KR102586129B1 - 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기에 관한 것으로, 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 반응기는, 가스 분해를 위한 구조로서, 플라즈마 방전 채널을 형성하는 복수개의 방전 튜브를 형성하기 위한 반응기 몸체; 상기 반응기 몸체에 연결되어 가스를 공급하기 위한 가스 입구; 상기 반응기 몸체에 연결되어 가스를 배출하기 위한 가스 출구; 상기 복수개의 방전 튜브에 장착되어 플라즈마를 발생시키기 위한 플라즈마 소스; 및 상기 플라즈마 소스에 전원을 공급하기 위한 전원공급원;을 포함한다.

Description

가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기{PLASMA REACATOR HAVING THE STRUCTURE FOR GAS DECOMPOSITON}
본 발명은 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기에 관한 것으로, 구체적으로는 가스 입구를 통해 공급된 가스의 분해를 위한 구조를 반응기 몸체 내부에 형성함으로써 가스 입구를 통해 공급된 가스의 분해 효율을 향상시키기 위한, 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기에 관한 것이다.
플라즈마 방전은 이온, 자유 래디컬, 원자, 분자를 포함하는 활성 가스를 발생하기 위한 가스 여기에 사용되고 있다. 활성 가스는 다양한 분야에서 널리 사용되고 있으며 대표적으로 반도체 제조 공정 예들 들어, 식각, 증착, 세정, 에싱 등 다양하게 사용되고 있다.
최근, 반도체 장치의 제조를 위한 웨이퍼나 LCD 글라스 기판은 더욱 대형화 되어 가고 있다. 그러므로 플라즈마 이온 에너지에 대한 제어 능력이 높고, 대면적의 처리 능력을 갖는 확장성이 용이한 플라즈마 소스가 요구되고 있다. 플라즈마를 이용한 반도체 제조 공정에서 원격 플라즈마의 사용은 매우 유용한 것으로 알려져 있다. 예를 들어, 공정 챔버의 세정이나 포토레지스트 스트립을 위한 에싱 공정에서 유용하게 사용되고 있다. 그런데 피처리 기판의 대형화에 따라 공정 챔버의 볼륨도 증가되고 있어서 고밀도의 활성 가스를 충분히 원격으로 공급할 수 있는 플라즈마 소스가 요구되고 있다.
원격 플라즈마 반응기(remote plasma reactor)는 플라즈마 발생 방식에 따라 다양한 플라즈마 소스가 사용되고 있다. 예를 들어, 유도 결합 플라즈마 소스(inductively coupled plasma source), 용량 결합 플라즈마 소스(capacitively coupled plasma source), 마이크로웨이브 플라즈마 소스(microwave plasma source) 등이 원격 플라즈마 반응기에 사용되고 있다. 유도 결합 플라즈마 소스의 경우 특히 변압기를 채용한 방식을 변압기 결합 플라즈마 소스(transformer coupled plasma)라 한다. 변압기 결합 플라즈마 소스(transformer coupled plasma source)를 사용한 원격 플라즈마 반응기는 토로이달 구조의 챔버 몸체에 일차 권선 코일을 갖는 마그네틱 코어가 장착된 구조를 갖는다. 원격 플라즈마 반응기의 반도체 제조 공정에서의 초기 응용은 공정 챔버의 세정을 위한 세정 공정이나 포토레지스트의 스트립을 위한 에싱 공정 등에 활용되어 왔다. 그러나 최근에는 다양한 미세 공정에 응용하고자 하는 요구가 증가하고 있다.
한편, 플라즈마 반응기에서는 공급되는 가스의 분해 효율을 향상시키는 것이 중요한 요소이다. 즉, 플라즈마 반응기에서는 공급되는 가스를 플라즈마 방전을 통해 이온, 자유 래디컬, 원자, 분자를 포함하는 활성 가스로 발생시키므로, 가스의 분해 효율에 따라 플라즈마 처리 효율이 좌우될 수 있다. 그러므로 플라즈마 반응기에서 가스 분해 효율을 높이기 위한 연구 개발 노력이 지속적으로 이루어지고 있다.
이와 같이, 종래에는 플라즈마 반응기에서 반응기 몸체 내부에 가스 분해를 위한 구조를 형성하여 별도의 장치를 부가하거나 설치하지 않더라도 용이하게 가스 분해 효율을 향상시키는 방식이 제안될 필요성이 있다.
본 발명의 목적은 가스 입구를 통해 공급된 가스의 분해를 위한 구조를 반응기 몸체 내부에 형성함으로써 가스 입구를 통해 공급된 가스의 분해 효율을 향상시키기 위한, 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기를 제공하는데 있다.
본 발명은 가스 분해를 위한 구조로서, 플라즈마 방전 채널을 형성하는 복수개의 방전 튜브를 형성하기 위한 반응기 몸체; 상기 반응기 몸체에 연결되어 가스를 공급하기 위한 가스 입구; 상기 반응기 몸체에 연결되어 가스를 배출하기 위한 가스 출구; 상기 복수개의 방전 튜브에 장착되어 플라즈마를 발생시키기 위한 플라즈마 소스; 및 상기 플라즈마 소스에 전원을 공급하기 위한 전원공급원;을 포함한다.
상기 가스 입구의 아래에 수평 방향으로 봉 타입 형태로 플라즈마 점화를 위해 설치하는 점화 전극부;를 더 포함한다.
상기 가스 입구 또는 상기 반응기 몸체의 측면으로부터 공급되는 가스를 균일한 밀도로 확산시키는 가스 분배부;를 더 포함한다.
또한, 본 발명은 가스를 공급하기 위한 가스 입구; 플라즈마 방전 채널을 형성하는 중공의 몸체를 형성하는 반응기 몸체; 상기 반응기 몸체의 가스 분해를 위한 구조로, 상기 가스 입구로부터 공급된 가스를 균일하게 확산시키는 가스 공급 확산부; 상기 반응기 몸체에 연결되어 가스를 배출하기 위한 가스 출구; 상기 반응기 몸체에 장착되어 플라즈마를 발생시키기 위한 플라즈마 소스; 및 상기 플라즈마 소스에 전원을 공급하기 위한 전원공급원;을 포함한다.
상기 반응기 몸체 내부에 상기 가스 출구로 배출되는 가스의 흐름을 저지하는 장애물 구조를 형성시키는 가스 배출 장애물;을 더 포함한다.
상기 가스 공급 확산부는, 원뿔 형상, 적층 구조를 갖는 원뿔 형상, 가스 흐름을 안내하는 구조를 갖는 원뿔 형상이다.
상기 가스 배출 장애물은, 상기 반응기 몸체와 상기 가스 출구의 연결 부위에 오르막 구조로 형성하거나, 상기 반응기 몸체와 상기 가스 출구의 연결 부위에 가림막 구조로 형성한다.
상기 플라즈마 반응기는, 원격 플라즈마 반응기 또는 배기용 플라즈마 반응기이다.
본 발명은 가스 입구를 통해 공급된 가스의 분해를 위한 구조를 반응기 몸체 내부에 형성함으로써 가스 입구를 통해 공급된 가스의 분해 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명은 플라즈마 반응기에서 반응기 몸체 내부에 가스 분해를 위한 구조를 형성하여 별도의 장치를 부가하거나 설치하지 않더라도 간단하게 가스 분해 효율을 향상시키는 방식을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명은 반응기 몸체 내부에 가스 분해를 위한 구조를 형성함으로써, 반응기 몸체 내부를 이동하는 플라즈마 이온의 이동속도를 저감시켜 플라즈마 이온의 충돌로 인한 파티클 발생을 저감할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기에 대한 도면,
도 2a 내지 도 2c는 상기 도 1의 플라즈마 반응기에 대한 실시예를 나타낸 A-A'선 단면도,
도 3은 상기 도 1의 플라즈마 반응기의 냉각 채널을 나타낸 도면,
도 4 및 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기에 대한 도면,
도 6a 내지 도 6c는 상기 도 4 및 도 5의 가스 공급 확산부에 대한 예시도이다.
본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 부재는 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기에 대한 도면이고, 도 2a 내지 도 2c는 상기 도 1의 플라즈마 반응기에 대한 실시예를 나타낸 A-A'선 단면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기(이하 "플라즈마 반응기"라 함, 100)는, 반응기 몸체(10), 가스 입구(11), 가스 출구(12), 변압기(20), 교류 스위칭 전원(30), 점화 전극부(40), 가스 분배부(50)를 포함한다.
여기서, 플라즈마 반응기(100)는 공정 챔버 상부에 위치하는 원격 플라즈마 반응기 또는 공정 챔버 하부에 위치하는 배기용 플라즈마 반응기로 사용될 수 있다. 플라즈마 반응기(100)는 사용 용도에 따라 가스 입구(11) 및 가스 출구(12)의 구경을 소구경 또는 대구경으로 변경하여 적용할 수 있다.
반응기 몸체(10)는 가스 입구(11)와 가스 출구(12)가 연결되며, 플라즈마 방전 채널을 형성하는 중공형 몸체를 형성한다. 이때, 반응기 몸체(10)는 가스 입구(11)와 가스 출구(12) 사이에 다발 형태로 복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)를 형성한다. 복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)는 가스 분해를 위한 구조로서, 가스 입구(11)를 통해 공급된 가스가 가스 분배부(50)를 통해 균등하게 분배되어 통과되어 대부분의 가스를 분해할 수 있는 구조이다. 즉, 복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)에는 플라즈마 소스로서 변압기(20)가 각각 결합하여 장착된다. 여기서, 복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)는 환형 구조 또는 다각형 구조 등일 수 있다. 복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)는 변압기(20)의 마그네틱 코어(20-1 내지 20-n)가 결합되어 장착된다. 변압기(20)는 다수의 마그네틱 코어(20-1 내지 20-n) 각각에 일차 권선 코일(미도시)이 다수회 권선되어 있다.
반응기 몸체(10) 내부에서 플라즈마 처리를 위한 반응 가스는 가스 입구(11)를 통해 공급되거나, 반응기 몸체(10)의 측면에서 공급될 수도 있다. 여기서, 반응 가스가 반응기 몸체(10)의 측면에서 공급되는 경우에는, 변압기(20)가 장착되어 있는 복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)에서 플라즈마가 발생하므로, 방전 튜브(10-1 내지 10-n)의 상단과 하단측에 반응 가스를 공급할 수 있다.
복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)는 반응기 몸체(10)가 원통형일 경우에 방사형으로 배치하는 구조에 대한 예시(도 2a 및 도 2b 참고)이고, 반응기 몸체(10)가 사각형일 경우에 3×3으로 배치하는 구조에 대한 예시(도 2c 참고)이다. 여기서, 도 2a 및 도 2c는 9개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-9) 각각에 9개의 마그네틱 코어(20-1 내지 20-2)가 장착되는 경우를 나타내며, 도 2b는 8개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-8) 각각에 8개의 마그네틱 코어(20-1 내지 20-8)가 장착되는 경우를 나타낸다. 도 1의 경우는 설명의 편의상 반응기 몸체(10)가 사각형일 경우에 4×4인 경우일 수 있다(이때, n=4인 경우임).
복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n) 각각에 형성되는 자기장은 동일한 방향(즉, 자기장 방향이 도면 위쪽 방향 '⊙'이면 '⊙'가 배치되고, 도면 아래 방향 '×'이면 '×'로 배치됨)으로 형성될 수도 있으나, 도 2a 내지 도 2b와 같이 서로 반대 방향(즉, 자기장의 방향이 '⊙'와 '×'가 교차로 배치됨)이 교차적으로 나타날 수도 있다. 이를 위해, 교류 스위칭 전원(30)은 변압기(20)의 일차 권선 코일에 인가되는 전원을 제어한다.
교류 스위칭 전원(30)은 변압기(20)로 플라즈마 발생을 위한 전력을 공급한다. 즉, 일차 권선 코일은 교류 스위칭 전원(30)으로부터 교류 전력을 공급받아 구동된다. 교류 스위칭 전원(30)으로부터 일차 권선 코일로 교류 전력이 공급되면 변압기(20)가 구동되면서 플라즈마 방전 채널로 공급된 가스에 유도 기전력이 전달되어 플라즈마가 발생된다. 이때, 플라즈마 방전 채널 내에 발생된 플라즈마는 변압기(20)의 이차측을 형성한다.
여기서는 유도 결합 플라즈마 소스의 일종으로 변압기(20)를 채용한 플라즈마 발생 방식으로 변압기 결합 플라즈마 소스(transformer coupled plasma)를 적용한 경우에 대해 설명한다. 이처럼 플라즈마 반응기(100)는 플라즈마 발생 방식에 따라 다양한 플라즈마 소스를 사용할 수 있다. 예를 들어, 유도 결합 플라즈마 소스(inductively coupled plasma source)뿐만 아니라, 용량 결합 플라즈마 소스(capacitively coupled plasma source), 마이크로웨이브 플라즈마 소스(microwave plasma source) 등일 수도 있다.
점화 전극부(40)는 반응기 몸체(10)의 상부측, 가스 입구(11)의 바로 아래에 수평 방향으로 봉 타입 형태로 설치한다. 이때, 점화 전극부(40)는 내부에 메탈 전극(42)을 구비하여 외부를 세라믹(41)으로 코팅한다. 이때, 점화 전극부(40)는 전극 지지부(43)를 이용하여 반응기 몸체(10)에 설치한다.
가스 분배부(50)는 가스 입구(11) 또는 반응기 몸체(10)의 측면에서 공급되는 가스들이 균일한 밀도로 확산시키는 구조를 형성한다. 가스 분배부(50)는 복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)의 상단에 설치한다.
도 3은 상기 도 1의 플라즈마 반응기의 냉각 채널을 나타낸 도면이다.
냉각 채널(160)은 방전 튜브(10-1 내지 10-n)의 하부측, 방전 튜브(10-1 내지 10-n)의 둘레, 방전 튜브((10-1 내지 10-n)의 상부측을 따라 형성되는 2층 구조이다. 냉각 채널(160)을 통해 냉각수는 복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)의 하부측으로 입력되고, 복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)의 둘레를 따라 올라가고, 복수개의 중공의 방전 튜브(10-1 내지 10-n)의 상부측을 통해 배출된다.
도 4 및 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기에 대한 도면이고, 도 6a 내지 도 6c는 상기 도 4 및 도 5의 가스 공급 확산부에 대한 예시도이다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 유체 흐름 제어용 구조를 구비한 플라즈마 반응기(200)는, 반응기 몸체(110), 가스 입구(111), 가스 출구(112), 변압기(120), 교류 스위칭 전원(130), 가스 공급 확산부(141), 가스 배출 장애물(142a,142b)을 포함한다. 반응기 몸체(110)는 가스 입구(111)를 중심으로 양쪽에 점화부(미도시)를 설치할 수 있다.
플라즈마 반응기(200)는 변압기(120)가 결합된 반응기 몸체(110)와 변압기(412)로 플라즈마 발생을 위한 전력을 공급하는 교류 스위칭 전원(130)을 구비한다. 반응기 몸체(110)는 가스 입구(111)와 가스 출구(112)가 구성되며 중공형의 튜브 형상으로 내부에 플라즈마 방전 채널(115)을 형성한다. 반응기 몸체(110)는 환형 구조를 갖고 다수개의 마그네틱 코어(121)가 결합되어 있다. 마그네틱 코어(121)에는 일차 권선 코일(122)이 다수회 권선되어 있다. 일차 권선 코일(122)은 교류 스위칭 전원(130)으로부터 교류 전력을 공급받아 구동된다. 반응기 몸체(110)는 전기적인 연결을 절연시키는 절연구간(110-1 내지 110-4)을 포함한다.
교류 스위칭 전원(130)으로부터 일차 권선 코일(122)로 교류 전력이 공급되면 변압기(120)가 구동되면서 플라즈마 방전 채널(115)로 공급된 가스에 유도 기전력이 전달되어 플라즈마가 발생된다. 이때, 플라즈마 방전 채널(115) 내에 발생된 플라즈마는 변압기(120)의 이차측을 형성한다.
반응기 몸체(110) 내부에는 가스 분해를 위한 구조로서, 가스 공급 확산부(141)와 가스 배출 장애물(142a,142b)을 설치할 수 있다.
먼저, 반응기 몸체(110) 내부에는 가스 입구(111)로부터 공급된 가스를 균일하게 확산시키는 가스 공급 확산부(141)를 포함할 수 있다. 여기서, 가스 공급 확산부(141)는 가스 입구(111)로부터 공급되는 가스를 분배시키는 구조이다. 예를 들어, 가스 공급 확산부(141)는 도 6a의 원뿔 형상(151), 도 6b의 적층 구조를 갖는 원뿔 형상(152), 가스 흐름을 안내하는 구조(154)를 갖는 원뿔 형상(153)일 수 있다. 이러한 가스 공급 확산부(141)는 반응기 몸체(110) 내부에 불균등하게 확산되는 가스의 양을 균일하게 분배함으로써 가스 분해 효율을 증가시킬 수 있다. 특히, 가스 공급 확산부(141)는 배기용 플라즈마 반응기와 같이 가스 입구(111)의 구경이 대구경인 경우에 가스 입구(111)를 통해 공급되는 가스의 분배 및 확산을 제공할 수 있다.
또한, 반응기 몸체(110) 내부에는 가스 출구(113)로 배출되는 가스의 흐름을 저지하는 장애물 구조를 형성시키는 가스 배출 장애물(142a,142b)을 포함한다. 여기서, 도 4의 가스 배출 장애물(142a)은 반응기 몸체(110)와 가스 출구(113)의 연결 부위에 오르막 구조로 형성되고, 도 5의 가스 배출 장애물(142b)은 반응기 몸체(110)와 가스 출구(113)의 연결 부위에 가림막 구조로 형성된다.
이러한 가스 배출 장애물(142a,142b)은 가스 출구(113)를 통해 배출되는 가스의 유속을 감속시켜 분해되지 않은 가스의 분해 효율을 높일 뿐만 아니라, 플라즈마 이온 입자의 강한 충돌에 의한 파티클 발생을 저감시킬 수 있다. 특히, 도 4의 가스 배출 장애물(142a)은 오르막 구조를 통해 늘어난 가스의 이동경로(142a-1)로 인해 가스의 체류시간을 늘릴 수 있다. 도 5의 가스 배출 장애물(142b)은 가림막 구조에 의한 플라즈마 루프(142b-1)를 형성시키고, 가림막 구조를 통해 늘어난 가스의 이동경로(142b-2)로 인해 가스의 체류시간을 늘릴 수 있다.
이상에서 설명된 본 발명의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 그럼으로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
10,110 : 반응기 몸체 11,111 : 가스 입구
12,112 : 가스 출구 20,120 : 변압기
30,130 : 교류 스위칭 전원 40 : 점화 전극부
50 : 가스 분배부 10-1 내지 10-n : 방전 튜브
20-1 내지 20-n : 마그네틱 코어 141 : 가스 공급 확산부
142a,142b : 가스 배출 장애물

Claims (9)

  1. 적어도 두 개의 방전 튜브를 이용하여 플라즈마 방전 채널을 형성하는 반응기 몸체;
    상기 반응기 몸체 내부에서 플라즈마 점화를 하는 점화 전극부;
    상기 반응기 몸체의 일측에 연결되어 가스를 공급는 가스 입구;
    상기 반응기 몸체의 타측에 연결되어 가스를 배출는 가스 출구;
    상기 적어도 두 개의 방전 튜브에 결합되어 전력을 유도하는 변압기; 및
    상기 변압기에 전원을 공급하기 위한 교류 스위칭 전원;
    을 포함하고,
    상기 반응기 몸체 내에 위치하고, 상기 가스 입구와 상기 적어도 두 개의 방전 튜브 사이에 배치되어 상기 가스 입구로부터 공급된 가스를 상기 적어도 두 개의 방전 튜브 각각으로 균일하게 확산시키는 가스 공급 확산부를 더 포함하는, 가스 분해를 위한 구조를 구비한 플라즈마 반응기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 점화 전극부는,
    상기 가스 입구에 인접하게 위치하고, 상기 가스 입구를 통해 주입된 가스의 진행 방향에 수직한 방향으로 배치된 플라즈마 반응기.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 점화 전극부는,
    봉 타입으로 구현되되, 상기 가스의 진행 방향에 수직한 방향으로 상기 가스 입구의 폭보다 큰 길이로 형성된 플라즈마 반응기.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 가스 입구 또는 상기 반응기 몸체의 측면으로부터 공급되는 가스를 상기 적어도 두 개의 방전 튜브들 각각에 대해 균일한 밀도로 확산시키는 가스 분배부를 더 포함하는 플라즈마 반응기.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 교류 스위칭 전원은,
    상기 적어도 두 개의 방전 튜브 각각에 대해 자기장의 방향이 동일방향으로 형성되거나 서로 반대 방향으로 형성되도록 상기 변압기의 일차 권선 코일에 인가되는 전원을 제어하는 플라즈마 반응기.
  6. 삭제
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 가스 공급 확산부는,
    상기 가스 입구에 인접한 외주면을 기준으로 외주면의 단면적이 점차 증가하는 형상을 갖거나, 상기 외주면의 단면적이 점차 증가하되 상기 외주면의 적어도 일부에서 계단 형상으로 단면적이 감소하는 부분이 존재하는 형상을 갖는 플라즈마 반응기.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 반응기 몸체 내에 위치하고, 상기 가스 출구에 인접하게 배치되어 상기 가스 출구가 위치한 방향으로 배출되는 가스의 흐름을 다른 방향으로 전환하는 구조를 갖는 가스 배출 장애물을 더 포함하는 플라즈마 반응기.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 가스 배출 장애물은,
    상기 가스 출구의 진입면을 기준으로 경사가 증가하는 형상을 갖는 플라즈마 반응기.
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