KR102577765B1 - Curable resin composition, cured film prepared therefrom and electronic device comprising the cured film - Google Patents
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Abstract
(A) 실리콘계 중합체; (B) 표면 상에, 하기 화학식 1로 표시되는 관능기를 포함하는 입자; 및 (C) 용매를 포함하는 경화형 수지 조성물, 이를 경화하여 얻은 경화막 및 상기 경화막을 포함하는 소자가 제공된다.
[화학식 1]
(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다)(A) Silicone-based polymer; (B) particles containing a functional group represented by the following formula (1) on the surface; and (C) a solvent, a cured resin composition containing the same, a cured film obtained by curing the same, and a device comprising the cured film.
[Formula 1]
(In Formula 1 above, each substituent is as defined in the specification)
Description
본 기재는 경화형 수지 조성물, 상기 경화형 수지 조성물로부터 얻은 경화막 및 상기 경화막을 포함하는 소자에 관한 것이다.This description relates to a curable resin composition, a cured film obtained from the curable resin composition, and a device containing the cured film.
디스플레이 분야가 발달함에 따라 디스플레이를 이용한 각종 표시장치가 다양화되고 있으며, 다양한 표시장치 중 빛을 다루는 디바이스에 저굴절 소재를 적용시키는 기술에 대한 요구가 늘고 있다. 저굴절률 특성을 이용하면 빛이 이동하는 디바이스 내부에서 빛의 손실을 줄여 효율을 높일 수 있다. 또한, 저굴절률 특성은 저반사율의 효과도 볼 수 있기 때문에, 빛 센서 외부에 위치한 렌즈의 저반사층이나, 디스플레이 혹은 태양전지 최외곽에 위치한 반사방지막(AR; antireflection film)에도 사용될 수 있다. 저굴절 코팅층의 굴절률이 낮을수록 코팅층의 두께를 줄일 수 있어, 코팅막의 마진이 넓어지고 디바이스 목적에 따른 효율은 증가하게 된다.As the display field develops, various display devices using displays are diversifying, and the demand for technology to apply low-refraction materials to devices that handle light among various display devices is increasing. Using low refractive index characteristics, efficiency can be increased by reducing light loss inside the device through which light travels. In addition, because the low refractive index characteristic can also have the effect of low reflectance, it can be used in the low-reflection layer of a lens located outside a light sensor, or an anti-reflection film (AR) located on the outermost layer of a display or solar cell. The lower the refractive index of the low-refraction coating layer, the lower the thickness of the coating layer can be, which widens the margin of the coating film and increases the efficiency according to the device purpose.
저굴절 실리콘 소재가 패널의 층간에 사용되면 내부에서 빛이 이동할 때, 손실되는 광량을 리사이클링시켜 발광 효율 높일 수 있다. 특히 QDPR(Quantum dot PhotoResist) 중 Green QD 발광체의 발광 효율을 높이는 것이 어려움에 따라, QD 상/하층부에 저굴절 코팅막을 도입하여 Green QD 발광체의 발광 효율을 높일 수 있다. If low-refractive silicon material is used between layers of the panel, the amount of light lost when light moves inside can be recycled to increase luminous efficiency. In particular, as it is difficult to increase the luminous efficiency of the Green QD emitter among QDPR (Quantum dot PhotoResist), the luminous efficiency of the Green QD emitter can be increased by introducing a low-refractive coating film on the upper and lower layers of the QD.
한편, 하부 기판이 패턴을 가질 경우, 패턴 사이에 높은 단차가 발생할 수 있고, 그 상부에 저굴절 층을 코팅할 경우 패턴 사이에 약액이 흘러들어 저굴절층이 두껍게 쌓일 수 있다. 따라서, 저굴절층은 높은 두께에서 크랙이 발생하지 않는 내크랙성을 가져야 하고, 동시에 고투명성을 유지해야 한다.On the other hand, when the lower substrate has a pattern, a high level difference may occur between the patterns, and when a low refractive index layer is coated on top, a chemical solution may flow between the patterns and the low refractive index layer may accumulate thickly. Therefore, the low refractive index layer must have crack resistance so that cracks do not occur at high thicknesses, and at the same time must maintain high transparency.
저굴절율 소재를 얻기 위한 기존의 열경화법은 열경화형 수지 조성물을 350℃ 이상(적어도 300℃ 이상)의 고온으로 경화를 해야 한다는 점에서 한계가 있었다. 최근의 경화 공정 추세가 저온 경화라는 점을 고려할 때 이는 바람직하지가 않다. 또한 기존의 CVD와 같은 증착법은 두꺼운 코팅이 어렵고 나노기공을 만드기가 어려워 550nm의 파장을 기준으로 1.20 내지 1.30 정도의 낮은 굴절율을 얻기 어려웠다. 기존의 실리콘 저굴절 소재는 경화막의 두께가 두꺼워질수록 헤이즈 특성이 저하되면서 투명성이 떨어지고, 2.5㎛ 이상의 두께에서 크랙이 종종 발생하는 문제점이 있었으며, 이에 실리콘 중합체가 아닌, 예컨대 에폭시 중합체 등을 사용하려는 시도가 있었으나, 550nm의 파장을 기준으로 1.20 내지 1.30 정도의 낮은 굴절율을 얻기 어려우며, 혹 낮은 굴절율이 구현된다 하여도 2㎛ 이상의 두께에서 크랙이 발생하는 등의 문제가 있었다.The existing thermal curing method for obtaining low refractive index materials had limitations in that the thermosetting resin composition had to be cured at a high temperature of 350℃ or higher (at least 300℃ or higher). Considering that the recent curing process trend is low temperature curing, this is not desirable. In addition, existing deposition methods such as CVD have difficulty producing thick coatings and nanopores, making it difficult to obtain a low refractive index of about 1.20 to 1.30 based on a wavelength of 550 nm. Existing silicone low-refractive index materials had the problem that as the thickness of the cured film increases, the haze characteristics decrease and transparency decreases, and cracks often occur at thicknesses of 2.5㎛ or more. Therefore, there is a tendency to use, for example, epoxy polymers instead of silicone polymers. Although attempts have been made, it is difficult to obtain a low refractive index of about 1.20 to 1.30 based on a wavelength of 550 nm, and even if a low refractive index is achieved, there are problems such as cracks occurring at a thickness of 2 μm or more.
일 구현예는 내크랙성, 접착력 및 투명성이 우수한 저굴절율을 갖는 경화형 수지 조성물을 제공한다.One embodiment provides a curable resin composition having a low refractive index with excellent crack resistance, adhesion, and transparency.
다른 구현예는 상기 경화형 수지 조성물을 이용하여 제조된 경화막을 제공한다.Another embodiment provides a cured film manufactured using the curable resin composition.
또 다른 일 구현예는 상기 경화막을 포함하는 소자를 제공한다. Another embodiment provides a device including the cured film.
일 구현예는 (A) 실리콘계 중합체; (B) 표면 상에 하기 화학식 1로 표시되는 관능기를 포함하는 입자; 및 (C) 용매를 포함하는 경화형 수지 조성물을 제공한다.One embodiment includes (A) a silicone-based polymer; (B) particles containing a functional group represented by the following formula (1) on the surface; and (C) a solvent.
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에서,In Formula 1,
R1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 1 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
L1은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 1 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
L2 및 L3은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 2 and L 3 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
n은 1 이상의 정수이다.n is an integer greater than or equal to 1.
상기 화학식 1에서, L2 및 L3은 서로 동일할 수 있다.In Formula 1, L 2 and L 3 may be the same.
상기 화학식 1에서, n은 2 내지 30의 정수일 수 있다.In Formula 1, n may be an integer from 2 to 30.
상기 입자는 중공 구조를 가질 수 있다.The particles may have a hollow structure.
상기 입자는 티타늄 산화물, 규소 산화물, 바륨 산화물, 아연 산화물, 지르코늄 산화물 또는 이들의 조합을 포함하는 금속 산화물의 미립자일 수 있다.The particles may be fine particles of metal oxide including titanium oxide, silicon oxide, barium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, or a combination thereof.
상기 입자는 중공 실리카일 수 있다.The particles may be hollow silica.
상기 입자의 평균 직경(D50)은 10nm 내지 150nm일 수 있다.The average diameter (D 50 ) of the particles may be 10 nm to 150 nm.
상기 실리콘계 중합체는 실록산 중합체일 수 있다.The silicone-based polymer may be a siloxane polymer.
상기 실리콘계 중합체의 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량(Mw)은 1,000 g/mol 내지 50,000 g/mol일 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the silicone-based polymer converted to polystyrene may be 1,000 g/mol to 50,000 g/mol.
상기 경화형 수지 조성물은, 상기 (A) 실리콘계 중합체 100 중량부에 대해, 상기 (B) 표면 상에 상기 화학식 1로 표시되는 관능기를 포함하는 입자를 1 중량부 내지 100 중량부 포함하고, 상기 (C) 용매를 100 중량부 내지 2,000 중량부로 포함할 수 있다.The curable resin composition includes 1 to 100 parts by weight of particles containing a functional group represented by Formula 1 on the surface of (B) based on 100 parts by weight of the silicone polymer (A), and the (C) ) It may contain 100 to 2,000 parts by weight of solvent.
다른 일 구현예는 상기 경화형 수지 조성물을 경화하여 얻은 경화막일 수 있다.Another embodiment may be a cured film obtained by curing the curable resin composition.
상기 경화막은 500nm 내지 550nm에서의 굴절률이 1.35 이하일 수 있다.The cured film may have a refractive index of 1.35 or less at 500 nm to 550 nm.
또 다른 일 구현예는 상기 경화막을 포함하는 소자일 수 있다.Another embodiment may be a device including the cured film.
기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Details of other aspects of the invention are included in the detailed description below.
일 구현예에 따른 경화형 수지 조성물을 이용하여 제조되는 경화막은 내크랙성 및 접착력이 우수하고, 또한, 고투명성 및 저굴절 특성을 가져 반사방지막 또는 저굴절층 등의 용도에 유리하게 사용될 수 있다.The cured film manufactured using the curable resin composition according to one embodiment has excellent crack resistance and adhesion, and also has high transparency and low refractive properties, so that it can be advantageously used in applications such as an antireflection film or a low refractive index layer.
도 1은 표면개질된 입자를 나타낸 모식도이다. (도 1에서 R은 화학식 1로 표시되는 관능기이다.)Figure 1 is a schematic diagram showing surface-modified particles. (In Figure 1, R is a functional group represented by Chemical Formula 1.)
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is presented as an example, and the present invention is not limited thereby, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C30 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C30 사이클로알킬기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C30 아릴기를 의미하고, "아릴알킬기"란 C7 내지 C30 아릴알킬기를 의미하고, "헤테로알킬기란" C1 내지 C30 헤테로알킬기를 의미하고, "헤테로사이클로알킬기"란 C2 내지 C30 헤테로사이클로알킬기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C30 알케닐기를 의미하고, "알키닐기"란 C2 내지 C30 알키닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C30 알킬렌기를 의미하고, "사이클로알킬렌기"란 C3 내지 C30 사이클로알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C30 아릴렌기를 의미한다.Unless otherwise specified herein, “alkyl group” refers to a C1 to C30 alkyl group, “cycloalkyl group” refers to a C3 to C30 cycloalkyl group, “aryl group” refers to a C6 to C30 aryl group, and “aryl group” refers to a C1 to C30 alkyl group. “Alkyl group” means a C7 to C30 arylalkyl group, “heteroalkyl group” means a C1 to C30 heteroalkyl group, “heterocycloalkyl group” means a C2 to C30 heterocycloalkyl group, and “alkenyl group” means a C2 to C30 heterocycloalkyl group. means an alkenyl group, “alkynyl group” means a C2 to C30 alkynyl group, “alkylene group” means a C1 to C30 alkylene group, “cycloalkylene group” means a C3 to C30 cycloalkylene group, “Arylene group” means a C6 to C30 arylene group.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20의 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 아미노기, 알킬기로 치환된 아미노기, 아릴기로 치환된 아미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20의 알킬기, C2 내지 C20의 알케닐기, C2 내지 C20의 알키닐기, C6 내지 C20의 아릴기, C3 내지 C20의 사이클로알킬기, C3 내지 C20의 사이클로알케닐기, C3 내지 C20의 사이클로알키닐기, C2 내지 C20의 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20의 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20의 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified herein, “substitution” means that at least one hydrogen atom is replaced by a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxy group, a C1 to C20 alkoxy group, a nitro group, a cyano group, an amine group, an amino group, Amino group substituted with alkyl group, amino group substituted with aryl group, azido group, amidino group, hydrazino group, hydrazono group, carbonyl group, carbamyl group, thiol group, ester group, ether group, carboxyl group or salt thereof, sulfonic acid group or its salt, phosphoric acid or its salt, C1 to C20 alkyl group, C2 to C20 alkenyl group, C2 to C20 alkynyl group, C6 to C20 aryl group, C3 to C20 cycloalkyl group, C3 to C20 cyclo. As a substituent of an alkenyl group, a C3 to C20 cycloalkynyl group, a C2 to C20 heterocycloalkyl group, a C2 to C20 heterocycloalkenyl group, a C2 to C20 heterocycloalkynyl group, a C3 to C20 heteroaryl group, or a combination thereof. It means replaced.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.Also, unless otherwise specified herein, “hetero” means that at least one hetero atom of N, O, S, and P is included in the chemical formula.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메트)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메트)아크릴로일옥시기"은 "아크릴로일옥시기"와 "메타크릴로일옥시기" 둘 다 가능함을 의미한다.Also, unless otherwise specified in the specification, “(meth)acrylate” means that both “acrylate” and “methacrylate” are possible, and “(meth)acryloyloxy group” means “acryloyloxy group”. This means that both "and "methacryloyloxy group" are possible.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다.Unless otherwise specified herein, “combination” means mixing or copolymerization.
본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학결합이 연결되어야 하는 위치에 화학결합이 연결되지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formulas in this specification, if a chemical bond is not connected at a position where a chemical bond should be connected, it means that a hydrogen atom is bonded at that position.
본 명세서에서 수치 범위 기재시 “X 내지 Y”는 “X 이상 Y 이하”(X ≤ 그리고 ≤ Y)를 의미한다.In this specification, when describing a numerical range, “X to Y” means “X to Y or less” (X ≤ and ≤ Y).
본 명세서에서 수치 범위가 아닌 기재에서 “X 내지 Y”는 “X부터 Y까지”를 의미한다.In this specification, in descriptions other than numerical ranges, “X to Y” means “X to Y.”
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.Additionally, unless otherwise specified in the specification, “*” refers to a portion connected to the same or different atom or chemical formula.
이하, 일 구현예에 따른 경화형 수지 조성물에 대하여 설명한다.Hereinafter, a curable resin composition according to one embodiment will be described.
본 발명의 일 구현예에 따른 경화형 수지 조성물은 (A) 실리콘계 중합체; (B) 표면 상에 하기 화학식 1로 표시되는 관능기를 포함하는 입자; 및 (C) 용매를 포함한다.A curable resin composition according to an embodiment of the present invention includes (A) a silicone-based polymer; (B) particles containing a functional group represented by the following formula (1) on the surface; and (C) a solvent.
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에서,In Formula 1,
R1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 1 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
L1은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 1 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
L2 및 L3은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 2 and L 3 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
n은 1 이상의 정수이다.n is an integer greater than or equal to 1.
QD-OLED 패널의 내부에 위치하는 저굴절층은 하부에 컬러필터(red, green)층 패턴으로 인해 기판이 평평하지 않고 단차가 발생한다. 이때 하부 패턴의 단차가 커서 기존 저굴절 특성을 확보하는 조성물을 상기 단차가 있는 기판 상에 코팅 및 경화했을 때, 크랙이 발생하는 문제가 있다. 따라서 최근에는 저굴절 특성을 가지는 수지 조성물에 대해 3.6㎛ 이상, 구체적으로 4㎛ 이상의 단차를 극복할 수 있는 내크랙성이 요구되고 있다. The low refractive index layer located inside the QD-OLED panel causes the substrate to be uneven and have steps due to the color filter (red, green) layer pattern at the bottom. At this time, the step of the lower pattern is large, so there is a problem of cracks occurring when the composition that secures the existing low refractive index is coated and cured on the substrate with the step. Therefore, recently, crack resistance that can overcome steps of 3.6 ㎛ or more, specifically 4 ㎛ or more, is required for resin compositions with low refractive characteristics.
또한, QD 패널의 광효율을 상승시키기 위해, 저굴절 소재의 굴절률은 망소 특성을 갖게 된다. 이에 본 발명의 발명자들은 오랜 연구 끝에, 3.6㎛ 이상, 구체적으로 4㎛ 이상의 크랙 마진(crack margin)과 저굴절률을 구현하기 위해서 특정 화합물, 보다 구체적으로 특정 올리고머로 표면처리한 입자를 도입하여 내크랙성과 (550nm 기준) 굴절률 1.35 이하, 구체적으로 1.23 이하, 보다 구체적으로 1.22 이하의 굴절률을 갖는 저굴절 소재(경화형 수지 조성물)을 개발하기에 이르렀다. Additionally, in order to increase the luminous efficiency of the QD panel, the refractive index of the low-refractive material has a nebulizer characteristic. Accordingly, after long research, the inventors of the present invention introduced particles surface-treated with a specific compound, more specifically a specific oligomer, to achieve a crack margin of 3.6 ㎛ or more, specifically 4 ㎛ or more and a low refractive index, thereby improving crack resistance. Achievements (based on 550nm) We have developed a low-refractive index material (curable resin composition) with a refractive index of 1.35 or less, specifically 1.23 or less, and more specifically 1.22 or less.
즉, 현재까지 소개된 여러 기술들(열경화법, CVD 증착법, 기존 실리콘 소재 사용, 비실리콘 폴리머 사용 등)은 모두 저온(250℃ 이하) 공정이 불가하거나, 두께가 두꺼워지면 크랙이 발생하여 내크랙성이 떨어지거나, 굴절률이 높거나, 접착력이 떨어지거나, 투명도가 떨어지는 등 저온 공정, 내크랙성, 저굴절율, 높은 접착력 및 높은 투명도(낮은 헤이즈)를 동시에 달성할 수 없었으며, 이에 상기 특성들을 모두 충족시킬 수 있는 저굴절 조성물에 대한 요구가 매우 높은 상황이다. 본 발명자들은 상기 경화형 수지 조성물 내 상기 입자 표면을 특정 물질(상기 화학식 1로 표시되는 관능기)로 표면개질함으로써, 상기 특성을 모두 충족시킬 수 있음을 확인하였다.In other words, all of the various technologies introduced to date (thermal curing, CVD deposition, use of existing silicon materials, use of non-silicon polymers, etc.) cannot be processed at low temperatures (below 250℃) or cracks occur when the thickness becomes thick, resulting in crack resistance. Low temperature processing, crack resistance, low refractive index, high adhesion, and high transparency (low haze) could not be achieved at the same time due to low temperature processing, high refractive index, low adhesion, and low transparency. Therefore, the above characteristics were not achieved. There is a very high demand for a low refractive index composition that can meet all requirements. The present inventors confirmed that all of the above characteristics can be satisfied by surface modifying the surface of the particle in the curable resin composition with a specific material (a functional group represented by Formula 1).
이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.Below, each component is described in detail.
(B) 표면 상에 화학식 1로 표시되는 관능기를 포함하는 입자(B) Particles containing a functional group represented by Formula 1 on the surface
예컨대, 상기 화학식 1에서, L2 및 L3은 서로 동일할 수 있다.For example, in Formula 1, L 2 and L 3 may be the same.
예컨대, 상기 화학식 1에서, L2 및 L3은 각각 독립적으로 치환된 C1 내지 C20 알킬렌기일 수 있다.For example, in Formula 1, L 2 and L 3 may each independently be a substituted C1 to C20 alkylene group.
예컨대, 상기 화학식 1에서, n은 2 이상의 정수, 예컨대 2 내지 30의 정수일 수 있다.For example, in Formula 1, n may be an integer of 2 or more, for example, an integer of 2 to 30.
상기 n이 2 이상의 정수일 경우, 상기 n이 1의 정수인 경우보다, 더 낮은 굴절율을 확보하면서, 동시에 크랙마진 및 접착력을 더욱 향상시킬 수 있다.When n is an integer of 2 or more, a lower refractive index can be secured and at the same time crack margin and adhesion can be further improved compared to when n is an integer of 1.
일 구현예에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 관능기의 유도물질인 표면개질제가 입자의 표면개질 반응 중에 기화되면서 종래 기공 유도물질로서의 역할을 함께 수행할 수 있기에, 일 구현예에 따른 경화형 수지 조성물은 별도의 기공 유도물질(porogen; polymeric pore generator)을 굳이 포함하지 않아도, 기공 유도물질을 포함하는 종래 경화형 수지 조성물과 비교하여 동등 수준 이상의 저굴절 특성을 확보할 수 있다. According to one embodiment, the surface modifier, which is an inducer of the functional group represented by Formula 1, can perform the role of a conventional pore-inducing material while vaporizing during the surface modification reaction of the particles, so the curable resin composition according to one embodiment is Even without the need to include a separate porogen (polymeric pore generator), it is possible to secure low refractive index characteristics at an equivalent level or higher compared to a conventional curable resin composition containing a pore-inducing material.
예컨대, 상기 경화형 수지 조성물은 상기 실리콘계 중합체, 상기 화학식 1로 표시되는 관능기를 표면 상에 포함하는 입자 및 상기 용매로 구성될 수 있다.For example, the curable resin composition may be composed of the silicone polymer, particles containing the functional group represented by Formula 1 on the surface, and the solvent.
예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 관능기의 유도물질인 표면개질제는 하기 화학식 1-1로 표시될 수 있다.For example, the surface modifier, which is a derivative of the functional group represented by Formula 1, may be represented by the following Formula 1-1.
[화학식 1-1][Formula 1-1]
상기 화학식 1-1에서,In Formula 1-1,
R1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 1 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
L2 및 L3은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 2 and L 3 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
n은 1 이상의 정수이다.n is an integer greater than or equal to 1.
예컨대, 상기 입자는 중공 구조를 가질 수 있다.For example, the particles may have a hollow structure.
예컨대, 상기 입자는 티타늄 산화물, 규소 산화물, 바륨 산화물, 아연 산화물, 지르코늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함하는 금속 산화물의 미립자일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the particles may be fine particles of metal oxide including titanium oxide, silicon oxide, barium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, or a combination thereof, but are not necessarily limited thereto.
예컨대, 상기 입자는 중공 실리카(SiO2)일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the particles may be hollow silica (SiO 2 ), but are not necessarily limited thereto.
상기 입자의 평균 직경(D50)은 10nm 내지 150nm, 예컨대, 10nm 내지 130nm, 예컨대, 10nm 내지 110nm, 예컨대, 20nm 내지 110nm, 예컨대, 40nm 내지 110nm, 예컨대, 60nm 내지 110nm 일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 입자의 평균 직경이 상기 범위를 만족하는 경우, 입자가 실리콘계 중합체에 잘 분산될 수 있고, 경화형 수지 조성물의 저굴절 특성을 향상시킬 수 있다.The average diameter (D 50 ) of the particles may be 10 nm to 150 nm, such as 10 nm to 130 nm, such as 10 nm to 110 nm, such as 20 nm to 110 nm, such as 40 nm to 110 nm, such as 60 nm to 110 nm, but is necessarily limited thereto. It doesn't work. When the average diameter of the particles satisfies the above range, the particles can be well dispersed in the silicone-based polymer and the low refractive index characteristics of the curable resin composition can be improved.
또한, 상기 입자가 중공 구조를 포함하는 경우, 공극률은 40% 내지 90%, 예컨대, 40% 내지 80%, 예컨대, 40% 내지 70%, 예컨대, 40% 내지 60%, 예컨대, 40% 내지 50%, 예컨대, 50% 내지 90%, 예컨대, 60% 내지 90%, 예컨대, 70% 내지 90%, 예컨대, 80% 내지 90%, 예컨대, 50% 내지 70%일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 입자의 공극률이 상기 범위를 초과하는 경우, 입자의 내부 공간의 크기는 커지고 외곽의 두께는 작아져 입자의 내구성이 약해질 수 있으며, 입자의 공극률이 상기 범위 미만인 경우, 저굴절층의 굴절률 감소 효과가 미미할 수 있다.Additionally, when the particles comprise a hollow structure, the porosity is 40% to 90%, such as 40% to 80%, such as 40% to 70%, such as 40% to 60%, such as 40% to 50%. %, such as 50% to 90%, such as 60% to 90%, such as 70% to 90%, such as 80% to 90%, such as 50% to 70%, but is not necessarily limited thereto. no. If the porosity of the particle exceeds the above range, the size of the internal space of the particle increases and the outer thickness decreases, which may weaken the durability of the particle. If the porosity of the particle is less than the above range, the refractive index of the low refractive layer decreases. The effect may be minimal.
상기 입자는 상기 실리콘계 중합체 100 중량부에 대해, 1 중량부 내지 100 중량부, 예컨대 1 중량부 내지 60 중량부, 예컨대 3 중량부 내지 60 중량부, 예컨대 5 중량부 내지 60 중량부, 예컨대 5 중량부 내지 50 중량부, 예컨대 10 중량부 내지 50 중량부로 포함될 수 있다. 상기 입자가 상기 함량범위로 포함되는 경우 우수한 저굴절률을 유지하면서, 크랙마진 및 접착력도 함께 개선시키는 데 유리할 수 있다.The particles are present in an amount of 1 part by weight to 100 parts by weight, such as 1 part by weight to 60 parts by weight, such as 3 parts by weight to 60 parts by weight, such as 5 parts by weight to 60 parts by weight, such as 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the silicone polymer. parts by weight to 50 parts by weight, such as 10 parts by weight to 50 parts by weight. When the particles are included in the above content range, it can be advantageous to improve crack margin and adhesion while maintaining an excellent low refractive index.
(A) 실리콘계 중합체(A) Silicone-based polymer
본 발명에서 실리콘계 중합체는 실록산 중합체일 수 있다.In the present invention, the silicone-based polymer may be a siloxane polymer.
상기 실록산 중합체는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 가수분해 및 축합반응시켜 형성될 수 있다.The siloxane polymer can be formed by hydrolyzing and condensing a compound represented by the following formula (2).
[화학식 2][Formula 2]
(R2)a(R3)b(R4)c-Si-(OR5)4-a-b-c (R 2 ) a (R 3 ) b (R 4 ) c -Si-(OR 5 ) 4-abc
상기 화학식 2에서, In Formula 2,
R2 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C30 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알키닐기, R'(C=O)-* (여기서, R'은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기임), (메트)아크릴레이트기, (메트)아크릴로일옥시기 또는 이들의 조합이고,R 2 to R 4 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a substituted or unsubstituted C7 to C30 aryl group. C30 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C30 heteroalkyl group, substituted or unsubstituted C2 to C30 heterocycloalkyl group, substituted or unsubstituted C2 to C30 alkenyl group, substituted or unsubstituted C2 to C30 alkynyl group, R '(C=O)-* (where R' is a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group), (meth ) an acrylate group, a (meth)acryloyloxy group, or a combination thereof,
R5는 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C30 아릴알킬기 또는 이들의 조합이고,R 5 is hydrogen, a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7 to C30 arylalkyl group, or a substituted or unsubstituted C3 to C30 arylalkyl group thereof. It is a combination,
a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이되, 0 ≤ a+b+c < 4 이다.a, b, and c are each independently integers of 0 or 1, but 0 ≤ a+b+c < 4.
상기 실록산 중합체는 상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 가수분해 및 축합반응시켜 형성될 수 있다.The siloxane polymer may be formed by hydrolyzing and condensing a compound represented by Formula 2 and a compound represented by Formula 3 below.
[화학식 3] [Formula 3]
상기 화학식 3에서, In Formula 3 above,
L4는 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기 또는 이들의 조합이고,L 4 is a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3 to C10 cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group, or a combination thereof,
R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C30 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알키닐기 또는 이들의 조합이되, R6 및 R7 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기이고, R 6 and R 7 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a substituted or unsubstituted C7 to C30 aryl group. C30 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C30 heteroalkyl group, substituted or unsubstituted C2 to C30 heterocycloalkyl group, substituted or unsubstituted C2 to C30 alkenyl group, substituted or unsubstituted C2 to C30 alkynyl group, or these A combination of, wherein at least one of R 6 and R 7 is a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group,
R8은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C30 아릴알킬기 또는 이들의 조합이고,R 8 is hydrogen, or a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C7 to C30 arylalkyl group, or these It is a combination of
m은 1 내지 3의 정수이다.m is an integer from 1 to 3.
상기 실록산 중합체가 상기 화학식 2 및 화학식 3으로 표시되는 화합물을 가수분해 및 축합반응시켜 형성되는 경우, 상기 실록산 중합체 내에 N-아릴 아미노기를 치환기로 포함하게 되며, 이 경우, 일 구현예에 따른 경화형 수지 조성물의 내크랙성 및 고투명도(낮은 Haze) 특성이 더욱 향상될 수 있다. 또한, 상기 N-아릴 아미노기는 상기 입자와의 상용성을 증대시켜, 상기 경화형 수지 조성물을 이용하여 제조된 경화막의 투명성 특성을 향상시킬 수 있다.When the siloxane polymer is formed by hydrolyzing and condensing the compounds represented by Formula 2 and Formula 3, the siloxane polymer contains an N-arylamino group as a substituent. In this case, the curable resin according to one embodiment The crack resistance and high transparency (low haze) characteristics of the composition can be further improved. In addition, the N-arylamino group can increase compatibility with the particles, thereby improving the transparency characteristics of a cured film manufactured using the curable resin composition.
상기 실록산 중합체는 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 50 내지 85 몰% 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물 15 내지 50 몰%, 예컨대, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 55 내지 80 몰% 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물 20 내지 45 몰%, 예컨대, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 65 내지 75 몰% 및 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물 25 내지 35 몰%를 포함하여 가수분해 및 축합반응시켜 형성되는 것일 수 있다. 상기 범위로 포함되는 경우, 그로부터 제조되는 경화형 수지 조성물의 내크랙성 및 투명 특성이 더욱 향상될 수 있다.The siloxane polymer is 50 to 85 mol% of the compound represented by Formula 2 and 15 to 50 mol% of the compound represented by Formula 3, for example, 55 to 80 mol% of the compound represented by Formula 2 and Formula 3. It may be formed by hydrolysis and condensation reaction, including 20 to 45 mol% of the compound, for example, 65 to 75 mol% of the compound represented by Formula 2 and 25 to 35 mol% of the compound represented by Formula 3. When included in the above range, the crack resistance and transparency characteristics of the curable resin composition prepared therefrom can be further improved.
상기 실록산 중합체는 상기 화학식 2 및 화학식 3으로 표시되는 화합물과 함께 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 더 포함하여 가수분해 및 축합반응시켜 형성되는 것일 수 있다.The siloxane polymer may be formed by hydrolyzing and condensing the compounds represented by Formula 2 and Formula 3 together with a compound represented by Formula 4 below.
[화학식 4][Formula 4]
상기 화학식 4에서, In Formula 4 above,
R9, R10, R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C30 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알키닐기, R'(C=O)-* (여기서 R'은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 아릴기), (메트)아크릴레이트기, (메트)아크릴로일옥시기 또는 이들의 조합이고,R 9 , R 10 , R 12 and R 13 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group. or unsubstituted C7 to C30 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C30 heteroalkyl group, substituted or unsubstituted C2 to C30 heterocycloalkyl group, substituted or unsubstituted C2 to C30 alkenyl group, substituted or unsubstituted C2 to C30 alkynyl group, R'(C=O)-* (where R' is a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group), (meth)acrylate group, (meth)acryloyloxy group, or a combination thereof,
R11 및 R14는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C30 아릴알킬기 또는 이들의 조합이고,R 11 and R 14 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a substituted or unsubstituted C7 to C30 aryl group. C30 arylalkyl group or a combination thereof,
Y1 은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기 또는 이들의 조합으로서, 상기 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기는 하나의 방향족 고리로 이루어지거나, 또는 2 이상의 방향족 고리가 단일결합, *-O-*, *-S-*, *-(C=O)-*, *-(C=O)O-*, *-(C=O)NH-*, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬렌기 또는 이들의 조합에 의해 연결된 방향족 고리이고,Y 1 is a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group, or a combination thereof, and the substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group. C30 arylene group consists of one aromatic ring, or two or more aromatic rings are formed by a single bond, *-O-*, *-S-*, *-(C=O)-*, *-(C=O) O-*, *-(C=O)NH-*, an aromatic ring connected by a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 cycloalkylene group, or a combination thereof,
d, e, f 및 g는 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이다.d, e, f and g are each independently integers of 0 or 1.
상기 실록산 중합체는 상기 실록산 중합체 100 몰% 기준으로 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 5 몰% 내지 30 몰%, 예컨대, 5 몰% 내지 25 몰%, 예컨대, 5 몰% 내지 20 몰%, 예컨대, 5 몰% 내지 15 몰%, 예컨대, 5 몰% 내지 10 몰%, 예컨대, 10 몰% 내지 30 몰%, 예컨대, 15 몰% 내지 30 몰%, 예컨대, 25 몰% 내지 30 몰%를 포함하여 가수분해 및 축합반응시켜 형성되는 것일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The siloxane polymer contains 5 mol% to 30 mol%, for example, 5 mol% to 25 mol%, for example, 5 mol% to 20 mol%, for example, of the compound represented by Formula 4 based on 100 mol% of the siloxane polymer. 5 mole% to 15 mole%, such as 5 mole% to 10 mole%, such as 10 mole% to 30 mole%, such as 15 mole% to 30 mole%, such as 25 mole% to 30 mole%. It may be formed through hydrolysis and condensation reactions, but is not necessarily limited thereto.
예컨대, 본 발명에서는 실리콘계 중합체로서, 서로 상이한 2종의 실록산 중합체를 혼합하여 사용함으로써, 보다 우수한 접착력을 확보할 수 있다.For example, in the present invention, better adhesion can be secured by using a mixture of two different types of siloxane polymers as the silicone polymer.
상기 실리콘계 중합체의 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량(Mw)은 1,000 내지 50,000 g/mol, 예컨대, 2,000 내지 50,000 g/mol, 예컨대, 3,000 내지 50,000 g/mol, 예컨대, 5,000 내지 50,000 g/mol, 예컨대, 7,000 내지 50,000 g/mol, 예컨대, 9,000 내지 50,000 g/mol, 예컨대, 10,000 내지 50,000 g/mol, 예컨대, 15,000 내지 50,000 g/mol, 예컨대, 20,000 내지 50,000 g/mol, 예컨대, 25,000 내지 50,000 g/mol, 예컨대, 1,000 내지 45,000 g/mol, 예컨대, 1,000 내지 40,000 g/mol, 예컨대, 1,000 내지 35,000 g/mol, 예컨대, 1,000 내지 30,000 g/mol, 예컨대, 1,000 내지 25,000 g/mol일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The weight average molecular weight (Mw) of the silicone-based polymer in terms of polystyrene is 1,000 to 50,000 g/mol, such as 2,000 to 50,000 g/mol, such as 3,000 to 50,000 g/mol, such as 5,000 to 50,000 g/mol, such as 7,000. to 50,000 g/mol, such as 9,000 to 50,000 g/mol, such as 10,000 to 50,000 g/mol, such as 15,000 to 50,000 g/mol, such as 20,000 to 50,000 g/mol, such as 25,000 to 50,000 g/mol , such as 1,000 to 45,000 g/mol, such as 1,000 to 40,000 g/mol, such as 1,000 to 35,000 g/mol, such as 1,000 to 30,000 g/mol, such as 1,000 to 25,000 g/mol, but must be It is not limited to this.
(C) 용매(C) Solvent
상기 용매로는 200℃ 이상의 공정 온도에서 사용 가능한 임의의 용매 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 예컨대, 상기 용매는 알코올형 용매, 예컨대, 부탄올, 이소프로판올 등과, 케톤형 용매, 예컨대, PMEA, DIBK 등을 사용할 수 있고, 이들 외에 당해 기술 분야에서 공지된 용매로서 상기 공정 온도 이상에서 사용 가능한 임의의 용매를 1 종 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the solvent, one or a mixture of two or more solvents that can be used at a process temperature of 200°C or higher can be used. For example, the solvent may be an alcohol-type solvent, such as butanol, isopropanol, etc., and a ketone-type solvent, such as PMEA, DIBK, etc., and other than these, any solvent known in the art that can be used above the process temperature One type of solvent or a mixture of two or more types can be used.
상기 용매가 2종 이상으로 혼합되어 사용되는 경우, 공정 온도 100℃ 내지 230℃에서 사용 가능한, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(PGMEA), 감마부티로락톤(GBL) 및 그 외 종류의 용매 간의 혼합형태일 수 있다.When two or more of the above solvents are mixed and used, a mixture of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), gamma butyrolactone (GBL), and other types of solvents that can be used at a process temperature of 100°C to 230°C You can.
일 실시예에서, 상기 용매는 상기 실리콘계 중합체 100 중량부에 대해 100 내지 2,000 중량부, 예컨대, 100 내지 1,000 중량부, 예컨대, 100 내지 500 중량부, 예컨대, 100 내지 400 중량부, 예컨대, 100 내지 300 중량부, 예컨대, 100 내지 200 중량부로 포함될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment, the solvent is used in an amount of 100 to 2,000 parts by weight, for example, 100 to 1,000 parts by weight, for example, 100 to 500 parts by weight, for example, 100 to 400 parts by weight, for example, 100 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the silicone polymer. It may be included at 300 parts by weight, for example, 100 to 200 parts by weight, but is not necessarily limited thereto.
기타 첨가제Other additives
상기 경화형 수지 조성물은 굴절률 저감을 위해 계면활성제, 예컨대 불소계 계면활성제를 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 수지 조성물이 상기 계면활성제를 더 포함함으로써, 상기 수지 조성물을 기판에 코팅 시 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과도 꾀할 수 있다.The curable resin composition may further include a surfactant, such as a fluorine-based surfactant, to reduce the refractive index. In addition, by the resin composition further including the surfactant, coating properties can be improved and defects can be prevented when the resin composition is coated on a substrate.
상기 계면활성제는 상기 실리콘계 중합체 100 중량부에 대해 5 중량부 이하, 예를 들어, 0.1 내지 5 중량부, 예를 들어, 1 내지 5 중량부, 예를 들어, 2 내지 5 중량부, 예를 들어 3 내지 5 중량부로 포함될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The surfactant is present in an amount of 5 parts by weight or less, for example, 0.1 to 5 parts by weight, for example, 1 to 5 parts by weight, for example, 2 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the silicone polymer. It may be included in 3 to 5 parts by weight, but is not necessarily limited thereto.
상기 경화형 수지 조성물은 상기 실리콘계 중합체 말단의 미반응 실란올기 혹은 에폭시기의 경화를 촉진하기 위한 경화 촉매를 더 포함할 수 있으며, 이러한 경화 촉매는 열경화형 촉매 또는 광경화형 촉매일 수 있다. 또한, 사용하는 실리콘계 중합체의 종류에 따라 이러한 경화 촉매를 포함하지 않을 수도 있다. 일 실시예에서, 실리콘계 중합체를 경화하기 위한 경화형 촉매의 예로서 테트라부틸암모늄 아세테이트(TBAA)와 같은 암모늄 염 형태를 가지는 것을 포함할 수 있다. The curable resin composition may further include a curing catalyst for promoting curing of unreacted silanol groups or epoxy groups at the terminals of the silicone polymer. This curing catalyst may be a thermal curing catalyst or a photocuring catalyst. Additionally, depending on the type of silicone polymer used, such curing catalyst may not be included. In one embodiment, an example of a curing catalyst for curing a silicone-based polymer may include one having an ammonium salt form such as tetrabutylammonium acetate (TBAA).
상기 경화 촉매를 사용할 경우, 이러한 촉매는 상기 실리콘계 중합체 100 중량부에 대해 0.1 내지 1 중량부, 예컨대, 0.3 내지 1 중량부, 예컨대, 0.5 내지 1 중량부, 예컨대, 0.7 내지 1 중량부, 예컨대, 0.8 내지 1 중량부로 포함될 수 있나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.When using the curing catalyst, this catalyst is used in an amount of 0.1 to 1 part by weight, such as 0.3 to 1 part by weight, such as 0.5 to 1 part by weight, such as 0.7 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the silicone polymer. It may be included in 0.8 to 1 part by weight, but is not necessarily limited thereto.
다른 일 구현예는 상기 경화형 수지 조성물을 경화하여 얻은 경화막을 제공한다.Another embodiment provides a cured film obtained by curing the curable resin composition.
일 구현예에 따른 경화형 수지 조성물을 경화하여 얻은 경화막은 저굴절 특성을 가질 뿐만 아니라, 3.2㎛ 이상, 구체적으로 3.6㎛ 이상, 보다 구체적으로 4㎛ 이상의 단차가 있는 경우에도 경화막의 크랙이 발생하지 않는 내크랙성을 가지며, 또한, 2㎛ 이상의 코팅막을 형성하는 경우에도 투명도가 우수한 코팅막을 구현할 수 있다.The cured film obtained by curing the curable resin composition according to one embodiment not only has low refractive index characteristics, but also does not cause cracks in the cured film even when there is a step of 3.2 ㎛ or more, specifically 3.6 ㎛ or more, and more specifically 4 ㎛ or more. It has crack resistance and can also produce a coating film with excellent transparency even when forming a coating film of 2㎛ or more.
구체적으로, 상기 경화형 수지 조성물을 경화하여 얻은 경화막은 230℃의 저온 공정 온도에서 경화막 두께 7㎛ 까지 내크랙성을 가질 수 있다. 또한, 650nm 파장에서의 Haze 수치로 0.5% 이하의 값을 보여 고투명성을 가지며, 500nm 내지 550nm 파장에서의 굴절률은 1.35 이하, 예컨대 1.23 이하, 예컨대, 1.18 이하의 굴절률을 확보할 수 있다. 또한, 1.5cm x 1.5cm 크기의 시편에 일 구현예에 따른 조성물을 도포하고, 여기에 pin을 고정시킨 후, 180℃에서 30분 동안 경화시키고 나서, pin과 시편 간의 접착력을 측정(stud pin test)할 경우, 7MPa 이상, 예컨대 10MPa 이상, 예컨대 20MPa 이상의 접착력을 가질 수 있다.Specifically, the cured film obtained by curing the curable resin composition can have crack resistance up to a cured film thickness of 7㎛ at a low processing temperature of 230°C. In addition, it has high transparency with a Haze value of 0.5% or less at a wavelength of 650 nm, and a refractive index of 1.35 or less, for example, 1.23 or less, for example, 1.18 or less at a wavelength of 500 nm to 550 nm. In addition, the composition according to one embodiment was applied to a specimen measuring 1.5cm x 1.5cm, a pin was fixed thereto, cured at 180°C for 30 minutes, and then the adhesion between the pin and the specimen was measured (stud pin test) ), it may have an adhesive strength of 7 MPa or more, for example, 10 MPa or more, for example, 20 MPa or more.
또 다른 일 구현예는 상기 경화막을 포함하는 소자를 제공한다.Another embodiment provides a device including the cured film.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following example is only a preferred example of the present invention, and the present invention is not limited by the following example.
실시예Example
합성예 1: 실록산 중합체 (A-1) 제조Synthesis Example 1: Preparation of siloxane polymer (A-1)
500ml의 3구 플라스크에 메틸트리메톡시실란(Methyltrimethoxy silane; MTMS)을 77.15g, 테트라에톡시 오르쏘실리케이트(Tetraethoxy orthosilicate; TEOS)를 50.57g, PGMEA를 215.56 g 투입하고, 실온에서 교반하면서 물 45.43g에 염산(36% 수용액) 0.09g을 녹인 염산 수용액을 10분에 걸쳐 첨가한다. 이후, 플라스크를 60℃의 오일 베스에 담그고 4시간 교반한 후, 진공 펌프와 딘스탁(Dean stark)을 이용하여 3시간 반응시킨 다음, 부산물인 메탄올, 에탄올, 염산수용액, 및 물을 증발시켜 분자량을 조절한 실록산 중합체 용액 (A-1)을 얻는다. Add 77.15 g of methyltrimethoxy silane (MTMS), 50.57 g of tetraethoxy orthosilicate (TEOS), and 215.56 g of PGMEA to a 500 ml three-necked flask, and add 45.43 g of water while stirring at room temperature. An aqueous hydrochloric acid solution in which 0.09 g of hydrochloric acid (36% aqueous solution) is dissolved in g is added over 10 minutes. Afterwards, the flask was immersed in an oil bath at 60°C and stirred for 4 hours, then reacted for 3 hours using a vacuum pump and Dean stark, and then the by-products of methanol, ethanol, aqueous hydrochloric acid solution, and water were evaporated to reduce the molecular weight. Obtain an adjusted siloxane polymer solution (A-1).
수득된 실록산 중합체 용액(A-1)의 고형분 농도는 20.5 중량%이고, 수득된 실록산 중합체 (A-1)의 폴리스티렌 환산 중량평균분자량 (Mw)은 2,600 g/mol이다.The solid content concentration of the obtained siloxane polymer solution (A-1) was 20.5% by weight, and the weight average molecular weight (Mw) of the obtained siloxane polymer (A-1) in terms of polystyrene was 2,600 g/mol.
합성예 2: 실록산 중합체 (A-2) 제조Synthesis Example 2: Preparation of siloxane polymer (A-2)
500ml의 3구 플라스크에 메틸트리메톡시실란(Methyltrimethoxy silane; MTMS) 58.67g, 테트라에톡시 오르쏘실리케이트(Tetraethoxy orthosilicate; TEOS) 37.31g, n-페닐아미노프로필트리에톡시실란(n-phenylaminopropyltriethoxysilane) 36.59g, 및 PGMEA 221.94g 투입하고, 실온에서 교반하면서 물 38.71g에 염산(36% 수용액) 0.03g을 녹인 염산 수용액을 10분에 걸쳐 첨가한다. 이후, 플라스크를 60℃의 오일 베스에 담그고 4.5시간 교반한 후, 진공 펌프와 딘스탁(Dean stark)을 이용하여 3시간 반응시킨 다음, 부산물인 메탄올, 에탄올, 염산수용액, 및 물을 증발시켜 분자량을 조절한 실록산 중합체 용액 (A-2)을 얻는다. In a 500 ml three-neck flask, 58.67 g of methyltrimethoxy silane (MTMS), 37.31 g of tetraethoxy orthosilicate (TEOS), and 36.59 g of n-phenylaminopropyltriethoxysilane (n-phenylaminopropyltriethoxysilane) g, and 221.94 g of PGMEA were added, and an aqueous hydrochloric acid solution prepared by dissolving 0.03 g of hydrochloric acid (36% aqueous solution) in 38.71 g of water was added over 10 minutes while stirring at room temperature. Afterwards, the flask was immersed in an oil bath at 60°C and stirred for 4.5 hours, then reacted for 3 hours using a vacuum pump and Dean stark, and then the by-products of methanol, ethanol, hydrochloric acid aqueous solution, and water were evaporated to reduce the molecular weight. Obtain an adjusted siloxane polymer solution (A-2).
수득된 실록산 중합체 용액(A-2)의 고형분 농도는 20.2 중량%이고, 수득된 실록산 중합체 (A-2)의 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량(Mw)은 2,540 g/mol이다.The solid content concentration of the obtained siloxane polymer solution (A-2) was 20.2% by weight, and the weight average molecular weight (Mw) of the obtained siloxane polymer (A-2) in terms of polystyrene was 2,540 g/mol.
경화형 수지 조성물 제조Manufacture of curable resin composition
경화형 수지 조성물 제조에 사용되는 성분의 사양은 다음과 같다.The specifications of the ingredients used to manufacture the curable resin composition are as follows.
(A) 실리콘계 중합체(A) Silicone-based polymer
(A-1) 합성예 1에서 제조된 실록산 중합체(A-1) Siloxane polymer prepared in Synthesis Example 1
(A-2) 합성예 2에서 제조된 실록산 중합체(A-2) Siloxane polymer prepared in Synthesis Example 2
(B) 표면 상에 화학식 1로 표시되는 관능기를 포함하는 입자(B) Particles containing a functional group represented by Formula 1 on the surface
(B-1) 하기 화학식 E-1로 표시되는 관능기로 표면처리된 중공 입자 분산액 (고형분 20%, 평균 직경 85nm; 나노신소재 社)(B-1) A hollow particle dispersion surface-treated with a functional group represented by the following formula E-1 (solid content 20%, average diameter 85 nm; Nano New Materials Co., Ltd.)
[화학식 E-1][Formula E-1]
(B-2) 하기 화학식 E-2로 표시되는 관능기로 표면처리된 중공 입자 분산액 (고형분 20%, 평균 직경 85nm; 나노신소재 社)(B-2) A hollow particle dispersion surface-treated with a functional group represented by the following formula E-2 (solid content 20%, average diameter 85 nm; Nano New Materials Co., Ltd.)
[화학식 E-2][Formula E-2]
(B-3) 하기 화학식 E-3으로 표시되는 관능기로 표면처리된 중공 입자 분산액 (고형분 20%, 평균 직경 85nm; 나노신소재 社)(B-3) A hollow particle dispersion surface-treated with a functional group represented by the following formula E-3 (solid content 20%, average diameter 85 nm; Nano New Materials Co., Ltd.)
[화학식 E-3][Formula E-3]
(C) 용매(C) Solvent
프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA, SIGMA-ALDRICH 社)Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA, SIGMA-ALDRICH)
(D) 기타 첨가제(D) Other additives
(D-1) 불소계 계면활성제 (F-563, DIC 社)(D-1) Fluorine-based surfactant (F-563, DIC Company)
(D-2) 기공 유도물질(porogen; polypropylene glycol 4000, SIGMA-ALDRICH 社)(D-2) Pore inducing material (porogen; polypropylene glycol 4000, SIGMA-ALDRICH)
실시예 1 내지 실시예 9, 비교예 1 및 비교예 2Examples 1 to 9, Comparative Example 1 and Comparative Example 2
하기 표 1의 조성에 따라, 중합체, 표면처리된 입자, 용매 및 기타 첨가제를 각각 혼합하고, 약 30분 동안 교반하여, 경화형 수지 조성물을 제조한다.According to the composition in Table 1 below, the polymer, surface-treated particles, solvent, and other additives are mixed and stirred for about 30 minutes to prepare a curable resin composition.
(분산액)particle
(dispersion)
경화막의 제조 및 평가Preparation and evaluation of cured films
(1) 굴절률 평가(1) Refractive index evaluation
실시예 1 내지 실시예 9, 비교예 1 및 비교예 2에서 제조된 경화형 수지 조성물을 실리콘 웨이퍼 위에 스핀코터 MS-A100 (미카사 제품)를 사용하여 200rpm으로 5초간 스핀-코팅한 후, 열판(hot-plate)을 이용하여 100℃에서 2분, 그리고 230℃에서 20분 간 베이킹하여 1.0㎛ 두께의 코팅 경화막을 얻는다.The curable resin compositions prepared in Examples 1 to 9, Comparative Examples 1 and 2 were spin-coated on a silicon wafer using a spin coater MS-A100 (Mikasa product) at 200 rpm for 5 seconds, then applied to a hot plate (hot plate). -plate) to obtain a 1.0㎛ thick coating cured film by baking at 100℃ for 2 minutes and then at 230℃ for 20 minutes.
상기 경화막에 대해 엘립소미터 Base-160 (J.A.woollam 社)를 사용하여 370nm 내지 1,000nm 파장에서 굴절률을 측정하였으며, 그 중 550nm 에서의 굴절률을 하기 표 2에 나타낸다.The refractive index of the cured film was measured at a wavelength of 370 nm to 1,000 nm using an ellipsometer Base-160 (J.A. Woollam Co., Ltd.), of which the refractive index at 550 nm is shown in Table 2 below.
(2) 내크랙성(크랙 마진) 평가(2) Crack resistance (crack margin) evaluation
실시예 1 내지 실시예 9, 비교예 1 및 비교예 2에서 제조된 경화형 수지 조성물을 유리기판 위에 스핀코터 MS-A100 (미카사 社)를 사용하여 200 rpm으로 5초간 스핀-코팅한 후, 열판(hot-plate)을 이용하여 100℃에서 2분, 그리고 230℃에서 20분 간 베이킹하여 5.0㎛ 두께의 코팅 경화막을 얻는다.The curable resin compositions prepared in Examples 1 to 9, Comparative Examples 1 and 2 were spin-coated on a glass substrate at 200 rpm for 5 seconds using a spin coater MS-A100 (Mikasa Co., Ltd.), and then applied to a hot plate ( Using a hot-plate, bake at 100℃ for 2 minutes and then at 230℃ for 20 minutes to obtain a 5.0㎛ thick coating cured film.
상기 경화막에 대해 크랙이 발생하지 않는 경우 면도칼을 이용하여 도막의 일부를 벗겨낸 뒤 Tencor KLA P-6을 이용하여 단차의 두께를 다시 측정하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타낸다.When no cracks occurred in the cured film, part of the coating film was peeled off using a razor, and the thickness of the step was measured again using Tencor KLA P-6, and the results are shown in Table 2 below.
(3) 헤이즈 평가(3) Haze evaluation
실시예 1 내지 실시예 9, 비교예 1 및 비교예 2에서 제조된 경화형 수지 조성물을 유리기판 위에 스핀코터 MS-A100 (미카사 社)를 사용하여 200 rpm으로 5초간 스핀-코팅한 후, 열판(hot-plate)을 이용하여 100℃에서 2분, 그리고 230℃에서 20분 간 베이킹하여, 4.0㎛ 두께의 코팅 경화막을 얻는다.The curable resin compositions prepared in Examples 1 to 9, Comparative Examples 1 and 2 were spin-coated on a glass substrate at 200 rpm for 5 seconds using a spin coater MS-A100 (Mikasa Co., Ltd.), and then applied to a hot plate ( Using a hot-plate, bake at 100°C for 2 minutes and then at 230°C for 20 minutes to obtain a 4.0㎛ thick coating cured film.
상기 경화막에 대해 Hazemeter를 이용하여 650nm 파장에서 경화막의 탁함의 정도를 Haze 수치로서 측정하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타낸다.The degree of haze of the cured film was measured as a Haze value at a wavelength of 650 nm using a Hazemeter, and the results are shown in Table 2 below.
(4) 접착력 평가(4) Adhesion evaluation
실시예 1 내지 실시예 9, 비교예 1 및 비교예 2에서 제조된 경화형 수지 조성물을 1.5cm x 1.5cm 크기의 시편에 도포한 후, 여기에 pin을 고정시키고 180℃에서 30분 동안 경화시켰다. 이 후, UTM을 통해 pin과 시편 간 접착력을 측정(stud pin test)하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타낸다.The curable resin composition prepared in Examples 1 to 9, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 was applied to a specimen measuring 1.5 cm x 1.5 cm, a pin was fixed there, and the specimen was cured at 180°C for 30 minutes. Afterwards, the adhesion between the pin and the specimen was measured through UTM (stud pin test), and the results are shown in Table 2 below.
상기 표 2를 참조하면, 화학식 1로 표시되는 관능기를 표면에 포함하는 입자는 그렇지 않은 입자에 비해 저굴절률 특성을 확보하면서, 우수한 크랙 마진, 투명성 및 접착력을 가짐을 확인할 수 있다. 특히, 상기 화학식 1로 표시되는 관능기를 표면에 포함하는 입자를 사용할 경우, 별도의 기공 유도물질(porogen)을 사용하지 않아도, 매우 우수한 효과(저굴절 특성, 우수한 크랙 마진, 고투명성 및 높은 접착력)를 가짐을 확인할 수 있다.Referring to Table 2, it can be seen that particles containing the functional group represented by Formula 1 on the surface have low refractive index characteristics compared to particles that do not have the functional group, while having excellent crack margin, transparency, and adhesion. In particular, when using particles containing the functional group represented by Formula 1 on the surface, excellent effects (low refractive properties, excellent crack margin, high transparency and high adhesion) are achieved even without the use of a separate pore-inducing material (porogen). It can be confirmed that it has .
이상 본 발명의 바람직한 실시예들에 대해 상세히 설명하였지만, 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, it is not limited to the above embodiments and can be manufactured in various different forms, and those skilled in the art will understand the technical aspects of the present invention. It will be understood that it can be implemented in other specific forms without changing the idea or essential features. Therefore, the embodiments described above should be understood in all respects as illustrative and not restrictive.
Claims (13)
(B) 표면 상에 하기 화학식 1로 표시되는 관능기를 포함하는 입자; 및
(C) 용매
를 포함하는 경화형 수지 조성물:
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
R1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
L1은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
L2 및 L3은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
n은 1 이상의 정수이다.
(A) Silicone-based polymer;
(B) particles containing a functional group represented by the following formula (1) on the surface; and
(C) Solvent
A curable resin composition comprising:
[Formula 1]
In Formula 1,
R 1 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
L 1 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
L 2 and L 3 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
n is an integer greater than or equal to 1.
상기 L2 및 L3은 서로 동일한 경화형 수지 조성물.
According to paragraph 1,
A curable resin composition wherein L 2 and L 3 are the same.
상기 n은 2 내지 30의 정수인 경화형 수지 조성물.
According to paragraph 1,
The curable resin composition wherein n is an integer of 2 to 30.
상기 실리콘계 중합체는 실록산 중합체인 경화형 수지 조성물.
According to paragraph 1,
A curable resin composition in which the silicone-based polymer is a siloxane polymer.
상기 입자는 중공 구조를 가지는 경화형 수지 조성물.
According to paragraph 1,
The particles are a curable resin composition having a hollow structure.
상기 입자는 티타늄 산화물, 규소 산화물, 바륨 산화물, 아연 산화물, 지르코늄 산화물 또는 이들의 조합을 포함하는 중공 금속 산화물의 미립자인 수지 경화형 수지 조성물.
According to paragraph 1,
A curable resin composition wherein the particles are fine particles of hollow metal oxide containing titanium oxide, silicon oxide, barium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, or a combination thereof.
상기 입자는 중공 실리카인 경화형 수지 조성물.
According to paragraph 1,
A curable resin composition in which the particles are hollow silica.
상기 입자의 평균 직경(D50)은 10nm 내지 150nm인 경화형 수지 조성물.
According to paragraph 1,
A curable resin composition wherein the particles have an average diameter (D 50 ) of 10 nm to 150 nm.
상기 실리콘계 중합체의 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량(Mw)은 1,000 g/mol 내지 50,000 g/mol인 경화형 수지 조성물.
According to paragraph 1,
A curable resin composition wherein the silicone polymer has a weight average molecular weight (Mw) converted to polystyrene of 1,000 g/mol to 50,000 g/mol.
상기 경화형 수지 조성물은,
상기 (A) 실리콘계 중합체 100 중량부에 대해,
상기 (B) 표면 상에 상기 화학식 1로 표시되는 관능기를 포함하는 입자를 1 중량부 내지 100 중량부 포함하고,
상기 (C) 용매를 100 중량부 내지 2,000 중량부로 포함하는 경화형 수지 조성물.
According to paragraph 1,
The curable resin composition is,
For 100 parts by weight of the (A) silicone polymer,
(B) comprising 1 to 100 parts by weight of particles containing a functional group represented by Formula 1 on the surface,
A curable resin composition containing 100 to 2,000 parts by weight of the solvent (C).
A cured film obtained by curing the curable resin composition of any one of claims 1 to 10.
상기 경화막은 500nm 내지 550nm에서의 굴절률이 1.35 이하인 경화막.
According to clause 11,
The cured film is a cured film having a refractive index of 1.35 or less at 500 nm to 550 nm.
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