KR102574926B1 - Perovskite silicon tandem solar cell and method for manufacturing the same - Google Patents
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- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 78
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 78
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 77
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 21
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 11
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 9
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 claims description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N [60]pcbm Chemical compound C123C(C4=C5C6=C7C8=C9C%10=C%11C%12=C%13C%14=C%15C%16=C%17C%18=C(C=%19C=%20C%18=C%18C%16=C%13C%13=C%11C9=C9C7=C(C=%20C9=C%13%18)C(C7=%19)=C96)C6=C%11C%17=C%15C%13=C%15C%14=C%12C%12=C%10C%10=C85)=C9C7=C6C2=C%11C%13=C2C%15=C%12C%10=C4C23C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- KTSFMFGEAAANTF-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Se].[Se].[In] Chemical compound [Cu].[Se].[Se].[In] KTSFMFGEAAANTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 2
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N nickel(II) oxide Inorganic materials [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- KWVPRPSXBZNOHS-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-Trimethylaniline Chemical compound CC1=CC(C)=C(N)C(C)=C1 KWVPRPSXBZNOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDXWNHPWWKGTKO-UHFFFAOYSA-N 207739-72-8 Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N(C=1C=C2C3(C4=CC(=CC=C4C2=CC=1)N(C=1C=CC(OC)=CC=1)C=1C=CC(OC)=CC=1)C1=CC(=CC=C1C1=CC=C(C=C13)N(C=1C=CC(OC)=CC=1)C=1C=CC(OC)=CC=1)N(C=1C=CC(OC)=CC=1)C=1C=CC(OC)=CC=1)C1=CC=C(OC)C=C1 XDXWNHPWWKGTKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- -1 ITO Chemical class 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001167 Poly(triaryl amine) Polymers 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WILFBXOGIULNAF-UHFFFAOYSA-N copper sulfanylidenetin zinc Chemical compound [Sn]=S.[Zn].[Cu] WILFBXOGIULNAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEQRNSPHCCXSH-UHFFFAOYSA-N iodine monobromide Chemical compound IBr CBEQRNSPHCCXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSZZLVAJGOAAY-UHFFFAOYSA-L lead(II) chloride Chemical compound Cl[Pb]Cl HWSZZLVAJGOAAY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
- H01L31/072—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type
- H01L31/0725—Multiple junction or tandem solar cells
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
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- H01L31/0232—Optical elements or arrangements associated with the device
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0236—Special surface textures
- H01L31/02366—Special surface textures of the substrate or of a layer on the substrate, e.g. textured ITO/glass substrate or superstrate, textured polymer layer on glass substrate
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Abstract
일 측면에 따른 탠덤 태양전지는 실리콘 하부셀; 상기 실리콘 하부셀 위에 배치된 페로브스카이트 상부셀; 상기 실리콘 하부셀과 상기 페로브스카이트 상부셀 사이에서 상기 실리콘 하부셀과 상기 페로브스카이트 상부셀을 결합시키는 결합층을 포함하고, 상기 결합층과 접한 상기 실리콘 하부셀의 전면부는 텍스쳐 구조를 포함하고, 상기 결합층은 상기 텍스쳐 구조의 측벽에 형성된 제1 투명전극층, 상기 제1 투명전극층 위로 상기 텍스쳐 구조의 오목 부분을 매립하고 있는 매립층, 상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 텍스쳐 구조의 상면 위의 제2 투명전극층을 포함한다.A tandem solar cell according to one aspect includes a silicon lower cell; a perovskite upper cell disposed over the silicon lower cell; A bonding layer for bonding the silicon lower cell and the perovskite upper cell between the silicon lower cell and the perovskite upper cell, and the front surface of the silicon lower cell in contact with the bonding layer has a texture structure The bonding layer includes a first transparent electrode layer formed on a sidewall of the textured structure, a buried layer filling the concave portion of the textured structure on top of the first transparent electrode layer, the buried layer, the first transparent electrode layer, and the textured structure. and a second transparent electrode layer on the upper surface.
Description
본 발명은 실리콘 하부셀과 페로브스카이트 상부셀을 포함하는 탠덤 태양전지 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a tandem solar cell including a silicon lower cell and a perovskite upper cell and a manufacturing method thereof.
태양전지는 태양광 에너지를 전기로 변환하는 친환경 소자이다. 태양광이 태양전지의 광흡수층에 흡수되어 전자-정공쌍이 형성되어야 태양광 발전이 가능한데, 광흡수층의 밴드갭 이상의 입사광만이 흡수되며, 그 중 입사광의 에너지와 밴드갭의 차이만큼의 여분의 에너지는 열에너지로 소모되고, 밴드갭 이하의 입사광의 에너지는 흡수되지 못한다. 따라서 태양광을 효율적으로 사용하기 위하여 서로 다른 밴드갭을 갖는 여러 개의 광흡수층이 도입된 탠덤 태양전지가 각광받고 있다. A solar cell is an eco-friendly device that converts sunlight energy into electricity. Photovoltaic power generation is possible only when sunlight is absorbed by the light absorption layer of a solar cell and electron-hole pairs are formed. Only incident light over the band gap of the light absorption layer is absorbed. is consumed as thermal energy, and the energy of the incident light below the bandgap is not absorbed. Therefore, in order to efficiently use sunlight, a tandem solar cell in which several light absorbing layers having different band gaps are introduced is attracting attention.
차세대 태양전지의 광흡수층 소재로서 각광받고 있는 페로브스카이트(perovskite)는 밴드갭의 조절이 용이하고, 실리콘이나 CIGS(copper indium gallium selenide), CZTS(Copper zinc tin sulfide) 등의 박막 태양전지 하부셀과 접합시 하부셀과의 효율적인 입사광 분배가 가능하다. 또한, 페로브스카이트는 저온의 용액 공정에 의하여 박막을 형성할 수 있으므로 생산 가격을 낮출 수 있다. Perovskite, which is in the limelight as a material for the light absorption layer of next-generation solar cells, is easy to control the bandgap and can be applied to the bottom of thin film solar cells such as silicon, CIGS (copper indium gallium selenide), or CZTS (copper zinc tin sulfide). When bonding with a cell, efficient distribution of incident light with the lower cell is possible. In addition, since perovskite can form a thin film by a low-temperature solution process, production cost can be reduced.
하부셀의 실리콘 태양전지는 입사광의 반사를 감소시키기 위해 전면부에 피라미드 모양의 텍스쳐(texture) 구조를 도입하는데, 이 텍스쳐 구조의 크기는 통상적으로 마이크로미터(㎛) 단위이다. 한편, 상부셀의 페로브스카이트 광흡수층은 수백 나노미터의 두께를 가지며, 이러한 두께의 막이 용액 공정에 의하여 마이크로미터 크기의 텍스쳐 구조 위에 균일하게 형성되기 어렵다. The silicon solar cell of the lower cell introduces a pyramid-shaped texture structure on the front surface to reduce reflection of incident light, and the size of the texture structure is usually in micrometers (μm) units. Meanwhile, the perovskite light absorption layer of the upper cell has a thickness of several hundred nanometers, and it is difficult to uniformly form a film having such a thickness on the micrometer-sized textured structure by a solution process.
따라서 종래의 용액 공정을 사용하는 페로브스카이트 상부셀과 텍스쳐 구조를 갖는 실리콘 하부셀의 탠덤 소자는 균일하지 않은 페로브스카이트 광흡수층의 형성에 의하여 광변환효율이 낮아진다. 반면, 용액 공정을 사용하는 페로브스카이트 상부셀과 텍스쳐 구조를 갖지 않는 실리콘 하부셀의 이중접합 탠덤 소자는 균일한 페로브스카이트층을 형성할 수 있으나 실리콘 하부셀의 전면부 반사에 의한 광손실이 발생하게 된다. Therefore, in a tandem device of a perovskite upper cell using a conventional solution process and a silicon lower cell having a textured structure, light conversion efficiency is lowered due to the formation of a non-uniform perovskite light absorption layer. On the other hand, the dual-junction tandem device of a perovskite upper cell using a solution process and a silicon lower cell without a texture structure can form a uniform perovskite layer, but light loss due to reflection of the front surface of the silicon lower cell this will happen
본 발명은 종래의 문제를 해결하고자 실리콘 하부셀의 텍스쳐 구조 위에 용액 공정에 의하여 페로브스카이트 상부셀의 광변환층을 균일하게 형성할 수 있도록 하는 실리콘 페로브스카이트 탠덤 태양전지 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.The present invention is a silicon perovskite tandem solar cell and a method of manufacturing the same that can uniformly form a light conversion layer of a perovskite upper cell by a solution process on a texture structure of a silicon lower cell in order to solve a conventional problem is to provide
일 측면에 따른 탠덤 태양전지를 제공한다. Provided is a tandem solar cell according to one aspect.
상기 태양전지는 The solar cell
실리콘 하부셀; a silicon subcell;
상기 실리콘 하부셀 위에 배치된 페로브스카이트 상부셀;a perovskite upper cell disposed over the silicon lower cell;
상기 실리콘 하부셀과 상기 페로브스카이트 상부셀 사이에서 상기 실리콘 하부셀과 상기 페로브스카이트 상부셀을 결합시키는 결합층을 포함한다. A bonding layer coupling the silicon lower cell and the perovskite upper cell between the silicon lower cell and the perovskite upper cell.
상기 결합층과 접한 상기 실리콘 하부셀의 전면부는 텍스쳐 구조를 포함한다. A front surface of the silicon lower cell in contact with the bonding layer includes a texture structure.
상기 결합층은 The bonding layer is
상기 텍스쳐 구조의 측벽에 형성된 제1 투명전극층, A first transparent electrode layer formed on the sidewall of the texture structure;
상기 제1 투명전극층 위로 상기 텍스쳐 구조의 오목 부분을 매립하고 있는 매립층,An embedding layer burying the concave portion of the texture structure on the first transparent electrode layer;
상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 텍스쳐 구조의 상면 위의 제2 투명전극층을 포함한다. and a second transparent electrode layer on the top surface of the filling layer, the first transparent electrode layer, and the texture structure.
상기 텍스쳐 구조는 상부가 잘려진(truncated) 피라미드 모양을 포함할 수 있다. The textured structure may include a pyramidal shape with a truncated top.
상기 제2 투명전극층은 상기 텍스쳐 구조와 상기 매립층 사이에 노출된 상기 제1 투명전극층과 접촉할 수 있다. The second transparent electrode layer may contact the first transparent electrode layer exposed between the texture structure and the filling layer.
상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 텍스쳐 구조의 상면이 평평한 면을 형성할 수 있다. Top surfaces of the filling layer, the first transparent electrode layer, and the texture structure may form a flat surface.
상기 텍스쳐 구조는 서브 마이크로미터 내지 수십 마이크로미터 범위의 크기를 가질 수 있다. The textured structure may have a size ranging from sub-micrometers to tens of micrometers.
상기 제1 투명전극층 및 상기 제2 투명전극층은 서로 독립적으로 산화알루미늄아연(AZO; aluminium zinc oxide), 산화인듐주석(ITO; indium tin oxide), 불소함유 산화주석(FTO: fluorine doped tin oxide), 또는 산화인듐아연(IZO; indium zinc oxide)을 포함할 수 있다. The first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer are independently made of aluminum zinc oxide (AZO), indium tin oxide (ITO), fluorine doped tin oxide (FTO), Alternatively, indium zinc oxide (IZO) may be included.
상기 매립층은 열경화성 또는 광경화성 고분자 물질을 포함할 수 있다. The filling layer may include a thermosetting or photocurable polymer material.
상기 매립층은 에폭시 수지, 아크릴 수지, 실록산 수지, 비닐아세테이트 수지를 포함할 수 있다. The filling layer may include an epoxy resin, an acrylic resin, a siloxane resin, or a vinyl acetate resin.
상기 탠덤 태양전지는 상기 실리콘 하부셀에 연결된 하부 전극 및 The tandem solar cell includes a lower electrode connected to the silicon lower cell and
상기 페로브스카이트 상부셀에 연결된 상부 전극을 더 포함할 수 있다. An upper electrode connected to the perovskite upper cell may be further included.
다른 일 측면에 따른 탠덤 태양전지의 제조방법을 제공한다. Provided is a method of manufacturing a tandem solar cell according to another aspect.
상기 탠덤 태양전지의 제조방법은 The manufacturing method of the tandem solar cell is
실리콘 하부셀의 전면부를 텍스쳐링하여 프리 텍스쳐 구조를 형성하는 단계; forming a pre-textured structure by texturing the front surface of the silicon subcell;
상기 프리 텍스쳐 구조 위에 제1 투명전극층을 균일한 두께로 형성하는 단계;forming a first transparent electrode layer with a uniform thickness on the pre-textured structure;
상기 프리 텍스쳐 구조를 덮도록 상기 제1 투명전극층 위에 매립층을 형성하는 단계; forming a filling layer on the first transparent electrode layer to cover the pre-texture structure;
상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 프리 텍스쳐 구조의 상부를 식각하여 텍스쳐 구조를 형성하고, 상기 텍스쳐 구조의 오목한 부분에 매립된 매립층, 상기 텍스쳐 구조 및 상기 매립층과 상기 텍스쳐 구조 사이의 상기 제1 투명전극층의 상면을 노출시키는 단계;A texture structure is formed by etching upper portions of the filling layer, the first transparent electrode layer, and the pre-texture structure, and the filling layer buried in the concave portion of the texture structure, the texture structure, and the first layer between the filling layer and the texture structure Exposing an upper surface of the transparent electrode layer;
노출된 상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 텍스쳐 구조 위에 제2 투명전극층을 형성하는 단계; 및 forming a second transparent electrode layer on the exposed buried layer, the first transparent electrode layer, and the texture structure; and
상기 제2 투명전극층 위로 페로브스카이트 상부셀을 형성하는 단계를 포함한다. and forming a perovskite upper cell on the second transparent electrode layer.
상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 텍스쳐 구조의 상면은 평평한 면을 형성할 수 있다. Top surfaces of the filling layer, the first transparent electrode layer, and the texture structure may form a flat surface.
상기 텍스쳐 구조는 서브 마이크로미터 내지 수십 마이크로미터 범위의 크기를 가질 수 있다. The textured structure may have a size ranging from sub-micrometers to tens of micrometers.
상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 텍스쳐 구조의 상부를 식각하는 단계는 화학적 식각, 물리적 식각 또는 화학적 기계적 연마를 포함할 수 있다. Etching the upper portions of the filling layer, the first transparent electrode layer, and the texture structure may include chemical etching, physical etching, or chemical mechanical polishing.
상기 페로브스카이트 상부셀을 형성하는 단계는The step of forming the perovskite upper cell is
상기 제2 투명전극층 위에 전자전달층을 형성하는 단계;forming an electron transport layer on the second transparent electrode layer;
상기 전자전달층 위에 페로브스카이트 광흡수층을 형성하는 단계; 및 Forming a perovskite light absorption layer on the electron transport layer; and
상기 페로브스카이트 광흡수층 위에 정공전달층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. A step of forming a hole transport layer on the perovskite light absorption layer may be included.
상기 페로브스카이트 광흡수층은 용액 공정에 의하여 형성될 수 있다. The perovskite light absorption layer may be formed by a solution process.
본 발명의 페로브스카이트 실리콘 탠덤 태양전지의 구조 및 제조방법에 의하여 전면부에 텍스쳐 구조를 갖는 실리콘 하부셀 위에 용액 공정에 의하여 페로브스카이트 상부셀을 형성함으로써 입사광의 포획을 향상시켜 광전류를 증가시킨 페로브스카이트 실리콘 탠덤 태양전지를 용이하고 신뢰성 있게 제작할 수 있다. According to the structure and manufacturing method of the perovskite silicon tandem solar cell of the present invention, a perovskite upper cell is formed by a solution process on a silicon lower cell having a textured structure on the front side, thereby improving the capture of incident light and increasing the photocurrent Increased perovskite silicon tandem solar cells can be fabricated easily and reliably.
도 1은 일 구현예에 따른 페로브스카이트 실리콘 탠덤 태양전지의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 2a 내지 도 2f는 일 구현예에 따른 페로브스카이트 실리콘 탠덤 태양전지의 제조 방법을 단계적으로 나타내는 개략적인 단면도들이다..1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a perovskite silicon tandem solar cell according to an embodiment.
2a to 2f are schematic cross-sectional views showing a method of manufacturing a perovskite silicon tandem solar cell step by step according to an embodiment.
본 명세서에서 사용되는 용어는 단지 특정한 시험예를 설명하기 위해 사용된 것으로서 본 발명의 창의적 사상을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다. 이하에서 "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품, 성분, 재료 또는 이들의 조합이 존재함을 나타내려는 것으로서, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품, 성분, 재료 또는 이들을 조합의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. Terms used in this specification are only used to describe specific test examples and are not intended to limit the creative spirit of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. Hereinafter, the term "comprises" or "has" is intended to indicate that features, numbers, steps, operations, components, parts, components, materials, or combinations thereof described in the specification exist, and one or more It should be understood that it does not preclude the possibility of addition or existence of other features, numbers, steps, operations, components, parts, components, materials or combinations thereof.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하거나 축소하여 나타내었다. 명세서 전체에서 층, 막, 영역 등의 부분이 다른 부분 "상에" 또는 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 명세서 전체에서 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성 요소들은 용어들에 의하여 한정되어서는 안 된다. 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 또한, 본 명세서 및 도면에 있어서 실질적으로 동일한 기능을 가진 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 첨부함으로써 중복설명을 생략한다. In the drawings, the thickness is enlarged or reduced to clearly express various layers and regions. Throughout the specification, when a part such as a layer, film, region, etc. is said to be “on” or “above” another part, this includes not only the case directly above the other part, but also the case where another part is present in the middle. Throughout the specification, terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. Terms are used only to distinguish one component from another. In addition, the same reference numerals are attached to components having substantially the same functions in the present specification and drawings, thereby omitting redundant description.
본 명세서 내에서 하부셀은 탠덤 태양전지의 하부에 형성된 태양전지를 의미하며, 실리콘 하부셀은 하부에 형성된 태양전지가 실리콘 태양전지인 경우를 의미한다. 마찬가지로 본 명세서 내에서 상부셀은 탠덤 태양전지의 상부에 형성된 태양전지를 의미하며, 페로브스카이트 상부셀은 상부에 형성된 태양전지가 페로브스카이트 태양전지인 경우를 의미한다. In the present specification, a lower cell refers to a solar cell formed below a tandem solar cell, and a silicon lower cell refers to a case where the solar cell formed below is a silicon solar cell. Likewise, an upper cell in the present specification means a solar cell formed on top of a tandem solar cell, and a perovskite upper cell means a case where the solar cell formed on the top is a perovskite solar cell.
본 명세서 내에서 텍스쳐 구조는 실리콘 태양전지에 형성된 구조를 의미하며, 실리콘 태양전지에 널리 사용되는 텍스쳐링에 의해 형성된 구조 뿐만 아니라 그로부터 유래한 구조를 포함하는 것을 의미한다. In the present specification, a textured structure means a structure formed in a silicon solar cell, and includes a structure formed by texturing widely used in a silicon solar cell as well as a structure derived therefrom.
본 명세서 내에서 실리콘 태양전지는 광흡수층이 실리콘을 포함하는 태양전지이고, 페로브스카이트 태양전지는 광흡수층이 페로브스카이트 구조를 갖는 물질을 포함하는 태양전지를 의미한다. In the present specification, a silicon solar cell refers to a solar cell in which a light absorbing layer includes silicon, and a perovskite solar cell refers to a solar cell in which a light absorbing layer includes a material having a perovskite structure.
본 명세서 내에서 페로브스카이트 광흡수층은 페로브스카이트 구조를 갖는 광흡수 물질을 포함하는 광흡수층을 의미한다. In the present specification, the perovskite light absorbing layer means a light absorbing layer including a light absorbing material having a perovskite structure.
이하에서 첨부된 도면을 참조하여 구현예들에 따른 탠덤 태양전지와 이를 제조하는 방법을 상세히 설명한다.Hereinafter, a tandem solar cell according to embodiments and a method for manufacturing the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
<탠덤 태양전지><Tandem Solar Cell>
도 1은 일 구현예에 따른 페로브스카이트 실리콘 탠덤 태양전지의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a perovskite silicon tandem solar cell according to an embodiment.
도 1을 참조하면, 페로브스카이트 실리콘 탠덤 태양전지(100)는 실리콘 하부셀(110), 결합층(120)과 페로브스카이트 상부셀(130)을 포함한다.Referring to FIG. 1 , a perovskite silicon tandem solar cell 100 includes a silicon
실리콘 하부셀(110)은 공지의 실리콘 태양전지의 구조 중 하나를 가질 수 있으며, 특정한 구조로 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 실리콘 하부셀(110)은 결정질 실리콘 기판(미도시), p-타입의 비정질 또는 결정질 실리콘 층(미도시), n-타입의 비정질 또는 결정질 실리콘 층(미도시), 비정질 진성(intrinsic) 실리콘 층(미도시)을 포함할 수 있다. 실리콘 하부셀(110)은 전술한 층들 외에도 필요에 따라 부가적인 층들을 더 포함할 수 있다.The silicon subcell 110 may have one of known structures of a silicon solar cell, and is not limited to a specific structure. For example, the
결합층(120)과 접하는 실리콘 하부셀(110)의 전면부는 상부가 잘려진(truncated) 피라미드 모양의 텍스쳐 구조(119)를 가질 수 있다. 실리콘 하부셀(110)의 전면부는 실리콘층일 수 있다. 이 텍스쳐 구조(119)는 서브 마이크로미터 내지 수십 마이크로미터의 크기를 가질 수 있다. 예를 들어 텍스쳐 구조(119)의 너비와 높이는 0.1 ㎛ 내지 5 ㎛ 의 범위일 수 있다. 실리콘 하부셀(110)의 텍스쳐 구조(119)에 의해 입사광의 반사를 감소시키고 입사광의 경로를 증가시켜 광포집을 향상시킴으로써 태양광의 흡수율을 높일 수 있다.A front surface of the silicon
결합층(120)은 실리콘 하부셀(110)과 페로브스카이트 상부셀(130)을 물리적으로 결합시키고 전기적으로 연결시키는 층이다. 결합층(120)은 실리콘 하부셀(110) 전면부의 테스쳐 구조(119)의 측벽에 형성되어 있는 제1 투명전극층(121); 제1 투명전극층(121)의 상면(121a)을 노출하도록 테스쳐 구조(119)의 오목 부분을 매립하고 있는 매립층(123); 매립층(123), 제1 투명전극층(121) 및 실리콘 하부셀(110)의 상면을 덮고 있는 제2 투명전극층(125)을 포함한다. The bonding layer 120 is a layer that physically bonds and electrically connects the silicon
제1 투명전극층(121)과 매립층(123)은 실리콘 하부셀(110)의 텍스쳐 구조(119)를 매립하여 실리콘 하부셀(110)의 전면부를 평평하게 한다. 제2 투명전극층(125)이 제1 투명전극층(121) 및 매립층(123)이 매립된 실리콘 하부셀(110)의 평평한 상면 위에 형성되어 있다. 실리콘 하부셀(110)의 상면에 노출된 제1 투명전극층의 부분(121a)은 제2 투명전극층(125)과 접촉하므로, 실리콘 하부셀(110)은 제1 투명전극층(121)을 통하여 제2 투명전극층(125)에 전기적으로 연결된다. The first
제1 투명전극층(121) 및 제2 투명전극층(125)은 예를 들어 서로 독립적으로 산화알루미늄아연(AZO; aluminium zinc oxide), 산화인듐주석(ITO; indium tin oxide), 불소함유 산화주석(FTO: fluorine doped tin oxide), 산화인듐아연(IZO; indium zinc oxide) 등의 전도성 금속 산화물을 포함할 수 있다. 제1 투명전극층(121)은 예를 들어 5 내지 300 nm 범위의 두께를 가질 수 있다. 제1 투명전극층(121)이 상기 범위의 두께를 가질 때 텍스쳐 구조(119)의 측면에 균일한 두께로 형성될 수 있고, 또한 제2 투명전극층(125)과의 접촉면이 안정적으로 유지될 수 있다. 제2 투명전극층(125)은 예를 들어 5 내지 100 nm 범위의 두께를 가질 수 있다. 제1 투명전극층(121)과 제2 투명전극층(125)이 상기 범위의 두께를 가질 때 전기적으로 연결되어 재결합층의 역할을 할 수 있다. The first
매립층(123)은 1 내지 3의 굴절율을 갖는 투명한 물질로 이루어질 수 있다. 매립층(123)은 예를 들어 광경화성 또는 열경화성의 투명한 고분자 물질을 포함할 수 있다. 상기 광경화성 또는 열경화성의 투명한 고분자 물질은 예를 들어 에폭시 수지, 아크릴 수지, 실록산 수지, 비닐아세테이트 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 매립층(123)이 1 내지 3의 굴절율을 갖는 경우 인접한 층들과 유사한 굴절율을 가질 수 있다. 구체적으로 매립층(123)은 실리콘 하부셀(110)을 구성하는 층들 및 페로브스카이트 상부셀(130)을 구성하는 층들과 유사한 굴절율을 가질 수 있다. 매립층(123)이 인접한 층들과 유사한 굴절율을 가지면 입사광의 반사를 최소화할 수 있다. 선택적으로 매립층(123)은 굴절율이나 투과율에 영향을 주지 않는 범위 내에서 도전성 입자를 더 포함할 수 있다. The filling layer 123 may be made of a transparent material having a refractive index of 1 to 3. The filling layer 123 may include, for example, a photocurable or thermosetting transparent polymer material. The photocurable or thermosetting transparent polymer material may include, for example, an epoxy resin, an acrylic resin, a siloxane resin, a vinyl acetate resin, or a combination thereof, but is not limited thereto. When the buried layer 123 has a refractive index of 1 to 3, it may have a refractive index similar to that of adjacent layers. In detail, the buried layer 123 may have a refractive index similar to those of the layers constituting the silicon
결합층(120) 위의 페로브스카이트 상부셀(130)은 공지의 페로브스카이트 태양전지의 구조 중 하나를 가질 수 있으며, 특정한 구조로 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 페로브스카이트 상부셀(130)은 전자전달층(미도시), 페로브스카이트 광흡수층(미도시), 정공전달층(미도시)을 포함할 수 있다. The upper perovskite cell 130 on the bonding layer 120 may have one of the structures of a known perovskite solar cell, and is not limited to a specific structure. For example, the perovskite upper cell 130 may include an electron transport layer (not shown), a perovskite light absorption layer (not shown), and a hole transport layer (not shown).
전자전달층은 예를 들어 TiO2, SnO2, ZnO, NiO, WO3, TiSrO3, 그래핀, 카본나노튜브, C60 (fullerene), PCBM([6,6]-Phenyl-C61-butyric Acid Methyl Ester) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 전자전달층(미도시)은 예를 들어 1 nm 내지 300 nm 의 두께를 가질 수 있다. The electron transport layer is, for example, TiO 2 , SnO 2 , ZnO, NiO, WO 3 , TiSrO 3 , graphene, carbon nanotube, C 60 (fullerene), PCBM ([6,6]-Phenyl-C 61 -butyric Acid Methyl Ester) or combinations thereof, but is not limited thereto. The electron transport layer (not shown) may have a thickness of, for example, 1 nm to 300 nm.
광흡수층(미도시)은 페로브스카이트 구조를 갖는 광흡수 물질을 포함한다. 페로브스카이트 구조를 갖는 광흡수 물질은 예를 들어 유기 할로겐화물 페로브스카이트 또는 금속 할로겐화물 페로브스카이트를 포함할 수 있다. The light absorption layer (not shown) includes a light absorption material having a perovskite structure. The light absorbing material having a perovskite structure may include, for example, organic halide perovskite or metal halide perovskite.
유기 할로겐화물 페로브스카이트는 예를 들어 CH3NH3PbI3, CH3NH3PbIxCl3-x, CH3NH3PbIxBr3-x, CH3NH3PbClxBr3-x, HC(NH2)2PbI3, HC(NH2)2PbIxCl3-x, HC(NH2)2PbIxBr3-x, HC(NH2)2PbClxBr3-x, (CH3NH3)(HC(NH2)2)1-yPbI3, (CH3NH3)(HC(NH2)2)1-yPbIxCl3-x, (CH3NH3)(HC(NH2)2)1-yPbIxBr3-x, 또는 (CH3NH3)(HC(NH2)2)1-yPbClxBr3-x (0≤x≤1, 0≤y≤1)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 유기 할로겐화물의 유기 암모늄에 Cs 또는 Rb가 일부 도핑된 화합물도 사용될 수 있다. 금속 할로겐화물 페로브스카이트는 예를 들어 요오드화납(PbI2), 요오드화브롬(PbBr) 또는 염화납(PbCl2)을 포함할 수 있다. 상기 광흡수층은 수십 내지 수백 나노미터의 두께를 가질 수 있다. 광흡수층은 예를 들어 100 nm 내지 1000 nm 의 두께를 가질 수 있다. Organic halide perovskites are, for example, CH 3 NH 3 PbI 3 , CH 3 NH 3 PbI x Cl 3-x , CH 3 NH 3 PbI x Br 3 - x , CH 3 NH 3 PbCl x Br 3-x , HC(NH 2 ) 2 PbI 3 , HC(NH 2 ) 2 PbI x Cl 3-x , HC(NH 2 ) 2 PbI x Br 3-x , HC(NH 2 ) 2 PbCl x Br 3-x , (CH 3 NH 3 )(HC(NH 2 ) 2 ) 1-y PbI 3 , (CH 3 NH 3 )(HC(NH 2 ) 2 ) 1-y PbI x Cl 3-x , (CH 3 NH 3 )(HC (NH 2 ) 2 ) 1-y PbI x Br 3-x , or (CH 3 NH 3 )(HC(NH 2 ) 2 ) 1-y PbCl x Br 3-x (0≤x≤1, 0≤y ≤ 1), but is not limited thereto. In addition, a compound in which organic ammonium of the organic halide is partially doped with Cs or Rb may also be used. The metal halide perovskite may include, for example, lead iodide (PbI 2 ), bromine iodide (PbBr), or lead chloride (PbCl 2 ). The light absorption layer may have a thickness of several tens to hundreds of nanometers. The light absorption layer may have a thickness of, for example, 100 nm to 1000 nm.
정공전달층은 예를 들어 전도성 고분자를 포함할 수 있다. 전도성 고분자 물질은 예를 들어 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리 싸이오펜, 폴리-3,4-에틸렌다이옥시싸이오펜-폴리스타이렌설포네이트(PEDOT-PSS), 폴리-[비스(4-페닐)(2,4,6-트리메틸페닐)아민](PTAA), 스피로-미오타드(Spiro-MeOTAD) 또는 폴리아닐린-캄포설폰산(PANI-CSA) 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 정공전달층은 예를 들어 5 nm 내지 300 nm 의 두께를 가질 수 있다.The hole transport layer may include, for example, a conductive polymer. Conductive polymer materials are, for example, polyaniline, polypyrrole, polythiophene, poly-3,4-ethylenedioxythiophene-polystyrenesulfonate (PEDOT-PSS), poly-[bis(4-phenyl)(2,4, 6-trimethylphenyl)amine] (PTAA), spiro-MeOTAD or polyaniline-camphorsulfonic acid (PANI-CSA), etc. may be used, but is not limited thereto. The hole transport layer may have a thickness of, for example, 5 nm to 300 nm.
페로브스카이트 상부셀(130)은 전술한 층들 외에도 필요에 따라 부가적인 층들을 더 포함할 수 있다. The perovskite upper cell 130 may further include additional layers as needed in addition to the above-described layers.
또한 페로브스카이트 실리콘 탠덤 태양전지(100)는 실리콘 하부셀(110)에 연결된 하부 전극(미도시) 페로브스카이트 상부셀(130)에 연결된 상부 전극(미도시)을 더 포함할 수 있다. In addition, the perovskite silicon tandem solar cell 100 may further include a lower electrode (not shown) connected to the silicon
본 구현예에 의한 페로브스카이트 실리콘 탠덤 태양전지는 실리콘 하부셀의 텍스쳐 구조에 의해 태양광의 반사를 감소시켜 태양광의 흡수율을 높일 수 있고, 또한, 텍스쳐 구조 위에 결합층이 평평하게 형성되어 페로브스카이트 상부셀이 신뢰성 있게 형성되어 있다. The perovskite silicon tandem solar cell according to the present embodiment can increase the absorption rate of sunlight by reducing the reflection of sunlight by the texture structure of the silicon lower cell, and also, the bonding layer is formed flat on the texture structure to form a perovskite Skyte upper cell is formed reliably.
<탠덤 태양전지의 제조방법><Manufacturing method of tandem solar cell>
도 2a 내지 도 2f는 일 구현예에 따른 페로브스카이트 실리콘 탠덤 태양전지의 제조 방법을 단계적으로 나타내는 개략적인 단면도들이다.2a to 2f are schematic cross-sectional views showing a method of manufacturing a perovskite silicon tandem solar cell step by step according to an embodiment.
먼저 도 2a를 참조하면, 실리콘 하부셀(110)의 전면부에 텍스쳐링에 의하여 프리 텍스쳐(pre-texure) 구조(118)를 형성할 수 있다. 실리콘 하부셀(110)의 전면부는 실리콘층일 수 있다. 도 2a에 도시되지 않았으나, 전술한 바와 같이 실리콘 하부셀(110)은 p-타입의 비정질 또는 결정질 실리콘 층(미도시), n-타입의 비정질 또는 결정질 실리콘 층(미도시), 비정질 진성 실리콘 층(미도시)을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않고 다양한 구조를 가질 수 있다. 텍스쳐링은 예를 들어 식각(etching) 또는 그루빙(grooving)을 통하여 수행할 수 있다. 프리 텍스쳐 구조(118)는 예를 들어 피라미드 모양일 수 있다. 텍스쳐링을 위한 식각시 예를 들어 수산화칼륨(KOH)이나 수산화나트륨(NaOH)과 같은 염기성 용액 또는 질산(HNO3), 불산(HF)과 같은 산성 용액을 사용할 수 있다. 텍스쳐링을 위한 그루빙은 예를 들어 레이저를 이용하여 이루어질 수 있다. 한편, 실리콘 하부셀(110)의 후면부는 텍스쳐 구조를 갖거나 평탄한 구조를 가질 수 있다.First, referring to FIG. 2A , a pre-texture structure 118 may be formed on the front surface of the silicon
도 2b를 참조하면, 상기 프리 텍스쳐 구조(118) 위에 제1 투명전극층(121)을 형성할 수 있다. 제1 투명전극층(121)은 예를 들어 ITO, AZO, FTO, IZO 와 같은 전도성 금속 산화물을 이용하여 형성할 수 있다. 제1 투명전극층(121)의 전도성 금속 산화물을 예를 들어 스퍼터링 또는 스핀코팅 등의 방법을 이용하여 형성할 수 있다. 이때 제1 투명전극층(121)은 텍스쳐 구조(119)의 요철이 유지되도록 균일한 두께로 컨포멀하게 형성할 수 있다. 예를 들어 제1 투명전극층(121)은 5 내지 300 nm 범위의 두께로 형성할 수 있다. Referring to FIG. 2B , a first
도 2c를 참조하면, 실리콘 하부셀(110)의 프리 텍스쳐 구조(118)를 완전히 덮도록 제1 투명전극층(121) 위에 매립층(123)을 형성할 수 있다. 매립층(123)은 예를 들어 1 내지 3의 굴절율을 갖는 열경화 또는 광경화성 투명 고분자 물질로 형성할 수 있다. 매립층(123)은 예를 들어 에폭시 수지, 아크릴 수지, 실록산 수지, 비닐아세테이트 수지 또는 이들의 조합 등으로 형성할 수 있다. 선택적으로 매립층(123)이 도전성 입자를 더 포함하도록 형성될 수 있다. 매립층(123)은 하부 텍스쳐 구조(119)의 평탄화 공정을 진행할 수 있도록 적절한 두께로 형성할 수 있다.Referring to FIG. 2C , a filling layer 123 may be formed on the first
도 2d를 참조하면, 매립층(123), 제1 투명전극층(121) 및 프리 텍스쳐 구조(118)의 상부를 식각하여 제1 투명전극층(121)을 노출시키면서 실리콘 하부셀(110)의 상면을 평탄하게 만들 수 있다. 이러한 평탄화 공정시 예를 들어 화학적 식각, 물리적 식각 또는 화학적 기계적 연마 등의 방법을 사용할 수 있다. 예를 들어 물리 화학적 연마를 위하여 실리카, 다이아몬드, 알루미나, 또는 산화세륨을 포함한 콤파운드 또는 서스펜션 등을 사용할 수 있다. 프리 텍스쳐 구조(118)의 상부가 식각되어 텍스쳐 구조(119)가 형성되고, 텍스쳐 구조(119)의 오목한 부분에 매립된 매립층(123)의 상면과 제1 투명전극층(121)의 상면(121a)이 노출된다. Referring to FIG. 2D, the top surface of the silicon
도 2e를 참조하면, 전술한 평탄화 식각 후 노출된 텍스쳐 구조(119), 제1 투명전극층(121) 및 매립층(123) 위로 제2 투명전극층(125)을 형성할 수 있다. 제2 투명전극층(125)은 예를 들어 AZO, ITO, FTO, IZO 등을 포함할 수 있다. 제2 투명전극층(125)은 제1 투명전극층(121)과 동일한 물질로 형성할 수 있다. 선택적으로 제2 투명전극층(125)은 제1 투명전극층(121)과 다른 물질로 형성할 수 있다. 제2 투명전극층(125)이 제1 투명전극층(121)과 접촉되어 전기적으로 연결된다. 제1 투명전극층(121)과 제2 투명전극층(125)은 매립층(123)과 함께 실리콘 하부셀(110)과 페로브스카이트 상부셀(130)을 연결하는 결합층(120)을 형성한다. 실리콘 하부셀(110)로부터의 전자와 페로브스카이트 상부셀(130)로부터의 정공이 결합층(120) 내의 제1 투명전극층(121)과 제2 투명전극층(125)에서 재결합하여 전하적 중성을 유지할 수 있다. Referring to FIG. 2E , a second transparent electrode layer 125 may be formed on the texture structure 119 , the first
도 2f를 참조하면, 제2 투명전극층(125) 위로 페로브스카이트 상부셀(130)을 형성할 수 있다. 페로브스카이트 상부셀(130)은 공지의 방법에 의하여 형성할 수 있다. 도 2f에 도시되지 않았으나, 페로브스카이트 상부셀(130)은 정공전달층, 광흡수층, 전자전달층을 포함할 수 있다. 본 구현예의 정공전달층, 광흡수층, 전자전달층에 대하여 전술한 구현예에 따른 탠덤 태양전지의 내용을 참조한다. Referring to FIG. 2F , a perovskite upper cell 130 may be formed on the second transparent electrode layer 125 . The perovskite upper cell 130 may be formed by a known method. Although not shown in FIG. 2F , the perovskite upper cell 130 may include a hole transport layer, a light absorption layer, and an electron transport layer. For the hole transport layer, the light absorption layer, and the electron transport layer of the present embodiment, the contents of the tandem solar cell according to the above embodiment are referred to.
예를 들어 제2 투명전극층(125) 위로 전자전달층, 광흡수층, 정공전달층을 순서대로 형성하여 페로브스카이트 상부셀(130)을 형성할 수 있다. 전자전달층은 제2 투명전극층(125) 위에 예를 들어 TiO2, SnO2, ZnO, NiO, WO3, TiSrO3, 그래핀, 카본나노튜브, C60 (fullerene) 또는 PCBM 등의 물질을 졸겔법 또는 스핀코팅이나 열증착 등의 공정에 의하여 형성할 수 있다. 전자전달층 위로 광흡수층을 페로브스카이트 구조의 광흡수 물질로 형성할 수 있다. 광흡수층은 예를 들어 유기 할로겐화물 페로브스카이트 또는 금속 할로겐화물 페로브스카이트의 전구체 물질을 용매에 용해시킨 용액을 전자전달층 위로 스핀 코팅하여 형성할 수 있다. 정공 전달층은 광흡수층 위로 예를 들어 전도성 고분자를 이용하여 스핀코팅 또는 열증착 공정에 의하여 형성할 수 있다. 다른 구현예에 따라 페로브스카이트 상부셀(130)의 형성시 부가적인 층을 더 형성할 수 있다. For example, the perovskite upper cell 130 may be formed by sequentially forming an electron transport layer, a light absorption layer, and a hole transport layer on the second transparent electrode layer 125 . For the electron transport layer, for example, TiO 2 , SnO 2 , ZnO, NiO, WO 3 , TiSrO 3 , graphene, carbon nanotubes, C 60 (fullerene) or PCBM, etc. are dissolved on the second transparent electrode layer 125 . It can be formed by a gel method or a process such as spin coating or thermal evaporation. A light absorbing layer may be formed of a light absorbing material having a perovskite structure on the electron transport layer. For example, the light absorption layer may be formed by spin-coating a solution obtained by dissolving a precursor material of organic halide perovskite or metal halide perovskite in a solvent onto the electron transport layer. The hole transport layer may be formed on the light absorption layer by, for example, a spin coating or thermal evaporation process using a conductive polymer. According to another embodiment, an additional layer may be further formed when the perovskite upper cell 130 is formed.
본 발명의 구현예들에 의하면 실리콘 하부셀 전면부의 텍스쳐 구조의 상부가 결합층 형성시 평탄화되어 페로브스카이트 상부셀을 용액 공정을 적용하여 저비용으로 용이하고 신뢰성 있게 형성할 수 있다. 이와 같이 형성된 페로브스카이트 실리콘 탠덤 태양전지는 실리콘 하부셀의 텍스쳐 구조를 유지하면서 페로브스카이트 상부셀을 신뢰성 있게 형성하여 높은 광변환 효율을 가질 수 있다. According to the embodiments of the present invention, the top of the texture structure of the front surface of the silicon lower cell is flattened during formation of the bonding layer, so that the upper perovskite cell can be formed easily and reliably at low cost by applying a solution process. The perovskite silicon tandem solar cell formed in this way can have high light conversion efficiency by reliably forming the perovskite upper cell while maintaining the texture structure of the silicon lower cell.
Claims (16)
상기 실리콘 하부셀 위에 배치된 페로브스카이트 상부셀;
상기 실리콘 하부셀과 상기 페로브스카이트 상부셀 사이에서 상기 실리콘 하부셀과 상기 페로브스카이트 상부셀을 결합시키는 결합층을 포함하고,
상기 결합층과 접한 상기 실리콘 하부셀의 전면부는 텍스쳐 구조를 포함하고,
상기 결합층은
상기 텍스쳐 구조의 측벽에 형성된 제1 투명전극층,
상기 제1 투명전극층 위로 상기 텍스쳐 구조의 오목 부분을 매립하고 있는 매립층으로서, 상기 텍스쳐 구조와 상기 매립층 사이에서 상기 제1 투명전극층의 일부를 노출시키는 상기 매립층,
상기 매립층, 상기 제1 투명전극층의 상기 노출된 부분 및 상기 텍스쳐 구조의 상면 위의 제2 투명전극층을 포함하고,
상기 제2 투명전극층은 상기 제1 투명전극층의 상기 노출된 부분과 직접 접촉하는 탠덤 태양전지.a silicon subcell;
a perovskite upper cell disposed over the silicon lower cell;
A bonding layer for bonding the silicon lower cell and the perovskite upper cell between the silicon lower cell and the perovskite upper cell,
The front surface of the silicon lower cell in contact with the bonding layer includes a texture structure,
The bonding layer is
A first transparent electrode layer formed on the sidewall of the texture structure;
a buried layer burying the concave portion of the texture structure on the first transparent electrode layer, wherein a portion of the first transparent electrode layer is exposed between the texture structure and the buried layer;
A second transparent electrode layer on the buried layer, the exposed portion of the first transparent electrode layer, and an upper surface of the texture structure,
The tandem solar cell of claim 1 , wherein the second transparent electrode layer directly contacts the exposed portion of the first transparent electrode layer.
상기 텍스쳐 구조는 상부가 잘려진(truncated) 피라미드 모양을 포함하는 탠덤 태양전지. According to claim 1,
The texture structure is a tandem solar cell comprising a pyramidal shape with an upper portion truncated.
상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 텍스쳐 구조의 상면이 평평한 면을 형성하는 탠덤 태양전지. According to claim 1,
A tandem solar cell in which upper surfaces of the filling layer, the first transparent electrode layer, and the texture structure form a flat surface.
상기 텍스쳐 구조는 서브 마이크로미터 내지 수십 마이크로미터 범위의 크기를 갖는 탠덤 태양전지. According to claim 1,
The tandem solar cell having a size in the range of sub-micrometers to tens of micrometers.
상기 제1 투명전극층 및 상기 제2 투명전극층은 서로 독립적으로 산화알루미늄아연(AZO; aluminium zinc oxide), 산화인듐주석(ITO; indium tin oxide), 불소함유 산화주석(FTO: fluorine doped tin oxide), 또는 산화인듐아연(IZO; indium zinc oxide)을 포함하는 탠덤 태양전지. According to claim 1,
The first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer are independently made of aluminum zinc oxide (AZO), indium tin oxide (ITO), fluorine doped tin oxide (FTO), or a tandem solar cell including indium zinc oxide (IZO).
상기 매립층은 열경화성 또는 광경화성 고분자 물질을 포함하는 탠덤 태양전지. According to claim 1,
The buried layer is a tandem solar cell comprising a thermosetting or photocurable polymer material.
상기 매립층은 에폭시 수지, 아크릴 수지, 실록산 수지, 또는 비닐아세테이트 수지를 포함하는 탠덤 태양전지. According to claim 1,
The buried layer includes an epoxy resin, an acrylic resin, a siloxane resin, or a vinyl acetate resin.
상기 실리콘 하부셀에 연결된 하부 전극 및
상기 페로브스카이트 상부셀에 연결된 상부 전극을 더 포함하는 탠덤 태양전지.According to claim 1,
A lower electrode connected to the silicon lower cell and
A tandem solar cell further comprising an upper electrode connected to the perovskite upper cell.
상기 프리 텍스쳐 구조 위에 제1 투명전극층을 균일한 두께로 형성하는 단계;
상기 프리 텍스쳐 구조를 덮도록 상기 제1 투명전극층 위에 매립층을 형성하는 단계;
상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 프리 텍스쳐 구조의 상부를 식각하여 텍스쳐 구조를 형성하고, 상기 텍스쳐 구조의 오목한 부분에 매립된 매립층, 상기 텍스쳐 구조 및 상기 매립층과 상기 텍스쳐 구조 사이의 상기 제1 투명전극층의 상면을 노출시키는 단계;
노출된 상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 텍스쳐 구조 위에 제2 투명전극층을 형성하는 단계; 및
상기 제2 투명전극층 위로 페로브스카이트 상부셀을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 매립층은 열경화성 또는 광경화성 투명 고분자 물질을 포함하는 탠덤 태양전지의 제조방법. forming a pre-textured structure by texturing the front surface of the silicon subcell;
forming a first transparent electrode layer with a uniform thickness on the pre-textured structure;
forming a filling layer on the first transparent electrode layer to cover the pre-texture structure;
A texture structure is formed by etching upper portions of the filling layer, the first transparent electrode layer, and the pre-texture structure, and the filling layer buried in the concave portion of the texture structure, the texture structure, and the first layer between the filling layer and the texture structure Exposing an upper surface of the transparent electrode layer;
forming a second transparent electrode layer on the exposed buried layer, the first transparent electrode layer, and the texture structure; and
Forming a perovskite upper cell on the second transparent electrode layer,
The buried layer is a method of manufacturing a tandem solar cell comprising a thermosetting or photocurable transparent polymer material.
상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 텍스쳐 구조의 상면이 평평한 면을 형성하는 탠덤 태양전지의 제조방법. According to claim 10,
A method of manufacturing a tandem solar cell in which upper surfaces of the filling layer, the first transparent electrode layer, and the texture structure form a flat surface.
상기 텍스쳐 구조는 서브 마이크로미터 내지 수십 마이크로미터 범위의 크기를 갖는 탠덤 태양전지의 제조방법. According to claim 10,
The texture structure is a method of manufacturing a tandem solar cell having a size in the range of sub-micrometers to tens of micrometers.
상기 매립층, 상기 제1 투명전극층 및 상기 텍스쳐 구조의 상부를 식각하는 단계는 화학적 식각, 물리적 식각 또는 화학적 기계적 연마를 포함하는 탠덤 태양전지의 제조방법. According to claim 10,
The method of manufacturing a tandem solar cell, wherein the etching of the top of the filling layer, the first transparent electrode layer, and the texture structure includes chemical etching, physical etching, or chemical mechanical polishing.
상기 페로브스카이트 상부셀을 형성하는 단계는
상기 제2 투명전극층 위에 전자전달층을 형성하는 단계;
상기 전자전달층 위에 페로브스카이트 광흡수층을 형성하는 단계; 및
상기 페로브스카이트 광흡수층 위에 정공전달층을 형성하는 단계를 포함하는 탠덤 태양전지의 제조방법.According to claim 10,
The step of forming the perovskite upper cell is
forming an electron transport layer on the second transparent electrode layer;
Forming a perovskite light absorption layer on the electron transport layer; and
A method of manufacturing a tandem solar cell comprising the step of forming a hole transport layer on the perovskite light absorption layer.
상기 페로브스카이트 광흡수층은 용액 공정에 의하여 형성되는 탠덤 태양전지의 제조방법.According to claim 15,
The method of manufacturing a tandem solar cell in which the perovskite light absorption layer is formed by a solution process.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17/038,740 US11398355B2 (en) | 2019-10-01 | 2020-09-30 | Perovskite silicon tandem solar cell and method for manufacturing the same |
US17/846,742 US11581150B2 (en) | 2019-10-01 | 2022-06-22 | Perovskite silicon tandem solar cell and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190121867 | 2019-10-01 | ||
KR20190121867 | 2019-10-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210039281A KR20210039281A (en) | 2021-04-09 |
KR102574926B1 true KR102574926B1 (en) | 2023-09-06 |
Family
ID=75444308
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020200112556A KR102574926B1 (en) | 2019-10-01 | 2020-09-03 | Perovskite silicon tandem solar cell and method for manufacturing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102574926B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115411065B (en) * | 2022-09-29 | 2024-02-13 | 隆基绿能科技股份有限公司 | Solar cell and preparation method thereof |
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US20180138337A1 (en) | 2016-11-15 | 2018-05-17 | Alliance For Sustainable Energy, Llc | Transparent Conductive Adhesive Materials |
JP2018093168A (en) * | 2016-12-02 | 2018-06-14 | エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド | Tandem solar cell and method for manufacturing the same |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9299866B2 (en) * | 2010-12-30 | 2016-03-29 | Zena Technologies, Inc. | Nanowire array based solar energy harvesting device |
-
2020
- 2020-09-03 KR KR1020200112556A patent/KR102574926B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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---|
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---|---|
KR20210039281A (en) | 2021-04-09 |
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