 항에 있어서, 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(III)
M{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}n (III)
(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSi(OR7)(OR8)(OR9)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(IV)
(TikOk-1){OSi(OR10)(OR11)(OR12)}2k+2 (IV)
(단, R10, R11 및 R12는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
The absorption glass substrate according to claim 1, which is made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, has the following general formula (III):
M{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} n (III)
(However, M is a Ti atom, Zr atom, or Al atom, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, and n is M In the case of this Ti atom or Zr atom, it is 4, and in the case where M is an Al atom, it is 3, and the plurality of -OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 ) groups may be the same or different from each other.)
Compounds represented by and the following general formula (IV)
(Ti k O k-1 ){OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 2k+2 (IV)
(However, R 10 , R 11 and R 12 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, k is a real number from 2 to 15, and a plurality of -OSi ( OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.)
An optical filter comprising a resin film provided through a bonding layer containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by .
제 4 항에 있어서, 상기 일반식(III)으로 표시되는 커플링제가 하기 일반식(V)
Si(OR7)(OR8)(OR9)OH (V)
(단, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 규소 화합물과, 하기 일반식(VI)
Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) (VI)
(단, R13, R14, R15 및 R16은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.), 하기 일반식(VII)
Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20) (VII)
(단, R17, R18, R19 및 R20은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) 및 하기 일반식(VIII)
Al(OR21)(OR22)(OR23) (VIII)
(단, R21, R22 및 R23은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상과의 반응물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
The method of claim 4, wherein the coupling agent represented by the general formula (III) has the following general formula (V)
Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH (V)
(However, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)
A silicon compound represented by and the following general formula (VI)
Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) (VI)
(However, R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.), general formula (VII)
Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )(OR 20 ) (VII)
(However, R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.) and the following general formula (VIII)
Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ) (VIII)
(However, R 21 , R 22 and R 23 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)
An optical filter characterized in that it consists of a reactant with one or more types selected from metal alkoxides represented by .
제 1 항에 있어서, 상기 접합층이 추가로 실란올의 탈수축합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터. The optical filter according to claim 1, wherein the bonding layer further includes a dehydration condensate of silanol. 제 1 항에 있어서, 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(V)
Si(OR7)(OR8)(OR9)OH (V)
(단, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 규소 화합물 50몰% 이상 100몰% 미만과, 하기 일반식(VI)
Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) (VI)
(단, R13, R14, R15 및 R16은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.), 하기 일반식(VII)
Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20) (VII)
(단, R17, R18, R19 및 R20은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) 및 하기 일반식(VIII)
Al(OR21)(OR22)(OR23) (VIII)
(단, R21, R22 및 R23은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상 0몰% 초과 50몰% 이하와의 반응물을 포함하는 커플링제 조성물의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 접합층을 개재시켜 수지막이 마련되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
The absorption glass substrate according to claim 1, which is made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, has the following general formula (V):
Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH (V)
(However, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)
50 mol% or more but less than 100 mol% of a silicon compound represented by the following general formula (VI)
Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) (VI)
(However, R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.), general formula (VII)
Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )(OR 20 ) (VII)
(However, R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.) and the following general formula (VIII)
Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ) (VIII)
(However, R 21 , R 22 and R 23 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)
A resin film is provided through a bonding layer containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of a coupling agent composition containing a reactant with more than 0 mol% but not more than 50 mol% of one or more types of metal alkoxides represented by optical filter.
제 7 항에 있어서, 상기 커플링제 조성물이 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 80몰% 초과 100몰% 미만 및 상기 일반식(VI)~일반식(VIII)으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 알콕시드 0몰% 초과 20몰% 미만과의 반응물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터. The method of claim 7, wherein the coupling agent composition contains more than 80 mol% but less than 100 mol% of the silicon compound represented by the general formula (V) and at least one metal selected from the general formulas (VI) to (VIII). An optical filter characterized in that it consists of a reactant with more than 0 mol% and less than 20 mol% of alkoxide. 제 7 항에 있어서, 상기 커플링제 조성물이 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 85~94몰% 및 상기 일반식(VI)~일반식(VIII)으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 알콕시드 6~15몰%와의 반응물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터. The method of claim 7, wherein the coupling agent composition comprises 85 to 94 mol% of a silicon compound represented by the general formula (V) and at least one metal alkoxide 6 selected from the general formulas (VI) to (VIII). An optical filter characterized in that it consists of a reactant with ~15 mol%. 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판; 및 수지막을 포함하는 광학 필터로서,
수지막은 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하고, 커플링제는 Si 원자를 함유하는 규소 화합물과 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자로부터 선택되는 1종 이상을 함유하는 금속 알콕시드의 반응물이며, 수지막이 흡수 유리 기판 상에 제공되는, 광학 필터.
An absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass; and an optical filter comprising a resin film,
The resin film contains a hydrolysis and dehydration condensation product of at least one coupling agent, and the coupling agent is a silicon compound containing a Si atom and a metal alkoxide containing at least one selected from Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms. An optical filter, wherein the reactant is a resin film provided on an absorbing glass substrate.
제 10 항에 있어서, 상기 수지막에 있어서, Si 원자, Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 총 수에 차지하는 Ti 원자, Zr 원자 및 Al 원자의 합계 원자수의 비율이 0원자% 초과 33.3원자% 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필터. 11. The resin film according to claim 10, wherein in the resin film, the ratio of the total number of atoms of Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms to the total number of Si atoms, Ti atoms, Zr atoms, and Al atoms is greater than 0 at% and 33.3 at%. An optical filter characterized by the following. 제 10 항에 있어서, 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(I)
M(OSiR1R2R3)n (I)
(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R1, R2 및 R3은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSiR1R2R3기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(II)
(TikOk-1)(OSiR4R5R6)2k+2 (II)
(단, R4, R5 및 R6은 산소 원자 또는 질소 원자를 포함해도 되는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSiR4R5R6기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 수지막이 마련되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
11. The method of claim 10, wherein the absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass has the following general formula (I):
M(OSiR 1 R 2 R 3 ) n (I)
(However, M is a Ti atom, a Zr atom, or an Al atom, and R 1 , R 2 and R 3 are linear or branched hydrocarbon groups of 1 to 10 carbon atoms that may contain an oxygen atom or a nitrogen atom, and are the same as each other. It may be different or different, and n is 4 when M is a Ti atom or Zr atom and 3 when M is an Al atom, and the plurality of -OSiR 1 R 2 R 3 groups may be the same or different from each other.)
Compounds represented by and the following general formula (II)
(Ti k O k-1 )(OSiR 4 R 5 R 6 ) 2k+2 (II)
(However, R 4 , R 5 and R 6 are linear or branched hydrocarbon groups with 1 to 10 carbon atoms that may contain oxygen or nitrogen atoms, and may be the same or different from each other, and k is 2 or more and 15 or less. is a real number, and a plurality of -OSiR 4 R 5 R 6 groups may be the same or different from each other.)
An optical filter comprising a resin film containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by .
제 10 항에 있어서, 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(III)
M{OSi(OR7)(OR8)(OR9)}n (III)
(단, M은 Ti 원자, Zr 원자 또는 Al 원자이며, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, n은 M이 Ti 원자 또는 Zr 원자인 경우는 4이며 M이 Al 원자인 경우는 3이며, 복수의 -OSi(OR7)(OR8)(OR9)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 화합물 및 하기 일반식(IV)
(TikOk-1){OSi(OR10)(OR11)(OR12)}2k+2 (IV)
(단, R10, R11 및 R12는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, k는 2 이상 15 이하의 실수이며, 복수의 -OSi(OR10)(OR11)(OR12)기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 커플링제의 가수분해, 탈수축합물을 포함하는 수지막이 마련되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
The absorption glass substrate according to claim 10, which is made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass, has the following general formula (III):
M{OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )} n (III)
(However, M is a Ti atom, Zr atom, or Al atom, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, and n is M In the case of this Ti atom or Zr atom, it is 4, and in the case where M is an Al atom, it is 3, and the plurality of -OSi(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 ) groups may be the same or different from each other.)
Compounds represented by and the following general formula (IV)
(Ti k O k-1 ){OSi(OR 10 )(OR 11 )(OR 12 )} 2k+2 (IV)
(However, R 10 , R 11 and R 12 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other, k is a real number from 2 to 15, and a plurality of -OSi ( OR 10 )(OR 11 )(OR 12 ) groups may be the same or different from each other.)
An optical filter comprising a resin film containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of at least one coupling agent selected from the compounds represented by .
제 13 항에 있어서, 상기 일반식(III)으로 표시되는 커플링제가 하기 일반식(V)
Si(OR7)(OR8)(OR9)OH (V)
(단, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 규소 화합물과, 하기 일반식(VI)
Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) (VI)
(단, R13, R14, R15 및 R16은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.), 하기 일반식(VII)
Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20) (VII)
(단, R17, R18, R19 및 R20은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) 및 하기 일반식(VIII)
Al(OR21)(OR22)(OR23) (VIII)
(단, R21, R22 및 R23은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상과의 반응물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
The method of claim 13, wherein the coupling agent represented by the general formula (III) has the following general formula (V)
Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH (V)
(However, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)
A silicon compound represented by and the following general formula (VI)
Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) (VI)
(However, R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.), general formula (VII)
Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )(OR 20 ) (VII)
(However, R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.) and the following general formula (VIII)
Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ) (VIII)
(However, R 21 , R 22 and R 23 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)
An optical filter characterized in that it consists of a reactant with one or more types selected from metal alkoxides represented by .
제 10 항에 있어서, 상기 수지막이 추가로 실란올의 탈수축합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터. The optical filter according to claim 10, wherein the resin film further contains a dehydration condensate of silanol. 제 10 항에 있어서, 인산염계 유리 또는 불인산염계 유리로 이루어지는 흡수 유리 기판에 대하여, 하기 일반식(V)
Si(OR7)(OR8)(OR9)OH (V)
(단, R7, R8 및 R9는 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 규소 화합물 50몰% 이상 100몰% 미만과, 하기 일반식(VI)
Ti(OR13)(OR14)(OR15)(OR16) (VI)
(단, R13, R14, R15 및 R16은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.), 하기 일반식(VII)
Zr(OR17)(OR18)(OR19)(OR20) (VII)
(단, R17, R18, R19 및 R20은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) 및 하기 일반식(VIII)
Al(OR21)(OR22)(OR23) (VIII)
(단, R21, R22 및 R23은 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 탄화수소기로서, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.)
으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택되는 1종 이상 0몰% 초과 50몰% 이하와의 반응물을 포함하는 커플링제 조성물의 가수분해, 탈수축합물을 함유하는 수지막이 마련되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
11. The method of claim 10, wherein the absorption glass substrate made of phosphate-based glass or non-phosphate-based glass has the following general formula (V):
Si(OR 7 )(OR 8 )(OR 9 )OH (V)
(However, R 7 , R 8 and R 9 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)
50 mol% or more but less than 100 mol% of a silicon compound represented by the following general formula (VI)
Ti(OR 13 )(OR 14 )(OR 15 )(OR 16 ) (VI)
(However, R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.), general formula (VII)
Zr(OR 17 )(OR 18 )(OR 19 )(OR 20 ) (VII)
(However, R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.) and the following general formula (VIII)
Al(OR 21 )(OR 22 )(OR 23 ) (VIII)
(However, R 21 , R 22 and R 23 are linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other.)
An optical filter characterized by providing a resin film containing a hydrolyzed and dehydrated condensate of a coupling agent composition containing a reaction product of more than 0 mol% and not more than 50 mol% of at least one type selected from metal alkoxides represented by .
제 16 항에 있어서, 상기 커플링제 조성물이 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 80몰% 초과 100몰% 미만 및 상기 일반식(VI)~일반식(VIII)으로 표시되는 1종 이상의 금속 알콕시드 0몰% 초과 20몰% 미만과의 반응물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터. The method of claim 16, wherein the coupling agent composition contains more than 80 mol% but less than 100 mol% of a silicon compound represented by the general formula (V) and one or more metals represented by the general formulas (VI) to (VIII). An optical filter characterized in that it consists of a reactant with more than 0 mol% and less than 20 mol% of alkoxide. 제 16 항에 있어서, 상기 커플링제 조성물이 상기 일반식(V)으로 표시되는 규소 화합물 85~94몰% 및 상기 일반식(VI)~일반식(VIII)으로 표시되는 1종 이상의 금속 알콕시드 6~15몰%와의 반응물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터. The method of claim 16, wherein the coupling agent composition contains 85 to 94 mol% of a silicon compound represented by the general formula (V) and at least one metal alkoxide 6 represented by the general formulas (VI) to (VIII). An optical filter characterized in that it consists of a reactant with ~15 mol%. 고체 촬상 소자와, 촬상 렌즈와, 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필터를 가지는 것을 특징으로 하는 촬상 장치. An imaging device comprising a solid-state imaging element, an imaging lens, and the optical filter according to any one of claims 1 to 18.
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