KR102612268B1 - 미용 시술 방법 - Google Patents

Abstract

미용 시술 방법이 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따른 미용 시술 방법은 피부의 시술 부위에 미용 자극을 인가하는 미용 시술 방법으로서, 상기 시술 부위가 융기되도록 상기 피부에 제 1 음압을 인가하는 단계; 상기 제 1 음압에 의하여 상기 시술 부위가 융기된 제 1 측정 높이를 측정하는 단계; 상기 제 1 음압에 의하여 융기된 상기 시술 부위에 제 1 강도를 가지는 제 1 미용 자극을 인가하는 단계; 상기 제 1 측정 높이 및 상기 제 1 강도 중 적어도 어느 하나를 기초로 상기 제 1 음압보다 큰 제 2 음압 및 상기 제 1 강도보다 약한 제 2 강도 중 적어도 어느 하나를 결정하는 단계; 상기 시술 부위에 상기 제 2 음압을 인가하는 단계; 및 상기 제 2 음압에 의하여 융기된 상기 시술 부위에 상기 제 2 강도를 가지는 제 2 미용 자극을 인가하는 단계를 포함할 수 있다.

Description

미용 시술 방법{Method for beauty treatment}

본 발명은 미용 시술 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 피부의 일 부분을 석션하는 미용 시술 방법에 관한 것이다.

근래에는 제모, 피부 미용 등의 미용 시술을 가정 내에서 사용자가 스스로 수행할 수 있게 해주는 가정용 미용 시술 장치의 보급이 증가하고 있다. 가정용 미용 시술 장치는 사용자가 자신의 집에서 자신이 원하는 시간에 간편하게 미용 시술을 수행할 수 있게 해줌으로써 미용 시술에 대한 장벽을 낮추고 접근성을 높여준다.

예를 들어, 최근에는 석션(suction) 등을 통하여 피부를 융기시켜 마사지 등을 수행하고, 이와 동시에, 피부의 융기된 부분에 빛에너지를 조사하여 제모, 마사지 또는 피부 관리등을 수행하는 가정용 미용 시술 장치가 개발되고 있다.

이러한 가정용 미용 시술 장치의 보급이 증가하면서, 가정용 미용 시술 장치의 성능도 기존에 비해 비약적으로 개선되고 있으며, 시술의 효과도 높아지고 있다. 이것은 사용자가 장치를 이용하여 미용 시술을 수행하는 과정에서 부작용이 발생할 가능성도 높아졌음을 의미한다.

예를 들어, 가정용 미용 시술 장치의 사용 과정에서 사용자의 피부에 빛에너지가 과도하게 조사되거나 과도한 석션이 수행될 경우 화상, 피부 손상 등의 부작용이 나타날 수 있다. 하지만, 피부에 충분하지 않은 빛에너지가 조사되거나 석션이 가해질 경우에는 당초 목적한 미용 시술 효과가 충분히 발휘되지 않을 수 있다.

이와 같이, 가정용 미용 시술 장치의 사용 효과를 부작용 없이 안전하게 얻기 위해서는 빛에너지의 조사, 석션 등이 적절하게 이루어져야 한다. 그런데, 적절한 빛에너지 및 석션의 강도는 미용 시술이 이루어지는 상황에 따라 상이할 수 있다.

일 예로서, IPL을 이용하여 제모 시술을 수행하는 종래의 미용 시술 기기는 일정한 출력으로 석션을 수행한 후, 일정한 강도로 IPL을 조사하도록 구성되어 왔다.

이러한 종래의 미용 시술 기기는 사용자마다 석션되는 피부의 양 및 그에 따른 IPL의 필요 에너지 양이 다르지만, 일정한 출력으로 석션을 수행하고 일정한 강도의 IPL을 조사하므로, 피부 손상 등 부작용이 발생되거나 미용 시술의 효과가 충분히 발휘되지 않는 문제가 있다.

이에 따라, 미용 시술 장치의 효과가 극대화되면서도 안전성이 확보될 수 있도록, 빛에너지 등의 적정 조사 강도 및 조사량, 석션 강도 등이 상황에 따라 적절하게 제어될 수 있는 미용 시술 기기 및 미용 시술 방법의 개발이 절실히 요구되어 왔다.

본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 안출한 것으로, 본 발명의 목적은 미용 시술 효과를 제공할 수 있는 미용 시술 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 미용 자극에 따른 부작용을 최소화할 수 있으면서도, 미용 시술의 효과는 극대화할 수 있는 미용 시술 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 미용 시술에 소요되는 시간을 단축할 수 있는 미용 시술 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명의 일 측면에 따른 미용 시술 방법은 피부의 시술 부위에 미용 자극을 인가하는 미용 시술 방법으로서, 상기 시술 부위가 융기되도록 상기 피부에 제 1 음압을 인가하는 단계; 상기 제 1 음압에 의하여 상기 시술 부위가 융기된 제 1 측정 높이를 측정하는 단계; 상기 제 1 음압에 의하여 융기된 상기 시술 부위에 제 1 강도를 가지는 제 1 미용 자극을 인가하는 단계; 상기 제 1 측정 높이 및 상기 제 1 강도 중 적어도 어느 하나를 기초로 상기 제 1 음압보다 큰 제 2 음압 및 상기 제 1 강도보다 약한 제 2 강도 중 적어도 어느 하나를 결정하는 단계; 상기 시술 부위에 상기 제 2 음압을 인가하는 단계; 및 상기 제 2 음압에 의하여 융기된 상기 시술 부위에 상기 제 2 강도를 가지는 제 2 미용 자극을 인가하는 단계를 포함할 수 있다.

이때, 상기 제 1 미용 자극을 인가하는 단계에서는 상기 제 1 측정 높이를 기초로 상기 제 1 미용 자극을 인가할 수 있다.

이때, 상기 제 1 미용 자극을 인가하는 단계에서는 상기 제 1 측정 높이가 소정 범위 이내이면 상기 제 1 미용 자극을 인가할 수 있다.

이때, 제 1 목표 높이를 설정하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 음압을 인가하는 단계에서는 상기 제 1 목표 높이를 기초로 상기 제 1 음압을 인가하고, 상기 제 1 미용 자극을 인가하는 단계에서는 상기 제 1 측정 높이와 상기 제 1 목표 높이의 차이인 제 1 높이차가 소정 범위 이내이면 상기 제 1 미용 자극을 인가할 수 있다.

이때, 상기 시술 부위에 n번째(n은 3이상의 자연수)로 제 n 음압을 인가하는 단계; 및 상기 제 n 음압에 의하여 융기된 상기 시술 부위에 제 n 강도를 가지는 제 n 미용 자극을 인가하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 음압 내지 상기 제 n 음압은 상기 제 1 음압에서 상기제 n 음압으로 갈수록 증가하고, 상기 제 1 강도 내지 상기 제 n 강도는 상기 제 1 강도에서 상기 제 n 강도로 갈수록 감소할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법은 피부의 시술 부위가 융기되도록 소정의 음압을 인가하고, 융기된 시술 부위에 소정의 미용 자극을 인가함으로써, 미용 시술에 따른 효과를 제공할 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법은 시술 부위가 융기된 높이에 대응되는 미용 자극이 시술 부위에 인가되도록 구성됨으로써, 미용 자극 및 음압에 의한 부작용은 최소화되면서도 미용 시술의 효과가 극대화될 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법은 목표 높이를 고려하여 강도를 설정하고, 설정된 목표 높이 및 강도를 기초로 음압과 미용 자극을 인가함으로써, 미용 자극 및 음압에 의한 부작용은 최소화되면서도, 미용 시술 효과가 극대화될 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법은 시술 부위의 목표 높이가 점진적으로 증가하도록 구성되므로, 피부의 갑작스러운 변형을 방지할 수 있으므로, 석션에 따른 피부의 손상 등 부작용을 최소화할 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법에 의하면, 점진적으로 증가하는 목표 높이에 대응하여 목표 강도가 점진적으로 감소하도록 구성되므로, 과도한 미용 자극에 의한 부작용은 최소화되면서도, 그에 따른 미용 시술 효과가 극대화될 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법에 의하면, 미용 시술의 초기 단계부터 미용 자극이 인가될 수 있으므로, 미용 시술에 소요되는 시간을 단축할 수 있다.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기의 사시도이다. 이때, 헤드는 내부가 보이도록 투명하게 도시되었고, 헤드에 의하여 투시되는 구성들은 점선으로 표시되었다.
도 2는 도 1의 일 부분을 확대한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기의 음압 인가 모듈, 자극 인가 모듈, 컨트롤러 및 높이 측정 센서를 간략하게 도시한 블록도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기가 피부의 시술 부위에 소정의 음압 및 미용 자극을 인가하는 상태를 도시한 도면이다. 이때, 헤드는 내부가 보이도록 단면이 도시되었다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법의 흐름도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법에 의하여 시술 부위가 음압에 의해 융기된 높이와 시간 사이의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법에 의하여 시술 부위에 인가되는 미용 자극의 강도와 시간 사이의 관계를 나타낸 그래프이다.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 도면에서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 단어와 용어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정 해석되지 않고, 자신의 발명을 최선의 방법으로 설명하기 위해 발명자가 용어와 개념을 정의할 수 있는 원칙에 따라 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.

본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 설명하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

어떤 구성 요소가 다른 구성 요소의 "전방", "후방", "상부" 또는 "하부"에 있다는 것은 특별한 사정이 없는 한 다른 구성 요소와 바로 접하여 "전방", "후방", "상부" 또는 "하부"에 배치되는 것뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 구성 요소가 배치되는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소와 "연결"되어 있다는 것은 특별한 사정이 없는 한 서로 직접 연결되는 것뿐만 아니라 간접적으로 서로 연결되는 경우도 포함한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기의 사시도이다. 이때, 헤드는 내부가 보이도록 투명하게 도시되었고, 헤드에 의하여 투시되는 구성들은 점선으로 표시되었다. 도 2는 도 1의 일 부분을 확대한 도면이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기의 음압 인가 모듈, 자극 인가 모듈, 컨트롤러 및 높이 측정 센서를 간략하게 도시한 블록도이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기가 피부의 시술 부위에 소정의 음압 및 미용 자극을 인가하는 상태를 도시한 도면이다. 이때, 헤드는 내부가 보이도록 단면이 도시되었다.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기(1)는 본체(10), 헤드(20), 음압 인가 모듈(30), 컨트롤러(40), 자극 인가 모듈(50) 및 높이 측정 센서(60)를 포함할 수 있다.

이하, 도면을 참조하여 설명함에 있어, 본 미용 시술 기기(1)의 헤드(20)의 흡입구(27)가 향하는 방향을 전방으로 규정하고, 그 반대 방향을 후방으로 규정하여 설명한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기(1)는 헤드(20)와 접촉하는 피부의 시술 부위에 소정의 음압을 인가하여 헤드(20)의 흡입구(27) 내측으로 피부를 융기시키고, 융기된 피부에 소정의 미용 자극을 인가하여 마사지, 제모 또는 피부 미용 등의 효과를 달성할 수 있는 미용 시술 기기이다. 이와 같은 음압의 인가는 음압 인가 모듈(30)에 의하여 이루어질 수 있고, 미용 자극의 인가는 자극 인가 모듈(50)에 의하여 이루어질 수 있다.

이때, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기(1)는 높이 측정 센서(70)가 융기된 피부의 높이를 측정하여 소정의 정보를 획득하도록 구성된다. 그리고, 컨트롤러(40)가 획득한 소정의 정보를 기초로 적절한 음압이나 미용 자극의 강도를 결정하고, 이를 기초로 음압 인가 모듈(30) 및 자극 인가 모듈(50)을 제어함으로써, 적절한 음압 및 미용 자극이 피부(2)에 인가되도록 구성된다.

이에 따라, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기(1)에 의하면, 석션이나 미용 자극에 의한 부작용을 최소화하면서도 본 미용 시술 기기(1)가 달성하려는 마사지, 제모 또는 피부 미용 등의 미용 시술 효과를 극대화시킬 수 있다.

이하에서, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기의 각 구성을 구체적으로 설명하도록 한다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기(1)는 본체(10)를 포함한다. 본체(10)는 다른 구성들을 수용하기 위한 케이싱의 기능을 하면서도 사용자가 파지하여 본 미용 시술 기기(1)를 조작 및 제어할 수 있도록 제공될 수 있다.

본 실시예에서, 본체(10)는 전후방으로 연장된 원통 형상을 가지되 내부에 후술하는 음압 인가 모듈(30) 및 컨트롤러(40)가 수용되는 본체부(12) 및 사용자가 파지할 수 있도록 본체부(12)의 하부로부터 하측 방향으로 연장되는 손잡이부(14)를 포함할 수 있다.

도시되진 않았으나, 이러한 본체(10)의 외측부에는 본 미용 시술 기기(1)의 제어 상태 등을 나타내기 위한 디스플레이나 본 미용 시술 기기(1)를 제어하기 위한 신호를 입력할 수 있는 버튼 부재 또는 터치식 스크린 등이 구비될 수 있다. 한편, 본체(10)의 형상은 특별히 제한되지 않으며, 내부에 수용되는 다른 구성 요소의 특성 또는 사용 환경 등에 맞추어 적절하게 변형될 수 있다.

도 1 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기(1)의 본체(10) 내부에는 전술한 바와 같이 음압 인가 모듈(30)이 수용될 수 있다.

본 실시예에서, 음압 인가 모듈(30)은 후술하는 헤드(20)의 흡입구(27) 내측으로 음압을 발생시키기 위한 구성으로서, 예를 들어, 공기를 흡입하여 음압을 생성할 수 있는 펌프 등으로 이루어질 수 있다. 이때, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 음압 인가 모듈(30)은 발생되는 음압을 조절할 수 있다. 달리 표현하면, 음압 인가 모듈(30)은 출력이 조절될 수 있다.

이러한 음압 인가 모듈(30)의 음압(또는, 출력)조절은 후술하는 컨트롤러(40)에 의하여 제어되도록 구성될 수 있다. 음압 인가 모듈(30)의 음압(또는, 출력) 제어에 따른 작용은 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법과 함께 후술하도록 한다.

한편, 본체(10)의 내부에는 컨트롤러(40)가 수용될 수 있다. 이때, 컨트롤러(40)는 프로세서, 중앙처리장치(cpu), 제어기, 산술 논리 유닛, 연산 논리 회로, 디지털 신호 처리 장치, 마이크로 컴퓨터, FPGA, 시스템 온 칩(SoC), 프로그래밍 가능한 논리 유닛, 마이크로 프로세서 등으로 구현될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 컨트롤러(40)는 전술한 음압 인가 모듈(30) 및 후술하는 자극 인가 모듈(50)과 전기적으로 연결되도록 구성될 수 있다. 그리고, 컨트롤러(40)는 후술하는 높이 측정 센서(60)와도 전기적으로 연결되도록 구성될 수 있다.

이때, 본 명세서에서 전기적으로 연결된다는 것은 전기 회선에 의하여 통전 가능하게 연결되는 것뿐만 아니라, 공지의 무선 통신 방식으로 연결되는 것을 포함할 수 있다.

이에 따라, 본 실시예에 따른 컨트롤러(40)는 높이 측정 센서(60)로부터 소정의 정보를 획득하고, 획득한 정보를 기초로 음압 인가 모듈(30) 및 자극 인가 모듈(50) 중 적어도 어느 하나를 제어하도록 구성될 수 있다.

한편, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 본체(10)의 본체부(12) 전방에는 헤드(20)가 구비될 수 있다.

이때, 도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기(1)의 헤드(20)는 본체(10)의 전방부로부터 전방으로 돌출되는 몸체부(22) 및 사용자의 피부와 직접 접촉할 수 있도록 몸체부(22)의 전방 단부에 구비되는 접촉부(26)를 포함할 수 있다.

이때, 본 실시예에서, 헤드(20)의 몸체부(22)는 전방으로 갈수록 직경이 감소하는 깔대기 형상을 가질 수 있다. 그리고, 헤드(20)의 몸체부(22) 내부에는 소정의 음압 및 미용 자극이 인가되는 시술 공간(21)이 구비될 수 있다.

이러한 몸체부(22)의 내측에는 시술 공간(21)을 규정하는 둘레면(23) 및 바닥면(25)이 구비될 수 있다. 둘레면(23)은 몸체부(22)의 연장 방향, 즉 전후 방향을 중심으로 시술 공간(21)을 둘러싸는 측면으로 이루어질 수 있다.

이때, 몸체부(22)의 내부에는 도 4에 도시된 바와 같이, 몸체부(22)의 외측부와 몸체부(22)의 둘레면(23)으로 둘러싸인 내부 공간(A)이 구비될 수 있다. 이러한, 내부 공간(A)은 음압 인가 모듈(30)이 구비된 본체(10) 내부와 연결될 수 있다.

그리고, 둘레면(23)에는 복수의 음압공(24)이 형성될 수 있다. 음압공(24)은 시술 공간(21)과 음압 인가 모듈(30)을 유체적으로 연결하여, 시술 공간(21)에 음압이 형성되도록 하는 기능을 수행할 수 있다. 물론, 음압공(24)은 후술하는 바닥면(25)에도 형성될 수 있다.

이에 따라, 본 실시예에 따르면, 시술 공간(21)의 내부 공기가 음압 인가 모듈(30)에 의하여 음압공(24)으로 흡입됨으로써, 시술 공간(21)에 음압이 형성될 수 있다.

한편, 도 1 및 도 2를 다시 참조하면, 본 실시예에서, 시술 공간(21)의 후방에는 시술 공간(21)의 후면을 규정하는 바닥면(25)이 형성될 수 있다. 바닥면(25)에는 후술하는 자극 인가 모듈(50) 및 높이 측정 센서(60)가 설치될 수 있다.

다시, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에서 헤드(20) 몸체부(22)의 전방 단부에는 흡입구(27)가 형성될 수 있다. 그리고, 흡입구(27)의 둘레에는 피부와 직접 접촉하는 접촉부(26)가 구비될 수 있다. 이때, 접촉부(26)는 사용자의 피부 손상을 최소화하기 위하여 전방으로 볼록한 곡면을 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 이러한 흡입구(27)는 몸체부(22)의 시술 공간(21)과 연결되도록 구성될 수 있다. 이에 따라, 시술 공간(21)은 흡입구(27)를 통하여 외부와 연통될 수 있고, 시술 공간(21)에 음압이 형성되면 흡입구(27)를 통하여 시술 공간(21) 내측으로 피부가 흡입될 수 있다.

한편, 본 발명의 일 실시예와 관련하여 설명한 헤드(20)의 형상 및 구조는 특별히 제한되지 않으며, 헤드(20)는 음압 인가 모듈(30)에 의하여 형성된 음압을 피부의 국소적인 부분에 인가할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있다.

나아가, 본 실시예에서, 본체(10)와 헤드(20)는 별도의 구성으로 제공되도록 도시되었으나, 필요에 따라 본체(10)와 헤드(20)는 일체로 제공될 수도 있을 것이다.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 헤드(20)에는 자극 인가 모듈(50) 및 높이 측정 센서(60)가 구비될 수 있다.

자극 인가 모듈(50)은 피부에 소정의 미용 자극을 인가하기 위한 구성이다. 이를 위해, 자극 인가 모듈(50)은 헤드(20) 몸체부(22)의 바닥면(25)에 흡입구(27) 측, 즉 전방을 바라보도록 설치될 수 있다. 이에 따라, 자극 인가 모듈(50)은 흡입구(27) 내측으로 융기된 피부에 소정의 미용 자극을 인가할 수 있다.

자극 인가 모듈(50)은 IPL(Intense Pulsed Light)을 발생시키기 위한 광원으로 이루어질 수 있다. 그러나, 자극 인가 모듈(50)이 이에 한정되는 것은 아니며, 자극 인가 모듈(50)은 RF 고주파 발생기 등 피부 미용을 위한 공지의 다양한 자극 발생기로 이루어질 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 자극 인가 모듈(50)은 미용 자극의 강도가 조절될 수 있다. 이러한, 미용 자극의 강도 조절은 전술한 컨트롤러(40)에 의하여 이루어지도록 구성될 수 있다.

한편, 도 2을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에서, 헤드(20) 몸체부(22)의 바닥면(25)에서 자극 인가 모듈(50)의 좌측에는 높이 측정 센서(60)가 설치될 수 있다.

높이 측정 센서(60)는 흡입구(27) 및 시술 공간(21) 내측으로 융기된 피부의 높이를 측정하기 위한 구성이다. 높이 측정 센서(60)는 예를 들어 근접 센서나 광 센서로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 높이 측정 센서(60)는 융기된 피부의 높이를 측정할 수 있는 다양한 공지의 구성으로 이루어질 수 있다.

이때, 높이 측정 센서(60)가 측정하는 피부의 높이는 필요에 따라 적절하게 규정될 수 있다. 예를 들어, 융기된 피부의 높이는 융기된 피부의 최상단 부분의 높이일 수도 있다. 또는, 융기된 피부의 높이는 융기된 피부의 평균 높이일 수 있다.

이와 같이, 융기된 시술 부위(3)의 높이는 인가되는 미용 자극의 종류 등에 따라 적절하게 규정될 수 있으며, 높이 측정 센서(70)는 규정된 융기된 시술 부위(3)의 높이를 측정하기 적합하도록 구성될 수 있다. 본 실시예에서는 융기된 피부의 높이를 헤드(20)의 접촉부(26)로부터 융기된 피부의 최상단 부분의 높이로 규정하도록 한다.

이때, 전술한 자극 인가 모듈(50) 및 높이 측정 센서(60)의 위치 또는 상호간의 배치 관계는 필요에 따라 다양하게 변형될 수 있다. 예를 들어, 높이 측정 센서(60)는 융기된 피부의 높이를 측정할 수 있다면, 헤드(20)의 외측부에 설치될 수도 있다.

이하에서, 도 4를 함께 참조하며, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기가 미용 시술을 수행하는 과정을 간략하게 설명하도록 한다.

도 1 및 도 4를 참조하면, 사용자는 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기(1)의 헤드(20) 접촉부(26)를 피부(2)의 표면에 접하도록 위치시킨 후, 컨트롤러(40)에 작동을 시작하라는 신호를 입력할 수 있다. 이때, 접촉부(26)의 흡입구(27)에는 피부(2)의 시술 부위(3)가 인접 배치될 수 있다.

사용자에 의하여 작동 신호를 입력받은 컨트롤러(40)는 흡입구(27) 및 시술 공간(21)에 음압이 인가되도록 음압 인가 모듈(30)을 제어한다. 이에 따라, 시술 공간(21)의 공기가 헤드(20)의 음압공(24)을 통하여 헤드(20) 몸체부(22)의 외측부와 둘레면(23) 사이에 구비된 내부 공간(A)으로 흡입될 수 있다.

공기가 빠져나가게 되는 흡입구(27) 및 시술 공간(21)에는 음압이 형성될 수 있고, 피부(2)의 시술 부위(3)는 음압에 의하여 흡입구(27) 및 시술 공간(21) 내측으로 볼록하게 융기될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에서, 컨트롤러(40)가 융기된 시술 부위(3)로 소정의 미용 자극이 인가되도록 자극 인가 모듈(50)을 제어하면, 자극 인가 모듈(50)에서 시술 부위(3)로 소정의 미용 자극이 인가될 수 있다. 이에 따라, 시술 부위(3)에 제모, 마사지 또는 피부 미용 등의 미용 시술 효과가 발생될 수 있다.

그리고, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 높이 측정 센서(60)는 시술 부위(3)가 융기된 높이를 측정할 수 있다. 높이 측정 센서(60)가 획득한 정보는 컨트롤러(40)로 송신되고, 컨트롤러(40)는 상기 정보를 기초로 음압 인가 모듈(30) 및 자극 인가 모듈(50)을 제어할 수 있다.

이하에서, 도면을 달리하여 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기를 이용하여 수행되는 본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법을 설명하도록 한다.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법의 흐름도이다. 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법에 의하여 시술 부위가 음압에 의해 융기된 높이와 시간 사이의 관계를 나타낸 그래프이다. 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법에 의하여 시술 부위에 인가되는 미용 자극의 강도와 시간 사이의 관계를 나타낸 그래프이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법은 미용 시술의 일 구간동안 수행될 수 있다. 여기서, 미용 시술의 일 구간이란 미용 시술이 진행되는 구간 중 일 구간을 의미한다. 미용 시술 동안 상기 일 구간이 1회 또는 수회 진행될 수 있을 것이다.

도 3 내지 도 7를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법에서, 사용자는 미용 시술 기기(1)의 컨트롤러(40)에 작동을 시작하라는 신호를 입력할 수 있다.

이때, 사용자는 상기 시작 신호와 함께 사용자 피부의 특성을 나타낼 수 있는 정보, 예를 들어, 사용자의 나이, 성별, 특정 질환 유무 등에 관한 정보(이하, 사용자 정보라 함)를 컨트롤러(40)에 함께 입력할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법에서, 컨트롤러(40)는 작동 신호가 입력되면 제 1 목표 높이(h1) 및 제 1 강도(I1)를 설정한다(S100). 여기서, 제 1 목표 높이(h1)는 후술하는 제 1 음압을 위한 정보이고, 제 1 강도는 후술하는 제 1 미용 자극을 위한 정보이다.

이때, 제 1 목표 높이(h1) 및 제 1 강도(I1)는 상기 사용자 정보를 기초로 소정의 수식이나 데이터에 의하여 산출될 수도 있고, 또는, 컨트롤러(40) 내에 구비된 저장 공간에 미리 저장된 값으로 설정될 수도 있다. 또한, 제 1 목표 높이(h1) 및 제 1 강도(I1)는 사용자의 입력에 의하여 설정될 수도 있다.

이때, 제 1 강도(I1)는 제 1 목표 높이(h1)만큼 융기된 피부에 적합하도록 설정될 수 있다. 이때, 적합하다는 것은 부작용은 최소화하면서도 시술 효과는 극대화할 수 있다는 것을 의미한다. 이러한 제 1 강도(I1)는 자극 인가 모듈(50)과 융기된 피부 사이의 거리, 입력된 사용자 정보 또는 자극 인가 모듈(50) 자체의 특성 등에 따라 설정될 수 있다.

이때, 컨트롤러(40)는 미용 시술의 시작 단계인 만큼, 제 1 목표 높이(h1) 를 다소 낮게 설정할 수 있고, 제 1 강도(I1)를 다소 강하게 설정할 수 있다.

왜냐하면, 미용 시술의 시작 단계에는 피부가 갑작스럽게 변형되는 것을 방지하기 위하여 제 1 목표 높이(h1)를 다소 낮게 설정하는 것이 바람직하기 때문이다. 여기서, 제 1 목표 높이(h1)가 다소 낮다는 것은 본 미용 시술에서 최종적으로 융기되는 시술 부위(3)의 높이에 비하여 낮다는 것을 의미할 수 있다.

그리고, 제 1 목표 높이(h1)가 다소 낮은 만큼 자극 인가 모듈(50)과 융기된 시술 부위(3) 사이의 거리가 다소 이격되어 있을 수 있으므로, 미용 자극의 효과가 충분히 발생되기 위해서는 제 1 강도(I1)가 다소 강하게 설정되는 것이 바람직하기 때문이다. 여기서, 제 1 강도(I1)가 다소 강하다는 것은 본 미용 시술에서 최종적으로 인가되는 미용 자극의 강도에 비하여 강하다는 것을 의미할 수 있다.

이와 같이, 본 실시예에 따른 미용 시술 방법에 따르면, 시술 부위(3)의 목표 높이를 고려하여 시술 부위(3)에 인가되는 미용 자극의 강도가 설정되므로, 미용 자극에 따른 부작용이 최소화되면서도 미용 자극에 의한 효과가 극대화될 수 있다.

본 실시예에서, 컨트롤러(40)는 제 1 목표 높이(h1)를 기초로 시술 부위(3)에 제 1 음압이 인가되도록 음압 인가 모듈(30)을 제어한다(S200). 이때, 컨트롤러(40)는 제 1 구간(t1)동안 제 1 음압이 시술 부위(3)에 인가되도록 음압 인가 모듈(30)을 제어할 수 있다.

이러한 제 1 음압은 시술 부위(3)를 제 1 목표 높이에 상응하는 높이만큼 융기시키기에 적합한 강도를 가질 수 있다. 그러나, 사용자의 피부 상태에 따라 적합한 음압의 강도는 다를 수 있다. 따라서, 일 예로서, 제 1 음압의 강도는 일반적인(또는, 평균적인) 값을 가질 수 있다.

그리고, 본 실시예에 따르면, 높이 측정 센서(60)는 시술 부위(3)가 융기된 높이를 측정하여 소정의 정보를 생성하고, 생성된 정보를 컨트롤러(40)에 송신한다(S300). 이하에서, 도 6에 도시된 바와 같이, 높이 측정 센서(60)가 측정한 높이를 측정 높이(h)라 하고, 높이 측정 센서(60)가 제 1 구간(t1) 동안 높이를 측정한 것을 제 1 측정 높이라 한다.

도 3 내지 도 7을 참조하면, 본 실시예에서, 컨트롤러(40)는 제 1 강도(I1)로 시술 부위(3)에 제 1 미용 자극이 인가되도록 자극 인가 모듈(50)을 제어한다(S400). 이때, 컨트롤러(40)는 도 6에 도시된 바와 같이 제 1 자극 인가 구간(t1-I)동안 시술 부위(3)에 제 1 미용 자극이 인가되도록 자극 인가 모듈(50)을 제어할 수 있다.

여기서, 제 1 미용 자극이 인가되기 시작하는 시점, 즉, 제 1 자극 인가 구간(t1-I)이 시작되는 시점을 정하는 것이 중요할 수 있다.

왜냐하면, 앞서 설명한 바와 같이, 본 실시예에서 제 1 미용 자극은 제 1 강도(I1)를 기초로 인가되는데, 이러한 제 1 강도(I1)는 제 1 목표 높이(h1)만큼 융기된 피부에 적합하므로, 제 1 목표 높이(h1)와 제 1 측정 높이의 차이가 인용될 수 있는 범위를 넘으면 제 1 미용 자극에 의한 미용 시술이 효과적으로 이루어질 수 없기 때문이다.

보다 구체적으로, 도면을 참조하여 설명하면, 도 6의 제 1 구간(t1)의 초기 부분에서는 시술 부위(3)의 제 1 측정 높이가 제 1 목표 높이(h1)보다 낮다. 따라서, 제 1 강도(I1)를 가지는 제 1 미용 자극이 시술 부위(3)에 인가되더라도 당초 목표한 효과가 충분히 발생되기 어렵다. 그러나, 이를 상쇄하기 위하여 제 1 강도(I1)의 크기를 증가시키는 것은 피부 손상 등 부작용의 증가라는 또 다른 문제를 초래할 수 있다.

이를 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법의 제 1 미용 자극을 인가하는 단계(S400)에서는 컨트롤러(40)가 제 1 측정 높이를 기초로 제 1 미용 자극이 인가되도록 자극 인가 모듈(50)을 제어할 수 있다.

보다 구체적으로, 본 실시예에서, 컨트롤러(40)는 제 1 측정 압력과 제 1 목표 높이(h1)의 차이인 제 1 높이차가 소정 범위 이내이면, 제 1 미용 자극이 시술 부위(3)에 인가되도록 자극 인가 모듈(50)을 제어할 수 있다.

이때, 상기 소정 범위는 제 1 목표 높이(h1)와 제 1 측정 압력이 동일하지 않을 수 있음을 고려하여, 본 미용 시술 기기(1)의 특성, 사용 환경 등에 따라 인용할 수 있는 범위 내에서 적절하게 설정될 수 있다.

이때, 제 1 구간(t1) 중 제 1 높이차가 소정 범위 이내인 구간을 제 1 높이 유지 구간(t1-h)이라 규정하면, 본 실시예에서, 컨트롤러(40)는 제 1 자극 인가 구간(t1-I)이 제 1 높이 유지 구간(t1-h)내에 포함되도록 음압 인가 모듈(30) 및 자극 인가 모듈(50)을 제어할 수 있다.

이에 따르면, 제 1 강도(I1)에 따른 제 1 미용 자극이 시술 부위(3)에 적절한 구간에 인가될 수 있으므로, 제 1 미용 자극에 의한 부작용이 최소화되면서도 이에 따른 미용 시술 효과는 극대화될 수 있다.

다시 도 3 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 피부 미용 방법에서는 컨트롤러(40)가 미용 시술의 종료 여부를 판단한다(S500).

이때, 컨트롤러(40)가 미용 시술의 종료 여부를 판단하는 기준은 다양할 수 있다. 예를 들어, 사용자가 미용 시술을 종료하라는 입력 신호가 컨트롤러(40)로 수신되었는지 여부가 기준이 될 수 있다. 또는, 시술 부위(3)로 인가된 미용 자극의 총 량, 예를 들어, 시술 부위(3)로 인가된 미용 자극의 총 에너지량이 목표한 값에 도달하였는지 여부가 기준이 될 수 있다.

만일, 컨트롤러(40)가 미용 시술을 종료하지 않을 것으로 판단하면(S500), 본 실시예에서 컨트롤러(40)는 다시 목표 높이 및 강도를 설정하는 단계를 수행한다(S100).

여기서, 다시 설정되는 목표 높이 및 강도는 제 2 목표 높이(h2) 및 제 2 강도(I2)이다. 제 2 목표 높이(h1)은 제 1 음압에 후속하여 두번째로 시술 부위(3)로 인가되는 제 2 음압을 위한 정보이고, 제 2 강도(I2)는 제 1 미용 자극에 후속하여 두번째로 인가되는 제 2 미용 자극을 위한 정보이다.

본 실시예에 따르면, 컨트롤러(40)는 제 1 목표 높이(h1) 및 제 1 강도(I1) 중 적어도 어느 하나를 이용하여 제 2 목표 높이(h2) 및 제 2 강도(I2) 중 적어도 어느 하나를 설정할 수 있다.

이때, 본 실시예에서, 컨트롤러(40)는 제 2 목표 높이(h2)가 제 1 목표 높이(h1)보다 크도록 설정할 수 있다.

왜냐하면, 시술 부위(3)가 이미 제 1 측정 높이만큼 융기되어 있으므로, 더 높은 높이로 쉽게 융기될 수 있고, 그에 따라, 미용 시술 효과를 더 효과적으로 달성할 수 있기 때문이다.

그리고, 본 실시예에서, 컨트롤러(40)는 제 2 강도(I2)가 제 1 강도(I1)보다 작도록 설정할 수 있다.

왜냐하면, 제 2 목표 높이(h2) 만큼 융기된 시술 부위(3)에 제 1 목표 높이(h1)에 적합한 제 1 강도로 제 1 미용 자극이 인가되면, 피부 손상 등의 부작용이 발생될 수 있기 ‹š문이다. 이와 같이, 제 2 강도(I2)는 제 2 목표 높이(h2)만큼 융기된 높이의 피부에 적합하도록 설정될 수 있다.

이에 따라, 본 실시예에 따른 미용 시술 방법에 따르면, 시술 부위(3)의 목표 높이를 고려하여 시술 부위(3)에 인가되는 미용 자극의 목표 강도가 설정되므로, 미용 자극에 따른 부작용이 최소화되면서도 미용 자극에 의한 효과가 극대화될 수 있다.

다시 도 3 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법에서, 컨트롤러(40)는 시술 부위(3)에 제 2 목표 높이(h2)을 기초로 제 2 음압이 인가되도록 음압 인가 모듈(30)을 제어한다(S200). 이때, 본 실시예에서, 컨트롤러(40)는 제 2 음압이 시술 부위(3)에 제 2 구간(t2)동안 인가되도록 음압 인가 모듈(30)을 제어할 수 있다.

그리고, 본 실시예에서, 높이 측정 센서(60)는 제 2 음압에 의하여 융기된 시술 부위(3)의 제 2 측정 높이을 측정하고(S300), 컨트롤러(40)는 제 2 강도(I2) 로 제 2 미용 자극을 시술 부위(3)에 인가한다(S400). 이때, 본 실시예에서, 컨트롤러(40)는 제 2 미용 자극이 제 2 자극 인가 구간(t2-I)동안 인가되도록 자극 인가 모듈(50)을 제어할 수 있다.

이때, 본 실시예에서, 컨트롤러(40)는 제 2 구간(t2) 중 제 2 측정 높이와 제 2 목표 높이(h2)의 차이인 제 2 높이차가 소정 범위 이내인 제 2 높이 유지 구간(t2-h) 내에 제 2 자극 인가 구간(t2-I)이 포함되도록 음압 인가 모듈(30) 및 자극 인가 모듈(50)을 제어할 수 있다.

다시 도 5 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법에서, 본 미용 시술이 종료되는 것으로 판단되기 전까지(S500), 컨트롤러(40)가 목표 높이 및 강도를 설정하는 단계(S100), 시술 부위(3)에 음압이 인가되도록 음압 인가 모듈(30)을 제어하는 단계(S200), 압력 측정 센서(60)가 음압을 측정하는 단계(S300) 및 컨트롤러(40)가 시술 부위(3)에 미용 자극이 인가되도록 자극 인가 모듈(50)을 제어하는 단계를 반복 수행할 수 있다.

이때, 본 실시예에 따르면, 도 6에 도시된 바와 같이, S100 단계 내지 S400 단계가 반복 수행되는 동안, 목표 높이는 점진적으로 증가되도록 설정될 수 있다. 그리고, 도 7에 도시된 바와 같이, 목표 강도는 점진적으로 증가하는 목표 높이에 적합하도록 점진적으로 약해지게 설정될 수 있다.

이에 따라, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법에 의하면, 시술 부위(3)가 융기된 높이가 점진적으로 증가될 수 있으므로, 피부의 갑작스러운 변형이 최소화되어 피부 손상 등 부작용이 방지될 수 있다.

그리고, 본 실시예에 따르면, 점진적으로 증가하는 목표 높이에 대응하여 목표 강도가 점진적으로 감소하므로 과도한 미용 자극에 따른 부작용이 최소화되면서도 미용 시술의 효과가 극대화될 수 있다.

나아가, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 방법에 의하면, 미용 시술이 시작되는 초기 시점부터 미용 자극이 인가될 수 있으므로, 미용 시술에 소요되는 시간이 감소될 수 있다.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법은 앞서 설명한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기를 통하여 구현될 수 있다. 그러나, 본 발명의 실시예에 따른 미용 시술 방법은 본 발명의 일 실시예에 따른 미용 시술 기기 외에도, 음압을 인가하여 피부를 융기시키고 융기된 피부에 소정의 미용 자극을 인가하는 다양한 기기에 의하여 구현될 수 있을 것이다.

이상에서 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 본 발명의 사상은 본 명세서에 제시되는 실시 예에 제한되지 아니하며, 본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위 내에서, 구성요소의 부가, 변경, 삭제, 추가 등에 의해서 다른 실시 예를 용이하게 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명의 사상범위 내에 든다고 할 것이다.

1: 미용 시술 기기 2: 피부
3: 시술 부위 10: 본체
20: 헤더 30: 음압 인가 모듈
40: 컨트롤러 50: 자극 인가 모듈
60: 높이 측정 센서

Claims (5)

1. 피부의 시술 부위에 미용 자극을 인가하는 미용 시술 방법으로서,
   상기 시술 부위가 융기되도록 상기 피부에 제 1 음압을 인가하는 단계;
   상기 제 1 음압에 의하여 상기 시술 부위가 융기된 제 1 측정 높이를 측정하는 단계;
   상기 제 1 음압에 의하여 융기된 상기 시술 부위에 제 1 강도를 가지는 제 1 미용 자극을 인가하는 단계;
   상기 제 1 측정 높이 및 상기 제 1 강도 중 적어도 어느 하나를 기초로 상기 제 1 음압보다 큰 제 2 음압 및 상기 제 1 강도보다 약한 제 2 강도 중 적어도 어느 하나를 결정하는 단계;
   상기 시술 부위에 상기 제 2 음압을 인가하는 단계; 및
   상기 제 2 음압에 의하여 융기된 상기 시술 부위에 상기 제 2 강도를 가지는 제 2 미용 자극을 인가하는 단계를 포함하는, 미용 시술 방법.
2. 제 1항에 있어서,
   상기 제 1 미용 자극을 인가하는 단계에서는 상기 제 1 측정 높이를 기초로 상기 제 1 미용 자극을 인가하는, 미용 시술 방법.
3. 제 2항에 있어서,
   상기 제 1 미용 자극을 인가하는 단계에서는 상기 제 1 측정 높이가 소정 범위 이내이면 상기 제 1 미용 자극을 인가하는, 미용 시술 방법.
4. 제 3항에 있어서,
   제 1 목표 높이를 설정하는 단계를 포함하고,
   상기 제 1 음압을 인가하는 단계에서는 상기 제 1 목표 높이를 기초로 상기 제 1 음압을 인가하고,
   상기 제 1 미용 자극을 인가하는 단계에서는 상기 제 1 측정 높이와 상기 제 1 목표 높이의 차이인 제 1 높이차가 소정 범위 이내이면 상기 제 1 미용 자극을 인가하는, 미용 시술 방법.
5. ◈청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈

   제 1항에 있어서,
   상기 시술 부위에 n번째(n은 3이상의 자연수)로 제 n 음압을 인가하는 단계; 및
   상기 제 n 음압에 의하여 융기된 상기 시술 부위에 제 n 강도를 가지는 제 n 미용 자극을 인가하는 단계를 포함하고,
   상기 제 1 음압 내지 상기 제 n 음압은 상기 제 1 음압에서 상기제 n 음압으로 갈수록 증가하고,
   상기 제 1 강도 내지 상기 제 n 강도는 상기 제 1 강도에서 상기 제 n 강도로 갈수록 감소하는, 미용 시술 방법.