KR102592809B1 - Lighting unit - Google Patents

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KR102592809B1
KR102592809B1 KR1020180018816A KR20180018816A KR102592809B1 KR 102592809 B1 KR102592809 B1 KR 102592809B1 KR 1020180018816 A KR1020180018816 A KR 1020180018816A KR 20180018816 A KR20180018816 A KR 20180018816A KR 102592809 B1 KR102592809 B1 KR 102592809B1
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신현수
강민수
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엘지이노텍 주식회사
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
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    • F21Y2115/00Light-generating elements of semiconductor light sources
    • F21Y2115/10Light-emitting diodes [LED]

Abstract

실시 예는 기판; 상기 기판 상에 배치되는 복수 개의 광원; 상기 기판 상에 배치되어 상기 복수 개의 광원을 덮는 레진층; 상기 레진층 상에 배치되는 에어층; 상기 레진층 상에 배치되는 차광층; 및 상기 차광층과 상기 레진층 사이에 배치되는 광학 패턴;을 포함하고, 상기 광학 패턴은 중심축이 상기 복수 개의 광원의 중심축과 각각 동일하며, 상기 중심축에서 두께가 가장 큰 조명 유닛을 개시한다.Examples include a substrate; a plurality of light sources disposed on the substrate; a resin layer disposed on the substrate and covering the plurality of light sources; an air layer disposed on the resin layer; A light blocking layer disposed on the resin layer; and an optical pattern disposed between the light blocking layer and the resin layer, wherein the optical pattern has a central axis the same as the central axis of each of the plurality of light sources, and a lighting unit having the greatest thickness at the central axis is disclosed. do.

Description

조명 유닛{LIGHTING UNIT}Lighting Unit{LIGHTING UNIT}

실시 예는 조명 유닛에 관한 것이다.The embodiment relates to a lighting unit.

광원에서 발광하는 광을 유도하여 조명을 구현하는 장치는 조명용 램프나 차량용 램프, 액정표시장치 등에서 다양하게 필요로 되고 있다. 이러한 조명장치에서는 장비의 구조를 얇게 하는 기술과 광 효율을 높일 수 있는 구조가 가장 중요한 기술로 인식되고 있다.Devices that implement lighting by inducing light emitted from a light source are needed in various fields such as lighting lamps, vehicle lamps, and liquid crystal displays. In these lighting devices, technology to thin the equipment structure and structure to increase light efficiency are recognized as the most important technologies.

이러한 조명장치가 작용되는 일예로서 액정표시장치를 들어 설명하면 다음과 같다.As an example of how this lighting device works, a liquid crystal display device will be described as follows.

도 1을 참조하면, 이러한 조명장치(1)는 기판(20) 상에 평탄한 도광판(30)이 배치되고 이 도광판(30)의 측면에는 복수의 측면형 LED(10)(하나만 도시)가 어레이 형태로 배치된다.Referring to FIG. 1, this lighting device 1 has a flat light guide plate 30 disposed on a substrate 20, and a plurality of side-type LEDs 10 (only one shown) are arranged on the side of the light guide plate 30 in an array form. is placed as

LED(10)에서 도광판(30)으로 입사된 빛(L)은 도광판(30)의 밑면에 제공된 미세한 반사 패턴 또는 반사 유닛(40)에 의해 상부로 반사되어 도광판(30)에서 출사된 다음 도광판(30) 상부의 LCD 패널(50)에 광을 제공하게 된다.The light (L) incident from the LED 10 to the light guide plate 30 is reflected upward by the fine reflection pattern or reflection unit 40 provided on the bottom of the light guide plate 30, is emitted from the light guide plate 30, and is then transmitted to the light guide plate ( 30) Light is provided to the upper LCD panel 50.

이러한 조명장치에는 도 2에 도시된 개념도와 같이, 상기 도광판(30)과 LCD 패널(50) 사이에 확산시트(31)나 프리즘 시트(32, 33), 보호시트(34) 등의 복수의 광학시트를 더 부가하는 구조로 형성될 수 있다.As shown in the conceptual diagram shown in FIG. 2, this lighting device includes a plurality of optical devices such as a diffusion sheet 31, prism sheets 32, 33, and a protection sheet 34 between the light guide plate 30 and the LCD panel 50. It can be formed into a structure where additional sheets are added.

따라서 이러한 도광판은 기본적으로 이러한 조명장치의 필수적인 부품으로 사용되지만, 이로 인해 도광판 자체의 두께로 인해 전체적인 제품의 두께를 박형화할 수 있는데 한계를 나타내고 있으며, 광 균일도가 저하되는 문제가 존재한다.Therefore, these light guide plates are basically used as essential parts of these lighting devices, but due to the thickness of the light guide plates themselves, there is a limit to reducing the thickness of the overall product, and there is a problem of deterioration of light uniformity.

실시 예는 광 균일도를 개선하는 조명 유닛을 제공한다.Embodiments provide a lighting unit that improves light uniformity.

또한, 광 손실이 감소된 조명 유닛을 제공한다.Additionally, a lighting unit with reduced light loss is provided.

또한, 광원 개수를 절감하고 두께가 감소한 조명 유닛을 제공한다.In addition, a lighting unit with reduced number of light sources and reduced thickness is provided.

실시 예에서 해결하고자 하는 과제는 이에 한정되는 것은 아니며, 아래에서 설명하는 과제의 해결수단이나 실시 형태로부터 파악될 수 있는 목적이나 효과도 포함된다고 할 것이다.The problem to be solved in the embodiment is not limited to this, and it will also include means of solving the problem described below and purposes and effects that can be understood from the embodiment.

실시예에 따른 조명 유닛은 기판; 상기 기판 상에 배치되는 복수 개의 광원; 상기 기판 상에 배치되어 상기 복수 개의 광원을 덮는 레진층; 상기 레진층 상에 배치되는 에어층; 및 상기 에어층 상에 배치되는 확산판;을 포함하고, 인접한 복수 개의 광원 사이의 이격 거리는 상기 기판과 상기 확산판 사이의 이격 거리와 거리 비가 1:0.8 내지 1:2이다.A lighting unit according to an embodiment includes a substrate; a plurality of light sources disposed on the substrate; a resin layer disposed on the substrate and covering the plurality of light sources; an air layer disposed on the resin layer; and a diffusion plate disposed on the air layer, wherein the separation distance between the plurality of adjacent light sources is at a distance ratio of 1:0.8 to 1:2 between the substrate and the diffusion plate.

상기 기판 상에 배치되고 홀을 포함하는 반사유닛;을 더 포함하고, 상기 복수 개의 광원은 상기 홀에 배치될 수 있다.It may further include a reflective unit disposed on the substrate and including a hole, and the plurality of light sources may be disposed in the hole.

상기 반사 유닛은 상기 복수 개의 광원을 둘러싸도록 배치될 수 있다.The reflective unit may be arranged to surround the plurality of light sources.

상기 레진층은 굴절률이 1.3 내지 1.7일 수 있다.The resin layer may have a refractive index of 1.3 to 1.7.

상기 레진층과 상기 확산판 사이에 배치되는 차광층; 및 상기 차광층과 상기 레진층 사이에 배치되는 광학 패턴;을 더 포함할 수 있다.a light blocking layer disposed between the resin layer and the diffusion plate; and an optical pattern disposed between the light blocking layer and the resin layer.

상기 복수 개의 광원은 상기 광학 패턴과 두께 방향으로 중첩될 수 있다.The plurality of light sources may overlap the optical pattern in the thickness direction.

상기 광학 패턴은 중심축이 상기 복수 개의 광원의 중심축과 동일한 배치될 수 있다.The optical pattern may be arranged so that its central axis is the same as the central axis of the plurality of light sources.

상기 광학 패턴은 상기 중심축을 기준으로 대칭 형태일 수 있다.The optical pattern may be symmetrical about the central axis.

상기 광학 패턴은 TiO2, CaCO3, BaSO4, Al2O3, Silicon, PS 중 어느 하나 이상의 물질을 포함할 수 있다.The optical pattern may include any one or more of TiO2, CaCO3, BaSO4, Al2O3, Silicon, and PS.

상기 광학 패턴은 상기 광원에 인접할수록 두께가 커질 수 있다.The thickness of the optical pattern may increase as it approaches the light source.

상기 광학 패턴의 최대 폭은 상기 광원의 최대 폭보다 클 수 있다.The maximum width of the optical pattern may be greater than the maximum width of the light source.

상기 광학 패턴의 최대 폭은 상기 인접한 복수 개의 광원 사이의 이격 거리보다 작을 수 있다.The maximum width of the optical pattern may be smaller than the separation distance between the plurality of adjacent light sources.

상기 에어층은, 상기 레진층의 상면을 기준으로 구획되는 제1 에어층과 제2 에어층을 포함하고, 상기 제2 에어층은, 상기 레진층 사이에 배치될 수 있다.상기 확산판 상에 배치되는 형광체층; 상기 형광체층 상에 배치되는 프리즘 시트; 및 상기 프리즘 시트 상에 배치되는 편광층;을 더 포함할 수 있다.The air layer includes a first air layer and a second air layer divided based on the upper surface of the resin layer, and the second air layer may be disposed between the resin layers. On the diffusion plate. A phosphor layer disposed; A prism sheet disposed on the phosphor layer; and a polarizing layer disposed on the prism sheet.

상기 기판과 상기 확산층 사이에 배치되는 지지부를 더 포함할 수 있다.It may further include a support portion disposed between the substrate and the diffusion layer.

실시 예에 따르면, 광 균일도가 개선된 조명 유닛을 구현할 수 있다.According to an embodiment, a lighting unit with improved light uniformity can be implemented.

또한, 광 손실이 감소된 조명 유닛을 제작할 수 있다.Additionally, a lighting unit with reduced light loss can be manufactured.

또한, 광원 개수를 절감하고 두께가 감소한 조명 유닛을 제작할 수 있다.Additionally, it is possible to reduce the number of light sources and produce a lighting unit with reduced thickness.

본 발명의 다양하면서도 유익한 장점과 효과는 상술한 내용에 한정되지 않으며, 본 발명의 구체적인 실시형태를 설명하는 과정에서 보다 쉽게 이해될 수 있을 것이다.The various and beneficial advantages and effects of the present invention are not limited to the above-described content, and may be more easily understood through description of specific embodiments of the present invention.

도 1은 백라이트 유닛의 구조를 도시한 개념도이고,
도 2는 제1 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이고,
도 3은 도 2에서 K부분의 확대도이고,
도 4는 실시예에 따른 광원의 개략도이고,
도 5 내지 도 7은 제1 실시예에 따른 효과를 설명하는 도면이고,
도 8a는 제1 실시예에 따른 조명 유닛의 하부 평면도도이고,
도 8b는 도 8a에서 M부분의 확대도이고,
도 9a는 실시예에 따른 차광층 및 광학 패턴의 평면도이고,
도 9b는 도8a에서 BB'로 절단된 단면도이고,
도 9c 내지 도 9d는 광학 패턴의 평면도이고,도 10는 제2 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이고,
도 10b는 제3 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이고,
도 10c는 제4 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이고,
도 10d는 제5 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이고,
도 10e는 제6 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이다.
1 is a conceptual diagram showing the structure of a backlight unit,
2 is a cross-sectional view of a lighting unit according to the first embodiment;
Figure 3 is an enlarged view of part K in Figure 2,
4 is a schematic diagram of a light source according to an embodiment;
5 to 7 are diagrams explaining the effect according to the first embodiment,
8A is a bottom plan view of the lighting unit according to the first embodiment;
Figure 8b is an enlarged view of portion M in Figure 8a,
9A is a plan view of a light blocking layer and an optical pattern according to an embodiment;
Figure 9b is a cross-sectional view taken along BB' in Figure 8a;
9C to 9D are top views of optical patterns, and FIG. 10 is a cross-sectional view of the lighting unit according to the second embodiment.
Figure 10b is a cross-sectional view of a lighting unit according to a third embodiment;
Figure 10c is a cross-sectional view of the lighting unit according to the fourth embodiment;
Figure 10d is a cross-sectional view of a lighting unit according to the fifth embodiment;
Figure 10E is a cross-sectional view of a lighting unit according to the sixth embodiment.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. Since the present invention can be subject to various changes and can have various embodiments, specific embodiments will be illustrated and described in the drawings. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention.

제2, 제1 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제2 구성요소는 제1 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제1 구성요소도 제2 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다. Terms containing ordinal numbers, such as second, first, etc., may be used to describe various components, but the components are not limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, the second component may be referred to as the first component without departing from the scope of the present invention, and similarly, the first component may also be referred to as the second component. The term and/or includes any of a plurality of related stated items or a combination of a plurality of related stated items.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. When a component is said to be "connected" or "connected" to another component, it is understood that it may be directly connected to or connected to the other component, but that other components may exist in between. It should be. On the other hand, when it is mentioned that a component is “directly connected” or “directly connected” to another component, it should be understood that there are no other components in between.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in this application are only used to describe specific embodiments and are not intended to limit the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this application, terms such as “comprise” or “have” are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but are not intended to indicate the presence of one or more other features. It should be understood that this does not exclude in advance the possibility of the existence or addition of elements, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by a person of ordinary skill in the technical field to which the present invention pertains. Terms defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and unless explicitly defined in the present application, should not be interpreted in an ideal or excessively formal sense. No.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the attached drawings, but identical or corresponding components will be assigned the same reference numbers regardless of reference numerals, and duplicate descriptions thereof will be omitted.

본 발명은 예컨대, LED(Light Emitting Diode)를 광원으로 이용하는 조명 유닛에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 광학 패턴과 광원 사이의 거리 및 에어층의 두께를 이용하여 광학특성을 개선하며, 도광판을 제거하고, 이를 레진층을 통해 조명 유닛의 전체 두께를 감소시키며, 광의 균일도(uniformity)를 개선할 수 있다. 아울러, 본 발명에 따른 조명 유닛은 상술한 액정표시장치의 백라이트 유닛으로 적용됨에 한정되지 않는다. 즉 조명이 필요로 하는 다양한 램프장치, 이를테면 차량용 램프, 가정용 조명장치, 산업용 조명장치에 적용이 가능함은 물론이다. 차량용 램프는 헤드라이트, 실내와 조명, 후방 라이트 등에도 적용이 가능함은 물론이다.The present invention relates to a lighting unit that uses, for example, an LED (Light Emitting Diode) as a light source. In particular, the present invention improves optical characteristics by using the distance between the optical pattern and the light source and the thickness of the air layer, removes the light guide plate, reduces the overall thickness of the lighting unit through a resin layer, and improves the uniformity of light. can be improved. In addition, the lighting unit according to the present invention is not limited to being applied as a backlight unit of the above-described liquid crystal display device. That is, of course, it can be applied to various lamp devices that require lighting, such as vehicle lamps, household lighting devices, and industrial lighting devices. Of course, vehicle lamps can be applied to headlights, interior lighting, rear lights, etc.

도 2는 제1 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이고, 도 3은 도 2에서 K부분의 확대도이고, 도 4는 실시예에 따른 광원의 개략도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of a lighting unit according to the first embodiment, FIG. 3 is an enlarged view of portion K in FIG. 2, and FIG. 4 is a schematic diagram of a light source according to the embodiment.

도 2를 참조하면, 제1 실시예에 따른 조명 유닛은 기판(110), 기판(110) 상에 배치되는 반사 유닛(120), 기판(110) 상에 배치되는 복수 개의 광원(130), 기판(110) 상에 배치되어 복수 개의 광을 덮는 레진층(140), 레진층(140) 상에 배치되는 확산판(160), 확산판(160)과 레진층(140) 사이에 배치되는 차광층(150), 확산판(160) 상에 배치되는 형광체층(170), 형광체층(170) 상에 배치되는 프리즘 시트(180), 프리즘 시트(180) 상에 배치되는 편광층(190)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the lighting unit according to the first embodiment includes a substrate 110, a reflection unit 120 disposed on the substrate 110, a plurality of light sources 130 disposed on the substrate 110, and a substrate. A resin layer 140 disposed on (110) and covering a plurality of lights, a diffusion plate 160 disposed on the resin layer 140, and a light blocking layer disposed between the diffusion plate 160 and the resin layer 140. (150), including a phosphor layer 170 disposed on the diffusion plate 160, a prism sheet 180 disposed on the phosphor layer 170, and a polarizing layer 190 disposed on the prism sheet 180. can do.

먼저, 기판(110)은 인쇄회로기판 (Printed Circuit Borad, PCB)를 포함할 수 있다. 그리고 기판(110)은 열적 내구성, 절연성, 강도가 큰 재질을 포함할 수 있다. 예컨대, 기판(110)은 글래스를 포함하는 레진과 같은 에폭시, 패놀 수지 또는 금속의 경우 Al 등을 포함할 수 있으나, 이러한 재질에 한정되는 것은 아니다.First, the substrate 110 may include a printed circuit board (PCB). Additionally, the substrate 110 may include a material with high thermal durability, insulation, and strength. For example, the substrate 110 may include epoxy such as glass-containing resin, phenolic resin, or Al in the case of metal, but is not limited to these materials.

반사 유닛(120)은 기판(110) 상에 배치될 수 있다. 반사 유닛(120)은 기판(110)의 표면 상에 배치될 수 있으며, 반사 유닛(120)은 복수 개의 필름이 적층된 구조일 수 있다. 예컨대, 반사 유닛(120)은 복수 개의 반사 필름(미도시됨)이 이격 배치된 구조일 수 있다. 그리고 복수 개의 반사 필름(미도시됨)은 서로 이격 배치되어 에어 영역을 형성할 수 있다. 이러한 구성을 통해, 반사 유닛(120)은 광원(130)으로부터 발생한 광이 복수 개의 반사 필름(미도시됨)에서 재 반사할 수 있다. The reflection unit 120 may be disposed on the substrate 110 . The reflection unit 120 may be disposed on the surface of the substrate 110, and may have a structure in which a plurality of films are stacked. For example, the reflective unit 120 may have a structure in which a plurality of reflective films (not shown) are spaced apart. Additionally, a plurality of reflective films (not shown) may be spaced apart from each other to form an air area. Through this configuration, the reflection unit 120 can re-reflect light generated from the light source 130 in a plurality of reflective films (not shown).

복수 개의 반사 필름은 백색 PET(white polthylen terephthalate)를 포함할 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 반사 유닛(120)은 휘도를 향상시킬 수 있다.The plurality of reflective films may include white polthylen terephthalate (PET). With this configuration, the reflective unit 120 can improve luminance.

또한, 복수 개의 반사 필름은 금속반사 물질 예컨대, 은(Ag)를 포함할 수도 있다. 이와 같이, 복수 개의 반사 필름은 휘도 개선을 위해 다양한 재질을 포함할 수 있다. 다만, 반사 유닛(120)이 없을 수 있다. 이러한 경우에, 기판(110)은 화이트(white) 몰드 처리된 기판일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Additionally, the plurality of reflective films may include a metallic reflective material, such as silver (Ag). As such, the plurality of reflective films may include various materials to improve brightness. However, the reflection unit 120 may not be present. In this case, the substrate 110 may be a white molded substrate, but is not limited thereto.

반사 유닛(120)은 복수 개의 홀(h)을 포함할 수 있다. 그리고 복수 개의 홀(h)에 광원(130)이 배치될 수 있다. 반사 유닛(120)은 복수 개의 광원(130)을 둘러싸도록 배치되어, 광원(130)에서 측면으로 발생한 광을 상부로 반사하여 조명 유닛 상면에 암부가 형성되지 않도록하므로 광 균일도를 개선할 수 있다. 예컨대, 반사 유닛(120)에서 복수 개의 홀(h)은 이격 배치될 수 있다. 그리고 반사 유닛(120)은 복수 개의 광원(130)으로부터 동일한 거리로 이격 배치될 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 반사 유닛(120)은 광원으로부터 출사된 광을 상부로 반사하는 광량 및 방향을 유지하여 균일한 광을 제공할 수 있다.The reflection unit 120 may include a plurality of holes (h). And the light source 130 may be disposed in a plurality of holes (h). The reflection unit 120 is arranged to surround the plurality of light sources 130 and reflects light generated from the light source 130 to the side upward to prevent dark areas from being formed on the upper surface of the lighting unit, thereby improving light uniformity. For example, in the reflection unit 120, a plurality of holes h may be spaced apart. Additionally, the reflection unit 120 may be spaced apart from the plurality of light sources 130 at the same distance. With this configuration, the reflection unit 120 can provide uniform light by maintaining the amount and direction of upward reflection of the light emitted from the light source.

전술한 바와 같이, 복수 개의 홀(h)에는 광원(130)이 각각 배치되고, 광원(130)은 반사 유닛(120) 내에 배치될 수 있다. 이 경우, 광원(130)은 측면 발광형 구조일 수 있어, 광원(130)의 수를 대폭 절감할 수 있다. 또한, 광원(130)은 제1 방향(y축 방향)으로 길이가 반사 유닛(120)의 길이보다 작을 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 광원(130)에서 측면으로 발생한 광을 상부로 반사할 수 있다. 또한, 반사 유닛(120)은 제1 방향으로 길이가 레진층(140)의 길이보다 작을 수 있다.As described above, the light source 130 may be disposed in each of the plurality of holes h, and the light source 130 may be disposed within the reflection unit 120. In this case, the light source 130 may have a side-emitting structure, so the number of light sources 130 can be significantly reduced. Additionally, the length of the light source 130 in the first direction (y-axis direction) may be shorter than the length of the reflection unit 120. With this configuration, light generated from the light source 130 to the side can be reflected upward. Additionally, the length of the reflective unit 120 in the first direction may be shorter than the length of the resin layer 140.

광원(130)은 기판(110) 상에 복수 개 배치될 수 있다. 광원(130)은 후술하는 바와 같이 수백 마이크로미터 내지 수 밀리미터의 길이를 가질 수 있다. 바람직하게, 광원(130)은 단면이 직사각형인 경우, 일변의 길이가 100um 내지 500um일 수 있다. 이러한 광원(130)의 크기에 따라, 복수 개의 광원(130)이 조명 유닛 내에서 각각 복수 개의 영역별로 배치되므로, 조명 유닛은 광원(130)의 제어로 디밍 제어가 수행될 수 있다. 이로써, 실시예에 따른 조명 유닛은 복수 개의 광원(130)을 포함하여 세밀한 디밍 제어가 이루어질 수 있다. A plurality of light sources 130 may be disposed on the substrate 110 . The light source 130 may have a length of hundreds of micrometers to several millimeters, as will be described later. Preferably, when the light source 130 has a rectangular cross-section, the length of one side may be 100 um to 500 um. According to the size of the light source 130, the plurality of light sources 130 are each arranged in a plurality of areas within the lighting unit, so the lighting unit can be dimmed by controlling the light source 130. As a result, the lighting unit according to the embodiment includes a plurality of light sources 130, so that detailed dimming control can be achieved.

또한, 광원(130)은 사이즈가 작아짐에 따라 에어층의 제1 방향(y축 방향) 길이도 감소하므로, 실시예에 따른 조명 유닛은 두께가 감소할 수 있다.Additionally, as the size of the light source 130 decreases, the length of the air layer in the first direction (y-axis direction) also decreases, so the lighting unit according to the embodiment may have a reduced thickness.

또한, 조명 유닛에서 각 광원(130)에 의해 광이 출사되는 면적이 감소하므로, 광학 패턴(151)의 사이즈도 작아질 수 있다. 다만, 에어층의 제1 방향(y축 방향)의 길이 감소에 따라 광원(130) 상부로 출사하는 광이 집중되므로, 광학 패턴(151)의 구조에 따라 균일도가 제어될 수 있다. 이에 대해서는 후술한다.Additionally, since the area from which light is emitted by each light source 130 in the lighting unit is reduced, the size of the optical pattern 151 may also be reduced. However, as the length of the air layer in the first direction (y-axis direction) decreases, the light emitted toward the top of the light source 130 is concentrated, so uniformity can be controlled according to the structure of the optical pattern 151. This will be described later.

도 4를 참조하면, 실시예에 따른 광원(130)은 반도체 소자로, 예컨대, LED일 수 있다. 그리고 반도체 소자는 투명기판(1010), 투명기판(1010) 하부에 배치되는 제1 비도전형 반도체층(1020), 제1 비도전형 반도체층(1020) 하부에 배치되는 제1 제어층(1030), 제1 제어층(1030) 하부에 배치되는 반도체 구조물(1100), 제1 도전형 반도체층(1110)에 연결된 제1 전극(1310), 제1 전극(1310)에 연결된 제1 기둥 전극(1410), 제2 도전형 반도체층(1130)에 연결된 제2 전극(1320) 및 제2 전극(1320)에 전기적으로 연결된 제2 기둥 전극(1420)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, the light source 130 according to the embodiment may be a semiconductor device, for example, an LED. And the semiconductor device includes a transparent substrate 1010, a first non-conductive semiconductor layer 1020 disposed below the transparent substrate 1010, a first control layer 1030 disposed below the first non-conductive semiconductor layer 1020, A semiconductor structure 1100 disposed below the first control layer 1030, a first electrode 1310 connected to the first conductive semiconductor layer 1110, and a first pillar electrode 1410 connected to the first electrode 1310. , It may include a second electrode 1320 connected to the second conductive semiconductor layer 1130 and a second pillar electrode 1420 electrically connected to the second electrode 1320.

이러한 경우, 반도체 구조물(1100)에서 생성된 광은 반도체 소자의 측면 등을 통해 방출될 수 있다. 그리고 제1 기둥전극(1410)과 제2 기둥 전극(1420)은 회로 패턴(PT) 등과 전기적으로 연결되어 전원을 공급받을 수 있다.In this case, light generated in the semiconductor structure 1100 may be emitted through the side of the semiconductor device, etc. In addition, the first pillar electrode 1410 and the second pillar electrode 1420 can be electrically connected to the circuit pattern PT, etc. to receive power.

다만, 이러한 구조에 한정되는 것은 아니며, 실시예에 따른 조명 유닛은 반도체 소자의 패키지 타입의 반도체 모듈을 적용할 수 있다. 또한, 광원(130)은 일반적으로 다양한 종류의 광원(130)의 적용이 가능할 수 있다. 예컨대, 광원(130)은 측면 발광형(side view) 또는 상부 발광형(Top view)의 구조의 LED를 이용할 수 있다.However, it is not limited to this structure, and the lighting unit according to the embodiment may apply a semiconductor module of a package type of a semiconductor device. Additionally, the light source 130 may generally be applicable to various types of light sources 130. For example, the light source 130 may use an LED having a side view or top view structure.

레진층(140)은 기판(110) 상에 배치되고, 복수 개의 광원(130)을 덮을 수 있다. 레진층(140)은 복수 개의 광원(130)을 각각 덮을 수 있다. 또한, 레진층(140)은 반사 유닛(120)의 홀(h)에 배치될 수 있다. 즉, 레진층(140)은 복수 개로 이격 배치될 수 있다.The resin layer 140 is disposed on the substrate 110 and may cover a plurality of light sources 130. The resin layer 140 may cover each of the plurality of light sources 130. Additionally, the resin layer 140 may be disposed in the hole h of the reflection unit 120. That is, a plurality of resin layers 140 may be arranged to be spaced apart.

레진층(140)은 예컨대 광원(130)에서 측방향으로 출사하는 광을 유도하고, 광을 확산, 분산시킬 수 있다. 이로써, 레진층(140)은 광을 가이드할 수 있다.For example, the resin layer 140 may guide light emitted from the light source 130 in a lateral direction and may diffuse and disperse the light. Accordingly, the resin layer 140 can guide light.

또한, 레진층(140)은 광을 확산할 수 있는 재질의 수지로 이루어질 수 있다. 예컨대, 레진층(140)은 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 주원료로 포함하는 레진일 수 있다. 또한, 레진층(140)은 합성올리고머인 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 폴리아크릴인 폴리머와 혼합된 재질을 포함할 수 있다. 뿐만 아니라, 레진층(140)은 저비점 희석형 반응성 모노머인 IBOA(isobornyl acrylate), HPA(Hydroxylpropyl acrylate, 2-HEA(2-hydroxyethyl acrylate) 등이 혼합된 모노머를 더 포함할 수 있으며, 첨가제로서 광개시제(이를 테면, 1-hydroxycyclohexyl phenyl-ketone 등) 또는 산화방지제 등을 혼합할 수 있다.Additionally, the resin layer 140 may be made of a material that can diffuse light. For example, the resin layer 140 may be a resin containing urethane acrylate oligomer as a main raw material. Additionally, the resin layer 140 may include a material obtained by mixing urethane acrylate oligomer, a synthetic oligomer, with a polyacrylic polymer. In addition, the resin layer 140 may further include monomers mixed with low boiling point diluted reactive monomers such as isobornyl acrylate (IBOA), hydroxylpropyl acrylate (HPA), and 2-hydroxyethyl acrylate (2-HEA), and a photoinitiator as an additive. (For example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl-ketone, etc.) or antioxidants can be mixed.

아울러, 레진층(140)은 빛의 확산과 반사를 증가시키기 위해서 비드(bead)를 포함할 수 있다. 비드(bead)는 전체 레진층(140) 중량 대비 0.01~0.3% 포함할 수 있다. 즉, 광원(130)에서 측방향으로 출사되는 광은 레진층(140)과 비드를 통해 확산 및 반사되어 상부 방향으로 진행할 수 있게 된다.In addition, the resin layer 140 may include beads to increase diffusion and reflection of light. Beads may contain 0.01 to 0.3% of the total weight of the resin layer 140. That is, the light emitted from the light source 130 in the lateral direction is diffused and reflected through the resin layer 140 and the beads and can proceed upward.

그리고 레진층(140)은 상술한 본 발명에 따른 반사 유닛(120)과 더불어 반사 기능을 더욱 촉진시킬 수 있게 된다. 또한, 레진층(140)은 박형화가 가능하여, 두께 감소를 제공할 수 있다. 뿐만 아니라, 레진층(140)은 연성의 재질을 포함할 수 있어 플렉서블한 디스플레이에도 적용할 수 있는 범용성을 제공할 수 있다.And the resin layer 140 can further promote the reflective function together with the reflective unit 120 according to the present invention described above. Additionally, the resin layer 140 can be thinned, providing a thickness reduction. In addition, the resin layer 140 may include a flexible material, providing versatility that can be applied to flexible displays.

또한, 레진층(140)은 에어층(A)의 공기의 굴절율과 광원(130)의 굴절율 사이의 굴절율을 가질 수 있다. 에어층(A)의 굴절율은 광원(130)의 굴절율보다 작을 수 있다. 그리고 레진층(140)은 굴절율이 광원(130)의 굴절율보다 작고, 에어층(A)의 굴절율보다 클 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 레진층(140)은 전반사율을 감소시켜 광 효율을 향상시킬 수 있다. 예컨대, 레진층(140)은 굴절율이 1.3 내지 1.7일 수 있으며, 광원(130)은 굴절율이 1.7 내지 2.4일 수 있다. 다만, 이러한 수치에 한정되는 것은 아니다.Additionally, the resin layer 140 may have a refractive index between the refractive index of air in the air layer (A) and the refractive index of the light source 130. The refractive index of the air layer (A) may be smaller than the refractive index of the light source 130. In addition, the refractive index of the resin layer 140 may be smaller than that of the light source 130 and greater than the refractive index of the air layer (A). With this configuration, the resin layer 140 can improve light efficiency by reducing total reflectance. For example, the resin layer 140 may have a refractive index of 1.3 to 1.7, and the light source 130 may have a refractive index of 1.7 to 2.4. However, it is not limited to these numbers.

에어층(A)은 레진층(140) 상에 배치될 수 있다. 에어층(A)은 레진층(140)을 덮을 수 있다. 그리고 에어층(A)은 레진층(140)이 이격 배치되는 경우 레진층(140) 사이에 배치될 수 있다. 이에 따라, 에어층(A)은 광을 균일하고 안정적으로 확산시킬 수 있다.The air layer (A) may be disposed on the resin layer 140. The air layer (A) may cover the resin layer 140. Additionally, the air layer (A) may be disposed between the resin layers 140 when the resin layers 140 are spaced apart. Accordingly, the air layer (A) can diffuse light uniformly and stably.

구체적으로, 에어층(A)은 레진층(140)의 상면을 기준으로 제1 에어층(A1)과 제2 에어층(A2)으로 구획될 수 있다. 제1 에어층(A1)은 에어층(A)에서 레진층(140) 상면의 상부 영역이고, 제2 에어층(A2)은 에어층(A)에서 레진층(140) 상면의 하부영역일 수 있다.Specifically, the air layer (A) may be divided into a first air layer (A1) and a second air layer (A2) based on the upper surface of the resin layer 140. The first air layer (A1) may be an upper area of the upper surface of the resin layer 140 in the air layer (A), and the second air layer (A2) may be a lower area of the upper surface of the resin layer 140 in the air layer (A). there is.

그리고 제1 에어층(A1)은 광원(130) 상부에 배치될 수 있다. 제2 에어층(A2)은 레진층(140) 사이 또는 광원(130) 사이에 배치될 수 있다.And the first air layer (A1) may be disposed on the light source 130. The second air layer A2 may be disposed between the resin layers 140 or the light source 130.

제1 에어층(A1)은 레진층(140) 상에 배치되어 광이 확산판(160)까지 이동하는 통로일 수 있다. 그리고 제1 에어층(A1)은 빛의 편차를 감소시킬 수 있다. The first air layer A1 may be disposed on the resin layer 140 and serve as a passage through which light moves to the diffusion plate 160. And the first air layer (A1) can reduce the deviation of light.

또한, 제2 에어층(A2)은 레진층(140)과 제1 에어층(A1) 사이에서 전반사된 광이 레진층(140) 내에서 손실되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 제2 에어층(A2)은 레진층(140)에 의해 광이 손실되는 것을 방지할 수 있다.Additionally, the second air layer (A2) can prevent light totally reflected between the resin layer 140 and the first air layer (A1) from being lost within the resin layer 140. That is, the second air layer A2 can prevent light from being lost by the resin layer 140.

확산판(160)은 에어층(A) 상에 배치될 수 있다. 확산판(160)은 광원(130) 상부, 보다 구체적으로는 에어층(A) 또는 차광층(150) 상에 배치될 수 있다. 확산판(160)은 에어층(A)을 통과하여 출사되는 광을 전면에 걸쳐 균일하게 확산시킬 수 있다.The diffusion plate 160 may be disposed on the air layer (A). The diffusion plate 160 may be disposed on the light source 130, more specifically, on the air layer (A) or the light blocking layer 150. The diffusion plate 160 can uniformly diffuse the light emitted through the air layer (A) over the entire surface.

확산판(160)은 두께가 0.5mm 내지 5mm의 범위에서 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 그리고 조명 유닛의 크기에 따라 적절히 설계변경 가능하다. The diffusion plate 160 may have a thickness ranging from 0.5 mm to 5 mm, but is not limited thereto. And the design can be appropriately changed depending on the size of the lighting unit.

특히, 본 발명의 확산판(160)은 도 2에 도시된 바와 같이 상부면 및 상부면과 일체로 형성된 측벽(미도시됨)을 구비한 구조로 이루어질 수 있다. 그리고 측벽(미도시됨)은 광원(130)의 측면을 감싸게 된다. In particular, the diffusion plate 160 of the present invention may have a structure including an upper surface and a side wall (not shown) formed integrally with the upper surface, as shown in FIG. 2. And the side wall (not shown) surrounds the side of the light source 130.

확산판(160)은 일반적으로 아크릴 수지로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 이외에도 폴리스티렌(PS), 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA), 환상 올레핀 코폴리(COC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 레진(resin)과 같은 고투과성 플라스틱 등 광 확산 기능을 수행할 수 있는 재질로 이루어질 수 있다.The diffusion plate 160 may generally be made of acrylic resin, but is not limited thereto and may also be made of polystyrene (PS), polymethyl methacrylate (PMMA), cyclic olefin copoly (COC), and polyethylene terephthalate (PET). , it may be made of a material that can perform a light diffusion function, such as a high-transparency plastic such as resin.

차광층(150)은 에어층(A) 상에 배치될 수 있다. 예컨대, 차광층(150)은 에어층(A)과 확산판(160) 사이에 배치될 수 있다. 차광층(150)은 에어층(A)의 일면(예컨대 상면)으로부터 출사되는 광을 투광할 수 있다. 차광층(150)은 광 투과율이 우수한 재질을 포함할 수 있다. 예컨대, 차광층(150)은 PET(Polyethylene Telephthalate)를 포함할 수 있다. 그리고 차광층(150)은 복수 개의 시트가 적층된 구조일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The light blocking layer 150 may be disposed on the air layer (A). For example, the light blocking layer 150 may be disposed between the air layer A and the diffusion plate 160. The light blocking layer 150 may transmit light emitted from one surface (eg, top surface) of the air layer (A). The light blocking layer 150 may include a material with excellent light transmittance. For example, the light blocking layer 150 may include PET (Polyethylene Telephthalate). Additionally, the light blocking layer 150 may have a structure in which a plurality of sheets are stacked, but is not limited thereto.

광학 패턴(151)은 차광층(150) 하부에 배치될 수 있다. 광학 패턴(151)은 에어층(A)과 차광층(150) 사이에 배치될 수 있다. 광학 패턴(151)은 광원(130)에서 출사되는 광이 집중되지 않도록 할 수 있다. 즉, 광학 패턴(151)은 균일한 면 발광을 제공할 수 있다.The optical pattern 151 may be disposed below the light blocking layer 150. The optical pattern 151 may be disposed between the air layer (A) and the light blocking layer 150. The optical pattern 151 may prevent light emitted from the light source 130 from being concentrated. That is, the optical pattern 151 can provide uniform surface light emission.

광학 패턴(151)은 광원(130)에서 출사된 광의 일부를 차광할 수 있다. 그리고 광학 패턴(151)은 광의 강도가 높아 광학 특성이 저하되거나 황색광이 도출(yellowish)되는 현상을 방지할 수 있다. 예컨대, 광학 패턴(151)은 광원(130)에 인접하는 영역에 광이 집중되는 것을 방지하고, 광을 분산시킬 수 있다.The optical pattern 151 may block some of the light emitted from the light source 130. In addition, the optical pattern 151 has a high light intensity and can prevent optical characteristics from being deteriorated or yellow light from being produced (yellowish). For example, the optical pattern 151 can prevent light from being concentrated in an area adjacent to the light source 130 and disperse the light.

광학 패턴(151)은 차광 잉크를 이용하여 차광층(150)의 하면에 인쇄 공정에 의해 형성될 수 있다. 광학 패턴(151)은 광을 일부 차광하고, 나머지 광은 확산할 수 있도록, 광학 패턴(151)의 밀도, 및/또는 크기가 조절될 수 있다. 이에 따라, 광확 패턴(151)은 차광도, 확산도를 조절할 수 있다. 예컨대, 광효율을 향상시키기 위하여 광학 패턴(151)은 광원(130)에서 멀어질수록 광학 패턴(151)의 밀도가 낮아지도록 조절될 수 있다. 또한, 광학 패턴(151)은 광의 효율과 강도, 차광율을 고려하여 다양하게 변형될 수 있다.The optical pattern 151 may be formed through a printing process on the lower surface of the light-shielding layer 150 using light-shielding ink. The density and/or size of the optical pattern 151 may be adjusted so that the optical pattern 151 blocks some of the light and diffuses the remaining light. Accordingly, the light diffusion pattern 151 can adjust the light blocking degree and diffusion degree. For example, in order to improve light efficiency, the optical pattern 151 may be adjusted so that the density of the optical pattern 151 decreases as the distance from the light source 130 increases. Additionally, the optical pattern 151 may be modified in various ways considering light efficiency, intensity, and light blocking rate.

구체적으로, 광학 패턴(151)은 복합적인 패턴의 중첩인쇄구조로 형성될 수 있다. 즉, 광학 패턴(151)은 하나의 패턴이 형성된 이후에, 형성된 패턴 상부에 다른 패턴 형상을 중첩하여 인쇄하여 형성될 수 있다.Specifically, the optical pattern 151 may be formed as an overlapping printing structure of a complex pattern. That is, the optical pattern 151 may be formed by printing another pattern shape overlapping on top of the formed pattern after one pattern is formed.

예컨대, 광학 패턴(151)은 확산 패턴과 차광 패턴을 포함하고, 확산 패턴과 차광 패턴이 중첩되는 구조일 수 있다. 그리고 광학 패턴(151)은 TiO2, CaCO3, BaSO4, Al2O3, Silicon 중 선택되는 어느 하나 이상의 물질을 포함할 수 있다. For example, the optical pattern 151 includes a diffusion pattern and a light-shielding pattern, and may have a structure in which the diffusion pattern and the light-shielding pattern overlap. And the optical pattern 151 may include one or more materials selected from TiO2, CaCO3, BaSO4, Al2O3, and Silicon.

형광체층(170)은 확산판(160) 상에 배치될 수 있다. 그리고 형광체층(170)은 형광체를 포함하여, 확산판(160)을 통과한 광의 파장을 변화시킬 수 있다. 형광체는 광원(130)에서 방출되는 광의 일부를 여기시켜 다른 파장을 피크 파장으로 하는 광을 방출할 수 있다. 예컨대, 광원(130)이 청색 광을 발생시키는 경우, 형광체가 황색인 경우 형광체층(170)을 통과한 청색 광은 여기되어 백생 광으로 변화할 수 있다. 또한, 형광체층(170)은 적색, 녹색, 청색의 형광체를 포함하여 백색광을 방출할 수 도 있다. 다만, 이러한 색에 한정되는 것은 아니며, 다양한 조합을 가질 수 있다.The phosphor layer 170 may be disposed on the diffusion plate 160. Additionally, the phosphor layer 170 contains a phosphor and can change the wavelength of light passing through the diffusion plate 160. The phosphor may excite a portion of the light emitted from the light source 130 to emit light with a different peak wavelength. For example, when the light source 130 generates blue light and the phosphor is yellow, the blue light passing through the phosphor layer 170 may be excited and change into white light. Additionally, the phosphor layer 170 may include red, green, and blue phosphors and emit white light. However, it is not limited to these colors and can have various combinations.

그리고 형광체층(170)은 확산판(160) 상에 배치되어, 광원(130)과 이격 배치될 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 광 균일도가 개선될 수 있다.Additionally, the phosphor layer 170 may be disposed on the diffusion plate 160 and spaced apart from the light source 130. By this configuration, light uniformity can be improved.

프리즘 시트(180)는 형광체층(170) 상에 배치될 수 있다. 프리즘 시트(180)는 시트의 표면에 수직 또는 수평으로 형성된 프리즘 패턴을 포함할 수 있다. 그리고 프리즘 시트(180)는 확산판(160)에서 출력되는 광을 집광할 수 있다.The prism sheet 180 may be disposed on the phosphor layer 170. The prism sheet 180 may include a prism pattern formed vertically or horizontally on the surface of the sheet. And the prism sheet 180 can converge the light output from the diffusion plate 160.

프리즘 시트(180)는 집광 효율을 개선하기 위해, 프리즘 패턴을 삼각형 단면을 갖도록 형성할 수 있으나, 이러한 형상에 한정되는 것은 아니다.The prism sheet 180 may be formed with a prism pattern having a triangular cross-section to improve light collection efficiency, but is not limited to this shape.

편광층(190)은 프리즘 시트(180) 상부에 배치되고, 프리즘 시트(180)를 통과한 광의 휘도를 증가시킬 수 있다. 편광층(190)은 DBEF(Dual Brightness Enhancement Film)를 포함할 수 있다.The polarizing layer 190 is disposed on the prism sheet 180 and can increase the luminance of light passing through the prism sheet 180. The polarization layer 190 may include a dual brightness enhancement film (DBEF).

도 3을 참조하면, 복수 개의 광원은 광학 패턴(151)과 제1 방향(y축 방향)으로 이격 배치될 수 있다. 여기서, 제1 방향은 y축 방향으로 광원에서 광학 패턴을 향한 방향으로 두께 방향이며, 제2 방향은 x축 방향으로 제1 방향에 수직한 방향이다.Referring to FIG. 3, a plurality of light sources may be arranged to be spaced apart from the optical pattern 151 in a first direction (y-axis direction). Here, the first direction is the thickness direction in the y-axis direction from the light source to the optical pattern, and the second direction is the x-axis direction perpendicular to the first direction.

구체적으로, 중심축(C)은 복수 개의 광원 각각의 하면의 중심을 지나는 가상선일 수 있다. 예컨대, 중심축(C)은 광원이 사각형인 경우 하면의 마주보는 모서리를 이둥분선의 교점을 지나고, 광원이 원형인 경우 원점을 지날 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 중심축(C)은 광원(130)이 원형, 다각형인 경우에 광원(130)으로부터 광이 가장 많이 출사되는 가상의 선일 수 있다.Specifically, the central axis C may be an imaginary line passing through the center of the lower surface of each of the plurality of light sources. For example, the central axis C may pass through the intersection of the moving edges of the lower surface when the light source is square, and may pass through the origin when the light source is circular. However, it is not limited to this, and the central axis C may be an imaginary line through which the most light is emitted from the light source 130 when the light source 130 is circular or polygonal.

또한, 중심축(C)은 복수 개일 수 있다. 중심축(C)은 광원 상부에 배치된 광학 패턴(151)의 중심을 지날 수 있다. 이에 따라, 중심축(C)은 광원의 중심 및 광학 패턴(151)의 중심을 지날 수 있다. 그리고 광학 패턴(151)은 예를 들어, 원형, 다각형 등 다양한 형상으로 이루어질 수 있다. 광학 패턴(151)이 원형인 경우, 중심축(C)은 광학 패턴(151)의 원점을 지날 수 있다. 이에 따라, 광원은 중심축(C)을 기준으로 대칭된 구조를 가질 수 있다. 또한, 광학 패턴(151)은 중심축(C)을 기준으로 대칭된 구조를 가질 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 광원의 상부로 출사되는 광의 차광 및 확산이 균일하게 제공할 수 있다.Additionally, there may be multiple central axes (C). The central axis C may pass through the center of the optical pattern 151 disposed on the light source. Accordingly, the central axis C may pass through the center of the light source and the center of the optical pattern 151. And the optical pattern 151 may be formed in various shapes, such as circular or polygonal. When the optical pattern 151 is circular, the central axis C may pass through the origin of the optical pattern 151. Accordingly, the light source may have a symmetrical structure with respect to the central axis C. Additionally, the optical pattern 151 may have a symmetrical structure with respect to the central axis C. With this configuration, it is possible to provide uniform shading and diffusion of light emitted from the top of the light source.

그리고 조명 유닛은 제1 영역(S1)과 제2 영역(S2)을 포함할 수 있다. 제1 영역(S1)은 광원이 배치된 영역이며, 제2 영역(S2)은 광학 패턴(151)이 배치된 영역이다.And the lighting unit may include a first area (S1) and a second area (S2). The first area S1 is an area where a light source is placed, and the second area S2 is an area where the optical pattern 151 is placed.

제1 영역(S1)은 제2 영역(S2)과 제1 방향으로 중첩될 수 있다. 즉, 제2 영역(S2)은 면적이 제1 영역(S1)의 면적보다 클 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 광원에서 출사된 광이 광원의 상부로 집중되는 것을 방지할 수 있다. 이로써, 실시예에 따른 조명 유닛은 광 균일도를 향상시킬 수 있다. 이에 대해서는 이하 도 9a 내지 도 9d에서 자세히 설명한다.The first area S1 may overlap the second area S2 in the first direction. That is, the area of the second area S2 may be larger than that of the first area S1. With this configuration, it is possible to prevent light emitted from the light source from being concentrated on the top of the light source. As a result, the lighting unit according to the embodiment can improve light uniformity. This will be described in detail below in FIGS. 9A to 9D.

또한, 실시예에 따른 조명 유닛은 확산판(160)과 기판 사이의 이격 거리(d1)를 조절하여 광의 균일도를 개선할 수 있다. 여기서, 확산판(160)과 기판 사이의 이격 거리(d1)는 확산판(160) 하부에 차광층(150)이 존재하는 경우 차광층(150)이적용될 수 있다. 또한, 확산판과 기판 사이의 이격 거리(d1)는 도 2에서 에어층(A)의 최대 길이와 동일할 수 있다.Additionally, the lighting unit according to the embodiment can improve light uniformity by adjusting the separation distance d1 between the diffusion plate 160 and the substrate. Here, the separation distance d1 between the diffusion plate 160 and the substrate may be applied when the light blocking layer 150 exists below the diffusion plate 160. Additionally, the separation distance d1 between the diffusion plate and the substrate may be equal to the maximum length of the air layer A in FIG. 2.

확산판과 기판 사이의 이격 거리(d1)는 제1 방향(y축 방향)으로 길이일 수 있다. 확산판과 기판 사이의 이격 거리(d1)가 커질수록 광원과 조명 유닛의 상면이 멀어져 균일도가 향상될 수 있다. 다만, 확산판과 기판 사이의 이격 거리(d1)가 커질수록 광 경로가 증가하여 광손실이 커지며 빛이 도달하지 않는 영역으로 인한 암부를 발생시킬 수 있는 문제점이 존재한다.The separation distance d1 between the diffusion plate and the substrate may be a length in the first direction (y-axis direction). As the separation distance (d1) between the diffusion plate and the substrate increases, the upper surface of the light source and the lighting unit becomes farther apart, and uniformity can be improved. However, as the separation distance (d1) between the diffusion plate and the substrate increases, the optical path increases, resulting in increased light loss, and there is a problem that dark areas may be generated due to areas where light does not reach.

그리고 실시예에 따른 조명 유닛은 광원 사이의 이격 거리(W1)를 조절하여 광의 균일도를 개선할 수 있다. 여기서, 광원 사이의 이격 거리(W1)는 인접한 광원의 중심축(c) 사이의 거리(W1)일 수 있다.And the lighting unit according to the embodiment can improve the uniformity of light by adjusting the separation distance (W1) between light sources. Here, the separation distance (W1) between light sources may be the distance (W1) between the central axes (c) of adjacent light sources.

이 때, 광원 사이의 이격 거리(W1)는 제2 방향으로 길이일 수 있다. 그리고 광원 사이의 이격 거리가(W1)가 작아지면 조명 유닛의 균일도가 향상될 수 있다. 다만, 광원의 개수가 증가하며, 차광 영역이 넓어져 광이 서로 간섭하여 인지 가능한 명부가 발생하는 문제가 존재한다.At this time, the separation distance W1 between the light sources may be a length in the second direction. Additionally, as the separation distance (W1) between light sources decreases, the uniformity of the lighting unit can be improved. However, as the number of light sources increases and the light blocking area expands, there is a problem in that light interferes with each other and a perceptible highlight occurs.

이에 따라, 실시예에 따른 조명 유닛은 확산판과 기판 사이의 이격 거리(d1)와 광원 사이의 이격 거리(W1) 간의 길이 비는 1:0.8 내지 1:2일 수 있다. Accordingly, in the lighting unit according to the embodiment, the length ratio between the separation distance (d1) between the diffusion plate and the substrate and the separation distance (W1) between the light source may be 1:0.8 to 1:2.

확산판과 기판 사이의 이격 거리(d1)와 광원 사이의 이격 거리(W1) 간의 길이 비가 1:0.8보다 작은 경우에, 광원의 개수가 증가하여 저항이 증가하고 전력 손실이 커지며, 광이 광원 상부로 집중되어 균일도가 저하되는 문제가 존재한다.When the length ratio between the separation distance between the diffusion plate and the substrate (d1) and the separation distance between the light sources (W1) is less than 1:0.8, the number of light sources increases, resistance increases, power loss increases, and the light is directed to the upper part of the light source. There is a problem that uniformity deteriorates due to concentration.

그리고 확산판과 기판 사이의 이격 거리(d1)와 광원 사이의 이격 거리(W1) 간의 길이 비가 1:2보다 큰 경우에, 광 손실이 커지고, 광의 균일도가 저하되는 문제가 발생한다.In addition, when the length ratio between the separation distance (d1) between the diffusion plate and the substrate and the separation distance (W1) between the light source is greater than 1:2, the problem of increased light loss and reduced light uniformity occurs.

그리고 도 5 내지 도 7은 제1 실시예에 따른 효과를 설명하는 도면이다.And Figures 5 to 7 are diagrams explaining the effect according to the first embodiment.

먼저, 도 5은 제1 실시예에 따른 조명 유닛에서 확산판과 기판 사이의 이격 거리가 3㎜ 이고 광원 사이의 이격 거리가 6㎜(도 5(a)), 10㎜(도 5(b)), 12㎜(도 5(c))인 경우에 조명 유닛 상부에서 촬영한 화상이다.First, Figure 5 shows that in the lighting unit according to the first embodiment, the separation distance between the diffusion plate and the substrate is 3 mm, and the separation distances between the light sources are 6 mm (Figure 5(a)) and 10 mm (Figure 5(b)). ), 12 mm (Figure 5(c)) is an image taken from the top of the lighting unit.

도 5(a)를 살펴보면, 광원 부위에 발생하는 핫 스팟이 없고, 면광원으론 전체에 균일한 화질을 제공할 수 있다. 반면, 도 5(b), (c)를 살펴보면, 광원 부위에 핫 스팟(DA)이 발생하여, 균일도가 낮은 화질이 발생하는 것을 알 수 있다. 이에 따라, 조명 유닛에서 확산판과 기판 사이의 이격 거리가 작아지거나, 광원 사이의 이격 거리가 커지면 균일도가 저하될 수 있다.Looking at Figure 5(a), there are no hot spots at the light source area, and a surface light source can provide uniform image quality throughout. On the other hand, looking at Figures 5(b) and 5(c), it can be seen that a hot spot (DA) occurs at the light source area, resulting in image quality with low uniformity. Accordingly, if the separation distance between the diffusion plate and the substrate in the lighting unit becomes small or the separation distance between the light sources increases, uniformity may deteriorate.

그리고 도 6은 제1 실시예에 따른 조명 유닛에서 확산판과 기판 사이의 이격 거리가 5㎜ 이고 광원 사이의 이격 거리가 6㎜(도 6(a)), 10㎜(도 6(b)), 12㎜(도 6(c))인 경우에 조명 유닛 상부에서 촬영한 화상이다.And FIG. 6 shows that in the lighting unit according to the first embodiment, the separation distance between the diffusion plate and the substrate is 5 mm, and the separation distance between the light sources is 6 mm (FIG. 6(a)) and 10 mm (FIG. 6(b)). , This is an image taken from the top of the lighting unit in the case of 12 mm (Figure 6(c)).

마찬가지로, 도 6(a), (b)를 살펴보면, 광원 부위에 발생하는 핫 스팟이 없고, 면광원으로 전체에 균일한 광을 안정적으로 제공할 수 있다. 반면, 도 6(c)를 살펴보면, 광원 부위에 핫 스팟(DA)이 발생하여, 균일도가 낮은 화질이 발생하는 것을 알 수 있다. 이에 따라, 확산판과 기판 사이의 이격 거리와 광원 사이의 이격 거리 간의 길이 비에 따라 조명 유닛의 광 균일도가 제어될 수 있다.Likewise, looking at Figures 6(a) and 6(b), there are no hot spots occurring at the light source area, and uniform light can be stably provided throughout the entire area using a surface light source. On the other hand, looking at Figure 6(c), it can be seen that a hot spot (DA) occurs at the light source area, resulting in image quality with low uniformity. Accordingly, the light uniformity of the lighting unit can be controlled according to the length ratio between the separation distance between the diffusion plate and the substrate and the separation distance between the light source.

또한, 도 7은 제1 실시예에 따른 조명 유닛에서 확산판과 기판 사이의 이격 거리가 7㎜ 이고 광원 사이의 이격 거리가 6㎜(도 6(a)), 12㎜(도 6(b)), 15㎜(도 6(c))인 경우에 조명 유닛 상부에서 촬영한 화상이다.In addition, Figure 7 shows that in the lighting unit according to the first embodiment, the separation distance between the diffusion plate and the substrate is 7 mm, and the separation distance between the light sources is 6 mm (Figure 6(a)) and 12 mm (Figure 6(b)). ), 15 mm (Figure 6(c)) is an image taken from the top of the lighting unit.

도 7(a), (b)를 살펴보면, 광원 부위에 발생하는 핫 스팟이 없고, 면광원 전체에 균일한 화질을 제공할 수 있다. 반면, 도 7(c)를 살펴보면, 균일도가 저하되고, 광원 부위에 핫 스팟(DA)이 발생하는 것을 알 수 있다.Looking at Figures 7(a) and (b), there are no hot spots occurring at the light source area, and uniform image quality can be provided throughout the surface light source. On the other hand, looking at FIG. 7(c), it can be seen that uniformity is reduced and hot spots (DA) are generated at the light source area.

도 8a는 제1 실시예에 따른 조명 유닛의 하부 평면도이고, 도 8b는 도 8a에서 M부분의 확대도이다.FIG. 8A is a bottom plan view of the lighting unit according to the first embodiment, and FIG. 8B is an enlarged view of portion M in FIG. 8A.

도 8a를 참조하면, 복수 개의 광원(130)이 기판(110) 상에 배치될 수 있다. 그리고 복수 개의 광원(130)은 이격 배치될 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이, 복수 개의 광원(130)은 각각 중심축(C)을 가지며, 중심축은 인접한 중심축과 일정한 거리로 이격 배치될 수 있다. Referring to FIG. 8A , a plurality of light sources 130 may be disposed on the substrate 110. And the plurality of light sources 130 may be spaced apart. As previously described, each of the plurality of light sources 130 has a central axis C, and the central axis may be spaced apart from an adjacent central axis at a certain distance.

예컨대, 광원(130) 사이의 이격 거리 (W1)는 5㎜ 내지 30㎜일 수 있다. 다만, 이러한 길이에 한정되는 것은 아니며, 광원(130)의 폭 (W3)에 따라 변경될 수 있다. 그리고 광원(130)의 폭(W3)은 200㎛ 내지 1㎜일 수 있으나, 이러한 길이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 광원(130)은 길이가 긴 폭(W3)이 300㎛이고, 길이가 작은 폭은 150㎛일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the separation distance W1 between the light sources 130 may be 5 mm to 30 mm. However, it is not limited to this length and may change depending on the width W3 of the light source 130. And the width W3 of the light source 130 may be 200 μm to 1 mm, but is not limited to this length. For example, the light source 130 may have a long width (W3) of 300 ㎛ and a small width (W3) of 150 ㎛, but are not limited thereto.

또한, 반사 유닛(120)과 레진층(140) 사이의 이격 길이(W2)는 300㎛ 내지 1㎜일 수 있다. 다만, 반사 유닛(120)과 레진층(140) 사이의 이격 길이(W2)는 광원의 폭과 광원 사이의 이격 거리(W1)에 따라 변경될 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 광원으로부터 출사된 광은 반사 유닛(120)에서 반사되어 상부를 향해 출사될 수 있다. 이에 따라, 조명 유닛은 광 효율 및 균일도가 개선될 수 있다.Additionally, the separation length W2 between the reflective unit 120 and the resin layer 140 may be 300 μm to 1 mm. However, the separation length (W2) between the reflection unit 120 and the resin layer 140 may change depending on the width of the light source and the separation distance (W1) between the light sources. Due to this configuration, light emitted from the light source may be reflected by the reflection unit 120 and emitted toward the top. Accordingly, the lighting unit can have improved light efficiency and uniformity.

그리고 기판(110) 상에 복수 개의 지지부(PO)가 배치될 수 있다. 지지부(PO)는 기판(110)과 차광층(또는 확산판)사이에 배치될 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 지지부(PO)는 차광층(150)(또는 확산판(160))을 지지할 수 있다. 또한, 지지부(PO)는 창광층(150) 상부에 배치되는 확산판(160), 형광체층(170), 프리즘 시트(180), 프리즘 시트(180) 상에 배치되는 편광층(190)을 지지할 수 있다.Additionally, a plurality of support parts PO may be disposed on the substrate 110 . The support portion PO may be disposed between the substrate 110 and the light blocking layer (or diffusion plate). With this configuration, the support part PO can support the light blocking layer 150 (or diffusion plate 160). In addition, the support portion PO supports the diffusion plate 160 disposed on the window light layer 150, the phosphor layer 170, the prism sheet 180, and the polarizing layer 190 disposed on the prism sheet 180. can do.

도 8b를 참조하면, 광원(130)은 함녀이 사각형일 수 있다. 다만, 이러한 형상에 한정되는 것은 아니며, 앞서 설명한 바와 같이 패키지 형상에 따라 원형 또는 다각형일 수 있다. 그리고 레진층(140)은 광원(130)의 형상에 따라 다양한 형상(예컨대, 육각형, 원형, 타원형 등)일 수 있다.Referring to FIG. 8B, the light source 130 may have a square shape. However, it is not limited to this shape, and as described above, it may be circular or polygonal depending on the package shape. And the resin layer 140 may have various shapes (eg, hexagonal, circular, oval, etc.) depending on the shape of the light source 130.

또한, 레진층(140)의 폭(W4)은 광원(130)의 폭(W3)에 따라 다양하게 변경될 수 있다.Additionally, the width W4 of the resin layer 140 may vary depending on the width W3 of the light source 130.

도 9a는 실시예에 따른 차광층 및 광학 패턴의 평면도이고, 도 9b는 도8a에서 BB'로 절단된 단면도이고, 도 9c 내지 도 9d는 광학 패턴의 평면도이다.Figure 9a is a plan view of a light blocking layer and an optical pattern according to an embodiment, Figure 9b is a cross-sectional view taken along BB' in Figure 8a, and Figures 9c to 9d are plan views of the optical pattern.

도 9a를 참조하면, 광학 패턴(151)은 복수 개의 광원과 마찬가지로 복수 개일 수 있다. 또한, 복수 개의 광학 패턴(151)은 이격 배치될 수 있으며, 앞서 설명한 바와 같이, 광학 패턴(151)은 하부에 배치된 광원의 중심축과 동일한 중심축을 가질 수 있다.Referring to FIG. 9A, there may be a plurality of optical patterns 151, like a plurality of light sources. Additionally, the plurality of optical patterns 151 may be arranged to be spaced apart, and as described above, the optical patterns 151 may have the same central axis as the central axis of the light source disposed below.

그리고 광학 패턴(151)의 최대 폭(W5)은 광원의 최대 폭(W3)보다 클 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 제1 영역(S1)으로 방출된 광을 차광 및 확산하여 상부로 집중된 광에 의해 명부가 생기는 현상을 방지할 수 있다. And the maximum width (W5) of the optical pattern 151 may be greater than the maximum width (W3) of the light source. With this configuration, it is possible to block and diffuse the light emitted into the first area S1 and prevent the phenomenon of bright spots being created due to light concentrated at the top.

이를 위해, 앞서 설명한 바와 같이, 광원에 대한 제1 영역(S1)은 광학 패턴(151)에 대한 제2 영역(S2)에 중첩될 수 있다.To this end, as described above, the first area S1 for the light source may overlap the second area S2 for the optical pattern 151.

또한, 광학 패턴(151)의 최대 폭(W5)은 광원 사이의 이격 거리(W1)보다 작을 수 있다. 이러한 구성에 의하여, 광학 패턴(151)이 광원과 광원 사이의 영역 상부로 출사되는 광을 차광하여 광 손실이 발생하는 현상을 방지할 수 있다. Additionally, the maximum width W5 of the optical pattern 151 may be smaller than the separation distance W1 between light sources. With this configuration, the optical pattern 151 blocks light emitted to the upper part of the area between the light sources, thereby preventing light loss from occurring.

도 9b 내지 도 9d를 참조하면, 광학 패턴(151)은 차광층(150) 하부에 인쇄 스크린에 의해 형성될 수 있으며, 복수 개의 패턴층(151a, 151b, 151c)을 포함할 수 있다. 예컨대, 광학 패턴(151)은 제1 패턴층(151a), 제2 패턴층(151b), 제3 패턴층(151c)를 포함할 수 있다. 복수 개의 패턴층(151a, 151b, 151c)은 광원에 인접할수록 제2 방향으로 길이가 감소할 수 있다. Referring to FIGS. 9B to 9D , the optical pattern 151 may be formed by a printing screen under the light blocking layer 150 and may include a plurality of pattern layers 151a, 151b, and 151c. For example, the optical pattern 151 may include a first pattern layer 151a, a second pattern layer 151b, and a third pattern layer 151c. The length of the plurality of pattern layers 151a, 151b, and 151c may decrease in the second direction as they become closer to the light source.

구체적으로, 복수 개의 패턴층(151a, 151b, 151c)에서 제1 패턴층(151a)은 광원으로부터 이격 거리가 가장 가장 크므로 제2 방향으로 폭(W5-1)이 가장 클 수 있다. 이에 따라, 제2 패턴층(151b), 제3 패턴층(151c) 순으로 광원으로 이격 거리가 작아지므로, 제2 방향으로의 폭도 제2 패턴층(151b)의 폭(W5-2), 제3 패턴층(151c)의 폭(W5-3) 순으로 작아질 수 있다.Specifically, among the plurality of pattern layers 151a, 151b, and 151c, the first pattern layer 151a has the largest distance from the light source, and thus may have the largest width W5-1 in the second direction. Accordingly, since the separation distance from the light source decreases in the order of the second pattern layer 151b and the third pattern layer 151c, the width in the second direction is also equal to the width W5-2 of the second pattern layer 151b, 3 The width (W5-3) of the pattern layer 151c may decrease in that order.

먼저, 제1 패턴층(151A)의 최대 폭(W5-1)은 광원(130)의 지향각과 차광층과 기판 사이의 이격 거리(da)에 따라 제어될 수 있다. 여기서, 지향각은 광원의 최대 밝기를 기준으로 1/2배의 밝기가 되는 각도를 나타낸다. 예컨대, 광원(130)의 지향각(θ)이 커질수록 제1 패턴층(151A)의 최대 폭(W5-1)은 커질 수 있다. 또한, 차광층과 기판 사이의 이격 거리(da)가 커질수록 제1 패턴층(151A)의 최대 폭(W5-1)은 작아질 수 있다. 이에 대해, 제1 패턴층(151A)의 최대 폭(W5-1)은 아래 수학식 1에 의해 결정될 수 있다.First, the maximum width (W5-1) of the first pattern layer 151A can be controlled according to the beam angle of the light source 130 and the separation distance (da) between the light blocking layer and the substrate. Here, the beam angle represents the angle at which the brightness is 1/2 times that of the maximum brightness of the light source. For example, as the beam angle θ of the light source 130 increases, the maximum width W5-1 of the first pattern layer 151A may increase. Additionally, as the separation distance (da) between the light blocking layer and the substrate increases, the maximum width (W5-1) of the first pattern layer 151A may decrease. In this regard, the maximum width (W5-1) of the first pattern layer 151A may be determined by Equation 1 below.

(여기서, W5-1은 제1 패턴층(151A)의 최대 폭(W5-1)이고, da는 차광층과 기판 사이의 이격 거리이고, θ는 광원의 지향각이다)(Here, W5-1 is the maximum width (W5-1) of the first pattern layer 151A, da is the separation distance between the light blocking layer and the substrate, and θ is the beam angle of the light source.)

제1 패턴층(151a)의 최대 폭(W5-1)과 제2 패턴층(151b)의 최대 폭(W5-2) 사이의 폭의 비는 1:0.55 내지 1:0.65일 수 있다.The width ratio between the maximum width W5-1 of the first pattern layer 151a and the maximum width W5-2 of the second pattern layer 151b may be 1:0.55 to 1:0.65.

제1 패턴층(151a)의 최대 폭(W5-1)과 제2 패턴층(151b)의 최대 폭(W5-2) 사이의 폭의 비가 1:0.55보다 작은 경우, 제2 패턴층(151b)의 면적이 감소하여 제2 패턴층(151b)과 제1 패턴층(151a) 사이에 밝은 영역의 링(ring)이 생기는 문제가 존재한다.When the width ratio between the maximum width (W5-1) of the first pattern layer (151a) and the maximum width (W5-2) of the second pattern layer (151b) is less than 1:0.55, the second pattern layer (151b) There is a problem that the area of decreases, creating a ring of bright areas between the second pattern layer 151b and the first pattern layer 151a.

제1 패턴층(151a)의 최대 폭(W5-1)과 제2 패턴층(151b)의 최대 폭(W5-2) 사이의 폭의 비가 1:0.65보다 큰 경우, 제1 패턴층(151a)과 제2 패턴층(151b) 사이에 어두운 영역의 링(ring)이 발생하는 문제가 존재한다.When the width ratio between the maximum width (W5-1) of the first pattern layer (151a) and the maximum width (W5-2) of the second pattern layer (151b) is greater than 1:0.65, the first pattern layer (151a) There is a problem of a ring of dark area occurring between the and the second pattern layer 151b.

제1 패턴층(151a)의 최대 폭(W5-1)과 제3 패턴층(151c)의 최대 폭(W5-2) 사이의 폭의 비는 1:0.35 내지 1:0.45일 수 있다.The width ratio between the maximum width W5-1 of the first pattern layer 151a and the maximum width W5-2 of the third pattern layer 151c may be 1:0.35 to 1:0.45.

제1 패턴층(151a)의 최대 폭(W5-1)과 제3 패턴층(151c)의 최대 폭(W5-2) 사이의 폭의 비가 1:0.35보다 작은 경우 제2 패턴층(151b)과 제3 패턴층(151c) 사이에 명부가 발생하는 한계가 존재하고, 제1 패턴층(151a)의 최대 폭(W5-1)과 제3 패턴층(151c)의 최대 폭(W5-2) 사이의 폭의 비가 1:0.45보다 큰 경우에 제2 패턴층(151b)과 제3 패턴층(151c) 사이에 암부가 발생하는 문제가 존재한다.When the width ratio between the maximum width (W5-1) of the first pattern layer (151a) and the maximum width (W5-2) of the third pattern layer (151c) is less than 1:0.35, the second pattern layer (151b) and There is a limit to the occurrence of bright areas between the third pattern layers 151c, and between the maximum width (W5-1) of the first pattern layer (151a) and the maximum width (W5-2) of the third pattern layer (151c). When the ratio of the widths is greater than 1:0.45, there is a problem of dark areas occurring between the second pattern layer 151b and the third pattern layer 151c.

또한, 상기 설명한 바와 같이, 제1 패턴층(151a), 제2 패턴층(151b), 제3 패턴층(151c)은 순서대로 최대 폭이 감소함에 따라, 복수 개의 패턴층(151a, 151b, 151c)은 제1 패턴층(151a), 제2 패턴층(151b), 제3 패턴층(151c) 순으로 갈수록 면적이 감소할 수 있다.In addition, as described above, as the maximum width of the first pattern layer 151a, the second pattern layer 151b, and the third pattern layer 151c decreases in that order, a plurality of pattern layers 151a, 151b, and 151c are formed. ) may decrease in area in the order of the first pattern layer 151a, the second pattern layer 151b, and the third pattern layer 151c.

이로써, 제1 패턴층(151a)은 노출되는 영역(S3-1)을 포함할 수 있다. 노출되는 영역(S3-1)은 제1 패턴층(151a)에서 제2 패턴층(151b)과 중첩되는 영역을 제외한 영역일 수 있다.Accordingly, the first pattern layer 151a may include an exposed area S3-1. The exposed area S3-1 may be an area excluding the area of the first pattern layer 151a that overlaps the second pattern layer 151b.

마찬가지로, 제2 패턴층(151b)은 노출되는 영역(S4-1)을 포함할 수 있다. 노출되는 영역(S4-1)은 제2 패턴층(151b)에서 제3 패턴층(151c)과 중첩되는 영역을 제외한 영역일 수 있다.Likewise, the second pattern layer 151b may include an exposed area S4-1. The exposed area S4-1 may be an area excluding the area of the second pattern layer 151b that overlaps the third pattern layer 151c.

제3 패턴층(151c)은 광학 패턴(151)의 최하부에 배치되어 전체가 노출되는 영역(S5-1)일 수 있다.The third pattern layer 151c may be a region S5-1 disposed at the bottom of the optical pattern 151 and entirely exposed.

제1 패턴층(151a)의 노출되는 영역(S3-1), 제2 패턴층(151b)의 노출되는 영역(S4-1), 제3 패턴층(151c)의 노출되는 영역(S5-1)은 각각 광원(130)으로부터 출사된 광을 반사할 수 있다. 또한, 제1 패턴층(151a)의 노출되는 영역(S3-1), 제2 패턴층(151b)의 노출되는 영역(S4-1), 제3 패턴층(151c)의 노출되는 영역(S5-1)은 순서대로 광원(130)으로부터 이격 거리가 커지므로 광원(130)으로부터 출사된 광에 대한 반사율이 커질 수 있다.Exposed area (S3-1) of the first pattern layer (151a), exposed area (S4-1) of the second pattern layer (151b), exposed area (S5-1) of the third pattern layer (151c) may reflect light emitted from the light source 130, respectively. In addition, the exposed area S3-1 of the first pattern layer 151a, the exposed area S4-1 of the second pattern layer 151b, and the exposed area S5- of the third pattern layer 151c. 1) As the distance from the light source 130 increases in order, the reflectance of light emitted from the light source 130 may increase.

즉, 제1 패턴층(151a)의 노출되는 영역(S3-1)은 광에 대한 반사율이 70% 내지 78%이고, 제2 패턴층(151b)의 노출되는 영역(S4-1)은 광에 대한 반사율이 78% 내지 83%이고, 제3 패턴층(151c)의 노출되는 영역(S5-1)은 광에 대한 반사율이 83% 내지 90%일 수 있다. 이로써, 광원으로부터 출사된 광이 거리에 따라 복수 개의 패턴층에서 반사되는 광이 제어됨에 따라, 실시예에 따른 조명 유닛은 광 균일도를 개선할 수 있다.That is, the exposed area (S3-1) of the first pattern layer (151a) has a reflectance of 70% to 78% to light, and the exposed area (S4-1) of the second pattern layer (151b) is exposed to light. The light reflectance may be 78% to 83%, and the exposed area S5-1 of the third pattern layer 151c may have a light reflectance of 83% to 90%. As a result, the lighting unit according to the embodiment can improve light uniformity as the light emitted from the light source is reflected from the plurality of pattern layers according to the distance.

그리고 제1 패턴층(151a)은 면적(S3)이 광학 패턴(151)의 전체 면적과 동일할 수 있다. 즉, 제1 패턴층(151a)의 면적(S3)은 제2 영역(S2)의 면적과 동일할 수 있다.이러한 구성에 의하여, 광학 패턴(151)은 중심축에서 두께가 가장 클 수 있다. 또한, 광학 패턴(151)은 중심축을 기준으로 제1 방향(y축 방향)으로 두께(d2)가 커질 수 있다. 광학 패턴(151)은 중심축을 기준으로 단차를 형성하면서 두께가 커질 수 있다. 다만, 이러한 구성에 한정되는 것은 아니며, 소정의 기울기로 두께가 커질 수 있다.Additionally, the area S3 of the first pattern layer 151a may be equal to the total area of the optical pattern 151. That is, the area S3 of the first pattern layer 151a may be equal to the area of the second area S2. With this configuration, the optical pattern 151 may have the greatest thickness at the central axis. Additionally, the thickness d2 of the optical pattern 151 may increase in the first direction (y-axis direction) with respect to the central axis. The optical pattern 151 may increase in thickness while forming a step relative to the central axis. However, it is not limited to this configuration, and the thickness may increase at a predetermined slope.

이러한 구성에 의하여, 광원의 상부로 광이 집중되고, 광의 간섭에 의해 명부가 발생하는 현상이 방지될 수 있다. 이로써, 실시예에 따른 조명 유닛은 광 균일도가 개선될 수 있다.With this configuration, light is concentrated on the upper part of the light source, and the phenomenon of bright spots occurring due to light interference can be prevented. As a result, the lighting unit according to the embodiment may have improved light uniformity.

또한, 일예로 조명 유닛은 확산판과 기판 사이의 이격 거리가 작아질수록 제1 패턴층(151a)의 두께(d3), 제2 패턴층(151b)의 두께(d4), 제3 패턴층(151c)의 두께(d5)는 0.008mm 내지 0.01mm일 수 있다. 각 패턴층의 두께는 차광층과 기판 사이의 이격 거리(da)에 의해 변경될 수 있다. 구체적으로, 차광층과 기판 사이의 이격 거리(da)와 광학 패턴(151)의 최대 두께(d2) 간의 길이 비는 1:0.08 내지 1:0.1일 수 있다. 차광층과 기판 사이의 이격 거리(da)와 광학 패턴(151)의 최대 두께(d2) 간의 길이 비가 1:0.08보다 작은 경우, 광학 패턴(151)에서 광원(130)으로부터 출사된 광의 반사율이 감소하여 균일도가 감소하고, 이에 따라 광원과 광원 사이에 암부가 발생할 수 있다. 또한, 차광층과 기판 사이의 이격 거리(da)와 광학 패턴(151)의 최대 두께(d2) 간의 길이 비가 1:0.1보다 큰 경우, 광학 패턴(151)에서 광원(130)으로부터 출사된 광을 흡수하여 광효율이 저감하는 한계가 존재한다.In addition, as an example, the lighting unit decreases as the separation distance between the diffusion plate and the substrate decreases, the thickness (d3) of the first pattern layer (151a), the thickness (d4) of the second pattern layer (151b), and the third pattern layer ( The thickness (d5) of 151c) may be 0.008mm to 0.01mm. The thickness of each pattern layer can be changed depending on the separation distance (da) between the light blocking layer and the substrate. Specifically, the length ratio between the separation distance (da) between the light blocking layer and the substrate and the maximum thickness (d2) of the optical pattern 151 may be 1:0.08 to 1:0.1. When the length ratio between the separation distance (da) between the light blocking layer and the substrate and the maximum thickness (d2) of the optical pattern 151 is less than 1:0.08, the reflectance of light emitted from the light source 130 in the optical pattern 151 decreases. As a result, uniformity decreases, and as a result, dark areas may occur between the light sources. In addition, when the length ratio between the separation distance (da) between the light blocking layer and the substrate and the maximum thickness (d2) of the optical pattern 151 is greater than 1:0.1, the light emitted from the light source 130 is transmitted from the optical pattern 151. There is a limit to the reduction in light efficiency due to absorption.

. 이에 따라, 확산판과 기판 사이의 이격 거리가 작아질수록 광원의 상부로 광이 집중되는 현상이 강해지므로, 중심축(C)에 대한 광 집중도가 커지나, 광학 패턴(151)의 두께도 중심축(C)에 인접할수록 증가하여 광이 집중되는 현상을 방지할 수 있다.. Accordingly, as the separation distance between the diffusion plate and the substrate decreases, the concentration of light to the upper part of the light source becomes stronger, so the concentration of light on the central axis C increases, but the thickness of the optical pattern 151 also increases along the central axis. It increases as it approaches (C), preventing light from being concentrated.

즉, 상기에서 설명한 조명 유닛은 확산판과 기판 사이의 이격 거리(d1)와 광원 사이의 이격 거리(W1) 간의 길이 비를 제어하거나, 광학 패턴의 두께 제어로 균일한 면광원을 구현할 수 있다.That is, the lighting unit described above can implement a uniform surface light source by controlling the length ratio between the separation distance (d1) between the diffusion plate and the substrate and the separation distance (W1) between the light sources or by controlling the thickness of the optical pattern.

도 10a는 제2 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이고, 도 10b는 제3 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이고, 도 10c는 제4 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이고, 도 10d는 제5 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이고, 도 10e는 제6 실시예에 따른 조명 유닛의 단면도이다.FIG. 10A is a cross-sectional view of a lighting unit according to a second embodiment, FIG. 10B is a cross-sectional view of a lighting unit according to a third embodiment, FIG. 10C is a cross-sectional view of a lighting unit according to a fourth embodiment, and FIG. 10D is a fifth embodiment. This is a cross-sectional view of a lighting unit according to an embodiment, and Figure 10E is a cross-sectional view of a lighting unit according to a sixth embodiment.

먼저, 도 10a를 참조하면, 제2 실시예에 따른 조명 유닛은 에어층(A)이 제1 에어층(A1)으로 이루어진 구조일 수 있다. 앞서 언급한 바와 같이, 레진층(140)이 기판 또는 반사 유닛 상에 배치될 수 있다. 그리고 레진층(140)은 광원(130) 및 반사 유닛(120)의 상면보다 큰 두께를 가질 수 있다. 이에 따라, 레진층(140)은 반사 유닛(120)과 광원(130)을 덮을 수 있다. First, referring to FIG. 10A, the lighting unit according to the second embodiment may have a structure in which the air layer (A) is composed of the first air layer (A1). As previously mentioned, the resin layer 140 may be disposed on a substrate or a reflective unit. Additionally, the resin layer 140 may have a thickness greater than the upper surfaces of the light source 130 and the reflection unit 120. Accordingly, the resin layer 140 may cover the reflection unit 120 and the light source 130.

이러한 구성에 의하여, 레진층(140)은 광 확산을 향상시켜 광 효율을 개선하면서 반사 유닛(120)과 광원(130)을 보호하여 신뢰성을 개선할 수 있다.With this configuration, the resin layer 140 improves light diffusion and improves light efficiency while protecting the reflection unit 120 and the light source 130, thereby improving reliability.

이외에 도 2에서 설명한 구조는 동일하게 적용될 수 있다.In addition, the structure described in FIG. 2 can be applied in the same way.

도 10b를 참조하면, 제3 실시예에 따른 조명 유닛은 광원(130) 상부에 반사층(221)이 배치될 수 있다. 예컨대, 반사층(221)은 DBR(Distributed Bragg Reflector)일 수 있으며, 금속, 산화물을 포함할 수 있다. 예컨대, 반사층(221)은 TiO2로 이루어질 수 있으나, 이러한 재질에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 10B, the lighting unit according to the third embodiment may have a reflective layer 221 disposed on the light source 130. For example, the reflective layer 221 may be a Distributed Bragg Reflector (DBR) and may include metal or oxide. For example, the reflective layer 221 may be made of TiO 2 , but is not limited to this material.

반사층(221)은 도 4에서 투명 기판(1010) 상에 배치될 수 있다. 반사층(221)은 투명 기판(1010)을 통해 방출되는 광을 일부 투과(L1)하고 나머지는 반사(L2)할 수 있다. 반사층(221)은 투과율이 반사율보다 낮을 수 있다. 예컨대, 반사층(221)은 투과율이 35% 내지 45%이고, 반사율이 55% 내지 65%일 수 있다.The reflective layer 221 may be disposed on the transparent substrate 1010 in FIG. 4 . The reflective layer 221 may transmit part of the light emitted through the transparent substrate 1010 (L1) and reflect the rest (L2). The reflective layer 221 may have a transmittance lower than the reflectance. For example, the reflective layer 221 may have a transmittance of 35% to 45% and a reflectance of 55% to 65%.

또한, 반사층(221)이 DBR인 경우, 광은 방출 방향에 따라 투과되거나 반사될 수 있다. 이와 같이, 광원(130)에서 방출되는 광은 일부만 상부로 투과되므로 반사층(221)은 광이 광원(130) 상부에 집중되는 현상을 완화할 수 있다. 이로써, 조명 유닛은 광 균일도를 개선할 수 있다. Additionally, when the reflective layer 221 is DBR, light may be transmitted or reflected depending on the emission direction. In this way, since only a portion of the light emitted from the light source 130 is transmitted upward, the reflective layer 221 can alleviate the phenomenon of light being concentrated on the upper part of the light source 130. Thereby, the lighting unit can improve light uniformity.

도 10c를 참조하면, 제4 실시예에 따른 조명 유닛은 도 2의 조명 유닛에서 차광층(150)과 차광층(150) 하부의 광학 패턴(151)이 제거된 구조일 수 있다.Referring to FIG. 10C, the lighting unit according to the fourth embodiment may have a structure in which the light blocking layer 150 and the optical pattern 151 below the light blocking layer 150 are removed from the lighting unit of FIG. 2.

즉, 제4 실시예에 따른 조명 유닛은 기판(110), 기판(110) 상에 배치되는 반사 유닛(120), 기판(110) 상에 배치되는 복수 개의 광원(130), 기판(110) 상에 배치되어 복수 개의 광을 덮는 레진층(140), 레진층(140) 상에 배치되는 확산판(160), 확산판(160) 상에 배치되는 형광체층(170), 형광체층(170) 상에 배치되는 프리즘 시트(180), 프리즘 시트(180) 상에 배치되는 편광층(190)을 포함하는 구조를 가질 수 있다.That is, the lighting unit according to the fourth embodiment includes a substrate 110, a reflection unit 120 disposed on the substrate 110, a plurality of light sources 130 disposed on the substrate 110, and a reflective unit 120 disposed on the substrate 110. A resin layer 140 disposed on and covering a plurality of lights, a diffusion plate 160 disposed on the resin layer 140, a phosphor layer 170 disposed on the diffusion plate 160, and a top of the phosphor layer 170. It may have a structure including a prism sheet 180 disposed on and a polarizing layer 190 disposed on the prism sheet 180.

앞서 도 2 내지 도 3에서 설명한 바와 같이, 확산판(160)과 기판(110) 사이의 이격 거리(d1) 및 광원(130) 사이의 이격 거리(W1)를 조절하여, 광 균일도를 개선할 수 있다. 또한, 제2 에어층(A2)을 통해 광 효율을 개선할 수 있다.As previously described in FIGS. 2 and 3, light uniformity can be improved by adjusting the separation distance d1 between the diffusion plate 160 and the substrate 110 and the separation distance W1 between the light source 130. there is. Additionally, light efficiency can be improved through the second air layer (A2).

도 10d를 참조하면, 제5 실시예에 따른 조명 유닛은 도 10c에서 광원(130) 상부에 반사층(221)이 배치될 수 있다. 앞서 도 10b와 마찬가지로, 반사층(221)은 DBR(Distributed Bragg Reflector)일 수 있으며, 금속, 산화물을 포함할 수 있다. 예컨대, 반사층(221)은 TiO2로 이루어질 수 있으나, 이러한 재질에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 10D, the lighting unit according to the fifth embodiment may have a reflective layer 221 disposed on the light source 130 in FIG. 10C. As in FIG. 10B , the reflective layer 221 may be a Distributed Bragg Reflector (DBR) and may include metal or oxide. For example, the reflective layer 221 may be made of TiO 2 , but is not limited to this material.

반사층(221)은 도 4에서 투명 기판(1010) 상에 배치될 수 있다. 반사층(221)은 투명 기판(1010)을 통해 방출되는 광을 일부 투과(L1)하고 나머지는 반사(L2)할 수 있다. 반사층(221)은 투과율이 반사율보다 낮을 수 있다. 예컨대, 반사층(221)은 투과율이 35% 내지 45%이고, 반사율이 55% 내지 65%일 수 있다.The reflective layer 221 may be disposed on the transparent substrate 1010 in FIG. 4 . The reflective layer 221 may transmit part of the light emitted through the transparent substrate 1010 (L1) and reflect the rest (L2). The reflective layer 221 may have a transmittance lower than the reflectance. For example, the reflective layer 221 may have a transmittance of 35% to 45% and a reflectance of 55% to 65%.

또한, 반사층(221)이 DBR인 경우, 광은 방출 방향에 따라 투과되거나 반사될 수 있다. 이와 같이, 광원(130)에서 방출되는 광은 일부만 상부로 투과되므로 반사층(221)은 광이 광원(130) 상부에 집중되는 현상을 완화할 수 있다. 이로써, 조명 유닛은 광 균일도를 개선할 수 있다. 반사층(221) 이외의 구성은 도 10c와 동일하게 적용될 수 있다.Additionally, when the reflective layer 221 is DBR, light may be transmitted or reflected depending on the emission direction. In this way, since only a portion of the light emitted from the light source 130 is transmitted upward, the reflective layer 221 can alleviate the phenomenon of light being concentrated on the upper part of the light source 130. Thereby, the lighting unit can improve light uniformity. Configurations other than the reflective layer 221 can be applied in the same way as in FIG. 10C.

도 10e를 참조하면, 제6 실시예에 따른 조명 유닛은 도 10c의 조명 유닛에서 레진층(140) 상에 배치되는 반사층(211')을 더 포함하는 구조일 수 있다.Referring to FIG. 10E, the lighting unit according to the sixth embodiment may have a structure that further includes a reflective layer 211' disposed on the resin layer 140 in the lighting unit of FIG. 10C.

반사층(211')은 앞서 도 10b와 도 10d에서 설명한 바와 같이 광원(130)에서 방출되는 광을 투과 및 반사할 수 있다. 마찬가지로 반사층(221')은 DBR(Distributed Bragg Reflector)일 수 있으며, 금속, 산화물을 포함할 수 있다. 예컨대, 반사층(221)은 TiO2로 이루어질 수 있으나, 이러한 재질에 한정되는 것은 아니다.The reflective layer 211' may transmit and reflect light emitted from the light source 130, as previously described in FIGS. 10B and 10D. Likewise, the reflective layer 221' may be a Distributed Bragg Reflector (DBR) and may include metal or oxide. For example, the reflective layer 221 may be made of TiO 2 , but is not limited to this material.

또한, 반사층(221)은 도 4에서 투명 기판(1010) 상에 배치될 수 있으므로, 반사층(221)은 투명 기판(1010)을 통해 방출되는 광을 일부 투과(L1')하고 나머지는 반사(L2')할 수 있다. 반사층(221)은 투과율이 반사율보다 낮을 수 있다. 예컨대, 반사층(221)은 투과율이 35% 내지 45%이고, 반사율이 55% 내지 65%일 수 있다.In addition, since the reflective layer 221 may be disposed on the transparent substrate 1010 in FIG. 4, the reflective layer 221 transmits some of the light emitted through the transparent substrate 1010 (L1') and reflects the rest (L2). ')can do. The reflective layer 221 may have a transmittance lower than the reflectance. For example, the reflective layer 221 may have a transmittance of 35% to 45% and a reflectance of 55% to 65%.

이와 같이, 광원(130)에서 방출되는 광은 일부만 상부로 투과되므로 반사층(221)은 광이 광원(130) 상부에 집중되는 현상을 완화할 수 있다. 이에 따라, 조명 유닛은 광 균일도를 개선할 수 있다.In this way, since only a portion of the light emitted from the light source 130 is transmitted upward, the reflective layer 221 can alleviate the phenomenon of light being concentrated on the upper part of the light source 130. Accordingly, the lighting unit can improve light uniformity.

이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the above description focuses on the examples, this is only an example and does not limit the present invention, and those skilled in the art will be able to You will see that various variations and applications are possible. For example, each component specifically shown in the examples can be modified and implemented. And these variations and differences in application should be construed as being included in the scope of the present invention as defined in the appended claims.

Claims (10)

기판;
상기 기판 상에 배치되는 복수 개의 광원;
상기 기판 상에 배치되어 상기 복수 개의 광원을 덮는 레진층;
상기 레진층 상에 배치되는 에어층;
상기 레진층 상에 배치되는 차광층; 및
상기 차광층과 상기 레진층 사이에 배치되는 광학 패턴;을 포함하고,
상기 광학 패턴은 중심축이 상기 복수 개의 광원의 중심축과 각각 동일하며, 상기 중심축에서 두께가 가장 크고,
상기 기판 상에 배치되는 반사유닛;을 포함하고,
상기 반사유닛의 제1 방향으로 길이는 상기 복수 개의 광원의 상기 제1 방향으로 길이보다 크고,
상기 제1 방향은 상기 복수 개의 광원에서 상기 광학 패턴을 향한 방향이고,
상기 레진층의 두께는 상기 광원 및 상기 반사유닛의 두께보다 큰 조명 유닛.
Board;
a plurality of light sources disposed on the substrate;
a resin layer disposed on the substrate and covering the plurality of light sources;
an air layer disposed on the resin layer;
A light blocking layer disposed on the resin layer; and
It includes an optical pattern disposed between the light blocking layer and the resin layer,
The optical pattern has a central axis the same as the central axis of each of the plurality of light sources, and has the greatest thickness at the central axis,
It includes a reflective unit disposed on the substrate,
The length of the reflection unit in the first direction is greater than the length of the plurality of light sources in the first direction,
The first direction is a direction from the plurality of light sources toward the optical pattern,
A lighting unit in which the thickness of the resin layer is greater than the thickness of the light source and the reflection unit.
제1항에 있어서,
상기 차광층과 기판 사이의 이격 거리와 상기 광학 패턴의 최대 두께 간의 길이 비는 1:0.08 내지 1:0.1인 조명 유닛.
According to paragraph 1,
A lighting unit wherein the length ratio between the separation distance between the light blocking layer and the substrate and the maximum thickness of the optical pattern is 1:0.08 to 1:0.1.
제1항에 있어서,
상기 광학 패턴은 상기 중심축을 기준으로 대칭 형태인 조명 유닛.
According to paragraph 1,
A lighting unit wherein the optical pattern is symmetrical with respect to the central axis.
제1항에 있어서,
상기 기판 상에 배치되고 홀을 포함하는 반사유닛을 포함하고,
상기 복수 개의 광원은 상기 홀에 배치되는 조명 유닛
According to paragraph 1,
A reflective unit disposed on the substrate and including a hole,
The plurality of light sources are lighting units disposed in the hall
제1항에 있어서,
상기 복수 개의 광원은 상기 광학 패턴과 두께 방향으로 중첩되는 조명 유닛.
According to paragraph 1,
A lighting unit wherein the plurality of light sources overlap the optical pattern in a thickness direction.
제1항에 있어서,
상기 레진층은 상기 복수 개의 광원 및 상기 반사 유닛의 상면보다 큰 두께를 갖는 조명 유닛.
According to paragraph 1,
A lighting unit wherein the resin layer has a thickness greater than the upper surfaces of the plurality of light sources and the reflective unit.
제1항에 있어서,
상기 광학 패턴은 복수 개의 패턴층을 포함하고,
상기 광학 패턴은 제1 패턴층, 제2 패턴층 및 제3 패턴층을 포함하고,
상기 복수 개의 패턴층은 상기 광원에 인접할수록 폭이 감소하고,
상기 제1 패턴층은 상기 광학 패턴에서 상기 광원으로부터 이격 거리가 가장 크고 폭이 가장 크고,
상기 제1 패턴층의 최대 폭은 상기 제2 패턴층의 최대 폭과 비가 1:0.55 내지 1:0.65이고,
상기 제1 패턴층의 최대 폭은 상기 제3 패턴층의 최대 폭과 비가 1:0.35 내지 1:0.45인 조명 유닛.
According to paragraph 1,
The optical pattern includes a plurality of pattern layers,
The optical pattern includes a first pattern layer, a second pattern layer, and a third pattern layer,
The width of the plurality of pattern layers decreases as they are adjacent to the light source,
The first pattern layer has the largest distance from the light source and the largest width in the optical pattern,
The maximum width of the first pattern layer has a ratio of 1:0.55 to 1:0.65 to the maximum width of the second pattern layer,
A lighting unit wherein the maximum width of the first pattern layer has a ratio of 1:0.35 to 1:0.45 with the maximum width of the third pattern layer.
제1항에 있어서,
상기 광학 패턴은 상기 광원에 인접할수록 두께가 커지고,
상기 차광층과 상기 기판 사이의 이격 거리와 상기 광학 패턴의 최대 두께 간의 비는 1:0.08 내지 1:0.1인 조명 유닛.
According to paragraph 1,
The thickness of the optical pattern increases as it approaches the light source,
A lighting unit wherein the ratio between the separation distance between the light blocking layer and the substrate and the maximum thickness of the optical pattern is 1:0.08 to 1:0.1.
제1항에 있어서,
상기 광학 패턴은 TiO2, CaCO3, BaSO4, Al2O3, Silicon, PS 중 어느 하나 이상의 물질을 포함하는 조명 유닛.
According to paragraph 1,
A lighting unit wherein the optical pattern includes one or more materials selected from the group consisting of TiO2, CaCO3, BaSO4, Al2O3, Silicon, and PS.
제1항에 있어서,
상기 광학 패턴의 최대 폭은 상기 광원의 최대 폭보다 크고, 인접한 상기 복수 개의 광원 사이의 이격 거리보다 작은 조명 유닛.
According to paragraph 1,
A lighting unit wherein the maximum width of the optical pattern is greater than the maximum width of the light source and is less than the separation distance between the plurality of adjacent light sources.
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