KR102564213B1 - Light emitting diode device display apparatus - Google Patents

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Abstract

발광소자 패널 및 상기 발광소자 패널 상부에 형성된 편광판을 포함하고, 상기 편광판은 편광 필름 및 상기 편광 필름의 하부면에 형성된 패턴 위상차층을 포함하고, 상기 패턴 위상차층은 서로 교대로 형성된 제1 위상차 영역과 제2위상차 영역을 구비하고, 상기 제1위상차 영역과 상기 제2위상차 영역은 지상축 방향이 서로 다르고, 상기 패턴 위상차층은 역파장 분산성 위상차층인 것인, 발광소자 표시장치가 제공된다.It includes a light emitting device panel and a polarizing plate formed on the light emitting device panel, wherein the polarizing plate includes a polarizing film and a patterned retardation layer formed on a lower surface of the polarizing film, wherein the patterned retardation layer is formed alternately with each other in first retardation regions. and a second retardation area, wherein the first retardation area and the second retardation area have different slow axis directions, and the pattern retardation layer is a reverse wavelength dispersion retardation layer. .

Description

발광소자 표시장치{LIGHT EMITTING DIODE DEVICE DISPLAY APPARATUS}Light emitting device display {LIGHT EMITTING DIODE DEVICE DISPLAY APPARATUS}

본 발명은 발광소자 표시장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 본 발명은 박형의 두께의 편광판을 구비하고 정면 및 측면에서의 반사율이 낮고 측면에서의 색상 변화가 낮은 발광소자 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a light emitting element display device. More specifically, the present invention relates to a light emitting device display having a thin polarizing plate, having low reflectance on the front and side surfaces, and low color change on the side surface.

화상표시장치에서 화면의 가장 밝은 부분과 가장 어두운 부분의 휘도 차이를 나타내는 콘트라스트(contrast)를 개선하는 것은 매우 중요한 과제 중 하나이다. 콘트라스트를 높이기 위해서 단순히 광원의 휘도를 높이는 것이 한 방법으로 고려될 수 있다. 그러나 이 방법은 유기발광다이오드(OLED)의 발광 유기물이 발생시키는 소비 전력을 증가시켜 장치에 높은 스트레스를 주는 문제가 있었다. 따라서 유기발광다이오드에서는 패널 입사광의 반사율을 조절하기 위해 한 장의 편광판이 사용되는 것이 일반적이다.In an image display device, improving contrast representing a difference in luminance between the brightest part and the darkest part of a screen is one of the very important tasks. In order to increase the contrast, simply increasing the luminance of the light source may be considered as one method. However, this method has a problem in that high stress is applied to the device by increasing power consumption generated by light emitting organic materials of the organic light emitting diode (OLED). Therefore, in organic light emitting diodes, one polarizer is generally used to adjust the reflectance of light incident on the panel.

이방성 물질을 각각 포함하는 2 매형 타입이 구비된 편광판이 제안된 바 있었다. 그러나 두께를 줄이기 위해 역파장 액정을 사용하여 1 매형 편광판을 개발하였다. 하지만 경사 방향에서의 반사 방지 효과, 특히 색상 변화는 여전히 떨어지는 한계가 있다. 개선 방안으로는 1 매형과 함께 포지티브 C 플레이트로 구비된 편광판이 제안되었지만 두께는 증가하게 된다.A polarizing plate having a two-sheet type each containing an anisotropic material has been proposed. However, in order to reduce the thickness, a one-sheet type polarizer was developed using reverse wavelength liquid crystal. However, there is still a limit to the antireflection effect in the oblique direction, especially the color change. As an improvement plan, a polarizing plate provided with a positive C plate along with one sheet has been proposed, but the thickness is increased.

본 발명의 배경 기술은 일본공개특허 제2016-192363호 등에 개시되어 있다.The background art of the present invention is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2016-192363 and the like.

본 발명의 목적은 박형의 두께의 편광판을 구비하고 포지티브 C 플레이트 없이 정면 및 측면에서의 반사율이 낮고 측면에서의 색상 변화가 낮은 발광소자 표시장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a light emitting device display having a thin polarizer and having low reflectance on the front and side surfaces and low color change on the side surface without a positive C plate.

본 발명의 다른 목적은 패턴 위상차층의 패턴이 시인되지 않게 하는 발광소자 표시장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a light emitting element display device in which a pattern of a pattern retardation layer is not visually recognized.

본 발명은 발광소자 표시장치이다.The present invention is a light emitting element display device.

1.발광소자 표시장치는 발광소자 패널 및 상기 발광소자 패널의 상부면에 형성된 편광판을 포함하고, 상기 편광판은 편광 필름 및 상기 편광 필름의 하부면에 형성된 패턴 위상차층을 포함하고, 상기 패턴 위상차층은 서로 교대로 형성된 제1 위상차 영역과 제2위상차 영역을 구비하고, 상기 제1위상차 영역과 상기 제2위상차 영역은 지상축 방향이 서로 다르고, 상기 패턴 위상차층은 역파장 분산성 위상차층이다.1. A light emitting device display device includes a light emitting device panel and a polarizing plate formed on an upper surface of the light emitting device panel, the polarizing plate including a polarizing film and a patterned retardation layer formed on a lower surface of the polarizing film, and the patterned retardation layer has a first retardation region and a second retardation region formed alternately with each other, the first retardation region and the second retardation region have different slow axis directions, and the pattern retardation layer is a reverse wavelength dispersion retardation layer.

2.1에서, 상기 패턴 위상차층은 Re(450)/Re(550)이 0.7 이상 1 미만, Re(650)/Re(550)이 1 초과 1.5 이하이고, 이때 Re(450), Re(550), Re(650)은 파장 450nm, 550nm, 650nm에서 상기 패턴 위상차층의 면내 위상차일 수 있다.In 2.1, the patterned retardation layer has Re (450) / Re (550) greater than or equal to 0.7 and less than 1, and Re (650) / Re (550) greater than 1 and less than or equal to 1.5, where Re (450), Re (550), Re(650) may be an in-plane retardation of the patterned retardation layer at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm.

3.1-2에서, 상기 패턴 위상차층은 Re(450)이 90nm 내지 140nm, Re(550)이 110nm 내지 170nm, Re(650)이 140nm 내지 190nm일 수 있다.In 3.1-2, the patterned retardation layer may have Re (450) of 90 nm to 140 nm, Re (550) of 110 nm to 170 nm, and Re (650) of 140 nm to 190 nm.

4.1-3에서, 상기 패턴 위상차층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차 Rth가 -150nm 내지 150nm일 수 있다.In 4.1-3, the patterned retardation layer may have a thickness direction retardation Rth of -150 nm to 150 nm at a wavelength of 550 nm.

5.1-4에서, 상기 패턴 위상차층은 파장 550nm에서 이축성 정도 NZ가 -2 내지 2일 수 있다.In 5.1-4, the patterned retardation layer may have a degree of biaxiality NZ of -2 to 2 at a wavelength of 550 nm.

6.1-5에서, 상기 편광 필름의 흡수축을 0°라고 할 때, 상기 제1위상차 영역의 제1지상축이 이루는 각도는 +35° 내지 +55°, 상기 제2위상차 영역의 제2지상축이 이루는 각도는 -35° 내지 -55°일 수 있다.In 6.1-5, when the absorption axis of the polarizing film is 0°, the angle formed by the first slow axis of the first retardation region is +35° to +55°, and the second slow axis of the second retardation region is The angle formed may be -35° to -55°.

7.1-6에서, 상기 제1 위상차 영역은 최대폭이 10㎛ 내지 500㎛, 상기 제2위상차 영역은 최대폭이 10㎛ 내지 500㎛일 수 있다.In 7.1-6, the maximum width of the first retardation region may be 10 μm to 500 μm, and the maximum width of the second retardation region may be 10 μm to 500 μm.

8.1-7에서, 상기 패턴 위상차층의 상부면 또는 하부면에 점착층, 접착층 또는 점접착층이 직접적으로 형성될 수 있다.In 8.1-7, an adhesive layer, an adhesive layer, or an adhesive layer may be directly formed on the upper or lower surface of the patterned retardation layer.

9.1-8에서, 상기 발광소자 표시장치는 포지티브 C 플레이트를 구비하지 않을 수 있다.In 9.1-8, the light emitting element display device may not include a positive C plate.

10.1-9에서, 상기 편광 필름은 상부면에 보호층이 더 형성될 수 있다.In 10.1-9, a protective layer may be further formed on an upper surface of the polarizing film.

본 발명은 박형의 두께의 편광판을 구비하고 포지티브 C 플레이트 없이 정면 및 측면에서의 반사율이 낮고 측면에서의 색상 변화가 낮은 발광소자 표시장치를 제공하였다.The present invention provides a light emitting device display having a thin polarizer and having low reflectance on the front and side surfaces and low color change on the side surface without a positive C plate.

본 발명은 패턴 위상차층의 패턴이 시인되지 않게 하는 발광소자 표시장치를 제공하였다.The present invention provides a light emitting element display device in which a pattern of a pattern retardation layer is not visually recognized.

도 1은 본 발명 일 실시예의 발광소자 표시장치의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 편광판 중 패턴 위상차층의 평면 모식도이다.
도 3은 본 발명의 편광판 중 패턴 위상차층의 제조 방법을 나타내는 모식도이다.
도 4는 실시예와 비교예의 측면 θ=60°에서 색상값 a*, b* 값을 나타낸 그래프이다.
1 is a cross-sectional view of a light emitting device display device according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic plan view of a patterned retardation layer in the polarizing plate of the present invention.
3 is a schematic diagram showing a manufacturing method of a patterned retardation layer of the polarizing plate of the present invention.
Figure 4 is a graph showing the color values a*, b* values at the side θ = 60 ° of Examples and Comparative Examples.

첨부한 도면을 참조하여, 하기 실시예에 의하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 도면에서 각 구성 요소의 길이, 크기는 본 발명을 설명하기 위한 것으로 본 발명이 도면에 기재된 각 구성 요소의 길이, 크기에 제한되는 것은 아니다.With reference to the accompanying drawings, the following examples will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. This invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly describe the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and the same reference numerals are attached to the same or similar components throughout the specification. The length and size of each component in the drawings are for explaining the present invention, and the present invention is not limited to the length and size of each component described in the drawings.

본 명세서에서 "상부"와 "하부"는 도면을 기준으로 정의한 것으로서, 시 관점에 따라 "상부"가 "하부"로 "하부"가 "상부"로 변경될 수 있고, "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 구조를 개재한 경우도 포함할 수 있다. 반면, "직접 위(directly on)", "바로 위" 또는 "직접적으로 형성" 또는 "직접적으로 접하여 형성"으로 지칭되는 것은 중간에 다른 구조를 개재하지 않은 것을 의미한다.In this specification, "upper" and "lower" are defined based on the drawings, and depending on the perspective, "upper" may be changed to "lower" and "lower" to "upper", and "on" or What is referred to as "on" may include not only immediately above but also a case where another structure is intervened in the middle. On the other hand, what is referred to as "directly on", "directly on" or "directly formed" or "directly in contact with" means that no other structure is intervened.

본 명세서에서 "면내 위상차(Re)"는 하기 식 A로 표시되고, "두께 방향 위상차(Rth)"는 하기 식 B로 표시되고, "이축성 정도(NZ)"는 하기 식 C로 표시된다:In this specification, “in-plane retardation (Re)” is represented by the following formula A, “thickness direction retardation (Rth)” is represented by the following formula B, and “degree of biaxiality (NZ)” is represented by the following formula C:

[식 A][Equation A]

Re = (nx - ny) x dRe = (nx - ny) x d

[식 B][Equation B]

Rth = ((nx + ny)/2 - nz) x dRth = ((nx + ny)/2 - nz) x d

[식 C][Equation C]

NZ = (nx - nz)/(nx - ny)NZ = (nx - nz)/(nx - ny)

(상기 식 A 내지 식 C에서, nx, ny, nz는 측정 파장에서 각각 위상차층의 지상축(slow axis) 방향, 진상축(fast axis) 방향, 두께 방향의 굴절률이고, d는 위상차층의 두께(단위:nm)이다).(In the above formulas A to C, nx, ny, nz are the refractive indices in the slow axis direction, the fast axis direction, and the thickness direction of the retardation layer at the measured wavelength, respectively, and d is the thickness of the retardation layer (unit: nm)).

상기 "측정 파장"은 파장 450nm, 550nm 또는 650nm를 의미한다.The "measurement wavelength" means a wavelength of 450 nm, 550 nm or 650 nm.

본 명세서에서 수치 범위 "X 내지 Y"는 X 이상 Y 이하(X≤ 그리고 ≤Y)를 의미한다.In this specification, the numerical range "X to Y" means greater than or equal to X and less than or equal to Y (X≤ and ≤Y).

이하, 본 발명의 일 실시예의 발광소자 표시장치를 설명한다.Hereinafter, a light emitting device display device according to an embodiment of the present invention will be described.

도 1을 참조하면, 발광소자 표시장치는 발광소자 패널(100), 발광소자 패널(100) 상부면에 형성된 편광판(200)을 포함한다. Referring to FIG. 1 , the light emitting device display device includes a light emitting device panel 100 and a polarizing plate 200 formed on an upper surface of the light emitting device panel 100 .

발광소자 표시장치에서는 발광소자 패널(100)로부터 패턴 위상차층(210), 편광 필름(220)이 순차적으로 형성되어 있다. 발광소자 표시장치는 발광소자 패널(100) 상부면에 상술한 편광판(200)을 상술한 순서대로 순차적으로 형성됨으로써 측면에서의 반사율과 색상값을 낮추고, 편광판의 박형화 효과를 얻을 수 있다. 발광소자 패널(100) 상부면으로부터 편광 필름(220), 패턴 위상차층(210)이 순차적으로 형성되는 경우 측면에서의 반사율과 색상값을 낮추는 효과가 현저하게 미약하다.In the light emitting device display device, a pattern retardation layer 210 and a polarizing film 220 are sequentially formed from the light emitting device panel 100 . In the light emitting device display device, the polarizing plate 200 is sequentially formed on the upper surface of the light emitting device panel 100 in the above-described order, thereby reducing the reflectance and color value on the side surface and obtaining an effect of reducing the thickness of the polarizing plate. When the polarizing film 220 and the pattern retardation layer 210 are sequentially formed from the upper surface of the light emitting device panel 100, the effect of lowering the reflectance and color value on the side is remarkably weak.

편광판(200)은 발광소자 패널(100)의 상부면에 형성되어 외부광이 발광소자 패널(100)에 도달 시 측면에서의 반사율과 색상값을 낮춤으로써, 발광소자 표시장치의 화면 품질을 개선할 수 있다.The polarizer 200 is formed on the upper surface of the light emitting device panel 100 to improve the screen quality of the light emitting device display device by lowering the reflectance and color values at the side when external light reaches the light emitting device panel 100. can

편광판(200)은 패턴 위상차층(210) 및 패턴 위상차층(210) 상부면에 형성된 편광 필름(220)을 포함한다.The polarizing plate 200 includes a patterned retardation layer 210 and a polarizing film 220 formed on an upper surface of the patterned retardation layer 210 .

패턴 위상차층(210)은 편광 필름(200)으로부터 입사된 외부광을 원편광시켜 반사시킴으로써 측면에서의 반사율과 색상값을 낮춘다. 도 1에서 도시된 바와 같이 패턴 위상차층(210)은 단일층이며, 이를 통해 편광판의 두께를 박형화시킬 수 있다. 상기 "단일층"은 패턴 위상차층이 코팅층을 포함하는 경우 1회의 코팅에 의해 형성되는 층이거나 패턴 위상차층이 필름인 경우 1매의 필름으로 형성되는 층을 의미한다.The patterned retardation layer 210 circularly polarizes external light incident from the polarizing film 200 and reflects it, thereby reducing reflectance and color values on the side surface. As shown in FIG. 1, the patterned retardation layer 210 is a single layer, and through this, the thickness of the polarizing plate can be reduced. The "single layer" means a layer formed by one coating when the patterned retardation layer includes a coating layer, or a layer formed by one film when the patterned retardation layer is a film.

패턴 위상차층(210)은 두께가 0㎛ 초과 10㎛ 이하, 구체적으로 0.1㎛ 내지 8㎛, 더 구체적으로 0.1㎛ 내지 5㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 편광판을 박형화시킬 수 있다.The patterned retardation layer 210 may have a thickness of greater than 0 μm and less than or equal to 10 μm, specifically, 0.1 μm to 8 μm, and more specifically, 0.1 μm to 5 μm. Within the above range, the polarizing plate may be thinned.

패턴 위상차층(210)은 패턴화된 위상차층이다. 상기 "패턴화된 위상차층"은 지상축 방향이 서로 다른 2개의 영역이 서로 교대로 형성되는 층이다. 상기 지상축 방향이 서로 다른 2개의 영역을 제1 위상차 영역, 제2위상차 영역이라고 한다. 제1위상차 영역과 제2위상차 영역은 지상축 방향이 서로 다르다. 편광판(200)은 패턴 위상차층(210)을 포함함으로써, 단일층의 위상차층에서도 측면에서의 반사율과 색상값을 낮추고, 위상차층(210) 및 편광판의 두께를 현저하게 박형화시킬 수 있다. 특히, 패턴 위상차층(210)은 편광판(200)이 포지티브 C 플레이트를 포함하지 않더라도 측면에서의 색상값 변화를 낮출 수 있다.The patterned retardation layer 210 is a patterned retardation layer. The "patterned retardation layer" is a layer in which two regions having different slow axis directions are alternately formed. The two regions in which the direction of the slow axis is different from each other are referred to as a first phase difference region and a second phase difference region. The first phase difference region and the second phase difference region have different slow axis directions. By including the patterned retardation layer 210 in the polarizing plate 200, the reflectance and color value on the side surface can be lowered even in a single-layered retardation layer, and the thickness of the retardation layer 210 and the polarizing plate can be significantly reduced. In particular, the patterned retardation layer 210 can reduce color value change on the side even if the polarizer 200 does not include a positive C plate.

일 구체예에서, 위상차층(210)은 지상축 방향이 서로 다르고 서로 교대로 형성되어 있는 제1위상차 영역과 제2위상차 영역만을 구비한다.In one embodiment, the retardation layer 210 includes only first retardation regions and second retardation regions that have different slow axis directions and are alternately formed.

도 2를 참조하면, 패턴 위상차층(210)은 제1지상축(211a)을 구비하는 제1위상차 영역(211), 제2지상축(212a)을 구비하는 제2위상차 영역(212)이 교대로 형성되어 있다. 제1지상축(211a)과 제2지상축(212a)은 서로 교차한다. 제1지상축(211a)과 제2지상축(212a)이 서로 교차하여 형성됨으로써 패턴 위상차층(210)은 단일층에 의해서도 제1위상차 영역(211), 제2위상차 영역(212) 각각의 효과를 구현할 수 있다.Referring to FIG. 2 , the pattern retardation layer 210 has a first retardation region 211 having a first slow axis 211a and a second retardation region 212 having a second slow axis 212a alternately. is formed with The first slow axis 211a and the second slow axis 212a cross each other. Since the first slow axis 211a and the second slow axis 212a are formed to cross each other, the pattern retardation layer 210 has the effect of each of the first retardation region 211 and the second retardation region 212 even with a single layer. can be implemented.

제1위상차 영역(211)의 제1지상축(211a)과 제2위상차 영역(212)의 제2지상축(212a)이 이루는 각도는 80° 내지 100°, 구체적으로 85° 내지 95°, 더 구체적으로 90°가 될 수 있다. 상기 범위에서 정면 반사율과 측면색상이 우수한 효과가 있을 수 있다.The angle between the first slow axis 211a of the first phase difference region 211 and the second slow axis 212a of the second phase difference region 212 is between 80° and 100°, specifically between 85° and 95°. Specifically, it may be 90°. In the above range, the frontal reflectance and the side color may have excellent effects.

제1위상차 영역(211)의 제1지상축(211a), 제2위상차 영역(212)의 제2지상축(212a)은 각각 편광 필름의 흡수축과의 축 간 관계가 고려되어야 한다. 이를 통해 측면에서의 색상값과 반사율을 현저하게 낮출 수 있다. The relationship between the first slow axis 211a of the first retardation region 211 and the second slow axis 212a of the second retardation region 212 with the absorption axis of the polarizing film should be considered. Through this, it is possible to remarkably lower the color value and the reflectance on the side.

구체적으로 제1실시형태에서, 편광 필름의 흡수축을 0°라고 할 때, 제1위상차 영역의 제1지상축(211a)이 이루는 각도는 +35° 내지 +55°, 구체적으로 +40° 내지 +50°, 더 구체적으로 +45°, 제2위상차 영역의 제2지상축(212a)이 이루는 각도는 -35° 내지 -55°, 구체적으로 -40° 내지 -50°, 더 구체적으로 -45°가 될 수 있다. 이를 통해 측면에서의 색상값과 반사율을 현저하게 낮출 수 있다.Specifically, in the first embodiment, when the absorption axis of the polarizing film is 0°, the angle formed by the first slow axis 211a of the first retardation region is +35° to +55°, specifically +40° to + 50°, more specifically +45°, the angle formed by the second slow axis 212a of the second phase difference region is -35° to -55°, specifically -40° to -50°, more specifically -45° can be Through this, it is possible to remarkably lower the color value and the reflectance on the side.

구체적으로 제2실시형태에서, 편광 필름의 흡수축을 0°라고 할 때, 제1위상차 영역의 제1지상축(211a)이 이루는 각도는 -35° 내지 -55°, 구체적으로 -40° 내지 -50°, 더 구체적으로 -45°, 제2위상차 영역의 제2지상축(212a)이 이루는 각도는 +35° 내지 +55°, 구체적으로 +40° 내지 +50°, 더 구체적으로 +45°가 될 수 있다. 이를 통해 측면에서의 색상값과 반사율을 현저하게 낮출 수 있다.Specifically, in the second embodiment, when the absorption axis of the polarizing film is 0°, the angle formed by the first slow axis 211a of the first retardation region is -35° to -55°, specifically -40° to - 50°, more specifically -45°, the angle formed by the second slow axis 212a of the second phase difference region is +35° to +55°, specifically +40° to +50°, more specifically +45° can be Through this, it is possible to remarkably lower the color value and the reflectance on the side.

상기 각도 표현에서 "+", "-"는 각각 편광 필름의 흡수축 0°를 기준으로 시계 방향, 반시계 방향으로의 각도를 의미한다.In the angle expression, "+" and "-" mean clockwise and counterclockwise angles with respect to the absorption axis of the polarizing film at 0°, respectively.

바람직하게는 발광소자 표시장치는 제1실시형태가 될 수 있다.Preferably, the light emitting element display device can be the first embodiment.

제1위상차 영역(211)과 제2위상차 영역(212)은 면내 위상차가 동일하거나 서로 다를 수 있다. 구체적으로 제1위상차 영역(211)과 제2위상차 영역(212) 간의 파장 550nm에서 면내 위상차의 차이의 절대값은 0nm 내지 30nm, 구체적으로 0nm 내지 10nm, 더 구체적으로 0nm 내지 5nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사율이 낮으며 측면 색상이 우수한 효과가 있을 수 있다.The first phase difference region 211 and the second phase difference region 212 may have the same or different in-plane phase difference. Specifically, the absolute value of the difference in in-plane retardation between the first retardation region 211 and the second retardation region 212 at a wavelength of 550 nm may be 0 nm to 30 nm, specifically 0 nm to 10 nm, and more specifically 0 nm to 5 nm. In the above range, the reflectance may be low and the side color may have an excellent effect.

제1위상차 영역(211)은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 110nm 내지 170nm, 구체적으로 130nm 내지 150nm, 더 구체적으로 140nm 내지 148nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사율이 낮으며 색상이 우수한 효과가 있을 수 있다.The first retardation region 211 may have an in-plane retardation Re of 110 nm to 170 nm, specifically 130 nm to 150 nm, and more specifically 140 nm to 148 nm at a wavelength of 550 nm. Within this range, the reflectance may be low and the effect of excellent color may be obtained.

제2위상차 영역(212)은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 110nm 내지 170nm, 구체적으로 130nm 내지 150nm, 더 구체적으로 140nm 내지 148nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사율이 낮으며 색상이 우수한 효과가 있을 수 있다.The second retardation region 212 may have an in-plane retardation Re of 110 nm to 170 nm, specifically 130 nm to 150 nm, and more specifically 140 nm to 148 nm at a wavelength of 550 nm. Within this range, the reflectance may be low and the effect of excellent color may be obtained.

패턴 위상차층(210)은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 110nm 내지 170nm, 구체적으로 130nm 내지 150nm, 더 구체적으로 140nm 내지 148nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 측면에서 반사율과 색상값을 개선할 수 있다.The patterned retardation layer 210 may have an in-plane retardation Re of 110 nm to 170 nm, specifically 130 nm to 150 nm, and more specifically 140 nm to 148 nm at a wavelength of 550 nm. Within the above range, it is possible to improve reflectance and color values on the side.

패턴 위상차층(210)은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차 Rth가 -150nm 내지 150nm, 구체적으로 -120nm 내지 120nm, 더 구체적으로 -90nm 내지 90nm, 가장 구체적으로 0nm 내지 90nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 측면에서 반사율과 색상값을 개선할 수 있다.The patterned retardation layer 210 may have a thickness direction retardation Rth of -150 nm to 150 nm, specifically -120 nm to 120 nm, more specifically -90 nm to 90 nm, and most specifically 0 nm to 90 nm at a wavelength of 550 nm. Within the above range, it is possible to improve reflectance and color values on the side.

패턴 위상차층(210)은 파장 550nm에서 이축성 정도 NZ가 -2 내지 2, 구체적으로 -1.5 내지 1.5, 더 구체적으로 -1.2 내지 1.2, 가장 구체적으로 0 내지 1.2가 될 수 있다. 상기 범위에서, 측면에서 반사율과 색상값을 개선할 수 있다.The patterned retardation layer 210 may have a degree of biaxiality NZ of -2 to 2, specifically -1.5 to 1.5, more specifically -1.2 to 1.2, and most specifically 0 to 1.2 at a wavelength of 550 nm. Within the above range, it is possible to improve reflectance and color values on the side.

패턴 위상차층은 상술한 면내 위상차, 두께 방향 위상차는 하기 상술되는 액정 조성물의 코팅 두께를 조절함으로써 구현될 수 있다. 패턴 위상차층은 상술한 이축성 정도는 하기 상술되는 액정 조성물 중 액정 종류, 액정 함량 등을 조절함으로써 구현될 수 있다.In the patterned retardation layer, the above-described in-plane retardation and thickness-direction retardation may be implemented by adjusting the coating thickness of the liquid crystal composition described in detail below. The above-described degree of biaxiality of the patterned retardation layer may be implemented by adjusting the type of liquid crystal, liquid crystal content, and the like in the liquid crystal composition described in detail below.

일 구체예에서, 패턴 위상차층(210)은 역파장 분산성이다. In one embodiment, the patterned retardation layer 210 is reverse wavelength dispersive.

패턴 위상차층(210)은 역파장 분산성이 됨으로써 측면에서의 반사율과 색상값을 더 개선할 수 있다. 패턴 위상차층(210)은 0<Re(450)/Re(550)<1이고, Re(650)/Re(550)>1이 될 수 있다. 예를 들면, 패턴 위상차층(210)은 Re(450)/Re(550)이 0.7 이상 1 미만, 구체적으로 0.75 내지 0.95, Re(650)/Re(550)이 1 초과 1.5 이하, 구체적으로 1.01 내지 1.3이 될 수 있다. 상기 범위에서 측면에서의 반사율과 색상값을 더 개선할 수 있다. 상기 "Re(450)", "Re(550)", "Re(650)"은 각각 위상차층의 파장 450nm, 550nm, 650nm에서 면내 위상차를 의미한다.The pattern retardation layer 210 may further improve reflectance and color values on the side by being reverse wavelength dispersed. In the patterned retardation layer 210 , 0<Re(450)/Re(550)<1 and Re(650)/Re(550)>1 may be satisfied. For example, the patterned retardation layer 210 has Re(450)/Re(550) of 0.7 or more and less than 1, specifically 0.75 to 0.95, and Re(650)/Re(550) of more than 1 and 1.5 or less, specifically 1.01. to 1.3. Within the above range, reflectance and color values on the side surface may be further improved. The "Re(450)", "Re(550)", and "Re(650)" mean in-plane retardation at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm, respectively, of the retardation layer.

일 구체예에서, Re(450)은 90nm 내지 140nm, 구체적으로 110nm 내지 135nm, Re(650)은 140nm 내지 190nm, 구체적으로 140nm 내지 165nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 정면 반사율이 낮은 효과가 있을 수 있다.In one embodiment, Re(450) may be 90 nm to 140 nm, specifically 110 nm to 135 nm, and Re (650) may be 140 nm to 190 nm, specifically 140 nm to 165 nm. In the above range, there may be an effect of low frontal reflectance.

상술한 역파장 분산성은 패턴 위상차층 형성시 원료의 구성 및 공정 조건에 의해 조절될 수 있다.The aforementioned reverse wavelength dispersion may be controlled by the composition of raw materials and process conditions when forming the patterned retardation layer.

패턴 위상차층(210)은 광학적으로 투명한 수지로 형성된 필름이 될 수도 있다. 그러나 패턴 위상차층(210)의 제조 공정의 간소화 및 두께 박형화를 위하여, 패턴 위상차층(210)은 액정 코팅층 또는 액정 필름이 될 수 있다.The patterned retardation layer 210 may be a film formed of an optically transparent resin. However, in order to simplify the manufacturing process of the patterned retardation layer 210 and reduce the thickness, the patterned retardation layer 210 may be a liquid crystal coating layer or a liquid crystal film.

액정 코팅층 또는 액정 필름은 상술한 위상차를 구현하기 위하여 패턴 위상차층(210)은 배향막을 더 구비할 수 있다.The liquid crystal coating layer or the liquid crystal film may further include an alignment layer in the pattern retardation layer 210 to implement the above-described retardation.

도 3을 참조하여, 패턴 위상차층(210)의 제조 방법을 설명한다.Referring to FIG. 3 , a method of manufacturing the patterned retardation layer 210 will be described.

도 3을 참조하면, 이형 필름의 일면에 광 배향막용 조성물을 소정의 두께로 코팅하고 건조 및/또는 경화시켜 이형 필름의 일면에 광 배향막용 도막(1)을 형성한다. Referring to FIG. 3 , a coating film 1 for a photo-alignment layer is formed on one side of the release film by coating a composition for a photo-alignment layer to a predetermined thickness on one side of the release film and drying and/or curing the composition.

광 배향막 도막(1) 상에 와이어 그리드 편광자(WGP)를 일 방향으로 놓고 UV를 조사함으로써 광 배향막 도막 중 광 배향성 화합물의 배향을 일 방향으로 고정시켰다. 이를 통해, 제1위상차 영역을 형성할 제1지상축을 형성할 수 있다. 이때, 소정의 간격을 갖는 마스크 패턴(5)을 광 배향막과 WGP 사이에 배치시킴으로써 제1지상축의 형성을 용이하게 할 수 있다. 상기 마스크 패턴의 간격은 0㎛ 초과 1000㎛ 이하, 바람직하게는 10㎛ 내지 800㎛, 더 바람직하게는 20㎛ 내지 500㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 제1위상차 영역과 제2위상차 영역의 패턴이 발광소자 표시 장치에서 시인되는 것을 막을 수 있다.By placing a wire grid polarizer (WGP) in one direction on the photo-alignment layer coating film 1 and irradiating UV light, the alignment of the photo-alignment compound in the photo-alignment layer coating film was fixed in one direction. Through this, it is possible to form a first slow axis to form a first retardation region. At this time, the formation of the first slow axis can be facilitated by disposing the mask pattern 5 having a predetermined interval between the photo-alignment layer and the WGP. The interval of the mask pattern may be greater than 0 μm and less than or equal to 1000 μm, preferably 10 μm to 800 μm, and more preferably 20 μm to 500 μm. Within the above range, it is possible to prevent the pattern of the first retardation area and the second retardation area from being visually recognized in the light emitting device display device.

그런 다음, 광 배향막 상에 소정의 간격을 갖는 마스크 패턴(10)을 놓고 와이어 그리드 편광자(WGP)를 소정의 방향으로 돌린 다음 UV를 조사함으로써 제1지상축과 서로 교차하는 제2지상축을 형성한다. 상기 마스크 패턴의 간격은 0㎛ 초과 1000㎛ 이하, 바람직하게는 10㎛ 내지 800㎛, 더 바람직하게는 80㎛ 내지 500㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 제1위상차 영역과 제2위상차 영역의 패턴이 발광소자 표시 장치에서 시인되는 것을 막을 수 있다.Then, a mask pattern 10 having a predetermined distance is placed on the photo-alignment layer, a wire grid polarizer (WGP) is rotated in a predetermined direction, and UV is irradiated to form a second slow axis intersecting the first slow axis. . The spacing of the mask pattern may be greater than 0 μm and less than or equal to 1000 μm, preferably 10 μm to 800 μm, and more preferably 80 μm to 500 μm. Within this range, it is possible to prevent the pattern of the first retardation area and the second retardation area from being visually recognized in the light emitting device display device.

제1지상축과 제2지상축이 형성된 광 배향막에, 액정 조성물을 소정의 두께로 코팅하고 경화시킴으로써 패턴 위상차 층을 형성할 수 있다. 상기 액정 조성물은 당업자에게 알려진 통상의 액정을 포함할 수 있다.A patterned retardation layer may be formed by coating a liquid crystal composition to a predetermined thickness on the photo-alignment layer on which the first slow axis and the second slow axis are formed and curing the liquid crystal composition. The liquid crystal composition may include a conventional liquid crystal known to those skilled in the art.

일 구체예에서, 패턴 위상차층 중 제1 위상차 영역은 최대폭이 0㎛ 초과 1000㎛ 이하, 바람직하게는 10㎛ 내지 800㎛, 더 바람직하게는 20㎛ 내지 500㎛, 제2위상차 영역은 최대폭이 0㎛ 초과 1000㎛ 이하, 바람직하게는 10㎛ 내지 800㎛, 더 바람직하게는 20㎛ 내지 500㎛이 될 수 있다. 상기 범위에서, 제1위상차 영역과 제2위상차 영역의 패턴이 발광소자 표시 장치에서 시인되는 것을 막을 수 있다.In one embodiment, the first retardation region of the patterned retardation layer has a maximum width of greater than 0 μm and less than or equal to 1000 μm, preferably 10 μm to 800 μm, more preferably 20 μm to 500 μm, and the second retardation region has a maximum width of 0 It may be greater than 1000 μm, preferably 10 μm to 800 μm, and more preferably 20 μm to 500 μm. Within this range, it is possible to prevent the pattern of the first retardation area and the second retardation area from being visually recognized in the light emitting device display device.

패턴 위상차층(210)은 편광 필름(220)에 직접적으로 형성될 수 있다. 상기 "직접적으로 형성"은 패턴 위상차층(210)과 편광 필름(220) 사이에 점착층, 접착층 또는 점접착층이 형성되지 않음을 의미한다.The patterned retardation layer 210 may be directly formed on the polarizing film 220 . The "directly formed" means that no adhesive layer, adhesive layer, or adhesive layer is formed between the patterned retardation layer 210 and the polarizing film 220 .

일 구체예에서, 편광 필름과 패턴 위상차층 사이 즉 패턴 위상차층의 상부면에 배향막이 형성될 수 있다.In one embodiment, an alignment layer may be formed between the polarizing film and the pattern retardation layer, that is, on the upper surface of the pattern retardation layer.

다른 구체예에서, 패턴 위상차층 하부면에 배향막이 형성될 수 있다.In another embodiment, an alignment layer may be formed on the lower surface of the patterned retardation layer.

도 1에서 도시되지 않았지만, 패턴 위상차층(210)은 점착층, 접착층 또는 점접착층에 의해 편광 필름(220) 또는 발광소자 패널(100)에 적층될 수 있다. 일 구체예에서, 발광소자 표시장치는 발광소자 패널(100)로부터 점착층, 접착층 또는 점접착층; 패턴 위상차층; 점착층, 접착층 또는 점접착층; 편광 필름의 순서로 적층될 수 있다.Although not shown in FIG. 1 , the patterned retardation layer 210 may be laminated on the polarizing film 220 or the light emitting device panel 100 using an adhesive layer, an adhesive layer, or an adhesive layer. In one embodiment, the light emitting device display device includes an adhesive layer, an adhesive layer, or an adhesive layer from the light emitting device panel 100; pattern retardation layer; An adhesive layer, an adhesive layer or an adhesive layer; It may be laminated in the order of polarizing films.

또한, 도 1에서 도시되지 않았지만, 패턴 위상차층(210)은 점착층, 접착층 또는 점접착층에 의해 편광 필름(220)에 적층될 수 있다. 일 구체예에서, 발광소자 표시장치는 발광소자 패널(100)로부터 점착층, 접착층 또는 점접착층; 패턴 위상차층; 편광 필름의 순서로 적층될 수 있다.Also, although not shown in FIG. 1 , the patterned retardation layer 210 may be laminated on the polarizing film 220 using an adhesive layer, an adhesive layer, or an adhesive layer. In one embodiment, the light emitting device display device includes an adhesive layer, an adhesive layer, or an adhesive layer from the light emitting device panel 100; pattern retardation layer; It may be laminated in the order of polarizing films.

편광 필름(220)은 폴리비닐알콜계 필름을 1축 연신하여 제조되는 폴리비닐알콜계 편광자, 또는 폴리비닐알콜계 필름을 탈수하여 제조되는 폴리엔계 편광자를 포함할 수 있다. 편광 필름(220)은 두께가 5㎛ 내지 40㎛, 바람직하게는 5㎛ 내지 30㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 편광판에 사용될 수 있다.The polarizing film 220 may include a polyvinyl alcohol-based polarizer manufactured by uniaxially stretching a polyvinyl alcohol-based film or a polyene-based polarizer manufactured by dehydrating a polyvinyl alcohol-based film. The polarizing film 220 may have a thickness of 5 μm to 40 μm, preferably 5 μm to 30 μm. Within this range, it can be used for a polarizing plate.

편광 필름(220)은 광 투과도가 40% 이상, 바람직하게는 42% 내지 50%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 편광판의 광 투명성을 높일 수 있다.The polarizing film 220 may have light transmittance of 40% or more, preferably 42% to 50%. Within the above range, the light transparency of the polarizing plate may be improved.

도 1에서 도시되지 않았지만, 편광 필름(220)의 상부면에는 보호층이 더 형성될 수 있다. 보호층은 편광 필름(220)을 외부 환경으로부터 보호할 수 있다. 보호층은 광학적으로 투명한 수지로 된 보호 필름 또는 광학적으로 투명한 보호 코팅층이 될 수 있다. 보호 필름은 예를 들면 폴리카보네이트계 수지, 시클릭올레핀폴리머(COP) 수지, 변성 폴리카보네이트계 수지, 이소소르비드계 수지, 트리아세틸셀룰로스계 수지 등을 포함하는 셀룰로오스계 수지, 플루오렌계 수지, 폴리에스테르게 수지 중 1종 이상으로 형성된 폴리머 필름일 수 있다.Although not shown in FIG. 1 , a protective layer may be further formed on the upper surface of the polarizing film 220 . The protective layer may protect the polarizing film 220 from an external environment. The protective layer may be a protective film made of an optically transparent resin or an optically transparent protective coating layer. The protective film includes, for example, polycarbonate-based resin, cyclic olefin polymer (COP) resin, modified polycarbonate-based resin, isosorbide-based resin, cellulose-based resin including triacetyl cellulose-based resin, fluorene-based resin, It may be a polymer film formed of one or more of polyester resins.

발광 소자 패널(100)은 자체 발광 소자를 구비하는 통상의 표시장치용 패널을 포함한다. 상기 자체 발광 소자는 유기 발광소자, 무기 발광소자, 양자점 발광소자 중 1종 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The light emitting device panel 100 includes a panel for a typical display device having a self light emitting device. The self-light emitting device may include at least one of an organic light emitting device, an inorganic light emitting device, and a quantum dot light emitting device, but is not limited thereto.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되지는 않는다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail through preferred embodiments of the present invention. However, the following examples are provided to aid understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

실시예Example 1 One

폴리비닐알콜 필름을 60℃에서 3배 연신하고 요오드를 흡착시킨 후 40℃의 붕산 수용액에서 2.5배 연신하여 편광 필름(두께:12㎛)을 제조하였다.A polarizing film (thickness: 12 μm) was prepared by stretching the polyvinyl alcohol film 3 times at 60° C., adsorbing iodine, and then stretching the polyvinyl alcohol film 2.5 times in an aqueous solution of boric acid at 40° C.

광 배향막 조성물(NCK社(사), HSPA-141)을 이형 필름의 일면에 소정의 두께로 코팅하고 110℃에서 1분 동안 건조시켜 두께 500㎛의 도막을 형성하였다. 상기 도막 위에 와이어 그리드 편광자를 놓고 UV 램프를 이용하여 자외선을 조사함으로써 광 배향막 중 배향 분자의 배향 방향을 한 방향으로 고정시켜 제1위상차 영역의 지상축을 형성하였다. 제1위상차 영역의 지상축은 이형 필름의 가로 방향에 대해 45°가 되도록 하였다.A light alignment layer composition (HSPA-141, NCK Co., Ltd.) was coated on one surface of the release film to a predetermined thickness and dried at 110° C. for 1 minute to form a coating film having a thickness of 500 μm. By placing a wire grid polarizer on the coating layer and irradiating ultraviolet rays using a UV lamp, the alignment direction of the alignment molecules in the photo-alignment layer was fixed in one direction, thereby forming a slow axis of the first phase difference region. The slow axis of the first retardation region was set to be 45° with respect to the horizontal direction of the release film.

그런 다음, 간격 500㎛의 마스크 패턴을 상기 도막 위에 놓고 와이어 그리드 편광자를 90°로 변경하여 제1위상차 영역의 지상축 대비 90°가 되도록 제2위상차 영역의 지상축을 형성하였다. Then, a mask pattern with an interval of 500 μm was placed on the coating film and the wire grid polarizer was changed to 90° to form the slow axis of the second retardation area to be 90° relative to the slow axis of the first retardation area.

이형 필름의 일면에 광 배향막용 조성물을 소정의 두께로 코팅하고 건조 및/또는 경화시켜 이형 필름의 일면에 광 배향막을 형성한다. 광 배향막 상에 와이어 그리드 편광자를 일 방향으로 놓고 UV를 조사함으로써 광 배향막 중 광 배향성 화합물의 배향을 일 방향으로 고정시켰다. 이를 통해, 광 배향막 상에 일 방향의 제1지상축을 형성한다. 광 배향막 상에 간격 500㎛의 마스크 패턴을 놓고 와이어 그리드 편광자를 소정의 방향으로 돌린 다음 UV를 조사함으로써 제1지상축과 서로 교차하는 제2지상축을 형성한다. 제1지상축과 제2지상축이 형성된 광 배향막에, 광 배향성 액정 조성물(머크社(사), RMM1640)을 소정의 두께로 코팅하고 경화시킴으로써 위상차 층을 형성할 수 있다.A photo-alignment layer composition is coated on one surface of the release film to a predetermined thickness and then dried and/or cured to form a photo-alignment layer on one surface of the release film. The alignment of the photo-alignment compound in the photo-alignment layer was fixed in one direction by placing a wire grid polarizer on the photo-alignment layer in one direction and irradiating UV light. Through this, a first slow axis in one direction is formed on the photo-alignment layer. A mask pattern having an interval of 500 μm is placed on the photo-alignment layer, the wire grid polarizer is turned in a predetermined direction, and UV is irradiated to form a second slow axis crossing the first slow axis. A retardation layer may be formed by coating an optical alignment liquid crystal composition (Merck Co., Ltd., RMM1640) to a predetermined thickness on the photo-alignment layer on which the first slow axis and the second slow axis are formed and curing the photo-alignment layer.

실시예Example 2 내지 2 to 실시예Example 3 3

실시예 1에서, 광 배향성 액정 조성물의 코팅 두께를 변경시킨 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 패턴 위상차층과 편광판을 제조하였다.In Example 1, a patterned retardation layer and a polarizing plate were manufactured in the same manner as in Example 1, except that the coating thickness of the light-alignable liquid crystal composition was changed.

비교예comparative example 1 One

실시예 1에서, 제1위상차 영역만 형성한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 패턴 위상차층과 편광판을 제조하였다.In Example 1, a patterned retardation layer and a polarizing plate were manufactured in the same manner as in Example 1, except that only the first retardation region was formed.

비교예comparative example 2 2

실시예 1에서, 정파장 액정을 사용하여 패턴 위상차층을 정파장 분산성으로 변경시킨 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 패턴 위상차층과 편광판을 제조하였다.In Example 1, a patterned retardation layer and a polarizing plate were manufactured in the same manner as in Example 1, except that the patterned retardation layer was changed to have a constant wavelength dispersion using a constant wavelength liquid crystal.

비교예comparative example 3 3

실시예 1에서, 정파장 액정을 사용하여 패턴 위상차층을 정파장 분산성으로 변경시킨 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 패턴 위상차층과 편광판을 제조하였다.In Example 1, a patterned retardation layer and a polarizing plate were manufactured in the same manner as in Example 1, except that the patterned retardation layer was changed to have a constant wavelength dispersion using a constant wavelength liquid crystal.

실시예와 비교예에서 패턴 위상차층, 편광판의 구체적인 사양을 하기 표 1에 나타내었다. 제조한 편광판에 대하여 포지티브 C 플레이트 없이 측면 각도 θ=5°에서 반사율, 측면 각도 θ=60°에서 색상 변화 △a*b*를 측정하였다. 그 결과를 하기 표 1, 도 4에 나타내었다.The specific specifications of the patterned retardation layer and the polarizing plate in Examples and Comparative Examples are shown in Table 1 below. With respect to the prepared polarizer, reflectance at a side angle θ=5° and color change Δa*b* at a side angle θ=60° were measured without a positive C plate. The results are shown in Table 1 and FIG. 4 below.

구체적으로, 반사율 및 색상 변화 △a*b 는 DMS(Instrument Systems사)를 이용해서 측정하였다. Specifically, reflectance and color change Δa*b were measured using DMS (Instrument Systems).

실시예Example 비교예comparative example 1One 22 33 1One 22 33 Re(450)/
Re(550)
Re(450)/
Re(550)
0.870.87 0.880.88 0.870.87 1.091.09 1.101.10 1.091.09
Re(650)/
Re(550)
Re(650)/
Re(550)
1.0211.021 1.0201.020 1.0221.022 0.950.95 0.960.96 0.950.95
Re(nm)Re(nm) 142142 130130 150150 140140 105105 143143 Rth(nm)Rth(nm) 7474 6868 7878 7373 5555 7575 NZNZ 1.021.02 1.021.02 1.021.02 1.021.02 1.021.02 1.02 1.02 Θp-θr1Θp-θr1 +45°+45° +45°+45° +45°+45° +45°+45° +45°+45° +45°+45° Θp-θr2Θp-θr2 -45°-45° -45°-45° -45°-45° -- -45°-45° -45°-45° 반사율(%)reflectivity(%) 0.350.35 0.40.4 0.420.42 0.370.37 0.510.51 0.550.55 △a*b*Δa*b* 1.231.23 3.013.01 2.242.24 5.115.11 3.723.72 4.794.79

*표 1에서, Re, Rth, NZ는 각각 파장 550nm에서 패턴 위상차층의 위상차값.*In Table 1, Re, Rth, and NZ are the retardation values of the patterned retardation layer at a wavelength of 550 nm, respectively.

*표 1에서, Θp-θr1는 편광 필름의 흡수축(θp)과 제1위상차 영역의 지상축(θr1) 간의 각도*In Table 1, Θp-θr1 is the angle between the absorption axis (θp) of the polarizing film and the slow axis (θr1) of the first retardation region

*표 1에서, Θp-θr2는 편광 필름의 흡수축(θp)과 제2위상차 영역의 지상축(θr2) 간의 각도*In Table 1, Θp-θr2 is the angle between the absorption axis (θp) of the polarizing film and the slow axis (θr2) of the second retardation region

상기 표 1, 도 4에서와 같이, 본 발명의 발광소자 표시장치는 포지티브 C 플레이트 없이 정면에서의 반사율이 낮고 측면에서의 색상 변화가 낮았다. 반면에, 제2위상차 영역이 없는 위상차층을 구비한 비교예 1은 측면에서의 색상 변화가 높았다. 또한, 정파장 분산성 패턴 위상차층을 구비한 비교예 2, 비교예 3도 측면에서의 반사율이 높았다.As shown in Table 1 and FIG. 4, the light emitting device display device of the present invention had low reflectance from the front and low color change from the side without the positive C plate. On the other hand, Comparative Example 1 including the retardation layer without the second retardation region showed high color change on the side surface. In addition, Comparative Example 2 and Comparative Example 3 provided with the positive wavelength dispersive pattern retardation layer also had high reflectance on the side surface.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.Simple modifications or changes of the present invention can be easily performed by those skilled in the art, and all such modifications or changes can be considered to be included in the scope of the present invention.

Claims (10)

발광소자 패널 및 상기 발광소자 패널의 상부면에 형성된 편광판을 포함하고,
상기 편광판은 편광 필름 및 상기 편광 필름의 하부면에 형성된 패턴 위상차층을 포함하고,
상기 패턴 위상차층은 단일층이고 상기 단일층 내에서 서로 교대로 형성된 제1 위상차 영역과 제2위상차 영역을 구비하고,
상기 제1위상차 영역과 상기 제2위상차 영역은 지상축 방향이 서로 다르고,
상기 패턴 위상차층은 역파장 분산성 위상차층이고,
상기 패턴 위상차층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차 Rth가 -150nm 내지 150nm이고,
상기 패턴 위상차층은 파장 550nm에서 이축성 정도 NZ가 -2 내지 2이고,
상기 패턴 위상차층은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 110 내지 170nm인 것인, 발광소자 표시장치.
A light emitting device panel and a polarizing plate formed on an upper surface of the light emitting device panel,
The polarizing plate includes a polarizing film and a patterned retardation layer formed on a lower surface of the polarizing film,
The patterned retardation layer is a single layer and includes first retardation regions and second retardation regions alternately formed within the single layer,
The first phase difference region and the second phase difference region have different slow axis directions;
The pattern retardation layer is a reverse wavelength dispersion retardation layer,
The patterned retardation layer has a thickness direction retardation Rth of -150 nm to 150 nm at a wavelength of 550 nm,
The patterned retardation layer has a biaxial degree NZ of -2 to 2 at a wavelength of 550 nm,
The pattern retardation layer has an in-plane retardation Re of 110 to 170 nm at a wavelength of 550 nm, a light emitting device display device.
제1항에 있어서, 상기 패턴 위상차층은 Re(450)/Re(550)이 0.7 이상 1 미만, Re(650)/Re(550)이 1 초과 1.5 이하이고, 이때 Re(450), Re(550), Re(650)은 파장 450nm, 550nm, 650nm에서 상기 패턴 위상차층의 면내 위상차인 것인, 발광소자 표시장치.
The method of claim 1, wherein Re (450) / Re (550) is greater than or equal to 0.7 and less than 1, and Re (650) / Re (550) is greater than 1 and less than or equal to 1.5, wherein Re (450), Re ( 550), Re (650) is the in-plane retardation of the pattern retardation layer at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm.
제2항에 있어서, 상기 패턴 위상차층은 Re(450)이 90nm 내지 140nm, Re(550)이 110nm 내지 170nm, Re(650)이 140nm 내지 190nm인 것인, 발광소자 표시장치.
3 . The light emitting device display device according to claim 2 , wherein Re(450) ranges from 90 nm to 140 nm, Re(550) ranges from 110 nm to 170 nm, and Re(650) ranges from 140 nm to 190 nm.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 편광 필름의 흡수축을 0°라고 할 때, 상기 제1위상차 영역의 제1지상축이 이루는 각도는 +35° 내지 +55°, 상기 제2위상차 영역의 제2지상축이 이루는 각도는 -35° 내지 -55°인 것인, 발광소자 표시장치.
The method of claim 1 , wherein when an absorption axis of the polarizing film is 0°, an angle formed by the first slow axis of the first retardation region is +35° to +55°, and the second slow axis of the second retardation region The angle formed by this will be -35 ° to -55 °, the light emitting element display device.
제1항에 있어서, 상기 제1 위상차 영역은 최대폭이 0㎛ 초과 1000㎛ 이하, 상기 제2위상차 영역은 최대폭이 0㎛ 초과 1000㎛ 이하인 것인, 발광소자 표시장치.
The light emitting device display device of claim 1 , wherein the maximum width of the first retardation region is greater than 0 μm and less than or equal to 1000 μm, and the maximum width of the second retardation region is greater than 0 μm and less than or equal to 1000 μm.
제1항에 있어서, 상기 패턴 위상차층의 상부면 또는 하부면에 점착층, 접착층 또는 점접착층이 직접적으로 형성된 것인, 발광소자 표시장치.
The light emitting device display device according to claim 1, wherein an adhesive layer, an adhesive layer, or an adhesive layer is directly formed on an upper surface or a lower surface of the pattern retardation layer.
제1항에 있어서, 상기 발광소자 표시장치는 포지티브 C 플레이트를 구비하지 않는 것인, 발광소자 표시장치.
The light emitting device display device according to claim 1, wherein the light emitting device display device does not include a positive C plate.
제1항에 있어서, 상기 편광 필름은 상부면에 보호층이 더 형성된 것인, 발광소자 표시장치.

The light emitting device display device according to claim 1 , wherein a protective layer is further formed on an upper surface of the polarizing film.

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