KR102564850B1

KR102564850B1 - Ultraviolet oxidation device

Info

Publication number: KR102564850B1
Application number: KR1020210090826A
Authority: KR
Inventors: 하승호; 공재보; 장운용; 백광현; 김현석; 이규진; 고성욱; 김팔곤; 양상재
Original assignee: 에프엔에스테크 주식회사
Priority date: 2021-07-12
Filing date: 2021-07-12
Publication date: 2023-08-08
Also published as: KR20230010366A

Abstract

본 발명은 배플 판 및 유동부를 포함하는 와류 발생부를 통해 유체에 와류를 발생시켜 산화 효율을 향상시킬 수 있는 자외선 산화 장치를 제공한다.
본 발명의 실시예에 따른 자외선 산화 장치는 유입구 및 유출구를 구비하여 내부에 유체가 흐르고, 제1 방향으로 연장되는 챔버; 상기 제1 방향으로 연장되어 상기 유체에 자외선을 조사하는 자외선 램프; 및 상기 챔버 내에 제공되어 상기 유체에 와류를 발생하는 와류 발생부;를 포함하고, 상기 와류 발생부는, 상기 제1 방향에 교차되도록 제공되고, 복수의 관통홀을 구비하는 배플 판; 및 상기 복수의 관통홀 중 적어도 일부에 삽입되어 유로를 제공하는 원통 형상의 유동부;를 포함할 수 있다.The present invention provides an ultraviolet oxidizing device capable of improving oxidation efficiency by generating vortices in a fluid through a vortex generating unit including a baffle plate and a moving unit.
An ultraviolet oxidizing device according to an embodiment of the present invention includes a chamber having an inlet and an outlet, in which a fluid flows, and extending in a first direction; an ultraviolet lamp extending in the first direction to irradiate ultraviolet rays to the fluid; and a vortex generator provided within the chamber to generate a vortex in the fluid, wherein the vortex generator includes a baffle plate provided to cross the first direction and having a plurality of through holes; and a cylindrical moving part inserted into at least some of the plurality of through holes to provide a flow path.

Description

Ultraviolet oxidation device}

본 발명은 자외선 산화 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 산화 효율을 향상시키는 자외선 산화 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ultraviolet oxidation device, and more particularly, to an ultraviolet oxidation device that improves oxidation efficiency.

최근 유기물, 각종 이온 등의 불순물을 극히 낮은 수준까지 저하시킨 초순수가 반도체 제조공업 등의 분야에 있어서 세정수 등으로서 이용되고 있다. 초순수의 제조 공정에 있어서는, ppb 수준의 전유기탄소(total organic carbon; TOC)에 있어서의 유기물의 혼입까지도 문제가 되고 있다. In recent years, ultrapure water in which impurities such as organic matter and various ions have been reduced to an extremely low level has been used as washing water or the like in fields such as semiconductor manufacturing industry. In the production process of ultrapure water, even the incorporation of organic matter in ppb level total organic carbon (TOC) is a problem.

이를 위해, 미량의 유기물을 자외선에 의해 산화 분해시키는 자외선 산화 장치가 이용되고 있다. 자외선 산화 장치는 일정 길이를 가지는 관로형 챔버 내부로 유체를 유입 및 배출시켜 유체를 유동하게 하고, 챔버 내부에는 자외선 램프와 이를 감싸는 보호관을 포함하여 챔버 내부에서 유동하는 유체에 자외선을 조사함으로써 유체를 산화시킬 수 있다. 이때, 자외선 산화 장치의 내부에 와류 발생을 유도하여 자외선과 유체와의 접촉 기회를 최대화하여 산화효율을 향상시키기 위해 배플 판이 사용되고 있다.To this end, an ultraviolet oxidizing device that oxidatively decomposes a small amount of organic matter by ultraviolet rays is used. The UV oxidation device causes the fluid to flow by introducing and discharging the fluid into a pipe-type chamber having a certain length, and including an ultraviolet lamp and a protective tube surrounding the inside of the chamber to irradiate the fluid flowing in the chamber with ultraviolet rays, thereby purifying the fluid. can oxidize. At this time, a baffle plate is used to improve the oxidation efficiency by inducing vortex generation inside the UV oxidation device to maximize the contact opportunity between the UV light and the fluid.

그러나 자외선 램프와 유체와의 접촉 시간을 더 증가시키기 위해서는 유동하는 방향으로의 길이가 긴 관로형 챔버, 이에 대응되는 자외선 램프 또한 챔버의 길이에 대응되는 많은 수를 구비해야 한다. 이로 인해, 자외선 산화 장치가 구비되기 위한 공간이 증가하며, 설치 비용 및 유지 비용이 증가하여 제조원가가 상승을 초래하는 문제가 있다. However, in order to further increase the contact time between the UV lamp and the fluid, a pipe-type chamber having a long length in the flow direction and a large number of corresponding UV lamps corresponding to the length of the chamber should be provided. As a result, a space for the UV oxidation device is increased, and installation and maintenance costs increase, resulting in an increase in manufacturing cost.

따라서, 챔버의 길이를 유지하여 자외선 산화 장치 구비를 위한 공간 및 제조원가를 증가시키지 않으면서도 유체의 와류량을 증가시킴으로써, 전유기탄소(total organic carbon; TOC) 분해 능력을 향상시킬 수 있는 자외선 산화 장치 기술이 요구된다.Therefore, UV oxidation device capable of improving total organic carbon (TOC) decomposition ability by increasing the vortex amount of the fluid without increasing the space and manufacturing cost for the UV oxidation device by maintaining the length of the chamber skill is required

공개특허 제2012-0053025호Patent Publication No. 2012-0053025

본 발명은 배플 판 및 유동부를 포함하는 와류 발생부를 통해 유체의 산화 효율을 높일 수 있는 자외선 산화 장치를 제공한다.The present invention provides an ultraviolet oxidizing device capable of increasing the oxidation efficiency of a fluid through a vortex generating unit including a baffle plate and a moving unit.

본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치는 유입구 및 유출구를 구비하여 내부에 유체가 흐르고, 제1 방향으로 연장되는 챔버; 상기 제1 방향으로 연장되어 상기 유체에 자외선을 조사하는 자외선 램프; 및 상기 챔버 내에 제공되어 상기 유체에 와류를 발생하는 와류 발생부;를 포함하고, 상기 와류 발생부는, 상기 제1 방향에 교차되도록 제공되고, 복수의 관통홀을 구비하는 배플 판; 및 상기 복수의 관통홀 중 적어도 일부에 삽입되어 유로를 제공하는 원통 형상의 유동부;를 포함할 수 있다.An ultraviolet oxidizing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a chamber having an inlet and an outlet, in which a fluid flows, and extending in a first direction; an ultraviolet lamp extending in the first direction to irradiate ultraviolet rays to the fluid; and a vortex generator provided within the chamber to generate a vortex in the fluid, wherein the vortex generator includes a baffle plate provided to cross the first direction and having a plurality of through holes; and a cylindrical moving part inserted into at least some of the plurality of through holes to provide a flow path.

상기 유동부는 중심축이 상기 제1 방향에 대해 경사지도록 삽입되어 고정될 수 있다.The moving part may be inserted and fixed such that a central axis is inclined with respect to the first direction.

상기 유동부는 중심축이 상기 제1 방향에 대해 5 내지 11°만큼 경사질 수 있다.A central axis of the moving part may be inclined by 5 to 11° with respect to the first direction.

상기 유동부는 선단보다 말단이 상기 챔버 내벽에 더 가깝도록 경사질 수 있다.The moving part may be inclined such that a distal end thereof is closer to the inner wall of the chamber than a distal end thereof.

상기 제1 방향에 수직한 방향에서 상기 배플 판을 봤을 때, 상기 유동부의 중심축은 상기 챔버 내측면의 법선에 나란할 수 있다.When the baffle plate is viewed in a direction perpendicular to the first direction, a central axis of the moving part may be parallel to a normal line of an inner surface of the chamber.

상기 제1 방향에 수직한 방향에서 상기 배플 판을 봤을 때, 상기 유동부의 중심축은 상기 챔버 내측면의 법선에 대해 10 내지 80°의 각을 이룰 수 있다.When viewing the baffle plate in a direction perpendicular to the first direction, a central axis of the moving part may form an angle of 10 to 80° with respect to a normal line of an inner surface of the chamber.

상기 유동부의 상단부와 하단부는 중심축에 대해 경사지며 서로 평행할 수 있다.An upper end and a lower end of the moving part may be inclined with respect to a central axis and may be parallel to each other.

상기 유동부는 상기 복수의 관통홀 중 적어도 상기 배플 판의 가장자리를 따라 형성된 관통홀에 삽입될 수 있다.The moving part may be inserted into a through hole formed along at least an edge of the baffle plate among the plurality of through holes.

상기 자외선 램프의 둘레 면을 감싸 상기 유체로부터 상기 자외선 램프를 보호하는 보호관을 더 포함하고, 상기 배플 판은 상기 챔버 내벽과 이격되어 제공되고, 상기 보호관과 상기 유동부 사이의 간격은, 상기 배플 판과 상기 챔버의 내벽 사이의 간격보다 넓을 수 있다.A protective tube covering a circumferential surface of the UV lamp to protect the UV lamp from the fluid, the baffle plate being spaced apart from the inner wall of the chamber, and a distance between the protective tube and the moving part is the baffle plate It may be wider than the gap between the inner wall of the chamber.

상기 챔버의 양단에 제공되어, 상기 자외선 램프 및 상기 보호관의 일단 또는 타단을 고정하는 플랜지를 더 포함하고, 상기 보호관은 상기 플랜지에 고정되는 위치와 대응하는 양단의 내측면 또는 외측면 중 적어도 하나에 제공되는 코팅층을 포함하며, 상기 코팅층의 자외선 투과율은 상기 보호관의 자외선 투과율보다 낮을 수 있다.It is provided at both ends of the chamber and further includes a flange for fixing one end or the other end of the UV lamp and the protective tube, wherein the protective tube has at least one of an inner surface or an outer surface of both ends corresponding to a position fixed to the flange. A coating layer is provided, and the UV transmittance of the coating layer may be lower than the UV transmittance of the protective tube.

상기 코팅층은 인듐(In) 및 아연(Zn)을 포함하는 산화물을 구비할 수 있다.The coating layer may include an oxide containing indium (In) and zinc (Zn).

상기 플랜지의 외측에 제공되어 상기 자외선 램프의 소켓을 보호하는 안전 커버를 더 포함하고, 상기 안전 커버는, 상기 안전 커버의 일측벽에 제공된 드레인홀; 및 상기 드레인홀에 삽입되어 오존을 제거하는 오존 제거 필터;를 더 포함할 수 있다.A safety cover provided outside the flange to protect the socket of the UV lamp, the safety cover comprising: a drain hole provided on one side wall of the safety cover; and an ozone removal filter inserted into the drain hole to remove ozone.

상기 오존 제거 필터는, 다공질인 금속 베이스; 및 상기 금속 베이스의 표면 및 기공에 적어도 부분적으로 제공되고, 금속 산화물을 구비하는 광촉매 코팅막;을 포함할 수 있다.The ozone removal filter includes a porous metal base; and a photocatalyst coating film provided at least partially on the surface and pores of the metal base and having a metal oxide.

상기 금속 산화물은 이산화망간(MnO₂) 및 산화구리(CuO)를 포함할 수 있다.The metal oxide may include manganese dioxide (MnO ₂ ) and copper oxide (CuO).

본 발명의 실시 형태에 따른 자외선 산화 장치는 배플 판 및 유동부를 포함하는 와류 발생부를 구비함으로써, 와류량을 증가시켜 유체의 산화 효율을 향상시킬 수 있다. 여기서, 유체가 자외선 램프의 둘레 면을 감싸는 보호관과 유로를 제공하는 원통 형상의 유동부 사이의 빈 공간을 통해 흐름으로써, 얇은 유체의 두께로 인해 높은 자외선 투과량을 유지할 수 있다. 또한, 유동부가 선단보다 말단이 챔버 내벽에 더 가깝도록 경사짐으로써, 유체가 유동부를 통과하여 챔버 내벽을 향해 흐를 수 있다. 그리고 챔버가 연장되는 방향에 수직한 방향에서 배플 판을 봤을 때, 유동부의 중심축이 챔버 내측면의 법선에 나란할 경우, 유체가 챔버 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 원활하게 흐를 수 있다. 반면에, 유동부의 중심축이 챔버 내측면의 법선에 대해 10 내지 80°각을 이룰 경우, 더 촘촘한 나선형의 와류를 형성할 수 있다. 이렇게 유체가 챔버 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 원활하게 흐름으로써, 와류량이 증가하여 유체가 자외선에 충분히 노출될 수 있다.The UV oxidation device according to the embodiment of the present invention includes a baffle plate and a vortex generating unit including a flow unit, so that the vortex amount can be increased to improve the oxidation efficiency of the fluid. Here, as the fluid flows through the empty space between the protective tube surrounding the circumferential surface of the UV lamp and the cylindrical flow part providing the passage, a high UV transmittance can be maintained due to the thin fluid thickness. In addition, since the flow part is inclined so that the distal end is closer to the inner wall of the chamber than the tip end, the fluid can pass through the flow part and flow towards the inner wall of the chamber. When the baffle plate is viewed from a direction perpendicular to the direction in which the chamber extends, when the central axis of the flow unit is parallel to the normal line of the inner surface of the chamber, the fluid can smoothly flow spirally along the circumference of the inner wall of the chamber. On the other hand, when the central axis of the moving part forms an angle of 10 to 80° with respect to the normal of the inner surface of the chamber, more dense spiral vortices can be formed. As the fluid flows smoothly and spirally along the circumference of the inner wall of the chamber, the amount of vortex flow is increased so that the fluid can be sufficiently exposed to ultraviolet rays.

그리고 보호관이 플랜지에 고정되는 위치와 대응하는 양단에 코팅층을 포함함으로써, 보호관에 끼워지는 오링(o-ring)의 교체 시기를 연장할 수 있다. 이때, 코팅층의 자외선 투과율이 보호관의 자외선 투과율보다 낮음으로써, 오링(o-ring)이 자외선에 의해 경화되는 것을 최소화하여 챔버에서 발생하는 누수를 방지할 수 있다.And by including a coating layer at both ends corresponding to the position where the protective tube is fixed to the flange, it is possible to extend the replacement time of the o-ring inserted into the protective tube. At this time, since the UV transmittance of the coating layer is lower than the UV transmittance of the protective tube, it is possible to minimize the curing of the O-ring by UV rays and prevent leakage occurring in the chamber.

또한, 드레인홀이 플랜지의 외측에 제공되는 안전 커버의 일측벽에 제공되어, 자외선 램프의 파손 시 발생하는 물샘 현상을 감지하여 자외선 램프의 파손을 식별할 수 있다. 이때, 드레인홀에 오존 제거 필터가 삽입됨으로써, 안전 커버의 내부에 체류하는 미량의 오존 가스 물질을 제거함으로써, 오존이 자외선 산화 장치의 외부로 산포되는 것을 방지할 수 있다. 이로 인해, 오존 누출로 인한 사고를 방지할 수 있다. 여기서, 오존 제거 필터는 다공질인 금속 베이스 및 광촉매 코팅막을 포함함으로써, 적어도 부분적으로 물이 통과될 수 있으며 오존 및 라디칼(radical) 물질과 반응하여 산소를 생성할 수 있다.In addition, a drain hole is provided on one side wall of the safety cover provided on the outside of the flange, so that damage to the UV lamp can be identified by detecting a water leakage phenomenon that occurs when the UV lamp is damaged. At this time, by inserting an ozone removal filter into the drain hole, it is possible to prevent ozone from being dispersed to the outside of the ultraviolet oxidizing device by removing a small amount of ozone gas remaining inside the safety cover. Due to this, accidents due to ozone leakage can be prevented. Here, the ozone removal filter includes a porous metal base and a photocatalyst coating film, so that water can pass through at least partially, and oxygen can be generated by reacting with ozone and radical substances.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치를 보여주는 사시도.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치의 와류 발생부를 보여주는 단면도.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치를 보여주는 단면도.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치의 유동부를 보여주는 사시도.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 제1 방향에 수직한 방향에서 바라본 와류 발생부를 보여주는 단면도.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치의 보호관의 코팅층을 보여주는 단면도.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치의 안전 커버를 보여주는 단면도.1 is a perspective view showing an ultraviolet oxidizing device according to an embodiment of the present invention;
2 is a cross-sectional view showing a vortex generator of an ultraviolet oxidation device according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a cross-sectional view showing an ultraviolet oxidation device according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a perspective view showing a moving part of the ultraviolet oxidation device according to an embodiment of the present invention.
Figure 5 is a cross-sectional view showing a vortex generator viewed from a direction perpendicular to the first direction according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view showing a coating layer of a protective tube of an ultraviolet oxidation device according to an embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view showing a safety cover of an ultraviolet oxidizing device according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 설명 중, 동일 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하도록 하고, 도면은 본 발명의 실시예를 정확히 설명하기 위하여 크기가 부분적으로 과장될 수 있으며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different forms, only these embodiments will complete the disclosure of the present invention, and will fully cover the scope of the invention to those skilled in the art. It is provided to inform you. During the description, the same reference numerals are assigned to the same components, and the drawings may be partially exaggerated in size in order to accurately describe the embodiments of the present invention, and the same numerals refer to the same elements in the drawings.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치를 보여주는 사시도이다.1 is a perspective view showing an ultraviolet oxidizing device according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치는 유입구(110) 및 유출구(120)를 구비하여 내부에 유체가 흐르고, 제1 방향으로 연장되는 챔버(100); 상기 제1 방향으로 연장되어 상기 유체에 자외선을 조사하는 자외선 램프(200); 및 상기 챔버(100) 내에 제공되어 상기 유체에 와류를 발생하는 와류 발생부(300);를 포함하고, 상기 와류 발생부는(300), 상기 제1 방향에 교차되도록 제공되고, 복수의 관통홀(311)을 구비하는 배플 판(310); 및 상기 복수의 관통홀(311) 중 적어도 일부에 삽입되어 유로를 제공하는 원통 형상의 유동부(320);를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , an ultraviolet oxidizing device according to an embodiment of the present invention includes a chamber 100 having an inlet 110 and an outlet 120 to allow fluid to flow therein and extending in a first direction; an ultraviolet lamp 200 extending in the first direction to irradiate the fluid with ultraviolet rays; and a vortex generating unit 300 provided within the chamber 100 to generate vortex in the fluid, wherein the vortex generating unit 300 is provided to cross the first direction and has a plurality of through holes ( a baffle plate 310 having 311); and a cylindrical moving part 320 inserted into at least some of the plurality of through holes 311 to provide a flow path.

상기 챔버(100)는 유입구(110) 및 유출구(120)를 구비하여 내부에 유체가 흐르고, 제1 방향으로 연장될 수 있다. 이때, 상기 유체는 상기 제1 방향으로 흐를 수 있다. 여기서, 상기 유체는 유기물, 각종 이온 등의 불순물을 극히 낮은 수준까지 저하시킨 초순수일 수 있다. 그리고 본 발명의 자외선 산화 장치는 고도로 정화된 초순수 내에 잔류하는 극미량의 유기물을 자외선에 의해 산화 분해시키는 장치일 수 있다.The chamber 100 has an inlet 110 and an outlet 120 to allow fluid to flow therein, and may extend in a first direction. At this time, the fluid may flow in the first direction. Here, the fluid may be ultrapure water in which impurities such as organic matter and various ions are reduced to an extremely low level. In addition, the ultraviolet oxidizing device of the present invention may be a device that oxidizes and decomposes a very small amount of organic matter remaining in highly purified ultrapure water by means of ultraviolet rays.

상기 자외선 램프(200)는 상기 제1 방향으로 연장되고, 상기 유체에 자외선을 조사할 수 있다. 이로 인해, 상기 유체에 포함된 물질은 자외선에 의해 산화될 수 있다. 예를 들어, 상기 유체에 포함된 유기물이 자외선에 의해 산화되어 분해될 수 있다. The UV lamp 200 extends in the first direction and may irradiate the fluid with UV light. Due to this, substances included in the fluid may be oxidized by ultraviolet rays. For example, organic substances included in the fluid may be oxidized and decomposed by ultraviolet rays.

상기 와류 발생부(300)는 상기 챔버(100) 내에 제공되어 상기 유체에 와류를 발생시킬 수 있다. 이로 인해, 상기 유체가 상기 자외선 램프(200)의 자외선에 노출되는 양이 증가하여 상기 유체의 산화 효율이 향상될 수 있다. 이러한 상기 와류 발생부(300)는 배플 판(310) 및 유동부(320)를 포함할 수 있다.The vortex generator 300 may be provided in the chamber 100 to generate vortex in the fluid. Due to this, the amount of exposure of the fluid to the ultraviolet rays of the ultraviolet lamp 200 is increased, so that the oxidation efficiency of the fluid may be improved. The vortex generating part 300 may include a baffle plate 310 and a moving part 320 .

상기 배플 판(310)은 상기 제1 방향에 교차되도록 제공되고, 복수의 관통홀(311)을 구비하여 상기 유체에 와류를 발생시킬 수 있다. 예를 들어, 상기 배플 판(310)은 상기 제1 방향에 대해 수직일 수 있다. 상기 배플 판(310)은 연결부재를 통해 상기 챔버(100)의 내벽에 부분적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 상기 연결부재는 볼트와 너트로 체결되는 것이나 용접하여 연결되는 것일 수 있다. 이때, 배플 판(310)이 챔버(100)의 내벽에 전체적으로 연결되면, 유체로 인한 배플 판(310)에 가해지는 압력이 증가되어 유체 흐름이 원활하지 않으며 공정 단가가 증가될 수 있다. 또한, 유체의 압력 손실이 발생하여 자외선 램프(200) 또는 자외선 램프(200)를 보호하는 보호관(400)의 파손이 발생할 수 있다. 그러나 본 발명의 자외선 산화 장치의 상기 배플 판(310)은 상기 챔버(100)의 내벽에 부분적으로 연결됨으로써, 상기 배플 판(310)에 가해지는 압력을 적당히 조절하여 유체 흐름이 원활하고 공정 단가가 감소될 수 있다. 또한, 상기 배플 판(310)이 상기 연결부재를 통해 상기 챔버(100)의 내벽에 부분적으로 연결됨으로써 상기 배플 판(310)과 상기 챔버(100)의 내벽이 부분적으로 이격되므로, 상기 유체가 상기 배플 판(310)과 상기 챔버(100)의 내벽 사이에 흐를 수 있다. 이로 인해, 상기 유체가 상기 배플 판(310)과 상기 챔버(100)의 내벽 사이에 흐름으로써, 상기 유체에 불규칙성을 부여하므로 와류량을 증가시켜 산화 효율을 증가시킬 수 있다.The baffle plate 310 is provided to cross the first direction and has a plurality of through holes 311 to generate vortices in the fluid. For example, the baffle plate 310 may be perpendicular to the first direction. The baffle plate 310 may be partially connected to the inner wall of the chamber 100 through a connecting member. For example, the connecting member may be fastened with bolts and nuts or connected by welding. At this time, when the baffle plate 310 is connected to the inner wall of the chamber 100 as a whole, the pressure applied to the baffle plate 310 due to the fluid increases so that the fluid flow is not smooth and the process cost may increase. In addition, a pressure loss of the fluid may occur, resulting in breakage of the UV lamp 200 or the protective tube 400 protecting the UV lamp 200 . However, since the baffle plate 310 of the ultraviolet ray oxidation device of the present invention is partially connected to the inner wall of the chamber 100, the pressure applied to the baffle plate 310 is properly adjusted so that the fluid flow is smooth and the process cost is reduced. can be reduced In addition, since the baffle plate 310 is partially connected to the inner wall of the chamber 100 through the connecting member, the baffle plate 310 and the inner wall of the chamber 100 are partially separated, so that the fluid It may flow between the baffle plate 310 and the inner wall of the chamber 100 . Due to this, since the fluid flows between the baffle plate 310 and the inner wall of the chamber 100, irregularities are given to the fluid, so that the amount of vortex flow can be increased, thereby increasing the oxidation efficiency.

여기서, 상기 관통홀(311)은 상기 배플 판(310)의 가장자리를 따라 형성되거나, 상기 배플 판(310)의 가장자리뿐만 아니라 내부까지 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 배플 판(310)은 가장자리를 따라 형성된 상기 관통홀(311)을 20개 구비할 수 있다. 또는, 상기 배플 판(310)은 가장자리를 따라 형성된 상기 관통홀(311)을 20개와 내부에 형성된 상기 관통홀(311)을 20개 구비하여 총 40개의 상기 관통홀(311)을 구비할 수 있다.Here, the through hole 311 may be formed along the edge of the baffle plate 310 or may be formed not only along the edge of the baffle plate 310 but also inside the baffle plate 310 . For example, the baffle plate 310 may have 20 through holes 311 formed along an edge. Alternatively, the baffle plate 310 may include 20 through-holes 311 formed along the edge and 20 through-holes 311 formed inside, for a total of 40 through-holes 311 . .

상기 유동부(320)는 원통 형상으로 상기 복수의 관통홀(311) 중 적어도 일부에 삽입되어 유로를 제공함으로써, 상기 유체의 와류량을 증가시킬 수 있다. 즉, 상기 유동부(320)는 상기 유체의 흐름에 간섭하여 불규칙성을 부여함으로써, 강제적으로 와류가 발생하도록 유도할 수 있다. 특히, 상기 유동부(320)가 후술하는 바와 같이 선단보다 말단이 상기 챔버(100) 내벽에 더 가깝도록 경사짐으로써, 상기 유체가 상기 챔버(100) 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 흐를 수 있다. 이로 인해, 상기 유체가 상기 자외선 램프(200)의 자외선에 노출되는 양이 증가하여, 상기 유체의 산화 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 유동부(320)는 상기 유체가 자외선을 최근접하여 조사하는 구간을 증가시킴으로써, 상기 유체가 자외선에 접촉되는 시간을 증가시킬 수 있다. 이로 인해, 상기 유체의 단위 시간 당 자외선 조사량이 증가되어, 산화 효율이 향상될 수 있다.The flow part 320 has a cylindrical shape and is inserted into at least some of the plurality of through holes 311 to provide a flow path, thereby increasing the amount of vortex of the fluid. That is, the moving part 320 may induce vortexes to be forcibly generated by interfering with the flow of the fluid to give irregularities. In particular, as described later, the fluid may spirally flow along the circumference of the inner wall of the chamber 100 because the end of the flow part 320 is inclined closer to the inner wall of the chamber 100 than the tip. Due to this, the amount of exposure of the fluid to the ultraviolet rays of the ultraviolet lamp 200 is increased, thereby improving the oxidation efficiency of the fluid. In addition, the moving part 320 may increase the time during which the fluid is in contact with the ultraviolet rays by increasing the period in which the fluid is irradiated with the ultraviolet rays in close proximity. As a result, the amount of UV irradiation per unit time of the fluid is increased, and oxidation efficiency may be improved.

그리고 본 발명의 자외선 산화 장치는 후술하는 바와 같이 상기 자외선 램프(200)의 둘레 면을 감싸 상기 유체로부터 상기 자외선 램프(200)를 보호하는 보호관(400)을 더 포함할 수 있다. 이러한 상기 보호관(400)은 상기 복수의 관통홀(311) 또는 유동부(320) 중 적어도 하나의 내부를 이격되어 통과함으로써 배치될 수 있다. And, as will be described later, the ultraviolet oxidizing device of the present invention may further include a protective tube 400 covering the circumferential surface of the ultraviolet lamp 200 to protect the ultraviolet lamp 200 from the fluid. The protective tube 400 may be disposed by passing through at least one of the plurality of through holes 311 or the moving part 320 at a distance from each other.

여기서, 유체의 두께가 두꺼워지면 자외선 투과량은 감소될 수 있다. 그러나 본 발명의 자외선 산화 장치는 상기 유체가 상기 유동부(320)와 상기 복수의 관통홀(311) 또는 유동부(320) 사이의 빈 공간을 통해 흐름으로써, 얇은 두께로 유지되어 흐르므로 높은 자외선 투과량을 유지할 수 있다. 즉, 상기 유체는 상기 자외선 램프(200)의 자외선에 노출되는 양이 증가될 수 있다. 또한, 상기 유체가 상기 유동부(320)와 상기 복수의 관통홀(311) 또는 유동부(320) 사이의 빈 공간을 통해 흐름으로써, 와류량를 증가시킬 수 있다. 이때, 상기 유체의 와류량이 증가함으로써, 상기 유체가 자외선에 노출되는 시간이 연장되어 자외선 노출량이 증가할 수 있다. 즉, 상기 복수의 관통홀(311) 중 적어도 일부에 삽입되어 유로를 제공하는 원통 형상의 상기 유동부(320)로 인해, 상기 유체는 와류량이 증가되어 자외선에 노출되는 시간이 연장됨으로써 산화 효율이 향상될 수 있다.Here, when the thickness of the fluid increases, the transmittance of ultraviolet light may decrease. However, in the ultraviolet oxidizing device of the present invention, since the fluid flows through the empty space between the moving part 320 and the plurality of through holes 311 or the flowing part 320, it is kept thin and flows, so that high ultraviolet rays Permeability can be maintained. That is, an amount of the fluid exposed to ultraviolet rays of the ultraviolet lamp 200 may be increased. In addition, as the fluid flows through an empty space between the flow part 320 and the plurality of through holes 311 or the flow part 320, the amount of vortex may be increased. At this time, as the amount of vortex flow of the fluid increases, the time during which the fluid is exposed to ultraviolet rays is extended, and thus the amount of ultraviolet light exposure may be increased. That is, due to the cylindrical flow part 320 inserted into at least some of the plurality of through holes 311 to provide a flow path, the amount of vortex of the fluid increases and the time exposed to ultraviolet rays is extended, thereby increasing the oxidation efficiency. can be improved

이러한 자외선 산화 장치는 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 TOC 산화 장치일 수 있다. 즉, 본 발명의 자외선 산화 장치는 상기 자외선 램프(200)를 통해 고도로 정화된 초순수 내에 잔류하는 극미량의 유기물을 산화 및 분해시킬 수 있다. 이때, 본 발명의 자외선 산화 장치는 상기 배플 판(310) 및 유동부(320)를 포함하는 와류 발생부(300)를 통해, 상기 유체의 흐름에 불규칙성을 부여하여 와류를 발생시킬 수 있다. 이로 인해, 본 발명의 자외선 산화 장치는 상기 유체가 자외선 파장에 노출되는 시간을 연장시킬 수 있다. 또한, 유로를 제공하는 상기 유동부(320)와 상기 보호관(400)사이의 공간을 통해 상기 유체가 상기 보호관(400)과 접촉되는 구간이 연장될 수 있다. 즉, 상기 유체가 상기 챔버(100) 내 자외선을 최근접하여 조사하는 구간을 증가시킴으로써, 상기 유체가 자외선에 접촉되는 시간이 증가될 수 있다. 이로 인해, 본 발명의 자외선 산화 장치는 상기 유체의 자외선에 의한 TOC 처리 능력을 향상시킴으로써, 설비 효율을 향상시킬 수 있다.Such an ultraviolet oxidizing device may be a TOC oxidizing device used in semiconductor and LCD production processes. That is, the ultraviolet oxidizing device of the present invention can oxidize and decompose a very small amount of organic matter remaining in highly purified ultrapure water through the ultraviolet lamp 200. At this time, the ultraviolet oxidation device of the present invention may generate vortex by giving irregularity to the flow of the fluid through the vortex generator 300 including the baffle plate 310 and the flow part 320. Due to this, the UV oxidation device of the present invention can extend the time the fluid is exposed to the UV wavelength. In addition, a section in which the fluid contacts the protective pipe 400 may be extended through a space between the flow part 320 providing a flow path and the protective pipe 400 . That is, by increasing the period in which the fluid is irradiated with ultraviolet light in the chamber 100 in close proximity, the time during which the fluid is in contact with the ultraviolet light may be increased. For this reason, the ultraviolet oxidation device of the present invention can improve facility efficiency by improving TOC treatment capability of the fluid by ultraviolet rays.

또한, 본 발명의 자외선 산화 장치는 후술하는 바와 같이 상기 유동부(320)가 선단보다 말단이 상기 챔버(100) 내벽에 더 가깝도록 경사짐으로써, 상기 유체의 와류는 상기 챔버(100)의 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 원활하게 흐를 수 있다. 이로 인해, 상기 유체는 자외선에 충분히 노출되어 TOC 처리 능력을 향상시키므로, 설비의 효율이 향상될 수 있다. 또한, 상기 유체의 와류가 상기 챔버(100)의 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 원활하게 흐름으로써, 본 발명의 자외선 산화 장치는 상기 챔버(100) 내 모든 면적에 동일한 자외선을 조사할 수 있다. In addition, as will be described later, in the ultraviolet oxidation device of the present invention, the flow part 320 is inclined so that the end is closer to the inner wall of the chamber 100 than the tip, so that the vortex of the fluid moves along the inner wall of the chamber 100. can flow smoothly in a spiral along the circumference of Due to this, since the fluid is sufficiently exposed to ultraviolet rays to improve TOC treatment capability, the efficiency of the equipment can be improved. In addition, since the vortex of the fluid smoothly flows in a spiral shape along the circumference of the inner wall of the chamber 100, the ultraviolet oxidation device of the present invention can irradiate the same ultraviolet rays to all areas within the chamber 100.

상기 유동부(320)는 중심축이 상기 제1 방향에 대해 경사지도록 삽입되어 고정될 수 있다.The moving part 320 may be inserted and fixed so that its central axis is inclined with respect to the first direction.

상기 유동부(320)는 중심축이 상기 제1 방향에 대해 경사지도록 삽입되어 고정됨으로써, 상기 유체의 와류량을 증가시킬 수 있다. 이때, 상기 유동부(320)의 중심축이 상기 제1 방향에 대해 경사지도록 삽입될 경우가, 상기 유동부(320)의 중심축이 상기 제1 방향에 대해 평행하도록 삽입될 경우보다 상기 유체의 와류량을 증가시킬 수 있다. 여기서, 상기 유동부(320)의 중심축이 상기 제1 방향에 대해 경사지도록 삽입되면, 상기 유동부(320)와 상기 보호관(400) 사이의 간격이 비교적 좁은 공간이 존재할 수 있다. 이때, 상기 유체가 상기 유동부(320)와 상기 보호관(400) 사이 간격이 비교적 좁은 공간으로 많이 흐르므로, 상기 유체가 상기 보호관(400)에 많이 접촉되어 자외선에 노출되는 양을 증가시킬 수 있다. 즉, 상기 유동부(320)의 중심축이 상기 제1 방향에 대해 경사져 상기 유체의 흐름을 바꿈으로써, 상기 보호관(400)에 대한 상기 유체의 접촉을 증가시켜 상기 유체의 자외선 노출량을 증가시킬 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 자외선 산화 장치는 상기 유체의 자외선 노출량을 증가시켜 상기 유체의 산화 효율을 증가시킬 수 있다.The flow part 320 is inserted and fixed so that its central axis is inclined with respect to the first direction, thereby increasing the vortex amount of the fluid. At this time, when the central axis of the moving part 320 is inserted so as to be inclined with respect to the first direction, the flow rate of the fluid is greater than when the central axis of the moving part 320 is inserted parallel to the first direction. The amount of vortex can be increased. Here, when the central axis of the moving part 320 is inserted so as to be inclined with respect to the first direction, a relatively narrow space may exist between the moving part 320 and the protective tube 400 . At this time, since the fluid flows in a relatively narrow space between the flow part 320 and the protective tube 400, the fluid comes into contact with the protective tube 400 and increases the amount of exposure to ultraviolet rays. . That is, the central axis of the flow part 320 is inclined with respect to the first direction to change the flow of the fluid, thereby increasing the contact of the fluid with the protective tube 400 and increasing the amount of UV exposure of the fluid. there is. Accordingly, the UV oxidation device of the present invention can increase the oxidation efficiency of the fluid by increasing the amount of UV exposure of the fluid.

상기 유동부(320)는 중심축이 상기 제1 방향에 대해 5 내지 11°만큼 경사질 수 있다.The central axis of the moving part 320 may be inclined by 5 to 11° with respect to the first direction.

상기 유동부(320)는 중심축이 상기 제1 방향에 대해 5 내지 11°만큼 경사짐으로써, 상기 유체의 흐름을 유도하여 와류량을 증가시킬 수 있다. 특히, 상기 유체의 와류가 상기 챔버(100)의 내벽을 따라 나선형으로 원활하게 흐를 수 있다. 이로 인해, 상기 유체가 자외선에 접촉되는 시간이 증가될 수 있다. 또한, 상기 유체가 상기 유동부(320)와 상기 보호관(400) 사이 간격이 비교적 좁은 공간으로 많이 흐르므로, 상기 유체가 상기 보호관(400)에 많이 접촉되어 자외선에 노출되는 양을 증가시킬 수 있다. 즉, 상기 유체가 상기 자외선 램프(200)에 최근접하여 조사되는 구간이 증가될 수 있다. 이로 인해, 상기 유체의 단위 시간 당 자외선 조사량이 증가되어 산화 효율이 향상될 수 있다.Since the central axis of the moving part 320 is inclined by 5 to 11° with respect to the first direction, the flow of the fluid may be induced and the amount of vortex may be increased. In particular, the vortex of the fluid can smoothly flow in a spiral along the inner wall of the chamber 100 . Due to this, the time during which the fluid is in contact with the ultraviolet light may be increased. In addition, since the fluid flows in a relatively narrow space between the flow part 320 and the protective tube 400, the fluid comes into contact with the protective tube 400 and increases the amount of exposure to ultraviolet rays. . That is, a section in which the fluid is irradiated in close proximity to the UV lamp 200 may be increased. As a result, the amount of UV irradiation per unit time of the fluid is increased, and oxidation efficiency may be improved.

이때, 상기 유동부(320)의 중심축이 상기 제1 방향에 대해 5°보다 작을 경우, 상기 유체에 와류를 충분히 발생시키지 못 할 수 있다. 즉, 상기 유동부(320)의 경사로 인한 와류 발생 효과가 감소될 수 있다. 또한, 상기 유체의 와류가 상기 챔버(100)의 내벽을 따라 나선형으로 흐르지 않을 수 있다. 이로 인해, 상기 유체가 자외선에 접촉되는 시간이 감소될 수 있다.At this time, when the central axis of the flow part 320 is smaller than 5° with respect to the first direction, it may not be possible to sufficiently generate a vortex in the fluid. That is, the vortex generation effect due to the inclination of the moving part 320 may be reduced. Also, the vortex of the fluid may not spirally flow along the inner wall of the chamber 100 . As a result, the time during which the fluid is in contact with the ultraviolet light may be reduced.

반면에, 상기 유동부(320)의 중심축이 상기 제1 방향에 대해 11°보다 클 경우, 상기 유동부(320)의 증가된 경사로 인해 상기 배플 판(310)에 가해지는 압력이 증가될 수 있다. 이로 인해, 압력 손실이 발생하며 상기 유체의 흐름이 원활하지 않고 와류 발생이 감소됨으로써, 상기 유체가 자외선에 접촉되는 시간이 감소되어 산화 효율이 낮아질 수 있다. 또한, 상기 유동부(320)의 중심축이 상기 제1 방향에 대해 11°보다 클 경우, 각도 증가로 인해 상기 유체가 상기 유동부(320)를 통과하는 구간이 비교적 짧아짐으로써 자외선에 노출되는 시간이 감소될 수 있다. 그리고 상기 유동부(320)의 중심축이 상기 제1 방향에 대해 11°보다 클 경우, 각도 증가로 인해 상기 유동부(320)와 상기 보호관(400)이 접촉할 가능성이 커질 수 있다. 이에 따라, 유체가 상기 유동부(320)와 상기 보호관(400)의 사이 공간으로 흐르지 못하여, 유체의 자외선 노출량이 감소됨으로써 산화 효율이 감소될 수 있다.On the other hand, when the central axis of the moving part 320 is greater than 11° with respect to the first direction, the pressure applied to the baffle plate 310 may increase due to the increased inclination of the moving part 320. there is. As a result, a pressure loss occurs, the flow of the fluid is not smooth, and the generation of vortices is reduced, so that the time during which the fluid is in contact with ultraviolet rays is reduced, and thus the oxidation efficiency may be lowered. In addition, when the central axis of the flow part 320 is greater than 11° with respect to the first direction, the section in which the fluid passes through the flow part 320 is relatively shortened due to the increase in angle, and thus the time exposed to ultraviolet rays. this may be reduced. And, when the central axis of the moving part 320 is greater than 11° with respect to the first direction, the possibility of contact between the moving part 320 and the protective tube 400 may increase due to an increase in angle. Accordingly, since the fluid cannot flow into the space between the flow part 320 and the protective tube 400, the amount of UV exposure of the fluid is reduced, and thus the oxidation efficiency may be reduced.

상기 유동부(320)는 선단보다 말단이 상기 챔버(100) 내벽에 더 가깝도록 경사질 수 있다.The moving part 320 may be inclined so that a distal end thereof is closer to the inner wall of the chamber 100 than a distal end thereof.

상기 유동부(320)는 선단보다 말단이 상기 챔버(100) 내벽에 더 가깝도록 경사짐으로써, 상기 유체가 상기 챔버의 내벽을 향해 흐를 수 있다. 이에 따라, 상기 유체의 와류가 상기 챔버(100) 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 원활하게 흐를 수 있다. 이때, 상기 유체가 상기 자외선 램프(200)의 자외선에 노출되는 시간이 연장되어, 단위 시간 당 자외선 조사량을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 챔버(100) 내부의 모든 면적에 동일한 자외선이 조사될 수 있다. The fluid may flow toward the inner wall of the chamber 100 because the end of the flow part 320 is inclined closer to the inner wall of the chamber 100 than the tip. Accordingly, the vortex of the fluid can smoothly flow in a spiral shape along the circumference of the inner wall of the chamber 100 . In this case, the time during which the fluid is exposed to the ultraviolet rays of the ultraviolet lamp 200 is extended, and the amount of ultraviolet radiation per unit time can be increased. In addition, the same ultraviolet light may be irradiated to all areas inside the chamber 100 .

여기서, 상기 유동부(320) 각각에 있어서, 상기 챔버의 유출구(120)보다 유입구(110)에 더 가까운 끝 단이 선단, 상기 챔버의 유입구(110)보다 유출구(120)에 더 가까운 끝 단이 말단일 수 있다. 또는, 상기 유동부(320) 각각에 있어서, 상기 유체의 흐름에 대해 상류측이 선단, 하류측이 말단일 수 있다.Here, in each of the flow parts 320, the end closer to the inlet 110 than the outlet 120 of the chamber is the front end, and the end closer to the outlet 120 than the inlet 110 of the chamber is. may be terminal. Alternatively, in each of the flow parts 320, the upstream side may be the front end and the downstream side may be the end of the flow of the fluid.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치의 와류 발생부(300)를 보여주는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a vortex generator 300 of an ultraviolet oxidation device according to an embodiment of the present invention.

도 2를 살펴보면, 유동부(320)가 배플 판(310)에 중심축이 제1 방향에 대해 경사지도록 삽입되어 고정된 것을 확인할 수 있다. 이때, 보호관(400)이 유동부(320)의 내부를 이격되어 통과하고, 유체가 보호관(400)과 유동부(320)의 사이 공간을 통과하여 흐르는 것을 알 수 있다. 그리고 유동부(320)가 선단보다 말단이 챔버(100)에 더 가깝도록 경사진 것을 확인할 수 있다. 또한, 배플 판(310)이 제1 방향으로 연장된 자외선 램프(200)에 교차되도록 제공되고, 배플 판(310)이 챔버(100)의 내벽과 이격된 것을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 2 , it can be confirmed that the moving part 320 is inserted into and fixed to the baffle plate 310 so that its central axis is inclined with respect to the first direction. At this time, it can be seen that the protection tube 400 passes through the inside of the flow part 320 at a distance, and the fluid flows through the space between the protection tube 400 and the flow part 320 . Also, it can be seen that the moving part 320 is inclined so that the distal end is closer to the chamber 100 than the distal end. In addition, it can be confirmed that the baffle plate 310 is provided to cross the UV lamp 200 extending in the first direction, and the baffle plate 310 is spaced apart from the inner wall of the chamber 100 .

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치를 보여주는 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing an ultraviolet oxidizing device according to an embodiment of the present invention.

도 3을 살펴보면, 유동부(320)가 배플 판(310)에 중심축이 제1 방향에 대해 경사지도록 삽입되어 고정되며, 유동부(320)가 선단보다 말단이 챔버(100)에 더 가깝도록 경사진 것을 확인할 수 있다. 그리고 자외선 램프(200)가 유동부(320)를 이격되어 통과함으로써 배치된 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 3 , the moving part 320 is inserted into and fixed to the baffle plate 310 so that the central axis is inclined with respect to the first direction, and the distal end of the moving part 320 is closer to the chamber 100 than the front end. You can see that it is inclined. And it can be seen that the ultraviolet lamp 200 is disposed by passing through the moving part 320 at a distance.

상기 제1 방향에 수직한 방향에서 상기 배플 판(310)을 봤을 때, 상기 유동부(320)의 중심축(A)은 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 나란할 수 있다.When viewing the baffle plate 310 in a direction perpendicular to the first direction, the central axis A of the moving part 320 may be parallel to the normal line N of the inner surface of the chamber 100 .

상기 제1 방향에 수직한 방향에서 상기 배플 판(310)을 봤을 때, 상기 유동부(320)의 중심축(A)은 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 나란함으로써, 상기 유체가 상기 유동부(320)를 통해 상기 챔버(100)의 내벽을 향해 흐를 수 있다. 또한, 상기 챔버(100) 내에 상기 유동부(320)를 복수 개 포함하는 상기 배플 판(310)이 복수 개가 구비됨으로써, 상기 유체는 상기 챔버(100) 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 흐를 수 있다. 이로 인해, 상기 유체가 자외선에 노출되는 시간이 연장되어 단위 시간 당 자외선 조사량이 향상됨으로써, 산화 효율이 향상될 수 있다. 여기서, 상기 유동부(320)의 중심축(A)은 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 대해 0 내지 5°의 각을 이룰 수 있다.When the baffle plate 310 is viewed from a direction perpendicular to the first direction, the central axis A of the flow part 320 is parallel to the normal line N of the inner surface of the chamber 100, so that the fluid may flow toward the inner wall of the chamber 100 through the flow part 320 . In addition, since a plurality of baffle plates 310 including a plurality of flow parts 320 are provided in the chamber 100, the fluid may spirally flow along the circumference of the inner wall of the chamber 100. Due to this, the time during which the fluid is exposed to ultraviolet rays is extended, and the amount of ultraviolet irradiation per unit time is increased, thereby improving oxidation efficiency. Here, the central axis (A) of the moving part 320 may form an angle of 0 to 5° with respect to the normal line (N) of the inner surface of the chamber 100 .

상기 제1 방향에 수직한 방향에서 상기 배플 판(310)을 봤을 때, 상기 유동부(320)의 중심축(A)은 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 대해 10 내지 80°의 각을 이룰 수 있다.When viewing the baffle plate 310 from a direction perpendicular to the first direction, the central axis (A) of the moving part 320 is 10 to 80° with respect to the normal line (N) of the inner surface of the chamber 100. angle can be achieved.

상기 제1 방향에 수직한 방향에서 상기 배플 판(310)을 봤을 때, 상기 유동부(320)의 중심축(A)은 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 대해 10 내지 80°의 각을 이룸으로써, 상기 유체가 상기 챔버(100) 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 흐를 수 있다. 특히, 상기 유동부(320)의 중심축(A)이 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 나란한 경우보다 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 대해 10 내지 80°의 각을 이루는 경우가 더 촘촘한 나선형으로 와류를 형성할 수 있다. 이로 인해, 상기 유체가 자외선에 노출되는 시간이 연장되어 단위 시간 당 자외선 조사량이 향상됨으로써, 산화 효율이 향상될 수 있다. 여기서, 상기 유동부(320)의 중심축(A)은 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 대해 상기 배플 판(310)의 원주 방향을 따라 좌측 또는 우측으로 10 내지 80°의 각을 이룰 수 있다.When viewing the baffle plate 310 from a direction perpendicular to the first direction, the central axis (A) of the moving part 320 is 10 to 80° with respect to the normal line (N) of the inner surface of the chamber 100. By forming an angle of , the fluid may spirally flow along the circumference of the inner wall of the chamber 100 . In particular, an angle of 10 to 80° with respect to the normal line N of the inner surface of the chamber 100 compared to the case where the central axis A of the moving part 320 is parallel to the normal line N of the inner surface of the chamber 100. When forming an angle, the vortex can be formed in a tighter spiral. Due to this, the time during which the fluid is exposed to ultraviolet rays is extended, and the amount of ultraviolet irradiation per unit time is increased, thereby improving oxidation efficiency. Here, the central axis (A) of the moving part 320 is at an angle of 10 to 80 degrees to the left or right along the circumferential direction of the baffle plate 310 with respect to the normal line (N) of the inner surface of the chamber 100. can achieve

이때, 상기 유동부(320)의 중심축(A)이 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 대해 80°이상의 각을 이룰 경우, 상기 유체가 상기 챔버(100)의 내벽을 향해 흐르지 않을 수 있다. 즉, 상기 유체가 상기 챔버(100)의 내부 위주로 흐를 수 있다. 이로 인해, 상기 와류가 상기 챔버(100) 내벽의 둘레를 따라 흐르는 나선형으로 형성되지 않음으로써, 유체의 흐름이 원활하지 않아 유체가 자외선에 노출되는 시간이 감소될 수 있다. 또한, 상기 챔버(100) 내부 모든 면적에 동일한 자외선을 조사하지 못하여, 산화 효율이 감소될 수 있다.At this time, when the central axis (A) of the flow part 320 forms an angle of 80° or more with respect to the normal line (N) of the inner surface of the chamber 100, the fluid does not flow toward the inner wall of the chamber 100. may not be That is, the fluid may flow mainly inside the chamber 100 . Due to this, since the vortex is not formed in a spiral shape flowing along the circumference of the inner wall of the chamber 100, the flow of the fluid is not smooth, and the time during which the fluid is exposed to ultraviolet rays can be reduced. In addition, since the same ultraviolet rays cannot be irradiated to all areas inside the chamber 100, oxidation efficiency may be reduced.

예를 들어, 이러한 상기 와류 발생부(300)는 상기 챔버(100) 내에 복수 개(예를 들어, 9개) 설치될 수 있다. 이때, 상기 챔버(100) 내에, 상기 제1 방향에 수직한 방향에서 상기 배플 판(310)을 봤을 때 상기 유동부(320)의 중심축(A)이 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 나란한 상기 와류 발생부(300)로만 설치될 수 있다. 또는, 상기 챔버(100) 내에, 상기 제1 방향에 수직한 방향에서 상기 배플 판(310)을 봤을 때 상기 유동부(320)의 중심축(A)이 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 대해 10 내지 80°의 각을 이루는 상기 와류 발생부(300)로만 설치될 수 있다. 그리고 상기 챔버(100) 내에, 상기 유동부(320)의 중심축(A)이 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 나란한 상기 와류 발생부(300) 및 상기 유동부(320)의 중심축(A)이 상기 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 대해 10 내지 80°의 각을 이루는 상기 와류 발생부(300)를 교차시켜 설치될 수 있다.For example, a plurality (eg, nine) of the vortex generators 300 may be installed in the chamber 100 . At this time, when the baffle plate 310 is viewed from a direction perpendicular to the first direction within the chamber 100, the central axis A of the moving part 320 is the normal line of the inner surface of the chamber 100 ( N) may be installed only with the vortex generating part 300 parallel to it. Alternatively, when viewing the baffle plate 310 in a direction perpendicular to the first direction within the chamber 100, the central axis A of the moving part 320 is the normal line of the inner surface of the chamber 100 ( N) may be installed only with the vortex generating part 300 forming an angle of 10 to 80 °. And in the chamber 100, the central axis (A) of the flow part 320 is parallel to the normal line (N) of the inner surface of the chamber 100, the vortex generating part 300 and the flow part 320 The central axis (A) may be installed to cross the vortex generator 300 forming an angle of 10 to 80° with respect to the normal line (N) of the inner surface of the chamber 100 .

상기 유동부(320)의 상단부와 하단부는 중심축에 대해 경사지며 서로 평행할 수 있다.An upper end and a lower end of the moving part 320 may be inclined with respect to a central axis and may be parallel to each other.

상기 유동부(320)의 상단부와 하단부는 중심축에 대해 경사지며 서로 평행함으로써, 상기 유체에 와류를 발생시키며 압력 손실을 줄일 수 있다. 이때, 상기 유동부(320)의 상단부와 하단부가 중심축에 대해 수직할 경우, 상기 유체가 상기 유동부(320)의 내부로 원활하게 흐르지 않을 수 있다. 이로 인해, 상기 유동부(320)가 와류를 충분히 발생시키지 못함으로써, 상기 유체가 자외선에 조사되는 시간이 감소되어 산화 효율이 감소될 수 있다. 또한, 상기 유동부(320)의 상단부와 하단부가 서로 평행하지 않을 경우, 상기 유동부(320)의 입구와 출구의 크기가 상이하므로 압력 손실이 발생할 수 있다. 따라서, 상기 유동부(320)의 상단부와 하단부가 중심축에 대해 경사지며 서로 평행함으로써, 상기 유체가 원활하게 흐를 수 있으므로 자외선에 노출되는 시간이 증가하여 산화 효율이 향상될 수 있다.The upper and lower ends of the flow part 320 are inclined with respect to the central axis and parallel to each other, thereby generating vortices in the fluid and reducing pressure loss. In this case, when the upper and lower ends of the moving part 320 are perpendicular to the central axis, the fluid may not smoothly flow into the moving part 320 . For this reason, since the flow part 320 does not sufficiently generate vortex, the time during which the fluid is irradiated with ultraviolet rays is reduced, and thus the oxidation efficiency may be reduced. In addition, when the upper end and the lower end of the flow part 320 are not parallel to each other, pressure loss may occur because the inlet and outlet of the flow part 320 have different sizes. Therefore, since the upper and lower ends of the flow part 320 are inclined with respect to the central axis and are parallel to each other, the fluid can flow smoothly, so the time exposed to ultraviolet rays can be increased and the oxidation efficiency can be improved.

상기 유동부(320)는 상기 복수의 관통홀(311) 중 적어도 상기 배플 판(310)의 가장자리를 따라 형성된 관통홀(311)에 삽입될 수 있다.The moving part 320 may be inserted into a through hole 311 formed along at least an edge of the baffle plate 310 among the plurality of through holes 311 .

상기 유동부(320)는 상기 복수의 관통홀(311) 중 적어도 상기 배플 판(310)의 가장자리를 따라 형성된 관통홀(311)에 삽입됨으로써, 상기 유체가 상기 챔버(100)의 내벽을 향해 흐를 수 있다. 또한, 상기 유체의 와류가 상기 챔버(100) 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 흐를 수 있다. 이로 인해, 상기 유체가 자외선에 노출되는 시간이 연장되어 산화 효율을 향상시킬 수 있다. 여기서, 상기 유동부(320)는 상기 배플 판(310)의 내부에 형성된 관통홀(311)에도 삽입되어, 와류량을 더 증가시킬 수 있다. The flow part 320 is inserted into a through hole 311 formed along at least an edge of the baffle plate 310 among the plurality of through holes 311, so that the fluid flows toward the inner wall of the chamber 100. can In addition, the vortex of the fluid may spirally flow along the circumference of the inner wall of the chamber 100 . As a result, the time for which the fluid is exposed to ultraviolet rays is extended, and oxidation efficiency may be improved. Here, the moving part 320 may be inserted into the through hole 311 formed inside the baffle plate 310 to further increase the amount of vortex flow.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치의 유동부(320)를 보여주는 사시도이다.4 is a perspective view showing a moving part 320 of an ultraviolet oxidizing device according to an embodiment of the present invention.

도 4를 살펴보면, 유동부(320)의 중심축(A)이 제1 방향에 대해 경사진 것을 확인할 수 있다. 특히, 유동부(320)의 중심축(A)이 제1 방향에 대해 5 내지 11°만큼 경사진 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 4 , it can be seen that the central axis A of the moving part 320 is inclined with respect to the first direction. In particular, it can be seen that the central axis A of the moving part 320 is inclined by 5 to 11° with respect to the first direction.

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 제1 방향에 수직한 방향에서 바라본 와류 발생부(300)를 보여주는 단면도이다. 도 5(a)는 유동부(320)의 중심축(A)이 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 나란한 단면도를 나타내며, 도 5(b)는 유동부(320)의 중심축(A)이 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 대해 10 내지 80°의 각을 이루는 단면도를 나타낸다.5 is a cross-sectional view showing the vortex generator 300 viewed from a direction perpendicular to the first direction according to an embodiment of the present invention. 5(a) shows a cross-sectional view in which the central axis A of the moving part 320 is parallel to the normal line N of the inner surface of the chamber 100, and FIG. 5(b) shows the central axis of the moving part 320 ( A) shows a cross-sectional view forming an angle of 10 to 80° with respect to the normal line N of the inner surface of the chamber 100.

도 5(a) 및 도 5(b)를 살펴보면, 배플 판(310)이 복수의 관통홀(311)을 구비하고, 유동부(320)가 배플 판(310)의 가장자리를 따라 형성된 관통홀(311)에 삽입된 것을 알 수 있다. 그리고 도 5(a)에서 유동부(320)의 중심축(A)이 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 나란한 것을 확인할 수 있고, 도 5(b)에서 유동부(320)의 중심축(A)이 챔버(100) 내측면의 법선(N)에 대해 10 내지 80°의 각을 이루는 것을 확인할 수 있다.5(a) and 5(b), the baffle plate 310 has a plurality of through holes 311, and the moving part 320 is formed along the edge of the baffle plate 310 through holes ( 311) can be seen. And, in FIG. 5 (a), it can be confirmed that the central axis (A) of the moving part 320 is parallel to the normal line (N) of the inner surface of the chamber 100, and in FIG. 5 (b), the center of the moving part 320 It can be seen that the axis A forms an angle of 10 to 80 degrees with respect to the normal line N of the inner surface of the chamber 100 .

상기 자외선 램프(200)의 둘레 면을 감싸 상기 유체로부터 상기 자외선 램프(200)를 보호하는 보호관(400)을 더 포함하고, 상기 배플 판(310)은 상기 챔버(100) 내벽과 이격되어 제공되고, 상기 보호관(400)과 상기 유동부(320) 사이의 간격은, 상기 배플 판(310)과 상기 챔버(100)의 내벽 사이의 간격보다 넓을 수 있다.A protective tube 400 covering the circumferential surface of the UV lamp 200 and protecting the UV lamp 200 from the fluid is further included, and the baffle plate 310 is provided spaced apart from the inner wall of the chamber 100, , The distance between the protective tube 400 and the moving part 320 may be wider than the distance between the baffle plate 310 and the inner wall of the chamber 100 .

상기 보호관(400)은 상기 자외선 램프(200)의 둘레 면을 감싸 상기 유체로부터 상기 자외선 램프(200)를 보호할 수 있다. 이때, 상기 보호관(400)은 석영으로 이루어진 물질일 수 있다. 이러한 상기 보호관(400)은 상기 복수의 관통홀(311) 또는 유동부(320) 중 적어도 하나의 내부를 이격되어 통과함으로써 배치될 수 있다. The protective tube 400 may protect the UV lamp 200 from the fluid by surrounding the circumferential surface of the UV lamp 200 . At this time, the protective tube 400 may be a material made of quartz. The protective tube 400 may be disposed by passing through at least one of the plurality of through holes 311 or the moving part 320 at a distance from each other.

상기 배플 판(310)은 상기 챔버(100) 내벽과 이격되어 제공되고, 상기 배플 판(310)을 상기 챔버(100) 내벽에 부분적으로 서로 연결될 수 있다. 이때, 배플 판(310)이 챔버(100)의 내벽에 전체적으로 연결되면, 유체로 인한 배플 판(310)에 가해지는 압력이 증가되어 유체 흐름이 원활하지 않으며 공정 단가가 증가될 수 있다. 또한, 유체의 압력 손실이 발생하여 자외선 램프(200) 또는 자외선 램프(200)를 보호하는 보호관(400)의 파손이 발생할 수 있다. 그러나 본 발명의 자외선 산화 장치의 상기 배플 판(310)은 상기 챔버(100)의 내벽에 부분적으로 연결됨으로써, 상기 배플 판(310)에 가해지는 압력을 적당히 조절하여 유체 흐름이 원활하고 공정 단가가 감소될 수 있다. 또한, 상기 배플 판(310)이 상기 챔버(100)의 내벽에 부분적으로 연결됨으로써 상기 배플 판(310)과 상기 챔버(100)의 내벽이 부분적으로 이격되므로, 상기 유체가 상기 배플 판(310)과 상기 챔버(100)의 내벽 사이에 흐를 수 있다. 이로 인해, 상기 유체가 상기 배플 판(310)과 상기 챔버(100)의 내벽 사이에 흐름으로써, 상기 유체에 불규칙성을 부여하므로 와류량을 증가시켜 산화 효율을 증가시킬 수 있다.The baffle plate 310 may be provided to be spaced apart from the inner wall of the chamber 100 , and the baffle plate 310 may be partially connected to the inner wall of the chamber 100 . At this time, when the baffle plate 310 is connected to the inner wall of the chamber 100 as a whole, the pressure applied to the baffle plate 310 due to the fluid increases so that the fluid flow is not smooth and the process cost may increase. In addition, a pressure loss of the fluid may occur, resulting in breakage of the UV lamp 200 or the protective tube 400 protecting the UV lamp 200 . However, since the baffle plate 310 of the ultraviolet ray oxidation device of the present invention is partially connected to the inner wall of the chamber 100, the pressure applied to the baffle plate 310 is properly adjusted so that the fluid flow is smooth and the process cost is reduced. can be reduced In addition, since the baffle plate 310 is partially connected to the inner wall of the chamber 100, the baffle plate 310 and the inner wall of the chamber 100 are partially separated from each other, so that the fluid flows through the baffle plate 310. And it can flow between the inner wall of the chamber (100). Due to this, since the fluid flows between the baffle plate 310 and the inner wall of the chamber 100, irregularities are given to the fluid, so that the amount of vortex flow can be increased, thereby increasing the oxidation efficiency.

상기 보호관(400)과 상기 유동부(320) 사이의 간격은, 상기 배플 판(310)과 상기 챔버(100)의 내벽 사이의 간격보다 넓음으로써, 상기 유체가 상기 배플 판(310)과 상기 챔버(100)의 내벽 사이보다 상기 보호관(400)과 상기 유동부(320) 사이로 더 많이 흐를 수 있다. 이로 인해, 상기 유체가 상기 배플 판(310)의 바깥 쪽 위주가 아닌 상기 챔버(100)의 내부 전체적으로 흐름으로써, 상기 유체가 자외선에 최근접하여 조사되는 구간 및 자외선에 노출되는 시간을 증가시킬 수 있다.The distance between the protective tube 400 and the moving part 320 is wider than the distance between the baffle plate 310 and the inner wall of the chamber 100, so that the fluid flows between the baffle plate 310 and the chamber 100. More can flow between the protective tube 400 and the flow part 320 than between the inner walls of the 100. As a result, the fluid flows throughout the inside of the chamber 100 rather than the outside of the baffle plate 310, so that the period in which the fluid is irradiated in close proximity to the ultraviolet rays and the time during which the fluid is exposed to the ultraviolet rays can be increased. .

이렇게 본 발명의 자외선 산화 장치는 이러한 상기 유동부(320)를 포함하는 와류 발생부(300)를 통해, 챔버의 길이를 유지하여 자외선 산화 장치 구비를 위한 공간 및 제조원가를 증가시키지 않으면서도 유체의 와류량을 증가시킬 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 자외선 산화 장치는 상기 유체의 산화 효율을 증가시켜 전유기탄소(total organic carbon; TOC) 분해 능력을 향상시킬 수 있다.In this way, the ultraviolet oxidation device of the present invention maintains the length of the chamber through the vortex generating unit 300 including the flow unit 320, thereby increasing the space for the ultraviolet oxidation device and the manufacturing cost. quantity can be increased. Accordingly, the ultraviolet ray oxidation device of the present invention can improve total organic carbon (TOC) decomposition ability by increasing the oxidation efficiency of the fluid.

상기 챔버(100)의 양단에 제공되어, 상기 자외선 램프(200) 및 상기 보호관(400)의 일단 또는 타단을 고정하는 플랜지(500)를 더 포함하고, 상기 보호관(400)은 상기 플랜지(500)에 고정되는 위치와 대응하는 양단의 내측면 또는 외측면 중 적어도 하나에 제공되는 코팅층(410)을 포함하며, 상기 코팅층(410)의 자외선 투과율은 상기 보호관(400)의 자외선 투과율보다 낮을 수 있다.It is provided at both ends of the chamber 100 and further includes flanges 500 fixing one end or the other end of the UV lamp 200 and the protection tube 400, and the protection tube 400 is the flange 500 and a coating layer 410 provided on at least one of the inner or outer surfaces of both ends corresponding to the position fixed to, and the UV transmittance of the coating layer 410 may be lower than the UV transmittance of the protective tube 400.

상기 플랜지(500)는 상기 챔버(100)의 양단에 제공되어, 상기 자외선 램프(200) 및 상기 보호관(400)의 일단 또는 타단을 고정할 수 있다. 이로 인해, 상기 자외선 램프(200) 및 상기 보호관(400)은 상기 제1 방향으로 연장되어 제공될 수 있다. 이때, 상기 유체가 상기 유동부(320)와 상기 복수의 관통홀(311) 또는 유동부(320) 사이의 빈 공간을 통해 흐름으로써, 얇은 두께로 유지되어 흐르므로 높은 자외선 투과량을 유지할 수 있다. 즉, 상기 유체는 상기 자외선 램프(200)의 자외선에 노출되는 양이 증가될 수 있다. 또한, 상기 유체가 상기 유동부(320)와 상기 복수의 관통홀(311) 또는 유동부(320) 사이의 빈 공간을 통해 흐름으로써, 상기 유체가 상기 자외선 램프(200)와 최근접하여 조사되는 구간이 증가되어 단위 시간 당 자외선 조사량이 향상될 수 있다. 이로 인해, 본 발명의 자외선 산화 장치는 산화 효율이 향상될 수 있다.The flanges 500 may be provided at both ends of the chamber 100 to fix one end or the other end of the UV lamp 200 and the protective tube 400 . Due to this, the UV lamp 200 and the protective tube 400 may be provided extending in the first direction. At this time, since the fluid flows through the empty space between the flow part 320 and the plurality of through holes 311 or the flow part 320, it is kept thin and flows, so that a high UV transmittance can be maintained. That is, an amount of the fluid exposed to ultraviolet rays of the ultraviolet lamp 200 may be increased. In addition, as the fluid flows through the empty space between the flow part 320 and the plurality of through holes 311 or the flow part 320, the section where the fluid is irradiated in close proximity to the UV lamp 200 As this is increased, the amount of UV irradiation per unit time may be improved. Due to this, the oxidation efficiency of the ultraviolet oxidation device of the present invention can be improved.

상기 보호관(400)은 상기 플랜지(500)에 고정되는 위치와 대응하는 양단의 내측면 또는 외측면 중 적어도 하나에 제공되는 코팅층(410)을 포함할 수 있다. 이때, 상기 코팅층(410)의 자외선 투과율은 상기 보호관(400)의 자외선 투과율보다 낮음으로써, 상기 플랜지(500)에 고정되는 위치와 대응하는 상기 보호관(400)의 양단의 자외선 투과를 억제할 수 있다. 그리고 상기 플랜지(500)에 고정되는 위치와 대응하는 상기 보호관(400)의 양단의 위치는, 실링부재(S)가 상기 보호관(400)에 끼워지는 위치일 수 있다. 여기서, 상기 실링부재(S)는 상기 보호관(400)과 상기 플랜지(500) 사이에 위치하여, 상기 보호관(400)을 밀봉시키며 상기 플랜지(500)에 고정시킬 수 있다. 이러한 상기 실링부재(S)는 오링(o-ring)일 수 있다. 즉, 자외선 투과율이 낮은 상기 코팅층(410)에 의해 상기 실링부재(S)는 자외선에 의해 경화되는 것을 최소화할 수 있다. 이때, 상기 실링부재(S)는 상기 챔버(100) 및 상기 보호관(400)을 밀봉하여 챔버의 누수를 억제하므로, 상기 코팅층(410)을 통해 상기 실링부재(S)가 자외선에 의해 경화되는 것을 최소화하여 챔버에서 발생하는 누수를 방지할 수 있다. 이를 위해, 상기 보호관(400)의 코팅층(410)은 상기 플랜지(500)에 고정되는 위치와 대응하는 양단의 내측면, 외측면 또는 양측면에 제공될 수 있다.The protective pipe 400 may include a coating layer 410 provided on at least one of inner or outer surfaces of both ends corresponding to a position fixed to the flange 500 . At this time, since the UV transmittance of the coating layer 410 is lower than the UV transmittance of the protective tube 400, the UV transmittance of both ends of the protective tube 400 corresponding to the position fixed to the flange 500 can be suppressed. . Also, positions of both ends of the protective tube 400 corresponding to a position fixed to the flange 500 may be positions where the sealing member S is fitted into the protective tube 400 . Here, the sealing member (S) may be positioned between the protective tube 400 and the flange 500 to seal the protective tube 400 and be fixed to the flange 500 . The sealing member (S) may be an O-ring. That is, by the coating layer 410 having a low UV transmittance, curing of the sealing member S by UV rays can be minimized. At this time, the sealing member (S) seals the chamber 100 and the protective tube 400 to suppress leakage of the chamber, so that the sealing member (S) is cured by ultraviolet rays through the coating layer 410. It is possible to prevent leakage occurring in the chamber by minimizing it. To this end, the coating layer 410 of the protective tube 400 may be provided on inner, outer, or both sides of both ends corresponding to the position fixed to the flange 500 .

상기 보호관(400)에 끼워지는 오링(o-ring)은 상기 보호관(400)의 내부에 제공되는 상기 자외선 램프(200)의 자외선으로 인해 교체 시기 이전에 경화가 될 수 있다. 특히, 상기 자외선 산화 장치 내에 185㎚의 자외선 발생량이 증가하여 오링(o-ring)의 경화 가능성이 커질 수 있다. 이로 인해, 상기 챔버(100) 및 보호관(400)을 밀봉하는 오링(o-ring)의 경화로 인해 상기 챔버(100) 또는 보호관(400)에서 누수가 발생할 수 있다. 이를 방지하기 위해, 상기 보호관(400)의 오링(o-ring)이 끼워지는 양단에 상기 코팅층(410)을 형성하여, 자외선 투과를 억제함으로써 오링(o-ring)의 경화를 억제할 수 있다.An o-ring inserted into the protective tube 400 may be cured before replacement due to ultraviolet rays of the UV lamp 200 provided inside the protective tube 400 . In particular, since the amount of 185 nm ultraviolet rays generated in the ultraviolet oxidizing device increases, the possibility of curing the o-ring may increase. Accordingly, leakage may occur in the chamber 100 or the protective tube 400 due to curing of an o-ring sealing the chamber 100 and the protective tube 400 . In order to prevent this, the coating layer 410 is formed on both ends of the protective tube 400 where the o-rings are inserted to suppress transmission of ultraviolet rays, thereby suppressing curing of the o-ring.

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치의 보호관(400)의 코팅층(410)을 보여주는 단면도이다.6 is a cross-sectional view showing a coating layer 410 of a protective tube 400 of an ultraviolet oxidation device according to an embodiment of the present invention.

도 6을 살펴보면, 보호관(400)이 자외선 램프(200)의 둘레 면을 감싸고, 플랜지(500)가 자외선 램프(200) 및 보호관(400)의 일단 또는 타단을 고정하는 것을 알 수 있다. 이때, 보호관(400)과 플랜지(500) 사이에 실링부재(S)가 위치한 것을 확인할 수 있다. 그리고 보호관(400)은 실링부재(S)의 위치에 대응하는 양단에 코팅층(410)을 포함하는 것을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 6 , it can be seen that the protective tube 400 surrounds the circumferential surface of the UV lamp 200 and the flange 500 fixes one or the other end of the UV lamp 200 and the protective tube 400 . At this time, it can be confirmed that the sealing member (S) is located between the protective tube 400 and the flange 500. And it can be seen that the protective tube 400 includes the coating layer 410 at both ends corresponding to the position of the sealing member (S).

상기 코팅층(410)은 인듐(In) 및 아연(Zn)을 포함하는 산화물을 구비할 수 있다.The coating layer 410 may include an oxide including indium (In) and zinc (Zn).

상기 코팅층(410)은 인듐(In) 및 아연(Zn)을 포함하는 산화물을 구비함으로써, 자외선으로 인한 오링(o-ring)의 경화를 억제할 수 있다. 이를 위해, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(Propylene glycol methyl Ether; PGME)을 용제로 사용하여 산화인듐(In₂O₃)와 산화아연(ZnO)이 배합된 물질을 코팅액으로 사용할 수 있다. 이때, 상기 코팅액을 조성하는 분자의 평균적인 사이즈는 약 0.1㎛일 수 있다. 그리고 상기 코팅액의 고형분 함량은 약 20wt%일 수 있다. 또한, 상기 코팅액은 노란색의 슬러리(현탁액) 형태일 수 있다.The coating layer 410 includes an oxide containing indium (In) and zinc (Zn), so that curing of the o-ring due to ultraviolet rays can be suppressed. To this end, a mixture of indium oxide (In ₂ O ₃ ) and zinc oxide (ZnO) using propylene glycol methyl ether (PGME) as a solvent may be used as a coating solution. At this time, the average size of molecules composing the coating solution may be about 0.1 μm. And the solid content of the coating solution may be about 20wt%. In addition, the coating solution may be in the form of a yellow slurry (suspension).

여기서, 상기 코팅층(410)은 3가지 공정을 거쳐 형성될 수 있다. 먼저, 상기 보호관(400)을 세척 및 건조한다. 상기 보호관(400)을 산 세척 후 워싱(washing)하고, 초음파를 통해 상기 보호관(400)의 이물질 제거를 할 수 있다. 다음으로, 상기 보호관(400)의 양단에 코팅한다. 이때, 상기 보호관(400)의 양끝 단부터 상기 보호관(400)에 오링(o-ring)이 끼워지는 위치까지 코팅층(410)을 형성할 수 있다. 이를 위해, 상기 보호관(400)의 양단에 코팅액을 입힌 후 에탄올 용액으로 클리닝(cleaning)하는 과정을 2회 반복하여 진행할 수 있다. 그리고 상기 보호관(400)의 양단을 열처리한다. 이를 위해, 상기 보호관(400)을 선반에 고정하여 회전시키며 형성된 상기 코팅층(410)에 가열할 수 있다.Here, the coating layer 410 may be formed through three processes. First, the protective tube 400 is washed and dried. The protection tube 400 may be washed with acid and then washed, and foreign matter may be removed from the protection tube 400 through ultrasonic waves. Next, both ends of the protective tube 400 are coated. At this time, the coating layer 410 may be formed from both ends of the protective tube 400 to a position where an o-ring is inserted into the protective tube 400 . To this end, a process of applying a coating liquid to both ends of the protective tube 400 and then cleaning with an ethanol solution may be repeated twice. Both ends of the protective tube 400 are heat treated. To this end, the protective tube 400 may be fixed to a shelf, rotated, and heated to the formed coating layer 410 .

이러한 상기 코팅층(410)의 자외선 투과율은 상기 보호관(400)의 자외선 투과율 대비 99.86% 차단 될 수 있다. 이로 인해, 자외선에 의한 오링(o-ring)의 경화를 억제시켜 상기 챔버(100) 내에 누수 발생을 현저하게 억제할 수 있다.The UV transmittance of the coating layer 410 may be blocked by 99.86% compared to the UV transmittance of the protective tube 400 . As a result, curing of the o-ring by ultraviolet rays is suppressed, and thus water leakage in the chamber 100 can be significantly suppressed.

상기 플랜지(500)의 외측에 제공되어 상기 자외선 램프(200)의 소켓을 보호하는 안전 커버(600)를 더 포함하고, 상기 안전 커버(600)는, 상기 안전 커버(600)의 일측벽에 제공된 드레인홀(610); 및 상기 드레인홀(610)에 삽입되어 오존을 제거하는 오존 제거 필터(611);를 더 포함할 수 있다.A safety cover 600 provided outside the flange 500 to protect the socket of the UV lamp 200 is further included, and the safety cover 600 is provided on one side wall of the safety cover 600. drain hole 610; and an ozone removal filter 611 inserted into the drain hole 610 to remove ozone.

상기 안전 커버(600)는 상기 플랜지(500)의 외측에 제공되어 상기 자외선 램프(200)의 소켓을 보호할 수 있다. 이때, 상기 안전 커버(600)는 드레인홀(610) 및 상기 드레인홀(610)에 삽입되는 오존 제거 필터(611)를 더 포함하며, 상기 오존 제거 필터(611)를 상기 드레인홀(610)에 체결할 수 있는 모듈을 포함할 수 있다. 그리고 상기 안전 커버(600)는 상기 안전 커버(600)의 타측벽에 제공되고, 상기 자외선 램프(200)의 소켓 및 전선이 통과하는 소켓홀(620)을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 이러한 상기 드레인홀(610)은 상기 안전 커버(600)의 중앙 하단 기준으로 우측으로 23°에 위치하고, 상기 소켓홀(620)은 상기 안전 커버(600)의 중앙 상단 기준으로 좌측으로 70°에 위치할 수 있다.The safety cover 600 may be provided outside the flange 500 to protect the socket of the UV lamp 200 . At this time, the safety cover 600 further includes a drain hole 610 and an ozone removal filter 611 inserted into the drain hole 610, and the ozone removal filter 611 is inserted into the drain hole 610. It may include a module that can be fastened. The safety cover 600 is provided on the other side wall of the safety cover 600 and may further include a socket hole 620 through which a socket and a wire of the UV lamp 200 pass. For example, the drain hole 610 is located at 23° to the right with respect to the lower center of the safety cover 600, and the socket hole 620 is located to the left with respect to the upper center of the safety cover 600. It can be positioned at 70°.

또한, 상기 안전 커버(600)는 상기 안전 커버(600)의 내벽에 제공되어 상기 플랜지(500)와 결합하여 고정할 수 있는 체결부(630)를 포함하여, 볼트를 통해 상기 안전 커버(600)를 상기 플랜지(500)에 고정할 수 있다. 이때, 상기 안전 커버(600)에 합성 고무(예를 들어, ethylene propylene diene monomer; EPDM) 스펀지 테이프를 감싼 후 상기 안전 커버(600)를 상기 플랜지(500)에 연결함으로써, 상기 플랜지(500)와 상기 안전 커버(600) 간의 빈틈 발생을 억제할 수 있다. 그리고 상기 안전 커버(600)는 상기 챔버(100)의 전면부를 보호하는 전면 보호부를 포함할 수 있다. 이때, 상기 안전 커버(600)에 설치된 클램프 고리 잠금장치를 통하여, 상기 전면 보호부는 상기 안전 커버(600)에 연결되어 고정될 수 있다. 그리고 상기 전면 보호부와 상기 안전 커버(600) 사이에 고무로 실링(sealing)처리함으로써, 상기 전면 보호부와 상기 안전 커버(600) 간의 빈틈 발생을 억제할 수 있다.In addition, the safety cover 600 includes a fastening part 630 provided on the inner wall of the safety cover 600 and coupled to the flange 500 to fix the safety cover 600 through bolts. can be fixed to the flange 500. At this time, synthetic rubber (eg, ethylene propylene diene monomer; EPDM) sponge tape is wrapped around the safety cover 600, and then the safety cover 600 is connected to the flange 500, so that the flange 500 and The occurrence of gaps between the safety covers 600 may be suppressed. Also, the safety cover 600 may include a front protection part protecting the front part of the chamber 100 . At this time, the front protection unit may be connected to and fixed to the safety cover 600 through the clamp ring locking device installed on the safety cover 600 . In addition, by sealing the front protection unit and the safety cover 600 with rubber, it is possible to suppress the occurrence of gaps between the front protection unit and the safety cover 600 .

상기 드레인홀(610)은 상기 안전 커버(600)의 일측벽에 제공되고, 자외선 램프(200)의 파손 시 발생하는 물샘 현상을 감지할 수 있다. 즉, 상기 드레인홀(610)은 자외선 램프(200)의 파손 시 새어 나오는 물이 빠져나갈 수 있는 유로를 제공함으로써, 자외선 램프(200)의 파손을 식별할 수 있다. The drain hole 610 is provided on one side wall of the safety cover 600 and can detect a water leakage phenomenon that occurs when the UV lamp 200 is damaged. That is, the drain hole 610 provides a flow path through which water leaks out when the UV lamp 200 is damaged, so that damage to the UV lamp 200 can be identified.

상기 오존 제거 필터(611)는 상기 드레인홀(610)에 삽입되어 오존을 제거할 수 있다. 즉, 상기 오존 제거 필터(611)는 상기 안전 커버(600)의 내부에 체류하는 미량의 오존 가스 물질을 제거함으로써, 오존이 자외선 산화 장치의 외부로 산포되는 것을 방지할 수 있다. 이로 인해, 상기 오존 제거 필터(611)가 오존을 흡착함으로써, 오존 누출로 인한 사고를 방지할 수 있다. 또한, 상기 오존 제거 필터(611)는 다공성으로 적어도 부분적으로 물이 통과될 수 있다. 즉, 상기 오존 제거 필터(611)는 자외선 램프(200)의 파손 시 새어 나오는 물이 빠져나갈 수 있는 유로를 제공함으로써, 자외선 램프(200)의 파손을 식별할 수 있다.The ozone removal filter 611 may be inserted into the drain hole 610 to remove ozone. That is, the ozone removing filter 611 can prevent ozone from being dispersed outside the ultraviolet oxidizing device by removing a small amount of ozone gas remaining inside the safety cover 600 . As a result, the ozone removal filter 611 adsorbs ozone, thereby preventing an accident due to ozone leakage. In addition, the ozone removal filter 611 is porous and at least partially allows water to pass therethrough. That is, the ozone removing filter 611 can identify damage to the UV lamp 200 by providing a passage through which water leaking out when the UV lamp 200 is damaged can escape.

도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 자외선 산화 장치의 안전 커버(600)를 보여주는 단면도이다.7 is a cross-sectional view showing a safety cover 600 of an ultraviolet oxidizing device according to an embodiment of the present invention.

도 7을 살펴보면, 안전 커버(600)는 안전 커버(600)의 일측벽에 드레인홀(610)이, 타측벽에 소켓홀(620)이, 내벽에 체결부(630)가 제공된 것을 확인할 수 잇다.7, it can be seen that the safety cover 600 has a drain hole 610 on one side wall of the safety cover 600, a socket hole 620 on the other side wall, and a fastening part 630 on the inner wall. .

상기 오존 제거 필터(611)는, 다공질인 금속 베이스; 및 상기 금속 베이스의 표면 및 기공에 적어도 부분적으로 제공되고, 금속 산화물을 구비하는 광촉매 코팅막;을 포함할 수 있다.The ozone removal filter 611 includes a porous metal base; and a photocatalyst coating film provided at least partially on the surface and pores of the metal base and having a metal oxide.

상기 금속 베이스는 다공질이므로 자외선 램프(200)의 파손 시 새어 나오는 물이 빠져나갈 수 있는 유로를 제공할 수 있다. 또한, 다공질인 상기 금속 베이스는 비표면적이 크므로 상기 광촉매 코팅막의 촉매 활성을 증가시킬 수 있다. 이러한 상기 금속 베이스는 지지체로서 광촉매 코팅막을 지지할 수 있다.Since the metal base is porous, it can provide a passage through which water leaking out when the UV lamp 200 is damaged can escape. In addition, since the porous metal base has a large specific surface area, the catalytic activity of the photocatalyst coating layer may be increased. The metal base may support the photocatalyst coating film as a support.

상기 광촉매 코팅막은 상기 금속 베이스의 표면 및 기공에 적어도 부분적으로 제공되고, 금속 산화물을 구비할 수 있다. 즉, 상기 오존 제거 필터(611)는 지지체인 상기 금속 베이스에 촉매인 금속 산화물을 코팅하여 광촉매 코팅막을 형성한 필터일 수 있다.The photocatalyst coating layer is provided at least partially on the surface and pores of the metal base and may include a metal oxide. That is, the ozone removal filter 611 may be a filter in which a photocatalyst coating film is formed by coating a metal oxide, which is a catalyst, on the metal base, which is a support.

이렇게 상기 오존 제거 필터(611)는 상기 금속 베이스 및 상기 광촉매 코팅막을 포함함으로써, 자외선 램프(200)에 의해 생성된 오존 및 라디칼(radical) 물질과 반응하여 산소를 생성할 수 있다. 이로 인해, 상기 오존 제거 필터(611)를 포함하는 상기 안전 커버(600)는, 상기 오존 제거 필터(611)를 포함하지 않는 안전 커버보다 약 94 내지 95%의 오존을 제거할 수 있다. 이는 사업장 내에서 요구되는 대기 환경 기준(자외선 광도법)을 만족하는 수치일 수 있다.In this way, the ozone removal filter 611 includes the metal base and the photocatalyst coating film, so that oxygen can be generated by reacting with ozone and radical substances generated by the UV lamp 200 . As a result, the safety cover 600 including the ozone removal filter 611 can remove about 94 to 95% of ozone compared to the safety cover not including the ozone removal filter 611 . This may be a value that satisfies the atmospheric environment standard (ultraviolet light intensity method) required in the workplace.

또한, 이러한 상기 오존 제거 필터(611)는 건조 후 재사용이 가능하여, 자외선 산화 장치의 유지를 위한 비용이 감소될 수 있다.In addition, since the ozone removal filter 611 can be reused after drying, the maintenance cost of the ultraviolet oxidizing device can be reduced.

이때, 상기 오존 제거 필터(611)의 인치당 기공 수는 20 내지 30ppi일 수 있다. 이로 인해, 상기 광촉매 코팅막이 상기 금속 베이스 내부의 기공을 막지 않으며, 오존을 충분히 분해할 수 있다. 그리고 상기 오존 제거 필터(611)의 함수율은 5wt% 이하일 수 있다. In this case, the number of pores per inch of the ozone removal filter 611 may be 20 to 30 ppi. Due to this, the photocatalyst coating layer does not block pores inside the metal base, and ozone can be sufficiently decomposed. And, the moisture content of the ozone removal filter 611 may be 5wt% or less.

종래기술은 자외선 산화 장치의 드레인홀 내부에 고무를 삽입하였다. 그러나 고무는 오존에 의해 산화되고 재사용이 불가능하여 대체할 필요가 있었다. 이에 따라, 본 발명의 자외선 산화 장치는 상기 오존 제거 필터(611)를 상기 드레인홀(610)에 삽입함으로써, 상기 안전 커버 내에 잔류하는 미량의 오존을 제거할 수 있다. 또한, 상기 오존 제거 필터(611)는 건조 후 재사용이 가능하여, 자외선 산화 장치의 유지를 위한 비용이 감소될 수 있다. 그리고 상기 오존 제거 필터(611)는 다공성으로 자외선 램프(200)의 파손으로 인한 물샘 현상을 감지할 수 있다.In the prior art, rubber was inserted into the drain hole of the UV oxidation device. However, rubber was oxidized by ozone and could not be reused, so it needed to be replaced. Accordingly, the ultraviolet oxidizing device of the present invention can remove a small amount of ozone remaining in the safety cover by inserting the ozone removing filter 611 into the drain hole 610 . In addition, since the ozone removal filter 611 can be reused after drying, the maintenance cost of the ultraviolet oxidizing device can be reduced. In addition, the ozone removal filter 611 is porous and can detect water leakage caused by damage of the UV lamp 200 .

상기 금속 산화물은 이산화망간(MnO₂) 및 산화구리(CuO)를 포함함으로써, 오존 분해 촉매 활성이 우수할 수 있다. 즉, 상기 광촉매 코팅막이 이산화망간(MnO₂) 및 산화구리(CuO)를 포함함으로써, 자외선 램프(200)에 의해 생성된 오존 및 라디칼(radical) 물질과 반응하여 산소를 생성할 수 있다. 이때, 상기 금속 지지체는 니켈(Ni)을 포함하여 상기 광촉매 코팅막을 지지할 수 있다. 이렇게 상기 오존 제거 필터(611)가 상기 금속 베이스 및 금속 산화물을 구비하는 광촉매 코팅막을 포함하여, 자외선 램프 파손을 식별하며 건조 후 재사용이 가능하고 오존을 제거할 수 있다.The metal oxide may have excellent ozone decomposition catalytic activity by including manganese dioxide (MnO ₂ ) and copper oxide (CuO). That is, since the photocatalyst coating film includes manganese dioxide (MnO ₂ ) and copper oxide (CuO), it can react with ozone and radical substances generated by the UV lamp 200 to generate oxygen. In this case, the metal support may support the photocatalyst coating layer by including nickel (Ni). In this way, the ozone removing filter 611 includes the metal base and the photocatalyst coating film including the metal oxide, identifies UV lamp damage, can be reused after drying, and ozone can be removed.

이처럼, 본 발명에서는 자외선 산화 장치가 배플 판 및 유동부를 포함하는 와류 발생부를 구비함으로써, 와류량을 증가시켜 유체의 산화 효율을 향상시킬 수 있다. 여기서, 유체가 자외선 램프의 둘레 면을 감싸는 보호관과 유로를 제공하는 원통 형상의 유동부 사이의 빈 공간을 통해 흐름으로써, 얇은 유체의 두께로 인해 높은 자외선 투과량을 유지할 수 있다. 또한, 유동부가 선단보다 말단이 챔버 내벽에 더 가깝도록 경사짐으로써, 유체가 유동부를 통과하여 챔버 내벽을 향해 흐를 수 있다. 그리고 챔버가 연장되는 방향에 수직한 방향에서 배플 판을 봤을 때, 유동부의 중심축이 챔버 내측면의 법선에 나란할 경우, 유체가 챔버 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 원활하게 흐를 수 있다. 반면에, 유동부의 중심축이 챔버 내측면의 법선에 대해 10 내지 80°각을 이룰 경우, 더 촘촘한 나선형의 와류를 형성할 수 있다. 이렇게 유체가 챔버 내벽의 둘레를 따라 나선형으로 원활하게 흐름으로써, 와류량이 증가하여 유체가 자외선에 충분히 노출될 수 있다.As described above, in the present invention, since the UV oxidation device includes a baffle plate and a vortex generating unit including a moving unit, the oxidation efficiency of the fluid can be improved by increasing the amount of vortex. Here, as the fluid flows through the empty space between the protective tube surrounding the circumferential surface of the UV lamp and the cylindrical flow part providing the passage, a high UV transmittance can be maintained due to the thin fluid thickness. In addition, since the flow part is inclined so that the distal end is closer to the inner wall of the chamber than the tip end, the fluid can pass through the flow part and flow towards the inner wall of the chamber. When the baffle plate is viewed from a direction perpendicular to the direction in which the chamber extends, when the central axis of the flow unit is parallel to the normal line of the inner surface of the chamber, the fluid can smoothly flow spirally along the circumference of the inner wall of the chamber. On the other hand, when the central axis of the moving part forms an angle of 10 to 80° with respect to the normal of the inner surface of the chamber, more dense spiral vortices can be formed. As the fluid flows smoothly and spirally along the circumference of the inner wall of the chamber, the amount of vortex flow is increased so that the fluid can be sufficiently exposed to ultraviolet rays.

또한, 드레인홀이 플랜지의 외측에 제공되는 안전 커버의 일측벽에 제공되어, 자외선 램프의 파손 시 발생하는 물샘 현상을 감지하여 자외선 램프의 파손을 식별할 수 있다. 이때, 드레인홀에 오존 제거 필터가 삽입됨으로써, 안전 커버의 내부에 체류하는 미량의 오존 가스 물질을 제거함으로써, 오존이 자외선 산화 장치의 외부로 산포되는 것을 방지할 수 있다. In addition, a drain hole is provided on one side wall of the safety cover provided on the outside of the flange, so that damage to the UV lamp can be identified by detecting a water leakage phenomenon that occurs when the UV lamp is damaged. At this time, by inserting an ozone removal filter into the drain hole, it is possible to prevent ozone from being dispersed to the outside of the ultraviolet oxidizing device by removing a small amount of ozone gas remaining inside the safety cover.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been shown and described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and common knowledge in the field to which the present invention pertains without departing from the gist of the present invention claimed in the claims. Those who have will understand that various modifications and other equivalent embodiments are possible from this. Therefore, the technical protection scope of the present invention should be determined by the claims below.

1: 제1 방향 A: 유동부의 중심축
N: 챔버 내측면의 법선 S: 실링부재
100: 챔버 110: 유입구
120: 유출구 200: 자외선 램프
300: 와류 발생부 310: 배플 판
311: 관통홀 320: 유동부
400: 보호관 410: 코팅층
500: 플랜지 600: 안전 커버
610: 드레인홀 611: 오존 제거 필터
620: 소켓홀 630: 체결부1: first direction A: central axis of the moving part
N: Normal line of the inner surface of the chamber S: Sealing member
100: chamber 110: inlet
120: outlet 200: ultraviolet lamp
300: vortex generating unit 310: baffle plate
311: through hole 320: moving part
400: protective tube 410: coating layer
500: flange 600: safety cover
610: drain hole 611: ozone removal filter
620: socket hole 630: fastening part

Claims

a chamber having an inlet and an outlet, through which fluid flows, and extending in a first direction;
an ultraviolet lamp extending in the first direction to irradiate ultraviolet rays to the fluid;
a vortex generator provided in the chamber to generate a vortex in the fluid;
a protective tube for protecting the UV lamp from the fluid by covering a circumferential surface of the UV lamp;
Flanges provided at both ends of the chamber to fix one end or the other end of the UV lamp and the protective tube; and
A coating layer provided on at least one of inner surfaces of both ends of the protective tube or outer surfaces of both ends of the protective tube corresponding to the position where the protective tube is fixed to the flange; and
The vortex generator,
a baffle plate provided to cross the first direction and having a plurality of through holes; and
A cylindrical moving part inserted into at least some of the plurality of through holes to provide a flow path; includes,
The UV oxidation device wherein the UV transmittance of the coating layer is lower than the UV transmittance of the protective tube.

The method of claim 1,
The ultraviolet oxidizing device in which the moving part is inserted and fixed so that the central axis is inclined with respect to the first direction.

The method of claim 2,
The ultraviolet oxidizing device in which the central axis of the moving part is inclined by 5 to 11 ° with respect to the first direction.

The method of claim 2,
The ultraviolet oxidizing device wherein the moving part is inclined so that the end is closer to the inner wall of the chamber than the front end.

The method of claim 4,
When viewing the baffle plate in a direction perpendicular to the first direction,
The central axis of the moving part is parallel to the normal line of the inner surface of the chamber.

The method of claim 4,
When viewing the baffle plate in a direction perpendicular to the first direction,
The central axis of the moving part forms an angle of 10 to 80 ° with respect to the normal of the inner surface of the chamber.

The method of claim 1,
The upper and lower ends of the moving part are inclined with respect to the central axis and are parallel to each other.

The method of claim 1,
The moving part is inserted into a through hole formed along at least an edge of the baffle plate among the plurality of through holes.

The method of claim 1,
The baffle plate is provided spaced apart from the inner wall of the chamber,
A distance between the protective tube and the moving part is wider than a distance between the baffle plate and the inner wall of the chamber.

delete

The method of claim 1,
The coating layer is an ultraviolet oxidizing device having an oxide containing indium (In) and zinc (Zn).

The method of claim 1,
Further comprising a safety cover provided on the outside of the flange to protect the socket of the ultraviolet lamp,
The safety cover,
a drain hole provided on one side wall of the safety cover; and
An ultraviolet oxidizing device further comprising an ozone removal filter inserted into the drain hole to remove ozone.

The method of claim 12,
The ozone removal filter,
a porous metal base; and
A photocatalyst coating film at least partially provided on the surface and pores of the metal base and having a metal oxide; UV oxidation device comprising a.

The method of claim 13,
The metal oxide includes manganese dioxide (MnO ₂ ) and copper oxide (CuO).