KR102586517B1 - Dip article and method of preparing the same - Google Patents

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KR102586517B1 KR1020190007107A KR20190007107A KR102586517B1 KR 102586517 B1 KR102586517 B1 KR 102586517B1 KR 1020190007107 A KR1020190007107 A KR 1020190007107A KR 20190007107 A KR20190007107 A KR 20190007107A KR 102586517 B1 KR102586517 B1 KR 102586517B1
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Abstract

본 발명은 딥 성형품에 관한 것으로. 보다 상세하게는 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 페놀계 유화제; 및 대전방지 중합체를 포함하는 딥 성형품 및 이의 제조방법을 제공한다.The present invention relates to dip molded products. More specifically, at least one copolymer selected from the group consisting of nitrile-based copolymers and carboxylic acid-modified nitrile-based copolymers; Phenolic emulsifier; and a dip molded product containing an antistatic polymer and a method for manufacturing the same.

Description

딥 성형품 및 이의 제조방법{DIP ARTICLE AND METHOD OF PREPARING THE SAME} Dip molded product and method of manufacturing the same {DIP ARTICLE AND METHOD OF PREPARING THE SAME}

본 발명은 딥 성형품에 관한 것으로, 보다 상세하게는 딥 성형품 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to dip molded products, and more particularly, to dip molded products and methods for manufacturing the same.

종래에는 산업용, 의료용 및 식품용 장갑과, 풍선, 콘돔 등 신축성을 필요로 하는 제품들의 원료로 천연고무가 주로 사용되어 왔다. 그러나, 최근 천연고무가 일부 사용자들에게 심각한 단백질 알레르기를 일으키는 부작용이 일어남으로 인해 천연고무를 대신하여 니트릴계 고무로 대체되어 가고 있다. 니트릴계 고무는 높은 내유성을 가지고 있어, 특히 유기 용제를 다루는 사용자들이 사용하는 작업용 장갑이나, 의료용 및 식품용 장갑에서 많이 사용되고 있다. 또한, 니트릴계 고무로부터 제조된 제품은 천연고무로부터 제조된 제품에 비해 주사 바늘 등에 의해 쉽게 뚫리지 않는 특성을 가지고 있어, 날카로운 메스나 주사 바늘 등을 취급하는 의료인들에게 사용이 적합한 장점이 있다.Conventionally, natural rubber has been mainly used as a raw material for products that require elasticity, such as industrial, medical, and food gloves, balloons, and condoms. However, in recent years, natural rubber has been replaced by nitrile-based rubber due to the side effect of causing serious protein allergies in some users. Nitrile-based rubber has high oil resistance, and is especially widely used in work gloves used by users who handle organic solvents, as well as medical and food gloves. In addition, products made from nitrile rubber have the advantage of being less easily pierced by needles, etc., compared to products made from natural rubber, making them suitable for use by medical professionals who handle sharp scalpels or needles.

또한, 최근에는 천연고무의 불안정한 수급으로 인해 많은 장갑 제조 회사들이 천연고무 장갑 생산 라인을 니트릴계 고무 장갑 생산 라인으로 전환해 나가고 있고, 안전성에 대한 인식이 높아지면서 니트릴계 고무로부터 제조된 일회용 장갑의 사용이 지속적으로 늘어나고 있는 추세이다.In addition, recently, due to the unstable supply and demand of natural rubber, many glove manufacturing companies are converting their natural rubber glove production lines to nitrile-based rubber glove production lines, and as awareness of safety increases, disposable gloves made from nitrile-based rubber are being replaced. Usage is continuously increasing.

그러나, 비전도성인 천연고무 및 카르본산 변성 니트릴계 장갑을 사용함에 있어서 크고 작은 정전기들이 필연적으로 발생하게 되고, 이때 발생되는 정전기들은 주변의 먼지 등의 미세한 이물을 장갑에 들러붙게 만들어 장갑에 오염을 일으키는 문제점이 있다.However, when using non-conductive natural rubber or carboxylic acid-modified nitrile-based gloves, large and small static electricity is inevitably generated, and the static electricity generated at this time causes fine foreign substances such as surrounding dust to stick to the gloves, contaminating the gloves. There is a problem that is causing this.

KRKR 2018-00875882018-0087588 AA KRKR 2017-00066862017-0006686 AA

본 발명에서 해결하고자 하는 과제는, 상기 발명의 배경이 되는 기술에서 언급한 문제들을 해결하기 위하여, 장갑 등의 딥 성형품의 제조 시, 딥 성형품의 미세 오염 물질에 대한 정전기적 및 물리적인 흡착을 방지 하기 위한 딥 성형품 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The problem to be solved by the present invention is to prevent electrostatic and physical adsorption of fine contaminants in the dip molded product when manufacturing dip molded products such as gloves in order to solve the problems mentioned in the background technology of the above invention. The purpose is to provide a dip molded product and a method for manufacturing the same.

상기의 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 본 발명은 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 페놀계 유화제; 및 대전방지 중합체를 포함하는 딥 성형품을 제공한다.According to one embodiment of the present invention for solving the above problems, the present invention includes at least one copolymer selected from the group consisting of nitrile-based copolymers and carboxylic acid-modified nitrile-based copolymers; Phenolic emulsifier; and a dip molded article containing an antistatic polymer.

또한, 본 발명은 딥 성형틀에 응고제를 부착시키는 단계(S10); 및 상기 응고제가 부착된 딥 성형틀을 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 페놀계 유화제; 및 대전방지 중합체를 포함하는 제1 딥 성형용 라텍스 조성물에 침지하여 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 형성시키는 단계(S20);를 포함하는 딥 성형품 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention includes the step of attaching a coagulant to the dip mold (S10); And the dip molding mold to which the coagulant is attached is filled with at least one copolymer selected from the group consisting of a nitrile-based copolymer and a carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer; Phenolic emulsifier; and forming a layer derived from the first latex composition for dip molding by immersing the first dip molding latex composition containing an antistatic polymer (S20).

또한, 본 발명은 딥 성형틀에 응고제를 부착시키는 단계(S100); 상기 응고제가 부착된 딥 성형틀을 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 및 페놀계 유화제;를 포함하는 제2 딥 성형용 라텍스 조성물에 침지하여 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 형성시키는 단계(S200); 및 상기 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층이 형성된 딥 성형틀을 대전방지 중합체를 포함하는 용액에 침지하여 대전방지 중합체 유래층을 형성시키는 단계(S300);를 포함하는 딥 성형품 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention includes the step of attaching a coagulant to the dip mold (S100); The dip molding mold to which the coagulant is attached is filled with at least one copolymer selected from the group consisting of nitrile-based copolymers and carboxylic acid-modified nitrile-based copolymers; and a phenol-based emulsifier; forming a layer derived from the second latex composition for dip molding by immersing in the second latex composition for dip molding (S200); and immersing the dip mold on which the second layer derived from the latex composition for dip molding is formed in a solution containing an antistatic polymer to form an antistatic polymer derived layer (S300). .

본 발명에 따른 딥 성형품을 제조하는 경우 딥 성형품에 포함된 대전방지 중합체로 인해 대전방지 효과를 기대할 수 있고, 이로 인해 딥 성형품의 미세 오염 물질에 대한 정전기적 및 물리적인 흡착을 방지할 수 있는 효과가 있다.When manufacturing a dip molded product according to the present invention, an antistatic effect can be expected due to the antistatic polymer contained in the dip molded product, which has the effect of preventing electrostatic and physical adsorption of fine contaminants in the dip molded product. There is.

도 1은 본 발명에 따른 딥 성형품의 제조방법에 대한 모식도이며, (a)는 실시예 1에 따라 제조된 성형품의 제조방법에 대한 모식도이고, (b)는 실시예 2에 따라 제조된 성형품의 제조방법에 대한 모식도이다.
도 2는 본 발명에 따른 딥 성형품으로, (a)는 실시예 1에 따라 제조된 성형품의 사진이며, (b)는 실시예 2에 따라 제조된 성형품의 사진이고, (c)는 실시예 3에 따라 제조된 성형품의 사진이다.
도 3은 본 발명에 따른 딥 성형품으로, (a)는 비교예 1에 따라 제조된 성형품의 사진이며, (b)는 비교예 2에 따라 제조된 성형품의 사진이다.
1 is a schematic diagram of a method of manufacturing a dip molded product according to the present invention, (a) is a schematic diagram of a method of manufacturing a molded product manufactured according to Example 1, and (b) is a schematic diagram of a manufacturing method of a molded product manufactured according to Example 2. This is a schematic diagram of the manufacturing method.
Figure 2 is a dip molded product according to the present invention, (a) is a photograph of the molded product manufactured according to Example 1, (b) is a photograph of the molded product manufactured according to Example 2, and (c) is a photograph of the molded product manufactured according to Example 3. This is a photo of a molded product manufactured according to .
Figure 3 is a dip molded product according to the present invention, (a) is a photograph of the molded product manufactured according to Comparative Example 1, and (b) is a photograph of the molded product manufactured according to Comparative Example 2.

본 발명의 설명 및 청구범위에서 사용된 용어나 단어는, 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선을 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Terms or words used in the description and claims of the present invention should not be construed as limited to their ordinary or dictionary meanings, and the inventor should appropriately use the concept of the term to explain his or her invention in the best way. Based on the principle of definability, it must be interpreted with meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

이하, 본 발명에 대한 이해를 돕기 위하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail to facilitate understanding of the present invention.

본 발명에서 용어 '단량체 유래 반복단위'는 단량체로부터 기인한 성분, 구조 또는 그 물질 자체를 나타내는 것일 수 있고, 구체적인 예로, 중합체의 중합 시, 투입되는 단량체가 중합 반응에 참여하여 중합체 내에서 이루는 반복단위를 의미하는 것일 수 있다.In the present invention, the term 'monomer-derived repeating unit' may refer to a component, structure, or the substance itself derived from a monomer. As a specific example, during polymerization of a polymer, the input monomer participates in the polymerization reaction and repeats within the polymer. It may mean a unit.

본 발명에서 용어 '라텍스'는 중합에 의해 중합된 중합체 또는 공중합체가 물에 분산된 형태로 존재하는 것을 의미할 수 있고, 구체적인 예로, 유화 중합에 의해 중합된 고무 상의 중합체 또는 고무 상의 공중합체의 미립자가 콜로이드 상태로 물에 분산된 형태로 존재하는 것을 의미할 수 있다.In the present invention, the term 'latex' may mean that a polymer or copolymer polymerized by polymerization exists in a dispersed form in water, and as a specific example, a polymer or copolymer polymerized by emulsion polymerization. This may mean that the fine particles exist in a colloidal state dispersed in water.

본 발명에서 용어 '유래층'은 중합체 또는 공중합체로부터 형성된 층을 나타내는 것일 수 있고, 구체적인 예로, 딥 성형품 제조 시, 중합체 또는 공중합체가 딥 성형틀 상에서 부착, 고정, 및/또는 중합되어 중합체 또는 공중합체로부터 형성된 층을 의미하는 것일 수 있다.In the present invention, the term 'derived layer' may refer to a layer formed from a polymer or copolymer, and as a specific example, when manufacturing a dip molded product, the polymer or copolymer is attached, fixed, and/or polymerized on the dip mold to form a polymer or It may mean a layer formed from a copolymer.

본 발명에서 용어 '화합물 유래 가교부'는 화합물로부터 기인한 성분, 구조 또는 그 물질 자체를 나타내는 것일 수 있고, 가교제 조성물이 작용 및 반응하여 형성된 중합체 내, 또는 중합체 간 가교(cross linking) 역할을 수행하는 가교부(cross linking part)를 의미하는 것일 수 있다.In the present invention, the term 'compound-derived cross-linking portion' may refer to a component, structure, or the substance itself derived from a compound, and serves as a cross-linking within or between polymers formed by the action and reaction of the cross-linking agent composition. It may mean a cross linking part.

본 발명에서 용어 '알킬'은 메틸, 에틸, 프로필, 2-프로필, n-부틸, 이소-부틸, tert-부틸, 펜틸, 헥실, 도데실 등과 같이, 탄소 원자의 선형 또는 분지형 포화 1가 탄화수소를 의미할 수 있고, 비치환된 것뿐만 아니라 치환기에 의해 치환된 것도 포함하는 것을 의미할 수 있다.In the present invention, the term 'alkyl' refers to a linear or branched saturated monovalent hydrocarbon of carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, 2-propyl, n-butyl, iso-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, dodecyl, etc. It may mean that it includes not only unsubstituted ones but also those substituted by substituents.

본 발명에서 용어 '시클로알킬'은 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로펜테닐, 시클로헥실, 시클로헥세닐, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 데카하이드로나프탈레닐, 아다만타닐, 노르보닐 (즉, 바이시클로 [2,2,1] 헵트-5-에닐) 등과 같이, 상기 정의된 알킬기의 수소원자의 1개 이상이 고리 탄화수소의 포화된 또는 불포화된 비방향족 1가 모노시클릭, 바이시클릭 또는 트리시클릭 탄화수소로 치환되어 있는 것을 의미할 수 있고, 비치환된 것뿐만 아니라 치환기에 의해 치환된 것도 포함하는 것을 의미할 수 있다.In the present invention, the term 'cycloalkyl' refers to cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclopentenyl, cyclohexyl, cyclohexenyl, cycloheptyl, cyclooctyl, decahydronaphthalenyl, adamantanyl, norbornyl (i.e. Bicyclo [2,2,1] hept-5-enyl), etc., at least one hydrogen atom of the alkyl group defined above is a saturated or unsaturated cyclic hydrocarbon, monovalent monocyclic, bicyclic or It may mean substituted with a tricyclic hydrocarbon, and may mean not only unsubstituted but also substituted with a substituent.

본 발명에서 용어 '아릴'은 페닐, 나프탈레닐, 플루오레닐 등과 같이, 상기 정의된 알킬기의 수소원자의 1개 이상이 아릴기로 치환되어 있는 것을 의미할 수 있고, 비치환된 것 뿐만 아니라 치환기에 의해 치환된 것도 포함하는 것을 의미할 수 있다.In the present invention, the term 'aryl' may mean that one or more hydrogen atoms of the above-defined alkyl group are substituted with an aryl group, such as phenyl, naphthalenyl, fluorenyl, etc., and may be unsubstituted as well as substituted. It may mean that it also includes those substituted by .

본 발명에서 용어 '알케닐'는 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 펜테닐, 5-헥세닐, 도데세닐 등과 같이, 탄소 원자의 선형 또는 분지형 1가 탄화수소를 의미할 수 있고, 알케닐은 탄소-탄소 이중결합을 포함하는 탄소 원자를 통해 또는 포화된 탄소 원자를 통해 결합될 수 있으며, 비치환된 것뿐만 아니라 치환기에 의해 치환된 것도 포함하는 것을 의미할 수 있다.In the present invention, the term 'alkenyl' refers to a linear or alkenyl group of carbon atoms, such as ethenyl, 1-propenyl, 2-propenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, pentenyl, 5-hexenyl, dodecenyl, etc. Alkenyl may refer to a branched monovalent hydrocarbon, and alkenyl may be bonded through a carbon atom containing a carbon-carbon double bond or through a saturated carbon atom, and may be unsubstituted as well as substituted by a substituent. It can mean including.

본 발명에서 용어 '(메타)아크릴레이트'는 아크릴레이트와 메타크릴레이트 둘 다 가능함을 의미할 수 있다.In the present invention, the term '(meth)acrylate' may mean that both acrylate and methacrylate are possible.

본 발명에 따른 딥 성형품은 니트릴계 공중합체 및 카르본산 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 페놀계 유화제; 및 대전방지 중합체를 포함하는 것일 수 있다.The dip molded article according to the present invention includes at least one copolymer selected from the group consisting of nitrile-based copolymers and carboxylic acid nitrile-based copolymers; Phenolic emulsifier; And it may include an antistatic polymer.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 대전방지 중합체는 상기 대전방지 중합체는 폴리에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌설포네이트(PEDOT:PSS), 폴리아세틸렌, 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리파라페닐렌, 폴리페닐렌설파이드, 폴리파라페닐렌 비닐렌, 폴리아닐린으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the antistatic polymer is polyethylenedioxythiophene:polystyrenesulfonate (PEDOT:PSS), polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, polyparaphenylene, polyphenylene. It may include one or more selected from the group consisting of sulfide, polyparaphenylene vinylene, and polyaniline.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 대전방지 중합체는 상기 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체 100 중량부에 대하여 0.005 중량부 내지 2 중량부, 0.01 중량부 내지 1 중량부, 또는 0.1 중량부 내지 1.5 중량부일 수 있고, 이 범위 내에서 상기 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물로부터 성형된 딥 성형품이 유연하고, 촉감 및 착용감이 우수함과 동시에, 내유성 및 인장강도가 우수한 효과가 있다.According to one embodiment of the present invention, the antistatic polymer is 0.005 parts by weight to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of at least one copolymer selected from the group consisting of the nitrile-based copolymer and carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer, It may be 0.01 part by weight to 1 part by weight, or 0.1 part by weight to 1.5 part by weight, and within this range, the dip molded product is molded from the latex composition for dip molding containing the nitrile-based copolymer or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer. It is flexible, has excellent touch and fit, and has excellent oil resistance and tensile strength.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 니트릴계 공중합체는 에틸렌성 불포화 니트릴계 단량체 유래 반복단위 및 공액디엔계 단량체 유래 반복단위를 포함하는 것일 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체는 에틸렌성 불포화 니트릴계 단량체 유래 반복단위, 공액디엔계 단량체 유래 반복단위 및 에틸렌성 불포화산 단량체 유래 반복단위를 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the nitrile-based copolymer may include a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated nitrile-based monomer and a repeating unit derived from a conjugated diene-based monomer. In addition, according to one embodiment of the present invention, the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer may include a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated nitrile-based monomer, a repeating unit derived from a conjugated diene-based monomer, and a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated acid monomer. there is.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 에틸렌성 불포화 니트릴계 단량체 유래 반복단위를 형성하는 에틸렌성 불포화 니트릴계 단량체는 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 후마로니트릴, α-클로로니트릴 및 α-시아노 에틸 아크릴로니트릴로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있고, 구체적인 예로, 아크릴로니트릴 및 메타크릴로니트릴일 수 있으며, 보다 구체적인 예로, 아크릴로니트릴일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the ethylenically unsaturated nitrile-based monomer forming the repeating unit derived from the ethylenically unsaturated nitrile-based monomer of the nitrile-based copolymer and the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is acrylonitrile and methacrylonitrile. , may be one or more selected from the group consisting of fumaronitrile, α-chloronitrile, and α-cyano ethyl acrylonitrile, and specific examples may include acrylonitrile and methacrylonitrile. More specific examples include acrylonitrile, It may be nitrile.

상기 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 에틸렌성 불포화 니트릴계 단량체 유래 반복단위의 함량은, 각각 독립적으로, 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 총 함량에 대하여, 10 중량% 내지 50 중량%, 15 중량% 내지 45 중량%, 또는 20 중량% 내지 40 중량%일 수 있고, 이 범위 내에서 상기 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물로부터 성형된 딥 성형품이 유연하고, 촉감 및 착용감이 우수함과 동시에, 내유성 및 인장강도가 우수한 효과가 있다.The content of the repeating unit derived from the ethylenically unsaturated nitrile monomer of the nitrile-based copolymer and the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is each independently 10 wt. It may be % to 50% by weight, 15% to 45% by weight, or 20% to 40% by weight, and within this range, the latex for dip molding containing the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer Dip molded products made from the composition are flexible, have excellent touch and fit, and have excellent oil resistance and tensile strength.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 공액디엔계 단량체 유래 반복단위를 형성하는 공액디엔계 단량체는 1,3-부타디엔, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 2-에틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔 및 이소프렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있고, 구체적인 예로, 1,3-부타디엔 또는 이소프렌일 수 있으며, 보다 구체적인 예로, 1,3-부타디엔일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the conjugated diene monomer forming the repeating unit derived from the conjugated diene monomer of the nitrile-based copolymer and the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is 1,3-butadiene, 2,3-dimethyl- It may be one or more selected from the group consisting of 1,3-butadiene, 2-ethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, and isoprene, and specific examples include 1,3-butadiene or isoprene. As a specific example, it may be 1,3-butadiene.

상기 니트릴계 공중합체에 포함되는 공액디엔계 단량체 유래 반복단위의 함량은 니트릴계 공중합체 총 함량에 대하여 50 중량% 내지 90 중량%, 55 중량% 내지 85 중량%, 또는 60 중량% 내지 80 중량%일 수 있고, 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체에 포함되는 상기 공액디엔계 단량체 유래 반복단위의 함량은 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 전체 함량에 대하여 40 중량% 내지 89 중량%, 40 중량% 내지 80 중량%, 또는 50 중량% 내지 78 중량%일 수 있고, 이 범위 내에서 상기 니트릴계 공중합체 또는 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물로부터 성형된 딥 성형품이 유연하고, 촉감 및 착용감이 우수함과 동시에, 내유성 및 인장강도가 우수한 효과가 있다.The content of the repeating unit derived from the conjugated diene monomer included in the nitrile-based copolymer is 50% by weight to 90% by weight, 55% by weight to 85% by weight, or 60% by weight to 80% by weight based on the total content of the nitrile-based copolymer. It may be, the content of the repeating unit derived from the conjugated diene monomer included in the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is 40% by weight to 89% by weight, 40% by weight to 80% by weight based on the total content of the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer. It may be % by weight, or 50% by weight to 78% by weight, and within this range, the dip molded article molded from the latex composition for dip molding containing the nitrile-based copolymer or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is flexible, It has excellent touch and fit, as well as excellent oil resistance and tensile strength.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 에틸렌성 불포화산 단량체 유래 반복단위를 형성하는 에틸렌성 불포화산 단량체는 카르복실기, 술폰산기, 산무수물기와 같은 산성기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체일 수 있고, 구체적인 예로 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산 및 푸마르산 등과 같은 에틸렌성 불포화산 단량체; 무수말레산 및 무수 시트라콘산 등과 같은 폴리 카르본산 무수물; 스티렌 술폰산과 같은 에틸렌성 불포화 술폰산 단량체; 푸마르산 모노부틸, 말레인산 모노부틸 및 말레인산 모노-2-히드록시 프로필 등과 같은 에틸렌성 불포화 폴리 카르본산 부분 에스테르(partial ester) 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있고, 보다 구체적인 예로 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산 및 푸마르산으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으며, 더욱 구체적인 예로 메타크릴산일 수 있다. 상기 에틸렌성 불포화산 단량체는 중합 시, 알칼리 금속염 또는 암모늄염 등과 같은 염의 형태로 사용될 수 있다. In addition, according to one embodiment of the present invention, the ethylenically unsaturated acid monomer forming the repeating unit derived from the ethylenically unsaturated acid monomer of the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer contains an acidic group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, and an acid anhydride group. It may be an ethylenically unsaturated monomer, and specific examples include ethylenically unsaturated acid monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, and fumaric acid; polycarboxylic anhydrides such as maleic anhydride and citraconic anhydride; ethylenically unsaturated sulfonic acid monomers such as styrene sulfonic acid; It may be one or more selected from the group consisting of ethylenically unsaturated polycarboxylic acid partial ester monomers such as monobutyl fumarate, monobutyl maleate, and mono-2-hydroxypropyl maleate, and more specific examples include acrylic acid and methacrylic acid. , itaconic acid, maleic acid, and fumaric acid. A more specific example may be methacrylic acid. During polymerization, the ethylenically unsaturated acid monomer may be used in the form of a salt such as an alkali metal salt or ammonium salt.

상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체에 포함되는 에틸렌성 불포화산 단량체 유래 반복단위의 함량은 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 총 함량에 대하여 0.1 중량% 내지 15 중량%, 0.5 중량% 내지 9 중량%, 또는 1 중량% 내지 8 중량% 일 수 있고, 이 범위 내에서 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물로부터 성형된 딥 성형품이 유연하고, 착용감이 우수함과 동시에, 내성성 및 인장강도가 우수한 효과가 있다.The content of repeating units derived from ethylenically unsaturated acid monomers contained in the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is 0.1% by weight to 15% by weight, 0.5% by weight to 9% by weight, or It may be 1% by weight to 8% by weight, and within this range, a dip molded product molded from the latex composition for dip molding containing the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is flexible and has excellent wearing comfort, as well as resistance and tensile strength. It has excellent strength effects.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 니트릴계 공중합체 및 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체는 공액디엔계 단량체 유래 반복단위, 에틸렌성 불포화 니트릴계 단량체 유래 반복단위 및 에틸렌성 불포화산 단량체 유래 반복단위 외에 에틸렌성 불포화 단량체 유래 반복단위를 선택적으로 더 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the nitrile-based copolymer and the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer include a repeating unit derived from a conjugated diene monomer, a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated nitrile monomer, and a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated acid monomer. In addition, it may optionally further include a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated monomer.

상기 에틸렌성 불포화 단량체 유래 반복단위를 형성하는 상기 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, 아릴 스티렌, 및 비닐 나프탈렌으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 비닐 방향족 단량체; 플루오로(fluoro) 에틸 비닐 에테르 등의 플루오로알킬비닐 에테르; (메타)아크릴아미드, N-메틸올 (메타)아크릴아미드, N,N-디메틸올(메타)아크릴아미드, N-메톡시 메틸(메타)아크릴아미드, 및 N-프로폭시 메틸(메타)아크릴아미드로 이루어진 군으로부터 선택된 에틸렌성 불포화 아미드 단량체; 비닐 피리딘, 비닐 노보넨, 디시클로 펜타디엔, 1,4-헥사디엔 등의 비공액 디엔 단량체; (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 부틸, (메타)아크릴산-2-에틸헥실, (메타)아크릴산 트리 플루오로 에틸, (메타)아크릴산 테트라 플루오로 프로필, 말레인산 디부틸, 푸마르산 디부틸, 말레인산 디에틸, (메타)아크릴산 메톡시메틸, (메타)아크릴산 에톡시에틸, (메타)아크릴산 메톡시에톡시에틸, (메타)아크릴산시아노메틸, (메타)아크릴산 2-시아노에틸, (메타)아크릴산 1-시아노프로필, (메타)아크릴산 2-에틸-6-시아노헥실, (메타)아크릴산 3-시아노프로필, (메타)아크릴산 히드록시에틸, (메타)아크릴산 히드록시프로필, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 및 디메틸아미노 에틸(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 에틸렌성 불포화카르본산 에스테르 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상일 수 있다.The ethylenically unsaturated monomer forming the repeating unit derived from the ethylenically unsaturated monomer may include a vinyl aromatic monomer selected from the group consisting of styrene, aryl styrene, and vinyl naphthalene; Fluoroalkyl vinyl ethers such as fluoro ethyl vinyl ether; (meth)acrylamide, N-methylol (meth)acrylamide, N,N-dimethylol(meth)acrylamide, N-methoxy methyl(meth)acrylamide, and N-propoxy methyl(meth)acrylamide An ethylenically unsaturated amide monomer selected from the group consisting of; Non-conjugated diene monomers such as vinyl pyridine, vinyl norbornene, dicyclopentadiene, and 1,4-hexadiene; Methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, trifluoroethyl (meth)acrylate, tetrafluoropropyl (meth)acrylate, dibutyl maleate, Dibutyl fumarate, diethyl maleate, methoxymethyl (meth)acrylate, ethoxyethyl (meth)acrylate, methoxyethoxyethyl (meth)acrylate, cyanomethyl (meth)acrylate, 2-cyano (meth)acrylate. Ethyl, 1-cyanopropyl (meth)acrylic acid, 2-ethyl-6-cyanohexyl (meth)acrylic acid, 3-cyanopropyl (meth)acrylic acid, hydroxyethyl (meth)acrylic acid, hydroxy (meth)acrylic acid It may be one or more types selected from the group consisting of ethylenically unsaturated carboxylic acid ester monomers selected from the group consisting of propyl, glycidyl (meth)acrylate, and dimethylamino ethyl (meth)acrylate.

상기 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체가 상기 에틸렌성 불포화 단량체 유래 반복단위를 포함하는 경우, 상기 에틸렌성 불포화 단량체 유래 반복단위 함량은 상기 니트릴계 공중합체 또는 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 전체 함량에 대하여 25 중량% 이하, 0.01 내지 25 중량%, 또는 0.01 내지 20 중량%일 수 있고, 이 범위 내에서 상기 니트릴계 공중합체 또는 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물로부터 성형된 딥 성형품의 촉감 및 착용감이 우수함과 동시에, 인장강도가 우수한 효과가 있다.When the nitrile-based copolymer or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer includes a repeating unit derived from the ethylenically unsaturated monomer, the content of the repeating unit derived from the ethylenically unsaturated monomer is the nitrile-based copolymer or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer. It may be 25% by weight or less, 0.01 to 25% by weight, or 0.01 to 20% by weight based on the total content of the polymer, and within this range, the nitrile-based copolymer or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer for dip molding. The dip molded product made from the latex composition has excellent feel and fit, and has excellent tensile strength.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 페놀계 유화제는 하기 화학식 1로 표시되는 것일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the phenol-based emulsifier may be represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

상기 화학식 1에서, R1, R2 및 R3 는 각각 독립적으로, 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 탄소수 30, 탄소수 1 내지 탄소수 20, 또는 탄소수 1 내지 탄소수 10의 선형 또는 분지형 알킬이되, R1 내지 R3 중 적어도 1개 이상은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 탄소수 30의 선형 또는 분지형 알킬이고, R은 수소; 중합 가능한 작용기; 탄소수 1 내지 탄소수 30, 탄소수 1 내지 탄소수 20, 또는 탄소수 1 내지 탄소수 10의 알콕시기; 무기 또는 유기염; 비이온성기; 또는 할로겐이며, m은 1 내지 20, 1 내지 10, 또는 1 내지 5의 정수이고, n은 1 내지 100, 4 내지 80, 또는 8 내지 25의 정수이다.In Formula 1, R 1 , R 2 and R 3 are each independently hydrogen; or substituted or unsubstituted linear or branched alkyl having 1 to 30 carbon atoms, 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 10 carbon atoms, where at least one of R 1 to R 3 is substituted or unsubstituted. linear or branched alkyl having 1 to 30 carbon atoms, and R is hydrogen; Polymerizable functional group; an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 10 carbon atoms; inorganic or organic salts; non-ionic group; or halogen, m is an integer of 1 to 20, 1 to 10, or 1 to 5, and n is an integer of 1 to 100, 4 to 80, or 8 to 25.

상기 선형 또는 분지형 알킬에 치환될 수 있는 치환기는, 탄소수 1 내지 탄소수 30, 탄소수 1 내지 탄소수 20 또는 탄소수 1 내지 탄소수 10의 선형 또는 분지형 알킬; 탄소수 3 내지 탄소수 30, 탄소수 3 내지 탄소수 20 또는 탄소수 6 내지 탄소수 10의 시클로알킬; 탄소수 6 내지 탄소수 30, 탄소수 6 내지 탄소수 20, 탄소수 6 내지 탄소수 10의 아릴; 및 할로겐으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.Substituents that may be substituted for the linear or branched alkyl include linear or branched alkyl having 1 to 30 carbon atoms, 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 10 carbon atoms; cycloalkyl having 3 to 30 carbon atoms, 3 to 20 carbon atoms, or 6 to 10 carbon atoms; aryl having 6 to 30 carbon atoms, 6 to 20 carbon atoms, 6 to 10 carbon atoms; And it may be one or more types selected from the group consisting of halogen.

상기 알킬은 메틸, 에틸, 프로필, 2-프로필, 부틸, 이소부틸, tert-부틸, 펜틸, 헥실, 도데실 등일 수 있다.The alkyl may be methyl, ethyl, propyl, 2-propyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, dodecyl, etc.

상기 시클로알킬은 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로펜테닐, 시클로헥실, 시클로헥세닐, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 데카하이드로나프탈레닐, 아다만타닐, 노르보닐 (즉, 바이시클로 [2,2,1] 헵트-5-에닐) 등일 수 있다.The cycloalkyl is cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclopentenyl, cyclohexyl, cyclohexenyl, cycloheptyl, cyclooctyl, decahydronaphthalenyl, adamantanyl, norbornyl (i.e., bicyclo [2, 2,1] hept-5-enyl), etc.

상기 아릴은 페닐, 나프탈레닐, 플루오레닐 등일 수 있다.The aryl may be phenyl, naphthalenyl, fluorenyl, etc.

상기 중합 가능한 작용기는 (메타)아크릴레이트; 탄소수 1 내지 탄소수 30, 탄소수 1 내지 탄소수 20 또는 탄소수 1 내지 탄소수 10의 알킬 (메타)아크릴레이트; 및 탄소수 2 내지 탄소수 30, 탄소수 2 내지 탄소수 20, 탄소수 2 내지 탄소수 10의 알케닐 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The polymerizable functional group is (meth)acrylate; Alkyl (meth)acrylate having 1 to 30 carbon atoms, 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 10 carbon atoms; and alkenyl (meth)acrylates having 2 to 30 carbon atoms, 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 10 carbon atoms.

상기 알콕시기는 메톡시, 에톡시, 프로톡시, 이소부틸메톡시, 부톡시 등일 수 있다.The alkoxy group may be methoxy, ethoxy, protoxy, isobutylmethoxy, butoxy, etc.

상기 무기 또는 유기염은 포스포네이트(-PO3-M+), 포스페이트(PO4-M+), 설페이트(SO4-M+), 설포네이트(SO3-M+), 카르복실레이트(COO-M+) 등일 수 있다. 이 때, M+는, H+, Na+, NH4 +, K+, Li+ 등일 수 있다.The inorganic or organic salts include phosphonate (-PO 3 -M + ), phosphate (PO 4 -M + ), sulfate (SO 4 -M + ), sulfonate (SO 3 -M + ), carboxylate ( It may be COO-M + ), etc. At this time, M + may be H + , Na + , NH 4 + , K + , Li + , etc.

상기 비이온성기는 수산기(-OH), 시안화(-CN), 카르복실산기(-COOH), 아미드기(-CONH2) 등일 수 있다.The nonionic group may be a hydroxyl group (-OH), cyanide (-CN), carboxylic acid group (-COOH), amide group (-CONH 2 ), etc.

상기 할로겐은 F, Cl, Br, I 등일 수 있다.The halogen may be F, Cl, Br, I, etc.

구체적인 예로, 상기 R1, R2 및 R3 는 각각 독립적으로, 수소, 부틸, tert-부틸, 이소부틸, 등 일 수 있다. As a specific example, R 1 , R 2 and R 3 are each independently hydrogen, butyl, tert-butyl, isobutyl, It may be, etc.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 페놀계 유화제는 하기 화학식 2로 표시되는 것일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the phenol-based emulsifier may be represented by the following formula (2).

[화학식 2][Formula 2]

상기 화학식 2에서, R은 수소; 중합 가능한 작용기; 탄소수 1 내지 탄소수 10의 알콕시기; 무기 또는 유기염; 비이온성기; 또는 할로겐이며, n은 1 내지 100, 4 내지 80, 또는 8 내지 25의 정수이다.In Formula 2, R is hydrogen; Polymerizable functional group; an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; inorganic or organic salts; non-ionic group; or halogen, and n is an integer of 1 to 100, 4 to 80, or 8 to 25.

상기 중합 가능한 작용기는 (메타)아크릴레이트; 탄소수 1 내지 탄소수 30, 탄소수 1 내지 탄소수 20 또는 탄소수 1 내지 탄소수 10의 알킬 (메타)아크릴레이트; 및 탄소수 2 내지 탄소수 30, 탄소수 2 내지 탄소수 20, 탄소수 2 내지 탄소수 10의 알케닐 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The polymerizable functional group is (meth)acrylate; Alkyl (meth)acrylate having 1 to 30 carbon atoms, 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 10 carbon atoms; and alkenyl (meth)acrylates having 2 to 30 carbon atoms, 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 10 carbon atoms.

상기 알킬 (메타)아크릴레이트는 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 프로필 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 펜틸 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, 헵틸 (메타)아크릴레이트, 옥틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트 등일 수 있다.The alkyl (meth)acrylate includes methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, It may be heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, etc.

상기 알케닐 (메타)아크릴레이트는 비닐 (메타)아크릴레이트, 알릴 (메타)아크릴레이트, 1,1-디메틸프로펜일 (메타)아크릴레이트 3,3-디메틸부텐일 (메타)아크릴레이트 등일 수 있다.The alkenyl (meth)acrylate may be vinyl (meth)acrylate, allyl (meth)acrylate, 1,1-dimethylpropenyl (meth)acrylate, 3,3-dimethylbutenyl (meth)acrylate, etc. .

또 다른 예로, 상기 중합 가능한 작용기는 아크릴로, 메타크릴로, 아크릴아미도, 메타크릴아미도, 디알릴아미노, 알릴 에테르, 비닐 에테르, α-알케닐, 말레이니도, 스티레닐, 및 α-알킬 스티레닐기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.As another example, the polymerizable functional groups include acrylo, methacrylo, acrylamido, methacrylamido, diallylamino, allyl ether, vinyl ether, α-alkenyl, maleinido, styrenyl, and α- It may be one or more types selected from the group consisting of alkyl styrenyl groups.

상기 페놀계 유화제의 함량은, 고형분 기준으로 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 100 중량부에 대하여, 0.06 중량부 내지 7 중량부, 0.1 중량부 내지 5.5 중량부 또는 0.1 중량부 내지 4 중량부일 수 있고, 이 범위 내에서 상기 페놀계 유화제를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물로의 시너리시스 시간이 증가하여 안정성이 개선될 뿐만 아니라, 모듈러스가 감소되어 딥 성형용 라텍스 조성물을 사용하여 제조된 성형품의 착용감이 우수한 효과가 있다. The content of the phenol-based emulsifier may be 0.06 parts by weight to 7 parts by weight, 0.1 parts by weight to 5.5 parts by weight, or 0.1 parts by weight to 4 parts by weight, based on 100 parts by weight of the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer, based on solid content. Within this range, the syneresis time with the latex composition for dip molding containing the phenol-based emulsifier increases, improving stability, and the modulus is reduced, improving the wearing comfort of the molded product manufactured using the latex composition for dip molding. It has excellent effects.

상기 페놀계 유화제의 수평균 분자량은, 250 g/mol 내지 30,000 g/mol 또는 300 g/mol 내지 20,000 g/mol일 수 있고, 이 범위 내에서 용매에서 분산이 우수하여 니트릴계 공중합체 라텍스 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 제조시, 니트릴계 공중합체 라텍스 또는 카르본산 변성 니트릴계 라텍스의 안정성을 향상시키고, 딥 성형용 라텍스 조성물의 시너리시스 시간이 증가하여 안정성이 개선될 뿐만 아니라, 모듈러스가 감소되어 딥 성형용 라텍스 조성물을 사용하여 제조된 성형품의 착용감이 우수한 효과가 있다.The number average molecular weight of the phenol-based emulsifier may be 250 g/mol to 30,000 g/mol or 300 g/mol to 20,000 g/mol, and within this range, it has excellent dispersion in the solvent, making it suitable for use in nitrile-based copolymer latex or carboxylic acid. When manufacturing acid-modified nitrile-based copolymer latex, the stability of nitrile-based copolymer latex or carboxylic acid-modified nitrile-based latex is improved, and the syneresis time of the latex composition for dip molding is increased, which not only improves stability but also reduces modulus. This results in excellent wearing comfort for molded products manufactured using the latex composition for dip molding.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 페놀계 유화제는 친수성기를 포함하고 있어 물에 잘 녹고 혼합 및 분산이 용이할 수 있으며, 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 입자의 표면에 고착되어 있어 라텍스의 안정성을 향상시키는 효과가 있다. According to one embodiment of the present invention, the phenol-based emulsifier contains a hydrophilic group, so it is easily soluble in water and can be easily mixed and dispersed, and is fixed to the surface of the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer particles. This has the effect of improving the stability of latex.

한편, 상기 페놀계 유화제가 상기 화학식 2로 표시되는 페놀계 유화제와 같이 친수성기 뿐만 아니라 부피가 큰 벤젠 고리를 포함할 경우, 이를 포함하는 딥 성형용 조성물로 성형품을 제조 시, 필름 형성을 늦추는 역할을 하여 시너리시스 시간을 증가시켜주는 효과가 있다.On the other hand, when the phenol-based emulsifier contains not only a hydrophilic group but also a bulky benzene ring, such as the phenol-based emulsifier represented by Formula 2, it plays a role in slowing down film formation when manufacturing a molded article with a composition for dip molding containing it. This has the effect of increasing syneresis time.

본 발명에 따른 딥 성형품은 대전방지 중합체를 포함함으로써, 딥 성형품 제조 시에 대전방지 효과로 인해 미세 오염 물질에 대한 정전기적 및 물리적인 흡착을 방지할 수 있다. 상기 대전방지 중합체는 전도도를 띄는 수용성 고분자 물질로서, 이를 포함하는 딥 성형품에 전도도를 부여하는 역할을 한다. 즉, 딥 성형품 제조 시에 부전도성의 딥 성형품에 전자가 지속적으로 축적되게 되어 정전기가 발생할 수 있는데, 대전방지 중합체를 포함할 경우 전자의 축적을 방지할 수 있게 되어 정전기를 방지할 수 있는 효과가 있다.By containing an antistatic polymer, the dip molded product according to the present invention can prevent electrostatic and physical adsorption of fine contaminants due to the antistatic effect during the manufacture of the dip molded product. The antistatic polymer is a water-soluble polymer material that exhibits conductivity, and serves to provide conductivity to dip molded products containing it. In other words, when manufacturing a dip molded product, static electricity may be generated as electrons continuously accumulate in the non-conductive dip molded product. When an antistatic polymer is included, the accumulation of electrons can be prevented, which has the effect of preventing static electricity. there is.

한편, 본 발명에 따른 딥 성형품은 딥 성형품 제조 시에 대전방지 중합체와 페놀계 유화제를 모두 포함함으로써, 전도도가 더욱 증가하게 되어, 이로 인해 대전방지가 우수한 효과가 있다.Meanwhile, the dip molded product according to the present invention further increases conductivity by including both an antistatic polymer and a phenol-based emulsifier when manufacturing the dip molded product, thereby providing an excellent antistatic effect.

예컨대, 딥 성형품 제조 시에 대전방지 중합체로서 폴리에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌설포네이트(PEDOT:PSS)를 페놀계 유화제와 함께 사용할 경우, 폴리에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌설포네이트의 부도체인 폴리스티렌설포네이트 물질을 추출시키고, 이 때 폴리에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌설포네이트는 폴리에틸렌디옥시티오펜:페놀계 유화제로 결합이 바뀌게 되면서 폴리에틸렌디옥시티오펜으로 이루어진 입자들 사이의 우수한 접촉으로 인해 전도도가 증가하게 되어 대전방지가 우수한 효과가 있다.For example, when polyethylenedioxythiophene:polystyrenesulfonate (PEDOT:PSS) is used together with a phenol-based emulsifier as an antistatic polymer when manufacturing dip molded products, polystyrenesulfonate material, which is a nonconductor of polyethylenedioxythiophene:polystyrenesulfonate, is extracted. At this time, the bond between polyethylenedioxythiophene:polystyrenesulfonate is changed to polyethylenedioxythiophene:phenolic emulsifier, and conductivity increases due to excellent contact between particles made of polyethylenedioxythiophene, resulting in excellent antistatic effect. There is.

또한, 본 발명은 상기 딥 성형품을 제조하기 위한 딥 성형품 제조방법이 제공된다. 상기 딥 성형품 제조방법은 딥 성형용 라텍스 조성물을 직접 침지법, 양극(anode) 응착 침지법, 티그(Teague) 응착 침지법 등에 의해 침지시키는 단계를 포함할 수 있고, 구체적인 예로 양극 응착 침지법에 의해 실시될 수 있으며, 이 경우 균일한 두께의 딥 성형품을 수득할 수 있는 이점이 있다.In addition, the present invention provides a dip molded product manufacturing method for manufacturing the dip molded product. The method for producing a dip molded product may include the step of immersing the latex composition for dip molding by a direct immersion method, an anode adhesion immersion method, a Teague adhesion immersion method, etc., and as a specific example, an anode adhesion immersion method. This can be done, and in this case, there is an advantage in obtaining dip molded products of uniform thickness.

구체적인 예로, 상기 딥 성형품 제조방법은 도 1(a)에 나타낸 바와 같이 딥 성형품을 제조할수 있으며, 보다 더 구체적인 예로, 딥 성형틀에 응고제를 부착시키는 단계(S10); 및 상기 응고제가 부착된 딥 성형틀을 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 페놀계 유화제; 및 대전방지 중합체를 포함하는 제1 딥 성형용 라텍스 조성물에 침지하여 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 형성시키는 단계 (S20);를 포함할 수 있다. As a specific example, the method for manufacturing a dip molded product can manufacture a dip molded product as shown in FIG. 1(a), and as a more specific example, the step of attaching a coagulant to the dip mold (S10); And the dip molding mold to which the coagulant is attached is filled with at least one copolymer selected from the group consisting of a nitrile-based copolymer and a carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer; Phenolic emulsifier; and forming a layer derived from the first latex composition for dip molding by immersing the first dip molding latex composition containing an antistatic polymer (S20).

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (S10) 단계는 딥 성형틀에 응고제를 형성시키기 위하여 딥 성형틀을 응고제 용액에 담가 딥 성형틀의 표면에 응고제를 부착시키는 단계일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the step (S10) may be a step of attaching the coagulant to the surface of the dip mold by immersing the dip mold in a coagulant solution to form a coagulant in the dip mold.

상기 응고제 용액은 응고제를 물, 알코올 또는 이들의 혼합물에 용해시킨 용액으로, 응고제 용액 내의 응고제의 함량은 응고제 용액 총 함량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 7 중량% 내지 45 중량%, 또는 10 중량% 내지 40 중량%일 수 있다.The coagulant solution is a solution in which a coagulant is dissolved in water, alcohol, or a mixture thereof, and the content of the coagulant in the coagulant solution is 5% by weight to 50% by weight, 7% to 45% by weight, or 10% by weight based on the total content of the coagulant solution. It may be from % to 40% by weight.

상기 응고제는 바륨 클로라이드, 칼슘 클로라이드, 마그네슘 클로라이드, 아연 클로라이드 및 알루미늄 클로라이드 등과 같은 금속 할라이드; 바륨 나이트레이트, 칼슘 나이트레이트 및 아연 나이트레이트 등과 같은 질산염; 바륨 아세테이트, 칼슘 아세테이트 및 아연 아세테이트 등과 같은 아세트산염; 및 칼슘 설페이트, 마그네슘 설페이트 및 알루미늄 설페이트 등과 같은 황산염으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있고, 구체적인 예로 칼슘 클로라이드 또는 칼슘 나이트레이트일 수 있다. The coagulants include metal halides such as barium chloride, calcium chloride, magnesium chloride, zinc chloride, and aluminum chloride; nitrates such as barium nitrate, calcium nitrate and zinc nitrate; Acetate salts such as barium acetate, calcium acetate and zinc acetate; and sulfate such as calcium sulfate, magnesium sulfate, and aluminum sulfate. Specific examples may include calcium chloride or calcium nitrate.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (S10) 단계는 딥 성형틀에 응고제를 부착시키기 위해, 딥 성형틀을 응고제 용액에 1 분 이상, 1분 내지 10분, 또는 1분 내지 5분 동안 담그고, 꺼낸 후 70 ℃ 내지 150 ℃, 70 ℃ 내지 130 ℃, 또는 70 ℃ 내지 100 ℃ 에서 건조시키는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, according to one embodiment of the present invention, in the step (S10), in order to attach the coagulant to the dip molding mold, the dip molding mold is placed in the coagulant solution for at least 1 minute, 1 minute to 10 minutes, or 1 minute to 5 minutes. It may further include soaking for a while, taking it out, and then drying it at 70°C to 150°C, 70°C to 130°C, or 70°C to 100°C.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (S20) 단계는 딥 성형층을 형성시키기 위하여 응고제를 부착시킨 딥 성형틀을 제1 딥 성형용 라텍스 조성물에 침지하고, 꺼내어 딥 성형틀에 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 형성시키는 단계일 수 있다. 구체적인 예로 상기 (S20) 단계는 필요에 따라 2회 이상, 2회 내지 12회, 또는 2회 내지 10회를 반복하여 실시될 수 있고, 이 경우 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 더욱 견고히 하여 딥 성형품의 인장특성 및 내구성 등의 기계적 물성이 우수한 효과가 있다.According to one embodiment of the present invention, in the step (S20), a dip mold to which a coagulant is attached to form a dip molding layer is immersed in the first dip molding latex composition, taken out, and first dip molded in the dip mold. This may be a step of forming a layer derived from the latex composition. As a specific example, the step (S20) may be repeated 2 or more times, 2 to 12 times, or 2 to 10 times as necessary, and in this case, the layer derived from the first dip molding latex composition is further strengthened. It has excellent mechanical properties such as tensile properties and durability of dip molded products.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (S20) 단계는 딥 성형틀에 딥 성형층을 형성시키기 위해, 응고제가 부착된 딥 성형틀을 제1 딥 성형용 라텍스 조성물에 1 분 이상, 1분 내지 10분, 또는 1분 내지 5분 동안 담그고, 꺼낸 후 70 ℃ 내지 150 ℃, 70 ℃ 내지 130 ℃, 또는 70 ℃ 내지 100 ℃ 에서 건조시키는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, according to one embodiment of the present invention, in the step (S20), in order to form a dip molding layer in the dip molding mold, the dip molding mold with the coagulant attached is dipped in the first dip molding latex composition for 1 minute or more. It may further include soaking for 1 minute to 10 minutes, or 1 minute to 5 minutes, taking it out, and drying it at 70°C to 150°C, 70°C to 130°C, or 70°C to 100°C.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (S20) 단계의 제1 딥 성형용 라텍스 조성물은 니트릴계 공중합체를 중합시키거나, 카르본산 변성 니트릴계 공중합체를 중합시켜 니트릴계 공중합체 라텍스, 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 제조하는 단계(S21); 및 상기 (S21) 단계에서 제조된 니트릴계 공중합체 라텍스, 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스에, 페놀계 유화제, 가교제 조성물 및 대전방지 중합체를 투입하고 혼합하는 단계(S22)를 포함하여 제조될 수 있다.Meanwhile, according to one embodiment of the present invention, the first dip molding latex composition in the step (S20) is produced by polymerizing a nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer to form a nitrile-based copolymer latex, or preparing a carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex (S21); And a step (S22) of adding and mixing a phenol-based emulsifier, a cross-linking agent composition, and an antistatic polymer to the nitrile-based copolymer latex or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex prepared in step (S21). You can.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (S21) 단계의 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 중합은 유화 중합에 의해 실시될 수 있다. 상기 중합은 상기 단량체 혼합물의 중합에 의해 실시될 수 있고, 상기 단량체 혼합물에 포함되는 각 단량체는 앞서 언급한 단량체의 종류 및 함량으로 투입될 수 있고, 일괄 투입, 또는 연속적으로 투입할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the polymerization of the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer in step (S21) may be performed by emulsion polymerization. The polymerization may be carried out by polymerizing the monomer mixture, and each monomer included in the monomer mixture may be added in the type and amount of the monomer mentioned above, and may be added all at once or continuously.

한편, 상기 (S21) 단계의 중합 시, 단량체 혼합물은 중합에 앞서 동시에 중합 반응기에 투입할 수도 있고, 단량체 혼합물 중 일부를 중합 반응기에 1차 투입하고, 중합 개시 후 잔여 단량체 혼합물을 투입하는 등에 의해 실시될 수 있다. 상기와 같이, 단량체 혼합물을 분할하여 투입하는 경우, 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 내 각 단량체로부터 유래된 단량체 유래 반복단위가 형성될 때, 각 단량체 별 반응 속도 차이에 의한 단량체의 분포를 균일화할 수 있고, 이에 따라, 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체를 포함하여 제조된 딥 성형품의 물성 간의 밸런스를 향상시키는 효과가 있다. 또한, 상기 (S21) 단계의 중합 시, 상기 중합은 상기 단량체 혼합물과 함께, 글리시딜에테르계 화합물을 함께 투입하여 실시될 수 있고, 이 경우 상기 (S21) 단계의 중합에 의해 제조된 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 내에 글리시딜에테르계 화합물 유래 가교부가 형성될 수 있다.Meanwhile, during the polymerization in step (S21), the monomer mixture may be simultaneously introduced into the polymerization reactor prior to polymerization, or a portion of the monomer mixture may be first introduced into the polymerization reactor, and the remaining monomer mixture may be added after the start of polymerization. It can be implemented. As described above, when the monomer mixture is divided and added, when repeating units derived from each monomer in the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer are formed, the monomer The distribution can be made uniform, and thus, there is an effect of improving the balance between the physical properties of dip molded products manufactured including a nitrile-based copolymer or a carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer. In addition, during the polymerization in the (S21) step, the polymerization may be performed by adding a glycidyl ether-based compound together with the monomer mixture. In this case, the nitrile-based compound prepared by the polymerization in the (S21) step A cross-linked portion derived from a glycidyl ether-based compound may be formed in the copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 중합은 유화제, 중합 개시제, 활성화제 및 분자량 조절제 등의 존재 하에 실시될 수 있다.Additionally, according to one embodiment of the present invention, polymerization of the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer may be carried out in the presence of an emulsifier, a polymerization initiator, an activator, and a molecular weight regulator.

상기 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 중합이 유화제를 포함하여 실시되는 경우, 상기 유화제는 일례로 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제 및 양성 계면활성제로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있고, 구체적인 예로 알킬벤젠술폰산염, 지방족 술폰산염, 고급 알코올 황산 에스테르염, α-올레핀 술폰산염 및 알킬 에테르 황산 에스테르염으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 음이온성 계면활성제일 수 있다.When the polymerization of the nitrile-based copolymer or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is carried out including an emulsifier, the emulsifier is, for example, a group consisting of an anionic surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, and an amphoteric surfactant. It may be one or more types selected from, and specific examples may be one or more anionic surfactants selected from the group consisting of alkylbenzene sulfonates, aliphatic sulfonates, higher alcohol sulfuric acid ester salts, α-olefin sulfonates, and alkyl ether sulfuric acid ester salts. there is.

상기 유화제는 단량체 혼합물 전체 함량 100 중량부에 대하여 0.3 중량부 내지 10 중량부, 0.8 중량부 내지 8 중량부, 또는 1.5 중량부 내지 8 중량부로 투입될 수 있고, 이 범위 내에서 중합 안정성이 우수하고, 거품 발생량이 적어 성형품의 제조가 용이한 효과가 있다.The emulsifier may be added in an amount of 0.3 to 10 parts by weight, 0.8 to 8 parts by weight, or 1.5 to 8 parts by weight based on 100 parts by weight of the total monomer mixture, and within this range, polymerization stability is excellent. , the amount of foam generated is small, which makes it easy to manufacture molded products.

또한, 상기 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 중합이 중합 개시제를 포함하여 실시되는 경우, 상기 중합 개시제는 과황산나트륨, 과항산칼륨, 과황산암모늄, 과인산칼륨 및 과산화수소 등과 같은 무기과산화물; t-부틸 퍼옥사이드, 큐멘 하이드로 퍼옥사이드, p-멘탄하이드로 퍼옥사이드, 디-t-부틸 퍼옥사이드, t-부틸쿠밀 퍼옥사이드, 아세틸 퍼옥사이드, 이소부틸 퍼옥사이드, 옥타노일 퍼옥사이드, 디벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸헥산올 퍼옥사이드 및 t-부틸 퍼옥시 이소부틸레이트 등과 같은 유기 과산화물; 아조비스 이소부티로니트릴, 아조비스-2,4-디메틸발레로 니트릴, 아조비스시클로헥산카르보니트릴 및 아조비스 이소낙산(부틸산) 메틸 등과 같은 질소 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있고, 구체적인 예로 무기과산화물일 수 있으며, 보다 구체적인 예로 과황산염일 수 있다. In addition, when the polymerization of the nitrile-based copolymer or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is carried out including a polymerization initiator, the polymerization initiator may be an inorganic peroxide such as sodium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, potassium perphosphate, and hydrogen peroxide. ; t-butyl peroxide, cumene hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, acetyl peroxide, isobutyl peroxide, octanoyl peroxide, dibenzoyl peroxide oxide, organic peroxides such as 3,5,5-trimethylhexanol peroxide and t-butyl peroxy isobutyrate; It may be one or more selected from the group consisting of nitrogen compounds such as azobisisobutyronitrile, azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexanecarbonitrile, and methyl azobisisobutyric acid (butyric acid), A specific example may be an inorganic peroxide, and a more specific example may be persulfate.

상기 중합 개시제는 상기 단량체 혼합물 전체 함량 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 2 중량부, 0.02 중량부 내지 1.5 중량부, 또는 0.05 중량부 내지 1 중량부로 투입될 수 있고, 이 범위 내에서 중합 속도의 조절이 용이한 효과가 있다.The polymerization initiator may be added in an amount of 0.01 parts by weight to 2 parts by weight, 0.02 parts by weight to 1.5 parts by weight, or 0.05 parts by weight to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the total content of the monomer mixture, and within this range, the polymerization rate It has an effect that is easy to control.

또한, 상기 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 중합이 분자량 조절제를 포함하여 실시되는 경우, 상기 분자량 조절제는 일례로 α-메틸스티렌다이머; t-도데실머캅탄, n-도데실머캅탄 및 옥틸머캅탄 등과 같은 머캅탄류; 사염화탄소, 염화메틸렌 및 브롬화메틸렌 등과 같은 할로겐화 탄화수소; 테트라에틸 티우람 다이설파이드, 디펜타메틸렌 티우람 다이설파이드 및 디이소프로필크산토겐 다이설파이드 등과 같은 황 함유 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상일 수 있고, 구체적인 예로 머캅탄류이며, 보다 더 구체적인 예로 t-도데실머캅탄일 수 있다. 상기 분자량 조절제는 단량체 혼합물 전체 함량 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 내지 2 중량부, 0.2 중량부 내지 1.5 중량부, 또는 0.3 중량부 내지 1.0 중량부로 투입될 수 있고, 이 범위 내에서 중합 안정성이 우수하고, 중합 후 성형품 제조 시, 성형품의 물성이 뛰어난 효과가 있다.In addition, when the polymerization of the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is carried out including a molecular weight regulator, the molecular weight regulator is, for example, α-methylstyrene dimer; mercaptans such as t-dodecyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, and octyl mercaptan; halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, methylene chloride, and methylene bromide; It may be one or two or more types selected from the group consisting of sulfur-containing compounds such as tetraethyl thiuram disulfide, dipentamethylene thiuram disulfide, and diisopropylxanthogen disulfide, and specific examples include mercaptans. A specific example may be t-dodecyl mercaptan. The molecular weight regulator may be added in an amount of 0.1 to 2 parts by weight, 0.2 to 1.5 parts by weight, or 0.3 to 1.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the total monomer mixture, and within this range, polymerization stability is excellent. And when manufacturing molded products after polymerization, the physical properties of the molded products are excellent.

또한, 상기 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 중합이 활성화제를 포함하여 실시되는 경우, 상기 활성화제는 소디움포름알데히드, 설폭실레이트, 소디움에틸렌디아민 테르라아세테이트, 황산 제1철, 덱스트로오스, 피롤린산나트륨 및 아황산나트륨으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다. In addition, when the polymerization of the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is carried out including an activator, the activator may be sodium formaldehyde, sulfoxylate, sodium ethylenediamine teraacetate, or ferrous sulfate. , it may be one or more selected from the group consisting of dextrose, sodium pyrrolate, and sodium sulfite.

상기 활성화제는 단량체 혼합물 전체 함량 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 5.0 중량부, 0.01 중량부 내지 3 중량부, 또는 0.01 중량부 내지 2.0 중량부로 투입될 수 있고, 이 범위 내에서 중합 속도를 적정 수준으로 유지할 수 있는 효과가 있다.The activator may be added in an amount of 0.01 parts by weight to 5.0 parts by weight, 0.01 parts by weight to 3 parts by weight, or 0.01 parts by weight to 2.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the total content of the monomer mixture, and the polymerization rate is optimized within this range. It has the effect of maintaining the level.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 중합은 매질로서 물, 구체적인 예로 탈이온수에서 실시될 수 있고, 중합 용이성 확보를 위해, 필요에 따라 킬레이트제, 분산제, pH 조절제, 탈산소제, 입경 조절제, 노화 방지제 및 산소 포착제 등과 같은 첨가제를 더 포함하여 실시될 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the polymerization of the nitrile-based copolymer or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer may be carried out in water as a medium, for example, deionized water, and to ensure ease of polymerization, as necessary. It may be carried out by further including additives such as chelating agents, dispersants, pH adjusters, deoxidizers, particle size adjusters, anti-aging agents, and oxygen scavengers.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 유화제, 중합 개시제, 분자량 조절제, 첨가제 등은 상기 단량체 혼합물과 같이 중합 반응기에 일괄 투입, 또는 분할 투입될 수 있고, 각 투입 시 연속적으로 투입될 수도 있다.According to one embodiment of the present invention, the emulsifier, polymerization initiator, molecular weight regulator, additives, etc. may be added to the polymerization reactor as a bulk or divided portion, like the monomer mixture, or may be added continuously at each injection.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 니트릴계 공중합체 또는 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 중합은 10 ℃ 내지 90 ℃, 20 ℃ 내지 80 ℃, 또는 25 ℃ 내지 75 ℃의 중합 온도에서 실시될 수 있고, 이 범위 내에서 라텍스 안정성이 뛰어난 효과가 있다.In addition, according to one embodiment of the present invention, the polymerization of the nitrile-based copolymer or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer is carried out at a polymerization temperature of 10 ℃ to 90 ℃, 20 ℃ to 80 ℃, or 25 ℃ to 75 ℃. It can be, and within this range, latex stability is excellent.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (S21) 단계는 중합 반응을 종료하여 니트릴계 공중합체 라텍스 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 수득하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 중합 반응의 종료는 중합 전환율이 90% 이상, 90% 내지 99.9%, 또는 93% 내지 99%인 시점에서 실시될 수 있고, 중합 정지제, pH 조절제 및 산화방지제의 첨가에 의해 실시될 수 있다. 또한, 상기 (S21) 단계는, 상기 반응 종료 후, 탈취 농축공정에 의한 미반응 단량체 제거 단계를 더 포함할 수 있다.Meanwhile, according to one embodiment of the present invention, the step (S21) may include terminating the polymerization reaction to obtain nitrile-based copolymer latex or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex. Termination of the polymerization reaction of the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer may be carried out when the polymerization conversion rate is 90% or more, 90% to 99.9%, or 93% to 99%, and a polymerization terminator, This can be done by adding pH adjusters and antioxidants. In addition, the step (S21) may further include a step of removing unreacted monomers by a deodorizing concentration process after completion of the reaction.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제조된 니트릴계 공중합체 라텍스, 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스에 페놀계 유화제, 가교제 조성물 및 대전방지 중합체를 투입하고 혼합하는 단계(S22)가 실시될 수 있다. 상기 (S22) 단계는, 니트릴계 공중합체 라텍스 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스로부터, 딥 성형을 위한 제1 딥 성형용 라텍스 조성물을 제조하기 위한 단계일 수 있다. 이 때, 페놀계 유화제 및 대전방지 중합체의 종류 및 함량은 앞서 기재한 바와 동일한 것일 수 있다. 또한, 페놀계 유화제는 앞서 기재한 중합 시 투입되는 유화제와 상이한 것일 수 있다.In addition, according to one embodiment of the present invention, a step (S22) of adding and mixing a phenol-based emulsifier, a cross-linking agent composition, and an antistatic polymer to the prepared nitrile-based copolymer latex or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex It can be implemented. The step (S22) may be a step for producing a first latex composition for dip molding from nitrile-based copolymer latex or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex. At this time, the type and content of the phenolic emulsifier and antistatic polymer may be the same as described above. Additionally, the phenol-based emulsifier may be different from the emulsifier added during polymerization described above.

또한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 대전방지 중합체는 상기 제조된 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스에 혼합되어, 이를 포함하는 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 제조 시 미세 오염 물질에 대한 정전기적 및 물리적인 흡착을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to one embodiment of the present invention, the antistatic polymer is mixed with the prepared nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex to remove fine contaminants when manufacturing the first dip molding latex composition containing the same. It has the effect of preventing electrostatic and physical adsorption.

한편, 상기 (S22) 단계에서 투입되는 가교성 조성물은 가황제, 가황촉진제 및 산화아연으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 가교제를 포함하는 것일 수 있다.Meanwhile, the crosslinkable composition added in step (S22) may include one or more crosslinking agents selected from the group consisting of a vulcanizing agent, a vulcanization accelerator, and zinc oxide.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 가황제는 제1 딥 성형용 라텍스 조성물을 가황시키기 위한 것으로서, 분말 유황, 침강 유황, 콜로이드 유황, 표면처리된 유황 및 불용성 유황 등과 같은 유황일 수 있다. 상기 황을 포함하여 가교부를 형성하는 경우, 상기 황은 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 내 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 100 중량부(고형분 기준)를 기준으로 0.1 중량부 내지 10 중량부, 또는 1 중량부 내지 5 중량부일 수 있고, 이 범위 내에서 가교 능력이 뛰어난 효과가 있다.According to one embodiment of the present invention, the vulcanizing agent is used to vulcanize the latex composition for first dip molding, and may be sulfur such as powdered sulfur, precipitated sulfur, colloidal sulfur, surface-treated sulfur, and insoluble sulfur. When forming a crosslinking portion including sulfur, the amount of sulfur is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight (based on solid content) of the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer in the first dip molding latex composition. parts, or 1 to 5 parts by weight, and within this range, excellent crosslinking ability is achieved.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 가교제 중 가황 촉진제는 2-머캅토벤조티아졸(MBT, 2-mercaptobenzothiazole), 2,2-디티오비스벤조티아졸-2-설펜아미드(MBTS, 2,2-dithiobisbenzothiazole-2-sulfenamide), N-시클로헥실벤조티아졸-2-설펜아미드(CBS, N-cyclohexylbenzothiasole-2-sulfenamide), 2-모폴리노티오벤조티아졸(MBS, 2-morpholinothiobenzothiazole), 테트라메틸티우람 모노설피드(TMTM, tetramethylthiuram monosulfide), 테트라메틸티우람 디설피드(TMTD, tetramethylthiuram disulfide), 디에틸디티오카바메이트 아연(ZDEC, zinc diethyldithiocarbamate), 디-n-부틸디티오카바메이트 아연(ZDBC, zinc di-n-butyldithiocarbamate), 디페닐구아니딘(DPG, diphenylguanidine) 및 디-o-톨릴구아니딘(di-o-tolylguanidine)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.In addition, according to one embodiment of the present invention, the vulcanization accelerator among the crosslinking agents is 2-mercaptobenzothiazole (MBT, 2-mercaptobenzothiazole), 2,2-dithiobisbenzothiazole-2-sulfenamide (MBTS, 2 ,2-dithiobisbenzothiazole-2-sulfenamide), N-cyclohexylbenzothiazole-2-sulfenamide (CBS, N-cyclohexylbenzothiasole-2-sulfenamide), 2-morpholinothiobenzothiazole (MBS, 2-morpholinothiobenzothiazole) , tetramethylthiuram monosulfide (TMTM), tetramethylthiuram disulfide (TMTD), zinc diethyldithiocarbamate (ZDEC), di-n-butyldithiocarba It may be one or more types selected from the group consisting of zinc mate (ZDBC, zinc di-n-butyldithiocarbamate), diphenylguanidine (DPG, diphenylguanidine), and di-o-tolylguanidine (di-o-tolylguanidine).

상기 가황 촉진제를 포함하여 가교부를 형성하는 경우, 상기 가황 촉진제는 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 내 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 100 중량부(고형분 기준)를 기준으로 0.1 중량부 내지 10 중량부, 또는 0.5 중량부 내지 5 중량부일 수 있고, 이 범위 내에서 가교 능력이 뛰어난 효과가 있다.When forming a crosslinking portion including the vulcanization accelerator, the vulcanization accelerator is 0.1 part by weight based on 100 parts by weight (based on solid content) of the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer in the first dip molding latex composition. It may be from 10 parts by weight, or from 0.5 parts by weight to 5 parts by weight, and within this range, the crosslinking ability is excellent.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 가교제 중 산화 아연은, 상기 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 내에 산화아연 용액으로 혼합된 형태로 존재할 수 있고, 상기 산화아연 용액은 산화아연, 탄산암모늄, 암모니아수 및 물을 포함할 수 있으며, 상기 산화아연 용액 내 산화아연의 함량은 1 중량% 내지 20 중량%, 또는 1 중량% 내지 15 중량%일 수 있고, 이 범위 내에서 가교 능력이 뛰어나고, 라텍스 안정성이 우수하며, 제조된 딥 성형품의 인장강도 및 유연성이 뛰어난 효과가 있다.In addition, according to one embodiment of the present invention, zinc oxide among the crosslinking agents may be present in a mixed form as a zinc oxide solution in the first dip molding latex composition, and the zinc oxide solution may include zinc oxide, ammonium carbonate, and aqueous ammonia. and water, and the content of zinc oxide in the zinc oxide solution may be 1% by weight to 20% by weight, or 1% by weight to 15% by weight, and within this range, crosslinking ability is excellent and latex stability is excellent. It is excellent and has excellent tensile strength and flexibility of the manufactured dip molded product.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 니트릴계 공중합체 라텍스 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스는 유리전이온도가 -50 ℃ 내지 -15 ℃, -47 ℃ 내지 -15 ℃ 또는 -45 ℃ 내지 -20 ℃일 수 있고, 이 범위 내에서 상기 니트릴계 공중합체 라텍스 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물로부터 딥 성형된 성형품의 인장 강도 등 인장 특성의 저하 및 균열 발생을 방지하면서도, 끈적임이 적어 착용감이 우수한 효과가 있다. 상기 유리전이온도는 시차 주사 열량계(Differential Scanning Calorimetry)를 이용하여 측정된 것일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the nitrile-based copolymer latex or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex has a glass transition temperature of -50 ℃ to -15 ℃, -47 ℃ to -15 ℃, or -45 ℃ to - It may be 20°C, and within this range, deterioration of tensile properties, such as tensile strength, and occurrence of cracks in molded products dip-molded from the latex composition for dip molding containing the nitrile-based copolymer latex or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex. It has a low stickiness effect and provides excellent wearing comfort. The glass transition temperature may be measured using differential scanning calorimetry.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 니트릴계 공중합체 라텍스 내의 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 내의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 입자의 평균 입경은 100 nm 내지 500 nm, 100 nm 내지 200 nm, 또는 120 nm 내지 150 nm일 수 있고, 이 범위 내에서 상기 니트릴계 공중합체 라텍스 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 점도가 상승되지 않아 니트릴계 공중합체 라텍스 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 고농도로 제조할 수 있고, 이를 포함하는 제1 딥 성형용 라텍스 조성물로부터 딥 성형된 성형품의 인장 강도 등 인장 특성이 우수한 효과가 있다. 또한, 상기 범위 내에서 필름 형성 속도가 우수하여 시너리시스 특성이 우수한 효과가 있다. 상기 평균 입경은 레이저 분산 분석기(Laser Scattering Analyzer, Nicomp)를 이용하여 측정된 것일 수 있다.In addition, according to one embodiment of the present invention, the average particle diameter of the nitrile-based copolymer in the nitrile-based copolymer latex or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer particles in the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex is 100 nm to 500 nm, It may be 100 nm to 200 nm, or 120 nm to 150 nm, and within this range, the viscosity of the nitrile-based copolymer latex or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex does not increase, so that the nitrile-based copolymer latex or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex does not increase. Nitrile-based copolymer latex can be produced at a high concentration, and the tensile properties such as tensile strength of molded products dip molded from the first latex composition for dip molding containing it are excellent. In addition, within the above range, the film formation speed is excellent, resulting in excellent synergy characteristics. The average particle diameter may be measured using a laser scattering analyzer (Nicomp).

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제1 딥 성형용 라텍스 조성물은 일례로 고형분 함량(농도)가 10 중량% 내지 40 중량%, 15 중량% 내지 35 중량%, 또는 18 중량% 내지 33 중량%일 수 있고, 이 범위 내에서 라텍스 운송의 효율이 우수하고, 라텍스 점도의 상승을 방지하여 저장 안정성이 뛰어난 효과가 있다.In addition, according to one embodiment of the present invention, the first latex composition for dip molding has a solid content (concentration) of 10% by weight to 40% by weight, 15% by weight to 35% by weight, or 18% by weight to 33% by weight. It may be % by weight, and within this range, the efficiency of latex transportation is excellent and the storage stability is excellent by preventing an increase in latex viscosity.

또 다른 예로, 상기 제1 딥 성형용 라텍스 조성물은 pH가 8 내지 12, 9 내지 11, 또는 9.3 내지 10.5일 수 있고, 이 범위 내에서 딥 성형품 제조 시 가공성 및 생산성이 뛰어난 효과가 있다. 상기 딥 성형용 라텍스 조성물의 pH는 앞서 기재한 pH 조절제의 투입에 의해 조절될 수 있다. 상기 pH 조절제는 일례로 1 중량% 내지 5 중량% 농도의 수산화칼륨 수용액, 또는 1 중량% 내지 5 중량% 농도의 암모니아수일 수 있다.As another example, the first latex composition for dip molding may have a pH of 8 to 12, 9 to 11, or 9.3 to 10.5, and within this range, it has excellent processability and productivity when manufacturing dip molded products. The pH of the latex composition for dip molding can be adjusted by adding the pH adjuster described above. For example, the pH adjuster may be an aqueous solution of potassium hydroxide at a concentration of 1% to 5% by weight, or aqueous ammonia at a concentration of 1% to 5% by weight.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 딥 성형품의 대전방지 효과를 극대화시키기 위해, 딥 성형용 라텍스 조성물 제조 시에 대전방지 중합체를 투입하여 상기 대전방지 중합체가 포함된 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층, 즉 딥 성형층을 형성시키는 것이 아니라, 응고제가 부착된 딥 성형틀에 대전방지 중합체가 포함되지 않은 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 형성시킨 후, 대전방지 중합체 유래층을 형성시킬 수 있으며, 이 경우의 딥 성형층은 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층 및 대전방지 중합체 유래층을 포함하는 것일 수 있다.Meanwhile, according to one embodiment of the present invention, in order to maximize the antistatic effect of the dip molded product, an antistatic polymer is added when manufacturing the latex composition for dip molding to produce a first latex composition for dip molding containing the antistatic polymer. Rather than forming a derived layer, that is, a dip molding layer, a second dip molding latex composition derived layer that does not contain an antistatic polymer is formed in a dip molding mold to which a coagulant is attached, and then the antistatic polymer derived layer is formed. In this case, the dip molding layer may include a layer derived from a latex composition for dip molding and a layer derived from an antistatic polymer.

구체적인 예로, 딥 성형층이 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층 및 대전방지 중합체 유래층을 포함할 경우의 딥 성형품 제조방법은 도 1(b)에 나타낸 바와 같이 딥 성형품을 제조할 수 있으며, 보다 더 구체적인 예로, 딥 성형틀에 응고제를 부착시키는 단계(S100); 상기 응고제가 부착된 딥 성형틀을 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 및 페놀계 유화제;를 포함하는 제2 딥 성형용 라텍스 조성물에 침지하여 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 형성시키는 단계(S200); 및 상기 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층이 형성된 딥 성형틀을 대전방지 중합체를 포함하는 용액에 침지하여 대전방지 중합체 유래층을 형성시키는 단계(S300);를 포함하는 것일 수 있다.As a specific example, the method of manufacturing a dip molded product when the dip molding layer includes a layer derived from a second latex composition for dip molding and a layer derived from an antistatic polymer can produce a dip molded product as shown in FIG. 1(b). As a more specific example, attaching a coagulant to a dip mold (S100); The dip molding mold to which the coagulant is attached is filled with at least one copolymer selected from the group consisting of nitrile-based copolymers and carboxylic acid-modified nitrile-based copolymers; and a phenol-based emulsifier; forming a layer derived from the second latex composition for dip molding by immersing in the second latex composition for dip molding (S200); And it may include a step (S300) of forming an antistatic polymer-derived layer by immersing the dip molding mold on which the second dip molding latex composition-derived layer is formed in a solution containing an antistatic polymer.

상기 (S100) 단계는 딥 성형틀에 응고제를 형성시키기 위하여 딥 성형틀을 응고제 용액에 담가 딥 성형틀의 표면에 응고제를 부착시키는 단계일 수 있으며, 앞서 언급한 (S10) 단계와 동일한 방법으로 실시될 수 있다.The step (S100) may be a step of attaching the coagulant to the surface of the dip mold by immersing the dip mold in a coagulant solution to form a coagulant in the dip mold, and is carried out in the same manner as the previously mentioned step (S10). It can be.

상기 (S200) 단계는 딥 성형층을 형성시키기 위하여 응고제를 부착시킨 딥 성형틀을 제2 딥 성형용 라텍스 조성물에 침지하고, 꺼내어 딥 성형틀에 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 형성시키는 단계일 수 있으며, 앞서 언급한 (S20) 단계와 동일한 방법으로 실시될 수 있다.The step (S200) is a step of immersing a dip mold to which a coagulant is attached in order to form a dip molding layer into the second dip molding latex composition, taking it out, and forming a layer derived from the second dip molding latex composition in the dip molding mold. It may be performed in the same manner as the step (S20) mentioned above.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (S200) 단계의 제2 딥 성형용 라텍스 조성물은 니트릴계 공중합체를 중합시키거나, 카르본산 변성 니트릴계 공중합체를 중합시켜 니트릴계 공중합체 라텍스, 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 제조하는 단계(S201); 및 상기 (S201) 단계에서 제조된 니트릴계 공중합체 라텍스, 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스에, 페놀계 유화제 및 가교제 조성물을 투입하고 혼합하는 단계(S202)를 포함하여 제조될 수 있다. 상기 (S201) 단계는 앞서 언급한 (S21)단계와, 상기 (S202) 단계는 앞서 언급한 (S22) 단계와 동일한 방법으로 실시될 수 있다.Meanwhile, according to one embodiment of the present invention, the second latex composition for dip molding in the step (S200) is produced by polymerizing a nitrile-based copolymer or polymerizing a carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer to form a nitrile-based copolymer latex, Or preparing a carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex (S201); and a step (S202) of adding and mixing a phenol-based emulsifier and a cross-linking agent composition to the nitrile-based copolymer latex or the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex prepared in the step (S201). The step (S201) may be performed in the same manner as the step (S21) mentioned above, and the step (S202) may be performed in the same manner as the step (S22) mentioned above.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (S300) 단계는 딥 성형층을 형성시키기 위하여 상기 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층이 형성된 딥 성형틀을 대전방지 중합체 용액에 침지하고, 꺼내어 딥 성형틀에 대전방지 중합체 유래층을 형성시키는 단계일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, in the step (S300), in order to form a dip molding layer, the dip molding mold on which the layer derived from the second dip molding latex composition is formed is immersed in an antistatic polymer solution, taken out, and placed in the dip molding mold. This may be a step of forming an antistatic polymer-derived layer.

상기 (S300) 딥 성형틀에 딥 성형층을 형성시키기 위해, 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층이 형성된 딥 성형틀을 상기 대전방지 중합체 용액에 1 분 이내, 1초 내지 30초, 또는 1초 내지 10초 동안 담그고, 꺼낸 후 30 ℃ 내지 70 ℃, 30 ℃ 내지 60 ℃, 또는 35 ℃ 내지 55 ℃ 에서 건조시키는 단계를 더 포함할 수 있다.In order to form a dip molding layer in the (S300) dip molding mold, the dip molding mold on which the second dip molding latex composition-derived layer is formed is placed in the antistatic polymer solution for less than 1 minute, 1 second to 30 seconds, or 1 second. It may further include dipping for 10 to 10 seconds, taking it out, and drying it at 30°C to 70°C, 30°C to 60°C, or 35°C to 55°C.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (S20) 단계 또는 (S300) 단계는 침지 후, 딥 성형틀에 부착된 딥 성형층을 온전히 형성시키기 위해 건조 및 가열시키는 단계를 더 포함할 수 있고, 상기 건조 및 가열 중, 물 등의 액체 성분이 먼저 증발하고 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 또는 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 내의 니트릴계 공중합체 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체와, 가교제 간의 가교 반응을 통한 경화가 실시될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the step (S20) or step (S300) may further include drying and heating to completely form the dip molding layer attached to the dip molding mold after immersion, During drying and heating, liquid components such as water first evaporate, and then through a crosslinking reaction between the nitrile-based copolymer or carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer in the first or second dip molding latex composition and the crosslinking agent. Curing may be effected.

이후, 가열 처리에 의해 가교된 딥 성형층을 딥 성형틀로부터 벗겨내어 딥 성형품을 수득할 수 있다.Thereafter, the dip molded layer crosslinked by heat treatment can be peeled off from the dip mold to obtain a dip molded product.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 성형품은 수술용 장갑, 검사용 장갑, 산업용 장갑 및 가정용 장갑 등과 같은 장갑, 콘돔, 카테터, 또는 건강 관리용품일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the molded article may be a glove such as surgical gloves, examination gloves, industrial gloves, and household gloves, condoms, catheters, or health care products.

이하, 실시예에 의하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 통상의 기술자에게 있어서 명백한 것이며, 이들 만으로 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. However, the following examples are intended to illustrate the present invention, and it is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications are possible within the scope and spirit of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these alone.

실시예Example

실시예 1Example 1

<딥 성형용 라텍스 조성물 제조><Manufacture of latex composition for dip molding>

교반기, 온도계, 냉각기, 질소 가스의 인입구와 단량체, 유화제 및 중합 개시제를 연속적으로 투입할 수 있도록 투입구가 구비된 10L 고압 반응기를 질소로 치환한 후, 반응기에 아크릴로니트릴 25 중량%, 1,3-부타디엔 70 중량% 및 메타크릴산 5 중량%로 구성된 단량체 혼합물과, 상기 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 도데실 벤젠 술폰산 나트륨 2.5 중량부, t-도데실 머캅탄 0.5 중량부 및 물 140 중량부를 투입하고 40 ℃까지 승온시켰다. 반응기의 온도가 40 ℃에 도달한 후, 중합 개시제인 과황산칼륨 0.25 중량부를 투입하여 중합을 실시하였고, 중합 전환율이 95%인 시점에서, 소듐 디메틸 디티오 카바메이트 0.1 중량부를 투입하여 중합을 정지시켰다. 이어서, 탈취 공정을 통해 미반응 단량체를 제거하였고, 암모니아수, 산화방지제 및 소포제를 첨가하여 고형분 농도 45 중량%, pH 8.5의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 수득하였다. 이 때, 제조된 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 유리전이온도는 -30 ℃이었고, 라텍스 내 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 평균 입경은 120 nm이었다.A 10L high-pressure reactor equipped with a stirrer, thermometer, cooler, nitrogen gas inlet, and an inlet for continuously introducing monomers, emulsifiers, and polymerization initiators was replaced with nitrogen, and then 25% by weight of acrylonitrile, 1,3% by weight, was added to the reactor. -A monomer mixture consisting of 70% by weight of butadiene and 5% by weight of methacrylic acid, and 2.5 parts by weight of sodium dodecyl benzene sulfonate, 0.5 parts by weight of t-dodecyl mercaptan, and 140 parts by weight of water were added to 100 parts by weight of the monomer mixture. And the temperature was raised to 40°C. After the temperature of the reactor reached 40°C, polymerization was performed by adding 0.25 parts by weight of potassium persulfate, a polymerization initiator, and when the polymerization conversion rate was 95%, 0.1 parts by weight of sodium dimethyl dithiocarbamate was added to stop the polymerization. I ordered it. Subsequently, unreacted monomers were removed through a deodorization process, and ammonia water, antioxidants, and antifoaming agents were added to obtain carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex with a solid content of 45% by weight and pH of 8.5. At this time, the glass transition temperature of the prepared carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex was -30°C, and the average particle diameter of the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer in the latex was 120 nm.

이어서, 상기 수득된 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 100 중량부(고형분 기준)에, 1.25 중량% 농도의 수산화칼륨 용액 2 중량부, 페놀계 유화제(TSP-16, steppan) 0.5 중량부, 유황 분말 1.2 중량부, 디-n-부틸디티오카바메이트 아연 0.7 중량부, PEDOT:PSS 0.1 중량부 및 2차 증류수를 투입하여 고형분 농도 18 중량%, pH 10.0의 딥 성형용 라텍스 조성물을 수득하였다. Next, to 100 parts by weight (based on solid content) of the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex obtained above, 2 parts by weight of a potassium hydroxide solution with a concentration of 1.25% by weight, 0.5 parts by weight of a phenol-based emulsifier (TSP-16, steppan), and sulfur powder 1.2 parts by weight, 0.7 parts by weight of zinc di-n-butyldithiocarbamate, 0.1 parts by weight of PEDOT:PSS, and double distilled water were added to obtain a latex composition for dip molding with a solid content concentration of 18% by weight and a pH of 10.0.

<딥 성형품 제조><Manufacture of deep molded products>

18 중량부의 칼슘 나이트레이트, 81.5 중량부의 물, 0.5 중량부의 습윤제(Teric 320, Huntsman Corporation, Australia)를 혼합하여 응고제 용액을 제조하였다. 상기 제조된 응고제 용액에 손 모양의 세라믹 몰드를 3 분간 담그고, 꺼낸 후 80 ℃에서 4 분간 건조하여 응고제를 손 모양의 몰드에 도포시켰다.A coagulant solution was prepared by mixing 18 parts by weight of calcium nitrate, 81.5 parts by weight of water, and 0.5 parts by weight of a wetting agent (Teric 320, Huntsman Corporation, Australia). The hand-shaped ceramic mold was immersed in the prepared coagulant solution for 3 minutes, taken out, dried at 80°C for 4 minutes, and the coagulant was applied to the hand-shaped mold.

그 후, 응고제가 도포된 몰드를 상기 수득한 딥 성형용 라텍스 조성물에 3 분간 담그고, 꺼낸 후 80 ℃에서 2 분간 건조하였다. 이어서, 상기 손 모양의 몰드를 상기 단량체 용액에 3 분간 담그고, 꺼낸 후 40 ℃에서 10 분간 건조하고, 딥 성형품을 손 모양의 몰드로부터 벗겨내어 장갑 형태의 딥 성형품을 수득하였다.Thereafter, the mold to which the coagulant was applied was immersed in the obtained latex composition for dip molding for 3 minutes, taken out, and dried at 80° C. for 2 minutes. Next, the hand-shaped mold was immersed in the monomer solution for 3 minutes, taken out and dried at 40° C. for 10 minutes, and the dip molded product was peeled off from the hand-shaped mold to obtain a glove-shaped dip molded product.

실시예 2Example 2

<딥 성형용 라텍스 조성물 제조><Manufacture of latex composition for dip molding>

교반기, 온도계, 냉각기, 질소 가스의 인입구와 단량체, 유화제 및 중합 개시제를 연속적으로 투입할 수 있도록 투입구가 구비된 10L 고압 반응기를 질소로 치환한 후, 반응기에 아크릴로니트릴 25 중량%, 1,3-부타디엔 70 중량% 및 메타크릴산 5 중량%로 구성된 단량체 혼합물과, 상기 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 도데실 벤젠 술폰산 나트륨 2.5 중량부, t-도데실 머캅탄 0.5 중량부 및 물 140 중량부를 투입하고 40 ℃까지 승온시켰다. 반응기의 온도가 40 ℃에 도달한 후, 중합 개시제인 과황산칼륨 0.25 중량부를 투입하여 중합을 실시하였고, 중합 전환율이 95%인 시점에서, 소듐 디메틸 디티오 카바메이트 0.1 중량부를 투입하여 중합을 정지시켰다. 이어서, 탈취 공정을 통해 미반응 단량체를 제거하였고, 암모니아수, 산화방지제 및 소포제를 첨가하여 고형분 농도 45 중량%, pH 8.5의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 수득하였다. 이 때, 제조된 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 유리전이온도는 -30 ℃이었고, 라텍스 내 카르본산 변성 니트릴계 공중합체의 평균 입경은 120 nm이었다.A 10L high-pressure reactor equipped with a stirrer, thermometer, cooler, nitrogen gas inlet, and an inlet for continuously introducing monomers, emulsifiers, and polymerization initiators was replaced with nitrogen, and then 25% by weight of acrylonitrile, 1,3% by weight, was added to the reactor. -A monomer mixture consisting of 70% by weight of butadiene and 5% by weight of methacrylic acid, and 2.5 parts by weight of sodium dodecyl benzene sulfonate, 0.5 parts by weight of t-dodecyl mercaptan, and 140 parts by weight of water were added to 100 parts by weight of the monomer mixture. And the temperature was raised to 40°C. After the temperature of the reactor reached 40°C, polymerization was performed by adding 0.25 parts by weight of potassium persulfate, a polymerization initiator, and when the polymerization conversion rate was 95%, 0.1 parts by weight of sodium dimethyl dithiocarbamate was added to stop the polymerization. I ordered it. Subsequently, unreacted monomers were removed through a deodorization process, and ammonia water, antioxidants, and antifoaming agents were added to obtain carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex with a solid content of 45% by weight and pH of 8.5. At this time, the glass transition temperature of the prepared carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex was -30°C, and the average particle diameter of the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer in the latex was 120 nm.

이어서, 상기 수득된 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 100 중량부(고형분 기준)에, 1.25 중량% 농도의 수산화칼륨 용액 2 중량부, 페놀계 유화제(TSP-16, steppan) 0.5 중량부, 유황 분말 1.2 중량부, 디-n-부틸디티오카바메이트 아연 0.7 중량부 및 2차 증류수를 투입하여 고형분 농도 18 중량%, pH 10.0의 딥 성형용 라텍스 조성물을 수득하였다. Next, to 100 parts by weight (based on solid content) of the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex obtained above, 2 parts by weight of a potassium hydroxide solution with a concentration of 1.25% by weight, 0.5 parts by weight of a phenol-based emulsifier (TSP-16, steppan), and sulfur powder 1.2 parts by weight, 0.7 parts by weight of zinc di-n-butyldithiocarbamate, and double distilled water were added to obtain a latex composition for dip molding with a solids concentration of 18% by weight and a pH of 10.0.

<딥 성형품 제조><Manufacture of deep molded products>

18 중량부의 칼슘 나이트레이트, 81.5 중량부의 물, 0.5 중량부의 습윤제(Teric 320, Huntsman Corporation, Australia)를 혼합하여 응고제 용액을 제조하였다. 상기 제조된 응고제 용액에 손 모양의 세라믹 몰드를 3 분간 담그고, 꺼낸 후 80 ℃에서 4 분간 건조하여 응고제를 손 모양의 몰드에 도포시켰다.A coagulant solution was prepared by mixing 18 parts by weight of calcium nitrate, 81.5 parts by weight of water, and 0.5 parts by weight of a wetting agent (Teric 320, Huntsman Corporation, Australia). The hand-shaped ceramic mold was immersed in the prepared coagulant solution for 3 minutes, taken out, dried at 80°C for 4 minutes, and the coagulant was applied to the hand-shaped mold.

그 후, 응고제가 도포된 몰드를 상기 수득한 딥 성형용 라텍스 조성물에 3 분간 담그고, 꺼낸 후 80 ℃에서 2 분간 건조하였다. 이어서, 상기 손 모양의 몰드를 상기 단량체 용액에 3 분간 담그고, 꺼낸 후 40 ℃에서 10 분간 건조하고, PEDOT:PSS 1% 수용액에 3초간 담그고 꺼낸 후 45 ℃에서 10 분간 건조하고, 딥 성형품을 손 모양의 몰드로부터 벗겨내어 장갑 형태의 딥 성형품을 수득하였다.Thereafter, the mold to which the coagulant was applied was immersed in the obtained latex composition for dip molding for 3 minutes, taken out, and dried at 80° C. for 2 minutes. Then, the hand-shaped mold was dipped into the monomer solution for 3 minutes, taken out and dried at 40°C for 10 minutes, dipped into a PEDOT:PSS 1% aqueous solution for 3 seconds, taken out and dried at 45°C for 10 minutes, and the dip molded product was hand dried. A glove-shaped dip molded product was obtained by peeling it from the shaped mold.

실시예 3Example 3

실시예 1에서, 딥 성형용 라텍스 조성물 제조 시, 페놀계 유화제(TSP-16, steppan) 0.5 중량부 대신 페놀계 유화제(TSP-2850, steppan) 0.5 중량부를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.In Example 1, when preparing a latex composition for dip molding, 0.5 parts by weight of a phenolic emulsifier (TSP-2850, Steppan) was used instead of 0.5 parts by weight of a phenolic emulsifier (TSP-16, Steppan). The same as Example 1. It was carried out using this method.

실시예 4Example 4

실시예 2에서, 딥 성형용 라텍스 조성물 제조 시, 페놀계 유화제(TSP-16, steppan) 0.5 중량부 대신 페놀계 유화제(TSP-2850, steppan) 0.5 중량부를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.In Example 2, when preparing a latex composition for dip molding, 0.5 parts by weight of a phenolic emulsifier (TSP-2850, Steppan) was used instead of 0.5 parts by weight of a phenolic emulsifier (TSP-16, Steppan). The same as Example 1. It was carried out using this method.

실시예 5Example 5

실시예 1에서, 딥 성형용 라텍스 조성물 제조 시, PEDOT:PSS 0.1 중량부 대신 1 중량부를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.In Example 1, the latex composition for dip molding was prepared in the same manner as Example 1, except that 1 part by weight of PEDOT:PSS was used instead of 0.1 part by weight.

실시예 6Example 6

실시예 1에서, 딥 성형용 라텍스 조성물 제조 시, PEDOT:PSS 0.1 중량부 대신 1.5 중량부를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.In Example 1, the latex composition for dip molding was prepared in the same manner as Example 1, except that 1.5 parts by weight of PEDOT:PSS was used instead of 0.1 parts by weight.

비교예 1 Comparative Example 1

실시예 1에서, 딥 성형용 라텍스 조성물 제조 시, 페놀계 유화제(TSP-16, steppan) 및 PEDOT:PSS를 사용하지 않고 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.In Example 1, the latex composition for dip molding was prepared in the same manner as Example 1 without using a phenol-based emulsifier (TSP-16, steppan) and PEDOT:PSS.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1에서, 딥 성형용 라텍스 조성물 제조 시, 페놀계 유화제(TSP-16, steppan)를 사용하지 않고 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.In Example 1, the latex composition for dip molding was prepared in the same manner as Example 1 without using a phenol-based emulsifier (TSP-16, steppan).

비교예 3Comparative Example 3

실시예 1에서, 딥 성형용 라텍스 조성물 제조 시, PEDOT:PSS를 사용하지 않고 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.In Example 1, the latex composition for dip molding was prepared in the same manner as Example 1 without using PEDOT:PSS.

실험예Experiment example

상기 실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 각각의 딥 성형품의 물성을 비교하기 위해 표면저항, 인장강도, 신장율, 300% 및 500%에서의 응력을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.To compare the physical properties of each dip molded product manufactured in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3, surface resistance, tensile strength, elongation, and stress at 300% and 500% were measured and are shown in Table 1 below. .

*표면저항[MΩ/sq]: 상온에서 PROSTAT사의 PRS-801 측정장치를 이용하여 측정하였다.*Surface resistance [MΩ/sq]: Measured using PROSTAT's PRS-801 measuring device at room temperature.

* 인장강도(MPa), 신장율, 신장율 300%에서의 응력(MPa) 및 신장율 500%에서의 응력(MPa): EN 455-2에 준하여 덤벨형상의 시편을 제작하였다. 이어서 이 시편을 신장속도 500mm/분으로 끌어당기고, 신장율이 각각 300%, 500% 일 때의 응력 및 파단시의 인장강도를 측정하였다.* Tensile strength (MPa), elongation, stress at 300% elongation (MPa), and stress at 500% elongation (MPa): A dumbbell-shaped specimen was produced in accordance with EN 455-2. This specimen was then pulled at an elongation rate of 500 mm/min, and the stress and tensile strength at break were measured when the elongation rates were 300% and 500%, respectively.

구분division 실시예Example 비교예Comparative example 1One 22 33 44 55 66 1One 22 33 표면저항
(MΩ/sq)
surface resistance
(MΩ/sq)
11.211.2 0.530.53 13.013.0 0.610.61 3.33.3 3.13.1 2020
인장강도
(MPa)
tensile strength
(MPa)
33.25133.251 36.51736.517 33.00533.005 36.28236.282 30.49430.494 31.05131.051 34.47734.477 31.62331.623 35.31135.311
300% 모듈러스
(MPa)
300% modulus
(MPa)
5.2305.230 6.2516.251 5.1965.196 6.0406.040 4.8874.887 4.7994.799 5.5875.587 5.9225.922 5.4625.462
500% 모듈러스
(MPa)
500% modulus
(MPa)
12.04112.041 14.72414.724 12.32412.324 14.62214.622 11.27411.274 11.81211.812 13.29713.297 14.05414.054 12.87112.871

상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 딥 성형품 제조 시 페놀계 유화제 및 대전방지 중합체를 모두 포함한 실시예는 페놀계 유화제 및 대전방지 중합체 중 어느 하나를 포함하지 않은 비교예와 비교 시, 동등 또는 그 이상 수준의 인장특성을 나타내는 것을 확인할 수 있었다.As shown in Table 1, the Examples including both the phenol-based emulsifier and the antistatic polymer when manufacturing dip molded products were at an equivalent or higher level when compared to the Comparative Examples that did not include either the phenolic emulsifier or the antistatic polymer. It was confirmed that the tensile properties of

한편, 본 발명에 따라 제조된 실시예 1 내지 6의 경우 딥 성형품 제조 시에 페놀계 유화제 및 대전방지 중합체를 모두 포함하여 딥 성형품 표면의 전기 저항을 작게 하여 정전기 발생을 방지하는 것을 확인할 수 있었다.Meanwhile, in the case of Examples 1 to 6 manufactured according to the present invention, it was confirmed that the inclusion of both a phenol-based emulsifier and an antistatic polymer reduced the electrical resistance of the surface of the dip molded product and prevented the generation of static electricity.

반면, 대전방지 중합체를 포함하지 않은 비교예 1 및 비교예 3의 경우 딥 성형품 표면의 전기 저항이 무한대로서 제조된 딥 성형품이 부전도성을 나타내는 것을 확인할 수 있으며, 대전방지 중합체는 포함하나 페놀계 유화제를 포함하지 않은 비교예 2의 경우, 페놀계 유화제 및 대전방지 중합체를 모두 포함하여 제조된 실시예보다 표면의 전기 저항이 커 대전방지 효과가 미미한 것을 확인할 수 있었다.On the other hand, in the case of Comparative Examples 1 and 3, which do not contain an antistatic polymer, the electrical resistance of the surface of the dip molded product is infinite, confirming that the manufactured dip molded product exhibits non-conductivity, and includes an antistatic polymer but does not contain a phenol-based emulsifier. In the case of Comparative Example 2, which did not include a phenol-based emulsifier and an antistatic polymer, the electrical resistance of the surface was greater than that of the example prepared including both an antistatic polymer, and it was confirmed that the antistatic effect was minimal.

Claims (10)

니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 페놀계 유화제; 및 대전방지 중합체를 포함하며,
상기 페놀계 유화제는 하기 화학식 1로 표시되는 것인 딥 성형품:
[화학식 1]

상기 화학식 1에서, R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로, 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 탄소수 30의 선형 또는 분지형 알킬이되, R1 내지 R3 중 적어도 1개 이상은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 탄소수 30의 선형 또는 분지형 알킬이고, R은 수소; 중합 가능한 작용기; 탄소수 1 내지 탄소수 30의 알콕시기; 무기 또는 유기염; 비이온성기; 또는 할로겐이며, m은 1 내지 20의 정수이고, n은 1 내지 100의 정수이다.
At least one copolymer selected from the group consisting of nitrile-based copolymers and carboxylic acid-modified nitrile-based copolymers; Phenolic emulsifier; and an antistatic polymer,
The phenol-based emulsifier is a dip molded product represented by the following formula (1):
[Formula 1]

In Formula 1, R 1 , R 2 and R 3 are each independently hydrogen; or substituted or unsubstituted linear or branched alkyl having 1 to 30 carbon atoms, where at least one of R 1 to R 3 is substituted or unsubstituted linear or branched alkyl having 1 to 30 carbon atoms, and R silver hydrogen; Polymerizable functional group; An alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms; inorganic or organic salts; non-ionic group; or halogen, m is an integer from 1 to 20, and n is an integer from 1 to 100.
제1항에 있어서,
상기 대전방지 중합체는 폴리에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌설포네이트(PEDOT:PSS), 폴리아세틸렌, 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리파라페닐렌, 폴리페닐렌설파이드, 폴리파라페닐렌 비닐렌, 폴리아닐린으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 딥 성형품.
According to paragraph 1,
The antistatic polymer is from the group consisting of polyethylenedioxythiophene:polystyrenesulfonate (PEDOT:PSS), polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, polyparaphenylene, polyphenylene sulfide, polyparaphenylene vinylene, and polyaniline. A dip molded product containing one or more selected species.
제1항에 있어서,
상기 대전방지 중합체는 상기 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체 100 중량부에 대하여 0.005 중량부 내지 2 중량부로 포함되는 것인 딥 성형품.
According to paragraph 1,
The antistatic polymer is a dip molded product in an amount of 0.005 parts by weight to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of at least one copolymer selected from the group consisting of the nitrile-based copolymer and the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 페놀계 유화제는 하기 화학식 2로 표시되는 것인 딥 성형품:
[화학식 2]

상기 화학식 2에서, R은 수소; 중합 가능한 작용기; 탄소수 1 내지 탄소수 10의 알콕시기; 무기 또는 유기염; 비이온성기; 또는 할로겐이며, n은 1 내지 100의 정수이다.
According to paragraph 1,
The phenol-based emulsifier is a dip molded product represented by the following formula (2):
[Formula 2]

In Formula 2, R is hydrogen; Polymerizable functional group; an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; inorganic or organic salts; non-ionic group; or halogen, and n is an integer from 1 to 100.
제1항에 있어서,
상기 페놀계 유화제는 고형분 기준으로 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 100 중량부에 대하여, 0.1 중량부 내지 4 중량부로 포함되는 것인 딥 성형품.
According to paragraph 1,
A dip molded product in which the phenol-based emulsifier is contained in an amount of 0.1 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of the carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer based on solid content.
제1항에 있어서,
상기 성형품은 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 페놀계 유화제; 및 대전방지 중합체를 포함하는 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 포함하는 딥 성형품.
According to paragraph 1,
The molded article includes at least one copolymer selected from the group consisting of nitrile-based copolymers and carboxylic acid-modified nitrile-based copolymers; Phenolic emulsifier; and a first dip molding latex composition-derived layer containing an antistatic polymer.
제1항에 있어서,
상기 성형품은 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 및 페놀계 유화제를 포함하는 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층, 및 대전방지 중합체를 포함하는 대전방지 중합체 유래층을 포함하는 딥 성형품.
According to paragraph 1,
The molded article includes at least one copolymer selected from the group consisting of nitrile-based copolymers and carboxylic acid-modified nitrile-based copolymers; and a second dip molding latex composition-derived layer containing a phenol-based emulsifier, and an antistatic polymer-derived layer containing an antistatic polymer.
딥 성형틀에 응고제를 부착시키는 단계(S10); 및
상기 응고제가 부착된 딥 성형틀을 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 페놀계 유화제; 및 대전방지 중합체를 포함하는 제1 딥 성형용 라텍스 조성물에 침지하여 제1 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 형성시키는 단계(S20);를 포함하는 딥 성형품 제조방법.
Attaching a coagulant to the dip mold (S10); and
The dip molding mold to which the coagulant is attached is filled with at least one copolymer selected from the group consisting of nitrile-based copolymers and carboxylic acid-modified nitrile-based copolymers; Phenolic emulsifier; and forming a layer derived from the first latex composition for dip molding by immersing in the first latex composition for dip molding containing an antistatic polymer (S20).
딥 성형틀에 응고제를 부착시키는 단계(S100);
상기 응고제가 부착된 딥 성형틀을 니트릴계 공중합체 및 카르본산 변성 니트릴계 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 공중합체; 및 페놀계 유화제;를 포함하는 제2 딥 성형용 라텍스 조성물에 침지하여 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층을 형성시키는 단계(S200); 및
상기 제2 딥 성형용 라텍스 조성물 유래층이 형성된 딥 성형틀을 대전방지 중합체를 포함하는 용액에 침지하여 대전방지 중합체 유래층을 형성시키는 단계(S300);를 포함하는 딥 성형품 제조방법.
Attaching a coagulant to the dip mold (S100);
The dip molding mold to which the coagulant is attached is filled with at least one copolymer selected from the group consisting of nitrile-based copolymers and carboxylic acid-modified nitrile-based copolymers; and a phenol-based emulsifier; forming a layer derived from the second latex composition for dip molding by immersing in the second latex composition for dip molding (S200); and
A method for producing a dip molded product comprising a step (S300) of forming an antistatic polymer derived layer by immersing the dip mold on which the second dip molding latex composition-derived layer is formed in a solution containing an antistatic polymer.
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