KR102622805B1 - Method of manufacturing light shielding barrier pattern for multi-view display - Google Patents

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Abstract

본 발명은 두 명 이상의 관찰자가 다른 방향에서 각각 구별되는 두 개 이상의 화상을 볼 수 있게 하는 다중 화상 디스플레이를 구현하기 위한 시차 배리어 패턴의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a parallax barrier pattern for implementing a multi-image display that allows two or more observers to view two or more distinct images from different directions.

Description

다중 시각 디스플레이용 시차 배리어 패턴의 제조방법 {METHOD OF MANUFACTURING LIGHT SHIELDING BARRIER PATTERN FOR MULTI-VIEW DISPLAY}Method of manufacturing parallax barrier pattern for multi-view display {METHOD OF MANUFACTURING LIGHT SHIELDING BARRIER PATTERN FOR MULTI-VIEW DISPLAY}

본 발명은 두 명 이상의 관찰자가 다른 방향에서 각각 구별되는 두 개 이상의 화상을 볼 수 있게 하는 다중 시각 디스플레이를 구현하기 위한 시차 배리어 패턴의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a parallax barrier pattern for implementing a multi-view display that allows two or more observers to view two or more distinct images from different directions.

영상을 표시하기 위한 표시장치로는 액정을 이용한 액정 표시장치(Liquid Crystal Display), 전계방출 표시장치(Field Emission Display), 불활성 가스의 방전을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel) 및 유기 발광 다이오드를 이용한 유기 전계발광 표시장치(Organic Light Emitting Diode Display) 등이 있다. 이들 중 플라즈마 디스플레이 패널은 대형 TV로만 응용되고 반면에 액정 표시장치 및 유기 전계발광 표시장치는 휴대폰, 휴대용 컴퓨터, 모니터, TV 등과 같이 소형부터 대형까지 다양한 크기로 많은 분야에 응용되고 있다.Display devices for displaying images include liquid crystal displays using liquid crystals, field emission displays, plasma display panels using discharge of inert gas, and organic light emitting diodes. There are organic electroluminescent displays (Organic Light Emitting Diode Displays) using them. Among these, plasma display panels are applied only to large-sized TVs, while liquid crystal displays and organic electroluminescent displays are applied to many fields in various sizes from small to large, such as mobile phones, portable computers, monitors, and TVs.

여기서, 액정 표시장치는 액정의 전기적 및 광학적 특성을 이용한다. 이는 액정이 굴절율, 유전율 등의 물성값이 분자 장축 방향과 단축 방향에 따라 서로 다른 이방성 성질을 갖고 분자 배열과 광학적 성질을 쉽게 조절할 수 있는 장점을 갖고 있기 때문이다. 다시 말하여, 액정 표시장치는 전계에 따라 액정 분자들의 배열 방향을 가변시켜 광 투과율을 조절함으로써 영상을 표시한다.Here, the liquid crystal display device utilizes the electrical and optical properties of liquid crystal. This is because liquid crystals have different anisotropic properties, such as refractive index and dielectric constant, depending on the major and minor axis directions of the molecules, and have the advantage of being able to easily control the molecular arrangement and optical properties. In other words, a liquid crystal display displays an image by adjusting light transmittance by changing the arrangement direction of liquid crystal molecules according to an electric field.

구체적으로, 액정 표시장치는 다수의 화소들이 매트릭스 형태로 배열된 액정 패널을 통해 영상을 표시한다. 액정 패널의 각 화소는 데이터 신호에 따른 액정 배열의 가변으로 광투과율을 조절하는 적색, 녹색, 청색 서브화소의 조합으로 원하는 색을 구현한다. 각 서브화소는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor)를 통해 화소 전극에 공급된 데이터 신호와, 공통 전극에 공급된 공통 전압의 차전압을 충전하여 액정을 구동한다. 그리고 액정 표시장치는 액정 패널이 비발광 소자이므로 액정 패널의 후면에서 빛을 공급하기 위한 백라이트 유닛을 구비한다.Specifically, a liquid crystal display device displays images through a liquid crystal panel in which multiple pixels are arranged in a matrix form. Each pixel of the liquid crystal panel realizes the desired color through a combination of red, green, and blue sub-pixels that adjust the light transmittance by varying the liquid crystal arrangement according to the data signal. Each sub-pixel drives the liquid crystal by charging the data signal supplied to the pixel electrode through a thin film transistor and the differential voltage of the common voltage supplied to the common electrode. And since the liquid crystal display device is a non-light-emitting device, the liquid crystal display device is equipped with a backlight unit to supply light from the rear of the liquid crystal panel.

한편, 최근에는 다양한 사용자들의 욕구를 충족시키기 위하여 하나의 액정 표시장치를 통해 좌우 시야각에 따라 서로 다른 영상을 간섭없이 보여줄 수 있는 듀얼 뷰 액정 표시장치(Dual view liquid crystal display device)의 개발이 요구되고 있다.Meanwhile, recently, in order to meet the needs of various users, the development of a dual view liquid crystal display device that can display different images according to the left and right viewing angles without interference through a single liquid crystal display device has been required. there is.

액정 디스플레이 기기는 TFT 기판과 C/F 기판과 그 사이에 위치하는 액정층으로 구성된다. C/F 기판의 윗면에 시차 배리어를 포함하는 기판을 위치함으로써 제1 화소군에서 나오는 제1 화상은 관찰자 A의 위치에서만 볼 수 있고, 제2 화소군에서 방출되는 제2 화상은 관찰자 B의 위치에서만 볼 수 있는 것이다. 시차 배리어 기판은 C/F 기판의 윗면 뿐만 아니라 TFT 기판의 밑면에 위치할 수도 있다. 통상적으로 종래 기술에서는 별도의 기판(유리, 플라스틱, 필름 등)에 시차 배리어를 형성하고 이를 디스플레이 기판에 합착하는 공정을 필요로 한다. A liquid crystal display device consists of a TFT substrate, a C/F substrate, and a liquid crystal layer located between them. By placing a substrate including a parallax barrier on the top of the C/F substrate, the first image emitted from the first pixel group can only be seen at the position of observer A, and the second image emitted from the second pixel group can be seen only at the position of observer B. It can only be seen in . The parallax barrier substrate may be located on the bottom of the TFT substrate as well as the top of the C/F substrate. Typically, conventional technology requires a process of forming a parallax barrier on a separate substrate (glass, plastic, film, etc.) and bonding it to the display substrate.

한국특허출원공개 제2005-0021972호에는 시차 배리어를 디스플레이 기판 내에 직접 구현하기도 하나, 구체적인 실행 방법은 개시되어 있지 않다. 일례로 제2편광기(통칭 상 편광필름) 표면에 시차 배리어를 포함하기도 하며, C/F 기판에 컬러 필터층을 형성하기 전에 시차 배리어 층을 한층 더 형성하기도 하나, 이러한 방법은 C/F 기판의 공정 수를 증가시키므로 용이하지 않다.In Korean Patent Application Publication No. 2005-0021972, a parallax barrier is implemented directly within a display substrate, but a specific implementation method is not disclosed. For example, a parallax barrier may be included on the surface of the second polarizer (commonly known as a polarizing film), and a parallax barrier layer may be further formed before forming a color filter layer on the C/F substrate. However, this method is used in the process of the C/F substrate. It is not easy because it increases the number.

또한, 한국특허출원공개 제2012-0012994호에는, 패럴렉스 배리어를 격자 무늬를 블랙 매트릭스 제조용 재료로 제작될 수 있다고 개시하고 있으나, 유리 기판, 초박형 유리 또는 플라스틱 상에 배리어를 형성 후 함침하는 공정을 필요로 한다.In addition, Korean Patent Application Publication No. 2012-0012994 discloses that the parallax barrier can be manufactured with a material for manufacturing a black matrix with a grid pattern, but the process of forming the barrier on a glass substrate, ultra-thin glass, or plastic and then impregnating it is performed. in need.

한편, 이미 완성된(합착된) 디스플레이 기판에 광중합성 수지 조성물을 잉크젯 공정을 이용하여 직접 도포함으로써, 간편하게 시차 배리어를 형성할 수 있으나, 인쇄된 배리어 패턴은 높은 크로스톡을 지닐 수 있다.Meanwhile, a parallax barrier can be easily formed by directly applying a photopolymerizable resin composition to an already completed (laminated) display substrate using an inkjet process, but the printed barrier pattern may have high crosstalk.

한국특허출원공개 제2005-0021972호Korean Patent Application Publication No. 2005-0021972 한국특허출원공개 제2012-0012994호Korean Patent Application Publication No. 2012-0012994

따라서, 본 발명에서는, 잉크젯 공정에서 배리어 패턴의 차광 특성을 충분히 함으로써 크로스톡을 낮출 수 있는 시차 배리어 패턴의 제조방법을 제공하고자 한다. Accordingly, the present invention seeks to provide a method of manufacturing a parallax barrier pattern that can reduce crosstalk by providing sufficient light-blocking characteristics of the barrier pattern in an inkjet process.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은, In order to solve the above problems, the present invention,

잉크 조성물을 이용하여 기판 상에 시차 배리어 패턴을 도포하는 단계; 및Applying a parallax barrier pattern on a substrate using an ink composition; and

상기 도포된 조성물을 경화하여 시차 배리어 패턴을 형성하는 단계를 포함하며,Curing the applied composition to form a parallax barrier pattern,

상기 배리어 패턴의 테이퍼 각은 4° 내지 10°이고,The taper angle of the barrier pattern is 4° to 10°,

상기 배리어 패턴 폭은 100 내지 300 μm인 것인, The barrier pattern width is 100 to 300 μm,

시차 배리어 패턴의 제조방법을 제공한다.A method of manufacturing a parallax barrier pattern is provided.

또한, 본 발명은 상기 제조방법에 의해 형성된 시차 배리어 패턴을 제공한다.Additionally, the present invention provides a parallax barrier pattern formed by the above manufacturing method.

또한, 본 발명은 상기 시차 배리어 패턴을 포함하는 다중 시각 디스플레이 패널을 제공한다.Additionally, the present invention provides a multi-view display panel including the parallax barrier pattern.

종래, 완성된 디스플레이 기판에 잉크 조성물을 잉크젯 공정을 이용하여 직접 도포함으로써 시차 배리어 패턴을 제조하는 경우, 인쇄된 잉크 조성물의 퍼짐에 의해 배리어 패턴의 선폭 대비 두께가 충분하지 않게 되고 결과적으로 높은 크로스톡을 지닐 수 있다. 본 발명에서는 인쇄된 잉크 조성물로 이루어진 배리어 패턴의 테이퍼 각을 4 내지는 10도로 채택함으로써 배리어 패턴의 차광 특성을 충분히 하여 결과적으로 크로스톡을 낮출 수 있다.Conventionally, when a parallax barrier pattern is manufactured by directly applying an ink composition to a finished display substrate using an inkjet process, the thickness of the barrier pattern is not sufficient compared to the line width due to the spread of the printed ink composition, resulting in high crosstalk. can have In the present invention, by adopting a taper angle of 4 to 10 degrees for the barrier pattern made of the printed ink composition, the light blocking characteristics of the barrier pattern can be sufficiently achieved and crosstalk can be reduced as a result.

도 1은 잉크 조성물의 토출 액적을 형성하는 간격에 따라 구현되는 패턴을 나타낸다.
도 2는 본 발명에 따른 시차 배리어 패턴의 배리어 폭, 슬릿 폭, 배리어 간격 및 슬릿 폭 오차를 나타내는 도면이다.
도 3은 인쇄된 배리어 패턴을 측면에서 보았을 때 배리어 패턴의 치수 및 형상, 배리어 폭, 배리어 높이, 테이퍼 각 등을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 다양한 패턴 폭으로 인쇄된 패턴을 나타내는 도면이다.
도 5는 인쇄된 배리어 패턴의 테이퍼 각에 따라 배리어 폭의 유효율이 차이남을 나타낸다. X축은 인쇄된 배리어 패턴의 폭 (μm), Y축은 인쇄된 배리어 패턴의 높이 (μm)를 의미한다. 좌측의 그래프는 높은 테이퍼 각에 의한 높은 배리어 패턴 높이를, 우측의 그래프는 낮은 테이퍼 각에 의한 낮은 배리어 패턴 높이를 비교하고 있다.
도 6은 실시예 1에서 구현한 배리어 패턴의 크로스톡 측정 결과이다.
Figure 1 shows a pattern implemented according to the interval for forming discharged droplets of an ink composition.
Figure 2 is a diagram showing the barrier width, slit width, barrier spacing, and slit width error of the parallax barrier pattern according to the present invention.
Figure 3 is a diagram for explaining the dimensions and shape, barrier width, barrier height, taper angle, etc. of the printed barrier pattern when viewed from the side.
Figure 4 is a diagram showing patterns printed with various pattern widths.
Figure 5 shows that the effective rate of the barrier width varies depending on the taper angle of the printed barrier pattern. The X-axis means the width of the printed barrier pattern (μm), and the Y-axis means the height of the printed barrier pattern (μm). The graph on the left compares the high barrier pattern height due to a high taper angle, and the graph on the right compares the low barrier pattern height due to a low taper angle.
Figure 6 shows the crosstalk measurement results of the barrier pattern implemented in Example 1.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Since the present invention can be modified in various ways and can have various embodiments, specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all transformations, equivalents, and substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention. In describing the present invention, if it is determined that a detailed description of related known technologies may obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.

본 발명에 따른 시차 배리어 패턴 제조방법은 잉크 조성물을 이용하여 기판 상에 시차 배리어 패턴을 도포하는 단계; 및 상기 도포된 조성물을 경화하여 시차 배리어 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.The method for manufacturing a parallax barrier pattern according to the present invention includes the steps of applying a parallax barrier pattern on a substrate using an ink composition; and curing the applied composition to form a parallax barrier pattern.

잉크젯 노즐에서는 초당 수 백회 내지는 수 천회 잉크가 분사되며, 분사된 잉크는 구형의 액적 형상을 이룬 상태로 기판 위에 착탄한다. 점의 형상을 지닌 잉크 액적의 착탄 간격을 인접하게 조절함으로써 직선형의 시차 배리어 패턴을 형성할 수 있다. Ink jet nozzles spray ink hundreds to thousands of times per second, and the sprayed ink lands on the substrate in the form of spherical droplets. A linear parallax barrier pattern can be formed by adjusting the impact intervals of dot-shaped ink droplets to be adjacent.

도 1에 도시된 바와 같이, 액적 간격을 좁게 하여 잉크 액적을 밀집할수록 잉크 액적이 넓게 퍼지기 때문에 넓은 폭의 직선형 패턴을 구현할 수 있다. 도 1에서는 1차원 간격 조절을 통한 폭 조절에 대해서만 설명하고 있으나, 다수의 선을 인접하게 배치함으로써 보다 넓은 폭의 패턴을 구현하는 것도 가능하다. As shown in FIG. 1, the narrower the spacing between droplets and the more dense the ink droplets are, the wider the ink droplets spread, making it possible to implement a wide linear pattern. In Figure 1, only width adjustment through one-dimensional spacing adjustment is explained, but it is also possible to implement a wider width pattern by arranging multiple lines adjacent to each other.

배리어 패턴의 설계 치수는 도 2에 도시된 바와 같으며, 배리어 패턴 간의 간격에서 배리어 폭을 뺀 것이 슬릿의 폭이 된다. 양질의 배리어 패턴을 얻기 위해서는 패턴의 간격 및 패턴 폭이 일정해야 하며, 그에 따라 슬릿의 폭 또한 일정해야 한다. 그러나 잉크젯 공정 중에는 잉크의 직진성 불량, 장비의 이송 오차, 헤드의 이송 오차 등 다양한 원인에 의한 포지셔닝 에러가 발생할 수 있으며, 이에 따라 도 2에서 회색/점선 영역으로 나타낸 바와 같이 슬릿 폭의 편차가 나타날 수 있다. 도 2의 우측 끝 배리어 패턴은 본래 회색/점선 영역에 인쇄되어야 하나, 특정한 원인에 따라 검정색/실선 영역과 같이 좌측으로 이동할 수 있다. 이와 같은 슬릿 폭의 오차는 수 μm 내지는 수십 μm에 이를 수 있는데, 디스플레이의 화면을 감상할 때 사용자가 불량으로 인지할 수 있다.The design dimensions of the barrier pattern are as shown in Figure 2, and the slit width is obtained by subtracting the barrier width from the gap between the barrier patterns. In order to obtain a high-quality barrier pattern, the pattern spacing and pattern width must be constant, and the slit width must also be constant accordingly. However, during the inkjet process, positioning errors may occur due to various reasons such as poor ink straightness, equipment transfer error, head transfer error, etc. As a result, deviations in slit width may appear as shown in the gray/dotted line area in Figure 2. there is. The barrier pattern at the right end of Figure 2 should originally be printed in the gray/dotted line area, but may be moved to the left, such as the black/solid line area, depending on a specific cause. This error in slit width can range from several μm to tens of μm, which may be perceived by the user as a defect when viewing the display screen.

상기 배리어 패턴의 테이퍼 각은 4° 내지 10°일 수 있으며, 또는 8° 내지 10°일 수 있다. 배리어 패턴의 테이퍼 각이 4° 미만일 경우는 배리어 패턴의 높이 감소와 함께 유효율이 20% 미만이며, 실질적으로 인쇄된 잉크 조성물이 10° 이상의 배리어 패턴을 달성하는 것은 곤란하다.The taper angle of the barrier pattern may be 4° to 10°, or may be 8° to 10°. When the taper angle of the barrier pattern is less than 4°, the height of the barrier pattern decreases and the effective rate is less than 20%, and it is difficult for the printed ink composition to achieve a barrier pattern of 10° or more.

상기 배리어 패턴의 폭은 100 내지 300 μm 일 수 있으며, 또는 130 내지 280 μm 일 수 있다. 배리어 패턴의 폭이 100 μm 미만일 경우, 통상적인 디스플레이 패널의 화소 크기보다 작기 때문에 소정의 차광 효과를 기대하기 어려우며, 배리어 패턴의 폭이 300 μm 이상일 경우, 고해상도의 디스플레이를 달성하기에는 적합하지 않다.The width of the barrier pattern may be 100 to 300 μm, or 130 to 280 μm. If the width of the barrier pattern is less than 100 μm, it is difficult to expect a certain light blocking effect because it is smaller than the pixel size of a typical display panel, and if the width of the barrier pattern is more than 300 μm, it is not suitable for achieving a high-resolution display.

상기 기판은 친수성 기판 또는 소수성 기판일 수 있다.The substrate may be a hydrophilic substrate or a hydrophobic substrate.

상기 기판은 통상의 디스플레이용 유리 기판일 수 있으며, 특히 상기 친수성 기판은 생산 또는 공정 중에 흡착할 수 있는 오염 유기물을 세정 용매와 세정기에 의해 화학적, 물리적으로 제거, UV 오존에 의한 화학적 처리, 코로나 방전에 의한 세정 처리 내지는 친수성 상압 플라즈마 세정 처리를 함으로써 잉크 조성물을 잘 퍼지게 한 유리 기판일 수 있다.The substrate may be a typical display glass substrate, and in particular, the hydrophilic substrate may be used to chemically and physically remove contaminant organic substances that may be adsorbed during production or processing using a cleaning solvent and a cleaner, chemical treatment with UV ozone, or corona discharge. It may be a glass substrate on which the ink composition is well spread by a cleaning treatment or a hydrophilic atmospheric pressure plasma cleaning treatment.

통상적으로 잉크 조성물의 인쇄 공정을 위해서는 친수성 기판을 채택하는 것이 유리하나, 본 발명에서는 소수성 기판을 생성한 후 조성물을 인쇄함으로써 높은 테이퍼 각을 구현할 수 있다. 상기 소수성 기판은 디스플레이 유리 기판에 균일한 소수성을 부여한 기판일 수 있다. 일 구현예에 따르면 상기 소수성 기판을 구현하기 위해, 탄화불소계 가스를 포함하는 기체에 의한 소수성 플라즈마로 소수화 처리를 진행할 수 있다. Typically, it is advantageous to adopt a hydrophilic substrate for the printing process of the ink composition, but in the present invention, a high taper angle can be realized by creating a hydrophobic substrate and then printing the composition. The hydrophobic substrate may be a substrate that imparts uniform hydrophobicity to a display glass substrate. According to one embodiment, in order to implement the hydrophobic substrate, hydrophobization treatment may be performed using hydrophobic plasma using a gas containing a fluorocarbon-based gas.

대안적으로는, 상기 소수성 기판은 유리 기판 상에 ITO(Indium Tin Oxide) 를 증착하여 수득한 기판일 수 있다.Alternatively, the hydrophobic substrate may be a substrate obtained by depositing ITO (Indium Tin Oxide) on a glass substrate.

상기 배리어 패턴은 배리어 유효율이 20 내지 80%일 수 있으며, 또는 50 내지 80%일 수 있다. 상기 배리어 유효율이 20% 미만일 경우, 크로스톡이 높고, 80% 초과일 경우에는 낮은 픽셀 밀도를 가질 가능성이 높다.The barrier pattern may have a barrier effectiveness rate of 20 to 80%, or may be 50 to 80%. If the barrier effectiveness rate is less than 20%, crosstalk is high, and if it is more than 80%, there is a high possibility of low pixel density.

여기서, 배리어 유효율은 배리어 패턴 폭을 배리어 유효 폭으로 나눈 것을 말한다.Here, the barrier effectiveness rate refers to the barrier pattern width divided by the barrier effective width.

도 3에서는 인쇄된 배리어 패턴을 측면에서 보았을 때 배리어 패턴의 치수 및 형상, 배리어 폭, 배리어 높이, 테이퍼 각 등을 설명한다. 배리어 패턴은 화소에서 방출되는 빛의 차광을 위한 것이기 때문에 일정한 정도의 차광 밀도가 필요하다. 차광 밀도는 높이에 비례하므로, 배리어 패턴의 높이가 일정 수준 이상의 높이를 가져야 차광이 가능하며, 이 높이를 유효 높이라 정의한다. 배리어 패턴의 폭은 기판 위에 배리어 패턴이 시작되는 지점으로부터 끝나는 지점까지의 총 거리를 의미하며, 유효 폭이란 유효 높이 이상의 높이를 가짐으로써 충분한 차광 능력을 지니는 부분의 거리를 의미한다. 총 배리어 폭 대 유효 폭의 비율을 유효율이라 정의한다. 테이퍼 각은 배리어 폭의 시작 지점에서 기판과 패턴이 이루는 각으로, 동일한 배리어 폭을 갖더라도 테이퍼 각이 높을수록 배리어 높이가 높아지고, 따라서 유효 높이 이상의 높이를 갖는 유효 폭이 증가하며, 최종적으로 유효율이 증가한다.Figure 3 explains the dimensions and shape of the printed barrier pattern, barrier width, barrier height, taper angle, etc. when viewed from the side. Since the barrier pattern is intended to block light emitted from the pixel, a certain level of light blocking density is required. Since light blocking density is proportional to height, light blocking is possible only when the height of the barrier pattern is above a certain level, and this height is defined as the effective height. The width of the barrier pattern refers to the total distance from the starting point to the ending point of the barrier pattern on the substrate, and the effective width refers to the distance of the portion that has sufficient light blocking ability by having a height higher than the effective height. The ratio of the total barrier width to the effective width is defined as the effective rate. The taper angle is the angle formed between the substrate and the pattern at the starting point of the barrier width. Even if the barrier width is the same, the higher the taper angle, the higher the barrier height. Therefore, the effective width with a height higher than the effective height increases, and ultimately the effective rate increases. increases.

상기 기판 상에 패턴을 형성하는 방법으로는 포토리소그라피 및 스크린 인쇄 대신 자외선 경화 수지를 이용한 잉크젯(Inkjet) 인쇄, 그라비아(Gravure) 코팅 및 리버스 오프셋(Reverse offset) 코팅 중에서 선택된 방법을 사용할 수 있다.As a method of forming a pattern on the substrate, a method selected from among inkjet printing using ultraviolet curing resin, gravure coating, and reverse offset coating can be used instead of photolithography and screen printing.

본 발명에 자외선 경화성 잉크 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는, 예컨대 파장이 250 내지 450㎚의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, Xe 아크, LED 경화기 등이 있으나 반드시 이에 제한되지는 않는다.Light sources for curing the ultraviolet curable ink composition of the present invention include, but are not necessarily limited to, mercury vapor arc, carbon arc, No.

이하, 본 발명에 따른 시차 배리어 패턴을 형성하는데 사용되는 잉크 조성물에 대해 설명한다.Hereinafter, the ink composition used to form the parallax barrier pattern according to the present invention will be described.

본 발명에서 사용되는 잉크 조성물은 지환식 에폭시 단량체를 포함할 수 있다. The ink composition used in the present invention may include an alicyclic epoxy monomer.

상기 지환식 에폭시 단량체는, 에폭시화 지방족 고리기를 하나 이상 포함하는 화합물을 의미할 수 있다.The alicyclic epoxy monomer may refer to a compound containing one or more epoxidized aliphatic ring groups.

에폭시화 지방족 고리기를 포함하는 상기 지환족 에폭시 화합물에서, 상기 에폭시화 지방족 고리기는 지환식 고리에 결합된 에폭시 기를 의미하는 것으로, 예를 들면, 3,4-에폭시시클로펜틸기, 3,4-에폭시시클로헥실기, 3,4-에폭시시클로펜틸메틸기, 3,4-에폭시시클로헥실메틸기, 2-(3,4-에폭시시클로펜틸)에틸기, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸기, 3-(3,4-에폭시시클로페틸)프로필기 또는 3-(3,4-에폭시시클로헥실)프로필기 등의 관능기가 예시될 수 있다. 상기에서 지환식 고리를 구성하는 수소 원자는, 임의적으로 알킬기 등의 치환기에 의해 치환될 수도 있다. 상기 지환식 에폭시 화합물로는, 예를 들면, 이하에서 구체적으로 예시되는 화합물을 사용할 수 있으나, 사용할 수 있는 에폭시 화합물이 하기의 종류에 제한되는 것은 아니다.In the alicyclic epoxy compound containing an epoxidized aliphatic ring group, the epoxidized aliphatic ring group refers to an epoxy group bonded to an alicyclic ring, for example, 3,4-epoxycyclopentyl group, 3,4-epoxy Cyclohexyl group, 3,4-epoxycyclopentylmethyl group, 3,4-epoxycyclohexylmethyl group, 2-(3,4-epoxycyclopentyl)ethyl group, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl group, 3- Examples may include functional groups such as (3,4-epoxycyclophethyl)propyl group or 3-(3,4-epoxycyclohexyl)propyl group. The hydrogen atom constituting the alicyclic ring above may be optionally substituted with a substituent such as an alkyl group. As the alicyclic epoxy compound, for example, compounds specifically exemplified below can be used, but the epoxy compounds that can be used are not limited to the types below.

예컨대, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4'-에폭시시클로헥산, 디시클로펜타디엔디옥사이드, 시클로헥센옥사이드, 4-비닐-1,2-에폭시-4-비닐시클로헥센, 비닐시클로헥센디옥사이드, 리모넨모노옥사이드, 리모넨디옥사이드, (3,4-에폭시시클로헥실)메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3-비닐시클로헥센옥사이드, 비스(2,3-에폭시시클로펜틸)에테르, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 비스(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸)아디페이트, (3,4-에폭시시클로헥실)메틸알코올, (3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실)메틸-3,4-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복실레이트, 에틸렌글리콜비스(3,4-에폭시시클로헥실)에테르, 3,4-에폭시시클로헥센카르본산 에틸렌글리콜디에스테르, (3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 다이셀 코포레이션사의 셀록사이드 8000 등을 사용할 수 있다. For example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4'-epoxycyclohexane, dicyclopentadiene dioxide, cyclohexene oxide, 4-vinyl-1,2-epoxy-4-vinylcyclohexene, vinylcyclohexene dioxide. , limonene monooxide, limonene dioxide, (3,4-epoxycyclohexyl)methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3-vinylcyclohexene oxide, bis(2,3-epoxycyclopentyl)ether, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate, bis(3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl)adipate, (3,4-epoxycyclohexyl)methyl alcohol, (3,4-epoxy- 6-methylcyclohexyl)methyl-3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, ethylene glycol bis(3,4-epoxycyclohexyl)ether, 3,4-epoxycyclohexenecarboxylic acid ethylene glycol diester , (3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, Celoxide 8000 from Daicel Corporation, etc. can be used.

상기 지환식 에폭시 단량체의 함량은 상기 잉크 조성물의 총 중량에 대하여 5 내지 30 중량%일 수 있으며, 또는 10 내지 20 중량%일 수 있다. 상기 함량이 5 중량% 미만이면 경도가 저하될 수 있으며, 상기 함량이 30 중량%를 초과하면 점도가 높아지는 문제점이 있다.The content of the alicyclic epoxy monomer may be 5 to 30% by weight, or 10 to 20% by weight, based on the total weight of the ink composition. If the content is less than 5% by weight, hardness may decrease, and if the content exceeds 30% by weight, viscosity increases.

또한, 본 발명에서 사용되는 잉크 조성물은 옥세탄 단량체를 포함할 수 있다.Additionally, the ink composition used in the present invention may include an oxetane monomer.

옥세탄 단량체는, 분자 구조 내에 4원 고리형 에테르기를 가지는 화합물로서, 양이온성 경화된 잉크 조성물의 점도를 낮추는(일례로, 25℃에서 50 cPs 미만) 작용을 할 수 있다.The oxetane monomer is a compound having a 4-membered cyclic ether group in its molecular structure, and can function to lower the viscosity of the cationic cured ink composition (for example, to less than 50 cPs at 25°C).

구체적으로는, 3-에틸-3-히드록시메틸 옥세탄, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]벤젠, 비스[1-(에틸(3-옥세타닐))메틸 에테르, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 디[(3-에틸-3-옥세타닐)메틸]에테르, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-시클로헥실옥시메틸 옥세탄 또는 페놀노볼락 옥세탄 등이 예시될 수 있다. 옥세탄 화합물로는, 예를 들면, 토아고세이㈜사의 「알론옥세탄 OXT-101」, 「알론옥세탄 OXT-121」, 「알론옥세탄 OXT-211」, 「알론옥세탄 OXT-221」 또는 「알론옥세탄 OXT-212」 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독으로, 혹은 2종 이상을 조합으로 이용할 수 있다.Specifically, 3-ethyl-3-hydroxymethyl oxetane, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene, bis[1-(ethyl(3-oxeta) Nyl))methyl ether, 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane, di[(3-ethyl-3-oxetanyl)methyl]ether, 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl ) Oxetane, 3-ethyl-3-cyclohexyloxymethyl oxetane, or phenol novolac oxetane may be exemplified. Examples of the oxetane compound include "Alonoxetane OXT-101", "Alonoxetane OXT-121", "Alonoxetane OXT-211", and "Alonoxetane OXT-221" manufactured by Toagosei Co., Ltd., or “Alonoxetane OXT-212” etc. can be used. These can be used individually or in combination of two or more types.

상기 옥세탄 단량체의 함량은 상기 잉크 조성물의 총 중량에 대하여 10 내지 40 중량%일 수 있으며, 또는 20 내지 30 중량%일 수 있다. 상기 함량이 10 중량% 미만이면 점도가 상승하여 코팅성이 저하될 수 있으며, 상기 함량이 40 중량%를 초과하면 경화도가 불충분할 수 있다.The content of the oxetane monomer may be 10 to 40% by weight, or 20 to 30% by weight, based on the total weight of the ink composition. If the content is less than 10% by weight, the viscosity may increase and coating properties may be reduced, and if the content exceeds 40% by weight, the degree of curing may be insufficient.

본 발명에서 사용되는 잉크 조성물은 착색제를 포함할 수 있다. The ink composition used in the present invention may contain a colorant.

상기 착색제로는 1종 이상의 안료, 염료 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있으며, 필요에 따른 색을 발현할 수 있다면 특별히 한정하지 않는다.As the colorant, one or more types of pigments, dyes, or mixtures thereof may be used, and are not particularly limited as long as they can express the desired color.

일 구체예로서는, 흑색 안료로서 카본 블랙, 흑연, 금속 산화물, 유기블랙 안료 등을 사용할 수 있다.As a specific example, carbon black, graphite, metal oxide, organic black pigment, etc. can be used as the black pigment.

또한, 본 발명에 사용되는 착색제는 적색, 청색, 황색, 녹색과 같이 유기 컬러 안료의 조합으로 이루어진 조색 안료, 흑색 또는 컬러 염료의 조합일 수 있다.Additionally, the colorant used in the present invention may be a coloring pigment made of a combination of organic color pigments such as red, blue, yellow, and green, or a combination of black or color dyes.

상기 유기 블랙 안료로는 아닐린 블랙, 락탐 블랙 또는 페릴렌 블랙계열 등을 사용할 수 있으나, 이로 한정하는 것은 아니다.The organic black pigment may be aniline black, lactam black, or perylene black, but is not limited thereto.

본 발명에서 사용되는 잉크 조성물은 장파장의 자외선(일예로 365 또는 395 nm)의 조사에 의해 경화되어 막 두께 3 μm 이하에서 일정 수준의 OD(광학 밀도, Optical Density)를 갖는 것을 특징으로 한다. The ink composition used in the present invention is cured by irradiation of long-wavelength ultraviolet rays (for example, 365 or 395 nm) and is characterized by having a certain level of OD (Optical Density) at a film thickness of 3 μm or less.

이를 위해, 상기 착색제의 함량은 상기 잉크 조성물의 총 중량에 대하여 10 내지 30 중량%일 수 있으며, 또는 10 내지 20 중량%일 수 있다. 착색제의 함량이 10 중량% 미만일 경우, 원하는 수준의 OD가 나타나지 않을 수 있으며, 상기 함량이 30 중량% 초과일 경우, 과량의 착색제가 잉크에 분산되지 않고 침전물이 형성될 수 있으며, 심부 광경화 효율이 크게 저하될 수 있다.For this purpose, the content of the colorant may be 10 to 30% by weight, or 10 to 20% by weight, based on the total weight of the ink composition. If the content of the colorant is less than 10% by weight, the desired level of OD may not appear, and if the content is more than 30% by weight, the excess colorant may not be dispersed in the ink and a precipitate may be formed, and deep photocuring efficiency may be reduced. This can be greatly reduced.

상기 착색제의 함량이 상기 범위 내인 경우 경화 후 조성물의 막 두께 3 μm 이하에서 OD는 2.0 이상을 달성할 수 있다.When the content of the colorant is within the above range, OD can be achieved at 2.0 or more at a film thickness of 3 μm or less after curing.

본 발명에서 사용되는 잉크 조성물은 용매를 포함할 수 있다.The ink composition used in the present invention may include a solvent.

상기 유기용매는, 본 발명에 따른 잉크 조성물을 이용하여 디스플레이 기판에 배리어 패턴을 인쇄한 후에도, 경화감도가 우수한 것이라면 특별한 제한 없이 사용할 수 있으나, 잉크젯 공정 성능을 향상시키기 위하여, 비점이 200 ℃ 이상이고, 25 ℃에서 점도가 1 내지 5 cP, 바람직하게는 3 cP 이하인 것을 사용하는 것이 좋다.The organic solvent may be used without particular limitations as long as it has excellent curing sensitivity even after printing a barrier pattern on a display substrate using the ink composition according to the present invention. However, in order to improve inkjet process performance, the organic solvent must have a boiling point of 200° C. or higher. , it is recommended to use one with a viscosity of 1 to 5 cP at 25°C, preferably 3 cP or less.

본 발명에서는, 잉크젯 공정 성능을 향상 또는 개선시킬 수 있는 유기용매의 사용이 요구되는데, 잉크젯 공정 성능은 상술한 바와 같은 고비점 및 저점도의 조건(비점이 200 ℃ 이상이고, 25 ℃에서 점도가 1 내지 5 cP, 특히, 3 cP 이하)을 만족하는 유기용매를 사용할수록 향상되므로, 이와 같은 조건을 만족하는 유기용매, 예를 들어, 부틸 다이글라임(Butyl diglyme, 또는 디에틸렌글리콜 디부틸에테르), 디프로필렌글리콜 메틸에테르 아세테이트(Dipropylene glycol methyl ether acetate), 에틸렌글리콜 디부티레이트(ethylene glycol dibutyrate), 디에틸 숙신산(Diethyl succinate) 및 에틸 카프레이트(Ethyl caprate)와 같은 유기용매를 사용하여야 하며, 상기 부틸 다이글라임을 사용하는 것이 가장 바람직하다.In the present invention, the use of an organic solvent that can enhance or improve the inkjet process performance is required, and the inkjet process performance is achieved under the conditions of high boiling point and low viscosity as described above (boiling point is 200°C or higher, viscosity is 25°C). Since the use of an organic solvent that satisfies 1 to 5 cP, especially 3 cP or less, improves, the use of an organic solvent that satisfies these conditions, for example, butyl diglyme (Butyl diglyme, or diethylene glycol dibutyl ether) ), Dipropylene glycol methyl ether acetate, ethylene glycol dibutyrate, diethyl succinate, and ethyl caprate must be used. It is most preferable to use the butyl diglyme.

상기 용매의 함량은 잉크 조성물의 총 중량에 대하여 10 내지 50 중량%일 수 있으며, 또는 15 내지 35 중량%일 수 있다. 상기 함량이 10 중량% 미만이면 용매의 함량이 불충분하기 때문에 코팅성이 저하될 수 있으며, 상기 함량이 50 중량% 초과이면 반응에 참여하지 않는 용매의 함량이 너무 높기 때문에 중합을 방해할 수 있어 경화 감도가 저하되거나 공극이 형성될 수 있다.The content of the solvent may be 10 to 50% by weight, or 15 to 35% by weight, based on the total weight of the ink composition. If the content is less than 10% by weight, the coating properties may be reduced because the solvent content is insufficient, and if the content is more than 50% by weight, the content of the solvent that does not participate in the reaction is too high, which may interfere with polymerization, resulting in curing. Sensitivity may decrease or voids may form.

또한, 본 발명에서 사용되는 잉크 조성물은 계면활성제를 포함할 수 있다.Additionally, the ink composition used in the present invention may contain a surfactant.

상기 계면활성제로는 시판품을 사용할 수 있으며, 예를 들면 BYK사의 BYK-307, BYK-310, BYK-320, BYK-331, BYK-333, BYK-344, BYK-350, BYK-354, BYK-355, BYK-356, BYK-358N, BYK-359, BYK-361N, BYK-381, BYK-370, BYK-371, BYK-373, BYK-378, BYK-388, BYK-392, BYK-394, BYK-SILCLEAN 3700, BYK-SILCLEAN 3710, BYK-UV 3570 또는 TEGO 사의 TEGO® Wet 500, TEGO® Wet 280, TEGO® Wet 260, TEGO® Wet 270, TEGO® Wet 240, TEGO® Wet KL 245, TEGO® Glide 100, TEGO® Glide 110, TEGO® Glide 130, TEGO® Glide 406, TEGO® Glide 410, TEGO® Glide 411, TEGO® Glide 415, TEGO® Glide 432, TEGO® Glide 435, TEGO® Rad 2010, TEGO® Rad 2011, TEGO® Rad 2100, TEGO® Rad 2200 N, TEGO® Rad 2250, TEGO® Rad 2500 및 TEGO® Rad 2700 등으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 사용할 수 있다.Commercially available surfactants can be used, for example, BYK's BYK-307, BYK-310, BYK-320, BYK-331, BYK-333, BYK-344, BYK-350, BYK-354, BYK- 355, BYK-356, BYK-358N, BYK-359, BYK-361N, BYK-381, BYK-370, BYK-371, BYK-373, BYK-378, BYK-388, BYK-392, BYK-394, BYK-SILCLEAN 3700, BYK-SILCLEAN 3710, BYK-UV 3570 or TEGO ® Wet 500, TEGO ® Wet 280, TEGO ® Wet 260, TEGO ® Wet 270, TEGO ® Wet 240, TEGO ® Wet KL 245, TEGO ® from TEGO Glide 100, TEGO ® Glide 110, TEGO ® Glide 130 , TEGO ® Glide 406, TEGO ® Glide 410, TEGO ® Glide 411, TEGO ® Glide 415, TEGO ® Glide 432, TEGO ® Glide 435, TEGO ® Rad 2010, TEGO ® One selected from the group consisting of Rad 2011, TEGO ® Rad 2100, TEGO ® Rad 2200 N, TEGO ® Rad 2250, TEGO ® Rad 2500 and TEGO ® Rad 2700 can be used.

상기 계면활성제의 함량은 상기 잉크 조성물의 총 중량에 대하여 0.05 내지 5 중량%일 수 있으며, 또는 0.1 내지 2 중량%일 수 있다. 상기 계면활성제의 함량이 0.05 중량% 미만일 경우에는 원하는 수준으로 잉크의 퍼짐성이 제어되지 않아 정밀 패턴 인쇄에 어려움이 생기게 되고, 상기 함량이 5 중량%를 초과할 경우에는 계면활성제가 과량으로 사용되어 조성물의 상용성 및 소포성이 오히려 감소하게 되는 문제점이 있다.The content of the surfactant may be 0.05 to 5% by weight, or 0.1 to 2% by weight, based on the total weight of the ink composition. If the content of the surfactant is less than 0.05% by weight, the spreadability of the ink is not controlled to the desired level, resulting in difficulty in printing precise patterns, and if the content exceeds 5% by weight, the surfactant is used in excess and the composition There is a problem in that the compatibility and defoaming properties are rather reduced.

본 발명에서 사용되는 잉크 조성물은 광중합 개시제를 포함할 수 있다.The ink composition used in the present invention may include a photopolymerization initiator.

본 발명의 잉크 조성물은 양이온성 광중합 개시제로서 자외선의 조사에 의해 양이온(cation) 종이나 브론스테드산을 만들어내는 화합물, 예를 들면 요오드늄 염 또는 설포늄 염 등을 포함하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The ink composition of the present invention contains, as a cationic photopolymerization initiator, a compound that produces cationic species or Bronsted acid upon irradiation of ultraviolet rays, such as an iodonium salt or a sulfonium salt, but is necessarily limited thereto. It doesn't work.

상기 요오드늄 염 또는 설포늄 염은 자외선 경화 과정에서 잉크에 함유된 불포화 이중결합을 갖는 모노머가 반응하여 고분자를 형성하는 경화 반응이 일어나도록 하며, 중합 효율에 따라 광증감제를 사용할 수도 있다.The iodonium salt or sulfonium salt causes a curing reaction in which monomers having unsaturated double bonds contained in the ink react to form a polymer during the ultraviolet curing process, and a photosensitizer may be used depending on the polymerization efficiency.

일 예로, 상기 광중합 개시제는 SbF6-, AsF6-, BF6-, (C6F5)4B-, PF6- 혹은 RfnF6-n으로 표시되는 음이온을 갖는 것일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. For example, the photopolymerization initiator may have an anion represented by SbF 6 -, AsF 6 -, BF 6 -, (C 6 F 5 ) 4 B-, PF 6 - or RfnF 6-n , but is necessarily limited thereto. It doesn't work.

상기 광중합 개시제는 자외선 경화형 잉크 조성물의 총 중량에 대하여 1 내지 15 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 2 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제의 함량이 1 중량% 미만이면 경화 반응이 충분하지 않고, 15 중량% 초과이면 모두 용해되지 않거나 점도가 증가하여 코팅성이 저하될 수 있다.The photopolymerization initiator is preferably included in 1 to 15% by weight, more preferably 2 to 10% by weight, based on the total weight of the ultraviolet curable ink composition. If the photopolymerization initiator content is less than 1% by weight, the curing reaction is not sufficient, and if it is more than 15% by weight, the photopolymerization initiator may not be completely dissolved or the viscosity may increase, resulting in reduced coating properties.

또한, 본 발명에서 사용되는 잉크 조성물은 상기에 기재된 성분 외에도 당업계에 통상적으로 사용되는 성분, 예를 들어, 광증감제, 밀착증진제 등을 포함할 수 있다.In addition, the ink composition used in the present invention may include ingredients commonly used in the art, such as photosensitizers and adhesion enhancers, in addition to the ingredients described above.

상기 잉크 조성물은 일 예로 25℃에서 1cP 내지 50cP, 더욱 바람직하게는 25℃에서 1cp 내지 30cp의 점도를 가짐으로써 잉크젯 공정에 적합하다. 상기의 점도 범위를 갖는 자외선 경화형 잉크 조성물은 공정 온도에서의 토출이 양호하다.For example, the ink composition has a viscosity of 1 cP to 50 cP at 25°C, more preferably 1 cp to 30 cp at 25°C, making it suitable for the inkjet process. The ultraviolet curable ink composition having the above viscosity range has good ejection at the process temperature.

본 발명에서 사용하는 자외선 경화형 잉크 조성물은 잉크젯 프린팅 직후 짧은 시간 내에 퍼짐이 일어나서, 우수한 도막 특성을 나타내며, 경화되어 우수한 접착 특성을 나타낸다. 따라서, 상기 자외선 경화형 잉크 조성물을 적용시에는 잉크젯 프린팅과 동시에 경화가 가능하도록 잉크젯 헤드 바로 뒤에 UV-lamp를 설치하는 것이 바람직하다. The ultraviolet curable ink composition used in the present invention spreads within a short time immediately after inkjet printing, exhibits excellent film properties, and hardens to exhibit excellent adhesive properties. Therefore, when applying the ultraviolet curable ink composition, it is desirable to install a UV-lamp immediately behind the inkjet head to enable curing at the same time as inkjet printing.

상기 자외선 경화형 잉크 조성물은 경화 도즈량이 1 내지 10,000 mJ/㎠, 바람직하게는 100 내지 3,000 mJ/㎠이다. 상기 자외선 경화형 잉크 조성물은 250 nm 내지 450 nm, 바람직하게는 360 nm 내지 410 nm의 파장 범위에서 방사선을 흡수하여 경화된다.The ultraviolet curable ink composition has a curing dose of 1 to 10,000 mJ/cm2, preferably 100 to 3,000 mJ/cm2. The ultraviolet curable ink composition is cured by absorbing radiation in a wavelength range of 250 nm to 450 nm, preferably 360 nm to 410 nm.

또한, 본 발명은 상기 제조방법에 의해 형성된 시차 배리어 패턴을 제공한다.Additionally, the present invention provides a parallax barrier pattern formed by the above manufacturing method.

상기 배리어 패턴은 경화 처리한 후에 측정되는 두께가 0.1㎛ 내지 20㎛일 수 있으며, 또는 0.5㎛ 내지 5㎛일 수 있다. 본 발명의 시차 배리어 패턴은 상기와 같은 특징을 가짐으로써 큰 단차에 의한 단락, 기포 발생 및 필름의 이형에 따른 시감 품위 저하를 나타내지 않을 수 있다.The barrier pattern may have a thickness measured after curing of 0.1 ㎛ to 20 ㎛, or 0.5 ㎛ to 5 ㎛. The parallax barrier pattern of the present invention has the above-described characteristics, so that it does not exhibit short-circuiting due to large step differences, generation of bubbles, or deterioration in viewing quality due to release of the film.

상기 시차 배리어 패턴의 광학밀도는 막 두께 1.0㎛ 기준으로 0.05 내지 2.5이며, 필요에 따라, 0.1 내지 1.0일 수 있다. 이 경우 패턴에 의한 차폐특성이 우수한 장점이 있다. 광학밀도가 2.5를 초과할 경우에는 투입해야 할 안료의 요구 함량이 매우 높아지기 때문에 잉크의 제조 및 잉크젯 공정에 악영향을 미칠 수 있으며, 자외선 경화성 잉크 조성물이 방사선에 의한 경화되는 것을 저해할 수 있다.The optical density of the parallax barrier pattern is 0.05 to 2.5 based on a film thickness of 1.0 μm, and may be 0.1 to 1.0, if necessary. In this case, there is an advantage in that the shielding characteristics due to the pattern are excellent. If the optical density exceeds 2.5, the required amount of pigment to be added becomes very high, which may have a negative effect on ink manufacturing and inkjet processes, and may inhibit curing of the ultraviolet curable ink composition by radiation.

또한, 본 발명은 상기 시차 배리어 패턴을 포함하는 다중 시각 디스플레이 패널을 제공한다.Additionally, the present invention provides a multi-view display panel including the parallax barrier pattern.

이하 발명의 구체적인 실시예를 통해 발명의 작용, 효과를 보다 구체적으로 설명하기로 한다. 다만, 이는 발명의 예시로서 제시된 것으로 이에 의해 발명의 권리범위가 어떠한 의미로든 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the operation and effects of the invention will be described in more detail through specific examples of the invention. However, this is presented as an example of the invention and the scope of the invention is not limited in any way.

실시예Example

참고예 1: 잉크젯 조성물 제조Reference Example 1: Preparation of inkjet composition

착색제로서 피그먼트 블랙 6, 에폭시 단량체로서 셀록사이드 2021P (Daicel사 제조), 옥세탄 단량체로서 아론 옥세탄 221 (TOAGOSEI사 제조), 용매로서 부필 다이글라임 (BASF사 제조), 광중합 개시제로서 옴니캣 250 (IGM 레진사 제조) 및 계면활성제로서 BYK-373 (BYK사 제조)를 하기 표 1에 제시된 비율(중량%)로 반응기에 투입하고, 6시간 동안 교반 혼합하여 조성물 A를 제작하였다. 표 1에서 각 성분의 함량은 전체 조성물에 대한 중량%로 나타낸다.Pigment Black 6 as a colorant, Celoxide 2021P (manufactured by Daicel) as an epoxy monomer, Aaron Oxetane 221 (manufactured by TOAGOSEI) as an oxetane monomer, Bupyl Diglyme (manufactured by BASF) as a solvent, Omnicat as a photopolymerization initiator. 250 (manufactured by IGM Resin) and BYK-373 (manufactured by BYK) as a surfactant were added to the reactor in the proportions (% by weight) shown in Table 1 below, and stirred and mixed for 6 hours to prepare Composition A. In Table 1, the content of each ingredient is expressed as weight percent based on the total composition.

착색제coloring agent 에폭시
단량체
epoxy
monomer
옥세탄
단량체
oxetane
monomer
용매menstruum 계면활성제Surfactants 광중합
개시제
light curing
initiator
조성물 AComposition A 1515 1010 3535 3030 2.52.5 7.57.5

<제조예><Manufacturing example>

상기 조성물 A를 이용하여 잉크젯 프린터(UJ-200, Unijet사 제조)를 이용하여 프린팅 전압(2-8-2 us, 100V), 프린팅 헤드 온도 40 ℃, 구동 속도 1000 Hz 의 조건으로 기판 상에 미세선 패턴을 형성하였다. 상기 기판은 합착이 완료된 디스플레이용 LCD 패널을 사용하거나, 디스플레이용으로 제조된 보로실리케이트 유리 또는 내알칼리성 유리를 사용한다. 제조 공정 상의 이물에 의한 오염을 제거하기 위해 UV ozone으로 5 분간 세정하였다. 잉크젯 인쇄에 의해 형성된 선형 패턴에 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 시차 배리어 패턴을 형성하였다. 자외선 조사기를 UV LED 램프를 사용하였으며, 적산 광량계 UVV 파장 기준으로 약 2000 mJ/cm2의 광량만큼 조사하였다 광량 측정에는 UV Power Puck 2 (EIT사)가 이용되었다.Using the composition A, an inkjet printer (UJ-200, manufactured by Unijet) was used to print fine prints on a substrate under the conditions of printing voltage (2-8-2 us, 100V), printing head temperature of 40°C, and driving speed of 1000 Hz. A line pattern was formed. The substrate uses a fully bonded display LCD panel, or uses borosilicate glass or alkali-resistant glass manufactured for displays. To remove contamination caused by foreign substances during the manufacturing process, it was cleaned with UV ozone for 5 minutes. A parallax barrier pattern was formed by curing the linear pattern formed by inkjet printing by irradiating ultraviolet rays. A UV LED lamp was used as the ultraviolet irradiator, and a light amount of about 2000 mJ/cm 2 was irradiated based on the UVV wavelength of the integrated photometer. UV Power Puck 2 (EIT) was used to measure the light amount.

<실시예 1><Example 1>

상기 조성물 A를 이용하여 제조예에 기재된 바와 같이 유리 재질의 기판 위에 잉크젯 공정으로 인쇄를 실시하였다. 그 결과, 테이퍼 각이 4.30° 이고, 배리어 패턴 폭이 200.3 μm인 배리어 패턴을 구현하였다. 배리어 유효 폭은 42.3 μm로 배리어 유효율은 21.1%이며, 낮은 크로스톡을 나타내었다.Using the composition A, printing was performed using an inkjet process on a glass substrate as described in the preparation example. As a result, a barrier pattern with a taper angle of 4.30° and a barrier pattern width of 200.3 μm was implemented. The effective barrier width was 42.3 μm, the barrier effective rate was 21.1%, and low crosstalk was observed.

<실시예 2><Example 2>

테이퍼각이 4.34° 이고 패턴 폭이 224.4 μm인 배리어 패턴을 구현한 것을 제외하고는, 실시예 1에서와 같이 하여 배리어 패턴을 형성하였다. 배리어 유효 폭은 103.7 μm로 증가하고 그에 따라 배리어 유효율은 46.2%로 증가하였고, 낮은 크로스톡을 나타내었다. A barrier pattern was formed as in Example 1, except that a barrier pattern with a taper angle of 4.34° and a pattern width of 224.4 μm was implemented. The barrier effective width increased to 103.7 μm, and the barrier effective rate accordingly increased to 46.2%, showing low crosstalk.

<실시예 3><Example 3>

테이퍼각이 4.53° 이고 패턴 폭이 283.6 μm인 배리어 패턴을 구현한 것을 제외하고는, 실시예 1에서와 같이 하여 배리어 패턴을 형성하였다. 배리어 유효 폭은 157.0 μm로 증가하고 그에 따라 배리어 유효율은 55.3%로 증가하였고, 낮은 크로스톡을 나타내었다.A barrier pattern was formed as in Example 1, except that a barrier pattern with a taper angle of 4.53° and a pattern width of 283.6 μm was implemented. The barrier effective width increased to 157.0 μm, and the barrier effective rate accordingly increased to 55.3%, showing low crosstalk.

<실시예 4><Example 4>

상기 조성물 A를 이용하여 제조예에 기재된 바와 같이 유리 위에 ITO (Indium Tin Oxide) 타겟을 스퍼터링에 의해 250 Å의 두께를 갖도록 증착하여 수득한 기판 위에 잉크젯 공정으로 인쇄를 실시하였다. 그 결과, 도 5에 도시된 바와 같이, 유리 기판에 비해 높은 8.19°의 테이퍼 각이 얻어졌으며, 배리어 유효 폭은 153.0 μm로 감소하였음에도 배리어 유효율은 65.8%로 높고, 낮은 크로스톡을 나타내었다.Using Composition A, an ITO (Indium Tin Oxide) target was deposited on glass to a thickness of 250 Å by sputtering as described in the Preparation Example, and printing was performed using an inkjet process on a substrate obtained. As a result, as shown in Figure 5, a taper angle of 8.19°, which is higher than that of the glass substrate, was obtained, and although the effective barrier width was reduced to 153.0 μm, the barrier effective rate was high at 65.8% and low crosstalk was shown.

<실시예 5><Example 5>

C4F8를 이용한 플라즈마로 유리 기판을 10초 내지 30초간 표면처리함으로써 소수화 처리한다. 상기 조성물 A를 이용하여 제조예에 기재된 바와 같이 상기 소수화 처리 유기 기판 위에 잉크젯 공정으로 인쇄를 실시하였다. 그 결과, 도 5에 도시된 바와 같이, 8.18°로 높은 테이퍼 각이 얻어졌으며, 배리어 유효 폭은 84.5 μm로 감소하였음에도 배리어 유효율은 63.6%로 높고, 낮은 크로스톡을 나타내었다.The glass substrate is hydrophobized by surface treating it with plasma using C 4 F 8 for 10 to 30 seconds. Using the composition A, printing was performed using an inkjet process on the hydrophobized organic substrate as described in the preparation example. As a result, as shown in Figure 5, a high taper angle of 8.18° was obtained, and although the barrier effective width was reduced to 84.5 μm, the barrier effective rate was high at 63.6% and low crosstalk was observed.

<비교예 1><Comparative Example 1>

테이퍼각이 3.90° 이고 패턴 폭이 159.0 μm인 배리어 패턴을 구현한 것을 제외하고는, 실시예 1에서와 같이 하여 배리어 패턴을 형성하였다. 배리어 패턴 높이는 2.3 μm에 불과하고, 유효율이 0%에 불과하였기 때문에 크로스톡이 높은 결과를 나타내었다.A barrier pattern was formed as in Example 1, except that a barrier pattern with a taper angle of 3.90° and a pattern width of 159.0 μm was implemented. The barrier pattern height was only 2.3 μm, and the effectiveness rate was only 0%, resulting in high crosstalk.

<비교예 2><Comparative Example 2>

패턴 폭이 434.7 μm로 넓은 배리어 패턴을 구현한 것을 제외하고는, 실시예 1에서와 같이 하여 배리어 패턴을 형성하였다. 배리어 유효율은 81.7%에 달하지만, 픽셀 밀도가 상대적으로 낮기 때문에 최근의 고해상도화 경향에 맞지 않았다.A barrier pattern was formed as in Example 1, except that a wide barrier pattern was implemented with a pattern width of 434.7 μm. The barrier effectiveness rate reached 81.7%, but because the pixel density was relatively low, it did not fit the recent trend toward higher resolution.

<실험예><Experimental example>

배리어 유효 높이의 측정Measurement of barrier effective height

조성물 A에 의해 형성된 배리어 패턴의 유효 높이는 다음과 같이 계산할 수 있다. 크로스톡을 방지할 수 있는 차광율 99.5%가 필요하며, 이 때의 광학 밀도(OD)는 2.3이 된다. 조성물 A는 막 두께 3.2 μm에서 OD 2.3을 지니므로, 유효 높이가 된다. 막 두께의 측정은 접촉식 표면 프로파일 측정기 (KLA Tencor, ASIQ), 박막 OD 측정은 X-rite 341C를 이용하여 측정하였다.The effective height of the barrier pattern formed by Composition A can be calculated as follows. A light blocking rate of 99.5% is required to prevent crosstalk, and the optical density (OD) at this time is 2.3. Composition A has an OD of 2.3 at a film thickness of 3.2 μm, resulting in an effective height. Film thickness was measured using a contact surface profile meter (KLA Tencor, ASIQ), and thin film OD was measured using an X-rite 341C.

접촉식 표면 프로파일 측정기를 이용하여 도 3에 도시된 바와 같이 인쇄된 배리어 패턴의 치수 및 형상, 즉 배리어 폭, 배리어 높이, 테이퍼 각을 측정하였다. 테이퍼 각은 배리어 패턴이 시작되는 지점으로부터 100 μm 내외의 거리에서의 높이 변화로부터 삼각함수로 계산한 값(탄젠트 거리/높이)을 채택하였다. 유효 폭은 표면 프로파일 데이터로부터 높이가 3.2 μm 이상인 영역의 폭으로부터 계산할 수 있다. 도 4에서와 같이 다양한 패턴 폭에서의 테이퍼 각 및 배리어 유효율을 계산하였다.The dimensions and shape of the printed barrier pattern, that is, barrier width, barrier height, and taper angle, were measured as shown in FIG. 3 using a contact surface profile measuring device. The taper angle was calculated using a trigonometric function (tangent distance/height) from the height change at a distance of about 100 μm from the starting point of the barrier pattern. The effective width can be calculated from the surface profile data from the width of the region with a height greater than 3.2 μm. As shown in Figure 4, the taper angle and barrier effectiveness rate at various pattern widths were calculated.

여기서, 배리어 유효율은 배리어 패턴 폭으로 배리어 유효 폭을 나눈 값이다.Here, the barrier effectiveness rate is the value obtained by dividing the barrier effective width by the barrier pattern width.

크로스톡 평가Crosstalk evaluation

배리어 패턴의 크로스톡은 아래와 같이 평가할 수 있다. 드라이버 (Driver) 시점에서의 영상광 및 패신저 (Passenger) 시점에서의 영상광을 구현하는 화소를 모두 블랙, 모두 화이트, 또는 각각 블랙/화이트, 화이트/블랙으로 구동한 상태로 시야각별 휘도를 측정하고, 그 비율로서 정의할 수 있다. 크로스톡 값은 하기 식에 따라 산출한다.The crosstalk of the barrier pattern can be evaluated as follows. Measure the luminance for each viewing angle with the pixels that implement the image light from the driver's perspective and the image light from the passenger's perspective driven in all black, all white, or black/white or white/black respectively. And it can be defined as that ratio. The crosstalk value is calculated according to the formula below.

상기 식에서,In the above equation,

LP는 드라이버/패신저의 화소를 각각 블랙/화이트로 구동했을 때의 휘도이고, L P is the luminance when the driver/passenger pixels are driven in black/white respectively,

LD는 드라이버/패신저의 화소를 각각 화이트/블랙으로 구동했을 때의 휘도이고, L D is the luminance when the driver/passenger pixels are driven in white/black respectively,

LBK는 드라이버/패신저의 화소를 모두 블랙으로 구동했을 때의 휘도이고,L BK is the luminance when all driver/passenger pixels are driven in black,

XTP는 패신저 시야에서의 크로스톡 수치이다.XT P is the crosstalk value in the passenger's field of view.

XTD는 드라이버 시야에서의 크로스톡 수치이다.XT D is the crosstalk value in the driver's field of view.

LD에서 LBK를 뺀 값을 LP에서 LBK를 뺀 값으로 나누어 주면 XTP(θ)와 같이 패신저 시점의 크로스톡 값이 된다. 반대로 LD에서 LBK를 뺀 값으로 LP에서 LBK를 뺀 값을 나누어 주면 XTD(θ) 드라이버 시점의 크로스톡 값이 된다. 휘도는 드라이버측 (-30도)에서 패신저 측 (+30도)까지 이동하면서 전방위 휘도의 비율을 측정한 것이다. 본 명세서에서는 크로스톡 측정값이 2.0% 미만일 경우에는 크로스톡을 '낮음'으로, 2.0% 이상일 경우에는 '높음'으로 평가하였다.If the value obtained by subtracting L BK from L D is divided by the value obtained by subtracting L BK from L P , the crosstalk value from the passenger's point of view becomes XT P (θ). Conversely, if you divide the value obtained by subtracting L P from L BK by the value obtained by subtracting L BK from L D , the crosstalk value at the time of the XT D (θ) driver becomes. The luminance measures the ratio of omnidirectional luminance while moving from the driver side (-30 degrees) to the passenger side (+30 degrees). In this specification, when the crosstalk measurement value was less than 2.0%, the crosstalk was evaluated as 'low', and when it was more than 2.0%, the crosstalk was evaluated as 'high'.

도 6은 상기의 방법에 따라 실시예 1에서 구현한 배리어 패턴의 크로스톡 측정 결과로서, 도 6에서 실시예 1과 같이 배리어 유효율 21.1%일 때의 크로스톡은 1.45 ~ 1.47%로 낮았으나(위쪽 그림), 비교예 1과 같이 배리어 유효율 0%일 때의 크로스톡은 3.07 ~ 3.09%로 높은 결과를 나타낸다(아래쪽 그림).Figure 6 shows the crosstalk measurement results of the barrier pattern implemented in Example 1 according to the above method. In Figure 6, as in Example 1, when the barrier effectiveness rate was 21.1%, the crosstalk was low at 1.45 to 1.47% (top Figure), as in Comparative Example 1, the crosstalk when the barrier effectiveness rate is 0% shows a high result of 3.07 to 3.09% (figure below).

상기 실시예 및 비교예에서 형성된 시차 배리어 패턴의 형성 조건 및 상기 실험 결과를 표 2에 나타낸다.The formation conditions and experimental results of the parallax barrier patterns formed in the examples and comparative examples are shown in Table 2.

잉크젯 공정을 이용하여 제조된 시차 배리어 패턴에서 크로스톡을 방지하기 위해서는 배리어 패턴의 차광 특성이 충분해야 한다. 상기 표에 제시된 바와 같이, 유리 기판의 경우 배리어 폭이 200 내지 300 μm이며 테이퍼 각이 4 내지 10°일 경우, 배리어 패턴의 유효 차광부의 비율이 20 내지 60%에 이르며, 크로스톡이 낮은 효과를 제공하는 것을 알 수 있다.In order to prevent crosstalk in a parallax barrier pattern manufactured using an inkjet process, the light blocking characteristics of the barrier pattern must be sufficient. As shown in the table above, in the case of a glass substrate, when the barrier width is 200 to 300 μm and the taper angle is 4 to 10°, the ratio of the effective light blocking area of the barrier pattern reaches 20 to 60%, resulting in low crosstalk. It can be seen that it provides.

이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시 양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.As the specific parts of the present invention have been described in detail above, it is clear to those skilled in the art that these specific techniques are merely preferred embodiments and do not limit the scope of the present invention. something to do. Accordingly, the substantial scope of the present invention will be defined by the appended claims and their equivalents.

Claims (9)

잉크 조성물을 이용하여 기판 상에 시차 배리어 패턴을 도포하는 단계; 및
상기 도포된 조성물을 경화하여 시차 배리어 패턴을 형성하는 단계를 포함하며,
상기 시차 배리어 패턴의 테이퍼 각은 4° 내지 10°이고,
상기 배리어 패턴 폭은 100 내지 300 μm이고,
상기 배리어 패턴의 배리어 유효 폭은 42.3 내지 157.0 ㎛ 이고,
상기 배리어 패턴의 배리어 유효율은 20 내지 80%이고,
상기 잉크 조성물은 지환식 에폭시 단량체, 옥세탄 단량체, 착색제, 용매, 계면활성제, 및 광중합 개시제를 포함하고, 상기 용매는 비점이 190 내지 280℃인 용매인 것인, 시차 배리어 패턴의 제조방법.
Applying a parallax barrier pattern on a substrate using an ink composition; and
Curing the applied composition to form a parallax barrier pattern,
The taper angle of the parallax barrier pattern is 4° to 10°,
The barrier pattern width is 100 to 300 μm,
The effective barrier width of the barrier pattern is 42.3 to 157.0 ㎛,
The barrier effectiveness rate of the barrier pattern is 20 to 80%,
The ink composition includes an alicyclic epoxy monomer, an oxetane monomer, a colorant, a solvent, a surfactant, and a photopolymerization initiator, and the solvent is a solvent having a boiling point of 190 to 280°C.
제1항에 있어서, 상기 기판은 친수성 기판 또는 소수성 기판을 포함하는 것인, 시차 배리어 패턴의 제조방법.The method of claim 1, wherein the substrate includes a hydrophilic substrate or a hydrophobic substrate. 제2항에 있어서, 상기 친수성 기판은 유기 기판을 포함하는 것인, 시차 배리어 패턴의 제조방법.The method of claim 2, wherein the hydrophilic substrate includes an organic substrate. 제2항에 있어서, 상기 소수성 기판은 유리 기판을 탄화불소계 가스를 포함하는 기체에 의한 소수성 플라즈마로 소수화 처리한 기판 또는 ITO(Indium Tin Oxide) 증착된 유리 기판을 포함하는 것인, 시차 배리어 패턴의 제조방법.The parallax barrier pattern of claim 2, wherein the hydrophobic substrate includes a glass substrate treated with hydrophobic plasma using a gas containing a fluorocarbon-based gas or a glass substrate on which ITO (Indium Tin Oxide) is deposited. Manufacturing method. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 용매는 부틸 다이글라임(Butyl diglyme, 또는 디에틸렌글리콜 디부틸에테르), 디프로필렌글리콜 메틸에테르 아세테이트(Dipropylene glycol methyl ether acetate), 에틸렌글리콜 디부티레이트(ethylene glycol dibutyrate), 디에틸 숙신산(Diethyl succinate) 및 에틸 카프레이트(Ethyl caprate)로 이루어지는 군에서 선택되는 것인, 시차 배리어 패턴의 제조방법. The method of claim 1, wherein the solvent is butyl diglyme (or diethylene glycol dibutyl ether), dipropylene glycol methyl ether acetate, ethylene glycol dibutyrate, A method of manufacturing a parallax barrier pattern selected from the group consisting of diethyl succinate and ethyl caprate. 제1항 내지 제4항 및 제7항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 형성된 시차 배리어 패턴.A parallax barrier pattern formed by the method according to any one of claims 1 to 4 and 7. 제8항에 따른 시차 배리어 패턴을 포함하는 다중 시각 디스플레이 패널.A multi-visual display panel comprising a parallax barrier pattern according to claim 8.
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